JP2006122889A - Production method of coating film, anti-reflecting film and its production method, polarizing plate using the anti-reflecting film, and image displaying device using these - Google Patents

Production method of coating film, anti-reflecting film and its production method, polarizing plate using the anti-reflecting film, and image displaying device using these Download PDF

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Takato Suzuki
貴登 鈴木
Kazuhiko Noujiyou
和彦 能條
Tomonari Ogawa
朋成 小川
Yoichi Hasegawa
陽一 長谷川
Kazuhiro Oki
和宏 沖
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-productivity, high-quality anti-reflecting film. <P>SOLUTION: In an anti-reflecting film production method, a coating liquid is applied onto a web W, which is supported by a backup roller 11 and travels continuously, by using a slot die to form at least one layer having a film thickness of ≤200 nm in a dried state and having a lower refractive index than that of the web. An edge lip on the downstream side in the web traveling direction has a land length in the web traveling direction ILO of 30-100 μm, and a space between an edge lip 18a on the upstream side in the web traveling direction and a web surface is set so as to be 30-120 μm larger than a space between the edge lip 18b on the downstream side in the web traveling direction and the web surface. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、長尺帯状支持体(以下、ウェブと称する)に連続して塗布膜を形成する塗布膜の製造方法、反射防止フィルム及びその製造方法、該フィルムを用いた偏光板、及びこれらを用いた画像表示装置に関する。 The present invention relates to a method for producing a coating film, an antireflection film and a method for producing the same, a polarizing plate using the film, and a polarizing plate using the film, The present invention relates to the image display device used.

情報通信関連機器・AV機器などの高性能化と普及に伴い、10nmから100nmのオーダーの薄膜を使用した部品の需要が急拡大しており、このような薄膜を高い生産性で作成するニーズが高まっている。該薄膜は光学部品として使用されることが多く、このような光学的な機能を持つ薄膜を一般的に光学薄膜と呼ぶ。光学薄膜は可視光波長の1/4〜1倍の程度の光学膜厚(光学膜厚nd=物理膜厚×屈折率)であり、光学薄膜を単層あるいは多層積層することで様々な機能を持たせることが出来る。光学薄膜を用いた主な製
品としては、バンドパスフィルタ、ダイクロイックミラー、ダイクロイックフィルタ、コールドミラー・フィルタ、ビームスプリッター、反射防止膜、近赤外線カットフィルタ、レーザーミラー、NDフィルタ等が挙げられる。
With the high performance and widespread use of information communication equipment and AV equipment, the demand for parts using thin films on the order of 10 nm to 100 nm is rapidly expanding, and there is a need to create such thin films with high productivity. It is growing. The thin film is often used as an optical component, and a thin film having such an optical function is generally called an optical thin film. The optical thin film has an optical film thickness (optical film thickness nd = physical film thickness × refractive index) of about ¼ to 1 times the visible light wavelength, and various functions can be achieved by laminating the optical thin film as a single layer or multiple layers. You can have it. Main products using optical thin films include bandpass filters, dichroic mirrors, dichroic filters, cold mirror filters, beam splitters, antireflection films, near infrared cut filters, laser mirrors, ND filters, and the like.

反射防止膜を有する反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような様々な画像表示装置に使用されている。また、眼鏡やカメラのレンズにも、反射防止フィルムが使用されている。   Antireflection films having antireflection films are used in various image display devices such as liquid crystal display devices (LCD), plasma display panels (PDP), electroluminescence displays (ELD), and cathode ray tube display devices (CRT). Yes. Antireflection films are also used for glasses and camera lenses.

このような反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が、従来から普通に用いられている。複数の透明薄膜を用いる理由は、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。   As such an antireflection film, a multilayer film in which a transparent thin film of metal oxide is laminated has been conventionally used. The reason for using a plurality of transparent thin films is to prevent reflection of light in a wavelength range as wide as possible in the visible range.

これら金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタリング法により形成されている。ところが、金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィルムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着法やスパッタリング法による製膜方法は、生産性が低く大量生産には適していない。   These metal oxide transparent thin films are formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, which is a kind of physical vapor deposition method. However, a transparent thin film of metal oxide has excellent optical properties as an antireflection film, but a film formation method by vapor deposition or sputtering is low in productivity and is not suitable for mass production.

これに対し、蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により反射防止フィルムを形成する方法が提案されている(特許文献1〜5)。このうち、特許文献1は、微細空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層の構成のもので、反射防止層は、塗布により形成される。微細空孔は、層の塗布後に活性化ガス処理を行ない、ガスが層から離脱することによって形成される。   On the other hand, it replaces with a vapor deposition method and the method of forming an antireflection film by application | coating of an inorganic fine particle is proposed (patent documents 1-5). Among these, Patent Document 1 has a configuration of an antireflection layer having fine pores and fine inorganic particles, and the antireflection layer is formed by coating. The fine pores are formed by performing an activated gas treatment after the application of the layer and releasing the gas from the layer.

特許文献2は、支持体、高屈折率層及び低屈折率層の順に積層した反射防止フィルムの構成、及び、支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設けた反射防止フィルムの構成を開示している。この低屈折率層は、ポリマー又は無機微粒子の塗布により形成されている。   Patent Document 2 discloses a structure of an antireflection film in which a support, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order, and an antireflection film in which an intermediate refractive index layer is provided between the support and the high refractive index layer. The configuration is disclosed. This low refractive index layer is formed by application of a polymer or inorganic fine particles.

特許文献3は、反射防止層をダイコート法により塗布する内容の提案である。特許文献4及び特許文献5は、反射防止層をダイコート法により塗布するもので、ダイの構成を工夫することによって精度よく薄層の塗布が行える内容の提案である。
特公昭60−59250号公報 特開昭59−50401号公報 特開平7−151904号公報 特開2003−200097号公報 特開2003−211052号公報
Patent document 3 is a proposal of the content which apply | coats an antireflection layer by the die-coating method. Patent Documents 4 and 5 are proposals that apply an antireflection layer by a die coating method, and can apply a thin layer with high accuracy by devising the structure of the die.
Japanese Patent Publication No. 60-59250 JP 59-50401 A JP 7-151904 A JP 2003-200097 A JP 2003-211052 A

しかしながら、塗布法により反射防止フィルムを形成する場合、可視光波長の1/2〜1/4程度の非常に薄い膜厚領域の塗布となるため、数nmオーダーの膜厚ムラが大きな膜厚偏差となってしまう。更に、各層のわずかな膜厚ムラが色ムラとなり、色味が大きくシフトし、目視でムラとして検出されてしまう問題があるため、膜厚を正確に制御する塗布技術が非常に重要となる。反射防止フィルムの製造工程における膜厚ムラの主要な発生箇所は塗布部及び塗布後の乾燥部である。   However, when an antireflection film is formed by a coating method, since the coating is applied in a very thin film thickness region of about ½ to ¼ of the visible light wavelength, the film thickness deviation has a large film thickness unevenness on the order of several nm. End up. Furthermore, since a slight film thickness unevenness of each layer becomes a color unevenness and the color is greatly shifted and detected as unevenness by visual observation, a coating technique for accurately controlling the film thickness is very important. The main places where film thickness unevenness occurs in the production process of the antireflection film are the coating part and the drying part after coating.

これに対し、反射防止フィルムの塗布方式としてはこれまでディップコート法、マイクログラビア法、リバースロールコート法などが主に用いられてきた。   On the other hand, the dip coating method, the micro gravure method, the reverse roll coating method and the like have been mainly used so far as the coating method of the antireflection film.

ところが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。また、リバースロールコート法、マイクログラビア法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。更に、マイクログラビア法では、グラビアロールの製作精度や、ブレードとグラビアロールの当たりによるロールやブレードの経時変化により、塗布量ムラを発生しやすい。   However, in the dip coating method, vibration of the coating liquid in the liquid receiving tank is unavoidable, and stepped unevenness is likely to occur. Further, in the reverse roll coating method and the micro gravure method, stepped unevenness is likely to occur due to roll eccentricity and deflection related to coating. Furthermore, in the microgravure method, coating amount unevenness is likely to occur due to the manufacturing accuracy of the gravure roll and the change with time of the roll and the blade due to the contact between the blade and the gravure roll.

また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が比較的困難である。そのため、これらの塗布方式では、ある速度以上の塗布の高速化が困難であり、蒸着法などに比べれば生産性が高いものの、塗布本来の生産性の高さが活かし切れていない。   Further, since these coating methods are post-measuring methods, it is relatively difficult to ensure a stable film thickness. Therefore, in these coating methods, it is difficult to increase the coating speed beyond a certain speed, and although the productivity is higher than that of the vapor deposition method or the like, the high productivity inherent in coating is not fully utilized.

一方、既述した特許文献3のダイコート法は、前計量塗布方式であるため、膜厚の安定性が高い利点がある。ただし、通常一般的に用いられているダイの構成を用いて塗布を行うので、前記の各種塗布方式と同程度の高速性しか実現することができない。具体的には、反射防止層のような薄層塗布では、透明支持体の搬送方向と垂直及び平行な向きに発生する膜厚ムラが顕著に発生し、膜厚の安定性を保つことが難しい。   On the other hand, since the die coating method of Patent Document 3 described above is a pre-measuring application method, it has an advantage of high film thickness stability. However, since coating is performed using a generally used die configuration, it is possible to realize only high speed comparable to the above-described various coating methods. Specifically, in a thin layer coating such as an antireflection layer, film thickness unevenness occurs in a direction perpendicular to and parallel to the transport direction of the transparent support, and it is difficult to maintain film thickness stability. .

これに対し、既述した特許文献4及び5のダイコート法では、ダイの構成を工夫することによって精度よく薄層の塗布が行えるとされている。   On the other hand, in the above-described die coating methods of Patent Documents 4 and 5, a thin layer can be applied with high accuracy by devising the configuration of the die.

しかしながら、これらの特許文献に示されている構成で塗布を行っても液の種類によっては、高速での塗布が困難であり、時には塗布自体が不可能である事も見受けられていた。更に高速塗布時においてはWET膜厚は安定になってもその直後の乾燥工程で発生する膜厚ムラにより良好な面状が得られないことがある。   However, even if coating is performed with the configuration shown in these patent documents, depending on the type of liquid, it is difficult to perform coating at high speed, and sometimes coating itself is impossible. Furthermore, even when the WET film thickness becomes stable during high-speed coating, a good surface shape may not be obtained due to film thickness unevenness that occurs in the immediately subsequent drying process.

塗布液中に有機溶剤を含む場合、特に反射防止フィルムのように塗布および乾燥工程で発生する数nmの膜厚ムラが面状故障として視認されてしまう場合には、このようなムラの発生は著しい製品の品質劣化をもたらす。   When an organic solvent is included in the coating liquid, especially when an uneven film thickness of several nanometers generated in the coating and drying process is visually recognized as a surface failure, such as an antireflection film, Causes significant product quality degradation.

乾燥工程では通常、熱風乾燥方法が用いられ、この熱風乾燥方法は乾燥効率に優れるものの、塗布面に直接または多孔板、整流板等を介して風をあてるために、この風によって塗布面が乱れて塗布層の厚さが不均一となってムラを生じたり、対流によって塗布面での溶媒の蒸発速度が不均一になったりし、いわゆるユズ肌等が発生して、均一な塗布層が得られないという問題がある。また、塗布膜に吹きつける風の条件を調整して蒸発速度を下げることによって良好
な面状を得ることは可能であるが、生産性を上げるために塗布速度を下げると、乾燥を完了させるために長い乾燥工程が必要となるため、生産性向上のためには好ましい方法ではない。
In the drying process, a hot air drying method is usually used. Although this hot air drying method is excellent in drying efficiency, the air is applied directly or through a porous plate, a rectifier plate, etc. As a result, the thickness of the coating layer becomes uneven and unevenness occurs, or the evaporation rate of the solvent on the coating surface becomes non-uniform due to convection, and so-called crushed skin occurs, resulting in a uniform coating layer. There is a problem that can not be. In addition, it is possible to obtain a good surface condition by adjusting the conditions of the wind blown on the coating film and lowering the evaporation speed, but if the coating speed is lowered to increase productivity, the drying is completed. Therefore, it is not a preferable method for improving productivity.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、高精細な描画性、反射防止性及び防眩性に優れた塗布膜の製造方法、反射防止フィルムの製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、生産性が蒸着法や他の塗布方式よりも優れ、膜厚均一性が高い反射防止フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a method for producing a coating film and a method for producing an antireflection film, which are excellent in high-definition drawing properties, antireflection properties and antiglare properties. And Another object of the present invention is to provide a method for producing an antireflection film that has higher productivity than vapor deposition and other coating methods and high film thickness uniformity.

前記目的を達成するために、請求項1に係る本発明は、バックアップローラに支持されて連続走行する透明支持体上に、スロットダイを使用して塗布液を塗布し、乾燥状態での膜厚が200nm以下であり、かつ、該透明支持体よりも屈折率の低い層を少なくとも1層形成する反射防止フィルムの製造方法において、前記透明支持体走行方向下流側の先端リップの前記透明支持体走行方向ランド長さが30〜100μmであり、かつ、前記透明支持体走行方向上流側の先端リップと前記透明支持体表面との隙間を、前記透明支持体走行方向下流側の先端リップと前記透明支持体表面との隙間よりも30〜120μm大きく設定することを特徴とする。   In order to achieve the above object, the present invention according to claim 1 is directed to applying a coating liquid using a slot die onto a transparent support that is continuously supported by a backup roller, and a film thickness in a dry state. In the method for producing an antireflection film, in which at least one layer having a refractive index lower than that of the transparent support is formed at 200 nm or less, the transparent support running of the tip lip downstream in the transparent support running direction The direction land length is 30 to 100 μm, and the gap between the upstream end lip on the upstream side of the transparent support traveling direction and the surface of the transparent support is defined as the front end lip on the downstream side in the transparent support traveling direction and the transparent support. It is characterized by being set larger by 30 to 120 μm than the gap with the body surface.

すなわち、本発明者は上記問題を解決するため鋭意検討を行った結果、スロットダイの形状を工夫した塗布装置を用いることにより、反射防止フィルムのような200nm以下の薄層を膜厚ムラ無く安定に塗布可能となる新規な反射防止フィルムの製造方法を見出した。   That is, as a result of intensive studies to solve the above problems, the inventor of the present invention is able to stably stabilize a thin layer of 200 nm or less like an antireflection film without film thickness unevenness by using a coating device in which the shape of the slot die is devised. The present inventors have found a novel method for producing an antireflective film that can be applied.

請求項2に係る本発明は、前記塗布液の塗布時における粘度が20.0mPa・秒以下であり、かつ、前記透明支持体上に塗布される塗布液の量が2.0〜5.0ml/mであることを特徴とする。このように、更に透明支持体に塗布される塗布液の量及び粘度を規定することにより、良好な面状を得ることができる。 The present invention according to claim 2 has a viscosity of 20.0 mPa · sec or less when the coating liquid is applied, and the amount of the coating liquid applied on the transparent support is 2.0 to 5.0 ml. / M 2 . Thus, a favorable surface shape can be obtained by further specifying the amount and viscosity of the coating solution applied to the transparent support.

すなわち、本発明は、透明支持体に塗布される塗布液の量が20ml/m 以下の際に有用であるが、200nm以下の膜厚を安定的に塗布するためには、透明支持体に塗布される塗布液の量が2〜5ml/mの時に特に良好な面状を得ることができる。塗布液の量が2ml/m 未満では全面に塗布する事が困難であり、5ml/m超では乾燥の乱れに起因するムラが発生してしまう。 That is, the present invention is useful when the amount of the coating solution applied to the transparent support is 20 ml / m 2 or less, but in order to stably apply a film thickness of 200 nm or less, A particularly good surface shape can be obtained when the amount of the coating solution to be applied is 2 to 5 ml / m 2 . If the amount of the coating solution is less than 2 ml / m 2, it is difficult to apply the entire surface, and if it exceeds 5 ml / m 2 , unevenness due to disturbance of drying occurs.

請求項3に係る本発明は、前記透明支持体側より順に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層が形成され、実質上3層の屈折率の異なる層が形成されることを特徴とする。このように実質上3層とすることにより、高品質な反射防止フィルムとできる。   According to the third aspect of the present invention, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are formed in this order from the transparent support side, and substantially three layers having different refractive indexes are formed. It is characterized by. Thus, it can be set as a high quality antireflection film by setting it as substantially 3 layers.

請求項4に係る本発明は、前記反射防止フィルムの設計波長λ(=400〜680nm)に対して、前記中屈折率層が下記の(式1)を、前記高屈折率層が下記の(式2)を、前記低屈折率層が下記の(式3)をそれぞれ満足することを特徴とする。
λ/4×0.80<n1d1<λ/4×1.00 (式1)
λ/2×0.75<n2d2<λ/2×0.95 (式2)
λ/4×0.95<n3d3<λ/4×1.05 (式3)
(ただし、式1中、n1は中屈折率層の屈折率であり、d1は中屈折率層の層厚(nm)であり、式2中、n2は高屈折率層の屈折率であり、d2は高屈折率層の層厚(nm)であり、式3中、n3は低屈折率層の屈折率であり、d3は低屈折率層の層厚(nm)である)
請求項5に係る本発明は、屈折率が1.45〜1.55である前記透明支持体に対して、前記中屈折率層の屈折率n1が1.60〜1.65、前記高屈折率層の屈折率n2が1.85〜1.95、及び、前記低屈折率層の屈折率n3が1.35〜1.45であることを特徴とする。
In the present invention according to claim 4, for the design wavelength λ (= 400 to 680 nm) of the antireflection film, the medium refractive index layer is represented by the following (formula 1), and the high refractive index layer is represented by the following ( Formula 2) is characterized in that the low refractive index layer satisfies the following (Formula 3).
λ / 4 × 0.80 <n1d1 <λ / 4 × 1.00 (Formula 1)
λ / 2 × 0.75 <n2d2 <λ / 2 × 0.95 (Formula 2)
λ / 4 × 0.95 <n3d3 <λ / 4 × 1.05 (Formula 3)
(In formula 1, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, d1 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer, and in formula 2, n2 is the refractive index of the high refractive index layer, (d2 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer. In Formula 3, n3 is the refractive index of the low refractive index layer, and d3 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer.)
In the present invention according to claim 5, the refractive index n1 of the medium refractive index layer is 1.60 to 1.65, the high refraction, with respect to the transparent support having a refractive index of 1.45 to 1.55. The refractive index n2 of the refractive index layer is 1.85 to 1.95, and the refractive index n3 of the low refractive index layer is 1.35 to 1.45.

請求項6に係る本発明は、前記透明支持体よりも屈折率の低い層又は前記低屈折率層が、熱硬化性及び/又は電離放射線硬化性の含フッ素樹脂からなることを特徴とする。   The present invention according to claim 6 is characterized in that the layer having a lower refractive index than the transparent support or the low refractive index layer comprises a thermosetting and / or ionizing radiation curable fluorine-containing resin.

請求項7に係る本発明は、前記高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、及びジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有し、かつ、屈折率が1.55〜2.40であることを特徴とする。   In the present invention according to claim 7, the high refractive index layer contains inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide containing at least one element selected from cobalt, aluminum, and zirconium, and has a refractive index. It is 1.55 to 2.40.

請求項8に係る本発明は、前記透明支持体よりも屈折率の低い層又は前記低屈折率層と、前記透明支持体との間に少なくとも1層のハードコート層を有することを特徴とする。このように、ハードコート層を有することにより、高品質な反射防止フィルムとできる。   The present invention according to claim 8 is characterized by having at least one hard coat layer between the transparent support and a layer having a lower refractive index than the transparent support or the low refractive index layer. . Thus, it can be set as a high quality anti-reflective film by having a hard-coat layer.

請求項9に係る本発明は、前記反射防止フィルムを構成する層の1層以上を、巻き取ることなしに連続的に形成することを特徴とする。このような連続的な形成により、生産性が向上する。   The present invention according to claim 9 is characterized in that one or more layers constituting the antireflection film are continuously formed without being wound up. Such continuous formation improves productivity.

請求項10に係る本発明は、前記請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法によって得られる層を少なくとも1層有することを特徴とする反射防止フィルムである。   The present invention according to claim 10 is an antireflection film comprising at least one layer obtained by the production method according to any one of claims 1 to 9.

請求項11に係る本発明は、連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が200nm以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布して形成される塗布膜の製造方法において、前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを30μm以上100μm以下とし、かつ、前記塗布直後のウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより塗布面近傍の風の乱れを防止し、乾燥中の塗布面側の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥する乾燥装置により乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の製造方法である。   The present invention according to claim 11 is a method for producing a coating film formed by applying a coating liquid using a slot die so that a continuously running web has a film thickness in a dry state of 200 nm or less. The land length in the web traveling direction of the tip lip on the downstream side of the slot die in the web traveling direction is set to 30 μm or more and 100 μm or less, and the wind turbulence near the coating surface is prevented by a dryer having a casing surrounding the web immediately after coating. Then, the coating film manufacturing method is characterized in that drying is performed by a drying apparatus that dries while keeping the solvent vapor on the coating surface side being dried at a high concentration.

請求項12に係る本発明は、前記ドライヤの中の前記ウェブの走行位置の塗布面側に塗布液中の溶剤を凝縮、回収させる凝縮器を設けることを特徴とする請求項11記載の塗布膜の製造方法である。   The present invention according to claim 12 is the coating film according to claim 11, wherein a condenser for condensing and recovering the solvent in the coating solution is provided on the coating surface side of the running position of the web in the dryer. It is a manufacturing method.

請求項13に係る本発明は、前記凝縮器が冷却機構を備えて温度制御可能であることを特徴とする請求項12記載の塗布膜の製造方法である。   The present invention according to claim 13 is the method for producing a coating film according to claim 12, wherein the condenser is provided with a cooling mechanism and temperature control is possible.

請求項14に係る本発明は、連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が200nm以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布して形成される塗布膜の製造方法において、前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを30μm以上100μm以下とし、かつ、前記塗布膜の表面を、前記塗布膜の表面に沿って気体を前記ウェブの移動速度に対して−0.1m/秒以上0.1m/秒以下の相対速度となるように移動させながら乾燥する乾燥装置により乾燥することを特徴とする塗布膜の製造方法である。   According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a coating film manufacturing method formed by applying a coating liquid using a slot die so that a continuously running web has a film thickness in a dry state of 200 nm or less. The web run direction land length of the tip lip on the downstream side of the web direction of the slot die is set to 30 μm or more and 100 μm or less, and the surface of the coating film is moved along the surface of the coating film. It is a method for producing a coated film, characterized in that the coating film is dried by a drying apparatus that is moved while moving at a relative speed of −0.1 m / second to 0.1 m / second relative to the speed.

請求項15に係る本発明は、連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が200nm以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布した後に、乾燥装置で乾燥され形成される塗布膜の製造方法において、
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを30μm以上100μm以下とし、
かつ、前記乾燥装置内を前記ウェブが搬送される間に、前記ウェブに塗布された前記塗布液から蒸発した有機溶媒のガスを整風部材の孔を通って排気室に逃がし、前記排気室に入った有機溶媒のガスを排気パイプを通して外部に排気する乾燥装置を用いて乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の製造方法である。
The present invention according to claim 15 is a coating film formed by applying a coating solution to a continuously running web using a slot die so that the film thickness in a dry state is 200 nm or less and then drying with a drying apparatus. In the manufacturing method of
The land length in the web traveling direction of the tip lip on the downstream side in the web traveling direction of the slot die is 30 μm or more and 100 μm or less,
In addition, while the web is transported through the drying device, the organic solvent gas evaporated from the coating liquid applied to the web is released to the exhaust chamber through the hole of the air conditioning member, and enters the exhaust chamber. The coating film manufacturing method is characterized in that drying is performed using a drying device that exhausts the gas of the organic solvent to the outside through an exhaust pipe.

請求項16に係る本発明は、前記スロットダイの前記ウェブ走行方向上流側の先端リップと前記ウェブ表面との隙間を、前記ウェブ下流側の先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくすることを特徴とする請求項11乃至15のいずれか1つに記載の塗布膜の製造方法である。   According to a sixteenth aspect of the present invention, the clearance between the leading lip on the upstream side in the web running direction of the slot die and the web surface is made larger than the clearance between the leading lip on the downstream side of the web and the web. 16. The method for producing a coating film according to claim 11, wherein the coating film is produced.

請求項17に係る本発明は、前記スロットダイの前記ウェブ走行方向上流側の先端リップと前記ウェブ表面との隙間を、前記ウェブ下流側の先端リップと前記ウェブとの隙間よりも30μm以上120μm以下の範囲で大きくすることを特徴とする請求項16に記載の塗布膜の製造方法である。   According to the seventeenth aspect of the present invention, the gap between the tip lip on the upstream side in the web running direction of the slot die and the web surface is 30 μm or more and 120 μm or less than the gap between the tip lip on the downstream side of the web and the web. It is enlarged in the range of this.

請求項18に係る本発明は、前記乾燥装置の全長が、前記乾燥装置中に前記塗布膜が2秒以上搬送される長さであり、かつ前記乾燥装置内における塗布液溶媒の蒸発速度が0.3g/(m・sec)以上であることを特徴とする請求項11乃至17のいずれか1つに記載の塗布膜の製造方法である。 In the present invention according to claim 18, the overall length of the drying device is such that the coating film is transported in the drying device for 2 seconds or more, and the evaporation rate of the coating solution solvent in the drying device is 0. The method for producing a coating film according to any one of claims 11 to 17, wherein the coating film is at least 3 g / (m 2 · sec).

請求項19に係る本発明は、請求項11乃至18のいずれか1つに記載の塗布膜の製造方法により作製されることを特徴とする塗布膜である。   The present invention according to claim 19 is a coating film produced by the coating film manufacturing method according to any one of claims 11 to 18.

請求項20に係る本発明は、請求項19に記載の塗布膜が、乾燥状態での膜厚が200nm以下であり、かつ前記ウェブとしての透明支持体よりも屈折率の低い層を少なくとも1層有することを特徴とする反射防止フィルムである。   The present invention according to claim 20 is characterized in that the coating film according to claim 19 has a dry film thickness of 200 nm or less and at least one layer having a lower refractive index than the transparent support as the web. It is an antireflection film characterized by having.

請求項21に係る本発明は、請求項10及び20に記載の反射防止フィルム、または請求項19に記載の塗布膜が偏光膜の少なくとも一方の面に貼付されていることを特徴とする偏光板である。   The present invention according to claim 21 is a polarizing plate characterized in that the antireflection film according to claim 10 or 20 or the coating film according to claim 19 is attached to at least one surface of the polarizing film. It is.

