JP2006164737A

JP2006164737A - Display element or display panel equipped with it and display device

Info

Publication number: JP2006164737A
Application number: JP2004354289A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Okano; 清岡野
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2004-12-07
Filing date: 2004-12-07
Publication date: 2006-06-22

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve high durability against moisture, oxygen and the like. <P>SOLUTION: An organic EL element 1 includes at least: a first substrate 10; a sealing substrate 28 facing the first substrate 10 spaced apart from it; a seal 29 sealing the first substrate 10 and the sealing substrate 28 for forming a sealed space between the first substrate 10 and the sealing substrate 28; source lines 12 and gate lines 13 formed on the first substrate 10; and pixel electrodes 21 electrically connected to the gate lines 13 and the source lines 12. The source lines 12 and the gate lines 13 are arranged in the sealed space, and have source extraction electrodes 30 connected to the source lines 12 and extracted from the sealed space; and the source extraction electrodes 30 are formed of the same film as that of the gate lines 13. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は表示素子、若しくはそれを備えた表示パネル及び表示装置に関するものである。 The present invention relates to a display element, or a display panel and a display device including the display element.

有機エレクトロルミネッセント素子（以下、「有機ＥＬ素子」とすることがある。）は、一般的に、水分や酸素等による影響を受けやすく、有機ＥＬ素子内に水分（及び／又は酸素）が進入すると、有機ＥＬ素子の素子特性（輝度等）の劣化が促進される。有機ＥＬ素子内に水分等が進入することによる有機ＥＬ素子の劣化メカニズムには諸説があるが、一説には、発光材料や上部共通電極（陰極）材料が、素子内に進入した水分等により、酸化又は水酸化物化されるためであるとされている。 Organic electroluminescent elements (hereinafter sometimes referred to as “organic EL elements”) are generally susceptible to moisture, oxygen, etc., and moisture (and / or oxygen) is contained in the organic EL elements. When entering, the deterioration of element characteristics (such as luminance) of the organic EL element is promoted. There are various theories on the deterioration mechanism of organic EL elements due to the ingress of moisture into the organic EL elements, but one theory is that the light emitting material and the upper common electrode (cathode) material are caused by moisture etc. entering the elements. This is because it is oxidized or hydroxideized.

有機ＥＬ素子の水分や酸素等に対する耐久性を向上させる技術として、例えば特許文献１には、樹脂材料含有膜を封止構造内に閉じこめ、樹脂材料含有膜を封止構造外部に露出させない構成の有機ＥＬ素子が開示されている。樹脂材料等の有機材料は無機材料に比して格段にガス透過度が高いため、樹脂材料含有膜が外気と接触している場合は、樹脂材料含有膜を透過して水分や酸素等が有機ＥＬ素子内に進入しやすい。しかし、特許文献１に記載された有機ＥＬ素子では、樹脂材料含有膜が封止構造内に閉じこめられており、樹脂材料含有膜が外気から遮断されているため、有機ＥＬ素子内への水分等の進入が効果的に抑制される。
特開２００３−２９７５５２号公報 As a technique for improving the durability of the organic EL element against moisture, oxygen, etc., for example, Patent Document 1 discloses a configuration in which a resin material-containing film is confined in a sealing structure and the resin material-containing film is not exposed to the outside of the sealing structure. An organic EL element is disclosed. Organic materials such as resin materials have a significantly higher gas permeability than inorganic materials. Therefore, when the resin material-containing film is in contact with the outside air, the resin material-containing film permeates through the resin material-containing film so that moisture, oxygen, etc. are organic. Easy to enter the EL element. However, in the organic EL element described in Patent Document 1, the resin material-containing film is confined in the sealing structure, and the resin material-containing film is shielded from the outside air. Is effectively suppressed.
JP 2003-297552 A

発明者らは誠意研究した結果、特許文献１に記載された有機ＥＬ素子であっても、水分や酸素等に対する耐久性が十分ではないという知見を得た。 As a result of sincere research, the inventors have found that even the organic EL element described in Patent Document 1 has insufficient durability against moisture, oxygen, and the like.

本発明は、係る点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、水分や酸素等に対する高い耐久性を実現させることにある。 This invention is made | formed in view of the point which concerns, and the place made into the objective is to implement | achieve high durability with respect to a water | moisture content, oxygen, etc.

本発明に係る表示素子は、第１基板と、前記第１基板と離間して対向する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板とを封止し、前記第１基板と前記第２基板との間に封止空間を形成するシールと、前記第１基板上にそれぞれ設けられたソースライン、ゲートライン、電源ライン、及び画素電極とを少なくとも有する。前記ソースライン、前記ゲートライン、及び前記電源ラインは前記封止空間内に設けられている。本発明に係る表示素子は、前記ソースラインと接続され、前記封止空間内から引き出されたソース引き出し電極と、前記電源ラインと接続され、前記封止空間内から引き出された電源引き出し電極とをさらに有する。前記ソース引き出し電極及び／又は前記電源引き出し電極は前記ゲートライン又は前記画素電極と同一膜から形成されている。 The display element according to the present invention seals the first substrate, the second substrate facing away from the first substrate, the first substrate and the second substrate, and sealing the first substrate and the first substrate. And a seal that forms a sealing space between the two substrates, and a source line, a gate line, a power supply line, and a pixel electrode provided on the first substrate, respectively. The source line, the gate line, and the power supply line are provided in the sealed space. The display element according to the present invention includes a source lead electrode connected to the source line and drawn from the sealed space, and a power lead electrode connected to the power line and drawn from the sealed space. Also have. The source lead electrode and / or the power lead electrode are formed of the same film as the gate line or the pixel electrode.

本発明に係る表示素子は、前記ゲートラインと前記画素電極との間に設けられた樹脂層をさらに有し、前記樹脂層が前記シールと前記第１基板との間に形成されていないものであっても構わない。 The display element according to the present invention further includes a resin layer provided between the gate line and the pixel electrode, and the resin layer is not formed between the seal and the first substrate. It does not matter.

本発明に係る表示素子では、前記ソース引き出し電極及び／又は前記電源引き出し電極の層厚が３００ｎｍ以下であることが好ましい。 In the display element according to the present invention, it is preferable that a layer thickness of the source extraction electrode and / or the power supply extraction electrode is 300 nm or less.

本発明に係る表示素子では、前記画素電極が前記有機発光層から出射された光を前記第２基板側に反射する反射電極であり、前記ソース引き出し電極及び／又は電源引き出し電極が前記画素電極と同一膜から形成されていても構わない。 In the display element according to the present invention, the pixel electrode is a reflective electrode that reflects the light emitted from the organic light emitting layer toward the second substrate, and the source lead electrode and / or the power lead electrode are connected to the pixel electrode. They may be formed from the same film.

本発明に係る表示素子では、前記ソースラインが、第１導電層と、前記第１導電層の上に設けられた第２導電層とを有し、前記第１導電層の幅は、前記第２導電層の幅よりも狭くてもよい。また、前記導第２導電層はアルミニウム又は銅を含んでいてもよい。 In the display element according to the present invention, the source line includes a first conductive layer and a second conductive layer provided on the first conductive layer, and the width of the first conductive layer is the first conductive layer. It may be narrower than the width of the two conductive layers. The conductive second conductive layer may contain aluminum or copper.

本発明に係る表示素子は、有機エレクトロルミネッセント発光層を有していても構わない。 The display element according to the present invention may have an organic electroluminescent light emitting layer.

本発明に係る表示パネルは本発明に係る表示素子を備えている。 The display panel according to the present invention includes the display element according to the present invention.

本発明に係る表示装置は本発明に係る表示素子を備えている。 The display device according to the present invention includes the display element according to the present invention.

本発明によれば、シールと第１基板との間隙から水分や酸素等が進入することを効果的に防ぐことができるので、水分や酸素等に対する高い耐久性を実現させることができる。 According to the present invention, it is possible to effectively prevent moisture, oxygen, and the like from entering from the gap between the seal and the first substrate, so that high durability against moisture, oxygen, and the like can be realized.

以下、本発明の実施形態を図面を参照しながら詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

（実施形態１）図１は実施形態１に係る有機ＥＬ素子１を模式的に示す概略平面図である。 (Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic plan view schematically showing an organic EL element 1 according to Embodiment 1. FIG.

図２は図１中の点線ＩＩで囲まれた部分（ソースライン１２の引き出し部分）を模式的に示す概略平面図である。 FIG. 2 is a schematic plan view schematically showing a portion surrounded by a dotted line II in FIG. 1 (a lead-out portion of the source line 12).

図３は図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線で切断した概略断面図である。 3 is a schematic cross-sectional view taken along line III-III in FIG.

図４は図２で示した部分の等価回路図である。 FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of the portion shown in FIG.

有機ＥＬ素子１は、第１基板１０と、第１基板１０の上に設けられた複数のソースライン１２、複数のゲートライン１３、及び複数の電源ライン１４と、ソースライン１２及びゲートライン１３に接続された第１ＴＦＴ１６と、第１ＴＦＴ１６及び電源ライン１４に接続された第２ＴＦＴ１５と、第２ＴＦＴ１５に接続された画素電極２１と、画素電極２１の上に設けられた有機機能層２４と、複数の画素電極２１をそれぞれに区画する第４絶縁層２２と、第４絶縁層２２の上に設けられたバンク２３と、有機機能層２４及びバンク２３を覆う上部共通電極２７と、第１基板１０と離間して対向する封止基板（第２基板）２８と、第１基板１０と封止基板２８とを封止するシール２９とを有する。 The organic EL element 1 includes a first substrate 10, a plurality of source lines 12 provided on the first substrate 10, a plurality of gate lines 13, a plurality of power supply lines 14, a source line 12 and a gate line 13. The first TFT 16 connected, the second TFT 15 connected to the first TFT 16 and the power supply line 14, the pixel electrode 21 connected to the second TFT 15, an organic functional layer 24 provided on the pixel electrode 21, and a plurality of pixels The fourth insulating layer 22 that partitions the electrodes 21, the bank 23 provided on the fourth insulating layer 22, the upper common electrode 27 that covers the organic functional layer 24 and the bank 23, and the first substrate 10. Thus, there are a sealing substrate (second substrate) 28 facing each other, and a seal 29 for sealing the first substrate 10 and the sealing substrate 28.

