JP2006236601A - Orbital position detecting device, composition analyzer, orbit adjusting method for charged particle beam and position coordinate detecting device - Google Patents

Orbital position detecting device, composition analyzer, orbit adjusting method for charged particle beam and position coordinate detecting device Download PDF

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明 小林
Chikara Ichihara
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an orbital position detecting device capable of improving adjustment accuracy by simplifying adjustment work for an electron beam orbit and easily detecting shift of an electron beam in operating a device, to provide a composition analyzer provided with this and an orbit adjusting method for a charged particle beam, and to provide a position coordinate detecting device capable of easily detecting a coordinate position of a beam current measurement means such as a Faraday cup used for the orbital position detecting device. <P>SOLUTION: The beam current measurement means such as a segmented electrode 10 or the Faraday cup 20 etc. measuring a beam current of an ion beam L emitted from an accelerator Y1 is provided in a measurement chamber 73a of a sample analyzer. An orbital position of the ion beam L is detected based on an observed value of the beam current by the beam current measurement means. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は,試料等の被照射物に照射される荷電粒子ビームの軌道位置を検出する軌道位置検出装置,及びこれを備えた組成分析装置,並びに荷電粒子ビームの軌道調整方法に関し,特に,被照射物に照射される荷電粒子ビームの軌道調整及び荷電粒子ビームの軌道ズレの検出に関する技術である。   The present invention relates to a trajectory position detecting device for detecting the trajectory position of a charged particle beam irradiated to an irradiated object such as a sample, a composition analyzer having the same, and a method for adjusting the trajectory of a charged particle beam. This is a technique for adjusting the trajectory of a charged particle beam irradiated to an irradiation object and detecting the trajectory deviation of the charged particle beam.

イオンビーム等の荷電粒子ビームを利用した装置として,組成分析装置,ビーム加工装置,放射線治療装置等の種々の装置が知られている。このような装置においては,荷電粒子ビームの軌道の調整は,従来から,予め荷電粒子ビームの照射位置に置かれた蛍光板の発光箇所を目視確認しながら,或いは予め所定位置に配置された遮蔽板により荷電粒子ビームが遮られたかどうかを目視確認しながら行われる。具体的には,上記イオンビーム等の発生源であるビーム発生装置に備えられたビーム軌道調整機構を手動又は電動により操作(操縦)して,荷電粒子ビームの軌道を所定のビーム軸に一致させるようイオンビームを水平移動或いは傾斜させることにより調整している。   Various apparatuses such as a composition analysis apparatus, a beam processing apparatus, and a radiotherapy apparatus are known as apparatuses using charged particle beams such as ion beams. In such an apparatus, the adjustment of the trajectory of the charged particle beam is conventionally performed by visually confirming the light emission position of the fluorescent plate previously placed at the irradiation position of the charged particle beam, or by the shielding plate previously placed at a predetermined position. This is performed while visually confirming whether or not the charged particle beam is blocked. Specifically, the beam trajectory adjustment mechanism provided in the beam generator that is the source of the ion beam or the like is operated (maneuvered) manually or electrically so that the trajectory of the charged particle beam coincides with a predetermined beam axis. The ion beam is adjusted by horizontally moving or tilting.

ここで,上記荷電粒子ビームを利用した典型的な装置の一例である試料分析装置Y(組成分析装置の一例)について,図8を用いて以下に説明する。なお,特許文献1には,上記試料分析装置Yと同様に構成されたイオン散乱分析装置が開示されている。
図8に示す試料分析装置Yは,大別すると,加速器Y1とその下方に配置された超電導スペクトロメータ部(以下「スペクトロメータ部」と略す)Y2とを備えて構成される。
上記加速器Y1は,ヘリウム等のイオンを生成するイオン源71と生成したイオンを加速させてイオンビームLとする加速管72とを備え,イオンビームLを上記スペクトロメータ部Y2に出射する。この出射されたイオンビームLは,イオンレンズ80や図示しない対物コリメータなどの光学系機器を介して上記スペクトロメータ部Y2に入射される。なお,上記加速器Y1には,イオンビームLの軌道を調整する周知のビーム軌道調整機構が設けられている。
上記スペクトロメータ部Y2は,測定室73(真空容器に相当)と,該測定室73内を通過するイオンビームLの入射方向の上流に向けてビーム軸に平行且つ均一な磁場(磁界)を上記測定室73の所定範囲内に発生させるソレノイドコイル75及び補正コイル76と,マグネットヨーク90と,磁極91と,測定室73内の磁場領域内のビーム入射方向上流側に配設されたアパーチャ77及び二次元検出器78とを具備して構成されている。上記アパーチャ77は,上記イオンビームLをその入射方向に通過させると共に試料74(被照射物に相当)で散乱した散乱イオン(散乱粒子に相当)を上記イオンビームLの入射方向に対して反対方向に通過させる開口部77aを中心部に有し,上記開口部77aを上記イオンビームLが本来通るべきビーム軸に一致させて配設されている。また,上記二次元検出器78は,上記イオンビームLをその入射方向に通過させる開口部78aを有し,この開口部78aを上記ビーム軸に一致させて配設されている。なお,上記磁場は,測定室73内に配設される試料74で弾性散乱した特定の散乱イオンの検出に必要とされる。
このような構成において,測定室73内に試料74を配設し,測定室73内を図示しないターボ分子ポンプ及びロータリポンプ等の排気手段により所定真空度に真空排気し,そして上記ソレノイドコイル75及び補正コイル76に励磁電流を印加して測定室73内に磁場を印加した状態で,上記加速器Y1から上記測定室73にイオンビームLを入射させる。イオンビームLは,二次元検出器78の開口部78a及びアパーチャ77の開口部77a,を通過して試料74に照射される。イオンビームLが照射された試料74からは散乱イオンHが発生し,この散乱イオンHは磁場によって収束され,特定条件にある散乱イオンHのみがアパーチャ77の開口部77aを抜けて二次元検出器78に到達する。二次元検出器78で検出された散乱イオンHの検出出力は,図示しないアンプによって増幅され,マルチチャンネルアナライザ等によって計数(カウント)される。
特開平7−190963号公報
Here, a sample analyzer Y (an example of a composition analyzer) which is an example of a typical apparatus using the charged particle beam will be described below with reference to FIG. Patent Document 1 discloses an ion scattering analyzer configured in the same manner as the sample analyzer Y.
The sample analyzer Y shown in FIG. 8 is roughly configured to include an accelerator Y1 and a superconducting spectrometer unit (hereinafter abbreviated as “spectrometer unit”) Y2 disposed below the accelerator Y1.
The accelerator Y1 includes an ion source 71 that generates ions such as helium and an acceleration tube 72 that accelerates the generated ions to form an ion beam L, and emits the ion beam L to the spectrometer unit Y2. The emitted ion beam L is incident on the spectrometer unit Y2 via an optical system device such as an ion lens 80 or an objective collimator (not shown). The accelerator Y1 is provided with a known beam trajectory adjusting mechanism that adjusts the trajectory of the ion beam L.
The spectrometer unit Y2 applies a uniform magnetic field (magnetic field) parallel to the beam axis toward the upstream in the incident direction of the ion beam L passing through the measurement chamber 73 (corresponding to a vacuum vessel) and the measurement chamber 73. A solenoid coil 75 and a correction coil 76 generated within a predetermined range of the measurement chamber 73, a magnet yoke 90, a magnetic pole 91, an aperture 77 disposed on the upstream side in the beam incident direction in the magnetic field region in the measurement chamber 73, and A two-dimensional detector 78 is provided. The aperture 77 allows the ion beam L to pass in the incident direction and causes scattered ions (corresponding to scattered particles) scattered by the sample 74 (corresponding to the irradiated object) to be opposite to the incident direction of the ion beam L. An opening 77a that allows the ion beam to pass therethrough is provided at the center, and the opening 77a is disposed so as to coincide with the beam axis through which the ion beam L originally passes. The two-dimensional detector 78 has an opening 78a through which the ion beam L passes in the incident direction, and the opening 78a is arranged so as to coincide with the beam axis. The magnetic field is required for detection of specific scattered ions elastically scattered by the sample 74 disposed in the measurement chamber 73.
In such a configuration, the sample 74 is disposed in the measurement chamber 73, the inside of the measurement chamber 73 is evacuated to a predetermined degree of vacuum by an exhaust means such as a turbo molecular pump and a rotary pump (not shown), and the solenoid coil 75 and An ion beam L is made to enter the measurement chamber 73 from the accelerator Y1 with an excitation current applied to the correction coil 76 and a magnetic field applied to the measurement chamber 73. The ion beam L passes through the opening 78 a of the two-dimensional detector 78 and the opening 77 a of the aperture 77 and is irradiated on the sample 74. Scattered ions H are generated from the sample 74 irradiated with the ion beam L, and the scattered ions H are converged by a magnetic field, and only the scattered ions H under a specific condition pass through the opening 77a of the aperture 77 and are a two-dimensional detector. 78 is reached. The detection output of scattered ions H detected by the two-dimensional detector 78 is amplified by an amplifier (not shown) and counted (counted) by a multichannel analyzer or the like.
JP-A-7-190963

