JP2006147673A - 基板回転式処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 スピンチャック10に保持されて回転する基板Wの側方および下方を取り囲むように配設され基板上から周囲へ飛散する処理液を回収するためのカップ16の、基板上から飛散した処理液が衝突する部分である上側カップ部24の内壁面に親水性表面と疎水性表面とを混在させた。
【選択図】 図1
Description
このように、請求項1に係る発明の基板回転式処理装置を使用すると、回転する基板の表面から周囲へ飛散した処理液がカップ内壁面で跳ね返ることが防止されるとともに、カップの内壁面に処理液が付着し乾燥して不純物や処理液成分がカップ内壁面に堆積することが防止されるので、カップに起因する基板汚染の原因を取り除くことができる。
図1は、この発明の実施形態の1例を示し、基板回転式処理装置、例えば基板回転式洗浄装置(スピンスクラバ)の要部の概略構成を示す縦断面図である。
12 回転支軸
14 スピンモータ
16 カップ
18 整流部材
20 支持円筒
22 洗浄液供給ノズル
24、40 上側カップ部
26 下側カップ部
30 排液口
32 ドレン管
34 排気管
36、42 上側カップ部内壁面の親水性表面
38、44 上側カップ部内壁面の疎水性表面
W 基板
Claims (3)
- 基板を水平姿勢に保持する基板保持手段と、
この基板保持手段に保持された基板を鉛直軸回りに回転させる基板回転手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の表面へ処理液を供給する処理液供給手段と、
上面が開口した容器状をなし、前記基板保持手段に保持された基板の側方および下方を取り囲むように配設され、基板上から周囲へ飛散する処理液を回収するためのカップと、
を備えた基板回転式処理装置において、
前記カップの内壁面の少なくとも、基板上から周囲へ飛散した処理液が衝突する部分およびその周辺部分に、親水性表面と疎水性表面とを混在させたことを特徴とする基板回転式処理装置。 - 親水性表面と疎水性表面とが水平方向に延びる縞状に混在した請求項1記載の基板回転式処理装置。
- 親水性表面と疎水性表面とが市松模様状に混在した請求項1記載の基板回転式処理装置。
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