JP2006179618A - 半導体発光素子およびその製造方法 - Google Patents
半導体発光素子およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006179618A JP2006179618A JP2004370157A JP2004370157A JP2006179618A JP 2006179618 A JP2006179618 A JP 2006179618A JP 2004370157 A JP2004370157 A JP 2004370157A JP 2004370157 A JP2004370157 A JP 2004370157A JP 2006179618 A JP2006179618 A JP 2006179618A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent conductive
- conductive film
- semiconductor
- layer
- gallium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Abstract
【課題】 金属薄膜の密着性とオーミックコンタクトを達成する際のアニール処理においても、透明導電膜の導電性が低下しないように工夫した半導体発光素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 n型およびp型の半導体層1,2の接合界面を発光部とし、この発光部から透明導電膜3を介して発光する半導体発光素子において、透明導電膜3は、半導体層2上に積層されると共に、少なくとも半導体層2に最接近する領域にガリウムを含有している。
【選択図】 図1
【解決手段】 n型およびp型の半導体層1,2の接合界面を発光部とし、この発光部から透明導電膜3を介して発光する半導体発光素子において、透明導電膜3は、半導体層2上に積層されると共に、少なくとも半導体層2に最接近する領域にガリウムを含有している。
【選択図】 図1
Description
本発明は、化合物半導体層から光を取り出すための半導体発光素子およびその製造方法に関し、特に、透明導電膜を窓極として使用する半導体発光素子およびその製造方法に関する。
GaN、AlGaN、InGaN、InGaINなどの窒化ガリウム系化合物を用いた半導体発光素子は、緑色や青色の可視光を発するデバイスとして注目されている。この半導体発光素子を製造するには、窒化ガリウム系化合物半導体と格子整合する基板が少ないことから、通常、サファイアが結晶成長用の基板として用いられる。しかし、サファイアは電気絶縁性なので、GaAs、InPなどの導電性を有する半導体基板を用いる場合と異なり、基板側から電極を取り出すことができないことから、基板に積層された半導体層上にp側電極およびn側電極を並設させることになる。そして、このような半導体発光素子として、既に、透光性の電極を用いた窒化ガリウム系化合物半導体発光素子が提案されていて、高い光の透過性を確保している(特許文献1を参照)。
ここでは、例えば、図6に示すように、サファイア基板100の一面にGaNバッファ層101を介してn型GaN層102が積層されており、このn型GaN層102に、それぞれ、p型ドーパントであるMgを含むp型GaN層103、および、Ti/Auなどからなるn側電極104が設けられる。そして、n側電極104は、その周囲を電気絶縁性のSiO2膜105で囲まれて、p型GaN層103と電気的に絶縁されている。
また、p型GaN層103上にはSiO2膜106、Mg入りの金属薄膜層107が積層され、この金属薄膜層107上には透明電極として電流拡散用のスズ添加酸化インジュウム(ITO)膜108が設けられ、このITO膜108の一部に掛かるようにSiO2膜上にTi/Auなどからなるp側電極109が設けられている。
このような構成では、n型GaN層102とp型GaN層103との接合界面から発する光を、透明導電膜108を通して取り出すことになる。なお、図中、点線は、p側電極109から透明導電膜108を介して接合界面へ流れる電流を、また、一点鎖線は、接合界面から発する光が、透明導電膜108を介して外部に導出される状況を示している。
さて、この半導体発光素子は、その透明導電膜(ITO膜)108にn型不純物であるSnを含むので、p型GaN層103上には直接に形成できないため、p型GaN層103との間の密着性とオーミックコンタクトの取り易い、Mg入りの金属薄膜層107を介装している。この金属薄膜層107は、発光源からの透光率を少なくとも70%、確保するために、2nmの厚さに形成しており、また、透明導電膜108も、金属薄膜層107のシート抵抗を低減させるために100nmの厚さに形成している。
特許第3207773号公報