第２ＴＦＴ１５は、図３に示すように、第１基板１０上に設けられたシリコン層１１と、シリコン層１１の上に設けられた第１絶縁層１７ａと、第１絶縁層１７ａの上に設けられたゲートライン（ゲートメタル）１３と、ゲートライン１３の上に設けられた第２絶縁層１７ｂと、第２絶縁層１７ｂの上に設けられ、第２絶縁層１７ｂに形成されたコンタクトホールを介してシリコン層１１に電気的に接続された電源ライン１４と、第２絶縁層１７ｂの上に設けられ、第２絶縁層１７ｂに形成されたコンタクトホールを介してシリコン層１１に電気的に接続されたドレイン電極１８とを有する。ドレイン電極１８の上には、第３絶縁層１９と、樹脂層（平坦化膜）２０とが順次積層されている。樹脂層２０の上には画素電極２１が設けられており、画素電極２１は樹脂層２０及び第３絶縁層１９を貫通するスルーホールを介してドレイン電極１８に電気的に接続されている。 As shown in FIG. 3, the second TFT 15 is provided on the silicon layer 11 provided on the first substrate 10, the first insulating layer 17a provided on the silicon layer 11, and the first insulating layer 17a. A gate line (gate metal) 13 formed thereon, a second insulating layer 17b provided on the gate line 13, and a contact hole provided on the second insulating layer 17b and formed in the second insulating layer 17b. The power supply line 14 electrically connected to the silicon layer 11 through the second insulating layer 17b and electrically connected to the silicon layer 11 through the contact hole formed in the second insulating layer 17b. The drain electrode 18 is provided. A third insulating layer 19 and a resin layer (planarizing film) 20 are sequentially stacked on the drain electrode 18. A pixel electrode 21 is provided on the resin layer 20, and the pixel electrode 21 is electrically connected to the drain electrode 18 through a through hole that penetrates the resin layer 20 and the third insulating layer 19.

有機ＥＬ素子１では、画素電極２１が有機機能層２４にホール（正孔）を注入し、上部共通電極２７が電子を注入する。有機機能層２４に注入されたホールと電子とは有機ＥＬ発光層２６において再結合されることによって、励起子（エキシトン：ｅｘｃｉｔｏｎ）が形成される。形成された励起子は励起状態から基底状態へと失活する際に光を放出し、その放出された光が有機ＥＬ素子１から出射される。 In the organic EL element 1, the pixel electrode 21 injects holes into the organic functional layer 24, and the upper common electrode 27 injects electrons. The holes and electrons injected into the organic functional layer 24 are recombined in the organic EL light emitting layer 26 to form excitons. The formed excitons emit light when deactivated from the excited state to the ground state, and the emitted light is emitted from the organic EL element 1.

第１基板１０は有機ＥＬ素子１の機械的耐久性を担保する機能と、有機機能層２４等に外部から水分や酸素等が進入することを抑制する機能とを有する。第１基板１０は、ガラスや石英、セラミックス等の無機材料、若しくはポリエチレンテレフタレート等のプラスティック等で形成することができる。第１基板１０は、アルミニウム基板や鉄基板等の一方面をＳｉＯ₂（シリカゲル）等の絶縁材料でコートした基板、又はアルミニウム基板や鉄基板等の表面に陽極酸化法等を用いて絶縁化処理を施した基板等であっても構わない。尚、有機ＥＬ素子１が第１基板１０側から光を出射させるボトムエミッション方式である場合は、第１基板１０はガラスやプラスティック等の光透過率の高い材料により構成されることが好ましい。 The 1st board | substrate 10 has a function which ensures the mechanical durability of the organic EL element 1, and a function which suppresses a water | moisture content, oxygen, etc. from entering the organic functional layer 24 grade | etc., From the outside. The first substrate 10 can be formed of an inorganic material such as glass, quartz, or ceramic, or a plastic such as polyethylene terephthalate. The first substrate 10 is an insulating process using an anodizing method or the like on the surface of an aluminum substrate or iron substrate, etc., or the surface of an aluminum substrate or iron substrate coated with an insulating material such as SiO ₂ (silica gel). It may be a substrate or the like subjected to. In addition, when the organic EL element 1 is a bottom emission method in which light is emitted from the first substrate 10 side, the first substrate 10 is preferably made of a material having a high light transmittance such as glass or plastic.

封止基板２８は第１基板１０に離間して対向している。封止基板２８は、シール２９により、周縁が第１基板１０に接着されており、第１基板１０と封止基板２８との間には封止空間（外気から遮断された空間）が形成されている。封止基板２８は、ガス透過度（水分や酸素等を透過させる割合）が小さく、機械的耐久性が高いことが好ましい。封止基板２８の材料としては、ガラスや石英、セラミックス等の無機材料、若しくはポリエチレンテレフタレート等の樹脂材料等が挙げられる。 The sealing substrate 28 faces the first substrate 10 at a distance. The peripheral edge of the sealing substrate 28 is bonded to the first substrate 10 by a seal 29, and a sealing space (a space shielded from outside air) is formed between the first substrate 10 and the sealing substrate 28. ing. It is preferable that the sealing substrate 28 has a low gas permeability (a ratio of transmitting moisture, oxygen, etc.) and high mechanical durability. Examples of the material of the sealing substrate 28 include inorganic materials such as glass, quartz, and ceramics, or resin materials such as polyethylene terephthalate.

シール２９はガス透過度が小さいことが好ましく、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等により形成される。シール２９は紫外線硬化性樹脂であっても構わない。この構成によれば、シール２９を加熱することなく、紫外線の照射のみによって硬化させることができるため、封止基板２８を第１基板１０に容易に接着することができる。 The seal 29 preferably has a low gas permeability, and is formed of, for example, an epoxy resin or a polyimide resin. The seal 29 may be an ultraviolet curable resin. According to this configuration, the sealing substrate 28 can be easily bonded to the first substrate 10 because the seal 29 can be cured only by ultraviolet irradiation without heating.

相互に並行に延びる複数のソースライン（データ信号線）１２のそれぞれは、図２及び図４に示すように、第１ＴＦＴ１６に電気的に接続されている。相互に平行な複数のゲートライン（走査信号線）１３はソースライン１２の延びる方向に交差する方向に延びている。複数のゲートライン１３のそれぞれは、第１ＴＦＴ１６に電気的に接続されている。相互に平行な複数の電源ライン１４はソースライン１２の延びる方向に延びている。複数の電源ライン１４のそれぞれは第２ＴＦＴ１５に接続されている。ソースライン１２及びゲートライン１３により第１ＴＦＴ１６がオン状態とされると、第２ＴＦＴ１５がオン状態になる。第２ＴＦＴ１５がオン状態になると、第２ＴＦＴ１５を介して電源ライン１４から画素電極２１に電流が供給され、電流が供給された画素電極２１の上に形成された有機機能層２４が発光する。 Each of the plurality of source lines (data signal lines) 12 extending in parallel with each other is electrically connected to the first TFT 16 as shown in FIGS. A plurality of gate lines (scanning signal lines) 13 parallel to each other extend in a direction crossing the direction in which the source line 12 extends. Each of the plurality of gate lines 13 is electrically connected to the first TFT 16. A plurality of power supply lines 14 parallel to each other extend in the direction in which the source line 12 extends. Each of the plurality of power supply lines 14 is connected to the second TFT 15. When the first TFT 16 is turned on by the source line 12 and the gate line 13, the second TFT 15 is turned on. When the second TFT 15 is turned on, a current is supplied from the power supply line 14 to the pixel electrode 21 through the second TFT 15, and the organic functional layer 24 formed on the pixel electrode 21 to which the current is supplied emits light.

ゲートライン１３は、タンタル（Ｔａ）やタングステン（Ｗ）等の高融点金属（リフラクトメタル）により形成することができる。一般に、タングステン（Ｗ）等の高融点金属は耐水耐酸性が高いため、ゲートライン１３がタンタル（Ｔａ）やタングステン（Ｗ）等の高融点金属で形成されている場合は、後工程で画素電極２１等をパターニングする際にゲートライン１３が画素電極２１を所望の形状にパターニングするためのエッチング液により浸食されることが抑制される。 The gate line 13 can be formed of a refractory metal (refracted metal) such as tantalum (Ta) or tungsten (W). In general, refractory metals such as tungsten (W) have high water resistance and acid resistance. Therefore, when the gate line 13 is formed of a refractory metal such as tantalum (Ta) or tungsten (W), a pixel electrode is formed in a later step. When patterning 21 and the like, the gate line 13 is prevented from being eroded by the etching solution for patterning the pixel electrode 21 into a desired shape.

図５は、ソースライン１２の概略断面図である。 FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the source line 12.

