JP2006228382A - Conveying device of substrate with coated film - Google Patents
Conveying device of substrate with coated film Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006228382A JP2006228382A JP2005044212A JP2005044212A JP2006228382A JP 2006228382 A JP2006228382 A JP 2006228382A JP 2005044212 A JP2005044212 A JP 2005044212A JP 2005044212 A JP2005044212 A JP 2005044212A JP 2006228382 A JP2006228382 A JP 2006228382A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- substrate
- tray
- flat substrate
- coating liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、塗布膜付き基板の搬送装置に関し、特に塗布液供給部から供給された塗布液が平面基板上に厚膜状に塗布された塗布膜付き基板の搬送装置に関する。 The present invention relates to a transport device for a substrate with a coating film, and more particularly to a transport device for a substrate with a coating film in which a coating liquid supplied from a coating liquid supply unit is coated on a flat substrate in a thick film shape.
液状塗料を被塗布部材の塗布面に安定的に塗布するには、従来より種々の提案がなされている。例えば下記特許文献1に開示される基板塗布装置では、下部が塗布液槽に浸漬されたマイクロロッドバーと、このマイクロロッドバーの上方に対向配置されたニップローラとの間に基板を挟んで送ることにより、基板の下面に塗布液を塗布するものであって、マイクロロッドバーの基板進入側に基板の前縁を下方から支えて基板前縁の撓みを制限する押上げ部材を設けている。これにより、基板の前縁中央付近の塗布厚がその両側より厚くなるのを防ぎ、均一な塗布厚での塗布を図っている。また、基板の後縁中央付近が塗布液槽の出口側せきに接触するのを防ぎ、均一な塗布厚での塗布を図っている。 Various proposals have heretofore been made in order to stably apply a liquid paint to an application surface of a member to be applied. For example, in the substrate coating apparatus disclosed in Patent Document 1 below, the substrate is sandwiched between a microrod bar whose lower part is immersed in a coating solution tank and a nip roller disposed opposite to the microrod bar. Thus, a coating liquid is applied to the lower surface of the substrate, and a push-up member that supports the front edge of the substrate from below and restricts the deflection of the front edge of the substrate is provided on the substrate entrance side of the microrod bar. As a result, the coating thickness in the vicinity of the center of the front edge of the substrate is prevented from becoming thicker than both sides, and coating is performed with a uniform coating thickness. In addition, the vicinity of the center of the rear edge of the substrate is prevented from coming into contact with the cough on the outlet side of the coating solution tank, and coating is performed with a uniform coating thickness.
また、特許文献2に開示されるロールコータでは、塗布処理すべき薄板を搬送する搬送台と塗布ロールとを設け、塗布ロールの下側に搬送台を移動通過させることにより液剤を薄板の表面に塗布するものであって、搬送台を基盤上面に薄板把持用の把持板を隙間を介在させて配置し、隙間の面方向中間部に薄板の中心を搬送台の移動方向に通る線分に対して線対称に弾性材を配置し、かつ把持板の周縁部を隙間規制手段により隙間を調整可能に規制している。これにより、把持板が塗布ロールを押圧して通過するとき、隙間の範囲内で傾動して接触侵入時の衝撃を緩和するように弾性材の反力(弾性力)を制御し、衝撃振動に伴う塗布ムラを生じないようにしている。
Moreover, in the roll coater disclosed by
光ディスク等の平面基板上に形成される100μm程度の比較的厚い膜厚を有する印刷可能な塗布液層(インク受理層)は、塗布装置において光ディスク上に塗布液をブレードにより塗布した後、塗布液層が形成された光ディスクを乾燥工程に搬送し、乾燥装置において乾燥して形成される。 A printable coating liquid layer (ink receiving layer) having a relatively thick film thickness of about 100 μm formed on a flat substrate such as an optical disk is coated with a coating liquid on the optical disk with a blade in a coating apparatus. The optical disk on which the layer is formed is transported to a drying process and dried by a drying apparatus.
乾燥前における光ディスク上に塗布された塗布液層は液状であり、また比較的厚い膜厚を有することから、乾燥前に光ディスクが傾く等すると、塗布された塗布液が下方に向かって流動して塗布液のダレが生じ、膜厚の均一なインク受理層を形成することが困難となる。これは、後の印刷工程において画像品質に悪影響を及ぼして良好な印刷ができず、製品価値を低下させる問題があった。 Since the coating liquid layer applied on the optical disk before drying is liquid and has a relatively thick film thickness, when the optical disk is tilted before drying, the applied coating liquid flows downward. The sagging of the coating liquid occurs, making it difficult to form an ink receiving layer with a uniform film thickness. This has a problem that the image quality is adversely affected in the subsequent printing process, and good printing cannot be performed, resulting in a reduction in product value.
