JP2006179560A - Reproducing method of storage element and memory circuit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電源を切っても記憶情報が消えない不揮発性記憶素子の再生方法およびメモリ回路に関する。 The present invention relates to a method for reproducing a nonvolatile memory element and a memory circuit in which stored information does not disappear even when the power is turned off.
近年、電子機器におけるデジタル技術の進展に伴い、画像などのデータを保存するために不揮発性記憶素子の要望が大きくなってきており、さらに記憶素子の大容量化、書き込み電力の低減、書き込み/読み出し時間の高速化、長寿命化の要求がますます高まりつつある。現在、不揮発性メモリ素子としては半導体トランジスタのゲート部分に浮遊ゲートを設け、その浮遊ゲート内に電子を注入するメカニズムを用いて不揮発性を実現したフラッシュメモリが実用化され、デジタルカメラやパーソナルコンピュータの外部記憶素子として多く用いられている。
しかしながら、フラッシュメモリは書き込み電圧が高い、書き込み/消去時間が遅い、書き換え寿命が短い、大容量化(素子の微細化)が困難等の多くの課題を有している。そのため、現在これらフラッシュメモリの課題を解決すべく、強誘電体を用いた半導体メモリ(FeRAM)、TMR(トンネルMR)材料を用いた半導体メモリ(MRAM)、相変化材料用いた半導体メモリ(OUM)等の新規な不揮発性メモリ素子の開発が盛んに行われている。しかし、これらのメモリ素子もFeRAMに関しては、素子の微細化が困難、MRAMに関しては書き込み電圧が高い、OUMに関しては書き換え寿命が短い等の課題を有しており、不揮発性メモリ素子に対する全ての要望を満たす記憶素子がないのが現状である。したがって、それらを克服するための新しい記録方法をとしてヒューストン大学からパルス電圧によりペロブスカイト構造酸化物の抵抗値を変化させる手法が開発された(特許文献1)が、記憶素子としての動作時における再生の際に、記録された抵抗値が変化してしまい、データ保持特性に欠けるとういう大きな課題を有することがわかった。 However, the flash memory has many problems such as a high write voltage, a slow write / erase time, a short rewrite life, and difficulty in increasing the capacity (element miniaturization). Therefore, in order to solve the problems of these flash memories at present, a semiconductor memory (FeRAM) using a ferroelectric material, a semiconductor memory (MRAM) using a TMR (tunnel MR) material, and a semiconductor memory (OUM) using a phase change material. The development of new nonvolatile memory devices such as the above has been actively conducted. However, these memory elements also have problems such as difficulty in miniaturization of elements for FeRAM, high write voltage for MRAM, and short rewrite life for OUM, and all requests for nonvolatile memory elements. There is no memory element that satisfies this condition. Therefore, as a new recording method for overcoming them, a method of changing the resistance value of the perovskite structure oxide by a pulse voltage was developed from the University of Houston (Patent Document 1). At this time, it was found that the recorded resistance value changed and had a big problem of lacking data retention characteristics.
本発明による記憶素子の再生方法は、電気的パルスを印加することにより抵抗値を異なる状態に変化させることができる可変抵抗体を用いた記憶素子の再生方法であって、前記可変抵抗体に第1電圧パルスと第1電圧パルスとは符号の異なる第2電圧パルスからなる一組の再生電圧パルスを印加することで、前記可変抵抗体の抵抗値の異なる状態を読み取ることを特徴とする。 A method for reproducing a memory element according to the present invention is a method for reproducing a memory element using a variable resistor capable of changing a resistance value to a different state by applying an electric pulse. It is characterized in that a state in which the resistance value of the variable resistor is different is read by applying a set of regenerative voltage pulses composed of second voltage pulses having different signs for the one voltage pulse and the first voltage pulse.