ソースライン１２は第３導電層１２ａと、第３導電層１２ａの上に設けられた第１導電層１２ｂと、第１導電層１２ｂの上に設けられた第２導電層１２ｃとを有する。第１導電層１２ｂはアルミニウム（Ａｌ）や銅（Ｃｕ）等を含むことが好ましい。ソースライン１２には比較的大きな電流を流す必要があるため、電気抵抗値が比較的小さいアルミニウム（Ａｌ）や銅（Ｃｕ）等が主成分であることがより好ましい。また、電気抵抗値を小さくする観点から、ソースライン１２は大きい断面積を有することが好ましい。言い換えれば、厚い層厚を有することが好ましく、例えば３００ｎｍ以上であることがより好ましい。第３導電層１２ａ及び第２導電層１２ｃは、チタン（Ｔｉ）やタングステン（Ｗ）等により形成することが好ましい。第３導電層１２ａ及び第２導電層１２ｃは同一材料により形成されていてもよい。 The source line 12 includes a third conductive layer 12a, a first conductive layer 12b provided on the third conductive layer 12a, and a second conductive layer 12c provided on the first conductive layer 12b. The first conductive layer 12b preferably contains aluminum (Al), copper (Cu), or the like. Since it is necessary to flow a relatively large current through the source line 12, it is more preferable that aluminum (Al), copper (Cu), or the like having a relatively small electrical resistance value be a main component. Further, from the viewpoint of reducing the electric resistance value, the source line 12 preferably has a large cross-sectional area. In other words, it is preferable to have a thick layer thickness, for example, more preferably 300 nm or more. The third conductive layer 12a and the second conductive layer 12c are preferably formed of titanium (Ti), tungsten (W), or the like. The third conductive layer 12a and the second conductive layer 12c may be formed of the same material.

一般的に、第１導電層１２ｂに含まれるアルミニウム（Ａｌ）や銅（Ｃｕ）はシリコンに対する密着性が低く、また、第１絶縁層１７ａに含まれる無機材料に対する密着性も低い。このため、例えば、ソースライン１２を第１導電層１２ｂのみで構成した場合、第１ＴＦＴ１６におけるソースライン１２とシリコン層１１との間の密着性が低く、ソースライン１２がシリコン層１１から剥離する虞がある。また、ソースライン１２と、無機材料を主成分とする第１絶縁層１７ａとの間の密着性が低く、ソースライン１２と第１絶縁層１７ａとの間で剥離する虞がある。 Generally, aluminum (Al) or copper (Cu) contained in the first conductive layer 12b has low adhesion to silicon, and also low adhesion to the inorganic material contained in the first insulating layer 17a. For this reason, for example, when the source line 12 is configured only by the first conductive layer 12b, the adhesion between the source line 12 and the silicon layer 11 in the first TFT 16 is low, and the source line 12 may be peeled off from the silicon layer 11. There is. Further, the adhesiveness between the source line 12 and the first insulating layer 17a containing an inorganic material as a main component is low, and there is a possibility of peeling between the source line 12 and the first insulating layer 17a.

一方、チタン（Ｔｉ）やタングステン（Ｗ）等はシリコンに対する密着性が高く、且つアルミニウム（Ａｌ）に対する密着性も高い。そのため、アルミニウム（Ａｌ）等を含む第１導電層１２ｂとシリコン層１１との間にチタン（Ｔｉ）やタングステン（Ｗ）等を含む第３導電層１２ａを設けることにより、ソースライン１２がシリコン層１１から剥離することを効果的に抑制することができる。従って、第３導電層１２ａを設けることにより、ソースライン１２とシリコン層１１とを確実に電気的に接続させることができる。また、第１導電層１２ｂと第１絶縁層１７ａとの間にチタン（Ｔｉ）やタングステン（Ｗ）等を含む第２導電層１２ｃを設けることにより、ソースライン１２と第１絶縁層１７ａとの間で剥離が発生することを効果的に抑制することができる。 On the other hand, titanium (Ti), tungsten (W), and the like have high adhesion to silicon and high adhesion to aluminum (Al). Therefore, by providing the third conductive layer 12a containing titanium (Ti), tungsten (W) or the like between the first conductive layer 12b containing aluminum (Al) or the like and the silicon layer 11, the source line 12 becomes a silicon layer. Peeling from 11 can be effectively suppressed. Therefore, by providing the third conductive layer 12a, the source line 12 and the silicon layer 11 can be reliably electrically connected. Further, by providing the second conductive layer 12c containing titanium (Ti), tungsten (W), or the like between the first conductive layer 12b and the first insulating layer 17a, the source line 12 and the first insulating layer 17a It can suppress effectively that peeling generate | occur | produces between.

さらに、チタン（Ｔｉ）やタングステン（Ｗ）等を含有する第３導電層１２ａを設けることにより、ソースライン１２をシリコン層１１にオーミックコンタクトさせることができる。このため、有機ＥＬ素子１の動作時に、ソースライン１２とシリコン層１１との接合部での電圧降下・電力損失が発生することを効果的に抑制することができる。尚、「オーミックコンタクト（オーミック接触）」とは、半導体等に金属電極を形成し、その電流−電圧特性が直線（オーム性）となる接合をいう。 Furthermore, the source line 12 can be in ohmic contact with the silicon layer 11 by providing the third conductive layer 12a containing titanium (Ti), tungsten (W), or the like. For this reason, it is possible to effectively suppress the occurrence of voltage drop and power loss at the junction between the source line 12 and the silicon layer 11 during the operation of the organic EL element 1. “Ohmic contact” refers to a junction in which a metal electrode is formed on a semiconductor or the like and its current-voltage characteristics are linear (ohmic).

一般的に、第１導電層１２ｂの幅は、第３導電層１２ａの幅よりも狭く、且つ第２導電層１２ｃの幅よりも狭い。ソースライン１２は、まずチタン（Ｔｉ）等を含む薄膜、アルミニウム（Ａｌ）を含む薄膜、及びチタン（Ｔｉ）を含む薄膜を順次形成し、それらの膜をエッチング液を用いて同時にパターニングすることにより形成される。パターニングする際に、エッチングされやすい（エッチングレートの大きい）第１導電層１２ｂはエッチングされにくい（エッチングレートの小さい）第３導電層１２ａ及び第２導電層１２ｃよりも速くエッチングされるためである。 In general, the width of the first conductive layer 12b is narrower than the width of the third conductive layer 12a and narrower than the width of the second conductive layer 12c. The source line 12 is formed by sequentially forming a thin film containing titanium (Ti) or the like, a thin film containing aluminum (Al), and a thin film containing titanium (Ti), and simultaneously patterning these films using an etchant. It is formed. This is because, during patterning, the first conductive layer 12b that is easily etched (high etching rate) is etched faster than the third conductive layer 12a and the second conductive layer 12c that are difficult to etch (low etching rate).

ソースライン１２、ゲートライン１３、及び電源ライン１４は封止空間内に設けられている。ゲートライン１３は、封止空間内において、ゲート引き出し電極３１に電気的に接続されており、ゲート引き出し電極３１は封止空間外に引き出されている。ゲート引き出し電極３１の封止空間外側の一端は第１基板１０上に設けられたゲート端子部３４に電気的に接続されている。ゲートライン１３とゲート引き出し電極３１とは同一膜で形成されている。 The source line 12, the gate line 13, and the power supply line 14 are provided in the sealed space. The gate line 13 is electrically connected to the gate lead electrode 31 in the sealed space, and the gate lead electrode 31 is drawn out of the sealed space. One end outside the sealed space of the gate lead electrode 31 is electrically connected to a gate terminal portion 34 provided on the first substrate 10. The gate line 13 and the gate extraction electrode 31 are formed of the same film.

図６は図１中の点線ＶＩで囲まれた部分（引き出し部）の構成を示す概略平面図である。 FIG. 6 is a schematic plan view showing a configuration of a portion (drawer portion) surrounded by a dotted line VI in FIG.

図７は図５中ＶＩＩ−ＶＩＩ線で切断した概略断面図である。 FIG. 7 is a schematic sectional view taken along line VII-VII in FIG.

図８は図５中ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線で切断した概略断面図である。 8 is a schematic cross-sectional view taken along line VIII-VIII in FIG.

図９は図１中ＩＸ−ＩＸ線で切断した概略断面図である。 FIG. 9 is a schematic sectional view taken along line IX-IX in FIG.

ソースライン１２は、封止空間内において、ソース引き出し電極３０に電気的に接続されている。ソース引き出し電極３０はゲートライン１３と同一膜により形成されている。ソース引き出し電極３０は第１基板１０と第１絶縁層１７ａとの間に形成されており、第１絶縁層１７ａを貫通するコンタクトホールを介して、ソース引き出し電極３０の一端がソースライン１２に接続されている。ソース引き出し電極３０は、シール２９が形成された領域を横切って、封止空間の外に引き出されており、封止空間外におけるソース引き出し電極３０の他端は第１基板１０上に設けられたソース端子部３３に電気的に接続されている。ソース端子部３３は第１絶縁層１７ａの上に設けられ、ソース引き出し電極３０と電気的に接続された下部端子電極３８と、下部端子電極３８の周囲を覆う絶縁層３６と、下部端子電極３８の上に形成された端子３７とを有する。下部端子電極３８はソースライン１２と同一膜により形成されている。 The source line 12 is electrically connected to the source lead electrode 30 in the sealed space. The source lead electrode 30 is formed of the same film as the gate line 13. The source lead electrode 30 is formed between the first substrate 10 and the first insulating layer 17a, and one end of the source lead electrode 30 is connected to the source line 12 through a contact hole that penetrates the first insulating layer 17a. Has been. The source lead electrode 30 is drawn out of the sealing space across the region where the seal 29 is formed, and the other end of the source lead electrode 30 outside the sealing space is provided on the first substrate 10. The source terminal part 33 is electrically connected. The source terminal portion 33 is provided on the first insulating layer 17 a, and a lower terminal electrode 38 electrically connected to the source lead electrode 30, an insulating layer 36 covering the periphery of the lower terminal electrode 38, and the lower terminal electrode 38. And a terminal 37 formed thereon. The lower terminal electrode 38 is formed of the same film as the source line 12.