しかしながら,荷電粒子ビームの軌道の上述の調整手法は,荷電粒子ビームの軌道が予め定められたビーム軸上にあるかどうかを,荷電粒子ビームが照射された蛍光板等の照射状態を直接目視することによって確認しながら行うものであったため,その調整には許容範囲を超える誤差が生じ得る場合がある。この誤差は,ビームによる微細加工やイオンビームによる組成分析等の精度を低下させる要因となり,問題である。
また,上述した上記試料分析装置Y(図8)では,二次元検出器78,アパーチャ77,試料台79(載置台に相当)を収容配置する上記測定室73は,ソレノイドコイル75や補正コイル76などによりその周囲が取り囲まれているため,上記測定室73内部を目視観測することができず,荷電粒子ビームの調整が困難であった。
一方,当初,上記荷電粒子ビームの軌道がビーム軸に一致調整されていたとしても,荷電粒子ビームの軌道位置が徐々にずれることも考えられる。しかしながら,従来は,このずれを容易に検出する有効な手法はなかった。従って,例えば,上記試料分析装置Yについては,ビーム軸から外れた(反れた)荷電粒子ビームが試料74に照射される前にアパーチャ77に衝突し,そこから発生する散乱イオンや二次電子が二次元検出器78に検出された場合は,試料74の組成分析を正確に行うことができないという問題があった。
従って,本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり,その第1の目的とするところは,荷電粒子ビームの軌道の調整作業を容易化して調整精度を向上させると共に,装置の稼動中における荷電粒子ビームのずれを容易に検出することができる軌道位置検出装置,これを備えた組成分析装置及び荷電粒子ビームの軌道調整方法を提供することにある。
一方,本発明の上記軌道位置検出装置は,後述するようにファラデーカップなどのビーム電流測定手段を具備するが,上記軌道位置検出装置においては上記電流測定手段を正確に所定位置に配置しなければならない。しかし,上記電流測定手段を所定位置に配置すること,及び所定位置に上記電流測定手段が配置されたかどうかを確認することは困難である。
そこで,本発明の第2の目的とするところは,上記軌道位置検出装置に用いられるファラデーカップなどのビーム電流測定手段の座標位置を容易に検出することができる位置座標検出装置を提供することにある。
However, the above-described method for adjusting the trajectory of the charged particle beam directly checks the irradiation state of the fluorescent screen irradiated with the charged particle beam to see whether the trajectory of the charged particle beam is on a predetermined beam axis. In this case, an error exceeding the allowable range may occur in the adjustment. This error is a problem because it causes a decrease in the accuracy of fine processing using a beam and composition analysis using an ion beam.
In the sample analyzer Y (FIG. 8) described above, the measurement chamber 73 that accommodates and arranges the two-dimensional detector 78, the aperture 77, and the sample stage 79 (corresponding to the mounting stage) has a solenoid coil 75 and a correction coil 76. Since the surroundings are surrounded by, for example, the inside of the measurement chamber 73 cannot be visually observed, it is difficult to adjust the charged particle beam.
On the other hand, even if the trajectory of the charged particle beam is initially adjusted to coincide with the beam axis, the trajectory position of the charged particle beam may be gradually shifted. However, conventionally, there has been no effective method for easily detecting this shift. Therefore, for example, in the sample analyzer Y, the charged particle beam deviated (warped) from the beam axis collides with the aperture 77 before being irradiated onto the sample 74, and scattered ions and secondary electrons generated therefrom are generated. When detected by the two-dimensional detector 78, there is a problem that the composition analysis of the sample 74 cannot be performed accurately.
Accordingly, the present invention has been made in view of the above circumstances, and the first object thereof is to facilitate the adjustment work of the trajectory of the charged particle beam to improve the adjustment accuracy and to improve the adjustment accuracy during the operation of the apparatus. An object of the present invention is to provide an orbital position detecting device capable of easily detecting a deviation of a charged particle beam, a composition analyzing device including the same, and a charged particle beam orbit adjusting method.
On the other hand, the orbital position detecting device of the present invention comprises beam current measuring means such as a Faraday cup as will be described later. However, in the orbital position detecting device, the current measuring means must be arranged at a predetermined position accurately. Don't be. However, it is difficult to arrange the current measuring means at a predetermined position and to check whether the current measuring means is arranged at a predetermined position.
Accordingly, a second object of the present invention is to provide a position coordinate detection device capable of easily detecting the coordinate position of a beam current measuring means such as a Faraday cup used in the orbit position detection device. is there.

上記目的を達成するために本発明の軌道位置検出装置は,荷電粒子ビーム発生源から出射され,被照射物に照射される荷電粒子ビームのビーム電流を測定するビーム電流測定手段を備え,このビーム電流測定手段による上記ビーム電流の測定値に基づいて荷電粒子ビームの軌道位置を検出するよう構成されている。
これにより,上記ビーム電流測定手段で測定されたビーム電流をモニタリングしながら上記荷電粒子ビームの調整を行うことが可能となる。このように,荷電粒子ビームを目視するのではなく,上記ビーム電流という客観的材料により荷電粒子ビームの軌道位置の判断が可能となるため,荷電粒子ビームの軌道位置を容易に調整することができ,且つ,その調整誤差が低減され得る。更に,荷電粒子ビームが正常軌道からずれた場合に,そのずれを容易に検知することが可能となる。
ここで,上記ビーム電流測定手段が,予め定められたビーム軸を通る荷電粒子ビームのビーム電流を測定するものであることが考えられる。例えば,上記ビーム軸を通った場合にのみその電流値が測定され,通らない場合は測定されないものであれば,電流値が測定されたか否かにより荷電粒子ビームがずれているかどうかを判定することが可能となる。また,逆に,上記ビーム電流測定手段が,予め定められたビーム軸から外れた(逸れた)荷電粒子ビームのビーム電流を測定するものであってもよい。
In order to achieve the above object, an orbital position detection apparatus of the present invention comprises beam current measuring means for measuring the beam current of a charged particle beam emitted from a charged particle beam generation source and applied to an irradiated object. The orbit position of the charged particle beam is detected based on the measurement value of the beam current by the current measuring means.
Thereby, the charged particle beam can be adjusted while monitoring the beam current measured by the beam current measuring means. In this way, the charged particle beam trajectory position can be easily adjusted because the charged particle beam trajectory position can be determined by the objective material of the beam current rather than by visual observation of the charged particle beam. And the adjustment error can be reduced. Furthermore, when the charged particle beam deviates from the normal trajectory, the deviation can be easily detected.
Here, it is conceivable that the beam current measuring means measures the beam current of a charged particle beam passing through a predetermined beam axis. For example, if the current value is measured only when it passes through the beam axis and is not measured when it does not pass, it is determined whether the charged particle beam is deviated depending on whether the current value is measured. Is possible. Conversely, the beam current measuring means may measure the beam current of a charged particle beam deviated (deviated) from a predetermined beam axis.

