JP2003004676A - Electronic spectroscope and method for adjusting position lens axis in electronic spectroscope - Google Patents
Electronic spectroscope and method for adjusting position lens axis in electronic spectroscopeInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】 本発明は、光電子分光装置
などの電子分光装置、および光電子分光装置などの電子
分光装置におけるレンズ軸の位置調整方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electron spectroscopic device such as a photoelectron spectroscopic device and a method for adjusting a position of a lens axis in an electron spectroscopic device such as a photoelectron spectroscopic device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】 光電子分光装置は、Ｘ線を試料表面に
照射し、その照射により試料から放出される光電子を静
電型の電子分光器で分析してエネルギースペクトルを得
る装置である。2. Description of the Related Art A photoelectron spectroscope is a device for irradiating an X-ray on a sample surface and analyzing photoelectrons emitted from the sample by the irradiation with an electrostatic electron spectroscope to obtain an energy spectrum.
【０００３】この静電型の電子分光器は、試料から放出
される電子を効率よく集めるとともに減速させる機能を
有する減速レンズ、エネルギーによって電子を選別する
アナライザ（球面、円筒面等）、およびアナライザで選
別された電子を検出する検出器から成っている。This electrostatic electron spectrometer is a deceleration lens having a function of efficiently collecting and decelerating electrons emitted from a sample, an analyzer for selecting electrons by energy (spherical surface, cylindrical surface, etc.), and an analyzer. It consists of a detector that detects the selected electrons.
【０００４】前記減速レンズの役割は、アナライザまで
電子を導くことと、電子を減速させることによってエネ
ルギー分解能を可変にすることであり、電子を減速させ
るほど分解能は良くなるが、感度は低下する。The role of the deceleration lens is to guide the electrons to the analyzer and to decelerate the electrons to make the energy resolution variable. The more the electrons are decelerated, the better the resolution but the lower the sensitivity.
【０００５】さて、最近の光電子分光装置の中には、図
１に示すように、試料の下部、すなわち減速レンズと反
対側に磁界型結像レンズを配置したものがある。As shown in FIG. 1, some recent photoelectron spectroscopic devices have a magnetic field type imaging lens disposed below the sample, that is, on the side opposite to the deceleration lens.
【０００６】この結像レンズの長所は、試料位置付近に
磁場分布のピークをつくることが可能であることであ
る。これによって、レンズとしての収差係数が小さくな
り、高い空間分解能が可能になる。そして、図１の装置
では、試料から放出された光電子が減速レンズの視野制
限絞りに結像されるように、結像レンズのコイルに流れ
る電流が制御されている。なお、視野制限絞りは、試料
面上で発生した光電子を取り込む領域を制限するために
設けられており、その開口径を可変できる絞りである。The advantage of this imaging lens is that a peak of magnetic field distribution can be formed near the sample position. As a result, the aberration coefficient of the lens becomes small and high spatial resolution becomes possible. In the apparatus of FIG. 1, the current flowing through the coil of the imaging lens is controlled so that the photoelectrons emitted from the sample are imaged on the field limiting diaphragm of the deceleration lens. The field limiting diaphragm is provided in order to limit the area where the photoelectrons generated on the sample surface are taken in, and the aperture diameter is variable.
【０００７】このように、試料の下部に結像レンズを配
置した光電子分光装置においては、それまでの装置に比
べて、試料から放出された光電子をなるべく多く減速レ
ンズに取り込むことができる。その結果、多くの光電子
をアナライザに導くことができ、検出感度を飛躍的に向
上させることができる。As described above, in the photoelectron spectroscopic device in which the imaging lens is arranged below the sample, as many photoelectrons emitted from the sample as possible can be taken into the deceleration lens as compared with the conventional devices. As a result, many photoelectrons can be guided to the analyzer, and the detection sensitivity can be dramatically improved.
【０００８】さて、図１の装置においては、視野制限絞
りと結像レンズは機械的に分離されているので、試料分
析に先立って、結像レンズの軸と視野制限絞りの開口の
位置合わせが行われる。その位置合わせは、およそ次に
示す二通りのどちらかで行われている。
可視レーザービームを用いた位置合わせ
この位置合わせでは、分析室を大気圧にした状態で、ア
ラナイザ側から可視レーザービームを減速レンズ内に照
射する。この照射により、視野制限絞りの開口を通過し
たレーザービームは、位置調整を必要とする結像レンズ
上面を照射する。そして、結像レンズ上面のレーザービ
ームによる輝点に、結像レンズの中心軸が位置するよう
に、結像レンズの位置を位置調整機構を用いて調整す
る。
ナイフエッジ法を用いた位置合わせ
この位置合わせでは、分析室を真空に排気し、光電子を
測定できる状態で結像レンズの位置合わせを行う。その
際、平坦で単一元素からなる物質（一般的には金や銀
板）を試料として用い、試料にＸ線を照射しながら、試
料を、減速レンズの光軸Ｏを横切るように移動させる。In the apparatus shown in FIG. 1, since the field limiting diaphragm and the imaging lens are mechanically separated from each other, the axis of the imaging lens and the aperture of the field limiting diaphragm are aligned prior to sample analysis. Done. The alignment is performed in one of the following two ways. Positioning Using Visible Laser Beam In this positioning, the deceleration lens is irradiated with the visible laser beam from the alanizer side while the analysis chamber is at atmospheric pressure. Due to this irradiation, the laser beam that has passed through the aperture of the field limiting diaphragm irradiates the upper surface of the imaging lens that requires position adjustment. Then, the position of the imaging lens is adjusted using the position adjusting mechanism so that the central axis of the imaging lens is located at the bright spot of the laser beam on the upper surface of the imaging lens. Positioning using knife-edge method In this positioning, the analysis chamber is evacuated to a vacuum, and the imaging lens is positioned in a state where photoelectrons can be measured. At that time, a flat material consisting of a single element (generally a gold or silver plate) is used as a sample, and the sample is moved so as to cross the optical axis O of the deceleration lens while being irradiated with X-rays. .
【０００９】そして、試料から発生する光電子の信号強
度を電子分光器を用いて測定し、試料のエッジ部が減速
レンズの光軸Ｏを横切るときの、光電子の信号強度変化
を測定する。図２（ａ）は、その信号強度変化を示した
ものである。そして、図２（ａ）の信号波形を微分処理
して図２（ｂ）に示すような微分波形を得、その微分波
形における半値幅ｗを測定する。この半値幅ｗは、結像
レンズの軸が減速レンズの光軸Ｏに近づくにつれて小さ
くなり、その半値幅ｗが所定値以下になるように、結像
レンズの位置を位置調整機構を用いて調整する。Then, the signal intensity of the photoelectrons generated from the sample is measured by using an electron spectroscope, and the change in the signal intensity of the photoelectrons when the edge portion of the sample crosses the optical axis O of the deceleration lens is measured. FIG. 2A shows the change in signal strength. Then, the signal waveform of FIG. 2A is differentiated to obtain a differential waveform as shown in FIG. 2B, and the half width w of the differential waveform is measured. This half width w becomes smaller as the axis of the imaging lens approaches the optical axis O of the deceleration lens, and the position of the imaging lens is adjusted by using the position adjusting mechanism so that the half width w becomes a predetermined value or less. To do.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、この
ような結像レンズの位置合わせにおいては、次の問題が
発生する。However, in the alignment of such an imaging lens, the following problems occur.
【００１１】まず、可視レーザービームを用いた位置
合わせの問題について説明すると、その位置合わせの後
に実際に分析を行う際には、分析室を超高真空に保つた
めのベーキングが行われる。そのベーキングの際に、熱
膨張の影響によって、調整を行った光軸が狂う場合があ
る。First, the problem of alignment using a visible laser beam will be described. When the analysis is actually performed after the alignment, baking is performed to keep the analysis chamber in an ultrahigh vacuum. At the time of baking, the adjusted optical axis may be misaligned due to the effect of thermal expansion.
【００１２】また、ナイフエッジ法を用いた位置合わ
せでは、試料移動、半値幅測定、結像レンズ位置調整の
作業を、何度か繰り返し行って軸合わせをしなければな
らず、このような位置合わせは非常に煩わしく、また時
間もかかる。Further, in the alignment using the knife edge method, the work of moving the sample, measuring the half width, and adjusting the position of the imaging lens must be repeated several times to align the axes. Matching is very cumbersome and time consuming.