有機ＥＬ素子１では、ソース引き出し電極３０がゲートライン１３と同一膜により形成されているため、ソース引き出し電極３０をゲートライン１３と同一工程で形成することができる。このため、有機ＥＬ素子１は製造プロセスが少なく、容易且つ安価に製造することができる。 In the organic EL element 1, since the source lead electrode 30 is formed of the same film as the gate line 13, the source lead electrode 30 can be formed in the same process as the gate line 13. For this reason, the organic EL element 1 has few manufacturing processes and can be manufactured easily and inexpensively.

また、ソース引き出し電極３０がゲートライン１３と同一膜により形成されているため、有機ＥＬ素子１内への水分や酸素等の進入を効果的に抑制することができる。従って、水分や酸素等に対する高い耐久性を実現することができる。以下、この理由について、図面を参照しながら詳細に説明する。 In addition, since the source extraction electrode 30 is formed of the same film as the gate line 13, it is possible to effectively suppress entry of moisture, oxygen, and the like into the organic EL element 1. Therefore, high durability against moisture, oxygen and the like can be realized. Hereinafter, this reason will be described in detail with reference to the drawings.

まず、実施形態１に係る有機ＥＬ素子１と比較するために、従来の有機ＥＬ素子Ｚについて説明する。 First, in order to compare with the organic EL element 1 which concerns on Embodiment 1, the conventional organic EL element Z is demonstrated.

図１０は従来の有機ＥＬ素子ＺのソースラインＣの引き出し部分の概略平面図である。 FIG. 10 is a schematic plan view of a lead-out portion of the source line C of the conventional organic EL element Z.

図１１は図１０中ＸＩ−ＸＩ線で切断した概略断面図である。 11 is a schematic cross-sectional view taken along line XI-XI in FIG.

図１２は図１０中ＸＩＩ−ＸＩＩ線で切断した概略断面図である。 12 is a schematic cross-sectional view taken along line XII-XII in FIG.

従来の有機ＥＬ素子Ｚは、第１基板Ａと、第１基板Ａの上に形成された第１絶縁膜Ｂと、第１絶縁層Ｂの上にストライプ状に形成された複数のソースラインＣと、封止空間内の、ソースラインＣの上に形成された樹脂層Ｄと、第１基板Ａに離間して対向する封止基板Ｅと、封止基板Ｅと第１基板Ａとを封止するシールＦと、封止空間外に設けられ、ソースラインＣに電気的に接続された端子部Ｇとを有する。ソースラインＣの引き出し部分の構造以外は本実施形態１に係る有機ＥＬ素子１と同様の構成を有する。有機ＥＬ素子Ｚでは、ソースラインＣが、ソース引き出し電極を介することなく、そのまま封止空間外に引き出されている。 A conventional organic EL element Z includes a first substrate A, a first insulating film B formed on the first substrate A, and a plurality of source lines C formed in stripes on the first insulating layer B. And sealing the resin layer D formed on the source line C in the sealing space, the sealing substrate E spaced apart from the first substrate A, and the sealing substrate E and the first substrate A. A seal F that stops and a terminal portion G that is provided outside the sealing space and is electrically connected to the source line C are included. The structure is the same as that of the organic EL element 1 according to Embodiment 1 except for the structure of the lead-out portion of the source line C. In the organic EL element Z, the source line C is directly drawn out of the sealed space without passing through the source lead electrode.

ソースラインＣや電源ラインには比較的大きな電流が流れるため、低抵抗であることが望ましく、層厚が非常に厚い。一般的には、ソースラインＣは３００ｎｍ以上に形成される。そのため、図１２（ａ）に示すようにシールＦが封止基板Ｅと第１基板Ａとの間を完全に封止することができず、ソースラインＣと第１基板Ａとにより構成される角部に間隙Ｊが生じる。また、図１２（ｂ）に示すように、実施形態１に係る有機ＥＬ素子１と同様に、ソースラインＣを３層構造にした場合、第１導電層Ｃ１及び第３導電層Ｃ３よりも幅の狭い第２導電層Ｃ２部分には特にシールＦが行き渡りにくく、第２導電層Ｃ２とシールＦとの間に間隙Ｊが形成されやすい。このため、従来の有機ＥＬ素子Ｚでは第２導電層Ｃ２とシールＦとの間に形成された間隙Ｊから水分や酸素等が有機ＥＬ素子Ｚ内に進入するので、従来の有機ＥＬ素子Ｚは水分等に対する耐久性が低い。 Since a relatively large current flows through the source line C and the power supply line, it is desirable that the resistance is low, and the layer thickness is very large. In general, the source line C is formed to be 300 nm or more. Therefore, as shown in FIG. 12A, the seal F cannot completely seal between the sealing substrate E and the first substrate A, and is constituted by the source line C and the first substrate A. A gap J occurs at the corner. Further, as shown in FIG. 12B, when the source line C has a three-layer structure as in the organic EL element 1 according to Embodiment 1, the width is larger than that of the first conductive layer C1 and the third conductive layer C3. In particular, the seal F is difficult to reach the narrow second conductive layer C2 portion, and a gap J is easily formed between the second conductive layer C2 and the seal F. For this reason, in the conventional organic EL element Z, moisture, oxygen, and the like enter the organic EL element Z from the gap J formed between the second conductive layer C2 and the seal F. Low durability against moisture.

従来の有機ＥＬ素子Ｚでは、ソースラインＣがそのまま引き出されているのに対して、図６及び図７に示すように、本実施形態１に係る有機ＥＬ素子１では、ソースライン１２がソース引き出し電極３０によって引き出されている。ソース引き出し電極３０はゲートライン１３と同一膜から形成されている。ゲートライン１３はソースライン１２や電源ライン１４と比較して流れる電流の量が少ないため、ソースライン１２とは異なり、それほど低抵抗であることを要さないため、ソースライン１２と比較して層厚をより薄くすることができる。一般的には２００ｎｍ以下とすることができる。そのため、本実施形態１に係る有機ＥＬ素子１では、従来の有機ＥＬ素子Ｚとは異なり、引き出し電極３０と第１基板１０とにより大きな段差が形成されず、図８に示すように、シール２９は封止基板２８と第１基板１０との間をより確実に封止することができる。従って、有機ＥＬ素子１内への水分や酸素等の進入を効果的に抑制することができ、水分や酸素等に対する高い耐久性を実現することができる。 In the conventional organic EL element Z, the source line C is drawn out as it is, whereas in the organic EL element 1 according to the first embodiment, the source line 12 is drawn out as shown in FIGS. 6 and 7. It is drawn out by the electrode 30. The source lead electrode 30 is formed from the same film as the gate line 13. Unlike the source line 12, the gate line 13 does not need to have a very low resistance because the amount of current flowing is smaller than that of the source line 12 and the power supply line 14. The thickness can be made thinner. Generally, it can be 200 nm or less. Therefore, in the organic EL element 1 according to the first embodiment, unlike the conventional organic EL element Z, a large step is not formed between the extraction electrode 30 and the first substrate 10, and as shown in FIG. Can more reliably seal between the sealing substrate 28 and the first substrate 10. Accordingly, it is possible to effectively suppress the entry of moisture, oxygen, and the like into the organic EL element 1, and to realize high durability against moisture, oxygen, and the like.

図９に示すように、電源ライン１４は、封止空間内において、電源引き出し電極３２に電気的に接続されている。電源引き出し電極３２はゲートライン１３と同一膜により形成されている。電源引き出し電極３２は第１基板１０と第１絶縁層１７ａとの間に形成されており、第１絶縁層１７ａを貫通するコンタクトホールを介して、電源引き出し電極３２の一端が電源ライン１４に接続されている。電源引き出し電極３２はシール２９が形成された領域を横切って、封止空間の外に引き出されており、電源引き出し電極３２の封止空間外における電源引き出し電極３２の他端は第１基板１０上に設けられた電源端子部３５に電気的に接続されている。 As shown in FIG. 9, the power supply line 14 is electrically connected to the power supply lead electrode 32 in the sealed space. The power extraction electrode 32 is formed of the same film as the gate line 13. The power lead electrode 32 is formed between the first substrate 10 and the first insulating layer 17a, and one end of the power lead electrode 32 is connected to the power line 14 through a contact hole penetrating the first insulating layer 17a. Has been. The power lead electrode 32 is drawn out of the sealing space across the region where the seal 29 is formed, and the other end of the power lead electrode 32 outside the sealing space of the power lead electrode 32 is on the first substrate 10. Is electrically connected to a power supply terminal portion 35 provided in

有機ＥＬ素子１では、電源引き出し電極３２がゲートライン１３と同一膜により形成されているため、電源引き出し電極３２をゲートライン１３と同一工程で形成することができる。このため、有機ＥＬ素子１は製造プロセスが少なく、容易且つ安価に製造することができる。 In the organic EL element 1, since the power extraction electrode 32 is formed of the same film as the gate line 13, the power extraction electrode 32 can be formed in the same process as the gate line 13. For this reason, the organic EL element 1 has few manufacturing processes and can be manufactured easily and inexpensively.

また、電源引き出し電極３２は、ソース引き出し電極３０と同様に、ゲートライン１３と同一膜により形成されているため、有機ＥＬ素子１内への水分や酸素等の進入を効果的に抑制することができる。従って、水分や酸素等に対する高い耐久性を実現することができる。 Further, since the power extraction electrode 32 is formed of the same film as the gate line 13, similarly to the source extraction electrode 30, it is possible to effectively suppress entry of moisture, oxygen, and the like into the organic EL element 1. it can. Therefore, high durability against moisture, oxygen and the like can be realized.