上記ビーム電流測定手段の具体例としては,例えば,予め定められたビーム軸上の所定位置に配置されたファラデーカップを備えて構成されたものが考えられる。これにより,例えば,上記ビーム軸に一致しない荷電粒子ビームが上記ファラデーカップに照射されると,このとき検出される電流は一致する場合に検出される電流よりも減衰(低下)することになる。もちろん,荷電粒子ビームが正常軌道から大きくずれている場合は電流は検出されない。したがってこの場合は,検出される電流の減衰量を基に或いは電流が検出されなかったことを基にして上記荷電粒子ビームの軌道位置を検出することができる。
なお,上記ファラデーカップの底面に上記荷電粒子ビームを該荷電粒子ビームの入射方向に通過させる開口部を設けた場合は,上記ビーム軸に一致する荷電粒子ビームが上記ファラデーカップに照射されると電流は検出されない(検出されたとしても微量)が,上記ビーム軸に一致しない荷電粒子ビームが上記ファラデーカップに照射されると,電流が検出される(或いは検出される電流が増加(上昇)する)ことになる。そのため,この場合は,電流が検出されたこと,又は検出される電流の増加量を基にして荷電粒子ビームの軌道位置を検出することができる。
また,上記ビーム電流測定手段の他の例として,上記ビーム軸上の所定位置に配置され,上記荷電粒子ビームを該荷電粒子ビームの入射方向に通過させる開口部を中心部に有する電極部材を備えて構成されたものも考えられる。このように構成されることにより,上記ビーム軸に一致しない荷電粒子ビームは上記開口部を通過できずに上記電極部材に衝突する。その際,上記電極部材で検出される電流は増加(上昇)するため,この増加量を基にして荷電粒子ビームの軌道位置を検出することができる。
この場合,上記電極部材は,上記中心部の開口部を中心にして配置された複数の電極を有してなることが望ましい。これにより,どの電極に衝突したかによって,荷電粒子ビームの衝突位置(即ち軌道位置)の座標を検出することが可能となるできる。その結果,荷電粒子ビームの傾斜方向やズレ,或いは調整時の移動方向を知ることができ,調整が更に容易となる。
また,上記ファラデーカップの荷電粒子ビームの入射側に,該荷電粒子ビームの入射口が形成された電極板を有しており,上記電極部材が,絶縁層を介して上記電極板に配置されて構成されたものも,上記ビーム電流測定手段の一例である。
As a specific example of the beam current measuring means, for example, a configuration including a Faraday cup disposed at a predetermined position on a predetermined beam axis is conceivable. Thus, for example, when the Faraday cup is irradiated with a charged particle beam that does not coincide with the beam axis, the current detected at this time is attenuated (decreased) than the current detected when they coincide. Of course, no current is detected when the charged particle beam deviates significantly from the normal orbit. Therefore, in this case, the orbital position of the charged particle beam can be detected based on the detected current attenuation or based on the fact that no current was detected.
When an opening for passing the charged particle beam in the incident direction of the charged particle beam is provided on the bottom surface of the Faraday cup, a current flows when the charged particle beam that coincides with the beam axis is irradiated to the Faraday cup. Is detected (a minute amount even if detected), but when the Faraday cup is irradiated with a charged particle beam that does not coincide with the beam axis, a current is detected (or the detected current increases (rises)). It will be. Therefore, in this case, the orbital position of the charged particle beam can be detected based on the detected current or the increased amount of detected current.
As another example of the beam current measuring means, an electrode member disposed at a predetermined position on the beam axis and having an opening at the center for allowing the charged particle beam to pass in the incident direction of the charged particle beam is provided. It is also conceivable to be configured. With this configuration, a charged particle beam that does not coincide with the beam axis cannot pass through the opening and collides with the electrode member. At this time, since the current detected by the electrode member increases (rises), the orbital position of the charged particle beam can be detected based on the increased amount.
In this case, it is desirable that the electrode member has a plurality of electrodes arranged around the opening at the center. Thereby, it is possible to detect the coordinates of the collision position (namely, the orbit position) of the charged particle beam depending on which electrode collided. As a result, the tilt direction and deviation of the charged particle beam, or the moving direction during adjustment can be known, and adjustment is further facilitated.
The charged particle beam entrance side of the Faraday cup has an electrode plate formed with an entrance for the charged particle beam, and the electrode member is disposed on the electrode plate via an insulating layer. What is configured is also an example of the beam current measuring means.

また,上記電極部材の有する電極は二以上の複数であることが望ましいが,荷電粒子ビームの位置座標の検出精度を高めるという観点からすれば,検出される位置座標を細分化するため,上記電極は多数であることが好ましい。また,上記電極部材が複数の電極に等分割されて配置されておれば,検出される位置座標の検出精度は更に向上する。更にまた,上記電極部材の上記複数の電極が上記中心部の開口部を中心にして対称配置されていても,上記検出精度の向上が期待できる。
更にまた,上記電極部材の上記複数の電極に所定の電位を印加することが考えられる。例えば,本軌道位置検出装置が散乱イオンを用いた組成分析装置に用いられる場合は,組成分析に必要な散乱イオン以外の二次電子等の不要粒子を上記電極部材で捕捉することができ,ノイズが抑制され,高精度な組成分析装置を実現することができる。更に,上記電極部材にイオンビーム等の荷電粒子ビームが衝突した場合に発生する二次電子が上記電極部材に引き戻されるため,電流の測定精度が向上され得る。
In addition, it is desirable that the electrode member has two or more electrodes. From the viewpoint of improving the detection accuracy of the position coordinate of the charged particle beam, the electrode member is subdivided to subdivide the detected position coordinate. Is preferably a large number. If the electrode member is equally divided into a plurality of electrodes, the detection accuracy of the detected position coordinates is further improved. Furthermore, even if the plurality of electrodes of the electrode member are symmetrically arranged with the opening at the center as the center, improvement in the detection accuracy can be expected.
Furthermore, it is conceivable to apply a predetermined potential to the plurality of electrodes of the electrode member. For example, when this orbital position detector is used in a composition analyzer using scattered ions, unnecessary particles such as secondary electrons other than the scattered ions required for composition analysis can be captured by the electrode member, and noise can be detected. Is suppressed, and a highly accurate composition analyzer can be realized. Furthermore, since secondary electrons generated when a charged particle beam such as an ion beam collides with the electrode member are drawn back to the electrode member, current measurement accuracy can be improved.

上記ビーム電流測定手段の配置位置としては,例えば,予め定められたビーム軸上の所定位置に複数配置することが望ましい。即ち,少なくとも二以上のビーム電流測定手段がビーム軸に沿って配設されておれば,例えば,傾斜して入射してきた荷電粒子ビームが一つ目の電流測定手段を通過したとしても,二つ目の電流測定手段に衝突するため,その衝突位置,即ち荷電粒子ビームの軌道位置や入射角度を確実に検出することができる。
また,上記被照射物に対する荷電粒子ビームの軌道調整を精度よく行うために,上記ビーム電流測定手段は,荷電粒子ビームの発生源から最も離れて配置された上記被照射物の載置台の近傍に配置されることが好ましい。例えば,上記被照射物の載置台の下方に上記ビーム電流測定手段を配置することが考えられる。なお,この場合は,上記載置台により荷電粒子ビームが遮蔽されるが,上記載置台に荷電粒子ビームを該荷電粒子ビームの入射方向に通過させる開口部を設けるなどすることにより上記遮蔽による問題は容易に解消される。
As the arrangement positions of the beam current measuring means, for example, it is desirable to arrange a plurality of them at predetermined positions on a predetermined beam axis. That is, if at least two or more beam current measuring means are arranged along the beam axis, for example, even if a charged particle beam incident at an angle passes through the first current measuring means, Since it collides with the current measuring means of the eye, the collision position, that is, the orbital position and incident angle of the charged particle beam can be reliably detected.
Further, in order to accurately adjust the trajectory of the charged particle beam with respect to the irradiated object, the beam current measuring means is disposed in the vicinity of the mounting table of the irradiated object that is arranged farthest from the charged particle beam generation source. Preferably they are arranged. For example, it is conceivable to arrange the beam current measuring means below the stage for placing the irradiated object. In this case, the charged particle beam is shielded by the above-mentioned mounting table. However, the above-described problem due to the shielding can be prevented by providing an opening for allowing the charged particle beam to pass in the incident direction of the charged particle beam. Easily resolved.

また,本発明は,上述の軌道位置検出装置を具備してなる組成分析装置として捉えることも可能である。即ち,加速された荷電粒子ビームを真空容器内に配置された被照射物に照射して,上記被照射物から散乱した散乱イオンのエネルギースペクトルを測定することにより,上記被照射物の組成分析を行う組成分析装置が上記軌道位置検出装置を具備する構成が考えられる。
これにより,例えば,組成分析装置を構成するソレノイドコイルや補正コイルなどにより荷電粒子ビームを物理的に目視することができないような場合であっても,測定されたビーム電流を客観的材料として荷電粒子ビームの軌道位置を知ることができる。その結果,荷電粒子ビームの軌道位置を容易に調整することが可能となる。
また,上記組成分析装置に,上記荷電粒子ビームを該荷電粒子ビームの入射方向に通過させると共に上記被照射物で散乱した散乱粒子を上記荷電粒子ビームの入射方向に対して反対方向に通過させる開口部を中心部に有するアパーチャが設けられている場合は,上記ビーム電流測定手段が,上記被照射物を載置する載置台及び/又は上記アパーチャに設けられてなることが望ましい。これにより,上記ビーム電流測定手段の支持部材が不要となる。
Further, the present invention can also be understood as a composition analysis device including the above-described orbit position detection device. That is, by irradiating an object to be irradiated arranged in a vacuum vessel with an accelerated charged particle beam and measuring an energy spectrum of scattered ions scattered from the object to be irradiated, composition analysis of the object to be irradiated is performed. A configuration in which the composition analyzer to be performed includes the above-described orbit position detection device is conceivable.
As a result, for example, even when the charged particle beam cannot be physically visually observed by a solenoid coil or a correction coil constituting the composition analyzer, the measured beam current is used as an objective material for charged particles. The position of the beam trajectory can be known. As a result, the orbital position of the charged particle beam can be easily adjusted.
In addition, the composition analyzer has an opening that allows the charged particle beam to pass in the incident direction of the charged particle beam and also allows scattered particles scattered by the irradiated object to pass in a direction opposite to the incident direction of the charged particle beam. In the case where an aperture having a central portion is provided, it is desirable that the beam current measuring means is provided on the mounting table on which the object to be irradiated is mounted and / or the aperture. This eliminates the need for a support member for the beam current measuring means.