【００１３】本発明はこのような点に鑑みて成されたも
ので、その目的は、短時間に、結像レンズの軸を減速レ
ンズの光軸に合わせることができる電子分光装置、およ
び電子分光装置におけるレンズ軸の位置調整方法を提供
することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is an electron spectroscope capable of aligning the axis of an imaging lens with the optical axis of a deceleration lens in a short time, and an electron spectroscope. It is to provide a method for adjusting the position of a lens axis in an apparatus.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】 この目的を達成する本
発明の電子分光装置は、試料に１次線を照射する照射手
段と、次の(a)〜(c)の構成を有する電子分光器と、
(a)視野制限絞りを有し、前記１次線照射により試料か
ら放出された電子を減速および集束させる減速レンズ
(b)前記減速レンズからの電子をそのエネルギーによっ
て選別するアナライザ
(c)前記アナライザで選別された電子を検出する検出器
前記試料の下部に配置され、前記試料から放出された電
子を前記減速レンズの光軸上に配置された前記視野制限
絞りに結像させるための結像レンズと、前記結像レンズ
の位置を調整するための位置調整手段とを備えた電子分
光装置において、前記結像レンズの上面且つ前記結像レ
ンズの軸上に、前記結像レンズの軸の位置合わせに利用
する指標物質が備えられている。Means for Solving the Problems An electron spectroscope of the present invention that achieves this object is an electron spectroscope having an irradiation means for irradiating a sample with a primary ray and the following configurations (a) to (c). And (a) a deceleration lens that has a field limiting diaphragm and decelerates and focuses the electrons emitted from the sample by the primary ray irradiation (b) an analyzer that selects electrons from the deceleration lens according to their energy (c) A detector arranged to detect electrons selected by the analyzer, which is arranged below the sample, and is used for forming an image of the electrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm arranged on the optical axis of the deceleration lens. In an electron spectroscopic device including an image lens and position adjusting means for adjusting the position of the image forming lens, an axis of the image forming lens is provided on an upper surface of the image forming lens and on an axis of the image forming lens. Indicator used for alignment It is provided.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】 以下、図面を用いて本発明の実
施の形態について説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１６】図３は、本発明の電子分光装置の一例を示
したものであり、光電子分光装置を示したものである。FIG. 3 shows an example of the electron spectroscopic device of the present invention, which is a photoelectron spectroscopic device.
【００１７】まず、図３の装置構成について説明する
と、１は真空容器である。真空容器１の内部の分析室２
は、排気装置３により超高真空に排気されている。First, the structure of the apparatus shown in FIG. 3 will be described. 1 is a vacuum container. Analysis chamber 2 inside the vacuum container 1
Is evacuated to an ultrahigh vacuum by the exhaust device 3.
【００１８】４はＸ線源（照射手段）であり、Ｘ線源４
は真空容器１に取り付けられている。このＸ線源４は、
分析室２に配置された試料５にＸ線（１次線）を照射し
て、光電子を励起するための励起光源である。Reference numeral 4 is an X-ray source (irradiation means), and the X-ray source 4
Is attached to the vacuum container 1. This X-ray source 4 is
It is an excitation light source for irradiating the sample 5 placed in the analysis chamber 2 with X-rays (primary rays) to excite photoelectrons.
【００１９】前記試料５は試料ホルダ６に保持されてい
て、試料ホルダ６は試料ステージ７上に置かれている。
試料ステージ７は真空容器１に取り付けられており、試
料ステージ位置調整機構８を調整することによって、試
料ステージ７をｘ，ｙおよびｚ方向に移動させることが
できる。The sample 5 is held by a sample holder 6, and the sample holder 6 is placed on a sample stage 7.
The sample stage 7 is attached to the vacuum container 1, and the sample stage 7 can be moved in the x, y and z directions by adjusting the sample stage position adjusting mechanism 8.
【００２０】９は磁界型結像レンズであり、結像レンズ
９は試料ステージ７の下部に配置されている。この結像
レンズ９は、材質がたとえば銅のレンズケース１０と、
レンズケース１０内に配置されたヨーク１１と、ヨーク
１１に巻かれたコイル１２で構成されている。Reference numeral 9 denotes a magnetic field type imaging lens, and the imaging lens 9 is arranged below the sample stage 7. The imaging lens 9 includes a lens case 10 made of copper, for example,
The lens case 10 includes a yoke 11 and a coil 12 wound around the yoke 11.
【００２１】さらに、前記結像レンズ９においては、レ
ンズケース１０の上面且つ結像レンズ９の軸ｐ上に、結
像レンズ９の軸ｐの位置合わせに利用する指標物質１３
が埋め込まれている。すなわち、指標物質１３の中心
は、結像レンズ９の軸ｐ上に位置している。この指標物
質１３は、外径が０．５ｍｍ程度の円盤状の金属であ
り、その金属としては、前記レンズケース１０を構成す
る金属（銅）とは異なる金属（たとえば銀または金）が
選ばれる。この場合、金の指標物質１３が用いられてい
る。Further, in the image forming lens 9, an index substance 13 used for aligning the axis p of the image forming lens 9 on the upper surface of the lens case 10 and on the axis p of the image forming lens 9.
Is embedded. That is, the center of the index substance 13 is located on the axis p of the imaging lens 9. The index substance 13 is a disk-shaped metal having an outer diameter of about 0.5 mm, and a metal (for example, silver or gold) different from the metal (copper) forming the lens case 10 is selected as the metal. . In this case, the gold indicator substance 13 is used.
【００２２】図４は、結像レンズ９を試料側から見た図
であり、レンズケース１０の上面中央部には、前記指標
物質１３が埋め込まれている。FIG. 4 is a view of the imaging lens 9 viewed from the sample side, and the index substance 13 is embedded in the center of the upper surface of the lens case 10.
【００２３】そして、結像レンズ９はステージ１４に取
り付けられている。このステージ１４は前記真空容器１
に取り付けられており、結像レンズ位置調整機構１５を
調整することによって、ステージ１４をｘ，ｙおよびｚ
方向に移動させることができる。The image forming lens 9 is attached to the stage 14. This stage 14 is the vacuum container 1
Is mounted on the stage 14 by adjusting the imaging lens position adjusting mechanism 15.
Can be moved in any direction.
【００２４】また、１６は電子分光器であり、電子分光
器１６は、減速レンズ１７と、減速レンズ１７からの電
子をエネルギー分析するためのアナライザ１８と、アナ
ライザ１８で選別された電子を検出する検出器１９で構
成されている。Further, 16 is an electron spectroscope, and the electron spectroscope 16 detects a deceleration lens 17, an analyzer 18 for energy analysis of the electrons from the deceleration lens 17, and the electrons selected by the analyzer 18. It is composed of a detector 19.
【００２５】前記減速レンズ１７は視野制限絞り２０を
有しており、視野制限絞り２０の開口ａの中心は、減速
レンズ１７の光軸Ｏ上に位置している。そして、開口径
調整機構２１を調整することによって、視野制限絞り２
０の開口径を変えることができる。なお、視野制限絞り
２０は、試料面上で発生した光電子を取り込む領域を制
限するために設けられており、この絞りによって、試料
上の分析領域が制限される。The deceleration lens 17 has a field limiting diaphragm 20, and the center of the opening a of the field limiting diaphragm 20 is located on the optical axis O of the deceleration lens 17. Then, the field limiting diaphragm 2 is adjusted by adjusting the aperture diameter adjusting mechanism 21.
The opening diameter of 0 can be changed. The field limiting diaphragm 20 is provided to limit the area where the photoelectrons generated on the sample surface are taken in, and the diaphragm limits the analysis area on the sample.
【００２６】また、減速レンズ１７は静電レンズ２２を
有しており、静電レンズ２２は、前記結像レンズ９によ
って集光された光電子を減速させると共に、その光電子
をアナライザ１８に集束させるためのものである。The deceleration lens 17 has an electrostatic lens 22, which decelerates the photoelectrons collected by the imaging lens 9 and focuses the photoelectrons on the analyzer 18. belongs to.
【００２７】２３は制御装置である。制御装置２３に
は、前記検出器１９の出力信号が供給され、また、制御
装置２３は、電源ユニット２４と表示装置２５に接続さ
れている。電源ユニット２４は、前記コイル１２に流れ
る電流と、前記静電レンズ２２に印加する電圧と、前記
アナライザ１８に印加する電圧と、前記検出器１９に印
加する電圧を制御するためのものである。Reference numeral 23 is a control device. The output signal of the detector 19 is supplied to the control device 23, and the control device 23 is connected to the power supply unit 24 and the display device 25. The power supply unit 24 is for controlling the current flowing through the coil 12, the voltage applied to the electrostatic lens 22, the voltage applied to the analyzer 18, and the voltage applied to the detector 19.
【００２８】以上、図３の装置構成について説明した。
以下に、結像レンズの軸ｐを減速レンズ１７の光軸Ｏに
合わせる方法について説明する。The configuration of the apparatus shown in FIG. 3 has been described above.
A method of aligning the axis p of the imaging lens with the optical axis O of the deceleration lens 17 will be described below.
【００２９】−(a)まず、Ｘ線源４からのＸ線を、結
像レンズ９の指標物質１３に照射するために、試料ステ
ージ位置調整機構８を調整して、試料５を光軸Ｏ上から
退避させる。-(A) First, in order to irradiate the index material 13 of the imaging lens 9 with the X-rays from the X-ray source 4, the sample stage position adjusting mechanism 8 is adjusted so that the sample 5 is placed on the optical axis O. Evacuate from above.
【００３０】−(b)そして、結像レンズ９の作動距離
を通常の試料分析に使用する条件から変更し、結像レン
ズ９の上面が試料位置となる条件とする。すなわち、Ｘ
線源４からのＸ線を前記指標物質１３に照射したとき
に、指標物質１３から放出される光電子が前記視野制限
絞り２０に結像されるように、結像レンズ９のコイル１
２に流れる電流を制御する。この電流制御は、制御装置
２３からの制御信号を受けた電源ユニット２４によって
行われる。-(B) Then, the working distance of the imaging lens 9 is changed from the condition normally used for sample analysis so that the upper surface of the imaging lens 9 becomes the sample position. That is, X
The coil 1 of the imaging lens 9 is formed so that the photoelectrons emitted from the index substance 13 are imaged on the field limiting diaphragm 20 when the X-ray from the radiation source 4 is applied to the index substance 13.
Control the current flowing through 2. This current control is performed by the power supply unit 24 which receives the control signal from the control device 23.
