JP2006218677A - インクジェットヘッドの製造方法、ヒータボード及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ローコストのインクジェットヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く流路と、該流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する少なくとも1つの吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されるインクジェットヘッドの製造方法として、前記インクジェットヘッドを作製する際に使用されるアライメントマークが、最終的に前記供給口が形成される領域に配置されていることを特徴とする。
【選択図】図7
【解決手段】外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く流路と、該流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する少なくとも1つの吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されるインクジェットヘッドの製造方法として、前記インクジェットヘッドを作製する際に使用されるアライメントマークが、最終的に前記供給口が形成される領域に配置されていることを特徴とする。
【選択図】図7
Description
本発明は、インクジェットヘッドの製造方法、並びにインクジェットヘッド用ヒータボード及びその製造方法に関する。
サーマルインクジェットヘッドは、基板上に圧力発生素子であるヒータが配置されたヒータボード、ノズル、流路等から構成される。ヒータボードは一般的に半導体製造技術によりシリコン基板に作製される。
一般的な半導体製造のフォトリソ工程では、プロジェクションアライナや、縮小投影露光装置(ステッパ)を用いて、所望レイヤーの所望のパタンを半導体基板上に形成している。
これらのパタン形成時には、半導体基板上に付けられたアライメントマークを用いて、異なったレイヤーのアライメント(位置合わせ)を行っている。
ステッパやプロジェクションアライナで用いられる、画像処理によるアライメントマーク領域は、幅が50μm〜80μmもあれば良く、チップの収率、集積度等に影響を与えないように、チップ内には配置せず、スクライブラインに入れる方法が一般的である。
図1に従来のアライメントマークの配置を示す。図1では、ステッパを用いた時のアライメントマークの配置形態例を示した模式図である。
図1において、1はシリコン基板、2はダイシング後、1つのヒータボードとなるチップ領域、3はダイシングにより削り取られるスクライブ領域、4はアライメントマーク、5はステッパの1回の露光で露光される1ショット領域である。図1では1ショットで、3個のチップを露光する場合を示している。
図2にステッパによる露光の方法を説明するための模式図を示す。図2において図1と同一の符号は、同一のものを示す。
図2に示したように、図1に示したシリコン基板は、8回の露光を繰り返し作製される。各回の露光では、前記アライメントマークを用いてシリコン基板に対して新たに露光されるパタンがアライメントされる。
アライメントマークは、前述のように、スクライブ領域に配置される。アライメントマークはアライメント精度を上げるため、図1に示したように1ショット領域5の周囲の、異なった2箇所の辺に配置される場合が多く、一方が1ショット領域のX方向の辺に配置され、他方がY方向の辺に配置される場合が多い。このようにアライメントマークを配置することにより、X方向Y方向共に精度良くアライメントすることが可能となる。
インクジェットヘッドのコストダウンのためには、ヒータボードのコストダウンが望まれる。ヒータボードのコストダウンを実現する1つの方法として、1枚のシリコン基板から得られるチップの収量を上げる方法がある。
これを実現する方法として、スクライブ領域の幅を小さくする方法がある。
現在でのスクライブ領域の幅は一般的には50μm〜80μmである。この領域を、回転式の刃(ブレード)を持ったダイサーで削り個々のチップにする方法が一般的である。
これに対して、ブレードの幅を小さくする、或はレーザー等を用いて、スクライブ領域の幅を小さくすることが試みられている。
これらの方法により、スクライブラインの幅は、30μm以下、場合によっては殆ど0μmにすることができる。
近年のヒータボードでは、印字速度を上げるために印字幅は大きく設定する場合が多く、チップの長辺は10mm〜30mmと比較的大きいチップサイズであるのに対し、コストダウンのためにチップ面積の縮小を行い、収量を増やしているため、チップの短辺は、3mm〜1mmと小さいサイズになっている。このようにチップ短辺のサイズが小さくなっているため、スクライブ幅のサイズを小さくすることが収量の増加に有効である。
