JP2006202793A - Process for producing printed board - Google Patents

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Takayuki Sanada
隆幸 眞田
Takehiro Miyashita
武博 宮下
Tetsuhiro Koide
哲裕 小出
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an environment-friendly process for producing a printed board having no etching step in which high definition and high reproducibility are ensured without producing a waste developer. <P>SOLUTION: In the process for producing a printed board by a printing method, a lithographic printing original plate exhibiting affinity to ink variable through irradiation with energy is employed. The process for producing a printed board comprises steps of: (1) forming a lithographic printing original plate by irradiating a lithographic printing original plate, exhibiting affinity to ink variable through irradiation with energy, with energy according to a circuit pattern; (2) installing a lithographic printing plate thus obtained on a lithographic offset press; (3) supplying conductive paste and wetting water onto the printing plate and sticking the conductive paste according to the circuit pattern; and (4) transferring the circuit pattern-like conductive pattern to a board through a rubber blanket. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明はプリント基板の製造方法に関し、更に詳しくは平版印刷原版を用いた印刷法によるプリント基板製造方法に関するものである。   The present invention relates to a printed circuit board manufacturing method, and more particularly to a printed circuit board manufacturing method by a printing method using a lithographic printing original plate.

ワープロ、パソコン、複写機、ファクシミリ等各種電子機器にはプリント基板が使用されている。一般にプリント基板の作製には、銅箔を基板に接着させたものにレジストを塗布し、露光、現像、エッチングして導電回路(回路パターン)を形成する製造方法、所謂サブトラクティブ法が採用されている。また、微細な導電回路を形成する場合には、めっきレジストを用いて無電解めっきや電解めっきにより所望の導電回路を形成する製造方法、所謂アディティブ法が採用されている。   Printed circuit boards are used in various electronic devices such as word processors, personal computers, copying machines, and facsimiles. In general, a printed circuit board is manufactured by applying a resist to a copper foil bonded to a substrate, exposing, developing, and etching to form a conductive circuit (circuit pattern), a so-called subtractive method. Yes. In the case of forming a fine conductive circuit, a so-called additive method is employed in which a desired conductive circuit is formed by electroless plating or electrolytic plating using a plating resist.

しかしながら、前者の製造方法では回路パターン以外の大部分のエリアをエッチングによって除去する工程が必要なため、材料のコストアップ、あるいは廃液による環境汚染が問題になっている。また、後者の製造方法では無電解めっきの析出速度が遅い、電解めっきの厚みが不均一と成り易いなど、生産効率や歩留まりも問題になる。従って、所定の部分にのみ導電回路、特に100μm幅以下の微細な導電回路を高い生産性でパターン形成する新規なプリント基板の製造方法が望まれる。   However, since the former manufacturing method requires a step of removing most of the areas other than the circuit pattern by etching, there is a problem of cost increase of materials or environmental pollution due to waste liquid. Further, in the latter manufacturing method, the deposition rate of electroless plating is slow, and the thickness of the electrolytic plating tends to be uneven, so that production efficiency and yield also become problems. Therefore, there is a demand for a novel printed circuit board manufacturing method in which a conductive circuit, particularly a fine conductive circuit having a width of 100 μm or less, is patterned only at a predetermined portion with high productivity.

特許文献1(特許第2616526号公報)には、銅粉末をフェノール樹脂及び/またはポリイミド樹脂中に分散させたペーストを作製し、当該ペーストをスクリーン印刷法により基板上に印刷した後、加熱、硬化することにより導電回路を形成するプリント基板の製造方法が開示されている。上記特許の製造方法では、従来のサブトラクティブ法のように、エッチング処理に起因する廃液汚染の心配がなく、しかも使用する銅粉末も必要な量のみで足りるため、低価格化の実現が図られている。しかしながら、スクリーン印刷法では線幅100μm以上の導電回路では、比較的良好なパターン印刷が可能であるが、線幅が100μm以下、特に25〜50μm程度の導電回路を精度良く形成することは困難である。即ちこの程度の線幅では最近の各種電気機器の小型化や薄型化の要望に応じることができない、という問題がある。   In Patent Document 1 (Japanese Patent No. 2616526), a paste in which copper powder is dispersed in a phenol resin and / or a polyimide resin is prepared, and the paste is printed on a substrate by a screen printing method, and then heated and cured. Thus, a printed circuit board manufacturing method for forming a conductive circuit is disclosed. In the manufacturing method of the above patent, unlike the conventional subtractive method, there is no fear of waste liquid contamination caused by the etching process, and moreover, only the necessary amount of copper powder is used, so the cost can be reduced. ing. However, in the screen printing method, relatively good pattern printing is possible with a conductive circuit having a line width of 100 μm or more, but it is difficult to accurately form a conductive circuit with a line width of 100 μm or less, particularly about 25 to 50 μm. is there. That is, with such a line width, there is a problem that it is impossible to meet the recent demands for reducing the size and thickness of various electric devices.

特許文献2(特開平11−191669号公報)には、金属粉末と樹脂を含む導電性ペーストを用いて、絶縁基板上に凹版オフセット印刷法によってパターン印刷を行って形成した導電回路基部と、導電回路基部上に電解銅メッキによって形成した銅被覆層からなるプリント基板が開示されている。上記公報には凹版オフセット印刷法により、線幅30μm、線間25μmのプリント基板が作製できることが開示されている。この凹版オフセット印刷法を用いてプリント基板を製造すれば、サブトラクティブ法で行われていたエッチング工程なしに線幅が100μm以下の導電回路を精度良く形成することができる。しかしながら、凹版印刷版の作成時にはエッチング工程が必要で、コストと現像廃液が発生し環境負荷がかかるという問題点が残されている。   In Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-191669), a conductive circuit base formed by pattern printing on an insulating substrate by an intaglio offset printing method using a conductive paste containing metal powder and resin, and conductive A printed circuit board comprising a copper coating layer formed by electrolytic copper plating on a circuit base is disclosed. The above publication discloses that a printed circuit board having a line width of 30 μm and a line spacing of 25 μm can be produced by the intaglio offset printing method. If a printed circuit board is manufactured using this intaglio offset printing method, a conductive circuit having a line width of 100 μm or less can be accurately formed without the etching process performed by the subtractive method. However, when an intaglio printing plate is prepared, an etching process is required, and there remains a problem that costs and development waste liquid are generated and an environmental load is applied.