特許文献1及び特許文献2に示す従来の基板塗布装置は、基板をニップして下側からマイクロロッドバーで塗布液を塗布し、或いは塗布ロールにより被塗布体に塗布液を塗布するようにしたものであり、液膜の厚みが厚くなると、塗布方向に略平行なスジが発生する場合が多く、良好な塗膜面の確保が困難であった。また、これらの特許文献に開示されている基板塗布装置は、光ディスク等に対して塗布液を均一な厚さに塗布することを意図したものであり、塗布後の液ダレや、その後の乾燥工程に関しては考察されていない。
In the conventional substrate coating apparatus shown in Patent Document 1 and
また、図8に一般的なディスク移載機構を示した。このディスク移載機構1は、ディスクDの中央孔2を利用して係止するもので、アーム3の先端部にチャック部4を有し、チャック爪が開くことでディスクDの内周部を係止している。チャック部4によるディスクDの係止手順としては、図9(a)に示すように、まず、閉状態としたチャック部4をディスクDの中央孔2に挿入する。次いで、図9(b)に示すように、チャック機構4を開状態にして、チャック爪4a,4bの外周部の一部をディスクDの中央孔2の内周面に当接させる。これにより、図9(c)に示すように、ディスクDがチャック部4に支持されて、アーム3を駆動してチャック部4を引き上げる等してディスクDの移載が行える
FIG. 8 shows a general disk transfer mechanism. This disk transfer mechanism 1 is locked using the
上記構造のディスク移載機構にあっては、ディスクDを水平状態に維持したまま移動させることが困難であり、チャッキング時に僅かにディスクDとの間に隙間が生じただけでも、ディスクDが水平から大きく傾斜することがある。 In the disk transfer mechanism having the above structure, it is difficult to move the disk D while maintaining the horizontal state, and even if a slight gap is formed between the disk D and the disk D during chucking, May tilt significantly from horizontal.
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、塗布液が塗布された平面基板を、水平状態に維持しつつ塗布装置から乾燥装置に移送することができる基板の搬送装置を提供し、もって、液ダレや塗布面でのスジの発生のない良好な表面性状を有する塗布液層の形成を可能とすることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above situation, and provides a substrate transfer device that can transfer a flat substrate coated with a coating liquid from a coating apparatus to a drying apparatus while maintaining a horizontal state, It is an object of the present invention to enable formation of a coating liquid layer having a good surface property without causing dripping or streaking on the coating surface.
本発明に係る上記目的は、下記構成により達成できる。
(1) 塗布装置の塗布液供給部から供給される塗布液を平面基板上に塗布して前記平面基板上に塗布膜を形成した後、前記平面基板をトレイに載せて前記塗布膜を乾燥させる乾燥装置へ搬送する塗布膜付き基板の搬送装置であって、前記平面基板を水平面に対する角度が±5°以下の水平状態に維持したまま、前記塗布装置から前記平面基板を取り出し、前記乾燥装置に配設されたトレイに移載する移載手段を備えたことを特徴とする塗布膜付き基板の搬送装置。。
The above object of the present invention can be achieved by the following configuration.
(1) A coating liquid supplied from a coating liquid supply unit of a coating apparatus is applied on a flat substrate to form a coating film on the flat substrate, and then the flat substrate is placed on a tray and the coating film is dried. A substrate transfer device having a coating film to be transferred to a drying device, wherein the planar substrate is taken out of the coating device while keeping the flat substrate in a horizontal state with an angle with respect to a horizontal plane of ± 5 ° or less. An apparatus for transporting a substrate with a coating film, comprising: transfer means for transferring to a disposed tray. .
このように構成された塗布膜付き基板の搬送装置においては、塗布液が塗布されて塗布膜が形成された平面基板は、水平面に対する角度が±5°以下の水平状態に維持された状態で塗布装置からトレイに載せられ、乾燥装置に搬送される。これにより、塗布膜の液ダレの発生が防止されて乾燥されるので、均一の膜厚を有するインク受理層を形成することができ、もって平面基板に良好な印刷が可能となる。 In the transport apparatus for a substrate with a coating film configured as described above, the flat substrate on which the coating liquid is formed by applying the coating liquid is applied in a state where the angle with respect to the horizontal plane is maintained in a horizontal state of ± 5 ° or less. It is placed on a tray from the apparatus and conveyed to a drying apparatus. As a result, the occurrence of dripping of the coating film is prevented and the film is dried, so that an ink receiving layer having a uniform film thickness can be formed, thereby enabling good printing on the flat substrate.