請求項22に係る本発明は、請求項10及び20に記載の反射防止フィルム、または請求項19に記載の塗布膜が偏光膜の一方の面に貼付され、光学異方性を有する光学補償フィルムが前記偏光膜の他方の面に貼付されていることを特徴とする偏光板である。   The present invention according to claim 22 is an optical compensation film having optical anisotropy, wherein the antireflection film according to claim 10 or 20 or the coating film according to claim 19 is adhered to one surface of the polarizing film. Is attached to the other surface of the polarizing film.

請求項23に係る本発明は、請求項10及び20に記載の反射防止フィルム、または請求項19に記載の塗布膜を用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置である。   The present invention according to claim 23 is an image display device comprising the antireflection film according to claim 10 or 20 or the coating film according to claim 19.

請求項24に係る本発明は、請求項21または22に記載の偏光板を用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置である。   The present invention according to claim 24 is an image display device comprising the polarizing plate according to claim 21 or 22.

以上説明したように、本発明によれば、生産性が高く、かつ高品位な塗布膜、反射防止フィルムを提供できる。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide a high-quality and high-quality coating film and antireflection film.

以下、添付図面に従って本発明に係る反射防止フィルム、その製造方法、該フィルムを用いた偏光板、及びこれらを用いた画像表示装置の好ましい実施の形態について詳説する。   Hereinafter, preferred embodiments of an antireflection film according to the present invention, a method for producing the same, a polarizing plate using the film, and an image display device using them will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

[反射防止フィルムの構成]
図1は、本発明に係る反射防止フィルムの基本的な層構成を示す断面模式図である。反射防止フィルムは、透明支持体(1)、ハードコート層(2)、中屈折率層(3)、高屈折率層(4)、そして低屈折率層(5)の順序の層構成を有する。
[Configuration of antireflection film]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a basic layer structure of an antireflection film according to the present invention. The antireflection film has a layer structure in the order of a transparent support (1), a hard coat layer (2), a medium refractive index layer (3), a high refractive index layer (4), and a low refractive index layer (5). .

このような5層構成の反射防止フィルムは、中屈折率層(3)、高屈折率層(4)、低屈折率層(5)のそれぞれの層の光学膜厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してλ/4前後、又はその倍数であることが好ましいことが既述の特許文献2に記載されている。   Such an antireflection film having a five-layer structure has an optical film thickness of each of the medium refractive index layer (3), the high refractive index layer (4), and the low refractive index layer (5), that is, the refractive index and the film thickness. It is described in the above-mentioned Patent Document 2 that it is preferable that the product of is approximately λ / 4 or a multiple of the design wavelength λ.

しかし、本発明の低反射率且つ反射光の色味が低減された反射率特性を実現するためには、特に設計波長λ(=400〜680nm)に対して中屈折率層(3)が下記の(式1)を、高屈折率層(4)が下記の(式2)を、低屈折率層(5)が下記の(式3)をそれぞれ満足する必要がある。設計波長λは400〜600nmであることが望ましく、450〜550nmであることがより望ましく、475〜525nmであることが最も望ましい。   However, in order to realize the reflectance characteristic of the present invention with low reflectance and reduced color of reflected light, the middle refractive index layer (3) is particularly described below for the design wavelength λ (= 400 to 680 nm). (Equation 1), the high refractive index layer (4) must satisfy the following (Equation 2), and the low refractive index layer (5) must satisfy the following (Equation 3). The design wavelength λ is desirably 400 to 600 nm, more desirably 450 to 550 nm, and most desirably 475 to 525 nm.

[数1]
λ/4×0.80<n1d1<λ/4×1.00 (式1)
[数2]
λ/2×0.75<n2d2<λ/2×0.95 (式2)
[数3]
λ/4×0.95<n3d3<λ/4×1.05 (式3)
上記各式において、n1は中屈折率層(3)の屈折率であり、d1は中屈折率層(3)の層厚(nm)であり、n2は高屈折率層(4)の屈折率であり、d2は高屈折率層(4)の層厚(nm)であり、n3は低屈折率層(5)の屈折率であり、d3は低屈折率層(5)の層厚(nm)である。
[Equation 1]
λ / 4 × 0.80 <n1d1 <λ / 4 × 1.00 (Formula 1)
[Equation 2]
λ / 2 × 0.75 <n2d2 <λ / 2 × 0.95 (Formula 2)
[Equation 3]
λ / 4 × 0.95 <n3d3 <λ / 4 × 1.05 (Formula 3)
In the above formulas, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer (3), d1 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer (3), and n2 is the refractive index of the high refractive index layer (4). D2 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer (4), n3 is the refractive index of the low refractive index layer (5), and d3 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer (5). ).

更に、たとえばトリアセチルセルロース(屈折率:1.49)からなるような屈折率が1.45〜1.55の透明支持体に対しては、n1は1.60〜1.65、n2は1.85〜1.95、n3は1.35〜1.45の屈折率である必要があり、たとえばポリエチレンテレフタレート(屈折率:1.66)からなるような屈折率が1.55〜1.65の透明支持体に対しては、n1は1.65〜1.75、n2は1.85〜2.05、n3は1.35〜1.45の屈折率である必要がある。   Further, for a transparent support having a refractive index of 1.45 to 1.55 such as triacetylcellulose (refractive index: 1.49), n1 is 1.60 to 1.65, and n2 is 1. .85 to 1.95, n3 must have a refractive index of 1.35 to 1.45, for example, a refractive index of 1.55 to 1.65 made of polyethylene terephthalate (refractive index: 1.66). N1 is 1.65 to 1.75, n2 is 1.85 to 2.05, and n3 is 1.35 to 1.45.

上記のような屈折率を有する中屈折率層(3)や高屈折率層(4)の素材が選択できない場合には、設定屈折率よりも高い屈折率を有する層と低い屈折率を有する層とを複数層組み合わせた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層(3)又は高屈折率層(4)と光学的に等価な層を形成できることは公知であり、本発明の反射率特性を実現するためにも用いることができる。   When the material of the medium refractive index layer (3) or the high refractive index layer (4) having the above refractive index cannot be selected, a layer having a refractive index higher than the set refractive index and a layer having a low refractive index It is known that a layer that is optically equivalent to the medium refractive index layer (3) or the high refractive index layer (4) having a set refractive index can be formed using the principle of an equivalent film in which a plurality of layers are combined. It can also be used to realize the reflectance characteristics of the present invention.

本発明において、「実質的に3層」とは、このような等価膜を用いた4層、5層の屈折率の異なる項からなる反射防止層も含むものである。   In the present invention, “substantially three layers” includes an antireflection layer composed of terms having different refractive indexes of four layers and five layers using such an equivalent film.

また、透明支持体(1)上、又は透明支持体(1)上にハードコート層(2)を塗布した上に、屈折率層として低屈折率層(5)を積層すると、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。   Further, when a hard coat layer (2) is applied on the transparent support (1) or the transparent support (1) and a low refractive index layer (5) is laminated as a refractive index layer, an antireflection film is obtained. It can be used suitably.

図2〜図7に示されるように、更に、透明支持体(1)上、又は透明支持体(1)上にハードコート層(2)を塗布した上に、高屈折率層(4)、低屈折率層(5)を積層しても反射防止フィルムとして好適に用いることができる。   As shown in FIG. 2 to FIG. 7, the high refractive index layer (4) is further applied on the transparent support (1) or the hard coat layer (2) on the transparent support (1). Even if the low refractive index layer (5) is laminated, it can be suitably used as an antireflection film.

ハードコート層(2)は防眩性を有していてもよい。防眩性は図6に示されるようなマット粒子の分散によるものでも、図7に示されるようなエンボス加工などの方法による表面の賦形によって形成されてもよい。   The hard coat layer (2) may have antiglare properties. The antiglare property may be formed by dispersion of matte particles as shown in FIG. 6 or may be formed by surface shaping by a method such as embossing as shown in FIG.

[各層の材料についての説明]
<基材フィルム>
本発明の反射防止フィルムに用いる基材フィルムとしては、以下の透明支持体を用いることができる。基材フィルムはウェブとも言う。透明支持体(1)としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4' −ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。
[Explanation of materials for each layer]
<Base film>
As a base film used for the antireflection film of the present invention, the following transparent support can be used. The base film is also called a web. A plastic film is preferably used as the transparent support (1). Examples of plastic film materials include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate). , Poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, Polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethyl It includes methacrylate and polyether ketone.

特に液晶表示装置や有機EL表示装置等に用いるために、本発明の反射防止フィルムを偏光板の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、トリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリアセチルセルロースフィルムとしては、TAC−TD80U(富士写真フィルム(株)製)等の公知のもの、公開技報番号2001−1745にて公開されたものが好ましく用いられる。   In particular, triacetylcellulose is preferably used when the antireflection film of the present invention is used as one side of a surface protective film of a polarizing plate for use in a liquid crystal display device, an organic EL display device or the like. As the triacetyl cellulose film, a known film such as TAC-TD80U (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) or a film disclosed in the public technical report number 2001-1745 is preferably used.

また、平面CRTやPDP等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合には、ポリエチレンテレフタレート、又はポリエチレンナフタレートが好ましい。   In addition, polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate is preferable when it is used by being attached to a glass substrate or the like for use in a flat CRT or PDP.

透明支持体(1)の光透過率は、80%以上であることが好ましく、86%以上であることが更に好ましい。透明支持体(1)のヘイズは、2.0%以下であることが好ましく、1.0%以下であることが更に好ましい。透明支持体(1)の屈折率は、1.4〜1.7であることが好ましい。   The light transmittance of the transparent support (1) is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze of the transparent support (1) is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less. The refractive index of the transparent support (1) is preferably 1.4 to 1.7.

本発明の透明支持体(1)の厚さは特に限定されないが、30〜150μmが好ましく、40〜130μmがより好ましく、70〜120μmが更に好ましい。   Although the thickness of the transparent support body (1) of this invention is not specifically limited, 30-150 micrometers is preferable, 40-130 micrometers is more preferable, 70-120 micrometers is still more preferable.

[ハードコート層]
ハードコート層(2)は、反射防止フィルムに物理強度(耐擦傷性とも言う)を付与するために、透明支持体(1)の表面に設ける。特に、透明支持体(1)と高屈折率層(4)との間に設けることが好ましい。
[Hard coat layer]
The hard coat layer (2) is provided on the surface of the transparent support (1) in order to impart physical strength (also referred to as scratch resistance) to the antireflection film. In particular, it is preferably provided between the transparent support (1) and the high refractive index layer (4).

ハードコート層(2)は、光硬化性及び/又は熱硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。たとえば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、多官能モノマーや多官能オリゴマー又は加水分解性官能基含有の有機金属化合物を含む塗布組成物を透明支持体(1)上に塗布し、硬化性化合物を架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。   The hard coat layer (2) is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a photocurable and / or thermosetting compound. For example, a coating composition containing polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, polyfunctional monomer, polyfunctional oligomer or hydrolyzable functional group-containing organometallic compound is coated on the transparent support (1) and cured. It can be formed by subjecting a functional compound to a crosslinking reaction or a polymerization reaction.

硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。具体的には、後述する高屈折率層(4)のマトリックスバインダーと同様の内容のものが挙げられる。   The curable functional group is preferably a photopolymerizable functional group, and the hydrolyzable functional group-containing organometallic compound is preferably an organic alkoxysilyl compound. Specifically, the same content as that of the matrix binder of the high refractive index layer (4) described later can be mentioned.

更に好ましい態様として、ラジカル重合反応及びカチオン重合反応により硬化する重合性化合物を用いることが挙げられる。重合性化合物は、ラジカル重合性基とカチオン重合性基が同一分子内に含有されていてもよいし、又は異なる分子に含有された化合物であって両者の混合物であってもよい。   A more preferred embodiment is to use a polymerizable compound that cures by radical polymerization reaction and cationic polymerization reaction. The polymerizable compound may contain a radical polymerizable group and a cationic polymerizable group in the same molecule, or may be a compound contained in different molecules and a mixture of both.

これらの重合性化合物を主として含有する硬化性組成物から形成される硬化性膜からなる多層反射防止膜は、エンボス加工による表面凹凸の賦形が均一に安定して可能となる。これらは、ハードコート層(2)の熱弾性変形が適切に作用することによると推測される。   A multilayer antireflection film composed of a curable film formed from a curable composition mainly containing these polymerizable compounds makes it possible to form the surface irregularities uniformly and stably by embossing. These are presumed to be due to appropriate action of thermoelastic deformation of the hard coat layer (2).

好ましい具体的な硬化性組成物の態様として、下記の(化学式1)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーと、同一分子内に2個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物の両方を含有し、架橋性ポリマー中の開環重合性基とエチレン性不飽和基の両方を重合させることにより硬化する硬化性組成物が挙げられる。   Preferred embodiments of the curable composition include both a crosslinkable polymer containing a repeating unit represented by the following (Chemical Formula 1) and a compound containing two or more ethylenically unsaturated groups in the same molecule. And a curable composition that contains and cures by polymerizing both the ring-opening polymerizable group and the ethylenically unsaturated group in the crosslinkable polymer.

Figure 2006122889

この化学式1において、a 及びa は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、脂肪族基、―COOR、又は−CH COOR を表す。R は炭化水素基を表す。Pは、開環重合性基を含む一価の基又はエチレン性不飽和基を表す。Lは、単結合又は二価の連結基を表す。
Figure 2006122889

In the chemical formula 1, a 1 and a 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an aliphatic group, —COOR 1 , or —CH 2 COOR 1 . R 1 represents a hydrocarbon group. P represents a monovalent group containing a ring-opening polymerizable group or an ethylenically unsaturated group. L represents a single bond or a divalent linking group.

次に、化学式1で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーについて詳細に説明する。化学式1において、a及びa は、水素原子、脂肪族基、好ましくは炭素原子数1〜4のアルキル基、−COOR 、又は−CHCOOR を表す。R は、炭化水素基、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、より好ましくは水素原子又はメチル基を表す。 Next, the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by Chemical Formula 1 will be described in detail. In Chemical Formula 1, a 1 and a 2 represent a hydrogen atom, an aliphatic group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, —COOR 1 , or —CH 2 COOR 1 . R 1 represents a hydrocarbon group, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

Lは単結合又は二価の連結基であり、好ましくは単結合、−O−、アルキレン基、アリーレン基、*−COO−、*−CONH−、*−OCO−、又は*−NHCO−である(ここで、*は*側で主鎖に連結することを意味する)。   L is a single bond or a divalent linking group, preferably a single bond, -O-, an alkylene group, an arylene group, * -COO-, * -CONH-, * -OCO-, or * -NHCO-. (Here, * means linking to the main chain on the * side).

Pは、開環重合性基を含む一価の基、又はエチレン性不飽和基を表す。開環重合性基を含む一価の基とは、カチオン、アニオン、ラジカルなどの作用により開環重合が進行する環構造を有する一価の基であり、この中でもヘテロ環状化合物のカチオン開環重合が好ましい。   P represents a monovalent group containing a ring-opening polymerizable group or an ethylenically unsaturated group. The monovalent group containing a ring-opening polymerizable group is a monovalent group having a ring structure in which ring-opening polymerization proceeds by the action of a cation, anion, radical, etc. Among them, cationic ring-opening polymerization of a heterocyclic compound Is preferred.

好ましい開環重合性基を含む一価の基としては、ビニルオキシ基、又はエポキシ環、オキセタン環、テトラヒドロフラン環、ラクトン環、カーボネート環、オキサゾリン環などのイミノエーテル環などを含む一価の基が挙げられ、この中でも特に好ましくはエポキシ環、オキセタン環、オキサゾリン環を含む一価の基あり、最も好ましくはエポキシ環を含む一価の基である。   Examples of the monovalent group including a ring-opening polymerizable group include a monovalent group including a vinyloxy group or an imino ether ring such as an epoxy ring, an oxetane ring, a tetrahydrofuran ring, a lactone ring, a carbonate ring, or an oxazoline ring. Among these, a monovalent group including an epoxy ring, an oxetane ring and an oxazoline ring is particularly preferable, and a monovalent group including an epoxy ring is most preferable.

Pがエチレン性不飽和基を表す場合、好ましいエチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクロイル基、スチリル基、及びビニルオキシカルボニル基を挙げることができる。   When P represents an ethylenically unsaturated group, preferred ethylenically unsaturated groups include acryloyl group, methacryloyl group, styryl group, and vinyloxycarbonyl group.

本発明の化学式1で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、対応するモノマーを重合させて合成することが簡便で好ましい。この場合の重合反応としてはラジカル重合が最も簡便で好ましい。   The crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by Chemical Formula 1 of the present invention is preferably synthesized simply by polymerizing the corresponding monomer. In this case, radical polymerization is the simplest and preferable as the polymerization reaction.

以下に、化学式1で表される繰り返し単位の好ましい具体例を化学式2として示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of the repeating unit represented by Chemical formula 1 is shown as Chemical formula 2 below, this invention is not limited to these.

Figure 2006122889

本発明の化学式1で表される繰り返し単位のうち、より好ましい例としては、エポキシ環を有するメタクリレート又はアクリレートから誘導される繰り返し単位であり、その中でも特に好ましい例としてグリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートから誘導されるE−1、E−3を挙げることができる。
Figure 2006122889

Among the repeating units represented by the chemical formula 1 of the present invention, a more preferable example is a repeating unit derived from a methacrylate or acrylate having an epoxy ring. Among them, a particularly preferable example is derived from glycidyl methacrylate or glycidyl acrylate. E-1 and E-3.

また、本発明の化学式1で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは化学式1で表される複数種の繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、その中でも特にE−1、E−3いずれかのコポリマーとすることでより効果的に硬化収縮を低減できる。   In addition, the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the chemical formula 1 of the present invention may be a copolymer composed of a plurality of types of repeating units represented by the chemical formula 1, and among them, in particular, E-1, E- Curing shrinkage can be more effectively reduced by using any one of the three copolymers.

本発明の化学式1で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは化学式1以外の繰り返し単位を含んだコポリマーでもよい。特に架橋性ポリマーのTgや親疎水性をコントロールしたい場合や、架橋性ポリマーの開環重合性基の含有量をコントロールする目的で化学式1以外の繰り返し単位を含んだコポリマーとすることができる。化学式1以外の繰り返し単位の導入方法は、対応するモノマーを共重合させて導入する手法が好ましい。   The crosslinkable polymer containing a repeating unit represented by Chemical Formula 1 of the present invention may be a copolymer containing a repeating unit other than Chemical Formula 1. In particular, when it is desired to control the Tg or hydrophilicity / hydrophobicity of the crosslinkable polymer, or to control the content of the ring-opening polymerizable group of the crosslinkable polymer, a copolymer containing a repeating unit other than the chemical formula 1 can be used. As a method for introducing a repeating unit other than the chemical formula 1, a method of introducing a corresponding monomer by copolymerization is preferable.

化学式1以外の繰り返し単位を、対応するビニルモノマーを共重合することによって導入する場合、好ましく用いられるモノマーとしては、アクリル酸又はα−アルキルアクリル酸(たとえばメタクリル酸など)類から誘導されるエステル類又はアミド類(たとえば、N−i−プロピルアクリルアミド、N−n−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、アルキルエステル(メタ)アクリレート(アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等)、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メチル−2−ニトロプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシメトキシエチル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、2−イソボルニル(メタ)クリレート、2−ノルボルニルメチル(メタ)クリレート、5−ノルボルネン−2−イルメチル(メタ)クリレート3−メチル−2−ノルボルニルメチル(メタ)クリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェネチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)クリレートなど)、アクリル酸又はα−アルキルアクリル酸(アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸など)、ビニルエステル類(たとえば酢酸ビニル)、マレイン酸又はフマル酸から誘導されるエステル類(マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチルなど)、マレイミド類(N−フェニルマレイミドなど)、マレイン酸、フマル酸、p−スチレンスルホン酸のナトリウム塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類(たとえばブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン)、芳香族ビニル化合物(たとえばスチレン、p−クロルスチレン、t−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウム)、N−ビニルピロリドン、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルサクシンイミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニル−N−メチルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニル−N−メチルアセトアミド、1−ビニルイミダゾール、4−ビニルピリジン、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル類(たとえばメチルビニルエーテル)、エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブテン等が挙げられる。   When a repeating unit other than the formula 1 is introduced by copolymerizing a corresponding vinyl monomer, preferably used monomers include esters derived from acrylic acid or α-alkyl acrylic acid (for example, methacrylic acid). Or amides (for example, Ni-propylacrylamide, Nn-butylacrylamide, Nt-butylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methylmethacrylamide, acrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropane) Sulfonic acid, acrylamide propyl trimethyl ammonium chloride, methacrylamide, diacetone acrylamide, acryloyl morpholine, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, alkyl ester (meta Acrylate (as alkyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, etc.), 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methyl-2-nitropropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxymethoxyethyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth ) Acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, 2-isobornyl (meth) acrylate, 2-norbornylmethyl (meth) acrylate, 5-norbornen-2-ylmethyl (meth) acrylate 3-methyl-2-norbornylmethyl (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenethyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, etc.), acrylic acid or α-alkyl acrylic acid (acrylic acid, methacrylic acid) , Itaconic acid, etc.), vinyl esters (eg vinyl acetate), esters derived from maleic acid or fumaric acid (dimethyl maleate, dibutyl maleate, diethyl fumarate, etc.), maleimides (N-phenylmaleimide, etc.) Maleic acid, fumaric acid, sodium salt of p-styrenesulfonic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, dienes (eg butadiene, cyclopentadiene, isoprene), aromatic vinyl compounds (eg styrene, p-chlorostyrene, t-butylstyrene) , Α-methylstyrene, sodium styrenesulfonate), N-vinylpyrrolidone, N-vinyloxazolidone, N-vinylsuccinimide, N-vinylformamide, N-vinyl-N-methylformamide, N-vinylacetamide, N-vinyl -N-methylacetamide, 1-vinylimidazole, 4-vinylpyridine, vinyl sulfonic acid, sodium vinyl sulfonate, sodium allyl sulfonate, sodium methallyl sulfonate, vinylidene chloride, vinyl alcohol Ethers (e.g. methyl vinyl ether), ethylene, propylene, 1-butene, isobutene and the like.

これらのビニルモノマーは2種類以上組み合わせて使用してもよい。これら以外のビニルモノマーはリサーチディスクロージャーNo.19551(1980年、7月)に記載されているものを使用することができる。   Two or more of these vinyl monomers may be used in combination. Vinyl monomers other than these are listed in Research Disclosure No. Those described in 19551 (1980, July) can be used.

本発明では、アクリル酸又はメタクリル酸から誘導されるエステル類、及びアミド類、及び芳香族ビニル化合物が特に好ましく用いられるビニルモノマーである。   In the present invention, esters derived from acrylic acid or methacrylic acid, amides, and aromatic vinyl compounds are particularly preferably used vinyl monomers.

化学式1以外の繰り返し単位として開環重合性基又はエチレン性不飽和基以外の反応性基を有する繰り返し単位も導入することができる。特に、ハードコート層(2)の硬度を高めたい場合や、基材又はハードコート上に別の機能層を用いる場合の層間の接着性を改良したい場合、開環重合性基以外の反応性基を含むコポリマーとする手法は好適である。開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位の導入方法は対応するビニルモノマー(以下、「反応性モノマー」と称する。)を共重合する手法が簡便で好ましい。   A repeating unit having a reactive group other than the ring-opening polymerizable group or the ethylenically unsaturated group as a repeating unit other than the chemical formula 1 can also be introduced. In particular, when it is desired to increase the hardness of the hard coat layer (2) or to improve the adhesion between layers when another functional layer is used on the substrate or the hard coat, a reactive group other than the ring-opening polymerizable group. A method of forming a copolymer containing is preferable. As a method for introducing a repeating unit having a reactive group other than the ring-opening polymerizable group, a method of copolymerizing a corresponding vinyl monomer (hereinafter referred to as “reactive monomer”) is simple and preferable.

以下に反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of a reactive monomer is shown below, this invention is not limited to these.

<反応性モノマーの好ましい具体例>
ヒドロキシル基含有ビニルモノマー(たとえば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど)、イソシアネート基含有ビニルモノマー(たとえば、イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチルメタクリレートなど)、N−メチロール基含有ビニルモノマー(たとえば、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミドなど)、カルボキシル基含有ビニルモノマー(たとえばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニル)、アルキルハライド含有ビニルモノマー(たとえばクロロメチルスチレン、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルメタクリレート)、酸無水物含有ビニルモノマー(たとえばマレイン酸無水物)、ホルミル基含有ビニルモノマー(たとえばアクロレイン、メタクロレイン)、スルフィン酸基含有ビニルモノマー(たとえばスチレンスルフィン酸カリウム)、活性メチレン含有ビニルモノマー(たとえばアセトアセトキシエチルメタクリレート)、アミノ基含有モノマー(たとえばアリルアミン)、アルコキシシリル基含有モノマー(たとえばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン)などが挙げられる。
<Preferable specific example of reactive monomer>
Hydroxyl group-containing vinyl monomers (eg, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, allyl alcohol, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, etc.), isocyanate group-containing vinyl monomers (eg, isocyanatoethyl acrylate, isocyanatoethyl methacrylate, etc.), N -Methylol group-containing vinyl monomers (for example, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, etc.), carboxyl group-containing vinyl monomers (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, carboxyethyl acrylate, vinyl benzoate), alkyl halides Vinyl monomers (eg chloromethylstyrene, 2-hydroxy-3-chloropropyl methacrylate) ), Acid anhydride-containing vinyl monomers (eg maleic anhydride), formyl group-containing vinyl monomers (eg acrolein, methacrolein), sulfinic acid group-containing vinyl monomers (eg potassium styrenesulfinate), active methylene-containing vinyl monomers ( Examples thereof include acetoacetoxyethyl methacrylate), amino group-containing monomers (for example, allylamine), alkoxysilyl group-containing monomers (for example, methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, acryloyloxypropyltrimethoxysilane), and the like.

本発明の化学式1で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、化学式1で表される繰り返し単位が含まれる割合は、30質量%以上100質量%以下、好ましくは50質量%以上100質量%以下、特に好ましくは70質量%以上100質量%以下である。   In the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by Chemical Formula 1 of the present invention, the proportion of the repeating unit represented by Chemical Formula 1 is 30% by mass or more and 100% by mass or less, preferably 50% by mass or more and 100% by mass. Hereinafter, it is particularly preferably 70% by mass or more and 100% by mass or less.

