JP2006203192A - 強度積分を計算する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のシステムは照明光学系、光機械式補正システム、コントラスト装置、投影光学系およびこの投影光学系に接続された補正モジュールを有する。補正システムはフィンガのような調整可能部材を含む。補正モジュールは、部材への調整を決定して均一性を補正するように構成されている。連続の強度積分を離散化する方法も提供される。照明スロットは複数のグリッド点を有するグリッドに分割される。つぎに「ひとみ」はグリッドに重ね合わされる。複数の第2グリッドも定められる。各「ひとみ」は第2グリッドにマッピングされ、第2グリッド中心と「ひとみ」中心とが一致する。つぎに連続の強度積分が、第1のグリッド、複数の第2グリッドおよび「ひとみ」マッピングの使用により、離散化される。
【選択図】図1
Description
慣用のリソグラフィシステムには、受光したレーザビームの均一な強度分布を形成する照明システムも含まれている。ここでは結果的に得られる照明ができる限り均一であり、かつ均一性についての任意のエラーができる限り最小に維持されることが望ましい。照明の均一性は、露光フィールド全体にわたって照明システムが均一な線幅を形成する能力に影響を与える。照明の均一性エラーは、そのリソグラフィシステムによって作製されるデバイスの品質に重大な影響を与えてしまうのである。
本発明は、補正システムを調整することによって均一性補正を行い、定められた均一性ついての仕様を満たすと共に、選択される一連の制約を最小化する均一性補正のためのシステムおよび方法に関する。また本発明は、連続的な強度積分を離散化する方法に関する。
図1には本発明の1実施形態によるリソグラフィシステム100の例が説明されている。1実施形態においてリソグラフィシステム100は、レチクルまたはマスクを使用するシステムである。択一的な実施形態ではシステム100はマスクレスリソグラフィシステムである。
図4には本発明の1実施形態にしたがい、補正システム120の1つ以上の変数または自由度の調整を決定して、均一性に対する仕様が満たされるようにする手順400のフローチャートが示されている。手順400は、それぞれの調整可能な変数および/または自由度が強度に与える影響を表すマップが形成されると、ステップ410において開始される。例えば、補正システムが照明スロット内で移動可能な複数の補正要素を含む場合、クロススキャン座標の範囲にわたる減衰または強度に対して、補正要素の挿入をマッピングすることができる。ステップ410は、未補正均一性プロフィールに依存しないため、これはオフラインで実行することができ、しかもリソグラフィツールの初期化の前であっても実行可能である。
図21には本発明の実施形態にしたがい、各調整可能部材が強度に与える影響(ステップ410)を表すマップを形成する手順2100のフローチャートが示されている。手順2100は、マップ形成のためのプロシージャが選択された場合にステップ2110で開始される。プロシージャ1が選択される場合、処理はステップ2120に進む。プロシージャ2が選択される場合、処理は2130に進む。1実施形態では補正モジュール170によって両方のプロシージャがサポートされ、上記の選択を設定することができる。択一的な実施形態では補正モジュール170により、ただ1つのプロシージャしかサポートされない。
以下の項では、照明スロット内で移動可能な補正要素を使用した、補正システムに対するステップ410を一層詳しく説明する。これらの例においてステップ410では、未補正均一性プロフィールとは無関係に、各補正要素がどの程度均一性に影響を与えるかを補正モジュールによって計算する。補正要素の較正を行うため、このシステムにより、「ひとみ」から、「ひとみ」ビットマップと称される「ひとみ」グリッドへのマッピングと、照明スロットグリッドの座標と、スロットにおけるフィンガ位置が使用される。ここで使用される「ひとみ」とは補正面におけるビームの束の底面のことである。このビームの束は、画像面において1点に集束する。この集束点と上記の補正面との間には光学系を存在しない。
図5A,5Bおよび5Cには、本発明の1実施形態にしたがい、傾斜のない両側構成を有する補正システム120においてフィンガを較正する手順500のフローチャートが示されている。説明を容易にするため、引き続き図2Aおよび2Bに示した実施形態に基づいて図5を説明する。