例えば、6インチのシリコン基板サイズで、チップサイズが30mm×1.2mmのヒータボードを作製した場合、スクライブ領域の幅が80μmでは、チップ収量は288個であるのに対し、スクライブ幅を30μmすると、チップ収量は312個と、約1割多くすることができる。
以上に説明したように、チップのコストダウンのためには、スクライブ領域の幅を小さくすることが望まれる。
しかしながら、従来のアライメントマーク配置方法ではアライメントマークをスクライブ領域に配置するため、スクライブ領域の幅を小さくするとアライメントマークがスクライブ領域に配置できなくなるという問題があった。
又、アライメントマークをチップ内に配置すると、チップサイズの縮小に悪影響を与える問題があった。
本発明はこのような課題を解決するもので、その目的とする処は、ローコストのインクジェットヘッドの製造方法を提供することである。
本発明の他の目的は、1枚の半導体基板からより多くのチップを採ることができるインクジェットヘッド用ヒータボード及びその製造方法を提供することにある。
本発明のインクジェットヘッドは、ヘッドを構成するヒータボード作製において、半導体プロセスに用いるアライメントマークが、ヒータボードチップ内で、且つ、最終的には除去される領域中に配置されることを特徴とする。
本発明によれば、アライメントマークを最終的に除去する領域に作製するため、アライメントマークをチップ内に配置してもチップ面積を増大させることがない。又、本発明により、チップ面積を増大させることなく、スクライブ領域の幅を狭くすることができ、チップの収量を上げることができる。従って、本発明により、ローコストのインクジェットヘッドを得ることができる。
以下に、本発明のインクジェットヘッドの製造方法に関して、より詳しく説明する。尚、ここに示す実施の形態は、本発明の最良の実施の形態の一例ではあるものの、本発明は、これら実施の形態により限定されるものではない。
<実施の形態1>
図3は本発明に係るインクジェットヘッドの構造の模式図である。
図3は本発明に係るインクジェットヘッドの構造の模式図である。
図3はインクジェットヘッドをヒータが配置された面から見た平面図である。図3において、2はチップ、6はTaN、TaSiN、TaAl等から成るヒータ、7はチップ裏面に設けたインクタンク(不図示)から、チップ表面にインクを導くための供給口である。図3にはヒータ6及び供給口7のみを示した。
図4にインクジェットヘッドの模式図を示す。図4は図3中のA−A’線での断面図である。
図4において、1はシリコン基板、6はヒータ、7は供給口、8は絶縁膜、9は保護膜、10はTa等から成る耐キャビテーション膜、11は基板裏面の絶縁膜、12はノズル材、13はノズル、14は流路である。
絶縁膜8及び11は、シリコン基板を熱酸化して作成される熱酸化膜、或はCVDにより作成される酸化膜若しくはは窒化膜等の何れの膜でも良い。
保護膜9は、CVDにより作成される酸化膜又は窒化膜等、何れの膜でも良い。
ノズル13及び流路14を形成しているノズル材12の形成は、予めノズル及び流路を有したノズル材を半導体基板に貼り付けても良く、半導体プロセスで用いられているフォトリソグラフィー技術を用いて形成しても良い。
ヒータ6の両端にはアルミニウム等から成る配線(不図示)が接続され、該配線を介してヒータ6両端に所望の電圧パルスが印加される。
インクは、基板裏面から図5に示したように、供給口7を通って基板表面に導かれ、流路14を通りノズル13まで導かれる。ヒータ6の両端に所望の電圧パルスが印加されると、ヒータ近傍のインクが過熱されて膜発泡を起こし、インクは図5に示したように吐出する。
供給口7は、例えば水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)溶液を用いたシリコンの異方性エッチングにより作製される。この場合、図4に示したように、基板表面に対して約54.7°の角度で傾斜して開口する。
供給口7は、シリコンのドライエッチングや、サンドブラスト等で作製しても良く、この場合供給口7の形状は、図6に示したように、基板表面に対してほぼ垂直な形態で開口する。
インクジェットヘッドは、チップ内にヒータを駆動するための半導体素子を備えても良く、チップ内には半導体素子を備えず、チップ外部から入力される電気信号を伝達する配線及びヒータのみで構成されても良い。
次に、本発明の特徴であるアライメントマークの配置方法に関して詳しく説明する。
図7にノズル及び流路の形成を行う前のヒータボードの形態を示す。
図7において、2はチップ、4はアライメントマーク、6はヒータ、15は最終的に供給口7となる領域を示す。又、アライメントマーク4の詳細な形状の一例を16に示した。