また、本発明によるメモリ回路は、電気的パルスを印加することにより抵抗値を異なる状態に変化させることができる可変抵抗体と、前記可変抵抗体と直列に接続されたダイオードと、前記ダイオードと並列に接続されたセンスアンプとを備え、第1電圧パルスと第1電圧パルスとは符号の異なる第2電圧パルスからなる一組の再生電圧パルスを前記可変抵抗体に印加することで、前記可変抵抗体の抵抗値の異なる状態を前記センスアンプに流れる電流値により読み取る、ことを特徴とする。 The memory circuit according to the present invention includes a variable resistor capable of changing a resistance value to a different state by applying an electric pulse, a diode connected in series to the variable resistor, and a parallel to the diode. And applying a set of regenerative voltage pulses composed of second voltage pulses having different signs to the first voltage pulse and the first voltage pulse, to the variable resistor. It is characterized in that states having different resistance values of the body are read based on current values flowing through the sense amplifier.
本発明により、従来の不揮発性記憶素子で課題となっていた、書き込み電力が高い、書き込み時間が長い、書き換え寿命が短い、大容量化(素子の微細化)が困難等の多くの課題を全て解決することができる不揮発性記憶素子(ペロブスカイト構造酸化物の抵抗値をパルス電圧により変化させる原理を用いた)で大きな課題となっていた再生過程での抵抗変化を少なくすることができ、この結果、データ保持特性を飛躍的に向上させることができる。 According to the present invention, all of the many problems such as high writing power, long writing time, short rewrite life, and difficulty in increasing capacity (element miniaturization), which have been problems with conventional nonvolatile memory elements Non-volatile memory elements that can be solved (using the principle of changing the resistance value of the perovskite structure oxide by the pulse voltage) can reduce the resistance change during the reproduction process, which has been a major issue. Data retention characteristics can be dramatically improved.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図面において同一または相当する部分には同一の参照符号を付してその説明は繰り返さない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and description thereof will not be repeated.
<可変抵抗体の基本構成および基本特性>
まず、本発明の実施形態において用いられる可変抵抗体の基本構成および基本特性について説明する。
<Basic configuration and basic characteristics of variable resistor>
First, the basic configuration and basic characteristics of the variable resistor used in the embodiment of the present invention will be described.
本実施形態において用いられる可変抵抗体は、与えられる電気的パルスの符号に応じてその抵抗値を増加/減少させる特性を有するものである。その基本構成を図1に示す。この可変抵抗体では、基板4上に電極3を設け、電極3上に抵抗変化材料2を成膜し、抵抗変化材料2上に電極1を設けている。ここでは、抵抗変化材料2としてPr0.7Ca0.3MnO3(PCMO)からなるCMR材料を用いた。PCMO材料は、印加されるパルス電圧(ここでは電極1、3間に与えられるパルス電圧)の符号(ここでは電極1,3間に与えられるパルス電圧の極性)により、抵抗値が可逆的に変化(増加/減少)することが特許文献1に報告されている。我々が成膜したPCMO膜の抵抗変化の実験結果を図2に示す。ここでは、PCMO膜の形成は基板温度を700℃に加熱してスパッタ法で行った。膜厚は0.1μmとした。また電極材料としては電極1、3ともにPtを用いた。本実験ではパルス電圧の極性を、便宜上PCMO材料2の膜表面(電極1)に与える電圧の極性として定義した。ここで、成膜直後のPCMO材料の抵抗値は高く、またバラツキも大きいため、本実験では+極性のパルス電圧(電圧値3V、パルス幅10μsec.)を複数回印加して抵抗値を減少させ、約1000Ωになった時点を初期状態(リセット)とした。PCMO材料の抵抗値がパルス電圧の符号に応じて可逆的に変化した結果を図2に示す。本実施例では、印加したパルス電圧は5V、パルス幅は10nsec.、パルス数は1回としている。−極性のパルス電圧印加によりPCMO膜2の抵抗値は1000Ωから10000Ω(高抵抗状態)へと約1桁増加し、更に+極性のパルス電圧印加により、抵抗値が10000Ωから初期の1000Ω(低抵抗状態)へと減少し、この変化は繰り返し可逆的におこることが確認されている。本実験における各抵抗値の測定は、PCMO膜2に約500mVのDC電圧を印加して、その時の電流を測定することで算出している。このように本実験でのPCMO膜2は、膜表面に−極性のパルス電圧印加により抵抗値が増加し、+極性のパルス電圧印加により抵抗値が減少する特性を有する。