化学式1以外の繰り返し単位が、架橋反応性基を有さない場合、その含量が多すぎると硬度が低下し、架橋反応性基を有する場合、硬度は維持できることもあるが、硬化収縮が大きくなったり、脆性が悪化する場合がある。   When the repeating unit other than chemical formula 1 does not have a crosslinking reactive group, the hardness decreases if the content is too large, and when it has a crosslinking reactive group, the hardness may be maintained, but curing shrinkage increases. Or brittleness may worsen.

特に、アルコキシシリル基含有モノマー(たとえばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン)と化学式1で表される繰り返し単位の共重合体を用いる場合などのように架橋反応時に脱水、脱アルコールなどの分子量低下を伴う場合、硬化収縮が大きくなりやすい。   In particular, when a molecular weight decrease such as dehydration or dealcoholization occurs during a crosslinking reaction, such as when a copolymer of an alkoxysilyl group-containing monomer (for example, methacryloyloxypropyltrimethoxysilane) and a repeating unit represented by Chemical Formula 1 is used. Curing shrinkage tends to increase.

このような分子量低下を伴って架橋反応が進行する架橋反応性基を有する繰り返し単位を、本発明の化学式1で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーに導入する場合の、化学式1で表される繰り返し単位が含まれる好ましい割合は、70質量%以上99質量%以下、より好ましくは80質量%以上99質量%以下、特に好ましくは90質量%以上99質量%以下である。   When a repeating unit having a crosslinking reactive group that undergoes a crosslinking reaction with a decrease in molecular weight is introduced into a crosslinkable polymer containing a repeating unit represented by Chemical Formula 1 of the present invention, it is represented by Chemical Formula 1. The preferable ratio in which the repeating unit is contained is 70 to 99% by mass, more preferably 80 to 99% by mass, and particularly preferably 90 to 99% by mass.

化学式1で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの、好ましい分子量範囲は、質量平均分子量で1000以上100万以下であり、更に好ましくは3000以上20万以下であり、最も好ましくは5000以上10万以下である。なお、上記質量平均分子量は、GPC法で測定されポリスチレン換算値である。   The preferred molecular weight range of the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by Chemical Formula 1 is from 1,000 to 1,000,000, more preferably from 3,000 to 200,000, and most preferably from 5,000 to 100,000. It is as follows. In addition, the said mass mean molecular weight is measured by GPC method and is a polystyrene conversion value.

本発明に用いることのできる同一分子内に2個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物について説明する。好ましいエチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、特に好ましくはメタクリロイル基又はアクリロイル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。   A compound containing two or more ethylenically unsaturated groups in the same molecule that can be used in the present invention will be described. Preferred types of ethylenically unsaturated groups are acryloyl group, methacryloyl group, styryl group and vinyl ether group, particularly preferably methacryloyl group or acryloyl group, particularly preferably acryloyl group.

エチレン性不飽和基を含む化合物はエチレン性不飽和基を分子内に2個以上有していればよいが、より好ましくは3個以上である。そのなかでもアクリロイル基を有する化合物が好ましく、分子内に2〜6個のアクリル酸エステル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートと称される分子内に数個のアクリル酸エステル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。具体的には、後述する高屈折率層(4)の多官能性モノマーと同様のものが挙げられる。   Although the compound containing an ethylenically unsaturated group should just have two or more ethylenically unsaturated groups in a molecule | numerator, More preferably, it is three or more. Among them, a compound having an acryloyl group is preferable, and a compound called a polyfunctional acrylate monomer having 2 to 6 acrylate groups in the molecule or a molecule called urethane acrylate, polyester acrylate or epoxy acrylate. An oligomer having several acrylate groups and a molecular weight of several hundred to several thousand can be preferably used. Specifically, the same thing as the polyfunctional monomer of the high refractive index layer (4) mentioned later is mentioned.

これらの重合性化合物は、重合開始剤を併用することが好ましく、具体的には後述の高屈折率層(4)に記載したと同様のものが挙げられる。   These polymerizable compounds are preferably used in combination with a polymerization initiator, and specific examples thereof include those described in the high refractive index layer (4) described later.

ハードコート層(2)は、一次粒子の平均粒径が300nm以下の無機微粒子を含有することが好ましい。一次粒子の平均粒径は、より好ましくは10〜150nmであり、更に好ましくは20〜100nmである。ここでいう平均粒径は質量平均径である。一次粒子の平均粒径を200nm以下にすることにより、透明性を損なわないハードコート層(2)を形成できる。   The hard coat layer (2) preferably contains inorganic fine particles having an average primary particle size of 300 nm or less. The average particle size of the primary particles is more preferably 10 to 150 nm, still more preferably 20 to 100 nm. The average particle diameter here is a mass average diameter. By setting the average particle size of the primary particles to 200 nm or less, the hard coat layer (2) that does not impair the transparency can be formed.

無機微粒子はハードコート層(2)の硬度を高くするとともに、塗布層の硬化収縮を抑える機能がある。また、ハードコート層(2)の屈折率を制御する目的でも添加される。   The inorganic fine particles have functions of increasing the hardness of the hard coat layer (2) and suppressing curing shrinkage of the coating layer. It is also added for the purpose of controlling the refractive index of the hard coat layer (2).

ハードコート層(2)の具体的な組成としては、たとえば特開2002−144913号公報、同2000−9908号公報、WO0/46617号公報等に記載の内容のもが挙げられる。   Specific examples of the composition of the hard coat layer (2) include those described in JP-A Nos. 2002-144913, 2000-9908 and WO0 / 46617.

ハードコート層(2)における無機微粒子の含有量は、ハードコート層(2)の全質量に対し10〜90質量%であることが好ましく、15〜80質量%であることがより好ましい。   The content of the inorganic fine particles in the hard coat layer (2) is preferably 10 to 90% by mass and more preferably 15 to 80% by mass with respect to the total mass of the hard coat layer (2).

高屈折率層(4)はハードコート層(2)を兼ねることができる。高屈折率層(4)がハードコート層(2)を兼ねる場合、高屈折率層(4)で記載した手法を用いて無機微粒子を微細に分散させて、ハードコート層(2)に含有させて形成することが好ましい。   The high refractive index layer (4) can also serve as the hard coat layer (2). When the high refractive index layer (4) also serves as the hard coat layer (2), the fine inorganic particles are finely dispersed using the method described in the high refractive index layer (4), and are contained in the hard coat layer (2). It is preferable to form them.

ハードコート層(2)の膜厚は、用途により適切に設計することができる。ハードコート層(2)の膜厚は、0.2〜15μmであることが好ましく、0.5〜12μmであることがより好ましく、0.7〜10μmであることが特に好ましい。   The film thickness of the hard coat layer (2) can be appropriately designed depending on the application. The film thickness of the hard coat layer (2) is preferably 0.2 to 15 μm, more preferably 0.5 to 12 μm, and particularly preferably 0.7 to 10 μm.

ハードコート層(2)の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   The strength of the hard coat layer (2) is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400.

また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。   Further, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

[高屈折率層]
本発明の高屈折率層(4)は、典型的には高屈折率の無機化合物微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性組成物を塗布してなる屈折率1.55〜2.40の硬化性膜からなる。上記屈折率は1.65〜2.30が好ましく、1.80〜2.00がより好ましい。本発明の高屈折率層(4)の屈折率は1.55〜2.40であり、いわゆる高屈折率層又は中屈折率層といわれている層であるが、以下の本明細書では、この層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。
[High refractive index layer]
The high refractive index layer (4) of the present invention typically has a refractive index of 1.55 to 2.40, which is formed by applying a curable composition containing at least high refractive index inorganic compound fine particles and a matrix binder. It consists of a sex membrane. The refractive index is preferably 1.65 to 2.30, and more preferably 1.80 to 2.00. The refractive index of the high refractive index layer (4) of the present invention is 1.55 to 2.40, which is a so-called high refractive index layer or a medium refractive index layer. In the present specification below, This layer may be collectively referred to as a high refractive index layer.

[高屈折率層用組成物]
[高屈折率粒子]
本発明の高屈折率層(4)に含まれる高屈折率の無機微粒子は、屈折率が1.80〜2.80、一次粒子の平均粒径が3〜150nmであるものが好ましい。屈折率が1.80未満の粒子では、皮膜の屈折率を高める効果が小さく、屈折率が2.80を超える粒子は着色しているため好ましくない。また、一次粒子の平均粒径が150nmを超える粒子では皮膜を形成したときのヘイズ値が高くなり、皮膜の透明性を損なうので好ましくなく、3nm未満では高い屈折率の保持が難しい。
[Composition for high refractive index layer]
[High refractive index particles]
The high refractive index inorganic fine particles contained in the high refractive index layer (4) of the present invention preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80 and an average primary particle size of 3 to 150 nm. Particles having a refractive index of less than 1.80 are not preferable because the effect of increasing the refractive index of the film is small, and particles having a refractive index of more than 2.80 are colored. Further, particles having an average primary particle diameter exceeding 150 nm are not preferable because the haze value when a film is formed is high, and the transparency of the film is impaired, and if it is less than 3 nm, it is difficult to maintain a high refractive index.

本発明で、より好ましい無機微粒子は屈折率が1.90〜2.80で、一次粒子の平均粒径が3〜100nmの粒子であり、更に好ましいのは屈折率が1.90〜2.80で、一次粒子の平均粒径が5〜80nmの粒子である。   In the present invention, more preferred inorganic fine particles are those having a refractive index of 1.90 to 2.80 and primary particles having an average particle diameter of 3 to 100 nm, and more preferably a refractive index of 1.90 to 2.80. And the average particle diameter of a primary particle is a particle | grain of 5-80 nm.

好ましい高屈折率無機微粒子の具体例は、Ti、Zr、Ta、In、Nd、Sn、Sb、Zn、La、W、Ce、Nb、V、Sm、Y等の酸化物又は複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで、主成分とは粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分をさす。   Specific examples of preferable high refractive index inorganic fine particles include oxides or composite oxides such as Ti, Zr, Ta, In, Nd, Sn, Sb, Zn, La, W, Ce, Nb, V, Sm, and Y, and sulfide. The particle | grains which have an object as a main component are mentioned. Here, the main component refers to a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles.

本発明で好ましいのはTi、Zr、Ta、In、Snから選ばれる少なくとも1種の金属元素を含む酸化物又は複合酸化物を主成分とする粒子である。本発明で使用される無機微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない。   In the present invention, particles mainly composed of an oxide or composite oxide containing at least one metal element selected from Ti, Zr, Ta, In, and Sn are preferred. The inorganic fine particles used in the present invention may contain various elements in the particles.

たとえば、Li、Si、Al、B、Ba、Co、Fe、Hg、Ag、Pt、Au、Cr、Bi、P、Sなどが挙げられる。酸化錫、酸化インジウムにおいては粒子の導電性を高めるために、Sb、Nb、P、B、In、V、ハロゲンなどの元素を含有させることが好ましく、特に、酸化アンチモンを約5〜20質量%含有させたものが最も好ましい。   Examples thereof include Li, Si, Al, B, Ba, Co, Fe, Hg, Ag, Pt, Au, Cr, Bi, P, and S. In the case of tin oxide and indium oxide, it is preferable to contain elements such as Sb, Nb, P, B, In, V, and halogen in order to increase the conductivity of the particles, and in particular, about 5 to 20% by mass of antimony oxide. What was contained is most preferable.

特に好ましくは、Co、Zr、Al から選ばれる少なくとも1つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子(以降、「特定の酸化物」と称することもある)が挙げられる。特に、好ましい元素はCoである。   Particularly preferred are inorganic fine particles mainly containing titanium dioxide containing at least one element selected from Co, Zr, and Al (hereinafter sometimes referred to as “specific oxide”). In particular, the preferred element is Co.

Tiに対する、Co、Al、Zrの総含有量は、Tiに対し0.05〜30質量%であることが好ましく、より好ましくは0.1〜10質量%、更に好ましくは0.2〜7質量%、特に好ましくは0.3〜5質量%、最も好ましくは0.5〜3質量%である。   The total content of Co, Al, and Zr with respect to Ti is preferably 0.05 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and still more preferably 0.2 to 7% by mass with respect to Ti. %, Particularly preferably 0.3 to 5% by mass, most preferably 0.5 to 3% by mass.

Co、Al、Zrは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部、又は、表面に存在する。これらは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの特定の金属元素は、酸化物として存在してもよい。   Co, Al, and Zr are present inside or on the surface of inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide. These are more preferably present inside the inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide, and most preferably present both inside and on the surface. These specific metal elements may exist as oxides.

また、他の好ましい無機粒子として、チタン元素と酸化物が屈折率1.95以上となる金属元素から選ばれる少なくとも1種の金属元素(以下、「Met」とも略称する)との複酸化物の粒子で、かつ該複酸化物はCoイオン、Zrイオン、及びAlイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも1種がドープされてなる無機微粒子(「特定の複酸化物」と称することもある)が挙げられる。   Further, as another preferable inorganic particle, a double oxide of titanium element and at least one metal element (hereinafter also abbreviated as “Met”) selected from metal elements whose oxide has a refractive index of 1.95 or more The particles and the double oxide include inorganic fine particles doped with at least one metal ion selected from Co ions, Zr ions, and Al ions (sometimes referred to as “specific double oxide”). It is done.

ここで、該酸化物の屈折率が1.95以上となる金属酸化物の金属元素としては、Ta、Zr、In、Nd、Sb、Sn、及びBiが好ましい。特には、Ta、Zr、Sn、Biが好ましい。複酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複酸化物を構成する全金属[Ti+Met]量に対して、25質量%を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましい。より好ましくは0.05〜10質量%、更に好ましくは0.1〜5質量%、最も好ましくは0.3〜3質量%である。   Here, Ta, Zr, In, Nd, Sb, Sn, and Bi are preferable as the metal element of the metal oxide having a refractive index of 1.95 or more. In particular, Ta, Zr, Sn, and Bi are preferable. The content of the metal ions doped in the double oxide is preferably within a range not exceeding 25 mass% with respect to the total amount of metal [Ti + Met] constituting the double oxide from the viewpoint of maintaining the refractive index. More preferably, it is 0.05-10 mass%, More preferably, it is 0.1-5 mass%, Most preferably, it is 0.3-3 mass%.

ドープした金属イオンは、金属イオン、金属原子の何れのもので存在してもよく、複酸化物の表面から内部まで適宜に存在する。表面と内部との両方に存在することが好ましい。   The doped metal ion may exist as either a metal ion or a metal atom, and appropriately exists from the surface to the inside of the double oxide. It is preferably present both on the surface and inside.

本発明で用いられる無機微粒子は結晶構造又はアモルファス構造を有することが好ましい。結晶構造は、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、又はアナターゼが主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。このことにより、本発明の特定の酸化物又は特定の複酸化物の無機微粒子は、1.90〜2.80、好ましくは2.10〜2.80、更に好ましくは2.20〜2.80の屈折率を有することが可能になる。また、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、本発明の高屈折率層(4)の耐候性を著しく改良することができる。   The inorganic fine particles used in the present invention preferably have a crystal structure or an amorphous structure. The crystal structure is preferably mainly composed of rutile, a mixed crystal of rutile / anatase, or anatase, and particularly preferably a rutile structure. Thereby, the inorganic fine particles of the specific oxide or specific double oxide of the present invention are 1.90 to 2.80, preferably 2.10 to 2.80, more preferably 2.20 to 2.80. It is possible to have a refractive index of Moreover, the photocatalytic activity of titanium dioxide can be suppressed, and the weather resistance of the high refractive index layer (4) of the present invention can be remarkably improved.

上記した特定の金属元素又は、金属イオンをドープする方法は、従来公知の方法を用いることができる。たとえば、特開平5−330825号公報、同11−263620号公報、特表平11−512336号公報、ヨーロッパ公開特許第0335773号公報等に記載の方法、イオン注入法(たとえば、権田俊一、石川順三、上条栄治編「イオンビーム応用技術」((株)シ−エムシー、1989年刊行、青木康、表面科学、Vol.18,(5)、pp.262、1998、安保正一等、表面科学、Vol. 20(2)、pp60、1999等記載)等に従って行うことができる。   A conventionally known method can be used as a method of doping the above-described specific metal element or metal ion. For example, methods described in JP-A-5-330825, JP-A-11-263620, JP-A-11-512336, European Patent No. 0335773, etc., ion implantation methods (for example, Shunichi Gonda, Jun Ishikawa) 3. Eiji Kamijo, “Ion beam applied technology” (CMC Co., Ltd., published in 1989, Yasushi Aoki, Surface Science, Vol.18, (5), pp.262, 1998, Shoichi Anbo, etc. Science, Vol. 20 (2), pp60, 1999 and the like).

本発明に用いられる無機微粒子は、表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物及び/又は有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施し、無機粒子表面の濡れ性を調製し有機溶媒中での微粒子化、高屈折率層形成用組成物中での分散性や分散安定性を向上することができる。   The inorganic fine particles used in the present invention may be surface treated. In the surface treatment, the surface of the particles is modified using an inorganic compound and / or an organic compound, the wettability of the surface of the inorganic particles is adjusted to make fine particles in an organic solvent, and the composition for forming a high refractive index layer Dispersibility and dispersion stability can be improved.

粒子表面に物理化学的な吸着をして粒子表面の改質をすることができる無機化合物としては、たとえばケイ素を含有する無機化合物(SiOなど)、アルミニウムを含有する無機化合物(Al3 、Al(OH) など)、コバルトを含有する無機化合物(CoO 、Co 、Co など)、ジルコニウムを含有する無機化合物(ZrO、Zr(OH) など)、鉄を含有する無機化合物(Fe など)などが挙げらる。 Examples of inorganic compounds that can be modified by physicochemical adsorption on the particle surface include inorganic compounds containing silicon (such as SiO 2 ) and inorganic compounds containing aluminum (Al 2 O 3). , Al (OH) 3 ), inorganic compounds containing cobalt (CoO 2 , Co 2 O 3 , Co 3 O 4 etc.), inorganic compounds containing zirconium (ZrO 2 , Zr (OH) 4 etc.), iron And inorganic compounds containing Fe (such as Fe 2 O 3 ).

また、表面処理に用いられる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。たとえば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章(技術情報協会、2001年刊行)等に記載されている。   Moreover, the surface modifier of inorganic fillers, such as a conventionally well-known metal oxide and an inorganic pigment, can be used for the example of the organic compound used for surface treatment. For example, it is described in “Pigment Dispersion Stabilization and Surface Treatment Technology / Evaluation”, Chapter 1 (Technical Information Association, 2001).

具体的には、該無機粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物が挙げられる。そのような有機化合物には、カップリング化合物と称される化合物が含まれる。無機粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシル基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等が挙げられ、分子中に少なくとも1種を含有する化合物が好ましい。   Specifically, an organic compound having a polar group having an affinity for the surface of the inorganic particles can be used. Such organic compounds include compounds referred to as coupling compounds. Examples of the polar group having affinity with the inorganic particle surface include a carboxyl group, a phosphono group, a hydroxy group, a mercapto group, a cyclic acid anhydride group, and an amino group, and a compound containing at least one kind in the molecule is preferable. .

たとえば、長鎖脂肪族カルボン酸(たとえばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等)、ポリオール化合物(たとえばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ECH(エピクロルヒドリン)変性グリセロールトリアクリレート等)、ホスホノ基含有化合物(たとえばEO(エチレンオキサイド)変性リン酸トリアクリレート等)、アルカノールアミン(エチレンジアミンEO付加体(5モル)等)が挙げられる。   For example, long chain aliphatic carboxylic acids (eg stearic acid, lauric acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, etc.), polyol compounds (eg pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, ECH (epichlorohydrin) modified glycerol triacrylate) Etc.), phosphono group-containing compounds (for example, EO (ethylene oxide) -modified phosphate triacrylate, etc.), alkanolamines (ethylenediamine EO adducts (5 mol), etc.).

カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、たとえば特開2002−9908号公報同2001−310423号公報明細書中の段落番号「0011」〜「0015」記載の化合物等が挙げられる。   As a coupling compound, a conventionally well-known organometallic compound is mentioned, A silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminate coupling agent, etc. are contained. Of these, a silane coupling agent is most preferable. Specific examples include compounds described in paragraph numbers “0011” to “0015” in JP-A-2002-9908 and 2001-310423.

これらの表面処理は、2種類以上を併用することもできる。   Two or more kinds of these surface treatments can be used in combination.

本発明で使用される酸化物微粒子としては、これをコアとして無機化合物からなるシェルを形成するコア/シェル構造の微粒子も好ましい。シェルとしては、Al、Si、Zrから選ばれる少なくとも1種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、たとえば特開2001−166104号公報記載の内容が挙げられる。   As the oxide fine particles used in the present invention, fine particles having a core / shell structure that forms a shell made of an inorganic compound using the fine oxide particles as a core are also preferable. The shell is preferably an oxide composed of at least one element selected from Al, Si, and Zr. Specifically, for example, the contents described in JP-A-2001-166104 can be mentioned.

本発明で使用される無機微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、不定形状が好ましい。本発明の無機微粒子は単独で用いてもよいが、2種類以上を併用して用いることもできる。   The shape of the inorganic fine particles used in the present invention is not particularly limited, but is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, or an indefinite shape. The inorganic fine particles of the present invention may be used alone or in combination of two or more.

(分散剤)
本発明で使用される無機粒子を安定した所定の超微粒子として用いるため、分散剤を併用することが好ましい。分散剤としては、この無機微粒子表面と親和性を有する極性基を有する低分子化合物、又は高分子化合物であることが好ましい。
(Dispersant)
In order to use the inorganic particles used in the present invention as stable predetermined ultrafine particles, it is preferable to use a dispersant together. The dispersant is preferably a low molecular compound or a high molecular compound having a polar group having an affinity for the surface of the inorganic fine particles.

上記極性基としては、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、−P(=O)(R)(OH)基、−O−P(=O)(R )(OH)基、アミド基(−CONHR 、−SO NHR)、環状酸無水物含有基、アミノ基、四級アンモニウム基等が挙げられる。 Examples of the polar group include a hydroxy group, a mercapto group, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphono group, an oxyphosphono group, a -P (= O) (R 1 ) (OH) group, and a -OP (= O) (R 1 ) (OH) group, amide group (—CONHR 2 , —SO 2 NHR 2 ), cyclic acid anhydride-containing group, amino group, quaternary ammonium group and the like.

ここで、R は炭素数1〜18の炭化水素基を表す(たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、シアノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基等)。Rは、水素原子又は前記R1 と同一の内容を表す。 Here, R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxy group) Ethyl group, cyanoethyl group, benzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, cyclohexyl group, etc.). R 2 represents a hydrogen atom or the same content as R 1.

上記極性基において、解離性プロトンを有する基はその塩であってもよい。また、上記アミノ基、四級アンモニウム基は、一級アミノ基、二級アミノ基又は三級アミノ基のいずれでもよく、三級アミノ基又は四級アンモニウム基であることが更に好ましい。   In the polar group, the group having a dissociable proton may be a salt thereof. The amino group and quaternary ammonium group may be any of a primary amino group, a secondary amino group, or a tertiary amino group, and more preferably a tertiary amino group or a quaternary ammonium group.

二級アミノ基、三級アミノ基又は四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、炭素原子数が1〜12の脂肪族基(上記Rの基と同一の内容のもの等)であることが好ましい。 The group bonded to the nitrogen atom of the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group is an aliphatic group having 1 to 12 carbon atoms (such as those having the same contents as the group of R 1 above). It is preferable.

また、三級アミノ基は、窒素原子を含有する環形成のアミノ基(たとえば、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、ピリジン環等)であってもよく、更に四級アンモニウム基はこれら環状アミノ基の四級アモニウム基であってもよい。特に炭素原子数が1〜6のアルキル基であることが更に好ましい。   The tertiary amino group may be a ring-forming amino group containing a nitrogen atom (for example, a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring, a pyridine ring, etc.), and the quaternary ammonium group is a cyclic amino group. Or a quaternary ammonium group. In particular, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable.

本発明に係る分散剤の極性基としては、pKaが7以下のアニオン性基又はこれらの解離基の塩が好ましい。特に、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、又はこれらの解離基の塩が好ましい。   The polar group of the dispersant according to the present invention is preferably an anionic group having a pKa of 7 or less or a salt of these dissociating groups. In particular, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphono group, an oxyphosphono group, or a salt of these dissociating groups is preferable.

分散剤は、更に架橋性又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋性又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(たとえば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基カルボニル基、ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基、スピロオルトエステル基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基、エポキシ基、又は加水分解性シリル基である。   The dispersant preferably further contains a crosslinkable or polymerizable functional group. As the crosslinkable or polymerizable functional group, an ethylenically unsaturated group (for example, (meth) acryloyl group, allyl group, styryl group, vinyloxy group carbonyl group, vinyloxy group, etc.) capable of addition reaction / polymerization reaction by radical species, And cationically polymerizable groups (epoxy groups, thioepoxy groups, oxetanyl groups, vinyloxy groups, spiroorthoester groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like, preferably ethylene. An unsaturated group, an epoxy group, or a hydrolyzable silyl group.

具体的には、たとえば、特開平11−153703号公報、特許番号US6210858B1、特開2002−2776069号公報、特開2001−310423号公報明細書中の段落番号[0013]〜[0015]記載の化合物等が挙げられる。   Specifically, for example, compounds described in paragraph Nos. [0013] to [0015] in JP-A No. 11-153703, Patent No. US6110858B1, JP-A No. 2002-276069, and JP-A No. 2001-310423. Etc.

また、本発明に用いられる分散剤は、高分子分散剤であることも好ましい。特に、アニオン性基、及び架橋性又は重合性官能基を含有する高分子分散剤が挙げられ、これらの官能基が上記した内容と同様のものが挙げられる。   The dispersant used in the present invention is also preferably a polymer dispersant. In particular, polymer dispersants containing an anionic group and a crosslinkable or polymerizable functional group are exemplified, and these functional groups are the same as those described above.

分散剤の無機微粒子に対する使用量は、1〜100質量%の範囲であることが好ましく、3〜50質量%の範囲であることがより好ましく、5〜40質量%であることが最も好ましい。また、分散剤は2種類以上を併用してもよい。   The amount of the dispersant used relative to the inorganic fine particles is preferably in the range of 1 to 100% by mass, more preferably 3 to 50% by mass, and most preferably 5 to 40% by mass. Two or more dispersants may be used in combination.