図8に図7中B−B’で示した線での断面図を示す。
図8では絶縁膜8と保護膜9の間にアライメントマーク4を配置した場合を示した。このような層に作られるアライメントマークとして、アルミニウム等の配線の形成と同一の工程で作られるアライメントマークがある。アルミニウムのアライメントマークを用いてアライメントされるレイヤー(材料)としては、ヒータ6、耐キャビテーション膜10、パッドの開口部(不図示)等がある。
又、他の形態のアライメントマークとしては、例えばシリコン表面に付けられるアライメントマークがある。シリコン表面に付けられるアライメントマークを用いてアライメントされるレイヤー(材料)として配線、半導体素子形成時の拡散層等がある。
図7及び図8で示したように、本発明ではアライメントマークを最終的には供給口となる領域に配置している。供給口形成時に、この領域のシリコン基板1、絶縁膜8、保護膜9等の材料はエッチング除去される。供給口の形成はヘッド作製の最終工程の近傍で行われるために、それまでの工程では、この場所にアライメントマークを配置しても何ら問題は生じない。
又、このように最終的にエッチング除去される領域にアライメントマークを配置しているため、チップ内にアライメントマークを配置しているにも拘らず、チップ内に配置されている配線、素子等の他のレイアウトに影響を与えず、チップサイズの増大を引き起こすこともない。
図9に、本発明により、ステッパの1ショット内でのアライメントマークの配置方法の一例を示す。図9には1ショットで3チップを作製する場合について示した。
図9に示したように、本発明においても1ショット中に2つのアライメントマークを(異なった向きで)配置することができ、前記したようにアライメント精度を高くすることができる。
次に、本発明のインクジェットヘッドの作製方法について説明する。
一般的な半導体製造プロセスにより、(100)面を表面に持つシリコン基板1(厚さ625μm)を用い、所望の位置に所望の形状でヒータ6、耐キャビテーション膜10、アライメントマーク4及び配線(不図示)を形成し、先に図8に示した構造のヒータボードを得た。この際、必要であれば、所望の位置に半導体素子を形成しても良い。
次に、流路型材17を塗布及びパターニングして、図10−aに示した構造を得た。
次に、ノズル材12を塗布し、更に所望の部分をパターニングし、ノズル13を形成した(図10−b)。
次に、所望の部分の、基板裏面の酸化膜11をパターニング、除去し、図10−cに示した構造を得た。
次に、前記基板裏面の酸化膜11をマスクとし、前記ノズル13が形成されたシリコン基板をTMAH水溶液中で、温度83℃にて980分異方性エッチングを行い、所望の部分のシリコンを除去した。この際、基板表面は保護膜(不図示)を塗布し、TMAH水溶液がノズル材12に触れないように保護した(図10−d)。
次に、CF4,CL2等のガスを用いたドライエッチングで、絶縁膜8、保護膜9等を除去した(図10−e)。
以上一連の工程で、供給口7が形成され、この際、この部分に配置されていたアライメントマークは除去される。
最後に、流路型材17を除去し、図4に示したインクジェットヘッドを得た。
<実施の形態2>
図11に本発明の実施の形態2を示す。実施の形態1では供給口7を異方性エッチングによって形成したが、実施の形態2では供給口7をドライエッチングで形成した。又、実施の形態1では、ノズル13及び流路14をフォトリソグラフィー技術を用いて作製したが、本実施の形態では、予めノズル及び流路を有したノズル材を半導体基板に貼り付けて作製した。
図11に本発明の実施の形態2を示す。実施の形態1では供給口7を異方性エッチングによって形成したが、実施の形態2では供給口7をドライエッチングで形成した。又、実施の形態1では、ノズル13及び流路14をフォトリソグラフィー技術を用いて作製したが、本実施の形態では、予めノズル及び流路を有したノズル材を半導体基板に貼り付けて作製した。
図8に示した構造のヒータボードの裏面酸化膜11の所望の部分をエッチングし除去した(図11−a)。
次に、酸化膜をマスクとして、SF6 ,C4F8等のガスを用いたドライエッチングにより所望の部分のシリコン1を除去した(図11−b)。
次に、CF4,CL2等のガスを用いたドライエッチングで、絶縁膜8、保護膜9等を除去した(図11−c)。
以上一連の工程で、供給口7が形成され、この際、この部分に配置されていたアライメントマークは除去される。
最後に、予めノズル及び流路を有したノズル材を、前記供給口の形成されたヒータボードに貼り付けて、図6に示したインクジェットヘッドを得た。
1 シリコン基板
2 チップ
3 スクライブ領域
4 アライメントマーク
5 1ショット領域
6 ヒータ
7 供給口
8 絶縁膜
9 保護膜
10 耐キャビテーション膜
