JP2006133798A - 石英系光導波路部品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フィルム状石英系光導波路部品は、石英系材料で形成されたコアと、該コアを収容する石英系材料で形成されたクラッド層とを備え、前記クラッド層は、平板状である。また、石英系光導波路部品は、基板と、前記フィルム状石英系光導波路部品と、前記基板と前記フィルム状石英系光導波路部品の少なくとも一部とを接着する接着層とを備える。さらに、前記接着層は、前記石英系光導波路部品の前記コアと、該コアと対向する前記基板との間に中空部分を備えてもよい。
【選択図】図3
Description
前記基板上に形成された中間層と、
前記中間層の上に石英系材料で形成されたコアと該コアを収容する石英系材料で形成されたクラッド層とからなる石英系光導波路層と
を備え、
前記中間層のヤング率は、前記石英系光導波路層及び前記基板のそれぞれのヤング率よりも小さいことを特徴とする。
前記少なくとも一方の膜の上に石英系材料で形成されたコアと該コアを収容する石英系材料で形成されたクラッド層とからなる石英系光導波路層と
を備え、
前記両面に膜を有する基板の全体の熱膨張率は、前記石英系光導波路層の熱膨張率と実質的に同一であることを特徴とする。
前記クラッド層は、平板状であることを特徴とする。
請求項5から7のいずれか一項に記載の前記フィルム状石英系光導波路部品と、
前記基板と前記フィルム状石英系光導波路部品の少なくとも一部とを接着する接着層と
を備えたことを特徴とする。
本発明の実施の形態1に係る石英系光導波路部品について、図1を用いて説明する。この石英系光導波路部品10は、基板1と、該基板1の上に形成された中間層12と、該中間層12の上に形成された下部クラッド層2、コア3及び上部クラッド層4とからなる石英系導波路層7とを備えている。中間層12は、そのヤング率が、石英系光導波路層7と基板1のそれぞれのヤング率よりも小さい材料により形成している。この中間層12を設けることによって、光導波路層7と基板1との熱膨張率差に起因して発生する応力を緩和し、その結果、光導波路層7における複屈折性が低減され、偏波依存性を低減することができる。
本発明の実施例1に係る石英系光導波路部品について、図1を用いて説明する。この石英系光導波路部品10は、シリコンウエハからなる基板1と、該基板1の上に形成されたシリコン多孔質膜からなる中間層12と、該中間層12の上に形成された下部クラッド層2、コア3及び上部クラッド層4とからなる石英系導波路層7とを備えている。この中間層12には、ヤング率が石英系光導波路層7と基板1のそれぞれのヤング率よりも小さいシリコン多孔質膜を用いている。このように中間層12を設けることによって、光導波路層7と基板1との熱膨張率差に起因して発生する応力を緩和し、その結果、光導波路層7における複屈折性が低減され、偏波依存性を低減することができる。
(a)先ず、基板1として外形寸法15.24cm(6インチ)、厚さ0.6mmのシリコンウエハを用意し、該基板1の裏面に絶縁皮膜を形成した。
(b)そして、シリコンウエハ1の表面側に、陽極酸化法により厚さ20〜100μmのシリコン多孔質膜を形成した。この陽極酸化の条件を制御して表面近傍の孔径が小さくなるようにし、多孔質膜の孔径がおよそ0.05〜1μmとなるようにした。
(c)その後、裏面の絶縁膜を除去し、多孔質膜の表面にCVD法によりシリコン膜を形成し、さらに該シリコン膜の表面の平坦化処理を行った。これによってシリコン多孔質膜を中間層12とした。平坦化処理は、水素中での高温アニール又は化学機械研磨法のどちらで行なってもよい。
(d)次に平坦化したシリコン多孔質膜12の上部に石英系光導波路層7を形成した。まず、厚さ15μmの下部クラッド層2をCVD法により形成し、引き続きその上部に厚さ6μm、屈折率差0.7%のコア層3をCVD法により形成した。次に、写真製版法とエッチング工程によりコア層3を幅6μmの直線パターンとした後、そのコアパターンを覆うように厚さ15μmの上部クラッド層4をCVD法により形成した。これによって、コア3と、該コア3を収容するクラッド層5とからなる光導波路層7を形成した。
本発明の実施の形態2に係る石英系光導波路部品について図2を用いて説明する。この石英系光導波路部品20は、実施の形態1に係る石英系光導波路部品と比較すると、基板1の両面に熱膨張率を制御する基板制御膜14を形成され、基板制御膜14の少なくとも一つの面に石英系光導波路層7が形成されている点で相違する。ここで、両面に基板制御膜14を有する基板の全体の熱膨張率、いわゆる見かけの基板11の熱膨張率は、石英系光導波路層7の熱膨張率と実質的に同一に調整されている。これによって、見かけの基板11と石英系光導波路層7との熱膨張率の差がないので、温度変化を受けた場合にも石英系光導波路層7への応力が発生せず、導波路の複屈折性を低減し、偏波依存性を小さくすることができる。