また,本発明は,加速された荷電粒子ビームを真空容器内に配置された被照射物に照射して,上記被照射物から散乱した散乱イオンのエネルギースペクトルを測定することにより,上記被照射物の組成分析を行う組成分析装置に適用され,上記荷電粒子ビームのビーム電流を測定し,測定された荷電粒子ビームの測定値に基づいて上記荷電粒子ビームの軌道位置を検出し,検出された軌道位置を参照しながら,荷電粒子ビーム発生源を移動又は傾斜させるなどして上記荷電粒子ビームの軌道を調整する荷電粒子ビームの軌道調整方法として捉えることもできる。   Further, the present invention irradiates the object to be irradiated with an accelerated charged particle beam, and measures the energy spectrum of scattered ions scattered from the object to be irradiated, whereby the object to be irradiated is measured. The charged particle beam is measured by measuring the beam current of the charged particle beam, and detecting the orbital position of the charged particle beam based on the measured value of the charged particle beam. It can also be understood as a method of adjusting the trajectory of the charged particle beam by adjusting the trajectory of the charged particle beam by moving or tilting the charged particle beam generation source while referring to the position.

更にまた,上記軌道位置検出装置に適用される上記ビーム電流測定手段の位置座標検出装置であって,レーザを発生して出射するレーザ発生源と,上記レーザ発生源から出射されたレーザの光軸上に設けられ,該光軸上のレーザを該光軸と直交する予め定められた上記荷電粒子ビームのビーム軸へ反射させると共に該ビーム軸と略並行するレーザを透過するハーフミラーと,上記ビーム電流測定手段或いは該ビーム電流測定手段より上記荷電粒子ビームの入射方向下流側に配設され,上記ハーフミラーで反射した上記ビーム軸上のレーザを該レーザの入射方向に対して反対方向に反射させるコーナーキューブと,上記コーナーキューブにより反射され上記ハーフミラーを透過したレーザの強度を検出することにより該レーザの座標位置を検出するレーザ位置検出手段と,を具備して構成された位置座標検出装置が考えられる。
このように構成された位置座標検出装置であれば,上記コーナーキューブに照射された後に反射されたレーザの座標位置が検出されるため,その座標位置から,上記軌道位置検出装置に用いられるファラデーカップなどのビーム電流測定手段の中心位置座標を得ることができる。これにより,上記中心位置座標から上記ビーム電流測定手段の設置位置やそのずれ量などを算出することが可能となる。
Furthermore, a position coordinate detection device for the beam current measuring means applied to the orbit position detection device, wherein the laser generation source emits and emits a laser, and the optical axis of the laser emitted from the laser generation source. A half mirror provided on the optical axis for reflecting a laser on the optical axis to a predetermined beam axis of the charged particle beam orthogonal to the optical axis and transmitting a laser substantially parallel to the beam axis; The laser on the beam axis, which is disposed downstream of the charged particle beam incident direction from the current measuring means or the beam current measuring means and reflected by the half mirror, is reflected in the direction opposite to the incident direction of the laser. The coordinate position of the laser is detected by detecting the intensity of the laser reflected by the corner cube and the corner cube and transmitted through the half mirror. The laser position detection means and, is configured by including the position coordinate detection device is considered that.
With the position coordinate detection device configured in this way, the coordinate position of the laser reflected after being irradiated onto the corner cube is detected, so that the Faraday cup used in the orbit position detection device is detected from the coordinate position. The center position coordinates of the beam current measuring means such as can be obtained. As a result, it is possible to calculate the installation position of the beam current measuring means and the amount of deviation thereof from the center position coordinates.

本発明によれば,測定されたビーム電流をモニタリングしながら上記荷電粒子ビームの調整を行うことが可能となるため,荷電粒子ビームを目視するのではなく,上記ビーム電流という客観的材料により荷電粒子ビームの軌道位置を認識することが可能となる。そのため,荷電粒子ビームの軌道位置を容易に調整することができる。その結果,その調整誤差を低減し,調整精度を向上させることが可能となる。
更に,荷電粒子ビームがビーム軸からずれた場合に,そのずれを容易に検知することが可能となる。
また,軌道位置検出装置に用いられるファラデーカップなどのビーム電流測定手段の座標位置を容易に検出することが可能となる。
According to the present invention, since the charged particle beam can be adjusted while monitoring the measured beam current, the charged particle beam is not visually observed but is charged by an objective material such as the beam current. It becomes possible to recognize the trajectory position of the beam. Therefore, the orbital position of the charged particle beam can be easily adjusted. As a result, the adjustment error can be reduced and the adjustment accuracy can be improved.
Furthermore, when the charged particle beam deviates from the beam axis, the deviation can be easily detected.
Further, it becomes possible to easily detect the coordinate position of a beam current measuring means such as a Faraday cup used in the orbit position detecting device.

以下,添付図面を参照しながら,本発明の実施形態及び実施例について説明し,本発明の理解に供する。なお,以下の実施形態及び実施例は,本発明を具体化した一例であって,本発明の技術的範囲を限定する性格のものではない。
《第1の実施形態》
まず,図1〜図5を用いて,本発明の第1の実施形態に係る試料分析装置について説明する。なお,当該試料分析装置は,加速されたイオンビーム(荷電粒子ビームの一例)を測定室内に配置された試料に照射して,この試料から散乱した散乱イオンのエネルギースペクトルを測定することにより,上記試料の組成分析を行う装置であって,例えば,平行磁場型ラザフォード後方散乱分析装置等が該当する。この試料分析装置の構成は,前記した従来の試料分析装置Yと大きく異なるところはないため,ここでの試料分析装置の全体構成の説明は省略し,従来のものと相違する測定室73aの内部構成について詳細に説明する。ここに,図1は測定室73aの断面図,図2は分割電極の構成を説明する図,図3はファラデーカップの模式断面図,図4は試料台の断面図,図5はイオンビームの軌道を調整する方法を説明する図である。
図1に示すように,測定室73aは,イオンビームLの入射方向上流側から順に,試料からの特定の散乱イオンを検出する二次元検出器78と,中心部に開口部77aを有するアパーチャ77と,試料を載置する試料台79が配置されて構成されており,この点においては従来の試料分析装置Yの測定室73と相違はない。上記測定室73aが従来のものと異なるところは,この測定室73a内のビーム軸上の所定位置に,正又は負の電荷を帯びたイオンビームLのビーム電流を測定するビーム電流測定手段の一例である分割電極10(電極部材の一例)及びファラデーカップ20が設けられている点にある。なお,この第1の実施形態では,イオンビームLのビーム軸上の所定位置に上記分割電極10及びファラデーカップ20の二つのビーム電流測定手段を設けた例について説明するが,より多くの分割電極10やファラデーカップ20が設けられた例であってもよく,或いは,少なくとも分割電極10若しくはファラデーカップ20のいずれかが設けられた例であってもよい。
Hereinafter, embodiments and examples of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings for understanding of the present invention. It should be noted that the following embodiments and examples are examples embodying the present invention, and do not limit the technical scope of the present invention.
<< First Embodiment >>
First, the sample analyzer according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The sample analyzer irradiates a sample placed in a measurement chamber with an accelerated ion beam (an example of a charged particle beam) and measures the energy spectrum of scattered ions scattered from the sample, thereby An apparatus for analyzing the composition of a sample, such as a parallel magnetic field type Rutherford backscattering analysis apparatus. Since the configuration of this sample analyzer is not significantly different from that of the conventional sample analyzer Y described above, the description of the overall configuration of the sample analyzer here is omitted, and the interior of the measurement chamber 73a different from the conventional one is omitted. The configuration will be described in detail. 1 is a sectional view of the measurement chamber 73a, FIG. 2 is a diagram for explaining the configuration of the divided electrodes, FIG. 3 is a schematic sectional view of a Faraday cup, FIG. 4 is a sectional view of a sample stage, and FIG. It is a figure explaining the method of adjusting a track.
As shown in FIG. 1, the measurement chamber 73a includes a two-dimensional detector 78 for detecting specific scattered ions from the sample in order from the upstream side in the incident direction of the ion beam L, and an aperture 77 having an opening 77a at the center. In this respect, there is no difference from the measurement chamber 73 of the conventional sample analyzer Y. The measurement chamber 73a is different from the conventional one in an example of beam current measuring means for measuring the beam current of the ion beam L having a positive or negative charge at a predetermined position on the beam axis in the measurement chamber 73a. The divided electrode 10 (an example of an electrode member) and the Faraday cup 20 are provided. In the first embodiment, an example in which two beam current measuring means of the split electrode 10 and the Faraday cup 20 are provided at predetermined positions on the beam axis of the ion beam L will be described. 10 or the Faraday cup 20 may be provided, or at least one of the divided electrodes 10 or the Faraday cup 20 may be provided.