しかしながら、上述の密着性とオーミックコンタクトを達成するには透明導電膜108を積層した後、500℃で10分間のアニール処理を施す必要があり、その結果、透明導電膜108中に発光体成分のガリウムが拡散し、透明導電膜の導電性が低下する、即ち、発光効率が低下するという問題がある。
本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、金属薄膜の密着性とオーミックコンタクトを達成する際のアニール処理においても、透明導電膜の導電性が低下しないように工夫した半導体発光素子およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明の請求項1に係る半導体発光素子は、n型およびp型の半導体層の接合界面を発光部とし、該発光部から透明導電膜を介して発光する半導体発光素子であって、透明導電膜は、半導体層に積層されると共に、少なくとも半導体層に最接近する領域にガリウムを含有することを特徴とする。
本発明の請求項2に係る半導体発光素子は、請求項1において、透明導電膜が、半導体層上に金属薄膜電極層を介して積層されていることを特徴とする。
本発明の請求項3に係る半導体発光素子は、請求項1又は2において、透明導電膜が、異なる2層以上の透明導電体で構成され、ガリウムを含有する領域が、半導体層に最接近する層の透明導電体であることを特徴とする。
本発明の請求項4に係る半導体発光素子は、請求項1〜3の何れか1項において、ガリウムを拡散させた領域が、透明導電酸化物からなる薄膜であることを特徴とする。
本発明の請求項5に係る半導体発光素子は、請求項4において、ガリウムを含有する領域が、酸化亜鉛膜であることを特徴とする。
本発明の請求項6に係る半導体発光素子の製造方法は、n型およびp型の半導体層の接合界面を発光部とし、該発光部から透明導電膜を介して発光する半導体発光素子を製造する方法であって、半導体層上に透明導電膜を積層するに際して、該透明導電膜の少なくとも半導体層に最接近する領域について、透明導電膜の出発原料に予めガリウム成分を持つ物質を混合させることを特徴とする。
本発明の請求項7に係る半導体発光素子の製造方法は、請求項6において、半導体層上に金属薄膜電極層を介して透明導電膜を積層することを特徴とする。
本発明の請求項8に係る半導体発光素子の製造方法は、請求項5又は6において、透明導電膜の出発原料は、半導体層又は金属薄膜電極層上にスプレー熱分解法により成膜されることを特徴とする。
このように、本発明では、透明導電膜の半導体層に最接近する領域にガリウムを含有するので、密着性とオーミックコンタクトを達成する際のアニール処理において、透明導電膜の導電性が低下するのを抑制することができる。
次に、図1〜図5を参照して、本発明に係る半導体発光素子およびその製造方法について、その実施の態様を具体的に説明する。
(第1の実施の形態)
第1の実施の形態として図1に示す半導体発光素子は、n型およびp型の半導体層1および2の接合界面を発光部とし、この発光部から透明導電膜3を介して発光する高輝度LEDであって、透明導電膜3は、半導体層2上に積層されているものである。
第1の実施の形態として図1に示す半導体発光素子は、n型およびp型の半導体層1および2の接合界面を発光部とし、この発光部から透明導電膜3を介して発光する高輝度LEDであって、透明導電膜3は、半導体層2上に積層されているものである。
具体的に、半導体層1がn−GaN:Si層1a、n−AlGaN:Si層1b、InGaN/GaN層1cからなる積層膜であり、例えば、サファイア基板5の上に、低温成長GaNバッファ層6を介して順次積層される。また、半導体層2はp−AlGaN:Mg層2a、p−GaN:Mg層2bからなる積層膜であり、半導体層1の上に積層される。また、これと並んで半導体層1には、最終的にN電極7が設けられる。そして、透明導電膜3は、半導体層2上に積層される。なお、透明導電膜3は、異なる2層以上の透明導電体(この実施の形態では、2層の透明導電体3a、3b)で構成される。特に、本発明では、透明導電体3aが、少なくとも半導体層2に最接近する透明導電膜3の領域であり、ここにガリウムを拡散させて、ガリウム成分を含む導電性の高い透明導電膜(スズ添加酸化インジウム、酸化インジウム、酸化亜鉛などを主成分とする)として機能する。なお、透明導電体3bは、耐熱性の高い透明導電膜として、酸化スズまたはフッ素添加酸化スズの膜で構成される。
ここでの成膜には、有機金属気相成長法(MOCVD法)、ハイライド気相成長法(HDCVD)などが用いられる。前者では、原料ガスに、例えばガリウム源としてトリメチルガリウム、窒素源としてモノシラン、アルミニウム源としてトリメチルアルミニウム、インジウム源としてトリメチルインジウム、マグネシウム源としてビスシクロペンタジエニルマグネシウムを用い、キャリアガスとして水素ガス、窒素ガスなどを用いる。