11 絶縁膜
12 ノズル材
13 ノズル
14 流路
15 最終的に供給口が形成される領域
16 アライメントマーク
17 流路型材
2 チップ
3 スクライブ領域
4 アライメントマーク
5 1ショット領域
6 ヒータ
7 供給口
8 絶縁膜
9 保護膜
10 耐キャビテーション膜
11 絶縁膜
12 ノズル材
13 ノズル
14 流路
15 最終的に供給口が形成される領域
16 アライメントマーク
17 流路型材
Claims (6)
- 外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く流路と、該流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する少なくとも1つの吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されるインクジェットヘッドの製造方法であって、
前記インクジェットヘッドを作製する際に使用されるアライメントマークが、最終的に前記供給口が形成される領域に配置されていることを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - 前記アライメントマークが、前記供給口形成時に除去されることを特徴とする請求項1記載のインクジェットヘッドの製造方法。
- 外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く流路と、該流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する少なくとも1つの吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されるインクジェットヘッドの作製に用いられるヒータボードであって、
前記インクジェットヘッドを作製する際に使用されるアライメントマークが、最終的に前記供給口が形成される領域に配置されていることを特徴とするヒータボード。 - 前記アライメントマークが、前記供給口形成時に除去されることを特徴とする請求項3に記載のヒータボード。
- 外部から液体が供給される供給口と、該液体を吐出する吐出口と、該吐出口に連通し、前記供給口から供給された前記液体を前記吐出口へと導く流路と、該流路の一部に設けられた、前記液体を吐出するための圧力を発生する少なくとも1つの吐出圧力発生部とを有し、前記供給口が、前記吐出圧力発生部を構成する吐出圧力発生素子が形成された基板に貫通口として形成されるインクジェットヘッドの作製に用いられるヒータボードの製造方法であって、
前記インクジェットヘッドを作製する際に使用されるアライメントマークが、最終的に前記供給口が形成される領域に配置されていることを特徴とするヒータボードの製造方法。 - 前記アライメントマークが、前記供給口形成時に除去されることを特徴とする請求項5記載のヒータボードの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005032749A JP2006218677A (ja) | 2005-02-09 | 2005-02-09 | インクジェットヘッドの製造方法、ヒータボード及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005032749A JP2006218677A (ja) | 2005-02-09 | 2005-02-09 | インクジェットヘッドの製造方法、ヒータボード及びその製造方法 |
Publications (1)
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JP2006218677A true JP2006218677A (ja) | 2006-08-24 |
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ID=36981311
Family Applications (1)
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JP2005032749A Withdrawn JP2006218677A (ja) | 2005-02-09 | 2005-02-09 | インクジェットヘッドの製造方法、ヒータボード及びその製造方法 |
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- 2005-02-09 JP JP2005032749A patent/JP2006218677A/ja not_active Withdrawn
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