まず,上記分割電極10について説明する。上記分割電極10は,上記イオンビームLが本来通過するべきビーム軸から外れたイオンビームのビーム電流のみを測定するものであって,その中央部に上記イオンビームLをその入射方向に通過させる開口部12を有している。この分割電極10も,上記二次元検出器78及びアパーチャ77と同様に,上記開口部12が上記ビーム軸に一致するよう配設されている。
上記分割電極10の配置は,上記測定室73a内のビーム軸上であればいずれの場所であってもよいが,この第1の実施形態では,上記分割電極10を支持するための部材を排除するために,上記アパーチャ77の上面に貼り付けるなどして上記分割電極10を配置させている。このように配置された分割電極10を図2に示す。ここに,図2(a)は上記アパーチャ77を上方から見た図,(b)は(a)のA−A断面図,(c)は(b)のC部拡大図,(d)は(a)のB部拡大図である。
First, the divided electrode 10 will be described. The split electrode 10 measures only the beam current of an ion beam deviating from the beam axis through which the ion beam L should originally pass, and has an opening through which the ion beam L passes in the incident direction. Part 12 is provided. Similarly to the two-dimensional detector 78 and the aperture 77, the divided electrode 10 is also arranged so that the opening 12 coincides with the beam axis.
The arrangement of the divided electrode 10 may be anywhere as long as it is on the beam axis in the measurement chamber 73a, but in the first embodiment, a member for supporting the divided electrode 10 is excluded. In order to do this, the divided electrode 10 is disposed by being attached to the upper surface of the aperture 77. The divided electrodes 10 arranged in this way are shown in FIG. 2A is a view of the aperture 77 as viewed from above, FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 2A, FIG. 2C is an enlarged view of a portion C of FIG. It is the B section enlarged view of (a).

図2に示すように,上記分割電極10は,アパーチャ77より小径の円環状に形成されており,その中心部にある開口部12が上記アパーチャ77の開口部77aと重ね合わさるようにして配設されている。
また,図2(a)に示すように,上記分割電極10は4つの電極10a〜10dを備えて構成されており,上記中心部の開口部12を中心にして環状に配設されている。これらの電極10a〜10dは,それぞれ同形状に形成されており,上記開口部12を中心にして対称に配置されている。即ち,上記分割電極10は複数の電極に等分割されて構成されている。
As shown in FIG. 2, the divided electrode 10 is formed in an annular shape having a smaller diameter than the aperture 77, and the opening 12 at the center thereof is disposed so as to overlap the opening 77 a of the aperture 77. Has been.
Further, as shown in FIG. 2A, the divided electrode 10 includes four electrodes 10a to 10d, and is arranged annularly with the opening 12 at the center as a center. These electrodes 10a to 10d are formed in the same shape, and are arranged symmetrically with the opening 12 as the center. That is, the divided electrode 10 is configured to be equally divided into a plurality of electrodes.

上記電極10a〜10dは,信号線13a〜13dを介してモニタ表示可能な周知の電流計測器に接続されており,この電流計測器側で上記電極10a〜10dに上記イオンビームLが衝突した際に上記電極10a〜10dに流れる各々の電流(ビーム電流)を測定して,測定された各々の電流値が画面表示されるようになっている。なお,上記電流計測器は少なくとも上記ビーム電流の値を計測するものであればよく,当然のことながら種々の電流計測手段を用いることができる。
また,本実施形態では,上記アパーチャ77は導電性部材で形成されており,従って,このアパーチャ77も上記電極10a〜10dと同様に電極として作用する。そのため,上記アパーチャ77も,信号線14を介して上記電流計測器と接続されている。なお,上記アパーチャ77と上記電極10a〜10dとの導通を遮断させるため,図2(b),(c)に示すように,上記電極10a〜10dは絶縁層11を介して上記アパーチャ77の上面に配設されている。
このように上記分割電極10が設けられた上記測定室73aを有する試料分析装置であれば,例えば,イオンビームLの軌道調整時或いは装置の稼働中にイオンビームLがビーム軸から外れて(反れて)該イオンビームLが上記電極部材10に衝突した場合,或いはその一部が上記電極部材10に衝突した場合は,イオンビームLのビーム電流が測定されるため,ビーム電流が測定されたことをもってイオンビームLの軌道がビーム軸からずれた位置にあることを検出することが可能となる。
The electrodes 10a to 10d are connected to a known current measuring instrument capable of monitor display via signal lines 13a to 13d, and when the ion beam L collides with the electrodes 10a to 10d on the current measuring instrument side. Each current (beam current) flowing through the electrodes 10a to 10d is measured, and each measured current value is displayed on the screen. The current measuring device only needs to measure at least the value of the beam current, and various current measuring means can be used as a matter of course.
In the present embodiment, the aperture 77 is formed of a conductive member. Therefore, the aperture 77 also functions as an electrode in the same manner as the electrodes 10a to 10d. Therefore, the aperture 77 is also connected to the current measuring device via the signal line 14. In order to block the conduction between the aperture 77 and the electrodes 10a to 10d, the electrodes 10a to 10d are connected to the upper surface of the aperture 77 through an insulating layer 11, as shown in FIGS. It is arranged.
Thus, in the case of a sample analyzer having the measurement chamber 73a in which the divided electrode 10 is provided, for example, the ion beam L is deviated from the beam axis (curved) when adjusting the trajectory of the ion beam L or during operation of the apparatus. When the ion beam L collides with the electrode member 10 or when a part of the ion beam L collides with the electrode member 10, the beam current of the ion beam L is measured. It is possible to detect that the trajectory of the ion beam L is at a position shifted from the beam axis.

次に,ビーム電流測定手段の一例であるファラデーカップ20について説明する。上記ファラデーカップ20は,イオンビームLを受け止めてそのビーム電流を直接測定するためのカップ状の金属製の第3の電極23を有して構成されており,図3(a)に示すような構造をしている。
具体的には,図3(a)に示すように,上記ファラデーカップ20は,上記第3の電極23と,この第3の電極23及び後述の第1の電極21に対して負の電位(負のバイアス)−Vsが印加されることにより上記第3の電極23からの二次電子を電界で抑え,且つイオンビームLに含まれる低速二次電子を抑えるための第2の電極22と,測定するイオンビームLの径を制限し,上記第2の電極22にイオンビームの一部が衝突しないようにするための第1の電極(電極板に相当)とイオンを測定するイオンビームの径を制限する第1の電極21と,上記第3の電極23の底面に設けられ,イオンビームLのイオン粒子を運動エネルギーを吸収する吸収体24とを備えて構成されている。
上記第1の電極21及び第2の電極22は,上記第3の電極23のイオンビームLの入射側に設けられており,上記第2の電極22が上記第3の電極23の上方に,そして,上記第1の電極21が絶縁部材25を介して上記第2の電極の上方に配設されている。また,上記第1の電極21及び第2の電極22それぞれの中央部には,上記イオンビームLをその入射方向に通過させる入射口21a,22aが形成されている。なお,上記入射口21aは上記アパーチャ77の開口部77aと略同様の口径に形成されており,上記入射口22aは上記入射口21aより大径に形成されている。
また,上記ファラデーカップ20は,上記第1の電極21の上面に,図示しない絶縁層を介して前記分割電極10が配設されて構成されたものであってもよい。
Next, the Faraday cup 20 which is an example of a beam current measuring unit will be described. The Faraday cup 20 has a cup-shaped metal third electrode 23 for receiving the ion beam L and directly measuring the beam current, as shown in FIG. Has a structure.
Specifically, as shown in FIG. 3A, the Faraday cup 20 has a negative potential (with respect to the third electrode 23, the third electrode 23, and a first electrode 21 described later). A second electrode 22 for suppressing secondary electrons from the third electrode 23 by applying an electric field and suppressing low-speed secondary electrons contained in the ion beam L by applying a negative bias) -Vs; The diameter of the ion beam for measuring ions and the first electrode (corresponding to the electrode plate) for limiting the diameter of the ion beam L to be measured so that a part of the ion beam does not collide with the second electrode 22. The first electrode 21 for limiting the flow rate and the absorber 24 that is provided on the bottom surface of the third electrode 23 and absorbs the kinetic energy of the ion particles of the ion beam L are configured.
The first electrode 21 and the second electrode 22 are provided on the incident side of the ion beam L of the third electrode 23, and the second electrode 22 is located above the third electrode 23. The first electrode 21 is disposed above the second electrode via an insulating member 25. In addition, incident ports 21 a and 22 a through which the ion beam L passes in the incident direction are formed at the center of each of the first electrode 21 and the second electrode 22. The entrance 21a is formed to have a diameter substantially the same as the opening 77a of the aperture 77, and the entrance 22a is formed to have a larger diameter than the entrance 21a.
The Faraday cup 20 may be configured by disposing the divided electrode 10 on the upper surface of the first electrode 21 via an insulating layer (not shown).