一方平版印刷版はレーザーを走査して直接印刷用原版に描画して版を作成する方法、所謂CTP(Computer To Plate)法が実用に供されている。特にサーマルタイプのCTP版では、現像やエッチングなどの後工程を省くことが可能であり、所謂現像レス版を得ることも可能になると期待されている。
特許第2616526号公報 特開平11−191669号公報
On the other hand, for the lithographic printing plate, a method of creating a plate by scanning directly on a printing original plate by scanning a laser, a so-called CTP (Computer To Plate) method has been put to practical use. In particular, in the thermal type CTP plate, post-processing such as development and etching can be omitted, and it is expected that a so-called development-less plate can be obtained.
Japanese Patent No. 2616526 JP-A-11-191669

本発明の目的は印刷法でプリント基板を製造する方法であって、特にエッチング工程が製造工程中になく、高精細、高再現性かつ現像廃液のない環境に優しいプリント基板製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a method for producing a printed circuit board by a printing method, and particularly to provide an environment-friendly printed circuit board production method in which an etching process is not performed during the production process, high definition, high reproducibility, and no development waste liquid. It is.

本発明者らは、印刷法によりプリント基板を製造する方法について検討した結果、現像工程のある版では、現像条件の管理が悪いと画線部面積のバラツキが生じる可能性があるが、現像レス版ではレーザー露光によってのみ画線部(インキ付着部)が形成されるため、レーザーの高い再現性をそのまま利用することができると考えた。そこで本発明者らは、鋭意検討した結果、エネルギー照射でインキに対する親和性が変化する性質を有する平版印刷原版を用いてプリント基板を印刷法によって製造することにより、高精細、高再現性のプリント基板を低コストで大量に、高い生産性で、かつ現像廃液のない環境に優しい方法で製造できることを見出し、本発明を完成した。   As a result of studying a method for producing a printed circuit board by a printing method, the present inventors have found that a plate having a development process may cause variations in the area of the image area if the development conditions are poorly controlled. In the plate, the image area (ink-adhered area) is formed only by laser exposure, so the high reproducibility of the laser can be used as it is. Accordingly, as a result of intensive studies, the present inventors have manufactured a printed circuit board by a printing method using a lithographic printing plate having the property of changing the affinity for ink by energy irradiation, thereby achieving high-definition and high-reproducibility printing. The inventors have found that a substrate can be produced in a large amount at a low cost, in a high productivity, and in an environment-friendly manner without developing waste liquid, and the present invention has been completed.

即ち本発明は、以下の構成からなるものである。
(1)印刷法により絶縁基板上に導電回路を形成したプリント基板を製造する方法において、エネルギー照射でインキに対する親和性が変化する性質を有する平版印刷原版を用いることを特徴とするプリント基板製造方法。
(2)プリント基板を製造する方法が、1)エネルギー照射でインキに対する親和性が変化する性質を有する平版印刷原版に回路パターンどおりにエネルギーを照射し、平版印刷版を作成する工程、続いて2)得られた平版印刷版を平版オフセット印刷機にも設置する工程、3)導電性ペーストと湿し水を印刷版上に供給し、導電性ペーストを回路パターン状に付着させる工程、4)この回路パターン状導電性パターンをブランケットを介して基板に転写する工程を有するものである(1)記載のプリント基板製造方法。
(3)インキに対する親和性を変化させるエネルギーが光である(1)又は(2)に記載のプリント基板製造方法。
(4)照射する光が赤外線レーザー光である(3)に記載のプリント基板製造方法。
(5)インキに対する親和性を変化させるエネルギーが熱である(1)又は(2)に記載のプリント基板製造方法。
(6)平版印刷原版が、最表面層が架橋された親水性樹脂からなり、エネルギー照射により親水性が低下する性質を有する平版印刷原版である前記(1)〜(5)に記載のプリント基板製造方法。
(7)最表面層の架橋された親水性樹脂層が、無置換または置換(メタ)アクリルアミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミドから選ばれた1種または2種以上のモノマーを主成分として重合した親水性ポリマーを架橋してなるものである(6)に記載のプリント基板製造方法。
(8)最表面層の架橋された親水性樹脂層中に平均粒子径が0.005〜0.5μmであり、かつ最低造膜温度が50℃以下の親油性ポリマーを含んでなる(6)および(7)に記載のプリント基板製造方法。
(9)最表面層の架橋された親水性樹脂層中に光を熱に変換する光熱変換材を含んでなる(6)〜(8)に記載のプリント基板製造方法。
(10)光熱変換材が700〜1100nmに吸収極大を有する赤外線吸収色素である(9)に記載のプリント基板製造方法。
That is, the present invention has the following configuration.
(1) A method for producing a printed circuit board having a conductive circuit formed on an insulating substrate by a printing method, wherein a lithographic printing plate having a property that the affinity for ink is changed by energy irradiation is used. .
(2) The method of manufacturing a printed circuit board is as follows: 1) A process for producing a lithographic printing plate by irradiating energy according to a circuit pattern onto a lithographic printing plate having the property that the affinity for ink changes when irradiated with energy; ) The process of installing the obtained lithographic printing plate on a lithographic offset printing machine, 3) The process of supplying the conductive paste and fountain solution onto the printing plate and attaching the conductive paste to the circuit pattern, 4) This The printed circuit board manufacturing method according to (1), comprising a step of transferring the circuit pattern-like conductive pattern to the substrate through a blanket.
(3) The printed circuit board manufacturing method according to (1) or (2), wherein the energy for changing the affinity for ink is light.
(4) The printed circuit board manufacturing method according to (3), wherein the irradiated light is infrared laser light.
(5) The method for producing a printed circuit board according to (1) or (2), wherein the energy for changing the affinity for the ink is heat.
(6) The printed circuit board according to any one of (1) to (5), wherein the lithographic printing original plate is a lithographic printing original plate made of a hydrophilic resin having a cross-linked outermost layer and having a property of reducing hydrophilicity upon energy irradiation. Production method.
(7) The cross-linked hydrophilic resin layer of the outermost surface layer is mainly composed of one or more monomers selected from unsubstituted or substituted (meth) acrylamide, N-vinylformamide, and N-vinylacetamide. The method for producing a printed circuit board according to (6), which is obtained by crosslinking a polymerized hydrophilic polymer.
(8) The cross-linked hydrophilic resin layer of the outermost surface layer comprises an oleophilic polymer having an average particle diameter of 0.005 to 0.5 μm and a minimum film forming temperature of 50 ° C. or less (6) And the printed circuit board manufacturing method as described in (7).
(9) The printed circuit board manufacturing method according to any one of (6) to (8), comprising a photothermal conversion material that converts light into heat in the crosslinked hydrophilic resin layer of the outermost surface layer.
(10) The printed circuit board manufacturing method according to (9), wherein the photothermal conversion material is an infrared absorbing dye having an absorption maximum at 700 to 1100 nm.