The variable resistor used in the present embodiment has a characteristic of increasing / decreasing its resistance value according to the sign of an applied electric pulse. The basic configuration is shown in FIG. In this variable resistor, an
本実験では、パルス電圧の極性を、便宜上PCMO材料2の膜表面(電極1)に与える電圧の極性と定義して説明したが、回路図で説明する場合は材料の表裏の定義は意味を持たないので、ここで使用した可変抵抗体を図3に示すような記号で表記することにする。すなわち、可変抵抗体を記号11のように表し、記号11の中で、矢印の先端に+極性のパルス電圧が印加されると抵抗値が増加して高抵抗状態にセットされ、矢印の先端に−極性のパルス電圧が印加されると抵抗値が減少して低抵抗状態にリセットされる特性を有すると定義すると、図3(a)のように−5Vのパルス電圧15aが入力端子13に印加されると可変抵抗体11の抵抗値が高抵抗状態にセットされ、図3(b)のように+5Vのパルス電圧15bが印加されると可変抵抗体11の抵抗値が低抵抗状態にリセットされることになる。このようにして、データの記録、消去が可能となる。
In this experiment, the polarity of the pulse voltage has been defined as the polarity of the voltage applied to the film surface (electrode 1) of the
図4は、記録(セット)状態、消去(リセット)状態を再生する方法を示す。再生時には、図4(a)に示すように、+2Vのパルス電圧(パルス幅は10nsec.)16aを印加して、センスアンプ14により電流値を読み取ることにより、可変抵抗体11が記録状態(高抵抗状態)にあるのか、消去状態(低抵抗状態)にあるのかを識別することができる。また、再生時には、図4(b)のように、逆極性のパルス電圧(−2V,10nsec.)16bを印加しても同様に識別可能である。
FIG. 4 shows a method of reproducing the recording (set) state and the erasing (reset) state. At the time of reproduction, as shown in FIG. 4A, by applying a + 2V pulse voltage (pulse width is 10 nsec.) 16a and reading the current value by the
図5(a)は、記録状態(高抵抗状態)を+2Vのパルス電圧(パルス幅は10nsec.)で複数回読み出した場合の抵抗値の変化を示す。図5(b)は、記録状態(高抵抗状態)を−2Vのパルス電圧(パルス幅は10nsec.)で複数回読み出した場合の抵抗値の変化を示す。このように可変抵抗体の抵抗値は、+極性の電圧で読み出した場合は読み出し回数に従い徐々に減少していき(図5(a))、−極性の電圧で読み出した場合は読み出し回数に従い徐々に増加していくことがわかる(図5(b))。図6は、同様に消去状態(低抵抗状態)の場合の読み出し回数による抵抗値の変化を示す。このように本実験では、可変抵抗体の抵抗値が読み出し後に変化してしまうという基本的な特性を有していることがわかった。したがって、本可変抵抗体を記憶素子として用いた場合には、データ保持特性に欠けるという大きな課題がある。 FIG. 5A shows a change in resistance value when the recording state (high resistance state) is read a plurality of times with a pulse voltage of +2 V (pulse width is 10 nsec.). FIG. 5B shows a change in resistance value when the recording state (high resistance state) is read a plurality of times with a pulse voltage of −2 V (pulse width is 10 nsec.). As described above, the resistance value of the variable resistor gradually decreases according to the number of readings when read with a positive polarity voltage (FIG. 5 (a)), and gradually reads according to the number of readings when reading with a negative polarity voltage. As can be seen from FIG. 5 (b). FIG. 6 shows the change in resistance value according to the number of readings in the case of the erased state (low resistance state). Thus, in this experiment, it has been found that the resistance value of the variable resistor has a basic characteristic that it changes after reading. Therefore, when this variable resistor is used as a memory element, there is a big problem that data retention characteristics are lacking.