上記ファラデーカップ20の配置は,この第1の実施形態では,上記ファラデーカップ20は,図1に示すように,試料台79の近傍に,より詳しくは,上記試料台79の下方(又は下部,底面)に配設されている。なお,この場合は,上記試料台79によってイオンビームLの上記ファラデーカップ20への入射が妨げられるが,上記試料台79をビーム透過性のある部材で形成し,或いは上記試料台79の中央部にイオンビームLを通過させる開口部を設けるなどすることにより上記ファラデーカップ20への入射を確保することができる。
また,上記試料台79を,図4に示すように,その中心軸79bを中心にしてモータ等の電動機79cで回転制御可能にし,上記試料台79の中心軸79bより円周方向に外れた位置に開口部79aを設け,この開口部79aの中心をイオンビームLが通過するように位置合わせし,該開口部79aの下方に上記ファラデーカップ20を設けるようにすれば,仮に,試料分析装置で試料74を分析していたとしても,上記試料台79を回転させることにより,上記ファラデーカップ20へのイオンビームLの入射を確保することができる。これにより,試料分析からイオンビームLの軌道位置確認への切り替えを容易且つ迅速に行うことが可能となる。
このように上記ファラデーカップ20が設けられた上記測定室73aを有する試料分析装置であれば,例えば,イオンビームLがビーム軸上を通過する場合にのみそのイオンビームLが上記ファラデーカップ20に入射されて,そのビーム電流が測定されるため,ビーム電流が測定されたことをもってイオンビームLの軌道がビーム軸と一致する位置あることを検出することが可能となる。また,ビーム電流が測定されない場合,或いは測定されても所定値未満である場合は,イオンビームLの軌道がビーム軸から外れた位置にあることを検出することができる。
In the first embodiment, the Faraday cup 20 is arranged in the vicinity of the sample stage 79, more specifically below (or below) the sample stage 79, as shown in FIG. (On the bottom). In this case, the sample stage 79 prevents the ion beam L from being incident on the Faraday cup 20. However, the sample stage 79 is formed of a member having a beam transmission property, or a central portion of the sample stage 79. By providing an opening for allowing the ion beam L to pass through, the incident to the Faraday cup 20 can be ensured.
Further, as shown in FIG. 4, the sample stage 79 can be rotationally controlled by an electric motor 79c such as a motor around the center axis 79b, and is positioned in a circumferential direction away from the center axis 79b of the sample stage 79. If the Faraday cup 20 is provided below the opening 79a, the opening 79a is provided in the center of the opening 79a so that the ion beam L passes through the center of the opening 79a. Even if the sample 74 is analyzed, the ion beam L can be incident on the Faraday cup 20 by rotating the sample stage 79. This makes it possible to easily and quickly switch from sample analysis to orbital position confirmation of the ion beam L.
Thus, in the case of the sample analyzer having the measurement chamber 73a in which the Faraday cup 20 is provided, for example, the ion beam L is incident on the Faraday cup 20 only when the ion beam L passes on the beam axis. Since the beam current is measured, it is possible to detect that the orbit of the ion beam L is at a position coincident with the beam axis when the beam current is measured. If the beam current is not measured or if it is less than a predetermined value even if measured, it can be detected that the trajectory of the ion beam L is at a position off the beam axis.

上記ファラデーカップ20は,一般に,カップ状の上記第3の電極23を備えてなるものであるが,例えば,上記第3の電極23の底面の中央部に,上記第1の電極21の入射口21aと略同口径の開口部(不図示)が設けられたファラデーカップを用いてもよい。このような開口部を有するファラデーカップであれば,上記測定室73a内のビーム軸上のいずれの場所にも配置させることができる。この場合は,当該ファラデーカップにおいてビーム電流が測定されたことは,イオンビームLの軌道がビーム軸から外れた位置にあることを意味し,ビーム電流が測定されないことは,イオンビームLの軌道がビーム軸と一致する位置あることを意味する。   The Faraday cup 20 is generally provided with the cup-shaped third electrode 23. For example, the incident port of the first electrode 21 is provided at the center of the bottom surface of the third electrode 23. A Faraday cup provided with an opening (not shown) having the same diameter as 21a may be used. Any Faraday cup having such an opening can be placed anywhere on the beam axis in the measurement chamber 73a. In this case, the measurement of the beam current in the Faraday cup means that the trajectory of the ion beam L is at a position off the beam axis, and the fact that the beam current is not measured means that the trajectory of the ion beam L is This means that the position coincides with the beam axis.

ここで,図5を用いて,試料分析装置が設置されたときなどに行われる上記イオンビームLの軌道を初期調整する方法について説明する。
加速器Y1からスペクトロメータY2に出射されたイオンビームLは,調整初期の段階では,その軌道はビーム軸から外れていることが多く,上記分割電極10の4つの電極10a〜10dのいずれかの電極に衝突している。例えば,この初期の段階において,イオンビームLが,図5(a)に示すように,電極10aに衝突したと仮定する。
この場合,前記電流計測装置のモニタ画面では,上記電極10aに流れる電流値が他の電極に比べて極めて高く表示されるため,調整作業者は,イオンビームLの軌道位置が上記電極10aの方向にずれていることを認識することができる。したがって,調整作業者は,上記電極10aの方向とは逆の方向へ軌道を変更することによりイオンビームLの軌道を図5(c)に示すように,ビーム軸へ一致させる調整を容易に行うことができる。また,軌道の調整中においても上記モニタ画面の各電極の電流値を参照することにより,調整の誤り等をすぐに認識できるため,調整ミスを犯すこともなく,迅速に調整を行うことができる。
また,初期の段階において,イオンビームLの軌道が,図5(b)に示す位置にある場合は,前記電流計測装置のモニタ画面では,上記電極10a及び10bに流れる電流値が他の電極に比べて高く表示されるため,イオンビームLの軌道位置が上記電極10aと10bの間にあることを認識することができ,その後の調整を容易に行うことができる。
Here, a method for initially adjusting the trajectory of the ion beam L performed when a sample analyzer is installed will be described with reference to FIG.
The ion beam L emitted from the accelerator Y1 to the spectrometer Y2 often has its orbit off the beam axis at the initial stage of adjustment, and any one of the four electrodes 10a to 10d of the divided electrode 10 is used. Clash. For example, in this initial stage, it is assumed that the ion beam L collides with the electrode 10a as shown in FIG.
In this case, on the monitor screen of the current measuring device, the value of the current flowing through the electrode 10a is displayed to be extremely higher than that of the other electrodes, so that the adjustment operator determines that the orbital position of the ion beam L is in the direction of the electrode 10a. Can be recognized. Therefore, the adjustment operator easily adjusts the trajectory of the ion beam L to coincide with the beam axis as shown in FIG. 5C by changing the trajectory in the direction opposite to the direction of the electrode 10a. be able to. In addition, by referring to the current value of each electrode on the monitor screen during trajectory adjustment, it is possible to immediately recognize an adjustment error, etc., so that adjustment can be performed quickly without making an adjustment error. .
In the initial stage, when the trajectory of the ion beam L is at the position shown in FIG. 5B, the current value flowing through the electrodes 10a and 10b is transferred to the other electrodes on the monitor screen of the current measuring device. Since it is displayed higher than that, it can be recognized that the trajectory position of the ion beam L is between the electrodes 10a and 10b, and the subsequent adjustment can be easily performed.

なお,この第1の実施形態では,試料分析装置を例にとって説明してきたが,上記イオンビームLの調整を行うために必要な上記分割電極10やファラデーカップ20等のビーム電流測定手段は,上記試料分析装置に限られず,例えば,イオンビームなどの荷電粒子ビームを用いた電子顕微鏡や該荷電粒子ビームを用いたビーム加工装置等にも適用することができる。即ち,本発明を,ビーム電流測定手段を備え,測定された上記ビーム電流の測定値に基づいて上記荷電粒子ビームの軌道位置を検出する軌道位置検出装置と捉えることにより,荷電粒子ビームを用いるあらゆる装置に適用することが可能となる。   In the first embodiment, the sample analyzer has been described as an example. However, the beam current measuring means such as the divided electrode 10 and the Faraday cup 20 necessary for adjusting the ion beam L is the above-described one. For example, the present invention can be applied to an electron microscope using a charged particle beam such as an ion beam or a beam processing apparatus using the charged particle beam. That is, the present invention is regarded as an orbital position detecting device that includes a beam current measuring means and detects the orbital position of the charged particle beam based on the measured value of the beam current. It becomes possible to apply to the apparatus.