本発明のプリント基板製造方法を用いれば、高精細、高再現性のプリント基板を低コストで大量に、かつ現像廃液のない環境に優しい方法で製造することができる。   By using the printed circuit board manufacturing method of the present invention, it is possible to manufacture a high-definition and highly reproducible printed circuit board in a large amount at a low cost by an environment-friendly method without developing waste liquid.

以下、本発明のプリント基板製造方法について詳細に説明する。
[平版印刷原版]
本発明は、エネルギー照射でインキに対する親和性が変化する性質をする平版印刷原版を用いることを特徴とする。好ましくは、エネルギー照射でインキに対する親和性が変化するのは最表面であり、エネルギー照射後に現像等の後工程を必要としない現像レスと称されるものが好ましい。照射されるエネルギー源としては、照射部位と未照射部位でインキに対する親和性が十分に変化するものであれば特に限定されず、光でも熱でもよい。また、インキに対する親和性は、照射部位が未照射部位に比べて高くても低くてもよい。例えば熱により親水性から親油性に変化する親水性樹脂層を最表面に有する現像レス平版印刷版は、本発明の好適な態様の一つである。このような親水性樹脂層を最表面に有する現像レス平版印刷原版は、支持体上に直接または下地層を介して設置した親水性樹脂組成物を架橋させることにより得ることができるものを例示することができる。
Hereinafter, the printed circuit board manufacturing method of the present invention will be described in detail.
[Lithographic printing plate]
The present invention is characterized in that a lithographic printing plate having a property that the affinity for ink changes by energy irradiation is used. Preferably, what is referred to as “development-less” which does not require a post-process such as development after energy irradiation is the outermost surface where the affinity for ink changes by energy irradiation. The energy source to be irradiated is not particularly limited as long as the affinity for ink changes sufficiently between the irradiated site and the non-irradiated site, and may be light or heat. Also, the affinity for the ink may be higher or lower at the irradiated site than at the non-irradiated site. For example, a development-less lithographic printing plate having a hydrophilic resin layer that changes from hydrophilic to oleophilic on heat on the outermost surface is one of the preferred embodiments of the present invention. The development-less lithographic printing plate precursor having such a hydrophilic resin layer on the outermost surface is exemplified by what can be obtained by crosslinking a hydrophilic resin composition placed directly on a support or through an underlayer. be able to.

[支持体]
本発明に使用する平版印刷原版の支持体としては特に制限はなく、公知のものが使用可能である。具体例としては、アルミ板、鋼板、ステンレス板、銅板等の金属板やポリエステル、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ABS樹脂等のプラスチックフィルムや紙、プラスチックフィルムラミネート紙等が挙げられる。これらの支持体の厚さは特に制限はないが、通常100〜400μm程度である。又、これらの支持体には下地層との密着性の改良等のために酸化処理、クロメート処理、サンドブラスト処理、コロナ放電処理等の表面処理を施してもよい。
[Support]
There is no restriction | limiting in particular as a support body of the lithographic printing original plate used for this invention, A well-known thing can be used. Specific examples include metal plates such as aluminum plates, steel plates, stainless steel plates and copper plates, plastic films and papers such as polyester, nylon, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, ABS resin, and plastic film laminated paper. The thickness of these supports is not particularly limited, but is usually about 100 to 400 μm. Further, these supports may be subjected to surface treatment such as oxidation treatment, chromate treatment, sand blast treatment, corona discharge treatment, etc. in order to improve adhesion to the underlayer.

[下地層]
本発明に使用する平版印刷原版においては、上記支持体上に直接親水性樹脂層を設置しても良いが、密着性を高めるため下地層を設置することも好ましい態様である。この時に用いる下地層の組成は特に制限はないが、親水性樹脂層に含まれる親油性ポリマーと同じ種類の樹脂を用いることが好ましい。特にウレタン系、アクリル系、酢酸ビニル系、合成ゴム系、エチレン系等の親油性ポリマーを使用することが好ましい。
[Underlayer]
In the lithographic printing original plate used in the present invention, a hydrophilic resin layer may be directly provided on the support, but it is also a preferable aspect to provide a base layer in order to improve adhesion. The composition of the base layer used at this time is not particularly limited, but it is preferable to use the same type of resin as the lipophilic polymer contained in the hydrophilic resin layer. It is particularly preferable to use a lipophilic polymer such as urethane, acrylic, vinyl acetate, synthetic rubber, or ethylene.

これら下地層に用いられる親油性ポリマーは、水溶液又は有機溶媒に溶解した均一溶液でもよいし、エマルジョンの形態でも良く、これらを成膜することで下地層とすることができる。成膜時に有害な揮発性有機溶媒が排出されないことから、特に水性エマルジョンタイプが好ましい。この親油性ポリマーエマルジョンは強制乳化型でもよいし、自己乳化型でもよい。   The lipophilic polymer used for these underlayers may be an aqueous solution or a homogeneous solution dissolved in an organic solvent, or may be in the form of an emulsion, and these can be formed into a base layer. An aqueous emulsion type is particularly preferred because harmful volatile organic solvents are not discharged during film formation. This lipophilic polymer emulsion may be a forced emulsification type or a self-emulsification type.

このエマルジョンは塗布後、分散溶媒が蒸発すると融着して造膜する特性を有することが好ましい。製造上問題がなければ最低造膜温度は特に限定されない。下地層には1種類または2種類以上の前記親油性ポリマーを混合して使用できる。さらに、架橋剤を加えて強靭な膜を作ることも可能である。   This emulsion preferably has a property of forming a film by fusion when the dispersion solvent evaporates after coating. If there is no problem in manufacturing, the minimum film forming temperature is not particularly limited. One kind or two or more kinds of the lipophilic polymers can be mixed and used for the underlayer. Furthermore, a tough film can be formed by adding a crosslinking agent.