【００３１】さらに、開口径調整機構２１を調整して、
視野制限絞り２０の開口径を前記指標物質１３の外径に
適した大きさに設定する。すなわち、結像レンズ９の軸
ｐが光軸Ｏに一致したときに、Ｘ線照射によってレンズ
ケース１０から放出される光電子が最も通過しない開口
径に、視野制限絞り２０の開口径を設定する。Further, by adjusting the opening diameter adjusting mechanism 21,
The aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to a size suitable for the outer diameter of the index substance 13. That is, when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O, the aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to the aperture diameter through which the photoelectrons emitted from the lens case 10 by X-ray irradiation do not pass the most.
【００３２】そして、Ｘ線源４からのＸ線を結像レン
ズ９上面に照射する。このＸ線照射によって指標物質１
３やレンズケース１０から放出された光電子は、結像レ
ンズ９によって集束され、視野制限絞り２０の開口ａを
通過した光電子は、静電レンズ２２で集束されてアナラ
イザ１８に導かれる。Then, the upper surface of the imaging lens 9 is irradiated with X-rays from the X-ray source 4. By this X-ray irradiation, the index substance 1
The photoelectrons emitted from the lens 3 and the lens case 10 are focused by the imaging lens 9, and the photoelectrons passing through the aperture a of the field limiting diaphragm 20 are focused by the electrostatic lens 22 and guided to the analyzer 18.
【００３３】この際、制御装置２３から制御信号を受け
た電源ユニット２４は、指標物質１３から放出された光
電子、すなわち金から放出された光電子が検出器１９で
検出されるように、アナライザ１８の分析エネルギーを
設定している。また、電源ユニット２４は、制御装置２
３からの制御信号を受けて、前記静電レンズ２２への印
加電圧と検出器１９への印加電圧を制御している。At this time, the power supply unit 24 receiving the control signal from the control device 23 causes the detector 18 to detect the photoelectrons emitted from the indicator substance 13, that is, the photoelectrons emitted from gold. The analysis energy is set. In addition, the power supply unit 24 includes the control device 2
In response to the control signal from the controller 3, the voltage applied to the electrostatic lens 22 and the voltage applied to the detector 19 are controlled.
【００３４】こうして、Ｘ線照射によって指標物質１３
から放出された光電子は、検出器１９で検出される。検
出器１９は、光電子信号を電気信号に変換して出力す
る。In this way, the indicator substance 13 is irradiated by X-ray irradiation.
The photoelectrons emitted from the detector are detected by the detector 19. The detector 19 converts the photoelectron signal into an electric signal and outputs it.
【００３５】検出器１９の出力信号は制御装置２３に
供給され、制御装置２３はその出力信号に基づき、指標
物質１３から放出された光電子の信号強度値Ｉ１を求め
る。そして、制御装置２３は、その求めた信号強度値Ｉ
１を表示装置２５の表示画面上に表示させる。The output signal of the detector 19 is supplied to the control device 23, and the control device 23 determines the signal intensity value I 1 of the photoelectrons emitted from the indicator substance 13 based on the output signal. The control device 23 then determines the calculated signal strength value I
1 is displayed on the display screen of the display device 25.
【００３６】そして、操作者は、表示画面上に表示され
る信号強度値Ｉ１を見ながら、その信号強度値Ｉ１が最
高値となるように、結像レンズ位置調整機構１５を調整
して、結像レンズ９のｘｙ位置を調整する。この信号強
度値Ｉ１が最高値となるときは、結像レンズ９の軸ｐが
光軸Ｏに一致したときであり、以上のようにして、結像
レンズ９の軸の位置調整が完了する。Then, the operator adjusts the imaging lens position adjusting mechanism 15 so that the signal intensity value I 1 becomes the maximum value while observing the signal intensity value I 1 displayed on the display screen. , Xy position of the imaging lens 9 is adjusted. The maximum value of the signal intensity value I 1 is when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O, and the position adjustment of the axis of the imaging lens 9 is completed as described above. .
【００３７】以上、図３の装置における結像レンズ軸の
位置調整について説明したが、このような本発明におい
ては、装置に不慣れな者でも、短時間に、結像レンズの
軸を減速レンズの光軸に合わせることができる。The position adjustment of the image forming lens axis in the apparatus of FIG. 3 has been described above. However, in the present invention, even a person unfamiliar with the apparatus can change the axis of the image forming lens to the decelerating lens in a short time. Can be aligned with the optical axis.
【００３８】次に、本発明の他の例を図５を用いて説明
する。図５において、図３と同一の構成には図３と同じ
番号が付けられており、その説明を省略する。Next, another example of the present invention will be described with reference to FIG. 5, the same components as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 3, and the description thereof will be omitted.
【００３９】図５において、２６は指標物質（内側金
属）であり、結像レンズ９の軸ｐの位置合わせに利用す
る指標物質２６は、前記レンズケース１０の上面且つ結
像レンズ９の軸ｐ上に埋め込まれている。すなわち、指
標物質２６の中心は、結像レンズ９の軸ｐ上に位置して
いる。指標物質２６は、外径が０．５ｍｍ程度の円盤状
の金属である。In FIG. 5, reference numeral 26 is an index substance (inner metal), and the index substance 26 used to align the axis p of the imaging lens 9 is the upper surface of the lens case 10 and the axis p of the imaging lens 9. Embedded above. That is, the center of the index substance 26 is located on the axis p of the imaging lens 9. The index substance 26 is a disc-shaped metal having an outer diameter of about 0.5 mm.
【００４０】さらに、環状の外周金属２７がレンズケー
ス１０に埋め込まれており、前記指標物質２６と外周金
属２７は同心円状に埋め込まれている。そして、それら
の金属としては、レンズケース１０を構成する金属
（銅）とは異なる金属が選ばれる。この場合、指標物質
２６として金が用いられ、一方、外周金属２７としてモ
リブデンが用いられている。Further, a ring-shaped outer peripheral metal 27 is embedded in the lens case 10, and the index substance 26 and the outer peripheral metal 27 are embedded concentrically. Then, as these metals, metals different from the metal (copper) forming the lens case 10 are selected. In this case, gold is used as the indicator substance 26, while molybdenum is used as the peripheral metal 27.
【００４１】図６は、結像レンズ９を試料側から見た図
であり、レンズケース１０の上面中央部には、前記指標
物質２６が埋め込まれている。なお、外周金属２７は指
標物質２６に密接している。FIG. 6 is a view of the imaging lens 9 viewed from the sample side, and the index substance 26 is embedded in the center of the upper surface of the lens case 10. The peripheral metal 27 is in close contact with the indicator substance 26.
【００４２】以下に、結像レンズ９の軸ｐを減速レンズ
１７の光軸Ｏに合わせる方法について説明する。A method of aligning the axis p of the imaging lens 9 with the optical axis O of the deceleration lens 17 will be described below.
【００４３】−(a)まず、Ｘ線源４からのＸ線を、結
像レンズ９の指標物質２６に照射するために、試料ステ
ージ位置調整機構８を調整して、試料５を光軸Ｏ上から
退避させる。-(A) First, in order to irradiate the index substance 26 of the imaging lens 9 with the X-rays from the X-ray source 4, the sample stage position adjusting mechanism 8 is adjusted so that the sample 5 is moved to the optical axis O. Evacuate from above.
【００４４】−(b)そして、結像レンズ９の作動距離
を通常の試料分析に使用する条件から変更し、結像レン
ズ９の上面が試料位置となる条件とする。すなわち、Ｘ
線源４からのＸ線を前記指標物質２６に照射したとき
に、指標物質２６から放出される光電子が前記視野制限
絞り２０に結像されるように、結像レンズ９のコイル１
２に流れる電流を制御する。この電流制御は、制御装置
２３からの制御信号を受けた電源ユニット２４によって
行われる。-(B) Then, the working distance of the imaging lens 9 is changed from the condition normally used for sample analysis so that the upper surface of the imaging lens 9 becomes the sample position. That is, X
The coil 1 of the imaging lens 9 is formed so that the photoelectrons emitted from the indicator substance 26 are imaged on the field limiting diaphragm 20 when the indicator substance 26 is irradiated with X-rays from the radiation source 4.
Control the current flowing through 2. This current control is performed by the power supply unit 24 which receives the control signal from the control device 23.
【００４５】さらに、開口径調整機構２１を調整して、
視野制限絞り２０の開口径を前記指標物質２６の外径に
適した大きさに設定する。すなわち、結像レンズ９の軸
ｐが光軸Ｏに一致したときに、Ｘ線照射によって外周金
属２７から放出される光電子が最も通過しない開口径
に、視野制限絞り２０の開口径を設定する。Further, by adjusting the aperture diameter adjusting mechanism 21,
The aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to a size suitable for the outer diameter of the index substance 26. That is, when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O, the aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to the aperture diameter through which the photoelectrons emitted from the outer peripheral metal 27 by X-ray irradiation do not pass the most.
【００４６】そして、Ｘ線源４からのＸ線を結像レン
ズ９上面に照射する。このＸ線照射によって指標物質２
６や外周金属２７などから放出された光電子は、結像レ
ンズ９によって集束され、視野制限絞り２０の開口ａを
通過した光電子は、静電レンズ２２で集束されてアナラ
イザ１８に導かれる。Then, the upper surface of the imaging lens 9 is irradiated with X-rays from the X-ray source 4. This X-ray irradiation causes index substance 2
The photoelectrons emitted from 6 and the peripheral metal 27 are focused by the imaging lens 9, and the photoelectrons passing through the aperture a of the field limiting diaphragm 20 are focused by the electrostatic lens 22 and guided to the analyzer 18.