図6には本発明の1実施形態にしたがって、補正要素がセグメント化されて構成された補正システム120において、フィンガを較正する手順800のフローチャートが示されている。説明を容易にするため、引き続き図3に示した実施形態に基づいて図6を説明する。しかしながら図6はこれらの実施形態には制限されない。
図7には本発明の1実施形態にしたがい、クロススキャン軸において強度の積分を計算する手順700のフローチャートが示されている。
説明を容易にするため、図8Aに示した照明グリッドに基づいて強度積分を述べる。図8Aに示した照明スロットグリッド820に対して、xおよびyにより、クロススキャン方向およびスキャン方向にグリッド820をそれぞれ定めるとする。さらにuおよびvを「ひとみ」グリッドの座標とする。グリッド820の各(x,y)座標における強度はつぎの式(1)、すなわち、
Jikは、i番目の調整可能部材の影響を受けた、akにおけるすべての「ひとみ」のインデックスである(すなわち調整可能部材「i」は、ji∈Jikなる(ak,bji)を中心とする「ひとみ」の少なくとも1つのピクセルを覆う)。表記を簡単にするため、「ひとみ」からなるこの集合は、(ak,bJik)を中心とする複数の「ひとみ」と記される。また
J*ikは、i番目の調整可能部材の影響を受けていない、akにおけるすべての「ひとみ」のインデックスである(すなわち調整可能部材「i」は、ji∈J*ikなる(ak,bji)を中心とする「ひとみ」はいずれのピクセルも覆っていない)。表記を簡単にするため、「ひとみ」からなるこの集合は、(ak,bJ*ik)を中心とする複数の「ひとみ」と記される。
O*ik,P*ikは、調整可能部材「i」によって覆われない(cJ*ik,k o,dJ*ik,k p)を中心とする「ひとみ」のすべてのピクセルに対するインデックスである。
図10は、調整可能部材として複数のフィンガを使用する補正システムに対して、以下の式(7a)の構成要素を示す図である。図10には、両側にフィンガが構成された均一性補正システムの区画1000が示されている。斜線をつけたエリアにより、以下の式(7a)で使用されるインデックスの集合が決定される。エリア1010は、フィンガ「i」によって覆われる特定の「ひとみ」ビットマップのピクセルからなる集合に相応する。エリア1020は、フィンガ「i+1」によって覆われる「ひとみ」ビットマップのピクセルからなる集合に相応する。エリア1030は、フィンガ「i+1」によって覆われ得る「ひとみ」ビットマップのピクセルからなる集合に相応する。
式(7)は、傾斜していないセグメント形構成の例に対して単純化することができる。この構成において、挿入されるフィンガにより、照明スロット全体が覆われ、またこのフィンガは移動できない。したがって、すべての集合J*ik,O*ikおよびP*ikは空であり、Jik = J∀i, kである。この構成ではフィンガは移動しないため、Ti(Fi) ≡ Tiである。この場合に式(7)はつぎのように書き表すことができる。すなわち
Ξ = Y*M*T (8b)
であり、
ここで
Ξは、式(8b)で定められる補正均一性プロフィール
Yは、式(8b)で定められるスケーリング行列
Mは、各要素が、各フィンガによって覆われ得る各「ひとみ」のピクセルの総和に等しい行列
Tは、フィンガ伝達率のベクトル
である。
手順500のステップ555において、フィンガ変位データに対する、正規化された強度のマッピングが形成される。フィンガが回転されていない両側対向フィンガの1実施例において、式(7b)における括弧のすべての表現が「ホーム」からのフィンガ変位の関数としての7次の多項式を使用して当てはめるられることが実験的に決定されている。ホームポジションからのフィンガ「i」の変位をδFiとする。この時、式(7b)は、すべてのクロススキャンサンプル座標に対してつぎのように書き直すことができる。すなわち、
ξk =υk*[Ψk1(δF1)+Ψk2(δF2)+…+ΨkN(δFN)] (9a)
Ξ = Y*Ψ(ΔF)
であり、ここで
図22には本発明の1実施形態にしたがって、1つ以上の変数または自由度の調整値を最適化する手順2200のフローチャートが示されている。手順2200は、所望の補正均一性が初期化されると、ステップ2205で開始される。ステップ2205では調整可能部材が強度に与える影響のマップが変更されて、目下の未補正強度プロフィールが得られる。