[親水性樹脂層]
次に本発明に使用する平版印刷原版に用いることのできる親水性樹脂層に関して説明する。本発明に用いる平版印刷原版は、湿し水を用いる平版オフセット印刷用の現像レス版であることが好ましく、親水性樹脂層の加熱部位が親油性に変化し画像部となるものであることが好ましい。画線部を形成した版を現像等の後工程を全く行わず直接印刷機に設置し、湿し水とインキを供給することで画線部のみにインキを付着させることが可能である。従って、本発明において親水性樹脂層は親水性で且つ水に溶けず、一方加熱部位は親油性であることが好ましい。このような特性を有する親水性樹脂層を具現化するには、親水性ポリマー、架橋剤、親油性ポリマーを含有してなる親水性樹脂組成物を架橋してなるものであることが好ましい。親水性ポリマーは架橋することにより水に不溶とすることができる。
[Hydrophilic resin layer]
Next, the hydrophilic resin layer that can be used for the lithographic printing original plate used in the present invention will be described. The lithographic printing original plate used in the present invention is preferably a development-less plate for lithographic offset printing using a fountain solution, and the heated portion of the hydrophilic resin layer is changed to oleophilic to form an image portion. preferable. The plate on which the image line portion is formed can be directly installed in a printing machine without any post-process such as development, and ink can be attached only to the image line portion by supplying dampening water and ink. Therefore, in the present invention, it is preferable that the hydrophilic resin layer is hydrophilic and does not dissolve in water, while the heated portion is oleophilic. In order to embody a hydrophilic resin layer having such characteristics, it is preferable to crosslink a hydrophilic resin composition containing a hydrophilic polymer, a crosslinking agent, and a lipophilic polymer. The hydrophilic polymer can be insoluble in water by crosslinking.

このような親水性樹脂組成物として、例えば特開2002−362052号公報に記載の親水性樹脂組成物が挙げられ、具体的には、置換または無置換(メタ)アクリルアミドやN−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、水酸基や酸性基を有する(メタ)アクリレート、例えばヒドロキシエチルメタクリレートなどを共重合した親水性ポリマー、2個以上の官能基を持ったエポキシ樹脂やアミノ樹脂、ブロック化イソシアネートのような架橋剤、水分散ポリウレタン樹脂、アクリル系ラテックス、水分散ポリエステル樹脂のような親油性ポリマーを含んでなる親水性樹脂組成物が好ましい。   As such a hydrophilic resin composition, for example, a hydrophilic resin composition described in JP-A No. 2002-362052 can be mentioned. Specifically, a substituted or unsubstituted (meth) acrylamide, N-vinylformamide, N -Hydrophilic polymer obtained by copolymerization of vinylacetamide, (meth) acrylate having a hydroxyl group or acidic group, such as hydroxyethyl methacrylate, cross-linking such as epoxy resin or amino resin having two or more functional groups, or blocked isocyanate A hydrophilic resin composition comprising a lipophilic polymer such as an agent, a water-dispersed polyurethane resin, an acrylic latex, and a water-dispersed polyester resin is preferred.

親水性ポリマーとしてより好ましいのは、無置換または置換(メタ)アクリルアミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミドから選ばれた1種または2種以上のモノマーを主成分として重合した親水性ポリマーである。これらのモノマーを主成分とする親水性ポリマーは、水に対する親和性が高いにも関わらず吸水量が少ないため膨潤し難く、非画線部の親水性および耐刷性が良好である。   More preferred as the hydrophilic polymer is a hydrophilic polymer obtained by polymerizing one or more monomers selected from unsubstituted or substituted (meth) acrylamide, N-vinylformamide, and N-vinylacetamide as a main component. . Although the hydrophilic polymer mainly composed of these monomers has a high affinity for water, it has a low water absorption amount, so that it is difficult to swell, and the hydrophilicity and printing durability of the non-image area are good.

架橋剤は前記親水性ポリマーを架橋し水不溶とする2個以上の官能基を持った化合物であれば特に制限はないが、非画線部の親水性、画線部の親油性、耐刷性等の点から、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ブロック化イソシアネートから選ばれた1種または2種以上であることが好ましい。   The crosslinking agent is not particularly limited as long as it is a compound having two or more functional groups that crosslinks the hydrophilic polymer and makes it insoluble in water. However, the hydrophilicity of the non-image area, the lipophilicity of the image area, and the printing durability. From the viewpoint of properties and the like, it is preferably one or more selected from epoxy resins, amino resins, and blocked isocyanates.

親油性ポリマーとしてより好ましいのは、平均粒子径が0.005〜0.5μm、より好ましくは0.010〜0.3μmであり、かつ最低造膜温度が50℃以下、より好ましくは30℃以下の水性エマルジョンタイプの親油性ポリマーである。特に水分散ポリウレタン樹脂、アクリル系ラテックス、水分散ポリエステル樹脂が好ましく、具体的には第一工業製薬(株)製のスーパーフレックスTMシリーズや東洋紡績(株)製のバイロナールTMシリーズが挙げられる。平均粒子径がこの範囲である場合に、エネルギー照射前の親水性を低下させず、かつエネルギー照射、特に熱により親油化するときの変化が起こり易いため好ましい。尚、親油性ポリマーの平均粒子径は、一般的には水で薄めて粒度測定器(例えば「マイクロトラック」等)により測定することが可能である。その他、親油性ポリマーを凍結後スライスして透過型電子顕微鏡で測定することもでき、特に平均粒子径が0.010μm以下の場合にはこの方法が好ましく用いられる。最低造膜温度とは分散溶媒が蒸発したときにエマルジョン状のポリマーが融着してフィルム化(造膜)する最低温度を言う。最低造膜温度は低いほどエネルギー照射、特に熱により親油化するときの変化が起こり易いため好ましい。尚、最低造膜温度はISO2115に準拠した方法で測定し、測定機として例えば(株)井元製作所の造膜温度(MFT)試験装置を使用する。 More preferable as the lipophilic polymer is an average particle size of 0.005 to 0.5 μm, more preferably 0.010 to 0.3 μm, and a minimum film forming temperature of 50 ° C. or lower, more preferably 30 ° C. or lower. An aqueous emulsion type lipophilic polymer. In particular the water-dispersible polyurethane resins, acrylic latex, water dispersible polyester resin is preferable, and specific examples thereof include Vylonal TM series manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. SUPERFLEX TM series and Toyobo Corporation. When the average particle size is within this range, the hydrophilicity before energy irradiation is not lowered, and it is easy to cause a change during lipophilicity by energy irradiation, particularly heat, which is preferable. The average particle diameter of the lipophilic polymer can be generally measured by diluting with water and using a particle size measuring device (for example, “Microtrac”). In addition, the lipophilic polymer can be sliced after freezing and measured with a transmission electron microscope. This method is preferably used particularly when the average particle size is 0.010 μm or less. The minimum film-forming temperature refers to the minimum temperature at which an emulsion polymer is fused and formed into a film (film formation) when the dispersion solvent evaporates. The lower the minimum film-forming temperature, the more preferable it is because the change during lipophilicity is likely to occur due to energy irradiation, particularly heat. In addition, the minimum film-forming temperature is measured by a method based on ISO 2115, and a film-forming temperature (MFT) test apparatus manufactured by Imoto Seisakusho, for example, is used as a measuring machine.