【００４７】この際、制御装置２３から制御信号を受け
た電源ユニット２４は、指標物質２６から放出された光
電子、すなわち金から放出された光電子が検出器１９で
検出されるように、アナライザ１８の分析エネルギーを
設定している。また、電源ユニット２４は、制御装置２
３からの制御信号を受けて、前記静電レンズ２２への印
加電圧と検出器１９への印加電圧を制御している。At this time, the power supply unit 24 receiving the control signal from the control device 23 causes the detector 18 to detect the photoelectrons emitted from the indicator substance 26, that is, the photoelectrons emitted from gold. The analysis energy is set. In addition, the power supply unit 24 includes the control device 2
In response to the control signal from the controller 3, the voltage applied to the electrostatic lens 22 and the voltage applied to the detector 19 are controlled.
【００４８】こうして、Ｘ線照射によって指標物質２６
から放出された光電子は、検出器１９で検出される。検
出器１９は、光電子信号を電気信号に変換して出力す
る。In this way, the indicator substance 26 is irradiated by X-ray irradiation.
The photoelectrons emitted from the detector are detected by the detector 19. The detector 19 converts the photoelectron signal into an electric signal and outputs it.
【００４９】検出器１９の出力信号は制御装置２３に
供給され、制御装置２３はその出力信号に基づき、指標
物質２６から放出された光電子の信号強度値Ｉ１を求め
る。そして、制御装置２３は、その求めた信号強度値Ｉ
１を表示装置２５の表示画面上に表示させる。The output signal of the detector 19 is supplied to the control device 23, and the control device 23 determines the signal intensity value I 1 of the photoelectrons emitted from the indicator substance 26 based on the output signal. The control device 23 then determines the calculated signal strength value I
1 is displayed on the display screen of the display device 25.
【００５０】そして、操作者は、表示画面上に表示され
る信号強度値Ｉ１を見ながら、その信号強度値Ｉ１が最
高値となるように、結像レンズ位置調整機構１５を調整
して、結像レンズ９のｘｙ位置を調整する。この信号強
度値Ｉ１が最高値となるときは、結像レンズ９の軸ｐが
光軸Ｏに一致したときである。Then, the operator adjusts the imaging lens position adjusting mechanism 15 so that the signal intensity value I 1 becomes the maximum value while observing the signal intensity value I 1 displayed on the display screen. , Xy position of the imaging lens 9 is adjusted. The maximum value of the signal strength value I 1 is when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O.
【００５１】さらに、結像レンズ９の軸ｐを光軸Ｏに
高精度に合わせるために、Ｘ線照射によって前記外周金
属（モリブデン）２７から放出される光電子が検出器１
９で検出されるように、アナライザ１８の分析エネルギ
ーを設定する。Further, in order to align the axis p of the imaging lens 9 with the optical axis O with high accuracy, photoelectrons emitted from the peripheral metal (molybdenum) 27 by X-ray irradiation are detected.
Set the analysis energy of the analyzer 18 as detected at 9.
【００５２】この結果、Ｘ線照射によって外周金属２７
から放出された光電子は、検出器１９で検出される。検
出器１９は、光電子信号を電気信号に変換して出力す
る。As a result, the outer metal 27 is exposed by the X-ray irradiation.
The photoelectrons emitted from the detector are detected by the detector 19. The detector 19 converts the photoelectron signal into an electric signal and outputs it.
【００５３】検出器１９の出力信号は制御装置２３に供
給され、制御装置２３はその出力信号に基づき、外周金
属２７から放出された光電子の信号強度値Ｉ２を求め
る。そして、制御装置２３は、その求めた信号強度値Ｉ
２を表示装置２５の表示画面上に表示させる。The output signal of the detector 19 is supplied to the control device 23, and the control device 23 determines the signal intensity value I 2 of the photoelectrons emitted from the peripheral metal 27 based on the output signal. The control device 23 then determines the calculated signal strength value I
2 is displayed on the display screen of the display device 25.
【００５４】そこで操作者は、表示画面上に表示される
信号強度値Ｉ２を見ながら、その信号強度値Ｉ２が最低
値となるように、結像レンズ位置調整機構１５を調整し
て、結像レンズ９のｘｙ位置を調整する。この信号強度
値Ｉ２が最低値となるときは、結像レンズ９の軸ｐが光
軸Ｏに完全に一致したときであり、以上のようにして、
結像レンズ９の軸の位置調整が完了する。Then, the operator adjusts the imaging lens position adjusting mechanism 15 so that the signal intensity value I 2 becomes the minimum value while observing the signal intensity value I 2 displayed on the display screen. The xy position of the imaging lens 9 is adjusted. The case where the signal intensity value I 2 becomes the minimum value is when the axis p of the imaging lens 9 completely coincides with the optical axis O, and as described above,
The position adjustment of the axis of the imaging lens 9 is completed.
【００５５】次に、本発明の他の例を図７を用いて説明
する。図７において、図５と同一の構成には図５と同じ
番号が付けられており、その説明を省略する。Next, another example of the present invention will be described with reference to FIG. 7, the same components as those in FIG. 5 are designated by the same reference numerals as those in FIG. 5, and the description thereof will be omitted.
【００５６】図７において、２８は空孔（凹部）であ
る。図７の装置においては、図５における指標物質２６
を使用せずに、その指標物質２６の部分を空孔としたも
のである。In FIG. 7, 28 is a hole (recess). In the device of FIG. 7, the index substance 26 of FIG.
Is used, and the part of the indicator substance 26 is made into a hole.
【００５７】結像レンズ９の軸ｐの位置合わせに利用す
る空孔２８は、前記レンズケース１０の上面且つ結像レ
ンズ９の軸ｐ上に形成されている。すなわち、空孔２８
の中心は、結像レンズ９の軸ｐ上に位置している。空孔
２８の孔径は０．５ｍｍ程度であり、その深さは０．５
ｍｍ程度である。The hole 28 used for aligning the axis p of the imaging lens 9 is formed on the upper surface of the lens case 10 and on the axis p of the imaging lens 9. That is, the holes 28
Is located on the axis p of the imaging lens 9. The hole 28 has a diameter of about 0.5 mm and a depth of 0.5.
It is about mm.
【００５８】以下に、結像レンズ９の軸ｐを減速レンズ
１７の光軸Ｏに合わせる方法について説明する。A method of aligning the axis p of the imaging lens 9 with the optical axis O of the deceleration lens 17 will be described below.
【００５９】−(a)まず、Ｘ線源４からのＸ線を、結
像レンズ９の空孔２８部分に照射するために、試料ステ
ージ位置調整機構８を調整して、試料５を光軸Ｏ上から
退避させる。-(A) First, in order to irradiate the X-rays from the X-ray source 4 to the holes 28 of the imaging lens 9, the sample stage position adjusting mechanism 8 is adjusted so that the sample 5 is placed on the optical axis. Evacuate from above.
【００６０】−(b)そして、結像レンズ９の作動距離
を通常の試料分析に使用する条件から変更し、結像レン
ズ９の上面が試料位置となる条件とする。すなわち、Ｘ
線源４からのＸ線を前記空孔２８部分に照射したとき
に、空孔周囲の外周金属２７から放出される光電子が前
記視野制限絞り２０に結像されるように、結像レンズ９
のコイル１２に流れる電流を制御する。この電流制御
は、制御装置２３からの制御信号を受けた電源ユニット
２４によって行われる。-(B) Then, the working distance of the imaging lens 9 is changed from the condition normally used for sample analysis so that the upper surface of the imaging lens 9 becomes the sample position. That is, X
The imaging lens 9 is formed so that when the X-ray from the radiation source 4 is applied to the hole 28, the photoelectrons emitted from the outer peripheral metal 27 around the hole are imaged on the field limiting diaphragm 20.
The current flowing through the coil 12 is controlled. This current control is performed by the power supply unit 24 which receives the control signal from the control device 23.
【００６１】さらに、開口径調整機構２１を調整して、
視野制限絞り２０の開口径を前記空孔２８の孔径に適し
た大きさに設定する。すなわち、結像レンズ９の軸ｐが
光軸Ｏに一致したときに、Ｘ線照射によって外周金属２
７から放出される光電子が最も通過しない開口径に、視
野制限絞り２０の開口径を設定する。Further, by adjusting the aperture diameter adjusting mechanism 21,
The aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to a size suitable for the hole diameter of the holes 28. That is, when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O, the outer metal 2 is irradiated by X-ray irradiation.
The aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to the aperture diameter through which the photoelectrons emitted from 7 pass most.
【００６２】そして、Ｘ線源４からのＸ線を結像レン
ズ９上面に照射する。このＸ線照射によって外周金属２
７上面から放出された光電子は、結像レンズ９によって
集束され、視野制限絞り２０の開口ａを通過した光電子
は、静電レンズ２２で集束されてアナライザ１８に導か
れる。Then, the upper surface of the imaging lens 9 is irradiated with X-rays from the X-ray source 4. Outer metal 2 by this X-ray irradiation
The photoelectrons emitted from the upper surface of 7 are focused by the imaging lens 9, and the photoelectrons passing through the opening a of the field limiting diaphragm 20 are focused by the electrostatic lens 22 and guided to the analyzer 18.
【００６３】この際、制御装置２３から制御信号を受け
た電源ユニット２４は、外周金属２７から放出された光
電子、すなわちモリブデンから放出された光電子が検出
器１９で検出されるように、アナライザ１８の分析エネ
ルギーを設定している。At this time, the power supply unit 24 receiving the control signal from the control device 23 causes the detector 19 to detect the photoelectrons emitted from the peripheral metal 27, that is, the photoelectrons emitted from molybdenum. The analysis energy is set.