(第1の実施形態)
第1の実施形態による記憶素子の再生方法の概略を図7(a)に示す。本実施形態では記憶素子が記録状態(高抵抗状態)か消去状態(低抵抗状態)かを識別するための再生パルスが、+2V(10nsec.)の第1電圧パルスと、第1電圧パルスとはパルス幅およびパルス電圧の絶対値が同じで符号が異なる−2V(10nsec.)の第2電圧パルスからなる一組の再生電圧パルス17aからなることを特徴としている。センスアンプ14には+電流と−電流が両方流れるが、最初の+電流の値から、可変抵抗体11が記録状態(高抵抗状態)にあるのか消去状態(低抵抗状態)にあるのかを識別することができ、さらに−極性のパルス電圧により可変抵抗体11の抵抗値は再生前の状態に戻ることができる。図8に本実施形態の再生パルス電圧17aで読み出した後の抵抗値の読み出し回数による変化の様子を、(a)記録状態(高抵抗状態)及び(b)消去状態(低抵抗状態)について示す。このように本実施形態による再生方法によれば、可変抵抗体11の抵抗値が読み出しにより変化することなく、一定値を保持していることがわかり、データ保持特性に優れた記憶素子を実現することができる。
(First embodiment)
FIG. 7A shows an outline of the storage element reproducing method according to the first embodiment. In the present embodiment, the reproduction pulse for identifying whether the memory element is in the recording state (high resistance state) or the erasing state (low resistance state) is the first voltage pulse of +2 V (10 nsec.) And the first voltage pulse. The pulse width and the absolute value of the pulse voltage are the same, and the signs are different from each other. The
(第2の実施形態)
第2の実施形態による記憶素子の再生方法の概略を図7(b)に示す。本実施形態では記憶素子が記録状態(高抵抗状態)か消去状態(低抵抗状態)かを識別するための再生パルスが、−2V(10nsec.)の第1電圧パルスと、第1電圧パルスとはパルス幅およびパルス電圧の絶対値が同じで符号が異なる+2V(10nsec.)の第2電圧パルスからなる一組の再生電圧パルス17bからなることを特徴としている。センスアンプ14には−電流と+電流が両方流れるが、最初の−電流の値から、可変抵抗体11が記録状態(高抵抗状態)にあるのか消去状態(低抵抗状態)にあるのかを識別することができ、さらに+極性のパルス電圧により可変抵抗体11の抵抗値は再生前の状態に戻ることができる。図8に本実施形態の再生パルス電圧17bで読み出した後の抵抗値の読み出し回数による変化の様子を、(a)記録状態(高抵抗状態)及び(b)消去状態(低抵抗状態)について示す。このように本実施形態による再生方法においても、可変抵抗体11の抵抗値が読み出しにより変化することなく、一定値を保持していることがわかり、データ保持特性に優れた記憶素子を実現することができる。
(Second Embodiment)
FIG. 7B shows an outline of a storage element reproducing method according to the second embodiment. In the present embodiment, the reproduction pulse for identifying whether the memory element is in the recording state (high resistance state) or the erasing state (low resistance state) includes a first voltage pulse of −2 V (10 nsec.), A first voltage pulse, Is characterized by comprising a set of reproduced
(第3の実施形態)