封止基板２８と第１基板１０との間がシール２９によって、より確実に封止されるためには、ソース引き出し電極３０の層厚は３００ｎｍ以下であることが好ましい。 In order to more reliably seal between the sealing substrate 28 and the first substrate 10 by the seal 29, the layer thickness of the source extraction electrode 30 is preferably 300 nm or less.

尚、従来の有機ＥＬ素子Ｚにおいて、シールＦと第１基板Ａとの間に間隙Ｊが存在することは従来知られておらず、有機ＥＬ素子Ｚの水分等に対する耐久性が低い理由は明らかではなかった。シールＦと第１基板Ａとの間に形成された間隙Ｊから有機ＥＬ素子Ｚ内に水分等が進入していることは、本発明者らが誠意研究の結果、初めて認識されたことである。 In addition, in the conventional organic EL element Z, it is not known conventionally that the gap J exists between the seal F and the first substrate A, and the reason why the durability of the organic EL element Z against moisture and the like is low is obvious. It wasn't. It has been recognized for the first time by the inventors as a result of sincere research that moisture and the like have entered the organic EL element Z from the gap J formed between the seal F and the first substrate A. .

図３に示すように、樹脂層（平坦化膜）２０は第１基板１０の一方面（図３で上側の面）を平坦化する機能を有する。樹脂層２０を形成することによって、樹脂層２０の上部に形成される画素電極２１や有機機能層２４等を平坦に形成することができる。従って、斑のない画像を表示可能な有機ＥＬ素子１を実現することができる。また、樹脂層２０は有機ＥＬ素子１内で発生する寄生容量を小さくする機能を有する。具体的には、画素電極２１とシリコン層１１、ソースライン１２、及びゲートライン１３との間に発生する寄生容量を小さくする。樹脂層２０が画素電極２１の下に介在することによって、画素電極２１とシリコン層１１、ソースライン１２、及びゲートライン１３との間の距離を長くすることができるからである。有機ＥＬ素子１内に発生する寄生容量をより小さくする観点から、樹脂層２０は厚い層厚を有することが好ましい。樹脂層２０の好ましい層厚は２μｍ以上５μｍ以下である。尚、樹脂層２０の材料としてはアクリル系樹脂が挙げられる。 As shown in FIG. 3, the resin layer (planarization film) 20 has a function of planarizing one surface (the upper surface in FIG. 3) of the first substrate 10. By forming the resin layer 20, the pixel electrode 21, the organic functional layer 24, and the like formed on the resin layer 20 can be formed flat. Accordingly, it is possible to realize the organic EL element 1 that can display an image without spots. The resin layer 20 has a function of reducing the parasitic capacitance generated in the organic EL element 1. Specifically, the parasitic capacitance generated between the pixel electrode 21 and the silicon layer 11, the source line 12, and the gate line 13 is reduced. This is because the resin layer 20 is interposed under the pixel electrode 21 so that the distance between the pixel electrode 21 and the silicon layer 11, the source line 12, and the gate line 13 can be increased. From the viewpoint of reducing the parasitic capacitance generated in the organic EL element 1, the resin layer 20 preferably has a thick layer thickness. A preferable layer thickness of the resin layer 20 is 2 μm or more and 5 μm or less. An example of the material for the resin layer 20 is an acrylic resin.

図７に示すように、樹脂層２０は封止空間内にのみに設けられており、シール２９と第１基板１０との間には形成されていない。樹脂層２０は無機材料と比較してガス透過度が大きい有機材料（樹脂材料）を主成分としている。このため、樹脂層がシールと第１基板との間を経由して、樹脂層の端部が外気と接触している場合は、樹脂層を透過して有機ＥＬ素子内に外気中の水分や酸素等が進入するため、有機ＥＬ素子の耐久性が低い。有機ＥＬ素子１のように、樹脂層２０が封止空間内に設けられている場合は、有機ＥＬ素子１内に樹脂層２０を介して外部から水分等が進入することを効果的に抑制することができる。従って、水分や酸素等に対する高い耐久性を実現することができる。 As shown in FIG. 7, the resin layer 20 is provided only in the sealed space, and is not formed between the seal 29 and the first substrate 10. The resin layer 20 is mainly composed of an organic material (resin material) having a higher gas permeability than an inorganic material. For this reason, when the resin layer passes between the seal and the first substrate and the end portion of the resin layer is in contact with the outside air, moisture in the outside air passes through the resin layer and enters the organic EL element. Since oxygen or the like enters, the durability of the organic EL element is low. When the resin layer 20 is provided in the sealed space as in the organic EL element 1, it is possible to effectively prevent moisture and the like from entering the organic EL element 1 from the outside through the resin layer 20. be able to. Therefore, high durability against moisture, oxygen and the like can be realized.

画素電極２１は有機機能層２４にホール（正孔）を注入する機能を有する。画素電極２１の材料としては、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、バナジウム（Ｖ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、タングステン（Ｗ）、金（Ａｕ）、カルシウム（Ｃａ）、チタン（Ｔｉ）、イットリウム（Ｙ）、ナトリウム（Ｎａ）、ルテニウム（Ｒｕ）、マンガン（Ｍｎ）、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等の金属材料が挙げられる。マグネシウム（Ｍｇ）／銅（Ｃｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）／銀（Ａｇ）、ナトリウム（Ｎａ）／カリウム（Ｋ）、アスタチン（Ａｔ）／酸化アスタチン（ＡｔＯ₂）、リチウム（Ｌｉ）／アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）等の合金であっても構わない。又は、酸化スズ（ＳｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等の導電性酸化物等であってもよい。これらの材料の中でも、仕事関数の大きな材料がより好ましい。仕事関数の大きな材料により画素電極２１を形成することにより、有機機能層２４へのホール注入効率を向上させることができるからである。仕事関数の大きな材料としては、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等が挙げられる。 The pixel electrode 21 has a function of injecting holes into the organic functional layer 24. As the material of the pixel electrode 21, silver (Ag), aluminum (Al), vanadium (V), cobalt (Co), nickel (Ni), tungsten (W), gold (Au), calcium (Ca), titanium ( Ti), yttrium (Y), sodium (Na), ruthenium (Ru), manganese (Mn), indium (In), magnesium (Mg), lithium (Li), ytterbium (Yb), lithium fluoride (LiF), etc. The metal material is mentioned. Magnesium (Mg) / copper (Cu), magnesium (Mg) / silver (Ag), sodium (Na) / potassium (K), astatine (At) / oxidized astatine (AtO ₂ ), lithium (Li) / aluminum (Al ), Lithium (Li) / calcium (Ca) / aluminum (Al), lithium fluoride (LiF) / calcium (Ca) / aluminum (Al), and the like. Alternatively, a conductive oxide such as tin oxide (SnO), zinc oxide (ZnO), indium tin oxide (ITO), or indium zinc oxide (IZO) may be used. Among these materials, a material having a large work function is more preferable. This is because the hole injection efficiency into the organic functional layer 24 can be improved by forming the pixel electrode 21 with a material having a large work function. Examples of the material having a large work function include indium tin oxide (ITO) and indium zinc oxide (IZO).

また、有機ＥＬ素子１が第１基板１０側から有機ＥＬ発光層２６の発光を取り出すボトムエミッション方式である場合は、画素電極２１がインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の光透過性の材料により形成されていることが好ましい。この構成によれば、有機ＥＬ発光層２６からの発光が画素電極２１により吸収される率を低くすることができ、高い輝度を実現させることができる。一方、有機ＥＬ素子１が上部共通電極２７側から有機ＥＬ発光層２６の発光を取り出すトップエミッション方式である場合は、画素電極２１がアルミニウム（Ａｌ）等の光反射性材料により形成されていることが好ましい。この構成によれば、有機ＥＬ発光層２６から画素電極２１側に向けて出射された光が光反射性に構成された画素電極２１によって上部共通電極２７側に高い反射率で反射される。そのため、有機ＥＬ発光層２６からの光の出射光率を高くすることができ、高い輝度を実現させることができる。 Further, when the organic EL element 1 is a bottom emission method in which the light emission of the organic EL light emitting layer 26 is extracted from the first substrate 10 side, the pixel electrode 21 is formed of a light transmissive material such as indium tin oxide (ITO). It is preferable that According to this configuration, the rate at which light emitted from the organic EL light emitting layer 26 is absorbed by the pixel electrode 21 can be reduced, and high luminance can be realized. On the other hand, when the organic EL element 1 is a top emission type in which the light emission of the organic EL light emitting layer 26 is extracted from the upper common electrode 27 side, the pixel electrode 21 is formed of a light reflective material such as aluminum (Al). Is preferred. According to this configuration, the light emitted from the organic EL light emitting layer 26 toward the pixel electrode 21 is reflected by the pixel electrode 21 configured to be light-reflective to the upper common electrode 27 side with a high reflectance. Therefore, the light emission rate of light from the organic EL light emitting layer 26 can be increased, and high luminance can be realized.

尚、本実施形態に係る有機ＥＬ素子１では、画素電極２１が略矩形に形成されているが、画素電極２１は円形、楕円形等であってもよい。 In the organic EL element 1 according to this embodiment, the pixel electrode 21 is formed in a substantially rectangular shape, but the pixel electrode 21 may be circular, elliptical, or the like.