【００６４】こうして、Ｘ線照射によって外周金属２７
から放出された光電子は、検出器１９で検出される。検
出器１９は、光電子信号を電気信号に変換して出力す
る。Thus, the outer metal 27 is exposed by the X-ray irradiation.
The photoelectrons emitted from the detector are detected by the detector 19. The detector 19 converts the photoelectron signal into an electric signal and outputs it.
【００６５】検出器１９の出力信号は制御装置２３に
供給され、制御装置２３はその出力信号に基づき、外周
金属２７から放出された光電子の信号強度値Ｉ２を求め
る。そして、制御装置２３は、その求めた信号強度値Ｉ
２を表示装置２５の表示画面上に表示させる。The output signal of the detector 19 is supplied to the control device 23, and the control device 23 determines the signal intensity value I 2 of the photoelectrons emitted from the outer peripheral metal 27 based on the output signal. The control device 23 then determines the calculated signal strength value I
2 is displayed on the display screen of the display device 25.
【００６６】そして、操作者は、表示画面上に表示され
る信号強度値Ｉ２を見ながら、その信号強度値Ｉ２が最
低値となるように、結像レンズ位置調整機構１５を調整
して、結像レンズ９のｘｙ位置を調整する。この信号強
度値Ｉ２が最低値となるときは、結像レンズ９の軸ｐが
光軸Ｏに一致したときであり、以上のようにして、結像
レンズ９の軸の位置調整が完了する。Then, the operator adjusts the imaging lens position adjusting mechanism 15 so that the signal intensity value I 2 becomes the minimum value while observing the signal intensity value I 2 displayed on the display screen. , Xy position of the imaging lens 9 is adjusted. The signal intensity value I 2 becomes the minimum value when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O, and the position adjustment of the axis of the imaging lens 9 is completed as described above. .
【００６７】次に、本発明の他の例を図８を用いて説明
する。図８において、図５と同一の構成には図５と同じ
番号が付けられており、その説明を省略する。Next, another example of the present invention will be described with reference to FIG. 8, the same components as those in FIG. 5 are designated by the same reference numerals as those in FIG. 5, and the description thereof will be omitted.
【００６８】図８において、２９は補助結像レンズであ
り、補助結像レンズ２９は、減速レンズ１７の視野制限
絞り２０の前方に配置されている。この補助結像レンズ
２９は、通常の試料分析時においては、試料から放出さ
れる光電子を視野制限絞り２０に結像させるために用い
られる。その際、低倍分析時には、前記結像レンズ９の
動作が停止されて、補助結像レンズ２９が作動される。
一方、試料の高倍分析時には、前記結像レンズ９と補助
結像レンズ２９の両方が作動される。なお、補助結像レ
ンズ２９は、前記電源ユニット２４に接続されている。In FIG. 8, reference numeral 29 is an auxiliary imaging lens, and the auxiliary imaging lens 29 is arranged in front of the field limiting diaphragm 20 of the deceleration lens 17. The auxiliary image forming lens 29 is used to form an image of the photoelectrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm 20 during normal sample analysis. At that time, during the low magnification analysis, the operation of the imaging lens 9 is stopped and the auxiliary imaging lens 29 is operated.
On the other hand, during high-magnification analysis of the sample, both the imaging lens 9 and the auxiliary imaging lens 29 are activated. The auxiliary imaging lens 29 is connected to the power supply unit 24.
【００６９】以下に、結像レンズ９の軸ｐを減速レンズ
１７の光軸Ｏに合わせる方法について説明する。A method of aligning the axis p of the imaging lens 9 with the optical axis O of the deceleration lens 17 will be described below.
【００７０】−(a)まず、Ｘ線源４からのＸ線を、結
像レンズ９の指標物質２６に照射するために、試料ステ
ージ位置調整機構８を調整して、試料５を光軸Ｏ上から
退避させる。-(A) First, in order to irradiate the index substance 26 of the imaging lens 9 with the X-rays from the X-ray source 4, the sample stage position adjusting mechanism 8 is adjusted so that the sample 5 is placed on the optical axis O. Evacuate from above.
【００７１】−(b)そして、補助結像レンズ２９の作
動距離を通常の試料分析に使用する条件から変更し、結
像レンズ９の上面が試料位置となる条件とする。すなわ
ち、Ｘ線源４からのＸ線を前記指標物質２６に照射した
ときに、指標物質２６から放出される光電子が前記視野
制限絞り２０に結像されるように、補助結像レンズ２９
を制御する。このレンズ制御は、制御装置２３からの制
御信号を受けた電源ユニット２４によって行われる。な
お、この例における軸合わせ時には、コイル１２には電
流は流されず、結像レンズ９の動作は停止される。-(B) Then, the working distance of the auxiliary imaging lens 29 is changed from the condition normally used for sample analysis so that the upper surface of the imaging lens 9 becomes the sample position. That is, when the X-ray from the X-ray source 4 is applied to the index substance 26, the auxiliary imaging lens 29 is formed so that the photoelectrons emitted from the index substance 26 are imaged on the field limiting diaphragm 20.
To control. This lens control is performed by the power supply unit 24 which receives the control signal from the control device 23. Note that no current is passed through the coil 12 during axis alignment in this example, and the operation of the imaging lens 9 is stopped.
【００７２】さらに、開口径調整機構２１を調整して、
視野制限絞り２０の開口径を前記指標物質２６の外径に
適した大きさに設定する。すなわち、結像レンズ９の軸
ｐが光軸Ｏに一致したときに、Ｘ線照射によって外周金
属２７から放出される光電子が最も通過しない開口径
に、視野制限絞り２０の開口径を設定する。Further, by adjusting the aperture diameter adjusting mechanism 21,
The aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to a size suitable for the outer diameter of the index substance 26. That is, when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O, the aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to the aperture diameter through which the photoelectrons emitted from the outer peripheral metal 27 by X-ray irradiation do not pass the most.
【００７３】そして、Ｘ線源４からのＸ線を結像レン
ズ９上面に照射する。このＸ線照射によって指標物質２
６や外周金属２７などから放出された光電子は、補助結
像レンズ２９によって集束され、視野制限絞り２０の開
口ａを通過した光電子は、静電レンズ２２で集束されて
アナライザ１８に導かれる。Then, the upper surface of the imaging lens 9 is irradiated with X-rays from the X-ray source 4. This X-ray irradiation causes index substance 2
The photoelectrons emitted from 6 and the peripheral metal 27 are focused by the auxiliary imaging lens 29, and the photoelectrons passing through the opening a of the field limiting diaphragm 20 are focused by the electrostatic lens 22 and guided to the analyzer 18.
【００７４】この際、制御装置２３から制御信号を受け
た電源ユニット２４は、指標物質２６から放出された光
電子、すなわち金から放出された光電子が検出器１９で
検出されるように、アナライザ１８の分析エネルギーを
設定している。また、電源ユニット２４は、制御装置２
３からの制御信号を受けて、前記静電レンズ２２への印
加電圧と検出器１９への印加電圧を制御している。At this time, the power supply unit 24 receiving the control signal from the control device 23 causes the detector 19 to detect the photoelectrons emitted from the indicator substance 26, that is, the photoelectrons emitted from gold. The analysis energy is set. In addition, the power supply unit 24 includes the control device 2
In response to the control signal from the controller 3, the voltage applied to the electrostatic lens 22 and the voltage applied to the detector 19 are controlled.
【００７５】こうして、Ｘ線照射によって指標物質２６
から放出された光電子は、検出器１９で検出される。検
出器１９は、光電子信号を電気信号に変換して出力す
る。Thus, the indicator substance 26 is irradiated by the X-ray irradiation.
The photoelectrons emitted from the detector are detected by the detector 19. The detector 19 converts the photoelectron signal into an electric signal and outputs it.
【００７６】検出器１９の出力信号は制御装置２３に
供給され、制御装置２３はその出力信号に基づき、指標
物質２６から放出された光電子の信号強度値Ｉ１を求め
る。そして、制御装置２３は、その求めた信号強度値Ｉ
１を表示装置２５の表示画面上に表示させる。The output signal of the detector 19 is supplied to the control device 23, and the control device 23 determines the signal intensity value I 1 of the photoelectrons emitted from the indicator substance 26 based on the output signal. The control device 23 then determines the calculated signal strength value I
1 is displayed on the display screen of the display device 25.
【００７７】そして、操作者は、表示画面上に表示され
る信号強度値Ｉ１を見ながら、その信号強度値Ｉ１が最
高値となるように、結像レンズ位置調整機構１５を調整
して、結像レンズ９のｘｙ位置を調整する。この信号強
度値Ｉ１が最高値となるときは、結像レンズ９の軸ｐが
光軸Ｏに一致したときである。Then, the operator adjusts the imaging lens position adjusting mechanism 15 so that the signal intensity value I 1 becomes the maximum value while observing the signal intensity value I 1 displayed on the display screen. , Xy position of the imaging lens 9 is adjusted. The maximum value of the signal strength value I 1 is when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O.
【００７８】さらに、結像レンズ９の軸ｐを光軸Ｏに
高精度に合わせるために、Ｘ線照射によって前記外周金
属（モリブデン）２７から放出される光電子が検出器１
９で検出されるように、アナライザ１８の分析エネルギ
ーを設定する。Further, in order to align the axis p of the imaging lens 9 with the optical axis O with high accuracy, photoelectrons emitted from the peripheral metal (molybdenum) 27 by X-ray irradiation are detected.