本発明の実施例2に係る石英系光導波路部品について、図2を用いて説明する。この石英系光導波路部品20は、実施例1に係る石英系光導波路部品と比較すると、基板1の両面に熱膨張率を制御する基板制御膜14として熱酸化膜が形成され、基板制御膜14の少なくとも一つの面に石英系光導波路層7が形成されている点で相違する。ここで、両面に基板制御膜14としての熱酸化膜を有する基板の全体の熱膨張率、いわゆる見かけの基板11の熱膨張率は、石英系光導波路層7の熱膨張率と実質的に同一に制御されている。これによって、見かけの基板11と石英系光導波路層7との熱膨張率の差がないので、温度変化を受けた場合にも石英系光導波路層7への応力が発生せず、導波路の複屈折性を低減し、偏波依存性を小さくすることができる。なお、基板制御膜14は、上記熱酸化膜に限られず、石英薄板等を貼付して用いてもよい。
(a)まず、基板1として外形寸法10.16cm(4インチ)、厚さ0.15mmのシリコンウエハを用意した。
(b)シリコンウエハ1の両面を熱酸化によって厚さ15〜30μmの熱酸化膜14を形成した。この熱酸化の方法は、通常用いられる方法で行なうことができる。なお、熱酸化膜なので、基板1の両面に均一な膜厚で形成することができる。
(c)次いで、基板の両面に形成した熱酸化膜14のうち、片面の熱酸化膜14の上に光導波路層7を形成した。まず、厚さ20μmの下部クラッド層2をCVD法で形成し、引き続きその上部に厚さ8μm、屈折率差0.3%のコア層3をCVD法により形成した。次に、写真製版法とエッチング工程によりコア層3を幅8μmの直線パターンとした後、そのコアパターンを覆うように厚さ20μmの上部クラッド層4をCVD法により形成した。これによって、コア3と、該コア3を収容するクラッド層5とからなる光導波路層7を形成した。
(a)まず、基板1として外形寸法10.16cm(4インチ)、厚さ0.5mmのシリコンウエハを用意する。
(b)次に、接着用ガラスとして厚さ15〜30μmの硼素添加(3〜10wt%)ガラス膜をCVD法により両面に形成した。
(c)そして、シリコン基板1の両面に形成された接着用ガラスの上に、外形寸法10.16cm(4インチ)、厚さ0.1〜0.2mmの石英薄板14を被着し、
(d)真空中で900〜1200℃の範囲の温度で熱処理を施し、シリコン基板1と石英薄板14の被着を行った。
(e)このシリコン基板1の両面に被着した石英薄板14のうち、一方の石英薄板の上に石英系光導波路層7を形成した。まず、厚さ15μmの下部クラッド層2をCVD法で形成し、引き続きその上部に厚さ6μm、屈折率差0.7%のコア層3をCVD法により形成した。次に写真製版法とエッチング工程によりコア層3を幅6μmの直線パターンとした後、そのコアパターンを覆うように厚さ15μmの上部クラッド層4をCVD法により形成した。これによって、コア3と、該コア3を収容するクラッド層5とからなる光導波路層7を形成した。
本発明の実施の形態4に係るフィルム状石英系光導波路部品について、図3を用いて説明する。このフィルム状石英系光導波路部品17は、実施の形態1及び2に係る石英系光導波路部品と比較すると、基板を有することなく、コア3と該コア3を収納するクラッド層5とからなる光導波路層のみのフィルム状石英系光導波路部品である点で相違する。また、このフィルム状石英系光導波路部品17は、光ファイバと比較すると、クラッド層5が平板状、換言すればフィルム状である点で相違する。このように基板に積層されていないので、基板側から受ける応力に起因する複屈折性を解消でき、偏波依存性を改善できる。さらに、クラッド層5内に複数のコア3からなる光回路を構成してもよい。なお、このフィルム状石英系光導波路部品は、基板上に石英系光導波路層を積層形成した後、基板の部分を除去することによってフィルム状の石英系光導波路層のみとしたものである。その製造方法の詳細は実施例3において述べる。
本発明の実施例3に係るフィルム状石英系光導波路部品について説明する。このフィルム状石英系光導波路部品17は、実施例1及び2に係る石英系光導波路部品と比較すると、基板を有することなく、コア3と該コア3を収納するクラッド層5とからなる光導波路層のみのフィルム状石英系光導波路部品である点で相違する。また、このフィルム状石英系光導波路部品17は、光ファイバと比較すると、クラッド層5が平板状、換言すればフィルム状である点で相違する。なお、厚みはクラッド層の厚みを適宜制御することによって、20μm〜100μmの範囲、好ましくは30〜50μmの範囲にすることができる。このように基板に積層されていないので、基板側から受ける応力に起因する複屈折性を解消でき、偏波依存性を改善できる。さらに、クラッド層5内に複数のコア3からなる光回路を構成することができる。
(a)先ず、基板1として外形寸法10.16cm(4インチ)、厚さ1mmのシリコンウエハ((100)面)を用意した。