複数の有機機能層２４の各々は、画素電極２１の上に設けられたホール輸送層２５と、ホール輸送層２５の上に設けられた有機ＥＬ発光層２６とを有する。但し、有機機能層２４はこの構成に限定されない。有機機能層２４は、有機ＥＬ発光層２６のみにより構成されていてもよい。また、有機ＥＬ発光層２６に、ホール注入層、ホール輸送層２５、電子注入層、及び電子輸送層から選ばれた１又は２以上の層を組み合わせて用いても構わない。ホール注入層を設けることによって、画素電極２１から有機ＥＬ発光層２６へのホールの注入効率を向上させることができる。電子注入層を設けることによって、上部共通電極２７から有機ＥＬ発光層２６への電子の注入効率を向上させることができる。電子輸送層を設けることによって、上部共通電極２７から有機ＥＬ発光層２６への電子の輸送効率を向上させることができる。 Each of the plurality of organic functional layers 24 includes a hole transport layer 25 provided on the pixel electrode 21 and an organic EL light emitting layer 26 provided on the hole transport layer 25. However, the organic functional layer 24 is not limited to this configuration. The organic functional layer 24 may be composed of only the organic EL light emitting layer 26. The organic EL light emitting layer 26 may be used in combination with one or more layers selected from a hole injection layer, a hole transport layer 25, an electron injection layer, and an electron transport layer. By providing the hole injection layer, the efficiency of hole injection from the pixel electrode 21 to the organic EL light emitting layer 26 can be improved. By providing the electron injection layer, the injection efficiency of electrons from the upper common electrode 27 to the organic EL light emitting layer 26 can be improved. By providing the electron transport layer, the electron transport efficiency from the upper common electrode 27 to the organic EL light emitting layer 26 can be improved.

ホール輸送層２５は画素電極２１から有機ＥＬ発光層２６へのホールの輸送効率を向上させる機能を有する。ホール輸送層２５を形成するためのホール輸送材料は、高いホール輸送効率を有するものであれば、低分子発光材料であっても、高分子発光材料であっても構わない。ホール輸送層２５に好適な材料としては、例えば、ポルフィリン化合物、Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−（フェニル）−ベンジジン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＤ）等の芳香族第３級アミン化合物、ヒドラゾン化合物、キナクリドン化合物、スチルアミン化合物等の低分子材料、ポリアニリン、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォネート（ＰＥＤＴ／ＰＳＳ）、ポリ（トリフェニルアミン誘導体）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）等の高分子材料、ポリ（Ｐ−フェニレンビニレン）前駆体、ポリ（Ｐ−ナフタレンビニレン）前駆体等の高分子材料前駆体が挙げられる。尚、ホール注入層１４１は、単層構造に限られるものではなく、多層構造でも勿論構わない。 The hole transport layer 25 has a function of improving the hole transport efficiency from the pixel electrode 21 to the organic EL light emitting layer 26. The hole transport material for forming the hole transport layer 25 may be a low molecular light emitting material or a polymer light emitting material as long as it has high hole transport efficiency. Suitable materials for the hole transport layer 25 include, for example, porphyrin compounds, N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine (TPD), N, N ′. -Low molecular weight materials such as aromatic tertiary amine compounds such as di (naphthalen-1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine (NPD), hydrazone compounds, quinacridone compounds, stilamine compounds, polyaniline, 3, 4 -Polymer materials such as polyethylene dioxythiophene / polystyrene sulfonate (PEDT / PSS), poly (triphenylamine derivatives), polyvinyl carbazole (PVCz), poly (P-phenylene vinylene) precursor, poly (P-naphthalene) Polymeric material precursors such as vinylene precursors. The hole injection layer 141 is not limited to a single layer structure, and may of course have a multilayer structure.

有機ＥＬ発光層２６は画素電極２１から注入されたホールと、上部共通電極２７から注入された電子とを再結合させて光を出射させる機能を有する。有機ＥＬ発光層２６は、低分子発光材料を含むものであっても、また、高分子発光材料を含むものであっても構わない。有機ＥＬ発光層２６が低分子発光材料を含むものである場合は、真空蒸着法等の方法により成膜することができる。一方、有機ＥＬ発光層２６が高分子発光材料を含むものである場合は、インクジェット法等のウエットプロセスにより形成することができ、高精度且つ大きな面積を有する有機ＥＬ素子１を、少ない工程で安価に製造することができるため、より好ましい。有機ＥＬ発光層２６の材料としては、ポリ（２−デシルオキシー１、４−フェニレン）（ＤＯ−ＰＰＰ）、ポリ［２、５−ビス−［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニウム）エトキシ］−１、４−フェニル−アルト−１、４−フェニルレン］ジブロマイド（ＰＰＰ−ＮＥｔ³⁺）、ポリ[２−（２'−エチルヘキシルオキシ）−５−メトキシ−１、４−フェニレンビニレン]（ＭＥＨ−ＰＰＶ）等が挙げられる。 The organic EL light emitting layer 26 has a function of emitting light by recombining holes injected from the pixel electrode 21 and electrons injected from the upper common electrode 27. The organic EL light emitting layer 26 may include a low molecular light emitting material or a high molecular light emitting material. When the organic EL light emitting layer 26 contains a low molecular light emitting material, it can be formed by a method such as a vacuum deposition method. On the other hand, when the organic EL light emitting layer 26 includes a polymer light emitting material, it can be formed by a wet process such as an ink jet method, and the organic EL element 1 having a high accuracy and a large area can be manufactured at low cost with few steps. This is more preferable. As a material of the organic EL light emitting layer 26, poly (2-decyloxy-1,4-phenylene) (DO-PPP), poly [2,5-bis- [2- (N, N, N-triethylammonium) ethoxy]. ] -1,4-phenyl-alt-1,4-phenylylene] dibromide (PPP-NEt ³⁺ ), poly [2- (2′-ethylhexyloxy) -5-methoxy-1,4-phenylenevinylene] (MEH-PPV) etc. are mentioned.

バンク２３は、感光性ポリイミド、アクリル系樹脂、メタリクル系樹脂、ノボラック系樹脂等により形成することができる。 The bank 23 can be formed of photosensitive polyimide, acrylic resin, metallic resin, novolac resin, or the like.

上部共通電極２７は有機機能層２４に電子を注入する機能を有する。上部共通電極２７は、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、バナジウム（Ｖ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、タングステン（Ｗ）、金（Ａｕ）、カルシウム（Ｃａ）、チタン（Ｔｉ）、イットリウム（Ｙ）、ナトリウム（Ｎａ）、ルテニウム（Ｒｕ）、マンガン（Ｍｎ）、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等の金属材料により形成されていても構わない。又は、マグネシウム（Ｍｇ）／銅（Ｃｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）／銀（Ａｇ）、ナトリウム（Ｎａ）／カリウム（Ｋ）、アスタチン（Ａｔ）／酸化アスタチン（ＡｔＯ₂）、リチウム（Ｌｉ）／アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）等の合金により形成されていてもよい。又は、酸化スズ（ＳｎＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等の導電性酸化物により形成されていてもよい。 The upper common electrode 27 has a function of injecting electrons into the organic functional layer 24. The upper common electrode 27 includes silver (Ag), aluminum (Al), vanadium (V), cobalt (Co), nickel (Ni), tungsten (W), gold (Au), calcium (Ca), and titanium (Ti). , Yttrium (Y), sodium (Na), ruthenium (Ru), manganese (Mn), indium (In), magnesium (Mg), lithium (Li), ytterbium (Yb), lithium fluoride (LiF), and other metals It may be made of a material. Or magnesium (Mg) / copper (Cu), magnesium (Mg) / silver (Ag), sodium (Na) / potassium (K), astatine (At) / oxidized astatine (AtO ₂ ), lithium (Li) / aluminum (Al), lithium (Li) / calcium (Ca) / aluminum (Al), lithium fluoride (LiF) / calcium (Ca) / aluminum (Al), or other alloys may be used. Alternatively, it may be formed of a conductive oxide such as tin oxide (SnO), zinc oxide (ZnO), indium tin oxide (ITO), or indium zinc oxide (IZO).

これらの材料の中でも、仕事関数の小さな材料がより好ましい。仕事関数の小さな材料を画素電極２１に含ませることにより、画素電極２１から有機機能層２４への電子注入効率を向上させることができるからである。仕事関数が小さい材料としては、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、マグネシウム（Ｍｇ）／銅（Ｃｕ）、マグネシウム（Ｍｇ）／銀（Ａｇ）、ナトリウム（Ｎａ）／カリウム（Ｋ）、リチウム（Ｌｉ）／アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）／カルシウム（Ｃａ）／アルミニウム（Ａｌ）等が挙げられる。 Among these materials, a material having a small work function is more preferable. This is because the electron injection efficiency from the pixel electrode 21 to the organic functional layer 24 can be improved by including a material having a small work function in the pixel electrode 21. Materials having a low work function include magnesium (Mg), lithium (Li), lithium fluoride (LiF), magnesium (Mg) / copper (Cu), magnesium (Mg) / silver (Ag), sodium (Na) / Examples include potassium (K), lithium (Li) / aluminum (Al), lithium (Li) / calcium (Ca) / aluminum (Al), lithium fluoride (LiF) / calcium (Ca) / aluminum (Al), and the like. .