《第2の実施形態》
次に,図6及び図7を用いて,本発明の第2の実施形態に係る上記ビーム電流測定手段の位置座標検出装置について説明する。この位置座標検出装置は,上記第1の実施形態で説明した軌道位置検出装置や試料分析装置に適用されるものであって,上記ファラデーカップ20などのビーム電流測定手段の配設位置(配置位置)の位置座標を検出するものである。なお,ここでは,当該位置座標検出装置が,上記ビーム電流測定手段の一例である上記ファラデーカップ20の配設位置の位置座標を検出するものとして説明するが,もちろん,上記分割電極10,上記アパーチャ77及び上記二次元検出器78の配設位置の座標の検出にも適用可能である。ここに,図6はコーナーキューブが配置されたファラデーカップの断面図,図7は位置座標検出装置が適用された測定室73の断面図である。
上記位置座標検出装置は,図7に示すように,レーザを発生して出射するレーザ発生源82と,上記レーザ発生源82から出射されたレーザの光軸82a上に設けられ,該光軸82a上のレーザを上記光軸82aと直交する予め定められたイオンビーム(荷電粒子ビーム)のビーム軸へ反射させると共に該ビーム軸と略並行するレーザを透過するハーフミラー83と,上記ファラデーカップ20に配設され,上記ハーフミラー83で反射した上記ビーム軸上のレーザを該レーザの入射方向に対して反対方向に反射させるコーナーキューブ84(図6参照)と,このコーナーキューブ84により反射され上記ハーフミラー83を透過したレーザの強度を検出することにより該レーザの座標位置を検出する光パワーメータ81(レーザ位置検出手段の一例)と,を備えて構成されており,この各構成要素が上記測定室73に装着或いは配設されている。
<< Second Embodiment >>
Next, a position coordinate detection apparatus for the beam current measuring means according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This position coordinate detection apparatus is applied to the orbital position detection apparatus and the sample analysis apparatus described in the first embodiment, and is provided with an arrangement position (arrangement position) of beam current measuring means such as the Faraday cup 20. ) Position coordinates are detected. Here, the position coordinate detection device will be described as detecting the position coordinates of the Faraday cup 20 as an example of the beam current measuring means, but of course, the divided electrode 10, the aperture 77 and the coordinates of the position where the two-dimensional detector 78 is disposed are also applicable. FIG. 6 is a cross-sectional view of the Faraday cup in which the corner cube is arranged, and FIG. 7 is a cross-sectional view of the measurement chamber 73 to which the position coordinate detection device is applied.
As shown in FIG. 7, the position coordinate detection apparatus is provided on a laser generation source 82 for generating and emitting a laser, and an optical axis 82a of the laser emitted from the laser generation source 82, and the optical axis 82a. The upper laser beam is reflected on the beam axis of a predetermined ion beam (charged particle beam) orthogonal to the optical axis 82a and transmits a laser substantially parallel to the beam axis. A corner cube 84 (see FIG. 6) that is disposed and reflects the laser on the beam axis reflected by the half mirror 83 in a direction opposite to the incident direction of the laser, and is reflected by the corner cube 84 and the half An optical power meter 81 (laser position detector) detects the coordinate position of the laser by detecting the intensity of the laser transmitted through the mirror 83. As an example) of which is configured with, the respective components are mounted or disposed in the measuring chamber 73.

上記光パワーメータ81は,入射されたレーザ粒子の数を計数(カウント)して,一定時間内に計数されたカウント値に応じてレーザの強度を検出するものである。このパワーメータ81のレーザ入射面は微小な格子状の複数の窓(入射窓)が形成されており,そのいずれの窓に最も多くレーザ粒子が入射したかを判定することにより,レーザの入射位置を検出するものである。なお,上記光パワーメータ81に代えていわゆる半導体検出器を用いてもかまわない。
上記コーナーキューブ84は,図6に示すように,上記ファラデーカップ20の底面の中央に配設されている。また,上記光パワーメータ81はその検出中心部がビーム軸に一致するように配置されている。
このように構成された上記位置座標検出装置を用いることにより,上記光パワーメータ81に上記ハーフミラー83で反射され,イオンビームのビーム軸(図6においてレーザL1が通る軸)上を通った後にコーナーキューブ84で反射したレーザL2の上記光パワーメータ81における入射位置を検出することができる。そのため,例えば,イオンビームのビーム軸の位置座標を予め上記光パワーメータ81に登録させておけば,イオンビームのビーム軸(即ちレーザL1が通る軸)と上記レーザL2との差分d(図6参照)を算出することができる。即ち,上記レーザL1は上記イオンビームのビーム軸上を通るため,上記差分dが本来上記ファラデーカップ20を配置しなければならない中心位置との差として算出されることになる。ここに,上記差分dの算出は,上記光パワーメータ81に内蔵された不図示の制御部或るいは該光パワーメータ81と接続された不図示の制御装置により行われる。
なお,イオンビームのビーム軸の位置座標を予め上記光パワーメータ81に登録せずに,例えば,上記レーザL1を上記光パワーメータ81に反射させるなどすることにより,該レーザL1及び上記レーザL2の位置座標を検出することで,これらの位置座標から上記差分dを算出する実施例であっても別段かまわない。
The optical power meter 81 counts the number of incident laser particles and detects the intensity of the laser according to the count value counted within a predetermined time. The laser incident surface of the power meter 81 is formed with a plurality of fine lattice-like windows (incident windows), and the laser incident position is determined by determining which window has the most laser particles incident thereon. Is detected. In place of the optical power meter 81, a so-called semiconductor detector may be used.
The corner cube 84 is disposed at the center of the bottom surface of the Faraday cup 20 as shown in FIG. The optical power meter 81 is arranged so that its detection center coincides with the beam axis.
By using the position coordinate detection apparatus configured as described above, after being reflected by the half mirror 83 on the optical power meter 81 and passing on the beam axis of the ion beam (the axis through which the laser L1 passes in FIG. 6). The incident position of the laser L2 reflected by the corner cube 84 in the optical power meter 81 can be detected. Therefore, for example, if the position coordinates of the beam axis of the ion beam are registered in the optical power meter 81 in advance, the difference d between the beam axis of the ion beam (that is, the axis through which the laser L1 passes) and the laser L2 (FIG. 6). Reference) can be calculated. That is, since the laser L1 passes on the beam axis of the ion beam, the difference d is calculated as a difference from the center position where the Faraday cup 20 should be originally placed. Here, the calculation of the difference d is performed by a control unit (not shown) built in the optical power meter 81 or a control device (not shown) connected to the optical power meter 81.
The position coordinates of the beam axis of the ion beam are not registered in the optical power meter 81 in advance, and the laser L1 and the laser L2 are reflected by reflecting the laser L1 to the optical power meter 81, for example. Even if it is an Example which calculates the said difference d from these position coordinates by detecting a position coordinate, it does not matter.

本発明の第1の実施形態に係る試料分析装置の測定室の断面図。Sectional drawing of the measurement chamber of the sample analyzer which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 分割電極の構成を説明する図。The figure explaining the structure of a division | segmentation electrode. ファラデーカップの模式断面図。A schematic sectional view of a Faraday cup. 試料台の断面図。Sectional drawing of a sample stand. イオンビームの軌道を調整する方法を説明する図。The figure explaining the method of adjusting the orbit of an ion beam. コーナーキューブが配置されたファラデーカップの断面図。Sectional drawing of the Faraday cup by which a corner cube is arrange | positioned. 位置座標検出装置が適用された測定室の断面図。Sectional drawing of the measurement chamber to which the position coordinate detection apparatus was applied. 従来の試料分析装置Yの概略構成を示す全体図。The whole figure which shows schematic structure of the conventional sample analyzer Y. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

L…イオンビーム
L1,L2…レーザ
10…分割電極(ビーム電流測定手段の一例)
10a〜d…電極
11…絶縁層
12…開口部
20…ファラデーカップ(ビーム電流測定手段の一例)
21…第1の電極
22…第2の電極
23…第3の電極
24…吸収体
25…絶縁層
73,73a…測定室
74…試料
75…ソレノイドコイル
76…補正コイル
77…アパーチャ
78…二次元検出器
79…試料台
81…光パワーメータ(エネルギー検出手段の一例)
82…レーザ発生源
83…ハーフミラー
84…コーナーキューブ
90…マグネットヨーク
91…磁極
L ... Ion beams L1, L2 ... Laser 10 ... Split electrode (an example of beam current measuring means)
10a to d ... Electrode 11 ... Insulating layer 12 ... Opening 20 ... Faraday cup (an example of beam current measuring means)
21 ... 1st electrode 22 ... 2nd electrode 23 ... 3rd electrode 24 ... Absorber 25 ... Insulating layer 73, 73a ... Measurement chamber 74 ... Sample 75 ... Solenoid coil 76 ... Correction coil 77 ... Aperture 78 ... Two-dimensional Detector 79 ... Sample stand 81 ... Optical power meter (an example of energy detection means)
82 ... Laser generation source 83 ... Half mirror 84 ... Corner cube 90 ... Magnet yoke 91 ... Magnetic pole

Claims (16)