透明導電膜3の半導体層2に最接近する領域にガリウムを拡散させるには、透明導電膜3の出発原料に予めガリウム成分を持つ物質を混合させる手段が用いられる。具体的には、図5に示すように、透明導電膜3の出発原料を半導体層2上にスプレー熱分解法(SPD法)により成膜する。ここでは、大気中で半導体チップ(未完の半導体発光素子)あるいはウエハを、ヒータで加熱された支持台8上に載せ、その上方に配置したノズル9から、エアの吹き込みにより、例えば、エタノール溶液を噴霧することで、透明導電体3aを成膜するのである。
この際、透明導電体3aを、透明導電酸化物としてのZnOで成膜する場合、支持台5上のチップあるいはウエハは300℃に加熱する。また、GZOおよびAZOで成膜する場合、支持台5上のチップあるいはウエハは320℃に加熱する。また、エタノール溶液には、塩化亜鉛(水和物)および塩化ガリウムが溶かされており、ガリウムの添加量が亜鉛に対して元素比で0.3at%となるように配合される。さらに、塩化ガリウムに代えて塩化アルミニウムを溶かし、アルミニウムの添加量が亜鉛に対して元素比で0.3at%となるように配合してもよい。なお、透明導電体3aの成膜後、透明導電体3bを連続して成膜してもよい。
このように構成した後、半導体2との間の密着性およびオーミック接合を実現するため、大気中で500℃/hourのアニール処理を行う。このとき、半導体層2から拡散するガリウムとあわせてZnO中の不純物ドープ量は、1.0〜4.0at%であることが望ましい。そして、最後に半導体発光素子のN電極とP電極とを取り付けるのである。このようにして、半導体発光素子をホモ、シングルへテロ、ダブルへテロなどの構造とする。
なお、上記第1の実施の形態では、透明導電膜3を2層に分けたが、これをスズ添加酸化インジウムなどの1層で構成し、この全領域にガリウムを拡散させることもできる。また、拡散するガリウムに代わる素材として、アルミニウム、砒素などが挙げられる。更に、透明導電膜3を2層以上(例えば、3層)に分けた場合、ガリウムを含む酸化亜鉛膜は、最外表層以外の透明導電体であり、その下層が金、銀、銅、白金、ニッケル、マグネシウム、クロム、タングステンより選択された少なくとも2種を含む合金であるとよい。
(第2の実施の形態)
第2の実施の形態として図2に示す半導体発光素子において、半導体層1は、n−GaAs基板5’の上に、n−AlGaInPクラッド層1a’を介してAlGaInP層1b’を積層したものであり、半導体層2は、半導体層1の上に、p−AlGaInPクラッド層2a’を介してp−AlGaInP電流分散層2b’を積層したものである。なお、透明導電膜3の構成は、第1の実施の形態と同様なので、その説明を省略する。ここでも、透明導電膜3は2層に分けられ、半導体層2に最接近する領域としての透明導電体には、ガリウムを拡散する。
第2の実施の形態として図2に示す半導体発光素子において、半導体層1は、n−GaAs基板5’の上に、n−AlGaInPクラッド層1a’を介してAlGaInP層1b’を積層したものであり、半導体層2は、半導体層1の上に、p−AlGaInPクラッド層2a’を介してp−AlGaInP電流分散層2b’を積層したものである。なお、透明導電膜3の構成は、第1の実施の形態と同様なので、その説明を省略する。ここでも、透明導電膜3は2層に分けられ、半導体層2に最接近する領域としての透明導電体には、ガリウムを拡散する。
これら第1及び第2の実施の形態で、ガリウム(あるいはアルミニウム)を拡散した領域を有するGaN系およびAlGaInP系の半導体発光素子について、その抵抗値の低減効果を数値的に示した計測結果を以下の表1および表2で示す。なお、本発明との対比のため、半導体層2に最接近する領域にガリウム(あるいはアルミニウム)を拡散しない従来の事例を添えている。
以上の表1及び表2の結果から、LED作成過程で熱処理を行うと、透明導電膜中に発光体成分としてのガリウムが拡散していることがわかる。さらに、予め透明導電膜の材料にガリウムを添加することにより、ガリウムが拡散する量とあわせて、最適なガリウムドープ量を得ることができる。なお、ガリウムをアルミニウムなどの他のドーパントに置き換えても、同様の効果があると認められる。また、この測定結果は、改善前の透明導電膜(ITO単層膜)の場合と比較して低減することが可能であることを示している。因みに、ZnOを用いた場合では、発光効率がGaN系で42%、AlGaInP系で36%程度の向上した。また、GZOを用いた場合には、発光効率がGaN系で45%、AlGaInP系で39%程度の向上した。また、AZOを用いた場合には、発光効率がGaN系で44%、AlGaInP系で37%程度の向上した。
(第3の実施の形態)