以下の項では、補正要素として複数のフィンガを使用する補正システムに対する調整値を決定する手順の例を説明する。2.3.1.1項では両側構成に使用されるフィンガ位置計算の手順を説明する。2.3.1.2項ではセグメント形構成に使用されるフィンガ伝達率計算の手順を説明する。
図11Aおよび11Bには本発明の1実施形態により、両側構成の補正システム120においてフィンガ位置を計算する手順1100のフローチャートが示されている。説明を容易にするため、引き続き図2Aおよび2Bに示した実施形態に基づいて図11を説明する。しかしながら図11はこれらの実施形態には制限されない。
図12Aおよび12Bには本発明の1実施形態により、セグメント形構成を有する補正システム120においてフィンガ位置を計算する手順1200のフローチャートが示されている。説明を容易にするため、引き続き図3に示した実施形態に基づいて説明する。しかしながら図12はこれらの実施形態には制限されない。図12のフローチャートの一部は、セグメント形構成および両側構成の両方に対して同じである。説明を容易にするため、セグメント形構成に対する手順を別個に説明する。当業者にはわかるように手順1200は手順1100と組み合わせることができる。
上記の補正システムの自由度および/または調整可能な変数に対する値は、最小2乗適合化アルゴリズムを使用して決定される。この手順は、すべてのタイプの均一性補正システムに使用される。
1実施形態ではCWLS(制約重み付け最小2乗 Constraint weighted Least Square)アルゴリズムが使用されて上記の調整値が計算される。式10,10aおよび10bは、本発明の1実施形態において使用可能なCWLS式の例である。1実施形態では必要なだけの任意の個数の制約と、任意の個数の重み付けを使用可能である。
以下の項では本発明に使用可能な制約の例を説明する。当業者にはわかるように別の制約を使用することができる。
1実施形態において関数f1(X)は光損失の制約である。調整可能部材としてフィンガが使用される場合、セグメント形のケースにおいてフィンガの伝達率を最大化することにより、または両側構成のケースにおいて移動量を最小化することによって光損失は最小化される。この場合、
上記の調整可能部材が複数のフィンガである場合、関数f2(X)は、隣り合うフィンガの変位(または伝達率)における差分にペナルティを課す制約である。
| 側1 | 側2 |
1 -1 0 0 0 0 0 0
0 1 -1 0 0 0 0 0
0 0 1 -1 0 0 0 0
0 0 0 0 1 -1 0 0
0 0 0 0 0 1 -1 0
0 0 0 0 0 0 1 -1
1 0 -1 0 0 0 0 0
0 1 0 -1 0 0 0 0
0 0 0 0 1 0 -1 0
0 0 0 0 0 1 0 -1
である。
P(X) → Xn = p4*φn 4 + p2*φn 2 +p0 (13e)
n = 1,2,3,…,N
であり、ここで
Xnは、n番目のフィンガの伝達率または変位であり、
φnは、クロススキャン方向におけるn番目のフィンガの中間位置であり、
pvは、クロススキャン方向においてフィンガ位置に対するフィンガ変位(または伝達率)に適合された多項式の係数である。
1実施形態において関数f3(X)はフィンガ変位にペナルティを課す制約であり、これによってクロススキャン方向における楕円性の影響が最小化される。この制約は、両側構成に対してのみ適用可能である。1実施形態ではこの制約は、この制約に対して記憶された値にアクセスすることによって決定される。例えば、これらの値は補正モジュールの記憶装置に記憶することができる。択一的な実施形態ではこの制約は、照明モードおよびフィンガ位置に依存して関数に基づいて決定される。
1実施形態において関数f4(X)は、対向するフィンガの移動量の差分にペナルティを課す制約である。この制約は、両側構成に対してのみ適用可能である。
| 側1 | 側2 |
1 0 0 0 -1 0 0 0
0 1 0 0 0 -1 0 0
0 0 1 0 0 0 -1 0
0 0 0 1 0 0 0 -1
である。
| 側1 | 側2 |
0.5 0.5 0 0 -0.5 -0.5 0 0
0 0.5 0.5 0 0 -0.5 -0.5 0
0 0 0.5 0.5 0 0 -0.5 -0.5
である。
fΔ(ΔF) = G*ΔF (14)
によって得られる。