(b)次に、基板1の片面に光導波路層を形成した。まず、厚さ15μmの下部クラッド層2をCVD法で形成し、引き続きその上部に厚さ6μm、屈折率差0.7%のコア層3をCVD法により形成した。次いで、写真製版法とエッチング工程によりコア層3を幅6μmの直線パターンとした後、そのコアパターンを覆うように厚さ15μmの上部クラッド層4をCVD法により形成した。これによって、コア3と、該コア3を収容するクラッド層5とからなる光導波路層7を形成した。
(d)その後、所望の大きさに切り出してから、基板1を裏面研削することにより全体の厚さを0.1〜0.2mmとし、さらに、加熱した苛性カリ系エッチング液に浸し、シリコン基板1を溶解除去して、フィルム状の石英系光導波路層17とした。
上記手順によってフィルム状石英系光導波路部品を得ることができた。その形状は平板状、あるいはフィルム状であって、厚みは約36μmである。
本発明の実施例4に係るフィルム状アレイ導波路フィルタ(AWG)について図9を用いて説明する。このアレイ導波路フィルタは、実施例3に係るフィルム状石英系光導波路部品と比較すると、複数のコアで構成されるアレイ導波路フィルタの光回路が構成されている点で相違する。このようにフィルム状石英系光導波路部品を用いることによって、基板との間の熱膨張率差に起因する応力を受けないので、偏波依存性を大幅に低減できる。また、フィルム状であるため、熱容量が小さく、例えば、薄膜ヒータ等を用いて容易に加熱でき、フィルタ中心波長を容易にシフトさせることができる。なお、薄膜ヒータはこのアレイ導波路フィルタに必須ではないので任意に用いることができる。
本発明の実施の形態4に係る石英系光導波路部品について、図4を用いて説明する。この石英系光導波路部品30は、実施の形態3に係るフィルム状石英系光導波路部品17が基板21の上に接着層22で接着されている。このようにフィルム状石英系光導波路部品17を用い、接着層22と基板21の材料を選択することによって、光導波路層17には応力が及ばないようにすることで、複屈折性を低減した石英系光導波路部品とすることができる。また、温度変化による特性の変動をうち消す方向に応力をかけることもできる。
本発明の実施例5に係る石英系光導波路部品について、図4を用いて説明する。この石英系光導波路部品30は、実施例3に係るフィルム状石英系光導波路部品17が基板21の上に接着層22で接着されている。このようにフィルム状石英系光導波路部品17を用い、接着層22と基板21の材料を選択することによって、光導波路層17には応力が及ばないようにすることで、複屈折性を低減した石英系光導波路部品とすることができる。また、温度変化による特性の変動をうち消す方向に応力をかけることもできる。
(a)まず、上記フィルム状石英系光導波路部品17を用意する。なお、この製造方法は実施例3で説明した製造方法と同様である。
(b)次に、フィルム状石英系光導波路部品17のコア3に水素添加処理と紫外線照射を行なって1.5μm帯用グレーティングフィルタを形成する。
(c)次いで、接着層8として樹脂系接着剤のシリコンゴム系接着剤を用いて、フィルム状石英系光導波路部品17を実質的に同じ大きさのシリコン基板21に接着した。
本発明の実施例6に係るフィルム状石英系光導波路部品及び石英系光導波路部品について説明する。このフィルム状石英系光導波路部品27は、実施例3に係るフィルム状石英系光導波路部品と比較すると、図6に示すように、クラッド層5中に複数のコア3への分岐部分を備えた光回路を含んでいる点で相違する。このフィルム状石英系光導波路部品27では、フィルム状のクラッド層5内にあらかじめ光回路を構成することができるので、複数本の光ファイバを組み合わせて光回路を構成する場合よりもコンパクトに光回路を構成することができる。
本発明の実施の形態5に係る石英系光導波路部品について、図4を用いて説明する。この石英系光導波路部品は、実施の形態4に係る石英系光導波路部品と比較すると、基板21として、伸縮あるいは屈曲状態の制御が可能な伸縮制御基板を用いる点で相違する。この伸縮制御基板を用いることによって、光導波路への応力を制御することができる。例えば、光導波路層21のコア3にグレーティングフィルタを形成している場合には、中心波長の温度依存性を制御することができる。この伸縮制御基板としては、例えば、圧電体基板、バイメタル板、あるいは任意の基板の裏面に機械的な伸縮機構を配置した基板等の機械的伸縮制御基板、熱膨張率の大きな金属板や樹脂板とヒータ又はペルティエ素子とを組み合わせた温度制御による温度制御型伸縮制御基板、又はこれらを複合したものなどを使用することができる。さらに、金属、ガラス、セラミックス、樹脂等の基板材料を組み合わせてもよい。また、石英系光導波路部分は薄いガラス膜であるので、保護のための樹脂膜で被覆したものも使用可能である。