(分散媒体)
本発明において、無機微粒子の湿式分散に供する分散媒体としては、水、有機溶媒から適宜選択して用いることができ、沸点が50°C以上の液体であることが好ましく、沸点が60〜180°Cの範囲の有機溶媒であることがより好ましい。
(Dispersion medium)
In the present invention, the dispersion medium used for wet dispersion of inorganic fine particles can be appropriately selected from water and organic solvents, and is preferably a liquid having a boiling point of 50 ° C. or higher, and has a boiling point of 60 to 180 °. More preferably, the organic solvent is in the range of C.

分散媒体は、無機微粒子及び分散剤を含む全分散組成物の5〜50質量%となる割合で用いることが好ましい。更に好ましくは10〜30質量%の割合である。この範囲において、分散が容易に進行し、得られる分散物は作業性良好な粘度の範囲となる。   The dispersion medium is preferably used at a ratio of 5 to 50% by mass of the total dispersion composition containing inorganic fine particles and a dispersant. More preferably, it is a ratio of 10 to 30% by mass. Within this range, dispersion proceeds easily, and the resulting dispersion is in a viscosity range with good workability.

分散媒体としては、アルコール類、ケトン類、エステル類アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。   Examples of the dispersion medium include alcohols, ketones, ester amides, ethers, ether esters, hydrocarbons, halogenated hydrocarbons and the like.

具体的には、アルコール(例、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等)、ケトン(例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル、等)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチルクロロホルム等)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン等)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン等)、エーテル(例、ジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等)が挙げられる。   Specifically, alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, butanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monoacetate, etc.), ketones (eg, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, etc.), Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, ethyl lactate, etc.), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, Methyl chloroform, etc.), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene, etc.), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone, etc.), ethers (eg, dioxane, tetra Dorofuran, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, etc.), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol, ethyl cellosolve, methyl carbinol and the like).

単独での2種以上を混合して使用してもよい。好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノールが挙げられる。また、ケトン溶媒(たとえばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられる。   Two or more of them may be mixed and used. Preferred dispersion media include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol. A coating solvent system mainly comprising a ketone solvent (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.) is also preferably used.

(無機微粒子の超微粒子化)
本発明の高屈折率層(4)を形成するための硬化性塗布組成物は、平均粒子径100nm以下の無機超微粒子が分散した組成物とすることにより、該組成物の液の安定性が向上し、この硬化性塗布組成物から形成された硬化膜は、無機微粒子が硬化膜のマトリックス中で超微粒子状態で均一に分散されて存在し、光学特性が均一で透明な高屈折率膜が達成される。硬化膜のマトリックス中で存在する超微粒子の大きさは、平均粒径3〜100nmの範囲が好ましく、5〜100nmがより好ましい。特に10〜80nmが最も好ましい。
(Inorganic fine particles)
When the curable coating composition for forming the high refractive index layer (4) of the present invention is a composition in which inorganic ultrafine particles having an average particle diameter of 100 nm or less are dispersed, the stability of the liquid of the composition is improved. The cured film formed from this curable coating composition has an inorganic fine particle uniformly dispersed in an ultrafine particle state in the matrix of the cured film, and has a high refractive index film with uniform optical properties and transparency. Achieved. The size of the ultrafine particles present in the matrix of the cured film is preferably in the range of an average particle size of 3 to 100 nm, more preferably 5 to 100 nm. In particular, 10 to 80 nm is most preferable.

更には、500nm以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが好ましく、300nm以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが特に好ましい。これにより、硬化膜表面が上記した特定の凹凸形状を形成できる。   Furthermore, it is preferable that large particles having an average particle diameter of 500 nm or more are not included, and it is particularly preferable that large particles having an average particle diameter of 300 nm or more are not included. Thereby, the specific uneven | corrugated shape mentioned above can form the cured film surface.

上記高屈折率無機物粒子を上記の範囲の粗大粒子を含まない超微粒子の大きさに分散するには、たとえば、前記の分散剤とともに、平均粒径0.8mm未満のメディアを用いた湿式分散方法で分散する方法で達成される。   In order to disperse the high refractive index inorganic particles in the size of ultrafine particles not containing coarse particles in the above range, for example, a wet dispersion method using a medium having an average particle diameter of less than 0.8 mm together with the dispersant Achieved with a method of dispersing in

湿式分散機としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、ダイノミル、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター、コロイドミル等の従来公知のものが挙げられる。特に本発明の酸化物微粒子を超微粒子に分散するには、サンドグラインダーミル、ダイノミル、及び高速インペラーミルが好ましい。   Examples of the wet disperser include conventionally known ones such as a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a dyno mill, a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. In particular, a sand grinder mill, a dyno mill, and a high-speed impeller mill are preferable for dispersing the oxide fine particles of the present invention in ultrafine particles.

上記分散機とともに用いるメディアとしては、その平均粒径が0.8mm未満であり、平均粒径がこの範囲のメディアを用いることで上記の無機微粒子径が100nm以下となり、かつ粒子径の揃った超微粒子を得ることができる。メディアの平均粒径は、好ましくは0.5mm以下であり、より好ましくは0.05〜0.3mmである。   As the media used together with the disperser, the average particle size is less than 0.8 mm, and when the average particle size is within this range, the above-mentioned inorganic fine particle size is 100 nm or less and the particle size is uniform. Fine particles can be obtained. The average particle size of the media is preferably 0.5 mm or less, more preferably 0.05 to 0.3 mm.

また、湿式分散に用いられるメディアとしては、ビーズが好ましい。具体的には、ジルコニアビーズ、ガラスビーズ、セラミックビーズ、スチールビーズ等が挙げられ、分散中におけるビーズの破壊等を生じ難い等の耐久性と超微粒子化の上から0.05〜0.2mmのジルコニアビーズが特に好ましい。   Moreover, as a medium used for wet dispersion, beads are preferable. Specific examples include zirconia beads, glass beads, ceramic beads, steel beads, etc., and 0.05 to 0.2 mm from the viewpoint of durability and ultrafine particle formation such that the beads are not easily broken during dispersion. Zirconia beads are particularly preferred.

分散工程での分散温度は20〜60°Cが好ましく、より好ましくは25〜45°Cである。この範囲の温度で超微粒子に分散すると分散粒子の再凝集、沈殿等が生じない。この理由は、無機化合物粒子への分散剤の吸着が適切に行われ、常温下での分散剤の粒子からの脱着等による分散安定不良とならないためと考えられる。   The dispersion temperature in the dispersion step is preferably 20 to 60 ° C, more preferably 25 to 45 ° C. When dispersed in ultrafine particles at a temperature in this range, re-aggregation and precipitation of the dispersed particles do not occur. This is presumably because the dispersant is appropriately adsorbed on the inorganic compound particles and does not cause poor dispersion stability due to desorption of the dispersant from the particles at room temperature.

上記した内容の分散方法を用いることにより、透明性を損なわない屈折率均一性、膜の強度、隣接層との密着性等に優れた高屈折率膜が好ましく形成される。   By using the dispersion method described above, a high refractive index film excellent in refractive index uniformity, film strength, adhesion to an adjacent layer and the like that do not impair transparency is preferably formed.

また、上記湿式分散の工程の前に、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。   Moreover, you may implement a preliminary dispersion process before the said wet dispersion | distribution process. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

更には、分散物中の分散粒子がその平均粒径、及び粒子径の単分散性が上記した範囲を満足する上で、分散物中の粗大凝集物を除去するためにビーズとの分離処理において精密濾過されるように濾材を配置することも好ましい。精密濾過するための濾材は濾過粒子サイズ25μm以下が好ましい。   Furthermore, the dispersion particles in the dispersion satisfy the above-mentioned range of the average particle diameter and the monodispersibility of the particle diameter, and in the separation treatment with beads in order to remove coarse aggregates in the dispersion. It is also preferable to arrange the filter medium so as to be microfiltered. The filter medium for fine filtration preferably has a filtration particle size of 25 μm or less.

精密濾過するための濾材のタイプは、上記性能を有していれば特に限定されないが、たとえばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。分散物を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、かつ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが、たとえばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。   The type of filter medium for microfiltration is not particularly limited as long as it has the above performance, and examples thereof include a filament type, a felt type, and a mesh type. The material of the filter medium for finely filtering the dispersion is not particularly limited as long as it has the above-described performance and does not adversely affect the coating solution. Examples thereof include stainless steel, polyethylene, polypropylene, and nylon.

(高屈折率層のマトリックス)
高屈折率層(4)は、高屈折率無機超微粒子とマトリックスを少なくとも含有してなる。本発明の好ましい態様によれば、高屈折率層のマトリックスは、(i)有機バインダー、又は(ii)加水分解性官能基含有する有機金属化合物及びこの有機金属化合物の部分縮合物の少なくともいずれかを含有する高屈折率層形成用組成物を塗布後に、硬化して形成される。
(Matrix of high refractive index layer)
The high refractive index layer (4) contains at least high refractive index inorganic ultrafine particles and a matrix. According to a preferred embodiment of the present invention, the matrix of the high refractive index layer is at least one of (i) an organic binder, or (ii) an organometallic compound containing a hydrolyzable functional group and a partial condensate of the organometallic compound. It is formed by curing after applying a composition for forming a high refractive index layer containing.

(i)有機バインダー
有機バインダーとしては、
(イ)従来公知の熱可塑性樹脂、
(ロ)従来公知の反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ、又は、
(ハ)バインダー前駆体(後述する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)と重合開始剤との組み合わせ、
から形成されるバインダーが挙げられる。
(I) Organic binder As the organic binder,
(A) a conventionally known thermoplastic resin;
(B) A combination of a conventionally known reactive curable resin and a curing agent, or
(C) A combination of a binder precursor (such as a curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer described below) and a polymerization initiator,
The binder formed from is mentioned.

上記(イ)、(ロ)又は(ハ)のバインダー形成用成分と、高屈折率複合酸化物微粒子と分散剤を含有する分散液から高屈折率層形成用の塗布組成物が調製される。塗布組成物は、透明支持体上に塗布し、塗膜を形成した後、バインダー形成用成分に応じた方法で硬化され、高屈折率層(4)が形成される。   A coating composition for forming a high refractive index layer is prepared from a dispersion containing the binder forming component (a), (b) or (c) above, a high refractive index composite oxide fine particle and a dispersant. After apply | coating a coating composition on a transparent support body and forming a coating film, it hardens | cures by the method according to the component for binder formation, and a high refractive index layer (4) is formed.

硬化方法は、バインダー成分の種類に応じて適宜選択され、たとえば加熱及び光照射の少なくともいずれかの手段により、硬化性化合物(たとえば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)の架橋反応又は重合反応を生起させる方法が挙げられる。なかでも、上記(ハ)の組み合わせを用いて光照射することにより硬化性化合物を架橋反応又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法が好ましい。   The curing method is appropriately selected according to the type of the binder component. For example, a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a curable compound (for example, a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer) is performed by at least one of heating and light irradiation. The method to make it occur is mentioned. Especially, the method of forming the binder which hardened | cured the crosslinking reaction or the polymerization reaction of the curable compound by irradiating light using the combination of said (c) is preferable.

更に、高屈折率層形成用の塗布組成物を塗布と同時又は塗布後に、高屈折率複合酸化物微粒子の分散液に含有される分散剤を架橋反応又は重合反応させることが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the dispersing agent contained in the dispersion liquid of the high refractive index composite oxide fine particles is subjected to a crosslinking reaction or a polymerization reaction at the same time or after the coating composition for forming the high refractive index layer.

このようにして作製した硬化膜中のバインダーは、たとえば、前記した分散剤とバインダーの前駆体である硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。   The binder in the cured film produced in this way is, for example, the above-mentioned dispersant and the curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer that is the precursor of the binder undergoes a crosslinking or polymerization reaction, and the binder contains the dispersant. An anionic group is incorporated.

更に、硬化膜中のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有するので、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、高屈折率無機化合物微粒子を含有する硬化膜中の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良することができる。   Further, since the binder in the cured film has a function in which the anionic group maintains the dispersion state of the inorganic fine particles, the crosslinked or polymerized structure imparts a film forming ability to the binder and contains high refractive index inorganic compound fine particles. The physical strength, chemical resistance, and weather resistance in the cured film can be improved.

上記熱可塑性樹脂としては、たとえば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリメタアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、イミド樹脂等が挙げられる。   Examples of the thermoplastic resin include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl chloride copolymer resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, and polyolefin resin. , Urethane resin, silicon resin, imide resin and the like.

また、上記反応硬化型樹脂、すなわち、熱硬化型樹脂及び/又は電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。   Moreover, it is preferable to use the said reaction curable resin, ie, a thermosetting resin, and / or an ionizing radiation curable resin. Thermosetting resins include phenolic resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea co-condensation resin, silicon resin, polysiloxane Examples thereof include resins.

電離放射線硬化型樹脂には、たとえば、ラジカル重合性不飽和基((メタ)アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、スチリル基、ビニル基等)及び/ 又はカチオン重合性基(エポキシ基、チオエポキシ基、ビニルオキシ基、オキセタニル基等)の官能基を有する樹脂で、たとえば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等が挙げられる。   Examples of ionizing radiation curable resins include radical polymerizable unsaturated groups ((meth) acryloyloxy groups, vinyloxy groups, styryl groups, vinyl groups, etc.) and / or cationic polymerizable groups (epoxy groups, thioepoxy groups, vinyloxy groups). , Oxetanyl group, etc.), for example, relatively low molecular weight polyester resin, polyether resin, (meth) acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiol Examples include polyene resins.

これらの反応硬化型樹脂に必要に応じて、架橋剤(エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ポリアミン化合物、メラミン化合物等)、重合開始剤(アゾビス化合物、有機過酸化化合物、有機ハロゲン化合物、オニウム塩化合物、ケトン化合物等のUV光開始剤等)等の硬化剤、重合促進剤(有機金属化合物、酸化合物、塩基性化合物等)等の従来公知の化合物を加えて使用する。具体的には、たとえば、山下普三、金子東助「架橋剤ハンドブック」(大成社、1981年刊)記載の化合物が挙げられる。   As needed for these reaction curable resins, crosslinking agents (epoxy compounds, polyisocyanate compounds, polyol compounds, polyamine compounds, melamine compounds, etc.), polymerization initiators (azobis compounds, organic peroxide compounds, organic halogen compounds, oniums) Conventionally known compounds such as curing agents such as UV photoinitiators such as salt compounds and ketone compounds) and polymerization accelerators (organic metal compounds, acid compounds, basic compounds, etc.) are used. Specific examples include compounds described by Fuzo Yamashita and Tosuke Kaneko “Crosslinking Agent Handbook” (Taisei, 1981).

以下、硬化したバインダーの好ましい形成方法である、上記(ハ)の組み合わせを用いて光照射により硬化性化合物を架橋又は重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法について、主に説明する。   Hereinafter, a method for forming a cured binder by crosslinking or polymerizing a curable compound by light irradiation using the combination of (c), which is a preferable method for forming a cured binder, will be mainly described.

光硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、ラジカル重合性又はカチオン重合性のいずれでもよい。   The functional group of the photocurable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer may be either radically polymerizable or cationically polymerizable.

ラジカル重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。   Examples of the radical polymerizable functional group include an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acryloyl group, a vinyloxy group, a styryl group, and an allyl group, and among them, a (meth) acryloyl group is preferable.

分子内に2個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。   It is preferable to contain a polyfunctional monomer containing two or more radically polymerizable groups in the molecule.

ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも2個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に2〜6個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、たとえば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物、並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。   The radical polymerizable polyfunctional monomer is preferably selected from compounds having at least two terminal ethylenically unsaturated bonds. Preferably, it is a compound having 2 to 6 terminal ethylenically unsaturated bonds in the molecule. Such a compound group is widely known in the polymer material field, and these can be used without particular limitation in the present invention. These can have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは2種以上併用してもよい。   Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid [for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di ( (Meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3- Chlorohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate], ethylene oxide-modified products and caprolactone-modified products of the above esters, vinylbenzene and its derivatives [eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2- Acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone], vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Two or more of these monomers may be used in combination.

ラジカル重合性モノマー例としては、不飽和カルボン酸(たとえば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が挙げられる。   Examples of the radical polymerizable monomer include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, and amides. Examples thereof include esters of saturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds.

また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類やアミド類と、単官能又は多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。   Also, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters and amides having nucleophilic substituents such as hydroxyl group, amino group and mercapto group with monofunctional or polyfunctional isocyanates and epoxies, polyfunctional carboxylic acids A dehydration condensation reaction product with an acid or the like is also preferably used.

また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   A reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物としては、アルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシットール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。   Examples of the aliphatic polyhydric alcohol compound include alkanediol, alkanetriol, cyclohexanediol, cyclohexanetriol, inositol, cyclohexanedimethanol, pentaerythritol, sorbitol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerin and the like.

これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物(モノエステル又はポリエステル)、例として、たとえば、特開2001−139663号公報明細書段落番号[0026]〜[0027]記載の化合物が挙げられる。   Polymerizable ester compounds (monoesters or polyesters) of these aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids, for example, as described in paragraph numbers [0026] to [0027] of JP-A-2001-139663, for example. The compound of this is mentioned.

その他の重合性エステルの例としては、たとえば、ビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、特公昭46−27926号、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開平2−226149号等記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号記載のアミノ基を有するもの等も好適に用いられる。   Examples of other polymerizable esters include, for example, vinyl methacrylate, allyl methacrylate, allyl acrylate, aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, and JP-A-57-196231. Those having an aromatic skeleton as described in JP-A-2-226149 and those having an amino group as described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とから形成される重合性アミドの具体例としては、メチレンビス−(メタ)アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−(メタ)アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミド、特公昭54−21726号記載のシクロヘキシレン構造を有するもの等を挙げることができる。   Specific examples of polymerizable amides formed from an aliphatic polyvalent amine compound and an unsaturated carboxylic acid include methylene bis- (meth) acrylamide, 1,6-hexamethylene bis- (meth) acrylamide, diethylenetriamine tris ( Examples include meth) acrylamide, xylylene bis (meth) acrylamide, and those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物(特公昭48−41708号公報等)、ウレタンアクリレート類(特公平2−16765号等)、エチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物(特公昭62−39418号等)、ポリエステルアクリレート類(特公昭52−30490号等))、更に、日本接着協会誌vol.20、No. 7、300〜308頁(1984年)に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。   In addition, it has a vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule (Japanese Patent Publication No. 48-41708), urethane acrylates (Japanese Patent Publication No. 2-16765), and an ethylene oxide skeleton. Urethane compounds (Japanese Patent Publication No. 62-39418, etc.), polyester acrylates (Japanese Patent Publication No. 52-30490, etc.), and further described in Japan Adhesion Association Vol. 20, No. 7, pages 300-308 (1984). These photocurable monomers and oligomers can also be used.

これらラジカル重合性の多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。   These radical polymerizable polyfunctional monomers may be used in combination of two or more.

次に、高屈折率層(4)のバインダーの形成に用いることができるカチオン重合性基含有の化合物(以下、「カチオン重合性化合物」又は「カチオン重合性有機化合物」とも称する)について説明する。   Next, a cation polymerizable group-containing compound (hereinafter also referred to as “cation polymerizable compound” or “cation polymerizable organic compound”) that can be used for forming the binder of the high refractive index layer (4) will be described.

本発明に用いられるカチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに、重合反応及び/又は架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。本発明では前記したカチオン重合性有機化合物のうちの1種を用いても2種以上を用いてもよい。   As the cationically polymerizable compound used in the present invention, any compound that causes a polymerization reaction and / or a crosslinking reaction when irradiated with an active energy ray in the presence of an active energy ray-sensitive cationic polymerization initiator can be used. Examples include epoxy compounds, cyclic thioether compounds, cyclic ether compounds, spiro orthoester compounds, vinyl ether compounds, and the like. In the present invention, one or more of the above cationic polymerizable organic compounds may be used.

カチオン重合性基含有化合物としては、1分子中のカチオン重合性基の数は2〜10個が好ましく、特に好ましくは2〜5個である。該化合物の分子量は3000以下であり、好ましくは200〜2000の範囲、特に好ましくは400〜1500の範囲である。分子量が小さすぎると、皮膜形成過程での揮発が問題となり、大きすぎると、高屈折率層形成用組成物との相溶性が悪くなり好ましくない。   As the cationically polymerizable group-containing compound, the number of cationically polymerizable groups in one molecule is preferably 2 to 10, particularly preferably 2 to 5. The molecular weight of the compound is 3000 or less, preferably in the range of 200 to 2000, particularly preferably in the range of 400 to 1500. If the molecular weight is too small, volatilization during the film formation process becomes a problem, and if it is too large, the compatibility with the composition for forming a high refractive index layer is deteriorated.

上記エポキシ化合物としては脂肪族エポキシ化合物及び芳香族エポキシ化合物が挙げられる。   Examples of the epoxy compound include aliphatic epoxy compounds and aromatic epoxy compounds.

脂肪族エポキシ化合物としては、たとえば、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどを挙げることができる。   Examples of the aliphatic epoxy compound include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, homopolymers and copolymers of glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, and the like. Can do.

更に、前記のエポキシ化合物以外にも、たとえば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチルエポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。   In addition to the above epoxy compounds, for example, monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols, glycidyl esters of higher fatty acids, epoxidized soybean oil, butyl epoxide stearate, octyl epoxide stearate, epoxidized linseed oil, epoxidized polybutadiene, etc. Can be mentioned.

また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも1個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、又は不飽和脂環族環(たとえば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等)含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。   Examples of the alicyclic epoxy compound include polyglycidyl ether of polyhydric alcohol having at least one alicyclic ring, or unsaturated alicyclic ring (for example, cyclohexene, cyclopentene, dicyclooctene, tricyclodecene, etc. ) Cyclohexene oxide or cyclopentene oxide-containing compound obtained by epoxidizing the containing compound with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid.

また、芳香族エポキシ化合物としては、たとえば、少なくとも1個の芳香核を有する1価又は多価フェノール又はそのアルキレンオキサイド付加体のモノ又はポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、たとえば、特開平11−242101号明細書中の段落番号〔0084〕〜〔0086〕記載の化合物、特開平10−158385号明細書中の段落番号〔0044〕〜〔0046〕記載の化合物等が挙げられる。   Moreover, as an aromatic epoxy compound, the mono- or polyglycidyl ether of the monovalent | monohydric or polyhydric phenol which has at least 1 aromatic nucleus, or its alkylene oxide adduct can be mentioned, for example. Examples of these epoxy compounds include compounds described in paragraphs [0084] to [0086] of JP-A-11-242101, and paragraphs [0044] to [0046] of JP-A-10-158385. And the compounds described.

これらのエポキシ化合物のうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシ化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these epoxy compounds, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable, and alicyclic epoxides are particularly preferable in consideration of fast curability. In the present invention, one of the above epoxy compounds may be used alone, but two or more may be used in appropriate combination.

環状チオエーテル化合物としては、上記のエポキシ環がチオエポキシ環となる化合物が挙げられる。   Examples of the cyclic thioether compound include compounds in which the epoxy ring is a thioepoxy ring.

環状エーテルとしてのオキセタニル基を含有する化合物としては、具体的には、たとえば、特開2000−239309号公報中の段落番号〔0024〕〜〔0025〕に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。   Specific examples of the compound containing an oxetanyl group as a cyclic ether include the compounds described in paragraphs [0024] to [0025] in JP-A No. 2000-239309. These compounds are preferably used in combination with an epoxy group-containing compound.

スピロオルソエステル化合物としては、たとえば、特表2000−506908号公報等記載の化合物を挙げることができる。   Examples of the spiro orthoester compound include compounds described in JP 2000-506908 A.

ビニル炭化水素化合物としては、スチレン化合物、ビニル基置換脂環炭化水素化合物(ビニルシクロヘキサン、ビニルビシクロヘプテン等)、前記ラジカル重合成性モノマーで記載の化合物(V1 が−O−に相当の化合物)、プロペニル化合物(JournalofPolymer Science:PartA:PolymerChemistry,Vol.32,2895(1994)記載等)、アルコキシアレン化合物(JournalofPolymerScience:PartA:PolymerChemistry,Vol.33,2493(1995)記載等)、ビニル化合物(JournalofPolymerScience:PartA:PolymerChemistry,Vol.34,1015(1996)、特開2002−29162号等記載)、イソプロペニル化合物(JournalofPolymerScience:PartA:PolymerChemistry,Vol.34,2051(1996)記載等)等を挙げることができる。   Examples of vinyl hydrocarbon compounds include styrene compounds, vinyl group-substituted alicyclic hydrocarbon compounds (vinylcyclohexane, vinylbicycloheptene, etc.), and compounds described in the radical polysynthetic monomers (compounds whose V1 is equivalent to -O-) , Propenyl compounds (Journalof Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol. 32, 2895 (1994) and the like), alkoxy allene compounds (Journalof PolymerScience: Part A: PolymerCV, 19: PolymerChem. Part A: Polymer Chemistry, Vol. 34, 1015 (1996), special No. 2002-29162), isopropenyl compounds (Journalof PolymerScience: Part A: Polymer Chemistry, Vol. 34, 2051 (1996) description, etc.), and the like.

2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Two or more kinds may be used in appropriate combination.

また、本発明の多官能性化合物は、上記のラジカル重合性基及びカチオン重合性基から選ばれる、少なくとも各1種を、少なくとも分子内に含有する化合物を用いることが好ましい。たとえば、特開平8−277320号公報中の段落番号〔0031〕〜〔0052〕記載の化合物、特開2000−191737号明細書中の段落番号〔0015〕記載の化合物等が挙げられる。本発明に供される化合物は、これらの限定されるものではない。   The polyfunctional compound of the present invention is preferably a compound containing at least one of each selected from the above radical polymerizable group and cationic polymerizable group in the molecule. Examples thereof include compounds described in paragraphs [0031] to [0052] in JP-A-8-277320, compounds described in paragraph [0015] in JP-A-2000-191737, and the like. The compounds used in the present invention are not limited to these.

上記したラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物:カチオン重合性化合物の質量比で、90:10〜20:80の割合で含有していることが好ましく、80:20〜30:70の割合で含有していることがより好ましい。   The radical polymerizable compound and the cationic polymerizable compound described above are preferably contained in a mass ratio of radical polymerizable compound: cation polymerizable compound in a ratio of 90:10 to 20:80, and 80:20 to More preferably, it is contained at a ratio of 30:70.