(2) 前記トレイが、開口を有して前記平面基板の外周部下面を係止するものであり、前記移載手段が、前記塗布膜が形成された前記平面基板の外周部下面を係止して前記平面基板を水平状態に保持し、前記塗布装置から前記乾燥装置に搬送する保持機構と、前記トレイの開口から出没自在とされて前記トレイの下方に配設され、前記開口から上方に突出する上昇途中で前記保持機構に保持された前記平面基板を前記保持機構から受け取り、前記開口から下方に引き込む下降途中で前記平面基板を前記トレイに載置させるリフタと、を備えたことを特徴とする上記(1)記載の塗布膜付き基板の搬送装置。 (2) The tray has an opening to lock the lower surface of the outer peripheral portion of the flat substrate, and the transfer means locks the lower surface of the outer peripheral portion of the flat substrate on which the coating film is formed. And a holding mechanism for holding the flat substrate in a horizontal state and transporting it from the coating device to the drying device, and being able to protrude and retract from the opening of the tray and disposed below the tray, and upward from the opening. A lifter configured to receive the flat substrate held by the holding mechanism during the protruding upward from the holding mechanism, and to place the flat substrate on the tray during the downward pulling from the opening. The transport apparatus for a substrate with a coating film according to the above (1).
このように構成された塗布膜付き基板の搬送装置においては、保持機構により平面基板の外周部下面を係止して水平状態に保持しつつ搬送し、平面基板の外周部下面を乾燥装置に配設されたトレイ上に載置することにより、平面基板を塗布装置から乾燥装置に移載して、簡易な機構で平面基板を水平状態に維持しつつ移載することができる。これによって塗布膜の膜厚を均一とすることができる。 In the transport apparatus for a substrate with a coating film configured in this way, the lower surface of the outer peripheral portion of the flat substrate is transported while being held in a horizontal state by a holding mechanism, and the lower surface of the outer peripheral portion of the flat substrate is disposed in the drying device. By placing the flat substrate on the tray provided, the flat substrate can be transferred from the coating device to the drying device, and the flat substrate can be transferred while maintaining the horizontal state with a simple mechanism. Thereby, the film thickness of the coating film can be made uniform.
本発明の塗布膜付き基板の搬送装置によれば、平面基板が水平面に対する角度±5°以下の水平状態に維持されつつ塗布装置から乾燥装置のトレイに搬送されて乾燥されるので、乾燥前における塗布膜の液ダレや塗布面でのスジの発生のない良好な表面性状を有し、均一の膜厚を有するインク受理層を形成することができる。 According to the apparatus for transporting a substrate with a coating film of the present invention, the planar substrate is transported from the coating apparatus to the drying apparatus tray and dried while being maintained in a horizontal state of an angle of ± 5 ° or less with respect to the horizontal plane. It is possible to form an ink receiving layer having a good surface property without causing dripping of the coating film or streaks on the coating surface and having a uniform film thickness.