架橋剤及び親油性ポリマーの配合量は、親水性ポリマー100質量部に対し、それぞれ5〜100質量部、5〜300質量部であることが好ましい。配合量がこの範囲である場合に、非画線部の親水性、画線部の親油性、耐刷性が良好となるため好ましい。水溶液あるいはエマルジョン状の親水性ポリマー、架橋剤及び親油性ポリマーを攪拌しながら混合し作成した親水性樹脂組成物を、支持体上に直接又は下地層上に塗布、加熱することで親水性樹脂層が形成される。ここで親水性樹脂組成物には印刷条件に対する安定性を広げるため、種々の界面活性剤を添加しても良い。該親水性樹脂層の膜厚は特に制限はないが、熱処理後の膜厚として、通常0.5〜10μm程度、特に1〜4μmが好ましい。   It is preferable that the compounding quantity of a crosslinking agent and a lipophilic polymer is 5-100 mass parts and 5-300 mass parts, respectively with respect to 100 mass parts of hydrophilic polymers. When the blending amount is within this range, the hydrophilicity of the non-image area, the lipophilicity of the image area, and the printing durability are improved, which is preferable. Applying and heating a hydrophilic resin composition prepared by mixing an aqueous solution or an emulsion-like hydrophilic polymer, a crosslinking agent and a lipophilic polymer while stirring directly on the support or on the underlayer, and heating the hydrophilic resin layer Is formed. Here, various surfactants may be added to the hydrophilic resin composition in order to expand the stability to printing conditions. Although there is no restriction | limiting in particular in the film thickness of this hydrophilic resin layer, As a film thickness after heat processing, about 0.5-10 micrometers is preferable normally, and 1-4 micrometers are especially preferable.

尚、前記の記載に於いて、(メタ)アクリルアミドや(メタ)アクリレートに於ける(メタ)アクリル、(メタ)アクリレートは、それぞれアクリルまたはメタクリル、アクリレートまたはメタクリレートを意味することとする。   In the above description, (meth) acryl and (meth) acrylate in (meth) acrylamide and (meth) acrylate mean acryl, methacryl, acrylate and methacrylate, respectively.

本発明の親水性樹脂層の一部を加熱する方法としては、サーマルヘッドを利用して直接加熱する方法も好ましい態様であるが、精細性の点からレーザー光を利用することが望ましい。   As a method of heating a part of the hydrophilic resin layer of the present invention, a method of directly heating using a thermal head is also a preferred embodiment, but it is desirable to use laser light from the viewpoint of fineness.

レーザー光を利用する場合には、光を熱に変換する光熱変換材が必要である。光熱変換材としては、光を吸収して熱を生じるものであれば特に制限はなく、レーザー光の照射に際しては光熱変換材が吸収する波長域の光を適宜用いればよい。光熱変換材の具体例としては、シアニン系色素、ポリメチン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、アントラシアニン系色素、ポルフィリン系色素、アゾ系色素、ベンゾキノン系色素、ナフトキノン系色素、ジチオール金属錯体類、ジアミンの金属錯体類、ニグロシン等の各種色素、及びカーボンブラック等が挙げられる。これらの光熱変換材に於いては、明室での取り扱い性、露光機に用いる光源の出力や使い易さの点から波長700〜1100nmの領域の光を吸収する光熱変換材が好ましい。より好ましくは、光熱変換材が700〜1100nmに吸収極大を有する赤外線吸収色素である。これらの光熱変換材は親水性樹脂組成物に溶解していても、又分散していても良い。   When laser light is used, a light-to-heat conversion material that converts light into heat is necessary. The light-to-heat conversion material is not particularly limited as long as it absorbs light and generates heat, and light in a wavelength region that is absorbed by the light-to-heat conversion material may be used as appropriate when the laser light is irradiated. Specific examples of photothermal conversion materials include cyanine dyes, polymethine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, anthracocyanine dyes, porphyrin dyes, azo dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, dithiol metal complexes , Metal complexes of diamine, various pigments such as nigrosine, and carbon black. Among these light-to-heat conversion materials, light-to-heat conversion materials that absorb light in the wavelength region of 700 to 1100 nm are preferable from the viewpoints of handling in a bright room, output of a light source used in an exposure machine, and ease of use. More preferably, the photothermal conversion material is an infrared absorbing dye having an absorption maximum at 700 to 1100 nm. These photothermal conversion materials may be dissolved or dispersed in the hydrophilic resin composition.

[プリント基板製造方法]
本発明方法の具体的な好ましい方法の例としては、1)エネルギー照射でインキに対する親和性が変化する性質を有する平版印刷原版に回路パターンどおりにエネルギーを照射し、平版印刷版を作成する工程、続いて2)得られた平版印刷版を平版オフセット印刷機にも設置する工程、3)導電性ペーストと湿し水を印刷版上に供給し、導電性ペーストを回路パターン状に付着させる工程、4)この回路パターン状導電性パターンをブランケットを介して基板に転写する工程を有するものである。
[Printed circuit board manufacturing method]
Examples of specific preferred methods of the method of the present invention include 1) a step of irradiating a lithographic printing original plate having the property of changing the affinity for ink with energy irradiation according to a circuit pattern to prepare a lithographic printing plate, Subsequently, 2) a step of installing the obtained lithographic printing plate in a lithographic offset printing machine, 3) a step of supplying a conductive paste and a dampening solution onto the printing plate, and attaching the conductive paste in a circuit pattern, 4) A step of transferring the circuit pattern-like conductive pattern to the substrate via a blanket.

[平版印刷版]
本発明方法に好適な平版印刷原版は、エネルギーを照射した部分の感光層表面の親水性が親油性に変化し、平版印刷版となるものである。この平版印刷版は、現像や拭き取り操作をしなくてもエネルギーの照射部にはインキが付着し、印刷を可能とすることができる。加えるエネルギーとしては好ましいのは熱であり、例えば感熱プリンタで用いられるようなサーマルヘッドによって直接熱を加えることが好適である。電位を与えることで発熱し高温となったサーマルヘッドを原版表面に直接接触させることで、原版の最表面が親油性に変化する。
[Lithographic printing plate]
A lithographic printing plate suitable for the method of the present invention is a lithographic printing plate in which the hydrophilicity of the surface of the photosensitive layer at the irradiated part is changed to oleophilic. This lithographic printing plate can be printed without the development or wiping operation, with the ink adhering to the irradiated portion of the energy. The energy to be applied is preferably heat. For example, it is preferable to directly apply heat with a thermal head used in a thermal printer. The outermost surface of the original plate is changed to be oleophilic by bringing the thermal head, which is heated and heated by applying an electric potential, into direct contact with the original plate surface.