次に、前記(ハ)の組み合わせにおいて、バインダー前駆体と組み合わせて用いられる重合開始剤について詳述する。重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。   Next, the polymerization initiator used in combination with the binder precursor in the combination (c) will be described in detail. Examples of the polymerization initiator include a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator.

本発明の重合開始剤(L)は、光及び/又は熱照射により、ラジカル又は酸を発生する化合物である。本発明において用いられる光重合開始剤(L)は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、取り扱いを白灯下で実施することができる。また、近赤外線領域に極大吸収波長を持つ化合物を用いることもできる。   The polymerization initiator (L) of the present invention is a compound that generates radicals or acids by light and / or heat irradiation. The photopolymerization initiator (L) used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less. Thus, the handling can be performed under a white light by setting the absorption wavelength to the ultraviolet region. A compound having a maximum absorption wavelength in the near infrared region can also be used.

まず、ラジカルを発生する化合物(L1)について詳述する。本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物(L1)は、光及び/又は熱照射によりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。   First, the compound (L1) that generates radicals will be described in detail. The compound (L1) that generates radicals preferably used in the present invention refers to a compound that initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group by generating radicals by irradiation with light and / or heat.

公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることとができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独又は2種以上を併用して用いることができる。   A known polymerization initiator or a compound having a bond with a small bond dissociation energy can be appropriately selected and used. Moreover, the compound which generate | occur | produces a radical can be used individually or in combination of 2 or more types.

ラジカルを発生する化合物としては、たとえば、従来公知の有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤等の熱ラジカル重合開始剤、アミン化合物(特公昭44−20189号公報記載)、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸塩化合物、ジスルホン化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。   Examples of the compound that generates radicals include conventionally known organic peroxide compounds, thermal radical polymerization initiators such as azo polymerization initiators, amine compounds (described in Japanese Patent Publication No. 44-20189), organic halogenated compounds, carbonyls, and the like. Examples include photo radical polymerization initiators such as compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic borate compounds, and disulfone compounds.

上記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特開昭63−298339号、M.P.Hutt" Jurnal of Heterocyclic Chemistry" 1(No3),(1970)」等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物:S−トリアジン化合物が挙げられる。   Specific examples of the organic halogenated compounds include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, JP-A 63-298339, M.M. P. Hut "Journal of Heterocyclic Chemistry" 1 (No3), (1970) "and the like, and in particular, an oxazole compound substituted with a trihalomethyl group: S-triazine compound.

より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体が挙げられる。   More preferred are s-triazine derivatives in which at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring.

他の有機ハロゲン化合物の例として、特開平5−27830号公報中の段落番号〔0039〕〜〔0048〕記載のケトン類、スルフィド類、スルホン類、窒素原子含有の複素環類等が挙げられる。   Examples of other organic halogen compounds include ketones, sulfides, sulfones and nitrogen-containing heterocycles described in paragraphs [0039] to [0048] of JP-A-5-27830.

上記カルボニル化合物としては、たとえば、「最新 UV硬化技術」60〜62ページ((株)技術情報協会刊、1991年)、特開平8−134404号明細書の段落番号〔0015〕〜〔0016〕、同11−217518号明細書の段落番号〔0029〕〜〔0031〕に記載の化合物等が挙げられ、アセトフェノン系、ヒドロキシアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサン系、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、ベンジルジメチルケタール、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。   Examples of the carbonyl compound include, for example, “Latest UV Curing Technology”, pages 60 to 62 (published by Technical Information Association, 1991), paragraph numbers [0015] to [0016] of JP-A-8-134404, The compounds described in paragraph Nos. [0029] to [0031] of JP-A No. 11-217518 can be mentioned, and benzoin compounds such as acetophenone, hydroxyacetophenone, benzophenone, thioxan, benzoin ethyl ether, and benzoin isobutyl ether Benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate, benzyldimethyl ketal, and acylphosphine oxide.

上記有機過酸化化合物としては、たとえば、特開2001−139663号明細書の段落番号〔0019〕に記載の化合物等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide compound include compounds described in paragraph [0019] of JP-A No. 2001-139663.

上記メタロセン化合物としては、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include various titanocene compounds described in JP-A-2-4705 and JP-A-5-83588, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453, JP-A-1-152109, and the like. Is mentioned.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、たとえば、特公平6−29285号、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の各公報記載の種々の化合物等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compounds described in JP-B-6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, 4,622,286, etc. And various compounds.

上記有機ホウ酸塩化合物としては、たとえば、特許第2764769号、特開2002−116539号等の各公報、及び、Kunz,Martin" Rad Tech' 98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago" 等に記載される有機ホウ酸塩化合物が挙げられる。たとえば、前記特開2002−116539号明細書の段落番号〔0022〕〜〔0027〕記載の化合物が挙げられる。   Examples of the organic borate compounds include, for example, Japanese Patent Nos. 2764769 and 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”. Mention may be made of the organic borate compounds described. Examples thereof include the compounds described in paragraphs [0022] to [0027] of JP-A-2002-116539.

他の有機ホウ素化合物として、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。   As other organic boron compounds, organic boron such as JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-306527, JP-A-7-292014, etc. Specific examples include transition metal coordination complexes and the like.

上記スルホン化合物としては、特開平5−239015号に記載の化合物等、上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号明細書に記載の一般式(II)及び一般式(III)で示される化合物等が挙げられる。   Examples of the sulfone compound include compounds described in JP-A-5-239015, and examples of the disulfone compound include those represented by general formulas (II) and (III) described in JP-A 61-166544. Compounds and the like.

これらのラジカル発生化合物は、一種のみを添加しても、二種以上を併用してもよい。添加量としては、ラジカル重合性モノマーの全量に対し0.1〜30質量%、好ましくは0.5〜25質量%、特に好ましくは1〜20質量%で添加することができる。この範囲において、高屈折率層用組成物の経時安定性が問題なく高い重合性となる。「最新UV硬化技術」,(株)技術情報協会,1991年,p.159にも種々の化合物例が記載されており本発明に有用である。   These radical generating compounds may be used alone or in combination of two or more. As addition amount, it is 0.1-30 mass% with respect to the whole quantity of a radically polymerizable monomer, Preferably it is 0.5-25 mass%, Most preferably, it can add at 1-20 mass%. Within this range, the temporal stability of the composition for a high refractive index layer is highly polymerizable without problems. “Latest UV Curing Technology”, Technical Information Association, 1991, p. Various compound examples are also described in 159 and are useful in the present invention.

市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,819、907、1870(CGI-403/Irg184=7/3混合開始剤、500,369,1173,2959,4265,4263など)、OXE01)等、日本化薬(株)製のKAYACURE(DETX-S,BP-100,BDMK,CTX,BMS,2-EAQ,ABQ,CPTX,EPD,ITX,QTX,BTC,MCAなど)、サートマー社製のEsacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KT046,KT37,KIP150,TZT)等が好ましい例として挙げられる。   Commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 819, 907, 1870 (CGI-403 / Irg184 = 7/3 mixed initiator, 500) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. , 369, 1173, 2959, 4265, 4263), OXE01), etc., and Kayacure (DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. , ITX, QTX, BTC, MCA, etc.), Esacure manufactured by Sartomer (KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) and the like are preferable examples.

次に、光重合開始剤(L)として用いることができる酸発生剤(L2)について詳述する。酸発生剤(L2)としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、又は、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。   Next, the acid generator (L2) that can be used as the photopolymerization initiator (L) will be described in detail. Examples of the acid generator (L2) include known compounds such as a photo-initiator for photocationic polymerization, a photo-decoloring agent for dyes, a photo-discoloring agent, or a known acid generator used in a microresist, and the like. A mixture thereof may be mentioned.

また、酸発生剤(L2)として、たとえば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物が挙げられる。有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物のこれらの具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。   Examples of the acid generator (L2) include organic halogenated compounds and disulfone compounds. Specific examples of these organic halogen compounds and disulfone compounds are the same as those described for the compound generating a radical.

オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、たとえば、特開2002−29162号公報の段落番号〔0058〕〜〔0059〕に記載の化合物等が挙げられる。   Examples of the onium compounds include diazonium salts, ammonium salts, iminium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, arsonium salts, selenonium salts, and the like. For example, paragraph numbers [0058] to [0058] of [JP-A-2002-29162] [0059] and the like.

本発明において、特に好適に用いられる酸発生剤(L2)としては、オニウム塩が挙げられ、中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。   In the present invention, the acid generator (L2) that is particularly preferably used includes onium salts. Among them, diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, and iminium salts are used for photosensitivity at the start of photopolymerization, and material stability of the compound. From the point of property etc., it is preferable.

本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、たとえば、特開平9−268205号公報の段落番号〔0035〕に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開2000−71366号明細書の段落番号〔0010〕〜〔0011〕に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開2001−288205号公報の段落番号〔0017〕に記載のチオ安息香酸S−フェニルエステルのスルホニウム塩、特開2001−133696号公報の段落番号〔0030〕〜〔0033〕に記載のオニウム塩等が挙げられる。   Specific examples of the onium salt that can be suitably used in the present invention include, for example, an amylated sulfonium salt described in paragraph [0035] of JP-A-9-268205, and JP-A-2000-71366. Diaryl iodonium salt or triaryl sulfonium salt described in paragraph numbers [0010] to [0011] of the book, sulfonium salt of thiobenzoic acid S-phenyl ester described in paragraph number [0017] of JP-A-2001-288205, Examples include onium salts described in paragraph numbers [0030] to [0033] of JP-A-2001-133696.

酸発生剤の他の例としては、特開2002−29162号公報の段落番号〔0059〕〜〔0062〕に記載の有機金属/有機ハロゲン化物、o−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物(イミノスルフォネート等)等の化合物が挙げられる。   Other examples of the acid generator include organic metal / organic halides described in paragraphs [0059] to [0062] of JP-A-2002-29162, and a photoacid generator having an o-nitrobenzyl type protecting group. And compounds such as compounds that generate photosulfonic acid to generate sulfonic acid (iminosulfonate, etc.).

これらの酸発生剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの酸発生剤は、全カチオン重合性モノマーの全質量100質量%に対し0.1〜20質量%、好ましくは0.5〜15質量%、特に好ましくは1〜10質量%の割合で添加することができる。添加量が上記範囲において、高屈折率用組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。   These acid generators may be used alone or in combination of two or more. These acid generators are added in a proportion of 0.1 to 20% by mass, preferably 0.5 to 15% by mass, particularly preferably 1 to 10% by mass, based on 100% by mass of the total mass of the cationic polymerizable monomer can do. When the addition amount is in the above range, it is preferable from the viewpoint of stability of the composition for high refractive index, polymerization reactivity and the like.

本発明の高屈折率用組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の合計質量に対して、ラジカル重合開始剤を0.5〜10質量%及びカチオン重合開始剤を1〜10質量%の割合で含有していることが好ましい。より好ましくは、ラジカル重合開始剤を1〜5質量%、及びカチオン重合開始剤を2〜6質量%の割合で含有する。   The composition for high refractive index of the present invention is 0.5 to 10% by mass of the radical polymerization initiator and 1 to 10% by mass of the cationic polymerization initiator with respect to the total mass of the radical polymerizable compound and the cationic polymerizable compound. It is preferable to contain in the ratio. More preferably, it contains 1 to 5% by mass of a radical polymerization initiator and 2 to 6% by mass of a cationic polymerization initiator.

本発明の高屈折率用組成物には、紫外線照射により重合反応を行なう場合には、従来公知の紫外線分光増感剤、化学増感剤を併用してもよい。たとえば、ミヒラーズケトン、アミノ酸(グリシンなど)、有機アミン(ブチルアミン、ジブチルアミンなど)等が挙げられる。   In the composition for high refractive index of the present invention, when a polymerization reaction is carried out by ultraviolet irradiation, a conventionally known ultraviolet spectral sensitizer or chemical sensitizer may be used in combination. Examples include Michler's ketone, amino acids (such as glycine), and organic amines (such as butylamine and dibutylamine).

また、近赤外線照射により重合反応を行なう場合には、近赤外線分光増感剤を併用することが好ましい。   Moreover, when performing a polymerization reaction by near infrared irradiation, it is preferable to use a near infrared spectral sensitizer together.

併用する近赤外線分光増感剤は、700nm以上の波長域の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、分子吸光係数が10000以上の値を有する化合物が好ましい。更には、750〜1400nmの領域に吸収を有し、かつ分子吸光係数が20000以上の値が好ましい。   The near-infrared spectral sensitizer used in combination may be a light-absorbing substance having an absorption band in at least a part of the wavelength range of 700 nm or more, and a compound having a molecular extinction coefficient of 10,000 or more is preferable. Furthermore, a value having absorption in the region of 750 to 1400 nm and a molecular extinction coefficient of 20000 or more is preferable.

また、420nm〜700nmの可視光波長域に吸収の谷があり、光学的に透明であることがより好ましい。近赤外線分光増感剤は、近赤外線吸収顔料及び近赤外線吸収染料として知られる種々の顔料及び染料を用いることができる。その中でも、従来公知の近赤外線吸収剤を用いることが好ましい。   Moreover, it is more preferable that there is a trough of absorption in the visible light wavelength region of 420 nm to 700 nm, and it is optically transparent. As the near-infrared spectral sensitizer, various pigments and dyes known as near-infrared absorbing pigments and near-infrared absorbing dyes can be used. Among these, it is preferable to use a conventionally known near-infrared absorber.

市販の染料及び文献(たとえば、「化学工業」1986年5月号P.45〜51の「近赤外吸収色素」、「90年代機能性色素の開発と市場動向」第2章2.3項(1990)シーエムシー)、「特殊機能色素」(池森・柱谷編集、1986年、(株)シーエムシー発行)、J.FABIAN、Chem.Rev. 、92、pp1197〜1226(1992)、日本感光色素研究所が1995年に発行したカタログ、ExcitonInc.が1989年に発行したレーザー色素カタログ又は特許に記載されている公知の染料が利用できる。   Commercially available dyes and literature (for example, “Chemical Industry”, May 1986, P. 45-51, “Near-Infrared Absorbing Dye”, “Development and Market Trends of Functional Dyes in the 90s”, Chapter 2.3. (1990) CMC), “special function pigments” (edited by Ikemori and Piladani, 1986, issued by CMC Corporation), J. Am. FABIAN, Chem. Rev., 92, pp 1197 to 1226 (1992), a catalog published in 1995 by Nippon Sensitive Dye Research Institute, Exciton Inc. Known dyes described in the laser dye catalog or patent issued in 1989.

(ii)加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物
本発明に用いる高屈折率層(4)のマトッリクスとして、加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物を用いてゾルゲル反応により塗布膜形成後に硬化された膜を形成することも好ましい。有機金属化合物としては、Si、Ti、Zr、Al等からなる化合物が挙げられる。加水分解可能な官能基な基としては、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、水酸基が挙げられ、特に、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基が好ましい。
(Ii) Organometallic compound containing a hydrolyzable functional group As a matrix of the high refractive index layer (4) used in the present invention, a coating film by a sol-gel reaction using an organometallic compound containing a hydrolyzable functional group It is also preferable to form a cured film after formation. Examples of the organometallic compound include compounds composed of Si, Ti, Zr, Al and the like. Examples of the hydrolyzable functional group include an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, and a hydroxyl group, and an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and a butoxy group is particularly preferable.

好ましい有機金属化合物は、下記の化学式3で表される有機ケイ素化合物及びその部分加水分解物(部分縮合物)である。なお、化学式3で表される有機ケイ素化合物は、容易に加水分解し、引き続いて脱水縮合反応が生じることはよく知られた事実である。   Preferred organometallic compounds are organosilicon compounds represented by the following chemical formula 3 and partial hydrolysates (partial condensates) thereof. In addition, it is a well-known fact that the organosilicon compound represented by Chemical Formula 3 is easily hydrolyzed and subsequently undergoes a dehydration condensation reaction.

Figure 2006122889

化学式3において、Rは、置換又は無置換の炭素数1〜30脂肪族基又は炭素数6〜14アリール基を表す。Xは、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子等)、OH基、OR基、OCOR 基を表す。ここで、R は置換又は無置換のアルキル基を表す。mは0〜3の整数を表す。nは1〜4の整数を表す。mとnの合計は4である。但し、mが0の場合は、XはOR基又はOCOR 基を表す。
Figure 2006122889

In Chemical Formula 3, R a represents a substituted or unsubstituted aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. X represents a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom or the like), an OH group, an OR 2 group, or an OCOR 2 group. Here, R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. m represents an integer of 0 to 3. n represents an integer of 1 to 4. The sum of m and n is 4. However, when m is 0, X represents an OR 2 group or an OCOR 2 group.

化学式3において、Rの脂肪族基としては、好ましくは炭素数1〜18(たとえば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル、ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基等)が挙げられる。より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは1〜8のものである。 In the chemical formula 3, the aliphatic group represented by Ra preferably has 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, benzyl group, phenethyl group). Cyclohexyl group, cyclohexylmethyl, hexenyl group, decenyl group, dodecenyl group, etc.). More preferably, it has 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms.

のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。 Examples of the aryl group for R a include phenyl, naphthyl, anthranyl, and the like, and is preferably a phenyl group.

置換基としては特に制限はないが、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アルコキシシリル基(トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、(メタ)アクリロイル等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as a substituent, Halogen (fluorine, chlorine, bromine, etc.), a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), Aryl groups (phenyl, naphthyl, etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy, etc.), aryloxy (phenoxy, etc.), alkylthio groups (methylthio) , Ethylthio etc.), arylthio group (phenylthio etc.), alkenyl group (vinyl, 1-propenyl etc.), alkoxysilyl group (trimethoxysilyl, triethoxysilyl etc.), acyloxy group (acetoxy, (meth) acryloyl etc.), alkoxy Carbonyl group (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl) Bonyl etc.), aryloxycarbonyl group (phenoxycarbonyl etc.), carbamoyl group (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl etc.), acylamino group (acetylamino, benzoylamino) , Acrylicamino, methacrylamino and the like).

これらの置換基うちで、更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基((メタ)アクリロイル)、重合性のアシルアミノ基(アクリルアミノ、メタクリルアミノ)である。またこれら置換基は更に置換されていてもよい。   Among these substituents, more preferred are a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, an alkoxysilyl group, an acyloxy group, and an acylamino group, and particularly preferred are an epoxy group and a polymerizable acyloxy group ((meta ) Acryloyl), a polymerizable acylamino group (acrylamino, methacrylamino). These substituents may be further substituted.

は置換又は無置換のアルキルを表す。アルキル基中の置換基の説明はR1 と同じである。 R 2 represents substituted or unsubstituted alkyl. The explanation of the substituent in the alkyl group is the same as R1.

mは0〜3の整数を表す。nは1〜4の整数を表す。mとnの合計は4である。mとして好ましくは0、1、2であり、特に好ましくは1である。mが0の場合は、XはOR基又はOCOR 基を表す。 m represents an integer of 0 to 3. n represents an integer of 1 to 4. The sum of m and n is 4. m is preferably 0, 1, 2 and particularly preferably 1. When m is 0, X represents an OR 2 group or an OCOR 2 group.

化学式3の化合物の含有量は、高屈折率層(4)の全固形分の10〜80質量%が好ましく、より好ましくは20〜70質量%、特に好ましくは30〜50質量%である。   The content of the compound of Chemical Formula 3 is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, and particularly preferably 30 to 50% by mass of the total solid content of the high refractive index layer (4).

化学式3の化合物の具体例として、たとえば、特開2001−166104号公報段落番号[0054]〜[0056]記載の化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound of Chemical Formula 3 include compounds described in paragraph numbers [0054] to [0056] of JP-A No. 2001-166104.

高屈折率層(4)において、有機バインダーは、シラノール基を有することが好ましい。バインダーがシラノール基を有することにより、高屈折率層(4)の物理強度、耐薬品性、耐候性が更に改良される。   In the high refractive index layer (4), the organic binder preferably has a silanol group. When the binder has a silanol group, the physical strength, chemical resistance, and weather resistance of the high refractive index layer (4) are further improved.

シラノール基は、たとえば、高屈折率層形成用の塗布組成物を構成するバインダー形成成分として、バインダー前駆体(硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)や重合開始剤、高屈折率無機微粒子の分散液に含有される分散剤とともに、架橋又は重合性官能基を有する化学式3で表される有機ケイ素化合物を該塗布組成物に配合し、この塗布組成物を透明支持体上に塗布して上記の分散剤、多官能モノマーや多官能オリゴマー、化学式3で表される有機ケイ素化合物を架橋反応又は重合反応させることによりバインダーに導入することができる。   A silanol group is, for example, a binder precursor (such as a curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer), a polymerization initiator, a high refractive index inorganic fine particle as a binder forming component constituting a coating composition for forming a high refractive index layer. An organosilicon compound represented by Chemical Formula 3 having a cross-linkable or polymerizable functional group is blended with the coating composition together with a dispersant contained in the dispersion liquid, and the coating composition is coated on a transparent support. The dispersant, the polyfunctional monomer, the polyfunctional oligomer, and the organosilicon compound represented by Chemical Formula 3 can be introduced into the binder by a crosslinking reaction or a polymerization reaction.

上記の有機金属化合物を硬化させるための加水分解・縮合反応は、触媒存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネートなどの金属アルコキシド類、β−ジケトン類又はβ−ケトエステル類の金属キレート化合物類等が挙げられる。具体的には、たとえば、特開2000−275403号公報中の段落番号[0071]〜[0083]記載の化合物等が挙げられる。   The hydrolysis / condensation reaction for curing the organometallic compound is preferably performed in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid, inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia , Organic bases such as triethylamine and pyridine, metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum, tetrabutoxyzirconium and tetrabutoxytitanate, metal chelate compounds of β-diketones and β-ketoesters, and the like. Specifically, for example, compounds described in paragraph numbers [0071] to [0083] in JP-A No. 2000-275403 can be mentioned.

これらの触媒化合物の組成物中での割合は、有機金属化合物に対し、0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜50質量%、更に好ましくは0.5〜10質量%である。反応条件は有機金属化合物の反応性により適宜調節されることが好ましい。   The ratio of these catalyst compounds in the composition is 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 50% by mass, and more preferably 0.5 to 10% by mass with respect to the organometallic compound. The reaction conditions are preferably adjusted as appropriate depending on the reactivity of the organometallic compound.

高屈折率層(4)においてマトリックスは、特定の極性基を有することも好ましい。特定の極性基としては、アニオン性基、アミノ基、及び四級アンモニウム基が挙げられる。アニオン性基、アミノ基及び四級アンモニウム基の具体例としては、前記分散剤について述べたものと同様のものが挙げられる。   In the high refractive index layer (4), the matrix preferably has a specific polar group. Specific polar groups include anionic groups, amino groups, and quaternary ammonium groups. Specific examples of the anionic group, amino group and quaternary ammonium group are the same as those described for the dispersant.

特定の極性基を有する高屈折率層のマトリックスは、たとえば、高屈折率層形成用の塗布組成物に、高屈折率無機微粒子と分散剤を含む分散液を配合し、硬化膜形成成分として、特定の極性基を有するバインダー前駆体(特定の極性基を有する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど)と重合開始剤の組み合わせ及び特定の極性基を有し、かつ架橋又は重合性官能基を有する化学式3で表される有機ケイ素化合物の少なくともいずれかを配合し、更に所望により特定の極性基と架橋又は重合性官能基とを有する単官能性モノマーを配合し、該塗布組成物を透明支持体上に塗布して上記の分散剤、単官能性モノマー、多官能モノマーや多官能オリゴマー及び/又は化学式3で表される有機ケイ素化合物を架橋又は重合反応させることにより得られる。   The matrix of the high refractive index layer having a specific polar group is, for example, blended with a coating composition for forming a high refractive index layer, a dispersion containing high refractive index inorganic fine particles and a dispersant, and as a cured film forming component, A combination of a binder precursor having a specific polar group (such as a curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer having a specific polar group) and a polymerization initiator, a specific polar group, and a cross-linked or polymerizable functional group At least one of the organosilicon compounds represented by the chemical formula 3 having the formula, and further, if desired, a monofunctional monomer having a specific polar group and a cross-linkable or polymerizable functional group is blended, and the coating composition is transparent Applying the above-mentioned dispersant, monofunctional monomer, polyfunctional monomer, polyfunctional oligomer, and / or organosilicon compound represented by Chemical Formula 3 by crosslinking or polymerization reaction on a support. Ri is obtained.

特定の極性基を有する単官能性モノマーは、塗布組成物の中で無機微粒子の分散助剤として機能する。更に、塗布後、分散剤、多官能モノマーや多官能オリオリゴマーと架橋反応、又は、重合反応させてバインダーとすることにより、高屈折率層(4)における無機微粒子の良好な均一な分散性を維持し、物理強度、耐薬品性、耐候性に優れた高屈折率層(4)を作製することができる。   The monofunctional monomer having a specific polar group functions as a dispersion aid for inorganic fine particles in the coating composition. Furthermore, after coating, a uniform dispersion of inorganic fine particles in the high refractive index layer (4) can be achieved by crosslinking or polymerization reaction with a dispersant, a polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer, or a polymerization reaction. The high refractive index layer (4) excellent in physical strength, chemical resistance and weather resistance can be produced.

アミノ基又は四級アンモニウム基を有する単官能性モノマーの分散剤に対する使用量は、0.5〜50質量%であることが好ましく、更に好ましくは1〜30質量%である。高屈折率層(4)の塗布と同時又は塗布後に、架橋又は重合反応によってバインダーを形成すれば、高屈折率層(4)の塗布前に単官能性モノマーを有効に機能させることができる。   It is preferable that the usage-amount with respect to the dispersing agent of the monofunctional monomer which has an amino group or a quaternary ammonium group is 0.5-50 mass%, More preferably, it is 1-30 mass%. If the binder is formed by crosslinking or polymerization reaction at the same time as or after the coating of the high refractive index layer (4), the monofunctional monomer can function effectively before the coating of the high refractive index layer (4).

また、本発明の高屈折率層(4)のマトリックスとして、前記した有機バインダーの(イ)に相当し、従来公知の架橋又は重合性官能基を含有する有機ポリマーから硬化・形成されたものが挙げられる。高屈折率層形成後のポリマーが、更に架橋又は重合している構造を有することが好ましい。   Further, the matrix of the high refractive index layer (4) of the present invention corresponds to (b) of the organic binder described above, and is cured and formed from a conventionally known organic polymer containing a crosslinked or polymerizable functional group. Can be mentioned. The polymer after the formation of the high refractive index layer preferably has a structure that is further crosslinked or polymerized.