また、有機ＥＬ素子１が上部共通電極２７側から有機ＥＬ発光層２６の光を取り出すトップエミッション方式である場合は、上部共通電極２７がインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の光透過性の材料により形成されていることが好ましい。この構成によれば、有機ＥＬ発光層２６からの光の上部共通電極２７による吸収率を低くすることができ、高い輝度を実現することができる。一方、有機ＥＬ素子１が第１基板１０側から有機ＥＬ発光層２６の光を取り出すボトムエミッション方式である場合は、上部共通電極２７がアルミニウム（Ａｌ）等の光反射性材料により形成されていることが好ましい。この構成によれば、有機ＥＬ発光層２６から上部共通電極２７側に向けて出射された光が上部共通電極２７によって画素電極２１側に高い反射率で反射される。そのため、有機ＥＬ発光層２６からの光の出射光率を高くすることができ、高い輝度を実現することができる。 When the organic EL element 1 is a top emission type in which light from the organic EL light emitting layer 26 is extracted from the upper common electrode 27 side, the upper common electrode 27 is made of a light transmissive material such as indium tin oxide (ITO). Preferably it is formed. According to this configuration, the absorption rate of the light from the organic EL light emitting layer 26 by the upper common electrode 27 can be lowered, and high luminance can be realized. On the other hand, when the organic EL element 1 is a bottom emission method in which light from the organic EL light emitting layer 26 is extracted from the first substrate 10 side, the upper common electrode 27 is formed of a light reflective material such as aluminum (Al). It is preferable. According to this configuration, light emitted from the organic EL light emitting layer 26 toward the upper common electrode 27 side is reflected by the upper common electrode 27 toward the pixel electrode 21 with a high reflectance. Therefore, the light emission rate of light from the organic EL light emitting layer 26 can be increased, and high luminance can be realized.

上述のように、本実施形態１に係る有機ＥＬ素子１は水分や酸素等に対する耐久性が高いため、有機ＥＬ素子１を備えた有機ＥＬ表示パネルや有機ＥＬ表示装置もまた水分や酸素等に対する耐久性が高い。 As described above, since the organic EL element 1 according to Embodiment 1 has high durability against moisture, oxygen, and the like, the organic EL display panel and the organic EL display device including the organic EL element 1 are also resistant to moisture, oxygen, and the like. High durability.

実施形態１では有機ＥＬ素子１を例として説明したが、本発明に係る表示素子は何らこれに限定されるものではない。本発明に係る表示素子は、液晶表示素子、無機ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、フィールドエミッション表示素子等であってもよい。 In Embodiment 1, the organic EL element 1 has been described as an example, but the display element according to the present invention is not limited to this. The display element according to the present invention may be a liquid crystal display element, an inorganic EL display element, a plasma display element, a field emission display element, or the like.

（実施形態２）図１３は実施形態２に係る有機ＥＬ素子２のソースライン１１２の引き出し部分の概略平面図である。 (Embodiment 2) FIG. 13 is a schematic plan view of a lead-out portion of a source line 112 of an organic EL element 2 according to Embodiment 2.

図１４は図１３中ＸＩＶ−ＸＩＶ線で切断した概略断面図である。 14 is a schematic cross-sectional view taken along line XIV-XIV in FIG.

図１５は図１３中ＸＶ−ＸＶ線で切断した概略断面図である。 15 is a schematic cross-sectional view taken along line XV-XV in FIG.

実施形態２に係る有機ＥＬ素子２は、図１３に示したソースライン１１２の引き出し部分以外は、実施形態１に係る有機ＥＬ素子１と同様の構成を有する。ここでは、本実施形態２に係る有機ＥＬ素子２のソースライン１１２の引き出し部分について詳細に説明する。 The organic EL element 2 according to the second embodiment has the same configuration as that of the organic EL element 1 according to the first embodiment, except for the lead-out portion of the source line 112 illustrated in FIG. Here, the lead-out portion of the source line 112 of the organic EL element 2 according to Embodiment 2 will be described in detail.

実施形態２に係る有機ＥＬ素子２のソースライン１１２の引き出し部分は、第１基板１１０と、第１基板１１０に離間して対向する封止基板１２８と、封止基板１２８の周縁と第１基板１１０とを封止するシール１２９と、第１基板１１０上に形成された第１絶縁基板１１７ａと、封止空間内（第１基板１１０と封止基板１２８とシール１２９とによって囲まれた空間内）、第１絶縁基板１１７ａ上に設けられたソースライン１１２と、ソースラインの上に設けられた樹脂層１２０と、ソースライン１１２に電気的に接続され、封止空間外に引き出されたソース引き出し電極１３０と、ソース引き出し電極１３０の一端が接続されたソース端子部１３３とを有する。ソース端子部１３３は、ソース引き出し電極１３０と電気的に接続された端子１３７と、端子１３７の下に設けられた下部端子電極１３８と、下部端子電極１３８の周囲を覆う絶縁層１３６とを有する。 The lead-out portion of the source line 112 of the organic EL element 2 according to the second embodiment includes a first substrate 110, a sealing substrate 128 that is spaced apart from the first substrate 110, a peripheral edge of the sealing substrate 128, and the first substrate. 110, a first insulating substrate 117a formed on the first substrate 110, and a sealing space (in a space surrounded by the first substrate 110, the sealing substrate 128, and the seal 129). ), The source line 112 provided on the first insulating substrate 117a, the resin layer 120 provided on the source line, and the source lead electrically connected to the source line 112 and drawn out of the sealing space. The electrode 130 has a source terminal portion 133 to which one end of the source lead electrode 130 is connected. The source terminal portion 133 includes a terminal 137 that is electrically connected to the source lead electrode 130, a lower terminal electrode 138 provided under the terminal 137, and an insulating layer 136 that covers the periphery of the lower terminal electrode 138.

有機ＥＬ素子２では、ソース引き出し電極１３０が画素電極１２１と同一膜から形成されている。画素電極１２１はアルミニウム（Ａｌ）等からなる反射電極に構成されている。所定配列で配列された複数の画素電極１２１は各々が孤立して設けられているため（孤立パターンであるため）、画素電極１２１では電圧降下等の問題が生じない。そのため、画素電極１２１には余り低い抵抗値が要求されず、よって、画素電極１２１の層厚はソースライン１１２の層厚と比較して非常に薄くすることができる。このため、画素電極１２１と同一膜から形成されたソース引き出し電極１３０もまた薄く形成することができる。従って、図１５に示すように、シール１２９は第１基板１１０と封止基板１２８との間をより確実に封止することができ、有機ＥＬ素子２内への水分等の進入を効果的に防ぐことができるので、水分や酸素等に対する高い耐久性を実現することができる。 In the organic EL element 2, the source lead electrode 130 is formed from the same film as the pixel electrode 121. The pixel electrode 121 is configured as a reflective electrode made of aluminum (Al) or the like. Since each of the plurality of pixel electrodes 121 arranged in a predetermined arrangement is provided in isolation (because of an isolated pattern), the pixel electrode 121 does not have a problem such as a voltage drop. For this reason, the pixel electrode 121 does not require a very low resistance value, and thus the layer thickness of the pixel electrode 121 can be made very thin compared to the layer thickness of the source line 112. For this reason, the source lead electrode 130 formed of the same film as the pixel electrode 121 can also be formed thin. Therefore, as shown in FIG. 15, the seal 129 can more reliably seal between the first substrate 110 and the sealing substrate 128, and effectively allows moisture and the like to enter the organic EL element 2. Since it can prevent, high durability with respect to a water | moisture content, oxygen, etc. is realizable.

図１６は実施形態２に係る有機ＥＬ素子２の電源ライン１１４の引き出し部分の概略平面図である。 FIG. 16 is a schematic plan view of a lead-out portion of the power supply line 114 of the organic EL element 2 according to the second embodiment.

実施形態２に係る有機ＥＬ素子２の電源ライン１１４の引き出し部分は、第１基板１１０と、第１基板１１０に離間して対向する封止基板１２８と、封止基板１２８の周縁と第１基板１１０とを封止するシール１２９と、第１基板１１０上に形成された第１絶縁基板１１７ａと、封止空間内（第１基板１１０と封止基板１２８とシール１２９とによって囲まれた空間内）、第１絶縁基板１１７ａ上に設けられた電源ライン１１４と、ソースラインの上に設けられた樹脂層１２０と、電源ライン１１４に電気的に接続され、封止空間外に引き出された電源引き出し電極１３２と、電源引き出し電極１３２の一端が接続された電源端子部１３５とを有する。 The lead-out portion of the power supply line 114 of the organic EL element 2 according to the second embodiment includes the first substrate 110, the sealing substrate 128 that faces the first substrate 110 while being spaced apart, the peripheral edge of the sealing substrate 128, and the first substrate. 110, a first insulating substrate 117a formed on the first substrate 110, and a sealing space (in a space surrounded by the first substrate 110, the sealing substrate 128, and the seal 129). ), A power supply line 114 provided on the first insulating substrate 117a, a resin layer 120 provided on the source line, and a power supply lead electrically connected to the power supply line 114 and drawn out of the sealing space. The electrode 132 has a power terminal portion 135 to which one end of the power lead electrode 132 is connected.

有機ＥＬ素子２では、電源引き出し電極１３２が画素電極１２１と同一膜から形成されている。上述の通り、画素電極１２１は比較的層厚の薄い反射電極に構成されている。このため、画素電極１２１と同一膜から形成された電源引き出し電極１３２もまた薄く形成することができる。従って、図１５に示すように、シール１２９は第１基板１１０と封止基板１２８との間をより確実に封止することができ、有機ＥＬ素子２内への水分等の進入を効果的に防ぐことができるので、水分や酸素等に対する高い耐久性を実現することができる。 In the organic EL element 2, the power extraction electrode 132 is formed from the same film as the pixel electrode 121. As described above, the pixel electrode 121 is configured as a reflective electrode having a relatively thin layer thickness. For this reason, the power extraction electrode 132 formed of the same film as the pixel electrode 121 can also be formed thin. Accordingly, as shown in FIG. 15, the seal 129 can more reliably seal between the first substrate 110 and the sealing substrate 128, and effectively allows moisture and the like to enter the organic EL element 2. Since it can prevent, high durability with respect to a water | moisture content, oxygen, etc. is realizable.