本発明方法に好適な平版印刷原版が前記光熱変換材を含有する場合、加えるエネルギーが光であることも好ましい態様である。本発明に好適な平版印刷原版の光照射に際しては、照射速度の点から収束光を高速で走査するのが好ましく、使用し易い。また、光源としては高出力のものが適しており、この点から、照射する光としてはレーザー光、特に700〜1100nmの波長域の発振波長を有する赤外線レーザー光が好ましく、例えば830nmの高出力半導体レーザーや1064nmのYAGレーザーが好ましく用いられる。これらのレーザーを搭載した露光機は所謂サーマル用プレートセッター(露光機)として既に市場に供されている。   When the lithographic printing plate precursor suitable for the method of the present invention contains the photothermal conversion material, it is also a preferred embodiment that the energy to be applied is light. In the light irradiation of the lithographic printing plate precursor suitable for the present invention, it is preferable to scan the convergent light at high speed from the point of irradiation speed, and it is easy to use. Also, a high-power light source is suitable as the light source. From this point, laser light, particularly infrared laser light having an oscillation wavelength in the wavelength range of 700 to 1100 nm, is preferable, for example, a high-power semiconductor of 830 nm. A laser or a 1064 nm YAG laser is preferably used. Exposure machines equipped with these lasers are already on the market as so-called thermal plate setters (exposure machines).

[導電性ペースト]
本発明方法においては、導電性ペーストを印刷インキとして使用することが好ましい。本発明に使用する導電性ペーストは特に限定されるものでは無いが、少なくとも導電粒子と有機樹脂を含んでいることが好ましい。微細な配線回路を形成するために、使用される導電粒子は、平均粒子径が100nm以下1nm以上の金属粒子であることが好ましく、配線回路の導通抵抗を低下させる為に平均粒子径が50nm以下2nm以上であることが、さらに好ましい。平均粒子径は導電性ペーストを測定台上に薄く塗布し、走査型電子顕微鏡で測定する。
[Conductive paste]
In the method of the present invention, it is preferable to use a conductive paste as a printing ink. The conductive paste used in the present invention is not particularly limited, but preferably contains at least conductive particles and an organic resin. In order to form a fine wiring circuit, the conductive particles used are preferably metal particles having an average particle diameter of 100 nm or less and 1 nm or more, and the average particle diameter is 50 nm or less in order to reduce the conduction resistance of the wiring circuit. More preferably, it is 2 nm or more. The average particle diameter is measured with a scanning electron microscope by applying a thin conductive paste on a measuring table.

金属粉としては、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム等が挙げられる。これらの金属粉は、有機樹脂、溶剤と混合、分散させることにより本ペーストを調整できる。有機樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリシアネート樹脂等を挙げることができ、金属粉と有機樹脂の重量比が、70:30〜99:1の範囲が好ましい。又、必要に応じて粘性調整剤、還元剤を加えても構わない。   Examples of the metal powder include gold, silver, copper, nickel, palladium and the like. These pastes can be prepared by mixing and dispersing these metal powders with an organic resin and a solvent. Examples of the organic resin include an epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyamide resin, a polyamideimide resin, a polyphenylene oxide resin, a polycyanate resin, and the like. The weight ratio of the metal powder to the organic resin is 70:30 to 99. A range of: 1 is preferred. Moreover, you may add a viscosity regulator and a reducing agent as needed.

溶剤としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル系溶剤、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート系溶剤、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル系溶剤、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート系溶剤、アルコール系溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。これらの溶剤の使用量は、通常導電性ペースト中、20〜50重量%である。   Examples of the solvent include a polyethylene glycol monomethyl ether solvent, a polyethylene glycol monomethyl ether acetate solvent, a polypropylene glycol monomethyl ether solvent, a polypropylene glycol monomethyl ether acetate solvent, an alcohol solvent, and a hydrocarbon solvent. The amount of these solvents used is usually 20 to 50% by weight in the conductive paste.

本発明方法に用いることのできる導電性ペーストとしては、市販品であるNPS、NPS−J、NPG−J、NPS−HやNPS−HS(ハリマ化成株式会社)やドータイトシリーズ(藤倉化成株式会社)等も例示することができる。これらは、適宜、溶媒による希釈や濃縮、および、粘性調整剤を添加し、所望の粘度に調整して使用することが出来る。   Examples of the conductive paste that can be used in the method of the present invention include commercially available NPS, NPS-J, NPG-J, NPS-H, NPS-HS (Harima Kasei Co., Ltd.), and Dotite series (Fujikura Kasei Co., Ltd.). Etc. can also be illustrated. These can be used by adjusting to a desired viscosity by appropriately adding dilution or concentration with a solvent and adding a viscosity modifier.

[印刷方法]
本発明方法は平版印刷版を型として、導電性ペーストを印刷インキとして使用し、平版オフセット印刷によりプリント基板の形成を行うことができる。具体的には、エネルギー照射により回路パターン状にインキに対する親和性が変化した平版印刷版、好ましくはレーザー照射により照射部が親油性に変化した親水性樹脂感光層からなる現像レス平版印刷版を市販の平版オフセット印刷機に設置する。続いて導電性ペーストと湿し水を印刷版上に供給し、導電性ペーストを回路パターン状に付着させる。この回路パターン状導電性パターンをゴムブランケットを介して基板に転写することで、プリント基板を作製する。ここで使用する基板としては、銅張したエポキシ樹脂やフェノール樹脂等が使用でき、またフレキシブルなフィルム状のものでも良い。銅張したエポキシ樹脂やフェノール樹脂の例としては、住友ベークライト製のスミライトTMPL/EL等が挙げられる。フレキシブル基板の例としては、三井化学株式会社製のポリイミドフィルム、ネオフレックスTM等が挙げられる。
[Printing method]
In the method of the present invention, a lithographic printing plate can be used as a mold, a conductive paste can be used as a printing ink, and a printed board can be formed by lithographic offset printing. Specifically, a lithographic printing plate whose affinity for ink has been changed to a circuit pattern by energy irradiation, preferably a development-less lithographic printing plate comprising a hydrophilic resin photosensitive layer whose irradiation area has been changed to oleophilicity by laser irradiation is commercially available. Installed on the lithographic offset printing press. Subsequently, a conductive paste and a fountain solution are supplied onto the printing plate, and the conductive paste is attached in a circuit pattern. The printed circuit board is produced by transferring the circuit pattern conductive pattern to the board through a rubber blanket. As a board | substrate used here, a copper-clad epoxy resin, a phenol resin, etc. can be used, and a flexible film-like thing may be used. Examples of the copper-clad epoxy resin and phenol resin include Sumitite TM PL / EL manufactured by Sumitomo Bakelite. As an example of a flexible substrate, Mitsui Chemicals, Inc. polyimide film, Neoprex TM, etc. are mentioned.