第3の実施の形態として図3に示す半導体発光素子は、n型およびp型の半導体層1および2の接合界面を発光部とし、この発光部から透明導電膜3を介して発光する高輝度LEDであって、透明導電膜3は、半導体層2上に金属薄膜電極層4を介して積層されているものである。
第3の実施の形態として図3に示す半導体発光素子は、n型およびp型の半導体層1および2の接合界面を発光部とし、この発光部から透明導電膜3を介して発光する高輝度LEDであって、透明導電膜3は、半導体層2上に金属薄膜電極層4を介して積層されているものである。
具体的には、半導体層1がn−GaN:Si層1a、n−AlGaN:Si層1b、InGaN/GaN層1cからなる積層膜であり、例えば、サファイア基板5の上に、低温成長GaNバッファ層6を介して順次積層される。また、半導体層2はp−AlGaN:Mg層2a、p−GaN:Mg層2bからなる積層膜であり、半導体層1の上に積層される。また、これと並んで半導体層1には、最終的にN電極7が設けられる。そして、透明導電膜3は、金属薄膜電極層(例えば、Niを5nm厚にて蒸着)4を介して半導体層2上に積層される。なお、透明導電膜3は、異なる2層以上の透明導電体(この実施の形態では、2層の透明導電体3a、3b)で構成される。特に、本発明では、透明導電体3aが、少なくとも金属薄膜電極層4に最接近する透明導電膜3の領域であり、ここにガリウムを拡散させて、ガリウム成分を含む導電性の高い透明導電膜(スズ添加酸化インジウム、酸化インジウム、酸化亜鉛などを主成分とする)として機能する。なお、透明導電体3bは、耐熱性の高い透明導電膜として、酸化スズまたはフッ素添加酸化スズの膜で構成される。
ここでの成膜には、有機金属気相成長法(MOCVD法)、ハイライド気相成長法(HDCVD)などが用いられる。前者では、原料ガスに、例えばガリウム源としてトリメチルガリウム、窒素源としてモノシラン、アルミニウム源としてトリメチルアルミニウム、インジウム源としてトリメチルインジウム、マグネシウム源としてビスシクロペンタジエニルマグネシウムを用い、キャリアガスとして水素ガス、窒素ガスなどを用いる。
透明導電膜3の金属薄膜電極層4に最接近する領域にガリウムを拡散させるには、透明導電膜3の出発原料に予めガリウム成分を持つ物質を混合させる手段が用いられる。具体的には、図5に示すように、透明導電膜の出発原料を金属薄膜電極層4上にスプレー熱分解法(SPD法)により成膜する。ここでは、大気中で半導体チップ(未完の半導体発光素子)あるいはウエハを、ヒータで加熱された支持台8上に載せ、その上方に配置したノズル9から、エアの吹き込みにより、例えば、エタノール溶液を噴霧することで、透明導電体3aを成膜するのである。
この際、透明導電体3aを、透明導電酸化物としてのZnOで成膜する場合、支持台5上のチップあるいはウエハは300℃に加熱する。また、GZOおよびAZOで成膜する場合、支持台5上のチップあるいはウエハは320℃に加熱する。また、エタノール溶液には、塩化亜鉛(水和物)および塩化ガリウムが溶かされており、ガリウムの添加量が亜鉛に対して元素比で0.5at%となるように配合される。さらに、塩化ガリウムに代えて塩化アルミニウムを溶かし、アルミニウムの添加量が亜鉛に対して元素比で0.5at%となるように配合してもよい。なお、透明導電体3aの成膜後、透明導電体3bを連続して成膜してもよい。
このように構成した後、金属薄膜電極層4と半導体2との間の密着性およびオーミック接合を実現するため、大気中で500℃/hourのアニール処理を行う。このとき、半導体層2から拡散するガリウムとあわせてZnO中の不純物ドープ量は、1.0〜4.0at%であることが望ましい。そして、最後に半導体発光素子のN電極とP電極とを取り付けるのである。このようにして、半導体発光素子をホモ、シングルへテロ、ダブルへテロなどの構造とする。
なお、上記第3の実施の形態では、透明導電膜3を2層に分けたが、これをスズ添加酸化インジウムなどの1層で構成し、この全領域にガリウムを拡散させることもできる。また、拡散するガリウムに代わる素材として、アルミニウム、砒素などが挙げられる。更に、透明導電膜3を2層以上(例えば、3層)に分けた場合、ガリウムを含む酸化亜鉛膜は、最外表層以外の透明導電体であり、その下層が金、銀、銅、白金、ニッケル、マグネシウム、クロム、タングステンより選択された少なくとも2種を含む合金であるとよい。
(第4の実施の形態)
第4の実施の形態として図4に示す半導体発光素子において、半導体層1は、n−GaAs基板5’の上に、n−AlGaInPクラッド層1a’を介してAlGaInP層1b’を積層したものであり、半導体層2は、半導体層1の上に、p−AlGaInPクラッド層2a’を介してp−AlGaInP電流分散層2b’を積層したものである。なお、透明導電膜3、金属薄膜電極層4の構成は、第1の実施の形態と同様なので、その説明を省略する。ここでも、透明導電膜3は2層に分けられ、金属薄膜電極層4に最接近する領域としての透明導電体には、ガリウムを拡散する。