Set the analysis energy of the analyzer 18 as detected at 9.
【００７９】この結果、Ｘ線照射によって外周金属２７
から放出された光電子は、検出器１９で検出される。検
出器１９は、光電子信号を電気信号に変換して出力す
る。As a result, the outer metal 27 is exposed by the X-ray irradiation.
The photoelectrons emitted from the detector are detected by the detector 19. The detector 19 converts the photoelectron signal into an electric signal and outputs it.
【００８０】検出器１９の出力信号は制御装置２３に供
給され、制御装置２３はその出力信号に基づき、外周金
属２７から放出された光電子の信号強度値Ｉ２を求め
る。そして、制御装置２３は、その求めた信号強度値Ｉ
２を表示装置２５の表示画面上に表示させる。The output signal of the detector 19 is supplied to the control device 23, and the control device 23 determines the signal intensity value I 2 of the photoelectrons emitted from the outer peripheral metal 27 based on the output signal. The control device 23 then determines the calculated signal strength value I
2 is displayed on the display screen of the display device 25.
【００８１】そこで操作者は、表示画面上に表示される
信号強度値Ｉ２を見ながら、その信号強度値Ｉ２が最低
値となるように、結像レンズ位置調整機構１５を調整し
て、結像レンズ９のｘｙ位置を調整する。この信号強度
値Ｉ２が最低値となるときは、結像レンズ９の軸ｐが光
軸Ｏに完全に一致したときであり、以上のようにして、
結像レンズ９の軸の位置調整が完了する。Then, the operator adjusts the imaging lens position adjusting mechanism 15 so that the signal intensity value I 2 becomes the minimum value while observing the signal intensity value I 2 displayed on the display screen. The xy position of the imaging lens 9 is adjusted. The case where the signal intensity value I 2 becomes the minimum value is when the axis p of the imaging lens 9 completely coincides with the optical axis O, and as described above,
The position adjustment of the axis of the imaging lens 9 is completed.
【００８２】次に、本発明の他の例を図９を用いて説明
する。図９において、図８と同一の構成には図８と同じ
番号が付けられており、その説明を省略する。Next, another example of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 9, the same configurations as those in FIG. 8 are assigned the same numbers as in FIG. 8, and the description thereof will be omitted.
【００８３】図９において、３０は空孔（凹部）であ
る。図９の装置においては、図８における指標物質２６
を使用せずに、その指標物質２６の部分を空孔としたも
のである。In FIG. 9, 30 is a hole (recess). In the device of FIG. 9, the indicator substance 26 of FIG.
Is used, and the part of the indicator substance 26 is made into a hole.
【００８４】結像レンズ９の軸ｐの位置合わせに利用す
る空孔３０は、前記レンズケース１０の上面且つ結像レ
ンズ９の軸ｐ上に形成されている。すなわち、空孔３０
の中心は、結像レンズ９の軸ｐ上に位置している。空孔
３０の孔径は０．５ｍｍ程度であり、その深さは０．５
ｍｍ程度である。The hole 30 used for aligning the axis p of the imaging lens 9 is formed on the upper surface of the lens case 10 and on the axis p of the imaging lens 9. That is, the holes 30
Is located on the axis p of the imaging lens 9. The hole 30 has a hole diameter of about 0.5 mm and a depth of 0.5.
It is about mm.
【００８５】以下に、結像レンズ９の軸ｐを減速レンズ
１７の光軸Ｏに合わせる方法について説明する。A method of aligning the axis p of the imaging lens 9 with the optical axis O of the deceleration lens 17 will be described below.
【００８６】−(a)まず、Ｘ線源４からのＸ線を、結
像レンズ９の空孔３０部分に照射するために、試料ステ
ージ位置調整機構８を調整して、試料５を光軸Ｏ上から
退避させる。-(A) First, in order to irradiate the X-ray from the X-ray source 4 to the hole 30 of the imaging lens 9, the sample stage position adjusting mechanism 8 is adjusted so that the sample 5 is placed on the optical axis. Evacuate from above.
【００８７】−(b)そして、補助結像レンズ２９の作
動距離を通常の試料分析に使用する条件から変更し、結
像レンズ９の上面が試料位置となる条件とする。すなわ
ち、Ｘ線源４からのＸ線を前記空孔３０部分に照射した
ときに、空孔周囲の外周金属２７から放出される光電子
が前記視野制限絞り２０に結像されるように、補助結像
レンズ２９を制御する。このレンズ制御は、制御装置２
３からの制御信号を受けた電源ユニット２４によって行
われる。なお、この例における軸合わせ時には、コイル
１２には電流は流されず、結像レンズ９の動作は停止さ
れる。-(B) Then, the working distance of the auxiliary imaging lens 29 is changed from the condition normally used for sample analysis so that the upper surface of the imaging lens 9 becomes the sample position. That is, when the X-ray from the X-ray source 4 is applied to the hole 30, the auxiliary electrons are formed so that the photoelectrons emitted from the outer peripheral metal 27 around the hole are imaged on the field limiting diaphragm 20. The image lens 29 is controlled. This lens control is performed by the control device 2
The power supply unit 24 receives the control signal from the control unit 3. Note that no current is passed through the coil 12 during axis alignment in this example, and the operation of the imaging lens 9 is stopped.
【００８８】さらに、開口径調整機構２１を調整して、
視野制限絞り２０の開口径を前記空孔３０の孔径に適し
た大きさに設定する。すなわち、結像レンズ９の軸ｐが
光軸Ｏに一致したときに、Ｘ線照射によって外周金属２
７から放出される光電子が最も通過しない開口径に、視
野制限絞り２０の開口径を設定する。Further, by adjusting the opening diameter adjusting mechanism 21,
The aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to a size suitable for the hole diameter of the holes 30. That is, when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O, the outer metal 2 is irradiated by X-ray irradiation.
The aperture diameter of the field limiting diaphragm 20 is set to the aperture diameter through which the photoelectrons emitted from 7 pass most.
【００８９】そして、Ｘ線源４からのＸ線を結像レン
ズ９上面に照射する。このＸ線照射によって外周金属２
７上面から放出された光電子は、補助結像レンズ２９に
よって集束され、視野制限絞り２０の開口ａを通過した
光電子は、静電レンズ２２で集束されてアナライザ１８
に導かれる。Then, the upper surface of the imaging lens 9 is irradiated with X-rays from the X-ray source 4. Outer metal 2 by this X-ray irradiation
The photoelectrons emitted from the upper surface of 7 are focused by the auxiliary imaging lens 29, and the photoelectrons that have passed through the opening a of the field limiting diaphragm 20 are focused by the electrostatic lens 22 to be analyzed by the analyzer 18.
Be led to.
【００９０】この際、制御装置２３から制御信号を受け
た電源ユニット２４は、外周金属２７から放出された光
電子、すなわちモリブデンから放出された光電子が検出
器１９で検出されるように、アナライザ１８の分析エネ
ルギーを設定している。At this time, the power supply unit 24 receiving the control signal from the control device 23 causes the detector 19 to detect the photoelectrons emitted from the outer peripheral metal 27, that is, the photoelectrons emitted from molybdenum. The analysis energy is set.
【００９１】こうして、Ｘ線照射によって外周金属２７
から放出された光電子は、検出器１９で検出される。検
出器１９は、光電子信号を電気信号に変換して出力す
る。Thus, the outer metal 27 is exposed by the X-ray irradiation.
The photoelectrons emitted from the detector are detected by the detector 19. The detector 19 converts the photoelectron signal into an electric signal and outputs it.
【００９２】検出器１９の出力信号は制御装置２３に
供給され、制御装置２３はその出力信号に基づき、外周
金属２７から放出された光電子の信号強度値Ｉ２を求め
る。そして、制御装置２３は、その求めた信号強度値Ｉ
２を表示装置２５の表示画面上に表示させる。The output signal of the detector 19 is supplied to the control device 23, and the control device 23 determines the signal intensity value I 2 of the photoelectrons emitted from the outer peripheral metal 27 based on the output signal. The control device 23 then determines the calculated signal strength value I
2 is displayed on the display screen of the display device 25.
【００９３】そして、操作者は、表示画面上に表示され
る信号強度値Ｉ２を見ながら、その信号強度値Ｉ２が最
低値となるように、結像レンズ位置調整機構１５を調整
して、結像レンズ９のｘｙ位置を調整する。この信号強
度値Ｉ２が最低値となるときは、結像レンズ９の軸ｐが
光軸Ｏに一致したときであり、以上のようにして、結像
レンズ９の軸の位置調整が完了する。Then, the operator adjusts the imaging lens position adjusting mechanism 15 so that the signal intensity value I 2 becomes the minimum value while observing the signal intensity value I 2 displayed on the display screen. , Xy position of the imaging lens 9 is adjusted. The signal intensity value I 2 becomes the minimum value when the axis p of the imaging lens 9 coincides with the optical axis O, and the position adjustment of the axis of the imaging lens 9 is completed as described above. .
【００９４】以上、本発明の例を説明したが、本発明は
これに限定されるものではない。たとえば、レンズケー
スで上面が塞がれていない結像レンズにおいては、ヨー
クに指標物質や外周金属を直接埋め込んだり、ヨークに
凹部を形成するようにすればよい。その場合、ヨークの
上面且つ結像レンズの軸上に、指標物質を埋め込んだり
凹部を形成する必要がある。Although the example of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this. For example, in an imaging lens whose upper surface is not covered with a lens case, an index substance or a peripheral metal may be directly embedded in the yoke, or a recess may be formed in the yoke. In that case, it is necessary to embed an index substance or form a recess on the upper surface of the yoke and on the axis of the imaging lens.