以下、本発明に係る塗布膜付き基板の搬送装置の好適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は本発明に係る塗布膜付き基板の移載装置が配設された搬送装置の概略外観を表す斜視図、図2は図1に示した塗布装置の概略構成図である。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a transport apparatus for a substrate with a coating film according to the invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic appearance of a transfer apparatus provided with a coating film transfer apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the coating apparatus shown in FIG.
図1に示すように、搬送装置30は、塗布ステーションPSと、乾燥ステーションDSと、塗布ステーションPS及び乾燥ステーションDSの間に配設され平面基板である光ディスクDを、塗布ステーションPSから、乾燥ステーションDSに向けて搬送する図示しないコンベアに移載する移載装置100とを含んで構成される。
As shown in FIG. 1, the
塗布ステーションPSは、塗布装置の一例であるディスク塗布装置10を具備しており、平面基板の一例であるディスク状記録媒体、例えば光ディスクDを被塗布部材とする液膜の塗布に用いられる。乾燥ステーションDSは、ディスク塗布装置10により光ディスクD上に塗布された塗布膜を乾燥させるものであり、塗布ステーションPSから搬送された光ディスクDを水平に載置するトレイ81とこのトレイ81を搬送するコンベア等を具備する。
The coating station PS includes a
まず、ディスク塗布装置10の構成について説明する。
図2に示すように、ディスク塗布装置10の塗布部11には、光ディスクDが吸着載置可能となる円形状の吸着台13が設けられる。この吸着台13の上面には複数の吸着孔15が開口されて、各吸着孔15には吸引路17を介して真空ポンプ19が接続される。吸着台13は、真空ポンプ19が作動することで吸着孔15を介して光ディスクDを上面に吸着保持することができる。
First, the configuration of the
As shown in FIG. 2, the
また、吸着台13は、昇降軸21によって下面中央が上下方向に移動自在に支持される。この昇降軸21の上下移動は、マスク剥離手段の一例であるエアシリンダ23の駆動によりなされる。
Further, the suction table 13 is supported by the
そして、吸着台13の上方にはマスク板(マスク)25が設けられ、マスク板25は光ディスクDの塗布面57を露出させる開口27を有している。吸着台13に載置された光ディスクDは、エアシリンダ23の駆動によって昇降軸21が上昇して、上限位置に到達したときに、外周縁がマスク板25の開口周縁部25aによって覆われる。
A mask plate (mask) 25 is provided above the suction table 13, and the
また、塗布部11には、光ディスクDの中央部上方に、マスクキャップ着脱手段29が具備される。マスクキャップ着脱手段29は、キャップ吸着ノズル31と、真空ポンプ33と、昇降手段35とからなる。マスクキャップ着脱手段29は、真空ポンプ33の駆動によってキャップ吸着ノズル31の下端に、マスクキャップ37を吸着保持する。この状態で昇降手段35が駆動されることで、キャップ吸着ノズル31が下降して、光ディスクDの中央部の穴にマスクキャップ37が挿着されるようになっている。なお、マスクキャップ(センターキャップ)は、これに限らず、他の機械的手段で脱着してもよい。例えば、マスクキャップ37の下方から突き上げてマスク板25から浮き上がらせ、マスクキャップ37を、その側方からすくい取る等の方法がある。
The
開口27より外側のマスク板25の上方には塗布液供給手段41が設けられている。塗布液供給手段41は、塗布液供給ノズル43と、塗布液供給装置45と、ノズル昇降装置47とからなる。塗布液供給手段41は、塗布液供給装置45から供給される塗布液49を、塗布液供給ノズル43からマスク板25上に滴下供給する。この際、塗布液供給ノズル43は、塗布液49を滴下供給するときだけノズル昇降装置47によってマスク板25の近傍高さに移動し、通常は塗布工程に支障とならない位置まで上昇して待機状態とされる。
ここで、塗布液49は、例えば、液粘度が150cP〜800cPのものが利用でき、特に、200cP〜600cPの塗布液49が好適に用いられる。なお、上記の塗布液の液粘度は、25℃でB型粘度計(ビスメトロン)により測定した場合の値である。
A coating liquid supply means 41 is provided above the
Here, as the
塗布液供給手段41によってマスク板25上に供給された塗布液49のさらに外側には、ブレード51が待機状態で配置される。ブレード51は、移動手段53によってマスク板25上を所定の隙間を保ちながら水平駆動され、前側面55で塗布液49を押しながら、マスク板25の開口27によって露出された光ディスクDの塗布面57に塗布液49を塗布するように移動する。
A
ブレード51は、図2の紙面垂直方向に長尺に形成されたステンレス材等の金属材料からなり、ブレード51長手方向に垂直方向の断面形状が、略台形形状に形成されている。また、ブレード51の下面とマスク板25との間には隙間(ギャップ)Gが形成され、塗布液49はブレード51の前側面55により流れが案内されるに伴い押圧されることで、このギャップGに押し込まれる。そして、塗布面57に対面するブレード51の下面(押圧面59)を通過することで塗布液49がマスク板25の開口27内に充填される。その結果、塗布面57に塗布液49が平坦に塗布されるようになる。
The
上記した真空ポンプ19、エアシリンダ23、真空ポンプ33、昇降手段35、塗布液供給装置45、ノズル昇降装置47、移動手段53は、それぞれが制御部63によって動作が制御される。
The operations of the
また、マスク板25の開口27は、ブレード51の長手方向に沿って連続する少なくとも50mmを超える開口を有することで、ブレード塗布による均一塗布性の効果が顕著となる。本実施の形態においては、開口27が直径120mm程度の円形状に形成される。
Further, the