（実施例１）実施形態１に係る有機ＥＬ素子１と同様の構成の有機ＥＬ素子を実施例１とした。実施例１では、ソース引き出し電極はタングステン（Ｗ）／チッ化タンタル（ＴａＮ）で形成されており、層厚は２００ｎｍであった。シールはエポキシ樹脂で、ディスペンス法を用いて形成した。 Example 1 An organic EL element having the same configuration as that of the organic EL element 1 according to the first embodiment is referred to as Example 1. In Example 1, the source extraction electrode was formed of tungsten (W) / tantalum nitride (TaN), and the layer thickness was 200 nm. The seal was an epoxy resin and was formed using a dispensing method.

（実施例２）実施形態２に係る有機ＥＬ素子２と同様の構成の有機ＥＬ素子を実施例２とした。実施例２では、ソース引き出し電極はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）／アルミニウム（Ａｌ）で形成されており、層厚は１５０ｎｍであった。シールは実施例１と同様である。 Example 2 An organic EL element having the same configuration as that of the organic EL element 2 according to the second embodiment is referred to as Example 2. In Example 2, the source extraction electrode was formed of indium zinc oxide (IZO) / aluminum (Al), and the layer thickness was 150 nm. The seal is the same as in Example 1.

（比較例）ソース引き出し電極３０をソースライン１２と同一膜で形成した以外は実施例１と同様の構成をした。比較例では、ソース引き出し電極はチタン（Ｔｉ）／アルミニウム（Ａｌ）／チタン（Ｔｉ）で形成されており、層厚は６００ｎｍであった。シールは実施例１と同様である。 (Comparative Example) The configuration was the same as in Example 1 except that the source lead electrode 30 was formed of the same film as the source line 12. In the comparative example, the source lead electrode was formed of titanium (Ti) / aluminum (Al) / titanium (Ti), and the layer thickness was 600 nm. The seal is the same as in Example 1.

実施例１に係る有機ＥＬ素子、実施例２に係る有機ＥＬ素子、及び比較例に係る有機ＥＬ素子を加速環境下（８５℃、相対湿度８５％）で放置し、平均輝度の経時変化を測定した。平均輝度とは、有機ＥＬ素子の画像表示領域から出射される光の総光量を画像表示領域の面積で割った値である。平均輝度の測定は輝度計ＢＭ−５Ａ (株式会社トプコン製)を使用して測定した。 The organic EL element according to Example 1, the organic EL element according to Example 2, and the organic EL element according to the comparative example are allowed to stand in an accelerating environment (85 ° C., relative humidity 85%), and the change in average luminance over time is measured. did. The average luminance is a value obtained by dividing the total amount of light emitted from the image display area of the organic EL element by the area of the image display area. The average luminance was measured using a luminance meter BM-5A (manufactured by Topcon Corporation).

図１７は実施例１及び実施例２と、比較例との平均輝度の経時変化を示すグラフである。 FIG. 17 is a graph showing changes in average luminance over time between Example 1 and Example 2 and the comparative example.

図１７に示すように、比較例に係る有機ＥＬ素子では１０００時間経過後の平均輝度が初期の平均輝度の５０％以下であった。それに対して実施例１に係る有機ＥＬ素子及び実施例２に係る有機ＥＬ素子では１０００時間経過後の平均輝度が初期の平均輝度の９０％以上であった。この結果からわかるように、ソースラインと比して層厚の比較的薄いゲートライン又は画素電極と同一膜からソース引き出し電極を形成することによって、水分や酸素等に対する耐久性を向上することができる。 As shown in FIG. 17, in the organic EL device according to the comparative example, the average luminance after 1000 hours was 50% or less of the initial average luminance. On the other hand, in the organic EL device according to Example 1 and the organic EL device according to Example 2, the average luminance after 1000 hours was 90% or more of the initial average luminance. As can be seen from this result, by forming the source extraction electrode from the same film as the gate line or the pixel electrode having a relatively thin layer thickness compared to the source line, durability against moisture, oxygen, and the like can be improved. .

実施形態１に係る有機ＥＬ素子１を模式的に示す概略平面図である。1 is a schematic plan view schematically showing an organic EL element 1 according to Embodiment 1. FIG. 図１中の点線ＩＩで囲まれた部分（ソースライン１２の引き出し部分）を模式的に示す概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view schematically showing a portion surrounded by a dotted line II in FIG. 1 (a drawn portion of the source line 12). 図２中のＩＩＩ−ＩＩＩ線で切断した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing cut | disconnected by the III-III line | wire in FIG. 図２で示した部分の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the portion shown in FIG. 2. ソースライン１２の概略断面図である。2 is a schematic cross-sectional view of a source line 12. FIG. 図１中の点線ＶＩで囲まれた部分（引き出し部）を模式的に示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows typically the part (drawing part) enclosed by the dotted line VI in FIG. 図５中ＶＩ−ＶＩ線で切断した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing cut | disconnected by the VI-VI line in FIG. 図５中ＶＩＩ−ＶＩＩ線で切断した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing cut | disconnected by the VII-VII line in FIG. 図１中ＩＸ−ＩＸ線で切断した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing cut | disconnected by the IX-IX line in FIG. 従来の有機ＥＬ素子ＺのソースラインＣの引き出し部分の概略平面図である。6 is a schematic plan view of a lead-out portion of a source line C of a conventional organic EL element Z. FIG. 図１０中ＸＩ−ＸＩ線で切断した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing cut | disconnected by the XI-XI line in FIG. 図１０中ＸＩＩ−ＸＩＩ線で切断した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing cut | disconnected by the XII-XII line | wire in FIG. 実施形態２に係る有機ＥＬ素子２のソースライン１１２の引き出し部分の概略平面図である。6 is a schematic plan view of a lead-out portion of a source line 112 of an organic EL element 2 according to Embodiment 2. FIG. 図１３中ＸＩＩＩＩ−ＸＩＩＩＩ線で切断した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing cut | disconnected by the XIIII-XIIII line | wire in FIG. 図１３中ＸＶ−ＸＶ線で切断した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing cut | disconnected by the XV-XV line | wire in FIG. 実施形態２に係る有機ＥＬ素子２の電源ライン１１４の引き出し部分の概略平面図である。6 is a schematic plan view of a lead-out portion of a power supply line 114 of an organic EL element 2 according to Embodiment 2. FIG. 実施例１及び２と比較例との平均輝度の経時変化を示すグラフである。It is a graph which shows the time-dependent change of the average brightness | luminance of Example 1 and 2 and a comparative example.

Explanation of symbols

１、２有機ＥＬ素子
１０、１１０第１基板
１１シリコン層
１２、１１２ソースライン
１２ａ第３導電層
１２ｂ第１導電層
１２ｃ第２導電層
１３ゲートライン
１４電源ライン
１５、１６ＴＦＴ
１７ａ、１１７ａ第１絶縁層
１７ｂ第２絶縁層
１８ドレイン電極
１９第３絶縁層
２０、１２０樹脂層
２１、１２１画素電極
２２第４絶縁層
２３バンク
２４有機機能層
２５ホール輸送層
２６有機ＥＬ発光層
２７上部共通電極
２８、１２８封止基板
２９、１２９シール
３０、１３０ソース引き出し電極
３１ゲート引き出し電極
３２電源引き出し電極
３３、１３３ソース端子部
３４ゲート端子部
３５電源端子部

1, 2 Organic EL device
10, 110 First substrate
11 Silicon layer
12, 112 source line
12a Third conductive layer
12b First conductive layer
12c Second conductive layer
13 Gate line
14 Power line
15, 16 TFT
17a, 117a first insulating layer
17b Second insulating layer
18 Drain electrode
19 Third insulating layer
20, 120 Resin layer
21, 121 Pixel electrode
22 4th insulating layer
23 banks
24 Organic functional layer
25 hole transport layer
26 Organic EL light emitting layer
27 Upper common electrode
28, 128 sealing substrate
29, 129 Seal
30, 130 Source extraction electrode
31 Gate extraction electrode
32 Power supply electrode
33, 133 Source terminal section
34 Gate terminal
35 Power terminal

Claims

A first substrate;
A second substrate facing away from the first substrate;
A seal that seals the first substrate and the second substrate and forms a sealing space between the first substrate and the second substrate;
A source line, a gate line, a power supply line, and a pixel electrode provided on the first substrate,
Having at least
The source line, the gate line, and the power line are display elements provided in the sealed space,
A source extraction electrode connected to the source line and extracted from the sealed space;
A power extraction electrode connected to the power supply line and extracted from the sealed space;
The display element in which the source extraction electrode and / or the power supply extraction electrode are formed of the same film as the gate line or the pixel electrode.

The display element according to claim 1,
A resin layer provided between the gate line and the pixel electrode;
A display element in which the resin layer is not formed between the seal and the first substrate.

The display element according to claim 1,
A display element in which a layer thickness of the source extraction electrode and / or the power supply extraction electrode is 300 nm or less.

The display element according to claim 1,
The source lead electrode and / or the power lead electrode are formed from the same film as the pixel electrode,
The pixel electrode is a display element that reflects light emitted from the organic light emitting layer toward the second substrate.

The display element according to claim 1,
The source line includes a first conductive layer and a second conductive layer provided on the first conductive layer,
The width of the first conductive layer is a display element narrower than the width of the second conductive layer.

The display element according to claim 5,
The conductive second conductive layer is a display element containing aluminum or copper.

A display panel comprising the display element according to claim 1.

A display device comprising the display element according to claim 1.