使用する平版オフセット印刷機としては円圧式の平台機も、輪転式の枚葉機あるいは輪転機も使用可能であるが、被印刷体が銅張したエポキシ樹脂やフェノール樹脂製の基板の場合は剛直で折り曲げることができないため平台機を用いることが好ましい。フレキシブル基板の場合は平台機も枚葉機あるいは輪転機も使用可能であるが、生産性の点から枚葉機あるいは輪転機を用いることが好ましい。   As the lithographic offset printing press, a circular flatbed press, a rotary sheet-fed press, or a rotary press can be used, but if the substrate to be printed is a copper-clad epoxy resin or phenol resin substrate, it is rigid. It is preferable to use a flat table machine because it cannot be bent at the same time. In the case of a flexible substrate, a flatbed machine, a single wafer machine or a rotary machine can be used, but it is preferable to use a single wafer machine or a rotary machine from the viewpoint of productivity.

湿し水としては平版オフセット印刷に使用されるものならば制限はなく、通常の水道水、井戸水、イオン交換水、蒸留水が使用できる。またこれらの水に添加剤としてアルコール、特にイソプロピルアルコールやブチルアルコール、市販の給湿液またはH液、たとえば(株)日研化学研究所のアストロマーク3、富士フィルムグラフィックシステムズ(株)のエコリティなどを加えたものも使用できる。   The fountain solution is not limited as long as it is used for lithographic offset printing, and normal tap water, well water, ion exchange water, and distilled water can be used. Alcohols such as isopropyl alcohol and butyl alcohol, commercially available moisturizers or H liquids such as Astro Mark 3 of Nikken Chemical Research Co., Ltd., Ecology of Fuji Film Graphic Systems Co., Ltd. Can be used.

本発明のプリント基板製造方法を用いれば、高精細、高再現性のプリント基板を低コストで大量に、高い生産性で、かつ現像廃液のない環境に優しい方法で製造することができる。   By using the printed circuit board manufacturing method of the present invention, a high-definition and highly reproducible printed circuit board can be manufactured in a large amount at a low cost, with high productivity, and in an environment-friendly manner without developing waste liquid.

以下、実施例にて更に本発明を詳細に説明する。
[実施例1]
(導電性ペースト)
下記組成物を混合、分散させて導電性ペーストインキを作製した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
[Example 1]
(Conductive paste)
The following composition was mixed and dispersed to prepare a conductive paste ink.

平均粒径7nmの銀粉:96重量部
フェノール樹脂(三井化学(株)製、ミレックスTMXLC):2部
エポキシ樹脂(日本化薬(株)製、EOCNTM4400):2部
ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート:100部
(平版印刷原版の作成)
予めプライマーとして1μmの厚さのウレタン樹脂(三井化学(株)製、ウレタン樹脂オレスターTMUD350)をワイヤーバーを用いて塗布した厚さ0.28mmのアルミニウム板に下記親水性樹脂組成物をワイヤーバーを用いて均一に塗布した後、120℃で1時間乾燥し、約2μmの膜厚の感光層を成膜した。
Silver powder having an average particle size of 7 nm: 96 parts by weight phenolic resin (Mitsui Chemicals Co., MILEX TM XLC): 2 parts epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., EOCN TM 4400): 2 parts Diethylene glycol monomethyl ether acetate: 100 copies (preparation of lithographic printing plate)
Wire the following hydrophilic resin composition to a 0.28 mm thick aluminum plate coated with a 1 μm thick urethane resin (Mitsui Chemicals, Urethane Resin Olester TM UD350) using a wire bar in advance. After uniformly coating using a bar, it was dried at 120 ° C. for 1 hour to form a photosensitive layer having a thickness of about 2 μm.

アクリルアミド:ヒドロキシエチルメタクリレート=90:10(重量比)の親水性ポリマー水溶液(固形分10重量%):400部
メチル化メラミン樹脂(三井サイテック(株)製、サイメルTM350、固形分80重量%):25部
水分散ウレタン樹脂(第一工業製薬(株)製、スーパーフレックスTM700、固形分40重量%):100部
シアニン色素水溶液(日本感光性色素(株)製、IR−125、固形分5重量%):100部
アニオン系界面活性剤(第一工業製薬(株)製プライサーフTMA212E、:固形分100重量%):1部
(平版印刷版の作成)
この原版に波長830nmの半導体レーザー光を350mJ/cmの照射エネルギー密度となるように集光しながら走査照射して、線幅25μmの回路パターンを描画し、平版印刷版を作成した。
Acrylamide: hydroxyethyl methacrylate = 90: 10 (weight ratio) hydrophilic polymer aqueous solution (solid content 10 wt%): 400 parts Methylated melamine resin (Mitsui Cytec Co., Ltd., Cymel TM 350, solid content 80 wt%) : 25 parts Water-dispersed urethane resin (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Superflex 700, solid content 40 wt%): 100 parts Cyanine dye aqueous solution (Nippon Photosensitive Dye Co., Ltd., IR-125, solid content) 5 wt%): 100 parts Anionic surfactant (Pricesurf TM A212E manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: solid content 100 wt%): 1 part (Preparation of lithographic printing plate)
The original plate was scanned and irradiated with a semiconductor laser beam having a wavelength of 830 nm so as to have an irradiation energy density of 350 mJ / cm 2 to draw a circuit pattern having a line width of 25 μm, and a lithographic printing plate was prepared.