【図１】結像レンズを備えた従来の電子分光装置を示し
た図である。FIG. 1 is a diagram showing a conventional electron spectroscopic device including an imaging lens.
【図２】従来の結像レンズ軸の位置調整を説明するため
に示した図である。FIG. 2 is a diagram shown for explaining conventional position adjustment of an imaging lens axis.
【図３】本発明の電子分光装置の一例を示した図であ
る。FIG. 3 is a diagram showing an example of an electron spectrometer of the present invention.
【図４】図３における結像レンズを試料側から見た図で
ある。FIG. 4 is a diagram of the imaging lens in FIG. 3 viewed from the sample side.
【図５】本発明の電子分光装置の一例を示した図であ
る。FIG. 5 is a diagram showing an example of an electron spectroscopy apparatus of the present invention.
【図６】図５における結像レンズを試料側から見た図で
ある。6 is a view of the imaging lens in FIG. 5 viewed from the sample side.
【図７】本発明の電子分光装置の一例を示した図であ
る。FIG. 7 is a diagram showing an example of an electron spectrometer of the present invention.
【図８】本発明の電子分光装置の一例を示した図であ
る。FIG. 8 is a diagram showing an example of an electron spectrometer of the present invention.
【図９】本発明の電子分光装置の一例を示した図であ
る。FIG. 9 is a diagram showing an example of an electron spectrometer of the present invention.
１…真空容器、２…分析室、３…排気装置、４…Ｘ線
源、５…試料、６…試料ホルダ、７…試料ステージ、８
…試料ステージ位置調整機構、９…結像レンズ、１０…
レンズケース、１１…ヨーク、１２…コイル、１３…指
標物質、１４…ステージ、１５…結像レンズ位置調整機
構、１６…電子分光器、１７…減速レンズ、１８…アナ
ライザ、１９…検出器、２０…視野制限絞り、２１…開
口径調整機構、２２…静電レンズ、２３…制御装置、２
４…電源ユニット、２５…表示装置、２６…指標物質、
２７…外周金属、２８…空孔、２９…補助結像レンズ、
３０…空孔DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Vacuum container, 2 ... Analysis chamber, 3 ... Exhaust device, 4 ... X-ray source, 5 ... Sample, 6 ... Sample holder, 7 ... Sample stage, 8
... Sample stage position adjusting mechanism, 9 ... Imaging lens, 10 ...
Lens case, 11 ... Yoke, 12 ... Coil, 13 ... Index material, 14 ... Stage, 15 ... Imaging lens position adjusting mechanism, 16 ... Electron spectroscope, 17 ... Deceleration lens, 18 ... Analyzer, 19 ... Detector, 20 ... field limiting diaphragm, 21 ... aperture diameter adjusting mechanism, 22 ... electrostatic lens, 23 ... control device, 2
4 ... power supply unit, 25 ... display device, 26 ... indicator substance,
27 ... Outer metal, 28 ... Hole, 29 ... Auxiliary imaging lens,
30 ... hole
Claims (7)
の(a)〜(c)の構成を有する電子分光器と、 (a)視野制限絞りを有し、前記１次線照射により試料か
ら放出された電子を減速および集束させる減速レンズ (b)前記減速レンズからの電子をそのエネルギーによっ
て選別するアナライザ (c)前記アナライザで選別された電子を検出する検出器 前記試料の下部に配置され、前記試料から放出された電
子を前記視野制限絞りに結像させるための結像レンズ
と、前記結像レンズの位置を調整するための位置調整手
段とを備えた電子分光装置において、前記結像レンズの
上面且つ前記結像レンズの軸上に、前記結像レンズの軸
の位置合わせに利用する指標物質が備えられていること
を特徴とする電子分光装置。1. An irradiation means for irradiating a sample with a primary beam, an electron spectroscope having the following constitutions (a) to (c), and (a) a field limiting diaphragm: A deceleration lens that decelerates and focuses the electrons emitted from the sample by (b) an analyzer that sorts the electrons from the deceleration lens by its energy (c) a detector that detects the electrons sorted by the analyzer. In the electron spectroscopic device provided with an imaging lens for forming an image of electrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm, and position adjusting means for adjusting the position of the imaging lens, An electron spectroscopic device characterized in that an index substance used for alignment of the axis of the imaging lens is provided on the upper surface of the imaging lens and on the axis of the imaging lens.
の(a)〜(c)の構成を有する電子分光器と、 (a)視野制限絞りを有し、前記１次線照射により試料か
ら放出された電子を減速および集束させる減速レンズ (b)前記減速レンズからの電子をそのエネルギーによっ
て選別するアナライザ (c)前記アナライザで選別された電子を検出する検出器 前記試料の下部に配置され、前記試料から放出された電
子を前記視野制限絞りに結像させるための結像レンズ
と、前記結像レンズの位置を調整するための位置調整手
段とを備えた電子分光装置において、前記結像レンズの
上面且つ前記結像レンズの軸上に、前記結像レンズの軸
の位置合わせに利用する凹部が形成されていることを特
徴とする電子分光装置。2. An irradiation means for irradiating a sample with a primary beam, an electron spectroscope having the following constitutions (a) to (c), and (a) a field limiting diaphragm: A deceleration lens that decelerates and focuses the electrons emitted from the sample by (b) an analyzer that sorts the electrons from the deceleration lens by its energy (c) a detector that detects the electrons sorted by the analyzer. In the electron spectroscopic device provided with an imaging lens for forming an image of electrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm, and position adjusting means for adjusting the position of the imaging lens, An electron spectroscopic device characterized in that a recess used for alignment of the axis of the imaging lens is formed on the upper surface of the imaging lens and on the axis of the imaging lens.
の(a)〜(c)の構成を有する電子分光器と、 (a)視野制限絞りを有し、前記１次線照射により試料か
ら放出された電子を減速および集束させる減速レンズ (b)前記減速レンズからの電子をそのエネルギーによっ
て選別するアナライザ (c)前記アナライザで選別された電子を検出する検出器 前記試料の下部に配置され、前記試料から放出された電
子を前記視野制限絞りに結像させるための結像レンズで
あって、前記結像レンズの上面且つ前記結像レンズの軸
上に、前記結像レンズの軸の位置合わせに利用する指標
物質が備えられている結像レンズと、前記結像レンズの
位置を調整するための位置調整手段とを備えた電子分光
装置において、以下のステップで前記結像レンズの軸の
位置合わせを行うことを特徴とする、電子分光装置にお
けるレンズ軸の位置調整方法 前記１次線を前記指標物質に照射したときに、前記指
標物質から放出される電子が前記視野制限絞りに結像さ
れるように前記結像レンズを制御すると共に、前記視野
制限絞りの開口径を前記指標物質の大きさに適した大き
さに設定する 前記１次線照射によって前記指標物質から放出される
電子を前記電子分光器で検出する 前記電子分光器の検出出力に基づき、前記指標物質か
ら放出された電子の信号強度が最高となるように、前記
位置調整手段により前記結像レンズの位置を調整する。3. An irradiation means for irradiating a sample with a primary beam, an electron spectrometer having the following constitutions (a) to (c), and (a) a field limiting diaphragm: A deceleration lens that decelerates and focuses the electrons emitted from the sample by (b) an analyzer that sorts the electrons from the deceleration lens by its energy (c) a detector that detects the electrons sorted by the analyzer. An imaging lens arranged to image electrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm, the axis of the imaging lens being on the upper surface of the imaging lens and on the axis of the imaging lens. In an electron spectroscopic device including an imaging lens provided with an index substance used for alignment of the imaging lens and position adjusting means for adjusting the position of the imaging lens, Align the axes A method for adjusting a position of a lens axis in an electron spectroscope, wherein when the primary substance is irradiated with the primary line, electrons emitted from the indicator substance are imaged on the field limiting diaphragm. The electron spectroscope emits electrons emitted from the index substance by the primary ray irradiation, which controls the imaging lens and sets the aperture diameter of the field limiting diaphragm to a size suitable for the size of the index substance. Based on the detected output of the electron spectroscope to be detected, the position adjusting means adjusts the position of the imaging lens so that the signal intensity of the electrons emitted from the indicator substance becomes the highest.