第4の実施の形態として図4に示す半導体発光素子において、半導体層1は、n−GaAs基板5’の上に、n−AlGaInPクラッド層1a’を介してAlGaInP層1b’を積層したものであり、半導体層2は、半導体層1の上に、p−AlGaInPクラッド層2a’を介してp−AlGaInP電流分散層2b’を積層したものである。なお、透明導電膜3、金属薄膜電極層4の構成は、第1の実施の形態と同様なので、その説明を省略する。ここでも、透明導電膜3は2層に分けられ、金属薄膜電極層4に最接近する領域としての透明導電体には、ガリウムを拡散する。
これら第3及び第4の実施の形態で、ガリウム(あるいはアルミニウム)を拡散した領域を有するGaN系およびAlGaInP系の半導体発光素子について、その抵抗値の低減効果を数値的に示した計測結果を以下の表3および表4で示す。なお、本発明との対比のため、金属薄膜電極層4に最接近する領域にガリウム(あるいはアルミニウム)を拡散しない従来の事例を添えている。
以上の表3及び表4の結果から、LED作成過程で熱処理を行うと、透明導電膜中に発光体成分としてのガリウムが拡散していることがわかる。さらに、予め透明導電膜の材料にガリウムを添加することにより、ガリウムが拡散する量とあわせて、最適なガリウムドープ量を得ることができる。なお、ガリウムをアルミニウムなどの他のドーパントに置き換えても、同様の効果があると認められる。また、この測定結果は、改善前の透明導電膜(ITO単層膜)の場合と比較して、比抵抗で約2/3未満に低減することが可能であることを示している。因みに、ZnOを用いた場合で、発光効率はGaN系で46%、AlGaInP系で38%程度の向上した。また、GZOを用いた場合には、発光効率がGaN系で51%、AlGaInP系で42%程度の向上した。また、AZOを用いた場合には、発光効率がGaN系で48%、AlGaInP系で41%程度の向上した。
本発明で特徴となる半導体発光素子の構造は、液晶表示素子や太陽電池に代表される光電変換素子における性能向上に有効である。
1・・・半導体層、1a・・・n−GaN:Si層、1b・・・n−AlGaN:Si層、1c・・・InGaN/GaN層、2・・・半導体層、2a・・・p−AlGaN:Mg層、2b・・・p−GaN:Mg層、3・・・透明導電膜、3a、3b・・・透明導電体、4・・・金属薄膜電極層、5・・・サファイア基板、6・・・低温成長GaNバッファ層、7・・・N電極、8・・・支持台、9・・・ノズル
Claims (8)
- n型およびp型の半導体層の接合界面を発光部とし、該発光部から透明導電膜を介して発光する半導体発光素子であって、
前記透明導電膜は、前記半導体層上に積層されると共に、少なくとも前記半導体層に最接近する領域にガリウムを含有することを特徴とする半導体発光素子。 - 前記透明導電膜は、前記半導体層上に金属薄膜電極層を介して積層されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記透明導電膜は、異なる2層以上の透明導電体で構成され、前記ガリウムを含有する領域は、前記半導体層に最接近する層の透明導電体であることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体発光素子。
- 前記ガリウムを含有する領域は、透明導電酸化物からなる薄膜であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の半導体発光素子。
- 前記ガリウムを含有する領域は、酸化亜鉛膜であることを特徴とする請求項4に記載の半導体発光素子。
- n型およびp型の半導体層の接合界面を発光部とし、該発光部から透明導電膜を介して発光する半導体発光素子を製造する方法であって、
前記半導体層上に前記透明導電膜を積層するに際して、該透明導電膜の少なくとも前記半導体層に最接近する領域について、前記透明導電膜の出発原料に予めガリウム成分を持つ物質を混合させることを特徴とする半導体発光素子の製造方法。 - 前記半導体層上に金属薄膜電極層を介して前記透明導電膜を積層することを特徴とする請求項6に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記透明導電膜の出発原料は、前記半導体層又は前記金属薄膜電極層上にスプレー熱分解法により成膜されることを特徴とする請求項6又は7に記載の半導体発光素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004370157A JP2006179618A (ja) | 2004-12-21 | 2004-12-21 | 半導体発光素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004370157A JP2006179618A (ja) | 2004-12-21 | 2004-12-21 | 半導体発光素子およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006179618A true JP2006179618A (ja) | 2006-07-06 |