ポリマーの例には、ポリオレフィン(飽和炭化水素からなる)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂が含まれる。なかでも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレアが好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルが更に好ましい。硬化前の有機ポリマーとしての質量平均分子量は1×10〜1×10 が好ましく、より好ましくは3×10 〜1×10 である。 Examples of the polymer include polyolefin (made of saturated hydrocarbon), polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide and melamine resin. Of these, polyolefins, polyethers, and polyureas are preferable, and polyolefins and polyethers are more preferable. The mass average molecular weight of the organic polymer before curing is preferably 1 × 10 3 to 1 × 10 6 , more preferably 3 × 10 3 to 1 × 10 5 .

硬化前の有機ポリマーは、前記の内容と同様の特定の極性基を有する繰り返し単位と、架橋又は重合構造を有する繰り返し単位とを有する共重合体であることが好ましい。ポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位中の0.5〜99質量%であることが好ましく3〜95質量%であることが更に好ましく、6〜90質量%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二つ以上の同じでも異なってもよいアニオン性基を有していてもよい。   The organic polymer before curing is preferably a copolymer having a repeating unit having a specific polar group as described above and a repeating unit having a crosslinked or polymerized structure. The ratio of the repeating unit having an anionic group in the polymer is preferably 0.5 to 99% by mass, more preferably 3 to 95% by mass, and 6 to 90% by mass in all repeating units. Most preferred. The repeating unit may have two or more anionic groups which may be the same or different.

シラノール基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、2〜98mol%であることが好ましく、4〜96mol%であることが更に好ましく、6〜94mol%であることが最も好ましい。   When the repeating unit having a silanol group is included, the proportion is preferably 2 to 98 mol%, more preferably 4 to 96 mol%, and most preferably 6 to 94 mol%.

アミノ基又は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、0.1〜50質量%であることが好ましく、更には0.5〜30質量%が好ましい。   When the repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group is included, the proportion is preferably 0.1 to 50% by mass, and more preferably 0.5 to 30% by mass.

なお、シラノール基、アミノ基、及び四級アンモニウム基は、アニオン性基を有する繰り返し単位又は架橋又は重合構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。   In addition, even if the silanol group, the amino group, and the quaternary ammonium group are contained in the repeating unit having an anionic group or the repeating unit having a crosslinked or polymerized structure, the same effect can be obtained.

ポリマー中の架橋又は重合構造を有する繰り返し単位の割合は、1 〜90質量%であることが好ましく、5〜80質量%であることが更に好ましく、8〜60質量%であることが最も好ましい。   The ratio of the repeating unit having a crosslinked or polymerized structure in the polymer is preferably 1 to 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass, and most preferably 8 to 60% by mass.

バインダーが架橋又は重合してなるマトリックスは、高屈折率層形成用の塗布組成物を透明支持体上に塗布して、塗布と同時又は塗布後に、架橋又は重合反応によって形成することが好ましい。   The matrix formed by crosslinking or polymerizing the binder is preferably formed by applying a coating composition for forming a high refractive index layer on a transparent support and performing crosslinking or polymerization reaction simultaneously with or after application.

本発明の高屈折率層(4)は、更に用途・目的によって適宜他の化合物を添加することができる。たとえば、高屈折率層(4)の上に低屈折率層(5)を有する場合、高屈折率層(4)の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましく、高屈折率層(4)に、芳香環、フッ素以外のハロゲン化元素(たとえば、Br、I、Cl等)、S、N、P等の原子を含有すると有機化合物の屈折率が高くなることから、これらを含有する硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
(高屈折率層の他の組成物)
本発明の高屈折率層(4)は、更に用途・目的によって適宜他の化合物を添加することができる。たとえば、高屈折率層(4)の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましく、高屈折率層(4)に、芳香環、フッ素以外のハロゲン化元素(たとえば、Br、I、Cl等)、S、N、P等の原子を含む硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
In the high refractive index layer (4) of the present invention, other compounds can be appropriately added depending on applications and purposes. For example, when the low refractive index layer (5) is provided on the high refractive index layer (4), the refractive index of the high refractive index layer (4) is preferably higher than the refractive index of the transparent support. If (4) contains atoms such as aromatic rings, halogenated elements other than fluorine (for example, Br, I, Cl, etc.), S, N, P, etc., the refractive index of the organic compound will increase, so these are included. A binder obtained by a crosslinking or polymerization reaction such as a curable compound to be used can also be preferably used.
(Other composition of high refractive index layer)
In the high refractive index layer (4) of the present invention, other compounds can be appropriately added depending on applications and purposes. For example, the refractive index of the high refractive index layer (4) is preferably higher than the refractive index of the transparent support, and the high refractive index layer (4) has a halogenated element other than an aromatic ring or fluorine (for example, Br, I, Cl, etc.), a binder obtained by a crosslinking or polymerization reaction such as a curable compound containing atoms such as S, N, and P can also be preferably used.

高屈折率層(4)には、前記の成分(無機微粒子、重合開始剤、増感剤など)以外に、樹脂、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子等を添加することもできる。   For the high refractive index layer (4), in addition to the above components (inorganic fine particles, polymerization initiator, sensitizer, etc.), resin, surfactant, antistatic agent, coupling agent, thickener, anti-coloring agent , Colorants (pigments, dyes), antifoaming agents, leveling agents, flame retardants, UV absorbers, infrared absorbers, adhesion promoters, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, conductive metal fine particles, etc. Can also be added.

[中屈折率層]
本発明の反射防止膜は、高屈折率層(4)が異なる屈折率からならなる2層の積層構成が好ましい。すなわち、上記の方法で組成物を塗布して形成された低屈折率層(5)がそれよりも高い屈折率を有する高屈折率層(4)の上に形成され、高屈折率層(4)に隣接し、低屈折率層(5)の反対側に支持体の屈折率と高屈折率層(4)の屈折率の中間の屈折率を有する中屈折率層(3)が形成された3層積層構造が好ましい。上記したように、各屈折率層の屈折率は相対的なものである。
[Medium refractive index layer]
The antireflection film of the present invention preferably has a two-layer structure in which the high refractive index layer (4) is composed of different refractive indexes. That is, the low refractive index layer (5) formed by applying the composition by the above method is formed on the high refractive index layer (4) having a higher refractive index than the high refractive index layer (4 ) And an intermediate refractive index layer (3) having a refractive index intermediate between the refractive index of the support and the refractive index of the high refractive index layer (4) is formed on the opposite side of the low refractive index layer (5). A three-layer laminated structure is preferred. As described above, the refractive index of each refractive index layer is relative.

本発明の中屈折率層(3)を構成する材料は、従来公知の材料の何れでもよいが、上記高屈折率層(4)と同様のものが好ましい。屈折率は無機微粒子の種類、使用量で容易に調整され、上記高屈折率層(4)に記載の内容と同様にして、膜厚30〜500nmの薄層を形成する。更に好ましくは、50〜300nmの膜厚である。   The material constituting the middle refractive index layer (3) of the present invention may be any conventionally known material, but the same material as the high refractive index layer (4) is preferred. The refractive index is easily adjusted by the type and amount of inorganic fine particles, and a thin layer having a thickness of 30 to 500 nm is formed in the same manner as described in the high refractive index layer (4). More preferably, the film thickness is 50 to 300 nm.

[低屈折率層]
低屈折率層(5)は、含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する繰返し単位を必須の構成成分とする共重合体の硬化皮膜によって形成されるのが好ましい。また、前記共重合体とともに低屈折率化と皮膜硬度の両立の観点から多官能(メタ)アクリレート等の硬化剤や、無機微粒子や有機微粒子の充填剤も好ましく用いられる。
[Low refractive index layer]
The low refractive index layer (5) is formed by a cured film of a copolymer having a repeating unit derived from a fluorine-containing vinyl monomer and a repeating unit having a (meth) acryloyl group in the side chain as essential constituent components. preferable. A curing agent such as polyfunctional (meth) acrylate, a filler of inorganic fine particles or organic fine particles is preferably used together with the copolymer from the viewpoint of achieving both low refractive index and film hardness.

低屈折率層(5)の屈折率は、1.20〜1.49であることが好ましく、1.25〜1.48であることがより好ましく、1.30〜1.46であることが特に好ましい。   The refractive index of the low refractive index layer (5) is preferably 1.20 to 1.49, more preferably 1.25 to 1.48, and 1.30 to 1.46. Particularly preferred.

低屈折率層(5)の厚さは、50〜200nmであることが好ましく、70〜100nmであることが更に好ましい。低屈折率層(5)のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層(5)の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で500g荷重においてH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   The thickness of the low refractive index layer (5) is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 70 to 100 nm. The haze of the low refractive index layer (5) is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less. The specific strength of the low refractive index layer (5) is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher at a load of 500 g in a pencil hardness test according to JIS K5400.

また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90゜以上であることが好ましい。95゜以上であることが更に好ましく、100゜以上であることが特に好ましい。   In order to improve the antifouling performance of the antireflection film, it is preferable that the contact angle of the surface with respect to water is 90 ° or more. The angle is more preferably 95 ° or more, and particularly preferably 100 ° or more.

以下に本発明の低屈折率層(5)に用いられる共重合体について説明する。   The copolymer used for the low refractive index layer (5) of this invention is demonstrated below.

含フッ素モノマー単位の具体例としては、たとえば、フルオロオレフィン類(たとえば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(たとえば、ビスコート6FM(大阪有機化製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。   Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, perfluorooctylethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3. -Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers Of these, perfluoroolefins are preferred, and hexafluoropropylene is particularly preferred from the viewpoints of refractive index, solubility, transparency, availability, and the like.

架橋反応性付与のための構成単位としては、グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー(たとえば、(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等)の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位(たとえば、ヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)が挙げられる。   As structural units for imparting crosslinking reactivity, structural units obtained by polymerization of monomers having a self-crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether, carboxyl groups, hydroxy groups, amino acids Of monomers having a group or a sulfo group (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, maleic acid, crotonic acid, etc.) And a structural unit obtained by introducing a crosslinking reactive group such as a (meth) acryloyl group into the structural unit by a polymer reaction (for example, by acting an acrylic acid chloride on a hydroxy group) Guidance Possible), and the like.

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、たとえば、オレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。   In addition to the above-mentioned fluorine-containing monomer units and structural units for imparting crosslinking reactivity, monomers that do not contain fluorine atoms can be copolymerized as appropriate from the viewpoints of solubility in solvents, film transparency, and the like. There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid) 2-ethylhexyl), methacrylic acid esters (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers ( Methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate etc.), acrylamides (N-tert-butylacrylamide, - cyclohexyl acrylamide), methacrylamides, and acrylonitrile derivatives.

上記のポリマーに対しては特開平10−25388号及び特開平10−147739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用してもよい。   As described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739, a curing agent may be appropriately used in combination with the above polymer.

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基((メタ)アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等)を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70mol%を占めていることが好ましく、特に好ましくは30〜60mol%を占めていることである。   The fluorine-containing polymer particularly useful in the present invention is a random copolymer of perfluoroolefin and vinyl ethers or vinyl esters. In particular, it preferably has a group capable of undergoing a crosslinking reaction alone (a radical reactive group such as a (meth) acryloyl group, a ring-opening polymerizable group such as an epoxy group or an oxetanyl group). These cross-linking reactive group-containing polymer units preferably occupy 5 to 70 mol%, particularly preferably 30 to 60 mol% of the total polymer units of the polymer.

本発明に用いられる共重合体の好ましい態様として、下記の化学式4で表される化合物が挙げられる。   A preferred embodiment of the copolymer used in the present invention includes a compound represented by the following chemical formula 4.

Figure 2006122889

化学式4において、Lは炭素数1〜10の連結基を表す。この連結基は、好ましくは炭素数1〜6の連結基であり、より好ましくは2〜4の連結基である。また、この連結基は、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、O、N、Sから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
Figure 2006122889

In Chemical Formula 4, L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms. This linking group is preferably a linking group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a linking group having 2 to 4 carbon atoms. The linking group may be linear or branched, may have a ring structure, and may have a heteroatom selected from O, N, and S. .

好ましい例としては、* −(CH2 )2−O−**、 *−( CH2 )2−NH−**、 *−( CH2 )4−O−**、 *−( CH2 )6−O−**、 *−( CH2 )2−O−( CH2 )2−O−**、 *O−CONH−(CH2 )3−O−**、 *−CH2 CH(OH)CH2 −O−**、 *−CH2 CH2 OCONH( CH2 )3−O−**(* はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は(メタ)アクリロイル基側の連結部位を表す。)等が挙げられる。mは0又は1を表わす。   Preferred examples include *-(CH2) 2-O-**, *-(CH2) 2-NH-**, *-(CH2) 4-O-**, *-(CH2) 6-O-. **, *-(CH2) 2-O- (CH2) 2-O-**, * O-CONH- (CH2) 3-O-**, * -CH2 CH (OH) CH2-O-** * -CH2CH2OCONH (CH2) 3-O-** (* represents a linking site on the polymer main chain side, and ** represents a linking site on the (meth) acryloyl group side). m represents 0 or 1;

化学式4において、Xは水素原子又はメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。   In Chemical Formula 4, X represents a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of curing reactivity, a hydrogen atom is more preferable.

化学式4において、Aは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一又は複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。   In Chemical Formula 4, A represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and is not particularly limited as long as it is a constituent component of a monomer copolymerizable with hexafluoropropylene. Adhesion to a substrate, Tg of a polymer (Contributes to film hardness), solubility in solvents, transparency, slipperiness, dust / antifouling properties, etc. May be.

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸及びその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。   Preferred examples include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, vinyl ethers such as allyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate, butyric acid. (Meth) such as vinyl esters such as vinyl, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane Acrylates, styrene, styrene derivatives such as p-hydroxymethylstyrene, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid Can be mentioned unsaturated carboxylic acids and derivatives thereof, more preferably ether derivatives, vinyl ester derivatives, particularly preferably a vinyl ether derivative.

化学式4において、x、y、zは、それぞれの構成成分のモル%を表わし、30≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65を満たす値を表す。好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60、0≦z≦20の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55、0≦z≦10の場合である。   In Chemical Formula 4, x, y, and z represent mol% of each constituent component, and represent values satisfying 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, and 0 ≦ z ≦ 65. Preferably, 35 ≦ x ≦ 55, 30 ≦ y ≦ 60, and 0 ≦ z ≦ 20, and particularly preferably 40 ≦ x ≦ 55, 40 ≦ y ≦ 55, and 0 ≦ z ≦ 10.

本発明に用いられる共重合体の特に好ましい態様として下記の化学式5で表される化合物が挙げられる。   A particularly preferred embodiment of the copolymer used in the present invention is a compound represented by the following chemical formula 5.

Figure 2006122889

化学式5において、X、x、yは、化学式4と同じ意味を表し、好ましい範囲も同じである。
Figure 2006122889

In Chemical Formula 5, X, x, and y have the same meaning as in Chemical Formula 4, and the preferred range is also the same.

化学式5において、nは2≦n≦10の整数を表し、2≦n≦6であることが好ましく、2≦n≦4であることが特に好ましい。   In Chemical Formula 5, n represents an integer of 2 ≦ n ≦ 10, preferably 2 ≦ n ≦ 6, and particularly preferably 2 ≦ n ≦ 4.

化学式5において、Bは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていてもよい。例としては、前記化学式4におけるAの例として説明したものが挙げられる。   In Chemical Formula 5, B represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and may be composed of a single composition or a plurality of compositions. As an example, what was demonstrated as an example of A in the said Chemical formula 4 is mentioned.

化学式5において、z1及びz2は、それぞれの繰返し単位のmol%を表わし、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たす値を表す。それぞれ0≦z1≦30、0≦z2≦10であることが好ましく、0≦z1≦10、0≦z2≦5であることが特に好ましい。   In Chemical Formula 5, z1 and z2 represent mol% of each repeating unit, and represent values satisfying 0 ≦ z1 ≦ 65 and 0 ≦ z2 ≦ 65. It is preferable that 0 ≦ z1 ≦ 30 and 0 ≦ z2 ≦ 10 respectively, and it is particularly preferable that 0 ≦ z1 ≦ 10 and 0 ≦ z2 ≦ 5.

化学式4又は5で表される共重合体は、たとえば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により(メタ)アクリロイル基を導入することにより合成できる。   The copolymer represented by the chemical formula 4 or 5 can be obtained, for example, by introducing a (meth) acryloyl group into a copolymer comprising a hexafluoropropylene component and a hydroxyalkyl vinyl ether component by any one of the methods described above. Can be synthesized.

以下に、本発明で有用な共重合体の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of the copolymer useful by this invention is shown below, this invention is not limited to these.

Figure 2006122889
Figure 2006122889

Figure 2006122889
Figure 2006122889

Figure 2006122889
Figure 2006122889

Figure 2006122889
Figure 2006122889

Figure 2006122889

本発明に好ましく用いられる共重合体の合成は、種々の重合方法、たとえば、溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって(メタ)アクリロイル基を導入することにより行なうことができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。
Figure 2006122889

The copolymer preferably used in the present invention is synthesized by synthesizing a precursor such as a hydroxyl group-containing polymer by various polymerization methods such as solution polymerization, precipitation polymerization, suspension polymerization, bulk polymerization, and emulsion polymerization. It can be carried out by introducing a (meth) acryloyl group by a polymer reaction. The polymerization reaction can be performed by a known operation such as a batch system, a semi-continuous system, or a continuous system.

前記したように、低屈折率層(5)の皮膜硬度の観点からは、硬化剤等の添加剤を添加することは必ずしも有利ではないが、高屈折率層(4)との界面密着性等の観点から、多官能(メタ)アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸又はその無水物等の硬化剤を添加することもできる。   As described above, from the viewpoint of film hardness of the low refractive index layer (5), it is not always advantageous to add an additive such as a curing agent, but interfacial adhesion to the high refractive index layer (4), etc. From the above viewpoint, a curing agent such as a polyfunctional (meth) acrylate compound, a polyfunctional epoxy compound, a polyisocyanate compound, an aminoplast, a polybasic acid, or an anhydride thereof may be added.

これらを添加する場合には、低屈折率層皮膜の全固形分に対して0〜30質量%の範囲であることが好ましく、0〜20質量%の範囲であることがより好ましく、0〜10質量%の範囲であることが特に好ましい。   When adding these, it is preferable that it is the range of 0-30 mass% with respect to the total solid of a low refractive index layer membrane | film | coat, It is more preferable that it is the range of 0-20 mass%, 0-10 It is particularly preferable that the mass range.

また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系又はフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の0〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0〜5質量%の場合である。   In addition, for the purpose of imparting properties such as antifouling properties, water resistance, chemical resistance, and slipping properties, known silicone-based or fluorine-based antifouling agents, slipping agents, and the like can be appropriately added. When these additives are added, it is preferably added in the range of 0 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0 to 10% by mass. Particularly preferred is 0 to 5% by mass.

ラジカル重合開始剤としては熱の作用によりラジカルを発生するもの、又は光の作用によりラジカルを発生するもののいずれの形態も可能である。   The radical polymerization initiator may be in any form of generating radicals by the action of heat or generating radicals by the action of light.

熱の作用によりラジカル重合を開始する化合物としては、有機又は無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。   As the compound that initiates radical polymerization by the action of heat, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.

具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2−アゾービスーイソブチロニトリル、2−アゾービスープロピオニトリル、2−アゾ−ビスーシクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。   Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Ammonium sulfate, potassium persulfate, etc., 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, etc. as diazo compounds, diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium Etc.

光の作用によりラジカル重合を開始する化合物を使用する場合は、活性エネルギー線の照射によって皮膜の硬化が行われる。   When a compound that initiates radical polymerization by the action of light is used, the coating is cured by irradiation with active energy rays.

このような光ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン及び2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。   Examples of such radical photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds , Disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included.

ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン及びp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。これらの光ラジカル重合開始剤と併用して増感色素も好ましく用いることができる。   Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. Sensitizing dyes can also be preferably used in combination with these photoradical polymerization initiators.

熱又は光の作用によってラジカル重合を開始する化合物の添加量としては、炭素−炭素二重結合の重合を開始できる量であればよいが、一般的には低屈折率層形成組成物中の全固形分に対して0.1〜15質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量%であり、特に好ましくは2〜5質量%の場合である。   The amount of the compound that initiates radical polymerization by the action of heat or light may be an amount that can initiate the polymerization of the carbon-carbon double bond, but generally the total amount in the composition for forming a low refractive index layer is not limited. 0.1-15 mass% is preferable with respect to solid content, More preferably, it is 0.5-10 mass%, Most preferably, it is a case of 2-5 mass%.

低屈折率層塗布液組成物に含まれる溶剤としては、含フッ素共重合体を含む組成物が沈殿を生じることなく、均一に溶解又は分散されるものであれば特に制限はなく、2種類以上の溶剤を併用することもできる。好ましい例としては、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、エーテル類(テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、水などを挙げることができる。   The solvent contained in the low refractive index layer coating liquid composition is not particularly limited as long as the composition containing the fluorinated copolymer is uniformly dissolved or dispersed without causing precipitation. These solvents can also be used in combination. Preferred examples include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), esters (ethyl acetate, butyl acetate, etc.), ethers (tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), alcohols (methanol, ethanol, isopropyl). Alcohol, butanol, ethylene glycol, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), water and the like.

低屈折率層(5)は、含フッ素化合物以外に充填剤(たとえば、無機微粒子や有機微粒子等)、シランカップリング剤、滑り剤(ジメチルシリコーンなどのシリコーン化合物等)、界面活性剤等を含有することができる。特に、無機微粒子、シランカップリング剤、滑り剤を含有することが好ましい。   The low refractive index layer (5) contains, in addition to the fluorine-containing compound, a filler (for example, inorganic fine particles and organic fine particles), a silane coupling agent, a slip agent (silicone compound such as dimethyl silicone), a surfactant and the like. can do. In particular, it is preferable to contain inorganic fine particles, a silane coupling agent, and a slip agent.

次に、本発明の低屈折率層(5)中に含有することのできる無機微粒子について、以下に記載する。   Next, the inorganic fine particles that can be contained in the low refractive index layer (5) of the present invention are described below.

無機微粒子の塗布量は、1〜100mg/m が好ましく、より好ましくは5〜80mg/m、更に好ましくは10〜60mg/m である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。 The coating amount of the inorganic fine particles is preferably 1 to 100 mg / m 2, more preferably 5-80 mg / m 2, more preferably from 10~60mg / m 2. If the amount is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the amount is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated.

無機微粒子は、低屈折率層(5)に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。たとえば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層(5)の厚さの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。   Since the inorganic fine particles are contained in the low refractive index layer (5), it is desirable that the inorganic fine particles have a low refractive index. Examples thereof include fine particles of magnesium fluoride and silica. In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost. The average particle size of the silica fine particles is preferably 30% or more and 150% or less, more preferably 35% or more and 80% or less, still more preferably 40% or more and 60% or less of the thickness of the low refractive index layer (5).

すなわち、低屈折率層(5)の厚さが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。   That is, when the thickness of the low refractive index layer (5) is 100 nm, the particle size of the silica fine particles is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.

シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球状が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。   If the particle size of the silica fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If it is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably spherical, but there is no problem even if it is indefinite.

ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。   Here, the average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a Coulter counter.

低屈折率層(5)の屈折率上昇をより1層少なくするために、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。この中空シリカ微粒子は、屈折率が1.17〜1.40、より好ましくは1.17〜1.35、更に好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は、粒子全体としての屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、空隙率xは下記の式4で表される
[数4]
x=(4πa/3)/(4πb/3)×100

空隙率xは、好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。
In order to further reduce the refractive index increase of the low refractive index layer (5) by one layer, it is preferable to use hollow silica fine particles. The hollow silica fine particles have a refractive index of 1.17 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and still more preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the whole particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, if the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x is expressed by the following formula 4.
[Equation 4]
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100

The porosity x is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%.

中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚さが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。   If the hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. Refractive index particles do not hold.

なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は、アッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなった。   The refractive index of these hollow silica particles was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

また、平均粒径が低屈折率層(5)の厚さの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することが好ましい。   Further, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (5) (referred to as “silica fine particles having a small size particle size”) is used. It is preferably used in combination with “large-sized silica particles”.

小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。   Since the fine silica particles having a small size can be present in the gaps between the fine silica particles having a large size, the fine particles can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large size.

小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層(5)の厚さが100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コスト及び保持剤効果の点で好ましい。   When the thickness of the low refractive index layer (5) is 100 nm, the average particle size of the silica fine particles having a small size is preferably 1 nm to 20 nm, more preferably 5 nm to 15 nm, and particularly preferably 10 nm to 15 nm. . Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.

シリカ微粒子は、分散液中又は塗布液中で、分散安定化を図るために、又はバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。   Silica fine particles are treated by physical surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to increase the affinity and binding properties with the binder component. Chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed.

このうち、カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。   Of these, the use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Of these, silane coupling treatment is particularly effective.

上記カップリング剤は、低屈折率層(5)の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時に更に添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。   The above coupling agent is used as a surface treatment agent for the inorganic filler of the low refractive index layer (5) in order to perform surface treatment before the preparation of the layer coating solution, but is further added as an additive during the preparation of the layer coating solution. Thus, it is preferably contained in the layer.

シリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。   The silica fine particles are preferably dispersed in the medium in advance before the surface treatment in order to reduce the load of the surface treatment.

以上、シリカ微粒子について述べたことは、他の無機粒子についても適用される。   What has been described above for the silica fine particles is also applicable to other inorganic particles.

シランカップリング剤としては、下記の化学式で表される化合物、及び、又は、その誘導体化合物を用いることができる。   As the silane coupling agent, a compound represented by the following chemical formula and / or a derivative compound thereof can be used.

(X)n-Si-(OR)m
上記化学式において、Xは、有機官能基、Rは、アルキル基を示す。これらのうち、好ましいのは、Xに水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基を含有するシランカップリング剤であり、特に好ましいのはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基((メタ)アクリロイル)、重合性のアシルアミノ基(アクリルアミノ、メタクリルアミノ)を含有するシランカップリング剤である。mは0〜3の整数を表す。nは1〜4の整数を表す。mとnの合計は4である。
(X) n-Si- (OR) m
In the above chemical formula, X represents an organic functional group, and R represents an alkyl group. Of these, preferred is a silane coupling agent containing a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, an alkoxysilyl group, an acyloxy group or an acylamino group in X, and particularly preferred is an epoxy group, It is a silane coupling agent containing a polymerizable acyloxy group ((meth) acryloyl) and a polymerizable acylamino group (acrylamino, methacrylamino). m represents an integer of 0 to 3. n represents an integer of 1 to 4. The sum of m and n is 4.