利得の選択を誤って式(10),(10a)および(10b)に制約最小2乗アルゴリズムを適用すると、均一性プロフィールも、すべての制約も共に等しく最小化される傾向がある。補正均一性プロフィールが仕様を満たすと共に不所望の影響が最小化される重みW1,W2,W3,…,WNに対する「正しい」値は一意ではなく、アプリオリに決定することはできない。2.4項に示したアルゴリズムでは、初期値が使用され、また達成され補正均一性と所望のプロフィールとの偏差の関数として重みの値が、繰り返し低減される。
以下の項では本発明に使用可能な重みの例が示されている。当業者にはわかるように別の重みを使用可能である。
2.4.2.1 両側構成
図13Aおよび13Bには本発明の1実施形態にしたがい、両側構成を有する補正システム120においてCWLS(constraint weighted least square)アルゴリズムを使用してフィンガ位置を計算する手順1300のフローチャートが示されている。説明を容易にするため、引き続き図2Aおよび2Bに示した実施形態に基づいて図13を説明する。しかしながら図13はこれらの実施形態には制限されない。
図14には本発明の1実施形態にしたがい、セグメント形構成を有する補正システム120において、CWLS(constraint weighted least square)アルゴリズムを使用して、フィンガ位置を計算する手順1400のフローチャートが示されている。説明を容易にするため、引き続き図3に示した実施形態に基づいて図14を説明する。しかしながら図14はこれらの実施形態には制限されない。
状況によっては所望の補正均一性プロフィールの平均値により、フィンガ位置または伝達率において、大きなテレセントリック性および楕円性を含む不所望の変動が発生することがある。説明を容易にするため、これらの変動の理由を例を通して説明する。
2.4項に記載した最小2乗適合化は、1実施形態において制約への重みを低減することにより、光損失にペナルティを課すが、最終的な調整値が計算された後、付加的な光を得ることができる。図15および16に示した例示的な手順は、均一性の仕様をなお満たしながらもモジュールの平均伝達率を増大することによって、光損失の量を低減するために使用される。
つぎの式は、測定(図4のステップ460)に基づいて未補正均一性プロフィールを変更する手順を示している。この手順は、上記の所望の均一性補正が達成されなかったことが、測定によって示された場合に起動される。
Jikは、i番目のフィンガの影響を受けた、akにおけるすべての「ひとみ」のインデックスである(すなわちフィンガ「i」は、ji∈Jikなる(ak,bji)を中心とする「ひとみ」の少なくとも1つのピクセルを覆っている)。表記を簡単にするため、このような「ひとみ」からなる集合は、(ak,bJik)を中心とする複数の「ひとみ」と記される。また
J*ikは、i番目のフィンガの影響を受けていない、akにおけるすべての「ひとみ」のインデックスである(すなわちフィンガ「i」は、ji∈J*ikなる(ak,bji)を中心とする「ひとみ」のいずれのピクセルを覆っていない)。表記を簡単にするため、この「ひとみ」からなる集合は、(ak,bJ*ik)を中心とする複数の「ひとみ」と記される。
上では本発明のさまざまな実施形態を説明したが、これらの実施形態は例として示したのであり、制限のためではないことを理解されたい。当業者にわかるようにここでは、本発明の精神および範囲を逸脱することなく、形態および詳細をさまざまに変更することができる。したがって本発明の範囲は、上記のどの例示的な実施形態によっても制限されるべきではなく、添付の請求項またはこれと同等のものにしたがってのみ定められるべきである。
Claims (20)
- リソグラフィツールに関連して使用する強度積分の計算方法において、
該方法では、
(a) 複数の第1グリッド点を有する第1グリッドに照明スロットを分割し、ここで各第1グリッド点は第1および第2方向の座標によって定められ、
(b) 複数のひとみを前記第1グリッドに重ね合わせ、ここで各ひとみは、第1グリッド点の対応する点によって表される中心を有しており、
(c) 複数の第2グリッド点を有する複数の第2グリッドを定め、ここで各第2グリッド点は第3および第4方向の座標によって定められ、
第2グリッド毎に1ひとみとなるように前記の複数のひとみを複数の第2グリッドにマッピングし、また各第2グリッドの中心と、当該第2グリッドにマッピングされたひとみの中心とは一致しており、
(d) 前記のステップ(a),(b)および(c)の結果を使用して前記強度積分を離散化することを特徴とする、