Family
ID=36733444
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004370157A Withdrawn JP2006179618A (ja) | 2004-12-21 | 2004-12-21 | 半導体発光素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006179618A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007073965A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 窒化物半導体発光素子及び窒化物半導体発光素子の製造方法 |
JP2008098486A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Kyocera Corp | 発光素子 |
KR101013506B1 (ko) | 2007-03-30 | 2011-02-10 | 에피스타 코포레이션 | 적층 구조의 투명 전극을 갖는 반도체 발광 장치 |
US8193548B2 (en) | 2010-05-07 | 2012-06-05 | Panasonic Corporation | Light-emitting diode |
US8304803B2 (en) | 2010-04-20 | 2012-11-06 | Panasonic Corporation | Light-emitting diode |
JP2015026656A (ja) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | 晶元光電股▲ふん▼有限公司 | 発光素子 |
US9243778B2 (en) | 2013-05-31 | 2016-01-26 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Wavelength conversion element, light emitting device including wavelength conversion element, and vehicle including light emitting device |
WO2021124006A1 (ja) * | 2019-12-20 | 2021-06-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 無機発光素子、半導体装置、無機発光素子の作製方法 |
-
2004
- 2004-12-21 JP JP2004370157A patent/JP2006179618A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007073965A (ja) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 窒化物半導体発光素子及び窒化物半導体発光素子の製造方法 |
JP2008098486A (ja) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Kyocera Corp | 発光素子 |
KR101013506B1 (ko) | 2007-03-30 | 2011-02-10 | 에피스타 코포레이션 | 적층 구조의 투명 전극을 갖는 반도체 발광 장치 |
US8304803B2 (en) | 2010-04-20 | 2012-11-06 | Panasonic Corporation | Light-emitting diode |
US8193548B2 (en) | 2010-05-07 | 2012-06-05 | Panasonic Corporation | Light-emitting diode |
US9243778B2 (en) | 2013-05-31 | 2016-01-26 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Wavelength conversion element, light emitting device including wavelength conversion element, and vehicle including light emitting device |