上記化学式で表される化合物で特に好ましいのは、Xに架橋又は重合性官能基として(メタ)アクリロイル基を有する化合物であり、たとえば、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Particularly preferred among the compounds represented by the above chemical formula are compounds having a (meth) acryloyl group as a cross-linkable or polymerizable functional group in X, such as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethyl. And methoxysilane.

滑り剤としては、ジメチルシリコーン、及びポリシロキサンセグメントが導入された含フッ素化合物が好ましい。   As the slip agent, dimethyl silicone and a fluorine-containing compound into which a polysiloxane segment is introduced are preferable.

[その他の層]
積層型反射防止膜には、更に、防湿層、帯電防止層、プライマー層、下塗り層や保護層、シールド層、滑り層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
[Other layers]
The laminated antireflection film may further be provided with a moisture proof layer, an antistatic layer, a primer layer, an undercoat layer, a protective layer, a shield layer, and a sliding layer. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays.

[反射防止膜を形成する方法の概略]
多層構成の反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書記載)により、塗布により形成することができるが、ダイコート法で塗布することが好ましく、更には後述する新規ダイコーターを用いて塗布を行うことがより好ましい。
[Outline of Method for Forming Antireflection Film]
Each layer of the antireflection film having a multilayer structure is formed by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a die coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or an extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294). According to the description, it can be formed by coating, but it is preferably coated by a die coating method, and more preferably by using a new die coater described later.

この場合、二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許2761791号、同2941898号、同3508947号、同3526528号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。   In this case, two or more layers may be applied simultaneously. The methods of simultaneous application are described in US Pat. Nos. 2,761,789, 2,941,898, 3,508,947, and 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).

本発明の反射防止フィルムにおいては、少なくとも高屈折率層(4)と低屈折率層(5)を積層するので、ゴミ、ほこり等の異物が存在したとき、輝点欠陥が目立ちやすい。本発明における輝点欠陥とは、前記したように目視により、塗膜上の反射で見える欠陥のことで、塗布後の反射防止フィルムの裏面を黒塗りする等の操作により目視で検出できる。目視により見える輝点欠陥は、一般的に50μm以上である。輝点欠陥が多いと製造時の得率が低下し、大面積の反射防止フィルムを製造することができない。   In the antireflection film of the present invention, at least the high refractive index layer (4) and the low refractive index layer (5) are laminated, so that bright spot defects are easily noticeable when foreign matter such as dust or dust is present. The bright spot defect in the present invention is a defect that can be seen by reflection on the coating film as described above, and can be detected by an operation such as black coating on the back surface of the antireflection film after coating. The bright spot defects that can be visually observed are generally 50 μm or more. When there are many bright spot defects, the yield at the time of manufacture will fall and a large-area antireflection film cannot be manufactured.

本発明の反射防止フィルムは、輝点欠陥の数が1平方メートル当たり20個以下、好ましくは10個以下、更に好ましくは5個以下、特に好ましくは1個以下とする。   In the antireflection film of the present invention, the number of bright spot defects is 20 or less per square meter, preferably 10 or less, more preferably 5 or less, and particularly preferably 1 or less.

本発明の反射防止フィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。   In order to continuously produce the antireflection film of the present invention, a process of continuously feeding a roll-shaped support film, a process of applying and drying a coating liquid, a process of curing a coating film, and a support having a cured layer A step of winding the body film is performed.

ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布室で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。   The film support is continuously sent out from the roll-shaped film support to the clean room. In the clean room, the static electricity charged on the film support is removed by an electrostatic charge-off device, and then the film support adheres on the film support. Remove the foreign material that has been removed with a dust remover. Subsequently, the coating liquid is applied onto the film support in the coating chamber installed in the clean room, and the applied film support is sent to the drying chamber and dried.

乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は、乾燥室から放射線硬化室へ送り出され、放射線が照射されて塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。更に、放射線により硬化した層を有するフィルム支持体は熱硬化室へ送られ、加熱されて硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。   The film support having the dried coating layer is fed from the drying chamber to the radiation curing chamber, irradiated with radiation, and the monomer contained in the coating layer is polymerized and cured. Further, the film support having a layer cured by radiation is sent to a thermosetting chamber and heated to complete the curing, and the film support having the layer that has been completely cured is wound up into a roll shape.

上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布室−乾燥室−放射線硬化室−熱硬化室をそれぞれ複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。生産性の観点から各層の形成を連続的に行う事が好ましい。   The above-described steps may be performed every time each layer is formed, or a plurality of coating chambers-drying chambers-radiation curing chambers-thermosetting chambers may be provided to form each layer continuously. It is preferable to form each layer continuously from the viewpoint of productivity.

各層の塗布を連続的に行う装置の構成例を図8に示す。この装置は、ロール状の支持体フィルム(以下、「ウェブ」と称する)Wを連続的に送り出す送出装置1と、ウェブWを巻き取る巻取装置2の間に製膜ユニット(支持体上に塗膜を形成するためのユニット)100、200、300、及び400を適宜必要な数だけ設置したものである。   An example of the configuration of an apparatus for continuously applying each layer is shown in FIG. This apparatus includes a film forming unit (on a support) between a feeding device 1 for continuously feeding a roll-shaped support film (hereinafter referred to as “web”) W and a winding device 2 for winding the web W. (Units for forming a coating film) 100, 200, 300, and 400 are installed as many as necessary.

図8で示される装置は、4層を巻き取ることなく連続的に塗布する際の構成の一例であるが、層構成に合わせて製膜ユニット数を変化させることは、もちろん可能である。   The apparatus shown in FIG. 8 is an example of a configuration in which four layers are continuously applied without winding up, but it is of course possible to change the number of film forming units in accordance with the layer configuration.

製膜ユニット100は、塗布液を塗布する工程101、塗膜を乾燥する工程102、塗膜を硬化する工程103から構成されている。他の製膜ユニット200、300、及び400も同様の構成である。塗布液を塗布する工程、塗膜を乾燥する工程、塗膜を硬化する工程については以下で詳述する。   The film forming unit 100 includes a process 101 for applying a coating liquid, a process 102 for drying a coating film, and a process 103 for curing the coating film. The other film forming units 200, 300, and 400 have the same configuration. The step of applying the coating liquid, the step of drying the coating film, and the step of curing the coating film will be described in detail below.

製膜ユニットが3つ設置された装置を用いて、ハードコート層(2)を塗布したロール状のウェブWを連続的に送り出し、中屈折率層(3)、高屈折率層(4)、低屈折率層(5)を各製膜ユニットで順次塗布した後に巻き取る事がより好ましく、製膜ユニットが4つ設置された、図8に示される装置を用いて、ロール状のウェブWを連続的に送り出し、ハードコート層(2)、中屈折率層(3)、高屈折率層(4)、低屈折率層(5)を各製膜ユニットで順次塗布した後に巻き取る事が更に好ましい。
〔塗布前の事前準備〕
本発明における、輝点欠陥の少ない反射防止フィルムを作成するためには、前記したように高屈折率層用塗布物中の高屈折率超微粒子分散度を精密に制御すること、及び塗布液の精密濾過操作が挙げられる。同様に、反射防止層を形成する各層は、上記の塗布部における塗布工程及び乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、ウェブW上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。
Using an apparatus in which three film forming units are installed, the roll-shaped web W coated with the hard coat layer (2) is continuously sent out, the medium refractive index layer (3), the high refractive index layer (4), It is more preferable that the low refractive index layer (5) is sequentially applied by each film forming unit and then wound, and the roll-shaped web W is formed using the apparatus shown in FIG. 8 in which four film forming units are installed. It is further possible to continuously feed and wind up the hard coat layer (2), the medium refractive index layer (3), the high refractive index layer (4), and the low refractive index layer (5) after being sequentially applied by each film forming unit. preferable.
[Preparation before application]
In order to produce an antireflection film with few bright spot defects in the present invention, as described above, it is necessary to precisely control the degree of dispersion of the high refractive index ultrafine particles in the coating material for the high refractive index layer, and Examples include microfiltration operation. Similarly, each layer forming the antireflection layer is formed on the web W before the coating process in the coating unit and the drying process performed in the drying chamber are performed in a highly clean air atmosphere, and before the coating is performed. It is preferable that dust and dust are sufficiently removed.

塗布工程及び乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格209Eにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス10(0.5μm以上の粒子が353個/(立方メートル)以下)以上であることが好ましく、クラス1(0.5μm以上の粒子が35.5個/(立方メートル)以下)以上であることが更に好ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことが好ましい。   The air cleanliness in the coating process and the drying process is preferably class 10 (353 particles / (cubic meter) or less of 0.5 μm or more) based on the standard of air cleanliness in the US Federal Standard 209E. More preferably, the number of particles is 1 (35.5 particles / 0.5 m or more). Moreover, it is preferable that air cleanliness is high also in sending out, winding-up parts, etc. other than a coating-drying process.

塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭59−150571号公報に記載の、ウェブ表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平10−309553号公報に記載の、清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をウェブ表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平7−333613号公報に記載される、超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法(伸興社製、ニューウルトラクリーナー等)等の乾式除塵法が挙げられる。   As a dust removal method used in a dust removal step as a pre-process for coating, a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-150571, a method of pressing a nonwoven fabric, a blade or the like on the web surface, described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-309553 A method of blowing air with high cleanliness at high speed to peel off deposits from the web surface and sucking it with a suction port close thereto, as described in JP-A-7-333613. For example, a dry dust removal method such as a method of peeling off and adhering the deposits (manufactured by Shinkosha, New Ultra Cleaner, etc.) can be used.

また、洗浄槽中にウェブを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭49−13020号公報に記載されている、ウェブに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行なう方法、特開2001−38306号に記載のように、ウェブを液体でぬらしたローラで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法又は湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。   In addition, a method of introducing a web into a cleaning tank and peeling off deposits with an ultrasonic vibrator, described in Japanese Patent Publication No. 49-13020, after supplying a cleaning liquid to the web, spraying and sucking high-speed air As described in JP-A-2001-38306, a wet dust removing method such as a method in which a web is continuously rubbed with a roller wetted with a liquid and then a liquid is sprayed onto the rubbed surface to perform cleaning. be able to. Among such dust removal methods, a method using ultrasonic dust removal or a method using wet dust removal is particularly preferable in terms of dust removal effect.

また、このような除塵工程を行う前に、ウェブ上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、UV、軟X線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、1000V以下が好ましく、300V以下がより好ましく、100V以下が更に好ましい。   In addition, it is particularly preferable to remove static electricity on the web before performing such a dust removal step from the viewpoint of increasing dust removal efficiency and suppressing adhesion of dust. As such a static elimination method, a corona discharge ionizer, a light irradiation ionizer such as UV or soft X-ray, or the like can be used. The charged voltage of the film support before and after dust removal and application is preferably 1000 V or less, more preferably 300 V or less, and even more preferably 100 V or less.

以下では塗布液を調製するために必要な要件について述べる。   The requirements necessary for preparing the coating solution are described below.

[塗布用分散媒]
本発明のハードコート層、低屈折率層の各層の塗布液を調製する際には、以下の分散溶媒を用いることができる。塗布用分散媒としては、特に限定されない。単独でも2種以上を混合して使用してもよい。
[Dispersion medium for coating]
When preparing the coating solution for each layer of the hard coat layer and the low refractive index layer of the present invention, the following dispersion solvents can be used. The dispersion medium for coating is not particularly limited. You may use individually or in mixture of 2 or more types.

好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、スチレン等の芳香族炭化水素類、クロルベンゼン、オルトージクロルベンゼン等の塩化芳香族炭化水素類、モノクロルメタン等のメタン誘導体、モノクロルエタン等のエタン誘導体等を含む塩化脂肪族炭化水素類、メタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、エチルエーテル、1,4 −ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、エチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ノルマルヘキサン等の脂肪族炭化水素類、脂肪族又は芳香族炭化水素の混合物等が該当する。   Preferred dispersion media include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and styrene, chlorinated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene and orthodichlorobenzene, methane derivatives such as monochloromethane, ethane derivatives such as monochloroethane, and the like. Chlorinated aliphatic hydrocarbons, alcohols such as methanol, isopropyl alcohol and isobutyl alcohol, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, ethers such as ethyl ether and 1,4-dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, Examples include ketones such as cyclohexanone, glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, aliphatic hydrocarbons such as normal hexane, and mixtures of aliphatic or aromatic hydrocarbons.

これら溶媒の中でも、ケトン類の単独又は2種以上の混合により作成される塗布用分散媒が特に好ましい。   Among these solvents, a dispersion medium for coating prepared by alone or mixing two or more ketones is particularly preferable.

[塗布液物性]
本発明の塗布方式は、液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御する必要がある。
[Coating liquid properties]
In the coating method of the present invention, the upper limit speed at which coating is possible is greatly affected by the liquid physical properties, so it is necessary to control the liquid physical properties, particularly the viscosity and surface tension at the moment of coating.

粘度については20.0mPa・秒以下であることが好ましく、10.0mPa・秒以下がより好ましく、5.0mPa・秒以下が更に好ましく、2.0mPa・秒以下が最も好ましい。   The viscosity is preferably 20.0 mPa · sec or less, more preferably 10.0 mPa · sec or less, further preferably 5.0 mPa · sec or less, and most preferably 2.0 mPa · sec or less.

塗布液によっては、せん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると、乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。   Depending on the coating solution, the viscosity may change depending on the shear rate, and the above value indicates the viscosity at the shear rate at the moment of application. When a thixotropic agent is added to the coating solution, the viscosity is low when coating with high shear and the viscosity is high when drying where the coating solution is hardly sheared.

また、液物性ではないが、ウェブに塗布される塗布液の量も、塗布可能な上限の速度に影響を与える。ウェブに塗布される塗布液の量は2.0〜5.0ml/mであることが好ましい。ウェブに塗布される塗布液の量を増やすと、塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、ウェブに塗布される塗布液の量を増やしすぎると、乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適なウェブに塗布される塗布液の量を決めることが好ましい。 Moreover, although it is not a liquid physical property, the quantity of the coating liquid apply | coated to a web also affects the upper limit speed | rate which can be apply | coated. It is preferred that the amount of coating solution applied to the web is 2.0~5.0ml / m 2. Increasing the amount of the coating liquid applied to the web is preferable because the upper limit of the coating speed can be increased. However, if the amount of the coating liquid applied to the web is excessively increased, the load on drying increases. -It is preferable to determine the optimal amount of coating solution to be applied to the web according to the process conditions.

表面張力については、15〜36mN/mの範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは、乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると、塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、17〜32mN/mの範囲がより好まく、19〜26mN/mの範囲が更に好ましい。   The surface tension is preferably in the range of 15 to 36 mN / m. It is preferable to reduce the surface tension by adding a leveling agent or the like because unevenness during drying is suppressed. On the other hand, if the surface tension is too low, the upper limit speed at which coating is possible decreases, so the range of 17 to 32 mN / m is more preferred, and the range of 19 to 26 mN / m is even more preferred.

[濾過]
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲で、できるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が0.1〜10μmのフィルターが用いられ、更には絶対濾過精度が0.1〜5μmであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルターの厚さは、0.1〜10mmが好ましく、更には0.2〜2mmが好ましい。その場合、ろ過圧力は1.5MPa(15kgf/cm)以下、より好ましくは1.0MPa(10kgf/cm )以下、更には0.2MPa(2kgf/cm )以下で濾過することが好ましい。
[filtration]
The coating solution used for coating is preferably filtered before coating. As a filter for filtration, it is preferable to use a filter having a pore diameter as small as possible within a range in which components in the coating solution are not removed. For filtration, a filter having an absolute filtration accuracy of 0.1 to 10 μm is used, and a filter having an absolute filtration accuracy of 0.1 to 5 μm is preferably used. The thickness of the filter is preferably 0.1 to 10 mm, and more preferably 0.2 to 2 mm. In that case, the filtration pressure is preferably 1.5 MPa (15 kgf / cm 2 ) or less, more preferably 1.0 MPa (10 kgf / cm 2 ) or less, and further 0.2 MPa (2 kgf / cm 2 ) or less.

ろ過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ、特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。   The filtration filter member is not particularly limited as long as it does not affect the coating solution. Specifically, the same thing as the filtration member of the wet dispersion of an inorganic compound mentioned above is mentioned.

また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
〔塗布工程〕
反射防止フィルムの各層の塗布方法としては、スロットダイを用いた塗布方式が好ましい。更に、後述するようにスロットダイを用いると、高速で塗布する際の膜厚ムラの発生が抑えられ、より好ましい。
It is also preferable to ultrasonically disperse the filtered coating solution immediately before coating to assist defoaming and dispersion holding of the dispersion.
[Coating process]
As a coating method of each layer of the antireflection film, a coating method using a slot die is preferable. Furthermore, as will be described later, the use of a slot die is more preferable because the occurrence of film thickness unevenness when applied at high speed is suppressed.

[ダイコーターの構成]
図9は、本発明の実施の際に使用したスロットダイを用いたコーターの断面図である。コーター10はバックアップローラ11に支持されて連続走行するウェブWに対して、スロットダイ13から塗布液14をビード14aにして塗布することにより、ウェブW上に塗膜14bを形成する。
[Configuration of die coater]
FIG. 9 is a cross-sectional view of a coater using a slot die used in the practice of the present invention. The coater 10 applies a coating liquid 14 from the slot die 13 to the bead 14a on the web W that is continuously supported by the backup roller 11 to form a coating film 14b on the web W.

スロットダイ13の内部にはポケット15、スロット16が形成されている。ポケット15は、その断面が曲線及び直線で構成されており、たとえば、図9に示されるような略円形でもよいし、又は半円形でもよい。ポケット15は、スロットダイ13の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。   Inside the slot die 13, a pocket 15 and a slot 16 are formed. The pocket 15 has a curved section and a straight section in cross section. For example, the pocket 15 may have a substantially circular shape as shown in FIG. 9 or a semicircular shape. The pocket 15 is a liquid storage space for the coating liquid extended in the width direction of the slot die 13 with its cross-sectional shape, and the length of the effective extension is generally equal to or slightly longer than the coating width.

ポケット15への塗布液14の供給は、スロットダイ13の側面から、又はスロット開口部16aとは反対側の面の中央から行う。また、ポケット15には塗布液14が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。   The supply of the coating liquid 14 to the pocket 15 is performed from the side surface of the slot die 13 or from the center of the surface opposite to the slot opening 16a. The pocket 15 is provided with a stopper that prevents the coating liquid 14 from leaking out.

スロット16は、ポケット15からウェブWへの塗布液14の流路であり、ポケット15と同様にスロットダイ13の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部16aは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット16のスロット先端における、バックアップローラ11のウェブ走行方向の接線とのなす角は、30°以上90°以下が好ましい。   The slot 16 is a flow path of the coating liquid 14 from the pocket 15 to the web W, and has a cross-sectional shape in the width direction of the slot die 13 similarly to the pocket 15, and the opening 16a located on the web side is generally Using a width regulating plate (not shown), the width is adjusted to be approximately the same as the coating width. The angle between the slot tip of the slot 16 and the tangent in the web running direction of the backup roller 11 is preferably 30 ° or more and 90 ° or less.

スロット16の開口部16aが位置するスロットダイ13の先端リップ17は、先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部18とされている。このランド18であって、スロット16に対してウェブWの走行方向の上流側を上流側リップランド18a、下流側を下流側リップランド18bと称する。   The tip lip 17 of the slot die 13 where the opening 16a of the slot 16 is located is tapered, and the tip is a flat portion 18 called a land. In this land 18, the upstream side in the running direction of the web W with respect to the slot 16 is referred to as an upstream lip land 18 a and the downstream side is referred to as a downstream lip land 18 b.

図10は、スロットダイ13の断面形状を従来のものと比較して示すもので、(A)は、本発明のスロットダイ13を示し、(B)は、従来のスロットダイ30を示している。従来のスロットダイ30では、上流側リップランド31aと下流側リップランド31bのウェブWとの距離は等しい。なお、(B)において、符号32はポケット、33はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ13では、下流側リップランド長さILOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が20μm以下の塗布を精度よく行うことができる。   FIG. 10 shows the cross-sectional shape of the slot die 13 in comparison with the conventional one, (A) shows the slot die 13 of the present invention, and (B) shows the conventional slot die 30. . In the conventional slot die 30, the distance between the upstream lip land 31a and the web W of the downstream lip land 31b is equal. In (B), reference numeral 32 denotes a pocket, and 33 denotes a slot. On the other hand, in the slot die 13 of the present invention, the downstream side lip land length ILO is shortened, so that application with a wet film thickness of 20 μm or less can be accurately performed.

上流側リップランド18aのランド長さIUPは特に限定はされないが、100μm〜1mmの範囲が好ましく採用される。下流側リップランド18bのランド長さILOは30μm以上100μm以下であり、好ましくは30μm以上80μm以下、更に好ましくは30μm以上60μm以下である。   The land length IUP of the upstream lip land 18a is not particularly limited, but a range of 100 μm to 1 mm is preferably employed. The land length ILO of the downstream lip land 18b is 30 μm or more and 100 μm or less, preferably 30 μm or more and 80 μm or less, more preferably 30 μm or more and 60 μm or less.

下流側リップのランド長さILOが30μmよりも短い場合は、先端リップ17のエッジ又はランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。   If the land length ILO of the downstream lip is shorter than 30 μm, the edge or land of the tip lip 17 is likely to be chipped, streaks are likely to occur in the coating film, and as a result, application becomes impossible. In addition, it becomes difficult to set the position of the wetting line on the downstream side, and there is a problem that the coating liquid tends to spread on the downstream side. It has been conventionally known that this spreading of the coating liquid on the downstream side means non-uniform wetting lines and leads to a problem of causing a defective shape such as a streak on the coating surface.

一方、下流側リップのランド長さILOが100μmよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。   On the other hand, when the land length ILO of the downstream lip is longer than 100 μm, the bead itself cannot be formed, so that it is impossible to perform thin layer coating.

更に、下流側リップランド18bは、上流側リップランド18aよりもウェブWに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて、薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド18bと上流側リップランド18aのウェブWとの距離の差(以下、オーバーバイト長さLOと称する)は30μm以上120μm以下が好ましく、更に好ましくは30μm以上100μm以下、最も好ましくは30μm以上80μm以下である。   Further, the downstream lip land 18b has an overbite shape closer to the web W than the upstream lip land 18a. Therefore, the degree of decompression can be reduced, and a bead suitable for thin film coating can be formed. The difference in distance between the downstream side lip land 18b and the web W of the upstream side lip land 18a (hereinafter referred to as overbit length LO) is preferably 30 μm or more and 120 μm or less, more preferably 30 μm or more and 100 μm or less, and most preferably 30 μm. It is 80 μm or less.

スロットダイ13がオーバーバイト形状のとき、先端リップ17とウェブWの隙間GLとは、下流側リップランド18bとウェブWの隙間を示す。   When the slot die 13 has an overbite shape, the gap GL between the tip lip 17 and the web W indicates the gap between the downstream lip land 18b and the web W.

図11は、本発明の実施に使用された塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブWが走行する側とは反対側に、ビード14aに対して充分な減圧調整を行えるよう、ウェブWに接触しない位置に減圧チャンバー40を設置する。減圧チャンバー40は、その作動効率を保持するためのバックプレート40aとサイドプレート40bを備えており、バックプレート40aとウェブWの間、サイドプレート40bとウェブWの間にはそれぞれ隙間GB、GSが存在する。   FIG. 11 is a perspective view showing the slot die and its periphery in the coating process used in the practice of the present invention. On the side opposite to the side on which the web W travels, the decompression chamber 40 is installed at a position where it does not contact the web W so that sufficient decompression adjustment can be performed on the bead 14a. The decompression chamber 40 includes a back plate 40a and a side plate 40b for maintaining its operating efficiency. There are gaps GB and GS between the back plate 40a and the web W, and between the side plate 40b and the web W, respectively. Exists.

図12及び図13は、近接している減圧チャンバー40とウェブWを示す断面図である。サイドプレート40bとバックプレート40aは、図12のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図13のように適宜隙間を変えられるように、チャンバーにネジ40cなどで留められている構造でもよい。   12 and 13 are cross-sectional views showing the decompression chamber 40 and the web W that are close to each other. The side plate 40b and the back plate 40a may be integrated with the chamber body as shown in FIG. 12, or are fastened to the chamber with screws 40c or the like so that the gap can be appropriately changed as shown in FIG. It may be a structure.

いかなる構造であっても、バックプレート40aとウェブWの間、サイドプレート40bとウェブWの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間GB、GSと定義する。減圧チャンバー40のバックプレート40aとウェブWとの隙間GBとは、減圧チャンバー40を図11のようにウェブW及びスロットダイ13の下方に設置した場合、バックプレート40aの最上端からウェブWまでの隙間を示す。   Regardless of the structure, portions that are actually opened between the back plate 40a and the web W and between the side plate 40b and the web W are defined as gaps GB and GS, respectively. The gap GB between the back plate 40a of the decompression chamber 40 and the web W is the distance from the uppermost end of the back plate 40a to the web W when the decompression chamber 40 is installed below the web W and the slot die 13 as shown in FIG. Indicates a gap.

バックプレート40aとウェブWとの隙間GBを、スロットダイ13の先端リップ17とウェブWとの隙間GLよりも大きくして設置するのが好ましい。これにより、バックアップローラ11の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。   The gap GB between the back plate 40a and the web W is preferably set larger than the gap GL between the tip lip 17 of the slot die 13 and the web W. Thereby, it is possible to suppress a change in the degree of decompression in the vicinity of the bead due to the eccentricity of the backup roller 11.

たとえば、スロットダイ13の先端リップ17とウェブWとの隙間GLが30μm以上100μm以下のとき、バックプレート40aとウェブWの間の隙間GBは100μm以上500μm以下とするのが好ましい。   For example, when the gap GL between the tip lip 17 of the slot die 13 and the web W is not less than 30 μm and not more than 100 μm, the gap GB between the back plate 40 a and the web W is preferably not less than 100 μm and not more than 500 μm.

[材質、精度]
ウェブWの走行方向側の先端リップ17のウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が20μm以内とすることが好ましい。
[Material and accuracy]
The longer the length in the web traveling direction of the tip lip 17 on the traveling direction side of the web W, the more disadvantageous it is for bead formation. If this length varies between arbitrary points in the slot die width direction, the bead is caused by a slight disturbance. Becomes unstable. Therefore, it is preferable that the fluctuation width in the slot die width direction is within 20 μm.