第3の実施形態による記憶素子(メモリ回路)の再生方法の概略を図9(a)に示す。本実施形態におけるメモリ回路は、電気的パルスを印加することにより抵抗値を異なる状態に変化させることができる可変抵抗体11とダイオード12とが直列に接続されてセルを構成しており、さらにダイオード12と並列にセンスアンプ14が設けられている。このような構成にすることにより、記憶素子が記録状態(高抵抗状態)か消去状態(低抵抗状態)を識別するための再生パルスが、+2V(10nsec.)の第1電圧パルスと、第1電圧パルスとはパルス幅およびパルス電圧の絶対値が同じで符号が異なる−2V(10nsec.)の第2電圧パルスからなる一組の再生電圧パルス17aがメモリセルに印加されても、センスアンプ14には+電流のみが流れるので、センスアンプ14に流れる電流値により、可変抵抗体11が記録状態(高抵抗状態)にあるのか消去状態(低抵抗状態)にあるのかを識別することができ、さらに−極性のパルス電圧により、可変抵抗体11の抵抗値は再生前の状態に戻すことができる。このとき、ダイオード12があるためセンスアンプ14には−電流は流れず、可変抵抗体11の抵抗状態を容易に識別することができる。また、このように本実施形態によるメモリ回路においても第1の実施形態の再生方法により、可変抵抗体11の抵抗値が読み出しにより変化することなく、一定値を保持していることがわかり、データ保持特性に優れた記憶素子を実現することができる。
(Third embodiment)
FIG. 9A shows an outline of a method for reproducing a memory element (memory circuit) according to the third embodiment. In the memory circuit according to the present embodiment, a
(第4の実施形態)
第4の実施形態による記憶素子(メモリ回路)の再生方法の概略を図9(b)に示す。本実施形態におけるメモリ回路は、電気的パルスを印加することにより抵抗値を異なる状態に変化させることができる可変抵抗体11とダイオード12とが直列に接続されてセルを構成しており、さらにダイオード12と並列にセンスアンプ14が設けられている。このような構成にすることにより、記憶素子が記録状態(高抵抗状態)か消去状態(低抵抗状態)を識別するための再生パルスが、−2V(10nsec.)の第1電圧パルスと、第1電圧パルスとはパルス幅およびパルス電圧の絶対値が同じで符号が異なる+2V(10nsec.)の第2電圧パルスからなる一組の再生電圧パルス17bがメモリセルに印加されても、センスアンプ14には−電流のみが流れるので、センスアンプ14に流れる電流値により、可変抵抗体11が記録状態(高抵抗状態)にあるのか消去状態(低抵抗状態)にあるのかを識別することができ、さらに+極性のパルス電圧により、可変抵抗体11の抵抗値は再生前の状態に戻すことができる。このとき、ダイオード12があるためセンスアンプ14には+電流は流れず、可変抵抗体11の抵抗状態を容易に識別することができる。また、このように本実施形態によるメモリ回路においても第2の実施形態の再生方法により、可変抵抗体11の抵抗値が読み出しにより変化することなく、一定値を保持していることがわかり、データ保持特性に優れた記憶素子を実現することができる。
(Fourth embodiment)
FIG. 9B shows an outline of the reproducing method of the memory element (memory circuit) according to the fourth embodiment. In the memory circuit according to the present embodiment, a
なお、上述の実施形態においては記録および消去パルス電圧の絶対値を5V、再生パルス電圧の絶対値を2Vとしたが、これは一例であり、再生パルス電圧の絶対値が記録および消去パルスの絶対値以下であれば問題はない。 In the above embodiment, the absolute value of the recording and erasing pulse voltage is 5 V and the absolute value of the reproducing pulse voltage is 2 V. However, this is an example, and the absolute value of the reproducing pulse voltage is the absolute value of the recording and erasing pulses. If it is below the value, there is no problem.
また、再生電圧パルスを構成する第1電圧パルスと第2電圧パルスの間の間隔は1nsec.以上あることが好ましい。 Further, the interval between the first voltage pulse and the second voltage pulse constituting the reproduction voltage pulse is 1 nsec. It is preferable that there is more.