本発明の実施例7に係る石英系光導波路部品について説明する。この石英系光導波路部品は、実施例5及び6に係る石英系光導波路部品と比較すると、フィルム状石英系光導波路部品を接着している基板21が伸縮を制御できる伸縮制御基板である点で相違する。この伸縮の制御が可能な伸縮制御基板を用いることによって、石英系光導波路部品の偏波依存性及びグレーティングフィルタの中心波長の能動あるいは受動制御が可能となる。例えば、基板21に圧電体基板を光の導波方向と直角方向に伸縮を制御できるように配置することによって、偏波依存性の調整が可能となる。また、光導波路部品にグレーティングフィルタを設け、光の導波方向と平行に伸縮を制御できるように配置することによって、フィルタの中心波長の調整が可能となる。
Claims (9)
- 石英系材料で形成されたコアと、該コアを収容する石英系材料で形成されたクラッド層とを備え、
前記クラッド層は、平板状であることを特徴とするフィルム状石英系光導波路部品。 - 前記クラッド層内に複数のコアで構成される光回路を備えることを特徴とする請求項1に記載のフィルム状石英系光導波路部品。
- 前記クラッド層の周囲を保護する保護膜をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載のフィルム状石英系光導波路部品。
- 基板と、
請求項1から3のいずれか一項に記載の前記フィルム状石英系光導波路部品と、
前記基板と前記フィルム状石英系光導波路部品の少なくとも一部とを接着する接着層と
を備えたことを特徴とする石英系光導波路部品。 - 前記接着層は、前記石英系光導波路部品の前記コアと、該コアと対向する前記基板との間に中空部分を備えたことを特徴とする請求項4に記載の石英系光導波路部品。
- 前記基板は、伸縮制御可能であることを特徴とする請求項4又は5に記載の石英系光導波路部品。
- 前記基板は、圧電体基板又はバイメタル板からなることを特徴とする請求項6に記載の石英系光導波路部品。
- 前記基板は、ヒータ又はペルティエ素子を備えることを特徴とする請求項6に記載の石英系光導波路部品。
- 前記接着層は、樹脂系接着剤、低融点ガラス及び低融点金属の群から選ばれる少なくとも1つからなることを特徴とする請求項4から8のいずれか一項に記載の石英系光導波路部品。
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JP2005369726A JP2006133798A (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | 石英系光導波路部品 |
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JP2005369726A JP2006133798A (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | 石英系光導波路部品 |
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JP2002049854A Division JP3796183B2 (ja) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | 石英系光導波路部品 |
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Publication Number | Publication Date |
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Family Applications (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011242436A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Citizen Holdings Co Ltd | 光デバイス |
WO2023089684A1 (ja) * | 2021-11-17 | 2023-05-25 | 富士通株式会社 | 量子デバイス及び量子演算装置 |
-
2005
- 2005-12-22 JP JP2005369726A patent/JP2006133798A/ja active Pending
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JP2011242436A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Citizen Holdings Co Ltd | 光デバイス |
WO2023089684A1 (ja) * | 2021-11-17 | 2023-05-25 | 富士通株式会社 | 量子デバイス及び量子演算装置 |
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