本実施の形態によるディスク塗布装置10においては、塗布時における塗布液層の膜厚が、少なくとも100μm以上で塗布される。このような100μm以上の厚みの塗布である場合、薄膜の塗布の場合と比較して、塗布液層の表面性状は塗布面57の表面に倣う傾向が低くなり、ブレード51の形状が大きな影響を及ぼすことになる。つまり、塗布面57の凹凸に影響されにくく、ブレード51による塗布液49の圧力、ブレード51形状による塗布液49の濡れ上がり性等が、塗布液層の表面性状を決定する主要因となる。なお、塗布液層の膜厚は、表面性状を整えるには1000μm以下に抑えることが好ましい。
In the
本ディスク塗布装置10は、ディスク状記録媒体(光ディスク)の記録層の少なくとも1層を形成するディスク塗布装置として使用する場合、例えばインクジェットプリンタを用いた印刷を行うための印刷層(インク受理層)を形成することができる。このディスク塗布装置によれば、印刷層への印刷の際、良好な色再現性が確保できるように、必要十分な厚みの印刷層を形成することができる。実際には、塗布液層が塗布時150μm程度の厚みであると、乾燥後の目減り時において30μm程度の塗膜が形成され、この30μm程度のインク受理層が良好な色再現性を可能にする。
When this
図1に示すように、乾燥ステーションDSは、移載装置100により塗布ステーションPSから搬送される光ディスクDを載置するトレイ81を具備する。トレイ81は、水平面に対する角度が±5°以下、更に好ましくは±2°以下の水平状態にされており、光ディスクDの外径より僅かに小さな直径を有する開口83が形成されている。そして、光ディスクDがトレイ81上に載置されたとき、光ディスクDの外周部下面を係止して光ディスクDを水平状態に保持する。トレイ81の下方には、リフタ90が配設されている。リフタ90は、昇降軸89によって下面中央が上下方向に移動自在に支持された載置台85、及び昇降軸89を上下移動させるエアシリンダ87からなる。
As shown in FIG. 1, the drying station DS includes a
載置台85の外径は、トレイ81の開口83の内径より小さく設定されており、載置台85がエアシリンダ87の駆動により開口83から上下方向に出没自在となっている。即ち、載置台85が上限位置に到達したとき載置台85はトレイ81の開口83より上方に位置し、下限位置に到達したとき載置台85はトレイ81の下方に位置する。また、光ディスクDを載置したトレイ81は、水平状態に維持されつつ、コンベア装置等により乾燥装置(図示せず)に搬送されて、光ディスクDに塗布された塗布膜を乾燥させる。エアシリンダ87は、制御部63により動作が制御される。
The outer diameter of the mounting table 85 is set smaller than the inner diameter of the
移載装置100は、図1に示すように、一対の把持腕101,103を有する保持機構105を備える。一対の把持腕101,103のそれぞれの基部101a、103aは、それぞれ支持軸95に回動自在に嵌合する。また、一対の把持腕101,103の先端である把持部101b、103bは、一対の把持腕101,103が閉じたとき、略U字形の二又保持部を形成するようになっている。把持部101b、103bは、その上半部に光ディスクDの外径と同じ半径を有する大径部101c、103cが、また、下半部に該大径部101c、103cと同心の小径部101d、103dとが形成されている。そして、大径部101c、103cで光ディスクDの外周部の一部に当接すると共に、小径部101d、103dと大径部101c、103cとで形成された段部101e、103eで光ディスクDの外周部下面を係止するようになっている。
As shown in FIG. 1, the
把持腕101,103の基部101a、103aには、支持軸95に固定されて配設された開閉駆動部107が連結されており、一対の把持腕101,103をそれぞれ矢印E及びG方向、或いは矢印F及びH方向に回動させて一対の把持腕101,103を開いたり、又は閉じるようになっている。また、支持軸95は回転駆動部93に連結されており、回転駆動部93を駆動して、支持軸95、即ち、開閉駆動部107を揺動させて、該開閉駆動部107に連結されている一対の把持腕101,103(保持機構105)の全体を矢印KまたはL方向に揺動させる。保持機構105は、矢印K方向に回動したとき一対の把持腕101,103がトレイ81の上方、且つ載置台85の真上に位置し、矢印L方向に回動したとき一対の把持腕101,103がマスク板25と下降した吸着台13の中間位置、且つ吸着台13の真上に位置する。開閉駆動部107および回転駆動部93は、制御部63により動作が制御される。
An opening /
上記構成の搬送装置30の動作について、以下に詳細に説明する。
図3(a)〜(d)及び図4(e)〜(h)は光ディスクに塗布膜が形成され、乾燥装置に搬送される各工程を示す概略説明図、図5(a)〜(c)はディスク塗布装置により光ディスクに塗布液が塗布される各工程を示す斜視図、図6は表面に塗布された塗布膜が乾燥されてインク受理層が形成されて完成した光ディスクの平面図である。
The operation of the
3 (a) to 3 (d) and FIGS. 4 (e) to (h) are schematic explanatory views showing respective steps in which a coating film is formed on an optical disk and conveyed to a drying apparatus, and FIGS. 5 (a) to (c). ) Is a perspective view showing each step of applying the coating liquid onto the optical disc by the disc coating apparatus, and FIG. 6 is a plan view of the optical disc completed by drying the coating film applied on the surface to form an ink receiving layer. .