また、再生電圧パルスを構成する第1電圧パルスと第1電圧パルスとは符号の異なる第2電圧パルスの絶対値は同じである必要はなく、可変抵抗体の抵抗値の読み出し前後で抵抗値の変化がないように、第1電圧パルスと第2電圧パルスの絶対値を調整することが好ましい。 In addition, the absolute value of the second voltage pulse having a different sign does not need to be the same for the first voltage pulse and the first voltage pulse constituting the reproduction voltage pulse, and the resistance value is changed before and after reading the resistance value of the variable resistor. It is preferable to adjust the absolute values of the first voltage pulse and the second voltage pulse so that there is no change.
また、再生電圧パルスを構成する第1電圧パルスのパルス幅と、第1電圧パルスとは符号の異なる第2電圧パルスのパルス幅とは同じである必要はなく、可変抵抗体の抵抗値の読み出し前後で抵抗値の変化がないように、第1電圧パルスと第2電圧パルスのパルス幅を調整することが好ましい。 Further, the pulse width of the first voltage pulse constituting the reproduction voltage pulse need not be the same as the pulse width of the second voltage pulse having a sign different from that of the first voltage pulse, and the resistance value of the variable resistor is read. It is preferable to adjust the pulse widths of the first voltage pulse and the second voltage pulse so that the resistance value does not change before and after.
さらに、上述の実施形態においては、記録状態と消去状態の1ビット情報の再生の例について述べたが、1ビット情報に限らず、例えば、可変抵抗体の抵抗値を記録パルス電圧あるいは記録パルス電圧印加回数を調整することで、多段階に変化させた多ビット情報の記憶素子についても適応可能である。 Furthermore, in the above-described embodiment, an example of reproducing 1-bit information in the recording state and the erasing state has been described. However, the present invention is not limited to 1-bit information. For example, the resistance value of the variable resistor is set to the recording pulse voltage or the recording pulse voltage. By adjusting the number of times of application, the present invention can be applied to a multi-bit information storage element that is changed in multiple stages.
本発明による記憶素子の再生方法およびメモリ回路は、低電力、高速書き込み・消去、大容量化が可能である不揮発性メモリのデータ保持特性を飛躍的に向上させることができるという効果を有し、次世代不揮発性メモリとして有用である。 The memory element reproducing method and the memory circuit according to the present invention have the effect that the data retention characteristics of a nonvolatile memory capable of low power, high-speed writing / erasing, and large capacity can be dramatically improved, It is useful as a next generation nonvolatile memory.
1 電極
2 抵抗変化材料
3 電極
4 基板
11 可変抵抗体
12 ダイオード
13 入力端子
14 センスアンプ
15a,15b 電圧パルス
16a,16b 再生電圧パルス
17a,17b 再生電圧パルス
DESCRIPTION OF
Claims (14)
第1電圧パルスと第1電圧パルスとは符号の異なる第2電圧パルスからなる一組の再生電圧パルスを前記可変抵抗体に印加することで、前記可変抵抗体の抵抗値の異なる状態を読み取る、
ことを特徴とする記憶素子の再生方法。 A method of reproducing a memory element using a variable resistor that can change a resistance value to a different state by applying an electric pulse,
A state in which the resistance value of the variable resistor is different is read by applying to the variable resistor a set of reproduction voltage pulses including second voltage pulses having different signs from the first voltage pulse and the first voltage pulse.
A method for reproducing a storage element.
前記可変抵抗体の抵抗値は、符号の異なる電圧パルスにより逆方向に変化する、
ことを特徴とする記憶素子の再生方法。 In claim 1,
The resistance value of the variable resistor changes in the opposite direction due to voltage pulses having different signs.
A method for reproducing a storage element.
前記再生電圧パルスのパルス電圧の絶対値は、データの記録および消去時に前記可変抵抗体に印加されるパルスの絶対値より小さい、
ことを特徴とする記憶素子の再生方法。 In claim 2,
The absolute value of the pulse voltage of the reproduction voltage pulse is smaller than the absolute value of the pulse applied to the variable resistor during data recording and erasing,
A method for reproducing a storage element.