(印刷)
この印刷版を現像せずにそのまま大日本スクリーン製造(株)製4色平台オフセット印刷機KF−423−GLの版台に固定した。湿し水として(株)日研化学研究所のアストロマーク3の2%水溶液、インキとして上記導電性ペーストを準備した。印刷版に湿し水と導電性ペーストを供給した後、住友ベークライト製のスミライトTMPLに印刷を行った。基板を次々と供給することで、100枚のプリント基板を製造することができた。このとき100枚全てのプリント基板の線幅が27±2μmで描けており、高精細かつ高再現性であることがわかった。
(printing)
This printing plate was fixed as it was on a printing plate of a 4-color flatbed offset printing machine KF-423-GL manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. without development. A 2% aqueous solution of Astro Mark 3 from Nikken Chemical Research Co., Ltd. was used as the fountain solution, and the conductive paste was prepared as the ink. After supplying dampening water and conductive paste to the printing plate, printing was performed on Sumitite TM PL manufactured by Sumitomo Bakelite. By supplying the substrates one after another, 100 printed boards could be manufactured. At this time, the line widths of all 100 printed boards were drawn at 27 ± 2 μm, and it was found that the line width was high definition and high reproducibility.

[実施例2]
実施例1と同様にして作成した印刷版を(株)東京機械製作所製4色輪転オフセット印刷機HB−5000EDの版胴に固定した。被印刷体として三井化学株式会社製のフィルム基板ネオフレックスTM、湿し水および導電性ペーストは実施例1と同じものを用意した。印刷版に湿し水と導電性ペーストを供給した後、印刷機を400rpmで回転させ印刷した。印刷されたフィルム基板を観察したところ線幅が27±2μmで描けており、高精細かつ高再現性であることがわかった。
[Example 2]
A printing plate prepared in the same manner as in Example 1 was fixed to a plate cylinder of a 4-color rotary offset printing machine HB-5000ED manufactured by Tokyo Machine Works, Ltd. As the substrate to be printed, the same film substrate Neofrex TM , dampening water and conductive paste manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. were prepared as in Example 1. After supplying dampening water and conductive paste to the printing plate, printing was performed by rotating the printing machine at 400 rpm. When the printed film substrate was observed, the line width was 27 ± 2 μm, and it was found that the film substrate had high definition and high reproducibility.

本発明の製造方法を用いれば、高精細、高再現性のプリント基板を低コストで大量に、かつ現像廃液のない環境に優しい方法で製造することができる。   By using the production method of the present invention, a high-definition, high-reproducibility printed circuit board can be produced in a large amount at a low cost by an environmentally friendly method free from development waste liquid.

Claims (10)

印刷法により絶縁基板上に導電回路を形成したプリント基板を製造する方法において、エネルギー照射でインキに対する親和性が変化する性質を有する平版印刷原版を用いることを特徴とするプリント基板製造方法。 A method for producing a printed circuit board having a conductive circuit formed on an insulating substrate by a printing method, wherein a lithographic printing plate having a property that the affinity for ink is changed by energy irradiation is used. プリント基板を製造する方法が、1)エネルギー照射でインキに対する親和性が変化する性質を有する平版印刷原版に回路パターンどおりにエネルギーを照射し、平版印刷版を作成する工程、続いて2)得られた平版印刷版を平版オフセット印刷機にも設置する工程、3)導電性ペーストと湿し水を印刷版上に供給し、導電性ペーストを回路パターン状に付着させる工程、4)この回路パターン状導電性パターンをブランケットを介して基板に転写する工程を有するものである請求項1記載のプリント基板製造方法。 A method for producing a printed circuit board is as follows: 1) A process for producing a lithographic printing plate by irradiating energy according to a circuit pattern to a lithographic printing plate having the property that the affinity for ink changes with energy irradiation, and 2) obtained. The process of installing the lithographic printing plate on the lithographic offset printing machine, 3) The process of supplying the conductive paste and fountain solution onto the printing plate and attaching the conductive paste to the circuit pattern, 4) The circuit pattern The printed circuit board manufacturing method according to claim 1, further comprising a step of transferring the conductive pattern to the substrate through a blanket. インキに対する親和性を変化させるエネルギーが光である請求項1又は2に記載のプリント基板製造方法。 The printed circuit board manufacturing method according to claim 1, wherein the energy for changing the affinity for ink is light. 照射する光が赤外線レーザー光である請求項3に記載のプリント基板製造方法。 The printed circuit board manufacturing method according to claim 3, wherein the irradiated light is an infrared laser beam. インキに対する親和性を変化させるエネルギーが熱である請求項1又は2に記載のプリント基板製造方法。 The printed circuit board manufacturing method according to claim 1 or 2, wherein the energy for changing the affinity for ink is heat. 平版印刷原版が、最表面層が架橋された親水性樹脂からなり、エネルギー照射により親水性が低下する性質を有する平版印刷原版である請求項1〜5に記載のプリント基板製造方法。 The method for producing a printed circuit board according to any one of claims 1 to 5, wherein the lithographic printing original plate is a lithographic printing original plate comprising a hydrophilic resin having a cross-linked outermost layer and having a property of reducing hydrophilicity upon irradiation with energy. 最表面層の架橋された親水性樹脂層が、無置換または置換(メタ)アクリルアミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミドから選ばれた1種または2種以上のモノマーを主成分として重合した親水性ポリマーを架橋してなるものである請求項6に記載のプリント基板製造方法。 The hydrophilic polymer layer in which the cross-linked hydrophilic resin layer of the outermost surface layer is polymerized based on one or more monomers selected from unsubstituted or substituted (meth) acrylamide, N-vinylformamide, and N-vinylacetamide as a main component The printed circuit board manufacturing method according to claim 6, wherein the conductive polymer is crosslinked. 最表面層の架橋された親水性樹脂層中に平均粒子径が0.005〜0.5μmであり、かつ最低造膜温度が50℃以下の親油性ポリマーを含んでなる請求項6又は7に記載のプリント基板製造方法。 The crosslinked hydrophilic resin layer of the outermost surface layer comprises an oleophilic polymer having an average particle diameter of 0.005 to 0.5 µm and a minimum film forming temperature of 50 ° C or lower. The printed circuit board manufacturing method of description. 最表面層の架橋された親水性樹脂層中に光を熱に変換する光熱変換材を含んでなる請求項6〜8記載のプリント基板製造方法。 The printed circuit board manufacturing method according to claim 6, comprising a photothermal conversion material for converting light into heat in the crosslinked hydrophilic resin layer of the outermost surface layer. 光熱変換材が700〜1100nmに吸収極大を有する赤外線吸収色素である請求項9に記載のプリント基板製造方法。 The printed circuit board manufacturing method according to claim 9, wherein the photothermal conversion material is an infrared absorbing dye having an absorption maximum at 700 to 1100 nm.
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