まず、ディスク塗布装置10による光ディスクDに対する塗布液49の塗布について説明する。図1及び図2に示すように、吸着台13が下限位置にあるとき、開閉駆動部107を駆動して一対の把持腕101,103を矢印E及びG方向に回動させて開くと共に、回転駆動部93を駆動して一対の把持腕101,103を矢印L方向に回動させて、開いた状態の一対の把持腕101,103をマスク板25の下方、且つ吸着台13の上方に位置させる。次いで、図3(a)及び図5(a)に示すように、吸着台13上に光ディスクDを載置して吸着固定した後、エアシリンダ23を作動して光ディスクDを上昇させ、これによりマスク板25を光ディスクD上に重ね合わる。このとき、一対の把持腕101,103は開いているので、光ディスクDの上昇を阻害することはない。
First, the application of the
そして、図5(b)に示すように、マスク板25上に塗布液49を供給しながら、マスク板25上方でブレード51を矢印X方向に相対移動することにより、塗布液49をマスク板25の開口27から露出する光ディスクDの塗布面57に塗布する。次いで、図3(b)及び図5(c)に示すように、エアシリンダ23を作動して吸着台13を下降(矢印B方向)させてマスク板25から光ディスクDを離反させる。
Then, as shown in FIG. 5B, while supplying the
光ディスクDが一対の把持腕101,103と同じ高さまで下降したときエアシリンダ23の下降動作を一時停止し、開閉駆動部107を駆動して一対の把持腕101,103をそれぞれ矢印F及びH方向に回動させて閉じ、大径部101c、103cで光ディスクDの外周部を囲むと共に、段部101e、103eに光ディスクDの外周部下面を係止して光ディスクDを水平状態に保持する(図3(c))。そして、図3(d)に示すように、再びエアシリンダ23を作動して吸着台13を更に下降(矢印B方向)させる。
When the optical disk D is lowered to the same height as the pair of gripping
ここで、図1に示すように、回転駆動部93を前述した方向とは逆方向に駆動して一対の把持腕101,103(保持機構105)を矢印K方向に回動させて、保持機構105により水平状態に保持された光ディスクDを搬送し、トレイ81の上方位置させる(図4(e))。このとき、保持機構105は、光ディスクDを水平面に対する角度±5°以下、更に好ましくは±2°以下の水平状態に維持したまま矢印K方向に回動して搬送するので、光ディスクDに塗布された未乾燥の塗布液49の液ダレが生じることはない。
Here, as shown in FIG. 1, the
そして、エアシリンダ87を駆動して載置台85を上昇させ(矢印I方向)、トレイ81の開口83より上方に突出させて、載置台85を光ディスクDの下面に当接させる(図4(f))。
Then, the
ここで、開閉駆動部107を駆動して一対の把持腕101,103をそれぞれ矢印E及びG方向に回動させて開き、光ディスクDを保持機構105から載置台85に受け渡す(図4(g))。続いて、エアシリンダ87を駆動して載置台85を矢印J方向に移動させてトレイ81より下方に下降させると、載置台85上に水平に係止されていた光ディスクDが、載置台85の下降途中においてトレイ81上に移載される(図4(h))。このようにしてトレイ81上に載置された光ディスクDは、トレイ81と共に図示しないコンベア装置等によって水平状態が維持されたまま、乾燥装置に搬送されて乾燥される。
Here, the opening /
上述した全ての工程は、光ディスクDが水平面に対する角度±5°以下、望ましくは±2°以下の水平状態に維持されて行われるので、光ディスクDが傾いて未乾燥状態の塗布液49が下方に流れたり、液ダレを生じることはなく、均一な膜厚を有するインク受理層79が形成される。
ここで、光ディスクDが水平面から±5゜を超える角度に傾斜した場合には、塗布液の表面性状が乱れ、膜厚の不均一が発生することが実験的に明らかになっている。
All the steps described above are performed while the optical disc D is maintained in a horizontal state at an angle of ± 5 ° or less, preferably ± 2 ° or less with respect to the horizontal plane, so that the
Here, it has been experimentally clarified that when the optical disc D is inclined at an angle exceeding ± 5 ° from the horizontal plane, the surface properties of the coating liquid are disturbed and the film thickness is nonuniform.
また、光ディスクDは、乾燥前に、例えば2分間程度水平状態で維持することにより、ブレード塗布時に発生した塗布方向に略平行なスジがレベリング効果により解消されるので、更に良好な表面性状を有し、均一の膜厚を有するインク受理層を形成することができる。更に、乾燥装置において、光ディスクDを冷却しながら乾燥するようにすれば、冷却により塗布液49の粘度が急速に大きくなるので、乾燥前に生じる液ダレの防止効果が大きい。
Further, the optical disc D is maintained in a horizontal state, for example, for about 2 minutes before drying, so that streaks that are substantially parallel to the coating direction generated during blade coating are eliminated by the leveling effect. In addition, an ink receiving layer having a uniform film thickness can be formed. Further, if the optical disk D is dried while being cooled in the drying apparatus, the viscosity of the
このようにして、図6に示すように、光ディスクDの外周縁にはマスク板25に覆われていたことで塗布液49の塗布されていない非塗布部71が形成され、光ディスクDの中央部にはマスクキャップ37が挿着されていたことで非塗布部69が形成されたインク受理層79を有する光ディスクDが製作される。なお、マスク板25の開口形状を適宜変更することにより、塗布部の形状は自由に変更することができる。
In this way, as shown in FIG. 6, the
なお、本発明に係る塗布膜付き基板の搬送装置は、前述した各実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形や改良等が可能である。例えば、本実施形態では、光ディスクを対象として塗布膜を形成したが、対象物はこれに限らず、厚膜を形成するものであれば種々の対象物に適用することができ、同様の効果を奏する。
また、上記説明において、保持機構105は開閉自在な一対の把持腕101,103を有するものとして説明したが、先端が固定二又状のアームを用いて光ディスクの側方から直線的に移動させて光ディスクの下面を係止して保持するようにしてもよい。
In addition, the conveyance apparatus of the board | substrate with a coating film which concerns on this invention is not limited to each embodiment mentioned above, A deformation | transformation, improvement, etc. are possible suitably. For example, in the present embodiment, the coating film is formed for the optical disk, but the object is not limited to this, and can be applied to various objects as long as it forms a thick film. Play.