強度積分の計算方法。 - さらに
(e) 前記ステップ(d)の結果を使用し、前記の第1方向の座標の第1座標に対して、強度積分の値を決定するステップを含む、
請求項1に記載の方法。 - 前記ステップ(e)は、
(1) 中心グリッド点座標の1つとして第1方向の座標の第1座標を有するひとみ毎に、正規化された強度に対する離散値を計算するステップと、
(2) 当該のステップ(e)(1)にてひとみ毎に計算した、正規化された強度に対する離散値の総和をとるステップと、
(3) ステップ(2)の結果を整数で除算するステップとを含む、
請求項2に記載の方法。 - 前記整数は、前記の第1グリッドで表される第2方向の座標の総数である、
請求項3に記載の方法。 - 前記ステップ(e)(1)は、
(i)第1方向の座標の第1座標および第2方向の座標の第1座標を中心とする第1ひとみに対して、
(1) 第1ひとみにマッピングされる第2グリッドにて複数のピクセルを定め、ここで各ピクセルの中心は第2グリッド点にマッピングされており、
(2) 第2グリッドのピクセル毎に、第1ひとみの一部が当該ピクセル内に含まれているか否かを決定し、
(3) ステップ(2)で含まれていることが決定された場合、光関数を第1の値に設定し、
(4) ステップ(2)で含まれていないことが決定された場合、光関数を第2の値に設定し、
(5) 第1の値を有するピクセルの数を数えて第1のピクセルカウントを形成するステップと、
(ii) 中心グリッド点座標の1つとして第1方向の座標の第1座標を有する複数のひとみ毎に、
(1) 複数のひとみのうちの1つにマッピングされる第2グリッドにて複数のピクセルを定め、ここで各ピクセルの中心は第2グリッド点にマッピングされており、
(2) 各第2グリッドのピクセル毎に、第2グリッドにマッピングされるひとみの一部が当該ピクセル内に含まれるか否かを決定し、
(3) ステップ(2)で含まれていることが決定された場合、光関数を第1の値に設定し、
(4) ステップ(2)で含まれていないことが決定された合、光関数を第2の値に設定し、
(5) 第2グリッドにマッピングされるひとみに対して第1の値を有するピクセルの数を数えて第2のピクセルカウントを形成するステップと、
(iii) 中心グリッド点座標の1つとして第1方向の座標の第1座標を有する複数のピクセルに対して第2のピクセルカウントの総和をとって、第3のピクセルカウントを形成するステップと、
(iv) 第1のピクセルカウントを第3のピクセルカウントによって除算するステップとを有する、
請求項3に記載の方法。 - さらに
(f) 第1グリッドで表される第1方向の座標毎に前記ステップ(e)を繰り返す
請求項2に記載の方法。 - 均一性補正システムの複数の調整可能部材によって変更された強度積分を計算する方法において、
該方法は
(a) 複数の第1グリッド点を有する第1グリッドに照明スロットを分割し、ここで各第1グリッド点は第1および第2方向の座標によって定められ、
(b) 複数のひとみを第1グリッドに重ね合わせ、ここで各ひとみは第1グリッド点の1つによって表される中心を有しており、
(c) 複数の調整可能部材を第1グリッドに重ね合わせ、
(d) 複数の第2グリッドを定め、ここで各第2グリッドは複数の第2グリッド点を有しており、各第2グリッド点は、第3および第4方向の座標によって定められ、第2グリッド毎に1ひとみとなるように複数のひとみを複数の第2グリッドにマッピングし、また各第2グリッドの中心と、当該第2グリッドにマッピングされたひとみの中心とは一致しており、
(e) ステップ(a)〜(d)の結果を使用して、複数の調整可能部材によって変更された強度積分を離散化することを特徴とする、
均一性補正システムの複数の調整可能部材によって変更された強度積分を計算する方法。 - さらに
(f) ステップ(d)の結果を使用し、前記の第1方向の座標の第1座標に対して、複数の調整可能部材によって変更された強度積分の値を決定するステップを含む、
請求項7に記載の方法。 - 前記ステップ(f)は、
(1) 中心グリッド点座標の1つとして第1方向の座標の第1座標を有する各ひとみにマッピングされる各第2グリッドにて複数のピクセルを定め、ここで各ピクセルの中心は第2グリッド点にマッピングされ、
(2) 第1調整可能部材によって覆われる、ステップ(f)(1)で定められたすべてのピクセルに対する寄与を決定し、
(3) 第2調整可能部材によって覆われる複数のピクセルに対する寄与を決定するステップを含む、