前記第1電圧パルスと前記第2電圧パルスとの間の間隔は1nsec.以上である、
ことを特徴とする記憶素子の再生方法。 In claim 2 or 3,
The interval between the first voltage pulse and the second voltage pulse is 1 nsec. That's it,
A method for reproducing a storage element.
前記第1電圧パルスと前記第2電圧パルスのパルス電圧の絶対値が異なる、
ことを特徴とする記憶素子の再生方法。 In any one of claims 2 to 4,
The absolute values of the pulse voltages of the first voltage pulse and the second voltage pulse are different,
A method for reproducing a storage element.
前記第1電圧パルスと前記第2電圧パルスのパルス幅は異なる、
ことを特徴とする記憶素子の再生方法。 In any one of claims 2 to 4,
The pulse widths of the first voltage pulse and the second voltage pulse are different.
A method for reproducing a storage element.
前記可変抵抗体の抵抗値の異なる状態をセンスアンプに流れる電流値により読み取る、
ことを特徴とする記憶素子の再生方法。 In any one of Claims 1-6,
Read the state of different resistance values of the variable resistor according to the current value flowing through the sense amplifier,
A method for reproducing a storage element.
前記可変抵抗体と直列に接続されたダイオードと、
前記ダイオードと並列に接続されたセンスアンプとを備え、
第1電圧パルスと第1電圧パルスとは符号の異なる第2電圧パルスからなる一組の再生電圧パルスを前記可変抵抗体に印加することで、前記可変抵抗体の抵抗値の異なる状態を前記センスアンプに流れる電流値により読み取る、
ことを特徴とするメモリ回路。 A variable resistor capable of changing the resistance value to a different state by applying an electrical pulse;
A diode connected in series with the variable resistor;
A sense amplifier connected in parallel with the diode;
A state in which the resistance value of the variable resistor differs is applied to the variable resistor by applying a reproduction voltage pulse including a second voltage pulse having a different sign from the first voltage pulse to the variable resistor. Read according to the current flowing through the amplifier.
A memory circuit characterized by that.
前記可変抵抗体の抵抗値は、符号の異なる電圧パルスにより逆方向に変化する、
ことを特徴とするメモリ回路。 In claim 8,
The resistance value of the variable resistor changes in the opposite direction due to voltage pulses having different signs.
A memory circuit characterized by that.
前記再生電圧パルスのパルス電圧の絶対値は、データの記録および消去時に前記可変抵抗体に印加されるパルスの絶対値より小さい、
ことを特徴とするメモリ回路。 In claim 8 or 9,
The absolute value of the pulse voltage of the reproduction voltage pulse is smaller than the absolute value of the pulse applied to the variable resistor during data recording and erasing,
A memory circuit characterized by that.
前記第1電圧パルスと前記第2電圧パルスとの間の間隔は1nsec.以上である、
ことを特徴とするメモリ回路。 In claim 9 or 10,
The interval between the first voltage pulse and the second voltage pulse is 1 nsec. That's it,
A memory circuit characterized by that.
前記第1電圧パルスと前記第2電圧パルスのパルス電圧の絶対値が異なる、
ことを特徴とするメモリ回路。 In any one of claims 9 to 11,
The absolute values of the pulse voltages of the first voltage pulse and the second voltage pulse are different,
A memory circuit characterized by that.
前記第1電圧パルスと前記第2電圧パルスのパルス幅は異なる、
ことを特徴とする記憶素子の再生方法。 In any one of claims 9 to 11,
The pulse widths of the first voltage pulse and the second voltage pulse are different.
A method for reproducing a storage element.
前記ダイオードは、前記第2電圧パルスによる電流が前記センスアンプに流れないような方向に接続されている、
ことを特徴とするメモリ回路。 In any one of claims 8 to 13,
The diode is connected in such a direction that current due to the second voltage pulse does not flow to the sense amplifier.
A memory circuit characterized by that.
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