JP2015026656A (ja) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | 晶元光電股▲ふん▼有限公司 | 発光素子 |
WO2021124006A1 (ja) * | 2019-12-20 | 2021-06-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 無機発光素子、半導体装置、無機発光素子の作製方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101262037B (zh) | 氮化物半导体发光装置 | |
TWI266436B (en) | Light-emitting device and method for manufacturing the same | |
US7807521B2 (en) | Nitride semiconductor light emitting device and method of manufacturing the same | |
TWI495149B (zh) | 電流擴散效果優秀的氮化物半導體發光器件及其製備方法 | |
TWI240969B (en) | Nitride semiconductor device and method for manufacturing same | |
JP3394488B2 (ja) | 窒化ガリウム系半導体発光素子及びその製造方法 | |
TW200807756A (en) | Process for producing semiconductor light emitting element, semiconductor light emitting element, and lamp equipped with the same | |
JPWO2006120908A1 (ja) | 窒化物系半導体素子及びその製造方法 | |
JP2008103674A (ja) | 多層反射膜電極及びそれを備えた化合物半導体発光素子 | |
JP2007142028A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 | |
TW563207B (en) | N-type electrode for III nitride-system compound semiconductor element, III nitride-system compound semiconductor element, and method for producing the same | |
JP2006156590A (ja) | 発光ダイオード | |
TW201415657A (zh) | Led元件及其製造方法 | |
TWI260099B (en) | Positive electrode structure and gallium nitride-based compound semiconductor light-emitting device | |
TW201526287A (zh) | 半導體裝置之製造方法 | |
JPH10173222A (ja) | 半導体発光素子の製法 | |
TW201327903A (zh) | 包括碳摻雜的p型氮化物層的氮化物類發光器件 | |
CN103489981B (zh) | 发光二极管及其制造方法 | |
CN1354528A (zh) | 自钝化非平面结三族氮化物半导体器件及其制造方法 | |
TWI295513B (en) | Gallium nitride-based semiconductor device | |
JP2006179618A (ja) | 半導体発光素子およびその製造方法 | |
US20060234411A1 (en) | Method of manufacturing nitride semiconductor light emitting diode | |
TWI585993B (zh) | Nitride light emitting device and manufacturing method thereof | |
JP2006024913A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子用透光性正極および発光素子 | |
JP2003124518A (ja) | 窒化ガリウム系半導体発光素子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080304 |