請求項8に記載の方法。 - 前記ステップ(f)はさらに
(4) 第2調整可能部材によって覆われ得る複数のピクセルに対する寄与を決定するステップを含む、
請求項9に記載の方法。 - 前記ステップ(f)はさらに
(4) ステップ(2)および(3)の結果を加えるステップを含む、
請求項9に記載の方法。 - 前記ステップ(f)はさらに
(5) ステップ(2)〜(4)の結果を加えるステップを含む、
請求項10に記載の方法。 - 前記ステップ(f)(2)は、
(i) 第1調整可能部材によって覆われる複数のひとみの各々に対して、
(1) ひとみに関連づけられている第2グリッドのピクセル内に含まれているひとみの部分がエネルギーを有するか否かを決定し、
(2) ステップ(1)で有すること決定された場合、光関数を第1の値に設定し、
(3) ステップ(1)が有しないことが決定された場合、光関数を第2の値に設定し、
(4) 複数のひとみの各々に対して第1の値を有するピクセルの数をカウントしてひとみ毎に第1ピクセルカウントを形成し、
(ii) 第1調整可能部材によって覆われる複数のひとみに介して第1ピクセルカウントの総和をとって、第2ピクセルカウントを形成するステップを含む、
請求項9に記載の方法。 - 前記ステップ(f)(3)は、
(i) 第2調整可能部材によって覆われる複数のひとみの各々に対して、
(1) ひとみに関連づけられている第2グリッドのピクセル内に含まれているひとみの部分がエネルギーを有するか否かを決定し、
(2) ステップ(1)で有することが決定された場合、光関数を第1の値に設定し、
(3) ステップ(1)で有しないことが決定された場合、光関数を第2の値に設定し、
(4) 複数のひとみの各々に対して第1の値を有するピクセルの数をカウントしてひとみ毎に第1ピクセルカウントを形成し、
(ii) 第2調整可能部材によって覆われるひとみ毎に第1ピクセルカウントの総和をとるステップを含む、
請求項9に記載の方法。 - 前記ステップ(f)(4)は、
(i) 第2調整可能部材によって覆われ得る複数のひとみの各々に対して、
(1) ひとみに関連づけられている第2グリッドのピクセル内に含まれているひとみの部分がエネルギーを有するか否かを決定し、
(2) ステップ(1)で有することが決定された場合、光関数を第1の値に設定し、
(3) ステップ(1)で有しないことが決定された場合、光関数を第2の値に設定し、
(4) 複数のひとみの各々に対して第1の値を有するピクセルの数をカウントしてひとみ毎に第1ピクセルカウントを形成し、
(ii) 第1ピクセルカウントの総和をとるステップを含む、
請求項10に記載の方法。 - 調整可能部材を備える均一性補正システムおよび補正モジュールを有するシステムに使用するデフォーカス均一性補正方法において、
(a) 調整可能部材が強度に与える影響を表すマップを形成し、
(b) 未補正均一性プロフィールを測定し、
(c) 該未補正均一性プロフィールを使用して前記調整可能部材に対する値を計算し、
(d) 当該の調整可能部材に対する値を前記均一性補正システムに伝達するステップを含むことを特徴とする
デフォーカス均一性補正方法。 - さらに
(e) 前記の受信した値を使用して調整可能部材を調整するステップを含む、
請求項16に記載の方法。 - さらに
(e) 補正均一性プロフィールを測定し、
(f) 当該の測定した補正均一性プロフィールと、あらかじめ定めた値とを比較し、
(g) 前記の測定した補正均一性プロフィールと、あらかじめ定めた値とが一致しない場合、前記の未補正均一性プロフィールを変更して、ステップ(c)〜(f)を繰り返すステップを含む、
請求項16に記載の方法。 - さらに
(e) 補正均一性プロフィールを測定し、
(f) 当該の測定した補正均一性プロフィールと、あらかじめ定めた値とを比較し、
(g) 前記の測定した補正均一性プロフィールと、あらかじめ定めた値とが一致しない場合、前記のステップ(a)で形成したマップを変更してステップ(c)〜(f)を繰り返すステップを含む、
請求項16に記載の方法。 - さらに
前記ステップ(a)の後、
標準未補正均一プロフィールを補正するために調整可能部材に対する初期値を計算し、
当該初期値をステップ(c)における計算に対する初期条件として使用する、
請求項16に記載の方法。
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