の(a)〜(c)の構成を有する電子分光器と、 (a)視野制限絞りを有し、前記１次線照射により試料か
ら放出された電子を減速および集束させる減速レンズ (b)前記減速レンズからの電子をそのエネルギーによっ
て選別するアナライザ (c)前記アナライザで選別された電子を検出する検出器 前記試料の下部に配置され、前記試料から放出された電
子を前記視野制限絞りに結像させるための結像レンズで
あって、前記結像レンズの上面且つ前記結像レンズの軸
上に、前記結像レンズの軸の位置合わせに利用する凹部
が形成されている結像レンズと、前記結像レンズの位置
を調整するための位置調整手段とを備えた電子分光装置
において、以下のステップで前記結像レンズの軸の位置
合わせを行うことを特徴とする、電子分光装置における
レンズ軸の位置調整方法 前記１次線を前記凹部部分に照射したときに、前記凹
部周囲の物質から放出される電子が前記視野制限絞りに
結像されるように前記結像レンズを制御すると共に、前
記視野制限絞りの開口径を前記凹部の孔径に適した大き
さに設定する 前記１次線照射によって前記凹部周囲の物質から放出
される電子を前記電子分光器で検出する 前記電子分光器の検出出力に基づき、前記凹部周囲の
物質から放出された電子の信号強度が最低となるよう
に、前記位置調整手段により前記結像レンズの位置を調
整する。4. An irradiation means for irradiating a sample with a primary beam, an electron spectroscope having the following constitutions (a) to (c), and (a) a field limiting diaphragm. A deceleration lens that decelerates and focuses the electrons emitted from the sample by (b) an analyzer that sorts the electrons from the deceleration lens by its energy (c) a detector that detects the electrons sorted by the analyzer. An imaging lens arranged to image electrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm, the axis of the imaging lens being on the upper surface of the imaging lens and on the axis of the imaging lens. In an electron spectroscopic device including an imaging lens having a concave portion used for position alignment of the imaging lens and position adjusting means for adjusting the position of the imaging lens, the axis of the imaging lens is adjusted by the following steps. The alignment of A method for adjusting the position of a lens axis in an electron spectroscopic device, which is characterized in that when the primary portion is irradiated with the primary line, electrons emitted from a substance around the concave portion are imaged on the field limiting diaphragm. The electron spectroscope emits electrons emitted from a substance around the recess by the primary beam irradiation that controls the imaging lens and sets the aperture diameter of the field limiting diaphragm to a size suitable for the hole diameter of the recess. The position adjusting means adjusts the position of the imaging lens based on the detection output of the electron spectroscope detected in step 1 so that the signal intensity of the electrons emitted from the substance around the recess is minimized.
の(a)〜(c)の構成を有する電子分光器と、 (a)視野制限絞りと、前記１次線照射により前記試料か
ら放出された電子を前記視野制限絞りに結像させるため
の補助結像レンズとを有すると共に、前記試料から放出
された電子を減速および集束させる減速レンズ (b)前記減速レンズからの電子をそのエネルギーによっ
て選別するアナライザ (c)前記アナライザで選別された電子を検出する検出器 前記試料の下部に配置され、前記試料から放出された電
子を前記視野制限絞りに結像させるための結像レンズで
あって、前記結像レンズの上面且つ前記結像レンズの軸
上に、前記結像レンズの軸の位置合わせに利用する指標
物質が備えられている結像レンズと、前記結像レンズの
位置を調整するための位置調整手段とを備えた電子分光
装置において、以下のステップで前記結像レンズの軸の
位置合わせを行うことを特徴とする、電子分光装置にお
けるレンズ軸の位置調整方法 前記結像レンズの動作を停止させた状態で、前記１次
線を前記指標物質に照射したときに、前記指標物質から
放出される電子が前記視野制限絞りに結像されるように
前記補助結像レンズを制御すると共に、前記視野制限絞
りの開口径を前記指標物質の大きさに適した大きさに設
定する 前記結像レンズの動作を停止させた状態で、前記１次
線照射によって前記指標物質から放出される電子を前記
電子分光器で検出する 前記電子分光器の検出出力に基づき、前記指標物質か
ら放出された電子の信号強度が最高となるように、前記
位置調整手段により前記結像レンズの位置を調整する。5. An irradiation means for irradiating a sample with a primary beam, an electron spectroscope having the following constitutions (a) to (c), (a) a field limiting diaphragm, and the primary beam irradiation for the above A deceleration lens (b) for decelerating and focusing the electrons emitted from the sample, which has an auxiliary imaging lens for forming an image of the electrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm, and the electron from the deceleration lens. An analyzer for selecting by the energy (c) A detector for detecting electrons selected by the analyzer, which is arranged below the sample, and an imaging lens for forming an image of the electrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm. And an image forming lens in which an index substance used for alignment of the axis of the image forming lens is provided on the upper surface of the image forming lens and on the axis of the image forming lens, and the position of the image forming lens. Position for adjusting A method for adjusting the position of a lens axis in an electron spectroscopic device, characterized in that the position of the axis of the imaging lens is adjusted in the following steps in an electron spectroscopic device provided with an adjusting means: In this state, when the primary substance is irradiated with the primary ray, the auxiliary imaging lens is controlled so that the electrons emitted from the indicator substance are imaged on the field limiting diaphragm. The electrons emitted from the index substance by the primary radiation are set in the state where the operation of the imaging lens for setting the aperture diameter of the field limiting diaphragm to a size suitable for the size of the index substance is stopped. Based on the detection output of the electron spectroscope detected by the electron spectroscope, the position of the imaging lens is adjusted by the position adjusting means so that the signal intensity of the electrons emitted from the indicator substance becomes the highest. It
の(a)〜(c)の構成を有する電子分光器と、 (a)視野制限絞りと、前記１次線照射により前記試料か
ら放出された電子を前記視野制限絞りに結像させるため
の補助結像レンズとを有すると共に、前記試料から放出
された電子を減速および集束させる減速レンズ (b)前記減速レンズからの電子をそのエネルギーによっ
て選別するアナライザ (c)前記アナライザで選別された電子を検出する検出器 前記試料の下部に配置され、前記試料から放出された電
子を前記視野制限絞りに結像させるための結像レンズで
あって、前記結像レンズの上面且つ前記結像レンズの軸
上に、前記結像レンズの軸の位置合わせに利用する凹部
が形成されている結像レンズと、前記結像レンズの位置
を調整するための位置調整手段とを備えた電子分光装置
において、以下のステップで前記結像レンズの軸の位置
合わせを行うことを特徴とする、電子分光装置における
レンズ軸の位置調整方法 前記結像レンズの動作を停止させた状態で、前記１次
線を前記凹部部分に照射したときに、前記凹部周囲の物
質から放出される電子が前記視野制限絞りに結像される
ように前記補助結像レンズを制御すると共に、前記視野
制限絞りの開口径を前記凹部の孔径に適した大きさに設
定する 前記結像レンズの動作を停止させた状態で、前記１次
線照射によって前記凹部周囲の物質から放出される電子
を前記電子分光器で検出する 前記電子分光器の検出出力に基づき、前記凹部周囲の
物質から放出された電子の信号強度が最低となるよう
に、前記位置調整手段により前記結像レンズの位置を調
整する。6. An irradiation means for irradiating a sample with a primary ray, an electron spectroscope having the following constitutions (a) to (c), (a) a field limiting diaphragm, and the irradiation with the primary ray: A deceleration lens (b) for decelerating and focusing the electrons emitted from the sample, which has an auxiliary imaging lens for forming an image of the electrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm, and the electron from the deceleration lens. An analyzer for selecting by the energy (c) A detector for detecting electrons selected by the analyzer, which is arranged below the sample, and an imaging lens for forming an image of the electrons emitted from the sample on the field limiting diaphragm. And the position of the image forming lens and the image forming lens in which a concave portion used for aligning the axis of the image forming lens is formed on the upper surface of the image forming lens and on the axis of the image forming lens. Position adjustment to adjust A method for adjusting the position of the lens axis in the electron spectroscopic device, characterized in that the axis of the imaging lens is aligned in the following steps in an electron spectroscopic device including a step: In this state, when the primary line is irradiated to the concave portion, the auxiliary imaging lens is controlled so that the electrons emitted from the substance around the concave portion are imaged on the field limiting diaphragm. Electrons emitted from the substance around the recess due to the primary ray irradiation are stopped in a state where the operation of the imaging lens for setting the aperture diameter of the field limiting diaphragm to a size suitable for the hole diameter of the recess is stopped. The position of the imaging lens is adjusted by the position adjusting means so that the signal intensity of the electrons emitted from the substance around the recess is minimized based on the detection output of the electron spectrometer detected by the electron spectrometer. Adjust.
から放出される電子を前記電子分光器で検出し、前記電
子分光器の検出出力に基づき、前記指標物質の周囲の物
質から放出された電子の信号強度が最低となるように、
前記位置調整手段により前記結像レンズの位置を調整す
ることを特徴とする請求項３または５記載の電子分光装
置におけるレンズ軸の位置調整方法。7. After that, the electrons emitted from the substance around the indicator substance are detected by the electron spectrometer, and are emitted from the substance around the indicator substance based on the detection output of the electron spectrometer. So that the signal strength of the electron is the lowest,
The method for adjusting the position of a lens axis in an electron spectroscopic device according to claim 3, wherein the position of the imaging lens is adjusted by the position adjusting means.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001182192A JP2003004676A (en) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | Electronic spectroscope and method for adjusting position lens axis in electronic spectroscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001182192A JP2003004676A (en) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | Electronic spectroscope and method for adjusting position lens axis in electronic spectroscope |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003004676A true JP2003004676A (en) | 2003-01-08 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001182192A Withdrawn JP2003004676A (en) | 2001-06-15 | 2001-06-15 | Electronic spectroscope and method for adjusting position lens axis in electronic spectroscope |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003004676A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006292567A (en) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Sii Nanotechnology Inc | Lens optical axis adjusting mechanism for x rays, lens optical axis adjusting method for x rays and x-ray analyzer |
-
2001
- 2001-06-15 JP JP2001182192A patent/JP2003004676A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006292567A (en) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Sii Nanotechnology Inc | Lens optical axis adjusting mechanism for x rays, lens optical axis adjusting method for x rays and x-ray analyzer |
| US7289597B2 (en) * | 2005-04-12 | 2007-10-30 | Sii Nanotechnology Inc. | Optical axis adjusting mechanism for X-ray lens, X-ray analytical instrument, and method of adjusting optical axis of X-ray lens |
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