In the above description, the
次に、塗布膜付き基板の搬送装置の実施例を説明する。
ここでは、光ディスクDの水平面に対する角度を、図7(a),(b),(c)に示すように定義する。即ち、図1におけるL,K方向をθ方向とし、ディスクDの半径方向をr方向とする。r方向では円弧軌道の外側が高くなる傾斜をチルト角が正(プラス)とし、θ方向ではディスクDの進行方向前側が高くなるチルト角を正(プラス)とする。
Next, an example of a transfer device for a substrate with a coating film will be described.
Here, the angle of the optical disk D with respect to the horizontal plane is defined as shown in FIGS. 7 (a), (b), and (c). That is, the L and K directions in FIG. 1 are the θ direction, and the radial direction of the disk D is the r direction. In the r direction, the tilt angle where the outside of the circular arc trajectory becomes higher is positive (plus), and in the θ direction, the tilt angle where the front side of the disk D in the traveling direction becomes higher is positive (plus).
実施例1〜3は、θ方向への搬送速度を100mm/secとし、ディスクDのθ方向に直交する半径方向に対するディスク面と水平面とのなす角(チルト角r)と、ディスクDの搬送方向に対するディスク面と水平面とのなす角(チルト角θ)を0゜〜5゜の範囲とした場合である。このときは、いずれも液ダレなく良好に搬送できた。
比較例1,2は、θ方向への搬送速度を同じく100mm/secとし、チルト角rとチルト角θが±5゜の範囲を超えた場合であって、いずれも液ダレを生じた。
In Examples 1 to 3, the transport speed in the θ direction is 100 mm / sec, the angle (tilt angle r) between the disk surface and the horizontal plane with respect to the radial direction perpendicular to the θ direction of the disk D, and the transport direction of the disk D In this case, the angle (tilt angle θ) formed by the disk surface and the horizontal surface with respect to the angle is set in the range of 0 ° to 5 °. At this time, all of them could be transported satisfactorily without dripping.
In Comparative Examples 1 and 2, the conveyance speed in the θ direction was set to 100 mm / sec, and the tilt angle r and the tilt angle θ exceeded the range of ± 5 °.
また、実施例4,5は、θ方向への搬送速度を250mm/secとし、チルト角rとチルト角θを0゜〜−5゜の範囲とした場合である。このときは、いずれも液ダレなく良好に搬送できた。
比較例3は、θ方向への搬送速度を250mm/secとし、チルト角rとチルト角θが0゜〜−5゜の範囲を超えた場合であって、液ダレを生じた。さらに、比較例4は、θ方向への搬送速度を400mm/secとし、チルト角rとチルト角θが0゜〜±5゜の範囲を超えた場合であって、搬送時にディスク外周側に液の偏りが発生した。
In Examples 4 and 5, the conveyance speed in the θ direction is 250 mm / sec, and the tilt angle r and the tilt angle θ are in the range of 0 ° to −5 °. At this time, all of them could be transported satisfactorily without dripping.
In Comparative Example 3, the conveyance speed in the θ direction was 250 mm / sec, and the tilt angle r and the tilt angle θ exceeded the range of 0 ° to −5 °. Further, Comparative Example 4 is a case where the transport speed in the θ direction is 400 mm / sec, and the tilt angle r and tilt angle θ exceed the range of 0 ° to ± 5 °. The bias was generated.
以上のように、チルト角rとチルト角θを0゜〜±5゜の範囲とすることで、液ダレ等の不具合を生じない良好な搬送が行えた。 As described above, when the tilt angle r and the tilt angle θ are in the range of 0 ° to ± 5 °, satisfactory conveyance without causing problems such as liquid dripping can be performed.