荷電粒子ビーム発生源から出射され,被照射物に照射される荷電粒子ビームの軌道位置を検出する軌道位置検出装置であって,
上記荷電粒子ビームのビーム電流を測定するビーム電流測定手段を備え,
上記ビーム電流測定手段による上記ビーム電流の測定値に基づいて上記荷電粒子ビームの軌道位置を検出してなることを特徴とする軌道位置検出装置。
An orbital position detection device for detecting the orbital position of a charged particle beam emitted from a charged particle beam generation source and applied to an irradiated object,
A beam current measuring means for measuring the beam current of the charged particle beam;
An orbital position detecting device, wherein the orbital position of the charged particle beam is detected on the basis of the measured value of the beam current by the beam current measuring means.
上記ビーム電流測定手段が,予め定められたビーム軸を通る荷電粒子ビームのビーム電流を測定するものである請求項1に記載の軌道位置検出装置。   2. The orbit position detecting device according to claim 1, wherein the beam current measuring means measures a beam current of a charged particle beam passing through a predetermined beam axis. 上記ビーム電流測定手段が,予め定められたビーム軸から外れた荷電粒子ビームのビーム電流を測定するものである請求項1に記載の軌道位置検出装置。   The orbital position detecting device according to claim 1, wherein the beam current measuring means measures a beam current of a charged particle beam deviating from a predetermined beam axis. 上記ビーム電流測定手段が,予め定められたビーム軸上の所定位置に配置されたファラデーカップを備えてなる請求項1〜3のいずれかに記載の軌道位置検出装置。   The orbital position detection device according to any one of claims 1 to 3, wherein the beam current measuring means includes a Faraday cup disposed at a predetermined position on a predetermined beam axis. 上記ビーム電流測定手段が,予め定められたビーム軸上の所定位置に配置され,上記荷電粒子ビームを該荷電粒子ビームの入射方向に通過させる開口部を中心部に有する電極部材を備えてなる請求項1又は3のいずれかに記載の軌道位置検出装置。   The beam current measuring means includes an electrode member disposed at a predetermined position on a predetermined beam axis and having an opening at the center for allowing the charged particle beam to pass in the incident direction of the charged particle beam. Item 4. The orbit position detection device according to any one of Items 1 and 3. 上記電極部材が,上記中心部の開口部を中心にして配置された複数の電極を有してなる請求項5に記載の軌道位置検出装置。   The track position detecting device according to claim 5, wherein the electrode member has a plurality of electrodes arranged around the opening of the central portion. 上記ファラデーカップが,上記荷電粒子ビームの入射側に該荷電粒子ビームの入射口が形成された電極板を有し,
上記電極部材が,上記電極板に絶縁層を介して配置されてなる請求項5又は6のいずれかに記載の軌道位置検出装置。
The Faraday cup has an electrode plate in which an entrance of the charged particle beam is formed on the incident side of the charged particle beam;
The track position detecting device according to claim 5 or 6, wherein the electrode member is disposed on the electrode plate via an insulating layer.
上記電極部材の上記複数の電極が等分割されてなる請求項6又は7のいずれかに記載の軌道位置検出装置。   The orbital position detection device according to claim 6 or 7, wherein the plurality of electrodes of the electrode member are equally divided. 上記電極部材の上記複数の電極が上記中心部の開口部を中心にして対称配置されてなる請求項6〜8のいずれかに記載の軌道位置検出装置。   The orbital position detection device according to any one of claims 6 to 8, wherein the plurality of electrodes of the electrode member are arranged symmetrically with respect to the opening of the central portion. 上記電極部材の電極に所定の電位を印加してなる請求項5〜9のいずれかに記載の軌道位置検出装置。   The orbital position detection device according to claim 5, wherein a predetermined potential is applied to the electrode of the electrode member. 予め定められたビーム軸上の所定位置に複数の上記ビーム電流測定手段が配置されてなる請求項1〜10のいずれかに記載の軌道位置検出装置。   The orbital position detecting device according to any one of claims 1 to 10, wherein a plurality of the beam current measuring means are arranged at predetermined positions on a predetermined beam axis. 上記ビーム電流測定手段が,上記被照射物の載置台の近傍に配置されてなる請求項1〜11のいずれかに記載の軌道位置検出装置。   The orbital position detection device according to any one of claims 1 to 11, wherein the beam current measuring means is disposed in the vicinity of the mounting table for the irradiated object. 加速された荷電粒子ビームを真空容器内に配置された被照射物に照射して,上記被照射物から散乱した散乱イオンのエネルギースペクトルを測定することにより,上記被照射物の組成分析を行う組成分析装置であって,
上記請求項1〜12のいずれかに記載の軌道位置検出装置を具備してなることを特徴とする組成分析装置。
A composition for performing composition analysis of the irradiated object by irradiating an irradiated object with an accelerated charged particle beam disposed in a vacuum vessel and measuring an energy spectrum of scattered ions scattered from the irradiated object. An analyzer,
A composition analyzer comprising the orbit position detector according to any one of claims 1 to 12.
上記荷電粒子ビームを該荷電粒子ビームの入射方向に通過させると共に上記被照射物で散乱した散乱粒子を上記荷電粒子ビームの入射方向に対して反対方向に通過させる開口部を中心部に有するアパーチャを更に備え,
上記ビーム電流測定手段が,上記被照射物を載置する載置台及び/又は上記アパーチャに設けられてなる請求項13に記載の組成分析装置。
An aperture having at its center an opening that allows the charged particle beam to pass in the incident direction of the charged particle beam and allows scattered particles scattered by the irradiated object to pass in a direction opposite to the incident direction of the charged particle beam; In addition,
14. The composition analyzer according to claim 13, wherein the beam current measuring means is provided on a mounting table and / or the aperture for mounting the irradiated object.
加速された荷電粒子ビームを真空容器内に配置された被照射物に照射して,上記被照射物から散乱した散乱イオンのエネルギースペクトルを測定することにより,上記被照射物の組成分析を行う組成分析装置に適用される荷電粒子ビームの軌道調整方法であって,
上記荷電粒子ビームのビーム電流を測定し,測定された荷電粒子ビームの測定値に基づいて上記荷電粒子ビームの軌道位置を検出し,検出された軌道位置を参照しながら上記荷電粒子ビームの軌道を調整する荷電粒子ビームの軌道調整方法。
A composition for performing composition analysis of the irradiated object by irradiating an irradiated object with an accelerated charged particle beam disposed in a vacuum vessel and measuring an energy spectrum of scattered ions scattered from the irradiated object. A charged particle beam trajectory adjustment method applied to an analyzer,
The beam current of the charged particle beam is measured, the orbital position of the charged particle beam is detected based on the measured value of the charged particle beam, and the orbit of the charged particle beam is determined while referring to the detected orbital position. Method for adjusting trajectory of charged particle beam to be adjusted.
荷電粒子ビーム発生源から出射され,被照射物に照射される荷電粒子ビームのビーム電流を測定するビーム電流測定手段を備え,上記ビーム電流測定手段による上記ビーム電流の測定値に基づいて上記荷電粒子ビームの軌道位置を検出してなることを特徴とする軌道位置検出装置に適用される上記ビーム電流測定手段の位置座標検出装置であって,
レーザを発生して出射するレーザ発生源と,
上記レーザ発生源から出射されたレーザの光軸上に設けられ,該光軸上のレーザを該光軸と直交する予め定められた上記荷電粒子ビームのビーム軸へ反射させると共に該ビーム軸と略並行するレーザを透過するハーフミラーと,
上記ビーム電流測定手段或いは該ビーム電流測定手段より上記荷電粒子ビームの入射方向下流側に配設され,上記ハーフミラーで反射した上記ビーム軸上のレーザを該レーザの入射方向に対して反対方向に反射させるコーナーキューブと,
上記コーナーキューブにより反射され上記ハーフミラーを透過したレーザの強度を検出することにより該レーザの座標位置を検出するレーザ位置検出手段と,
を具備してなることを特徴とする位置座標検出装置。
Beam current measuring means for measuring a beam current of a charged particle beam emitted from a charged particle beam generation source and applied to an object to be irradiated is provided, and the charged particles are measured based on a measurement value of the beam current by the beam current measuring means. A position coordinate detecting device for the beam current measuring means applied to an orbital position detecting device characterized by detecting the orbital position of a beam,
A laser source that emits and emits a laser;
Provided on the optical axis of the laser emitted from the laser source, the laser on the optical axis is reflected to a predetermined beam axis of the charged particle beam orthogonal to the optical axis and substantially the same as the beam axis. A half mirror that transmits the parallel laser;
The beam current measuring means or the beam current measuring means is arranged downstream of the incident direction of the charged particle beam, and the laser on the beam axis reflected by the half mirror is opposite to the incident direction of the laser. A corner cube to reflect,
Laser position detection means for detecting the coordinate position of the laser by detecting the intensity of the laser reflected by the corner cube and transmitted through the half mirror;
A position coordinate detection apparatus comprising:
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