10 ディスク塗布装置(塗布装置)
30 搬送装置
41 塗布液供給部
49 塗布液(塗布膜)
81 トレイ
83 開口
90 リフタ
100 移載装置(移載手段)
105 保持機構
D 光ディスク(平面基板)
10 Disc coating device (coating device)
30 Conveying
81
105 Holding mechanism D Optical disk (planar substrate)
Claims (2)
前記平面基板を水平面に対する角度が±5°以下の水平状態に維持したまま、前記塗布装置から前記平面基板を取り出し、前記乾燥装置に配設されたトレイに移載する移載手段を備えたことを特徴とする塗布膜付き基板の搬送装置。 To a drying apparatus that applies a coating liquid supplied from a coating liquid supply unit of a coating apparatus onto a flat substrate to form a coating film on the flat substrate, and then places the flat substrate on a tray to dry the coating film A transport device for a substrate with a coating film to be transported,
Transfer means for taking out the flat substrate from the coating apparatus and transferring it to a tray disposed in the drying apparatus while maintaining the flat substrate in a horizontal state with an angle with respect to a horizontal plane of ± 5 ° or less. The board | substrate conveying apparatus with a coating film characterized by these.
前記移載手段が、
前記塗布膜が形成された前記平面基板の外周部下面を係止して前記平面基板を水平状態に保持し、前記塗布装置から前記乾燥装置に搬送する保持機構と、
前記トレイの開口から出没自在とされて前記トレイの下方に配設され、前記開口から上方に突出する上昇途中で前記保持機構に保持された前記平面基板を前記保持機構から受け取り、前記開口から下方に引き込む下降途中で前記平面基板を前記トレイに載置させるリフタと、を備えたことを特徴とする請求項1記載の塗布膜付き基板の搬送装置。 The tray has an opening to lock the lower surface of the outer periphery of the planar substrate,
The transfer means is
A holding mechanism that holds the flat substrate in a horizontal state by locking the lower surface of the outer periphery of the flat substrate on which the coating film is formed, and transports the flat substrate from the coating device to the drying device;
The flat substrate held by the holding mechanism is received from the holding mechanism while being raised and lowered from the opening of the tray and is arranged below the tray and is projected upward from the opening. The substrate transfer apparatus with a coating film according to claim 1, further comprising: a lifter for placing the planar substrate on the tray in the middle of being lowered into the tray.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005044212A JP2006228382A (en) | 2005-02-21 | 2005-02-21 | Conveying device of substrate with coated film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005044212A JP2006228382A (en) | 2005-02-21 | 2005-02-21 | Conveying device of substrate with coated film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006228382A true JP2006228382A (en) | 2006-08-31 |
Family
ID=36989614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005044212A Pending JP2006228382A (en) | 2005-02-21 | 2005-02-21 | Conveying device of substrate with coated film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006228382A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016123964A (en) * | 2015-01-08 | 2016-07-11 | エムテックスマート株式会社 | Coating method |
-
2005
- 2005-02-21 JP JP2005044212A patent/JP2006228382A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016123964A (en) * | 2015-01-08 | 2016-07-11 | エムテックスマート株式会社 | Coating method |
WO2016111095A1 (en) * | 2015-01-08 | 2016-07-14 | エムテックスマート株式会社 | Coating method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW432520B (en) | Photoresist coating method and apparatus | |
JP5591982B2 (en) | Coating apparatus and method for manufacturing coated body | |
KR20020081118A (en) | Substrate processing unit | |
US6379103B1 (en) | Substrate transfer apparatus | |
JPH1076206A (en) | Thin film forming apparatus | |
KR20160019370A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP2006297241A (en) | Slit coater and coating system using it | |
KR20130111181A (en) | Film forming apparatus and film forming method | |
JP4644726B2 (en) | Coating device | |
WO2006090583A1 (en) | Carrying device, recording device, and carrying method | |
JP5611112B2 (en) | IMPRINT SYSTEM, IMPRINT METHOD, PROGRAM, AND COMPUTER STORAGE MEDIUM | |
KR20120055957A (en) | Roll printing device | |
JP2006228382A (en) | Conveying device of substrate with coated film | |
JPH11254374A (en) | Substrate carrying hand, substrate carrying method, and device and method for manufacturing color filter | |
TW440923B (en) | Coating film forming method and coating apparatus | |
JP4351321B2 (en) | Substrate coating device | |
JP2004298775A (en) | Applicator and application method | |
JP2002153801A (en) | Table type coating equipment | |
JPH10202163A (en) | Base holding member and application device | |
WO2012060217A1 (en) | Method for modifying surface of substrate, computer storage medium, and device for modifying surface of substrate | |
JP2006198475A (en) | Blade coating method and disk coating method using this | |
JP3720906B2 (en) | Substrate holding member and coating apparatus | |
TW469508B (en) | Coating apparatus and coating method | |
JP2002166209A (en) | Film forming device | |
JP2011178078A (en) | Screen printer, and method for conveying and releasing article to be printed |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20061124 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 |