また、スロットダイの先端リップ17の材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップ17のウェブ走行方向における長さを30〜100μmの範囲にしても、先端リップ17の精度を満足できない。   Further, when the material of the tip lip 17 of the slot die is made of a material such as stainless steel, the length of the slot die tip lip 17 in the web running direction is set to 30 as described above. Even in the range of ˜100 μm, the accuracy of the tip lip 17 cannot be satisfied.

したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第2817053号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップ17を、平均粒径5μm以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。   Therefore, in order to maintain high processing accuracy, it is important to use a cemented carbide material as described in Japanese Patent No. 2817053. Specifically, at least the tip lip 17 of the slot die is preferably made of a cemented carbide formed by bonding carbide crystals having an average particle size of 5 μm or less.

超硬合金としては、タングステンカーバイド(以下、WCと称す)などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることもできる。WC結晶の平均粒径としては、粒径3μm以下が更に好ましい。   Cemented carbides include carbide crystal particles such as tungsten carbide (hereinafter referred to as WC) bonded by a bonding metal such as cobalt, and other bonding metals include titanium, tantalum, niobium, and mixed metals thereof. Can also be used. The average particle size of the WC crystal is more preferably 3 μm or less.

高精度な塗布を実現するためには、先端リップ17のウェブ走行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、すなわち、隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が5μm以下になるように先端リップ17とバックアップローラ11との真直度を出す。   In order to achieve highly accurate coating, the length of the land on the web running direction side of the tip lip 17 and the variation in the slot die width direction of the gap with the web are also important factors. It is desirable to achieve a combination of the two factors, that is, straightness within a range in which the fluctuation range of the gap can be suppressed to some extent. Preferably, the straightness between the tip lip 17 and the backup roller 11 is set so that the fluctuation width of the gap in the slot die width direction is 5 μm or less.

[塗布速度]
上記のようなバックアップローラ11及び先端リップ17の精度を達成することにより、本発明で採用する塗布方式は、高速塗布時における膜厚の安定性が高い。更に、本発明で採用する塗布方式は、前計量方式であるために、高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。
[Application speed]
By achieving the accuracy of the backup roller 11 and the tip lip 17 as described above, the coating method employed in the present invention has high film thickness stability during high-speed coating. Furthermore, since the coating method employed in the present invention is a pre-measuring method, it is easy to ensure a stable film thickness even during high-speed coating.

本発明の反射防止フィルムのような低塗布量の塗布液に対して、本発明で採用する塗布方式は、高速で膜厚安定性よく塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法、マイクログラビア法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。   The coating method employed in the present invention can be applied at high speed and with good film thickness stability to a coating solution having a low coating amount such as the antireflection film of the present invention. Although application is possible by other application methods, the dip coating method inevitably causes vibration of the application liquid in the liquid receiving tank, and stepped unevenness is likely to occur. In the reverse roll coating method and the micro gravure method, stepped unevenness is likely to occur due to roll eccentricity and deflection related to coating.

また、マイクログラビア法では、グラビアロールの製作精度や、ブレードとグラビアロールの当たりによるロールやブレードの経時変化により塗布量ムラを発生しやすい。また、これらの塗布方式は、後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。本発明の製造方法を用いることにより、25m/分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。   Also, in the microgravure method, coating amount unevenness is likely to occur due to the manufacturing accuracy of the gravure roll and the change with time of the roll and blade due to the contact between the blade and the gravure roll. Moreover, since these application methods are post-measuring methods, it is difficult to ensure a stable film thickness. By using the production method of the present invention, it is preferable from the viewpoint of productivity to apply at a rate of 25 m / min or more.

<乾燥工程>
乾燥速度を制御する方法の代表的な方法としては、塗布機の直後に乾燥ゾーンを設け、乾燥ゾーン内の環境を制御することで乾燥速度を制御する乾燥工程を設置するものである。以下にいくつかの代表的な例を挙げて説明する。
<Drying process>
As a typical method for controlling the drying speed, a drying zone is provided immediately after the coating machine, and a drying process for controlling the drying speed by controlling the environment in the drying zone is provided. Some typical examples will be described below.

例えば特開平9−73016号公報には、下記の方法が記載されている。塗布直後に、塗布膜表面の気体の移動速度を搬送される塗布膜の移動速度に対して−0.1m/sec以上0.1m/sec以下の相対速度となるように制御するための乾燥工程を設け、抑制下で乾燥を行う。この塗膜を加温、あるいは冷却することで乾燥速度の制御を行うことができる。   For example, Japanese Patent Laid-Open No. 9-73016 describes the following method. Immediately after coating, a drying step for controlling the moving speed of the gas on the surface of the coating film so as to be a relative speed of −0.1 m / sec or more and 0.1 m / sec or less with respect to the moving speed of the coating film being conveyed And drying under control. The drying rate can be controlled by heating or cooling the coating film.

上記乾燥工程の一例を、図14を参照しながら詳しく説明する。ウェブ110を搬送しながら、その表面に、塗布機111により塗布液を塗布して塗布膜を形成する。図14では塗布機の一例としてワイヤーバー塗布機の図が示されているが、本発明では塗布機はワイヤーバー塗布機に限定されるものではない。塗布膜を有するウェブ(以下、塗布ウェブと称する)110aは整流板112に沿って乾燥ゾーン113に搬送され、更に加熱ゾーン114に搬送される。但し、加熱ゾーン114では、残留溶剤を蒸発させるための乾燥も行なわれる。本発明では、塗布直後から加熱ゾーン114に入るまでは、塗布膜にでき
るだけ風を当てることなく行なわれる。即ち、整流板112を過ぎた後の乾燥ゾーン113の金網116から塗布室給気口からの風(ほぼフィルムの搬送速度と同じ風速、風向の風)が導入される。塗布室給気口からの風は、塗布室排気口から排気されると共に、乾燥ゾーン113から多孔板115及び金網116を介して排気孔117から排気される。このような金網や多孔板を配置することによって、風速、風向の急激な変化がほとんど起こらない。
An example of the drying step will be described in detail with reference to FIG. While the web 110 is being transported, a coating film is formed on the surface of the web 110 by applying a coating solution using a coating machine 111. Although FIG. 14 shows a diagram of a wire bar coating machine as an example of a coating machine, in the present invention, the coating machine is not limited to a wire bar coating machine. A web 110 a having a coating film (hereinafter referred to as a coating web) 110 a is conveyed along the current plate 112 to the drying zone 113 and further conveyed to the heating zone 114. However, in the heating zone 114, drying for evaporating the residual solvent is also performed. In the present invention, the process from immediately after coating to the heating zone 114 is performed with as little wind as possible on the coating film. That is, the wind from the coating chamber air supply port (the wind speed and the wind direction which is substantially the same as the film conveyance speed) is introduced from the wire mesh 116 of the drying zone 113 after passing the current plate 112. The wind from the coating chamber air supply port is exhausted from the coating chamber exhaust port and is exhausted from the drying zone 113 through the exhaust plate 117 through the perforated plate 115 and the metal mesh 116. By arranging such a wire mesh or perforated plate, there is almost no sudden change in the wind speed and direction.

整流板112と塗布ウェブ111aの間隙は1mm〜10mmが一般的である。整流板112の長さは、1m〜15mが好ましい。乾燥ゾーン113の温度は、10℃〜50℃が好ましい。乾燥ゾーン113の条件を上記のようにすることによって、乾燥時に、塗布ウェブ111aの移動速度(搬送速度)との相対速度が−0.1m/sec以上0.1m/sec以下の風を塗布膜に当てる(即ち、気体層を移動させる)ことようにすることが好ましい。   The gap between the current plate 112 and the coating web 111a is generally 1 mm to 10 mm. The length of the rectifying plate 112 is preferably 1 m to 15 m. The temperature of the drying zone 113 is preferably 10 ° C to 50 ° C. By setting the conditions of the drying zone 113 as described above, a wind having a relative speed with respect to the moving speed (conveying speed) of the coating web 111a of −0.1 m / sec to 0.1 m / sec is applied during drying. It is preferable to apply to (that is, move the gas layer).

また、特開2001−170547号公報には以下の方法が記載されており、本発明にも好ましく適用できる。塗布直後に乾燥ゾーンを設けて乾燥ゾーンにより塗布膜面を囲み、更に長尺支持体幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させている。この乾燥風は塗布膜に含まれる分散媒と同一の溶剤ガスを含んでおり、風速及び溶剤ガスの含有量を制御することによって乾燥速度を制御することができる。更に、前記乾燥ゾーンを複数の分割ゾーンに分割し、分割した各分割ゾーンの前記一方向流れの乾燥風の風速及び溶剤ガスの含有量を調整することで、乾燥速度の制御をより詳細に行うこと
ができる。
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-170547 describes the following method, which can be preferably applied to the present invention. Immediately after coating, a drying zone is provided to surround the coating film surface by the drying zone, and further, a one-way flow of drying air flowing from one end side to the other end side in the long support width direction is generated. This drying air contains the same solvent gas as the dispersion medium contained in the coating film, and the drying speed can be controlled by controlling the wind speed and the content of the solvent gas. Further, the drying zone is divided into a plurality of divided zones, and the drying speed is controlled in more detail by adjusting the speed of drying air and the content of solvent gas in the one-way flow in each divided zone. be able to.

図15は、本発明に用いられる乾燥装置130の一例の側面図であり、また、図16は図15の乾燥装置130を上方から見た平面図である。   15 is a side view of an example of the drying device 130 used in the present invention, and FIG. 16 is a plan view of the drying device 130 of FIG. 15 as viewed from above.

図15及び図16に示す塗布膜の乾燥装置130は、連続走行するウェブ131を通過させて塗布膜の乾燥が行なわれる乾燥ゾーンを形成する乾燥装置本体132と、乾燥ゾーン内にウェブ131幅方向の一方端側から他方端側に流れる一方向流れの乾燥風を発生させる一方向気流発生手段パイプ133〜139とで構成される。この乾燥装置130は、走行するウェブ131に有機溶剤を含む塗布液を塗布する塗布機140の直後に設けられる。   The coating film drying apparatus 130 shown in FIGS. 15 and 16 includes a drying apparatus main body 132 that forms a drying zone in which the coating film is dried by passing the web 131 that runs continuously, and the width of the web 131 in the drying zone. Unidirectional airflow generating means pipes 133 to 139 for generating a unidirectional flow of drying air flowing from one end side to the other end side. The drying device 130 is provided immediately after the coating machine 140 that applies a coating solution containing an organic solvent to the traveling web 131.

塗布機140としては、例えば、ワイヤーバー141を備えたバー塗布装置を使用することができ、複数のバックアップローラ142、143、144に支持されて走行するウェブ131の下面に塗布液が塗布されて塗布膜が形成される。図15及び図16では塗布機の一例としてワイヤーバー塗布機の図が示されているが、本発明では塗布機はワイヤーバー塗布機に限定されるものではない。   As the applicator 140, for example, a bar applicator provided with a wire bar 141 can be used, and an application liquid is applied to the lower surface of the web 131 that is supported by a plurality of backup rollers 142, 143, and 144. A coating film is formed. 15 and 16 show a wire bar coating machine as an example of a coating machine. However, in the present invention, the coating machine is not limited to a wire bar coating machine.

乾燥装置本体132は、塗布機140の直後に設けられ、走行するウェブ131の塗布膜面側(ウェブの下面側)に沿った長四角な箱体状に形成され、箱体の各辺のうちの塗布膜面側の辺(箱体の上辺)が切除されている。これにより、走行する塗布ウェブ131aの乾燥される塗布膜面を囲む乾燥ゾーンが形成される。乾燥ゾーンは、乾燥装置本体132を、塗布ウェブ131aの走行方向に直交した複数の仕切板145a〜145fで仕切ることにより、複数の乾燥ゾーン146a〜146g(本実施形態では7つの分割ゾーン)に分割される。この場合、乾燥ゾーン146a〜146gを分割する仕切板145a〜
145fの上端と、塗布ウェブ131aに形成された塗布膜面との距離は、0.5mm〜12mmの範囲が好ましく、更に好ましくは1mm〜10mmの範囲である。また、各乾燥ゾーン146a〜146gには一方向気流発生手段133〜139(図16参照)が設けられている。
The drying apparatus main body 132 is provided immediately after the coating machine 140, is formed in a long rectangular box shape along the coating film surface side (the lower surface side of the web) of the traveling web 131, and is formed from each side of the box body. The side of the coated film surface side (the upper side of the box) is cut off. Thereby, the drying zone surrounding the coating film surface to be dried of the traveling coating web 131a is formed. The drying zone is divided into a plurality of drying zones 146a to 146g (seven division zones in this embodiment) by partitioning the drying apparatus main body 132 with a plurality of partition plates 145a to 145f orthogonal to the traveling direction of the coating web 131a. Is done. In this case, the partition plates 145a to divide the drying zones 146a to 146g.
The distance between the upper end of 145f and the coating film surface formed on the coating web 131a is preferably in the range of 0.5 mm to 12 mm, more preferably in the range of 1 mm to 10 mm. Each drying zone 146a to 146g is provided with unidirectional airflow generating means 133 to 139 (see FIG. 16).

一方向気流発生手段133〜139は、主として、乾燥装置本体132の両側辺の一方側に形成された吸込口と、他方側に吸込口に対向して形成された排気口と、排気口接続された排気手段とで構成される。これにより、排気手段を駆動させることにより、吸込口から各乾燥ゾーン146a〜146gに吸い込まれた空気が排気口から排気されるので、各乾燥ゾーン146a〜146gには、塗布ウェブ131a幅方向の一方端側(吸込口側)から他方端側(排気口側)に向けて一方向に流れる乾燥風が発生する。この一方向気流発生手段133〜139は、排気手段により、乾燥ゾーン146a〜146gごとに個々に
排気量を制御できるようになっている。吸込口から吸い込まれる乾燥風としては、温度・湿度が空調された空調風が好ましい。また、吸込口から吸い込まれる乾燥風としては、乾燥風中に塗布液の塗布用分散媒のガスが濃度を制御されて含まれていることが好ましい。
The one-way airflow generating means 133 to 139 are mainly connected to the suction port formed on one side of the both sides of the drying apparatus main body 132 and the exhaust port formed opposite to the suction port on the other side. And exhaust means. Thus, by driving the exhaust means, the air sucked into the drying zones 146a to 146g from the suction port is exhausted from the exhaust ports, so that each drying zone 146a to 146g has one side in the width direction of the coating web 131a. Dry air flowing in one direction is generated from the end side (suction port side) to the other end side (exhaust port side). The unidirectional airflow generation means 133 to 139 can individually control the exhaust amount for each of the drying zones 146a to 146g by the exhaust means. The dry air sucked from the suction port is preferably air-conditioned air that has been air-conditioned at temperature and humidity. In addition, as the drying air sucked from the suction port, it is preferable that the concentration of the dispersion medium gas for applying the coating liquid is controlled in the drying air.

また、乾燥装置本体132の幅はウェブ131の幅よりも大きくなるように形成して、乾燥ゾーン146a〜146gの両側の開放部分を整風板147、148で蓋をした整風部分を設けるようにした。この整風部分は、吸込口から塗布膜端までの距離と、塗布膜端から排気口までの距離を確保すると共に、乾燥風が吸込口のみから乾燥ゾーン146a〜146g内に吸い込まれ易くするもので、乾燥ゾーン146a〜146gに急激な乾燥風の流れを作らないようにしたものである。この整風部分、即ち整風板147、148の長さとしては、吸込口側及び排気口側ともに、50mm以上150mm以下の範囲が好ましい。   Further, the width of the drying apparatus main body 132 is formed so as to be larger than the width of the web 131, and the opening portions on both sides of the drying zones 146a to 146g are provided with wind adjusting portions covered with the air adjusting plates 147 and 148, respectively. . This air conditioning portion secures a distance from the suction port to the coating film end and a distance from the coating film end to the exhaust port, and makes it easy for the drying air to be sucked into the drying zones 146a to 146g only from the suction port. In the drying zones 146a to 146g, a rapid flow of drying air is prevented. The length of the air conditioning portion, that is, the air conditioning plates 147 and 148, is preferably in the range of 50 mm or more and 150 mm or less on both the suction port side and the exhaust port side.

各乾燥ゾーン146a〜146gのうち、特に塗布機140に一番近い乾燥ゾーン146aは、ウェブ131に塗布液が塗布された直後に、乾燥ゾーン146a外の新鮮な空気、例えば上記した空調風が乾燥ゾーン146aに入り込みにくくすることが重要である。この為には、塗布機140に隣接するように分割ゾーン146aを配置することや前記した整風板147、148の他に、塗布機140のワイヤーバー141の位置と、バックアップローラ143の位置を調整し、ウェブ131が乾燥ゾーン146aの直近を走行するようにして、塗布ウェブ131aで乾燥ゾーン146aの開放部をあたかも蓋をするように構成することが好ましい。また、塗布ウェブ131aを挟んで、乾燥装置本体132の反対側位置には、前記空調風等の風により、塗布ウェブ131aの安定走行が阻害されないように遮蔽板149を設けることが好ましい。   Among the drying zones 146a to 146g, particularly the drying zone 146a closest to the coating machine 140 is dried immediately after the coating liquid is applied to the web 131, and fresh air outside the drying zone 146a, for example, the conditioned air described above is dried. It is important to make it difficult for the zone 146a to enter. For this purpose, the division zone 146a is disposed adjacent to the coating machine 140, and the position of the wire bar 141 and the position of the backup roller 143 of the coating machine 140 are adjusted in addition to the air conditioning plates 147 and 148 described above. It is preferable that the web 131 travels in the immediate vicinity of the drying zone 146a so that the open portion of the drying zone 146a is covered with the coated web 131a. In addition, it is preferable to provide a shielding plate 149 at a position opposite to the drying apparatus main body 132 with the coating web 131a interposed therebetween so that the stable running of the coating web 131a is not hindered by the air such as the air-conditioning wind.

また、特開2003−93954号公報においては、特開2001−170547号公報と同様に塗布直後に乾燥ゾーンを設置し、塗膜の膜面に対峙して複数の穴を持った整風板が設置されており、穴の開口率や塗膜と整風板の間隔を制御することで乾燥速度が制御出来ることを示している。   In JP 2003-93954 A, as in JP 2001-170547 A, a drying zone is installed immediately after coating, and a wind regulation plate having a plurality of holes facing the film surface of the coating film is installed. It shows that the drying rate can be controlled by controlling the aperture ratio of the holes and the distance between the coating film and the wind control plate.

図17は、本発明に用いられる乾燥装置160の一例の側面図であり、図18は図17の上面図である。また、図19には、図17の乾燥装置160の要部断面図を示す。なお、図18では、後述する上蓋を取り外して示している。   FIG. 17 is a side view of an example of the drying device 160 used in the present invention, and FIG. 18 is a top view of FIG. FIG. 19 is a cross-sectional view of a main part of the drying device 160 in FIG. In FIG. 18, an upper lid described later is removed.

乾燥装置160は、搬送ローラ161、162、163に支持され搬送されているウェブ164に塗布装置165のワイヤーバー166で塗布液を塗布し塗布膜を乾燥させる。   The drying device 160 applies a coating solution to the web 164 supported and transported by the transport rollers 161, 162, and 163 by the wire bar 166 of the coating device 165, and dries the coating film.

なお、塗布膜が形成されているウェブを塗布ウェブ164aと称する。乾燥装置160は、塗布膜を乾燥させるために用いられ、7分割された乾燥ゾーン167、168、169、170、171、172、173から構成されている。図17、図18及び図19では塗布機の一例としてワイヤーバー塗布機の図が示されているが、本発明に用いられる塗布機はワイヤーバー塗布機に限定されるものではない。これら各乾燥ゾーン167〜173を順次通過することにより、塗布液から有機溶媒のガスが発生して塗布ウェブ164a上に塗布膜が形成される。   The web on which the coating film is formed is referred to as a coating web 164a. The drying device 160 is used to dry the coating film, and includes seven drying zones 167, 168, 169, 170, 171, 172, and 173. 17, 18 and 19 show a wire bar coating machine as an example of a coating machine, but the coating machine used in the present invention is not limited to a wire bar coating machine. By sequentially passing through each of these drying zones 167 to 173, a gas of an organic solvent is generated from the coating liquid, and a coating film is formed on the coating web 164a.

図18に示すようにそれぞれの乾燥ゾーン167〜173の一方の側には、排気口174、175、176、177、178、179、180を有し、排気装置181に接続している。なお、それぞれの排気口174〜180は、排気装置181により個々に排気できるようになっている。また他方には、通風口182、183、184、185、186、187、188が取り付けられ大気(空気であっても良いし、その他のガスであっても良い)が乾燥ゾーン内に入りこむ構成になっている。なお、各排気口及び各通風口には排気パイプ及び吸気パイプ(いずれも図示しない)が取り付けられている。   As shown in FIG. 18, exhaust ports 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180 are provided on one side of the respective drying zones 167 to 173, and are connected to the exhaust device 181. The exhaust ports 174 to 180 can be individually exhausted by the exhaust device 181. On the other hand, ventilation openings 182, 183, 184, 185, 186, 187, and 188 are attached so that the atmosphere (air or other gas) can enter the drying zone. It has become. An exhaust pipe and an intake pipe (both not shown) are attached to each exhaust port and each ventilation port.

図19には、7分割された乾燥ゾーンのうち乾燥ゾーン168の断面図を示した。乾燥ゾーン168は、乾燥ゾーン本体168aと整風板190とが備えられている。乾燥ゾーン本体168aは、ウェブ164を通す通路室191と、蒸発した溶媒ガスを排気する排気室192とを備えている。また、整風板190は、通路室191と排気室192とを仕切るように設けられている。排気室192には、排気パイプ193と吸気パイプ194とが取り付けられ、その吸気パイプ194により排気室192内に空気(その他のガスであても良い)が送られる。また、吸気パイプ194と排気パイプ193とは、ウェブ164の幅方向に取り付けられており、ウェブ164の幅方向に空気が流れ、空気流195が形成される。   FIG. 19 shows a cross-sectional view of the drying zone 168 among the seven drying zones. The drying zone 168 includes a drying zone body 168a and a wind regulation plate 190. The drying zone body 168a includes a passage chamber 191 through which the web 164 passes and an exhaust chamber 192 that exhausts the evaporated solvent gas. Further, the air conditioning plate 190 is provided so as to partition the passage chamber 191 and the exhaust chamber 192. An exhaust pipe 193 and an intake pipe 194 are attached to the exhaust chamber 192, and air (which may be other gas) is sent into the exhaust chamber 192 through the intake pipe 194. The intake pipe 194 and the exhaust pipe 193 are attached in the width direction of the web 164, and air flows in the width direction of the web 164 to form an air flow 195.

整風板190の開口率、材料などは特に限定されないが、50%以下の開口率である金網やパンチングメタルなどが好ましく、開口率が20%〜40%であることがより好ましい。具体的には、300メッシュで開口率30%の金網を用いることができる。また、塗膜面164bと整風板190との隙間が広いと空気の渦が発生し、塗膜面164bにムラが生じる原因となる。そこで、風の流れをコントロールするために、塗膜面164bと整風板190との隙間Cを3mm〜30mmとすることが好ましく、より好ましくは、5mm〜15mmである。また、ウェブ164裏面(塗布膜が形成されていない面)及びサイ
ドからの不必要な風の流れを抑制するためにシール部材である上蓋196及びサイドシール197、198を取り付けている。なお、整風板190には、開口率を調整するために金網を用いているが、金網に限らずパンチメタル等で開口率を決定することも可能である。上記乾燥工程によれば、塗布膜中の有機溶媒が蒸発したガス(通常は、気化した溶媒が高濃度に含まれている)199は、整風板190の孔190aを通過して、塗膜面164bに対して整風板190の反対側を通る排気室192の乾燥風195によりウェブの幅方向に均一に排気パイプ193から排気され乾燥ゾーン168外に排出される。このため、塗膜面164bに乾燥風が触れることが無く、塗膜面164bにムラが発生することが抑制される。
The aperture ratio, material, etc. of the air conditioning plate 190 are not particularly limited, but a wire net or punching metal having an aperture ratio of 50% or less is preferable, and the aperture ratio is more preferably 20% to 40%. Specifically, a wire mesh with 300 mesh and an aperture ratio of 30% can be used. Moreover, when the clearance gap between the coating-film surface 164b and the wind control board 190 is wide, an air eddy will generate | occur | produce and will cause the coating-film surface 164b to produce nonuniformity. Therefore, in order to control the flow of the wind, the gap C between the coating film surface 164b and the air conditioning plate 190 is preferably 3 mm to 30 mm, and more preferably 5 mm to 15 mm. Further, an upper lid 196 and side seals 197 and 198 which are seal members are attached in order to suppress unnecessary wind flow from the back surface of the web 164 (the surface on which the coating film is not formed) and the side. In addition, although the wire mesh is used for the air conditioning plate 190 in order to adjust the aperture ratio, the aperture ratio can be determined not only by the metal mesh but also by punch metal or the like. According to the drying step, the gas 199 in which the organic solvent in the coating film is evaporated (usually containing the evaporated solvent at a high concentration) 199 passes through the hole 190a of the air conditioning plate 190, and the coating surface. The air is exhausted from the exhaust pipe 193 uniformly in the width direction of the web by the drying air 195 in the exhaust chamber 192 passing through the opposite side of the air conditioning plate 190 with respect to 164 b and is discharged out of the drying zone 168. For this reason, a dry wind does not touch the coating-film surface 164b, and it is suppressed that a nonuniformity generate | occur | produces in the coating-film surface 164b.

また、図17に示すように乾燥ゾーン167は、ウェブ164に塗布液を塗布した直後に設置し、新鮮な塗布室の空調風が乾燥装置160に入り込まないように設置することが重要である。   Also, as shown in FIG. 17, it is important that the drying zone 167 is installed immediately after the application liquid is applied to the web 164 so that the conditioned air in the fresh application chamber does not enter the drying device 160.

特開2003−106767号公報には、塗布直後の走行位置にほぼ並行に板状部材である凝縮板を設置し、凝縮板と塗布膜の距離や凝縮板の温度を制御して、塗布液中の溶媒を凝縮、回収させる乾燥装置を配置することで乾燥に起因する膜厚ムラを発生させずに乾燥が可能であることを示されている。この方法は本発明にも適用できる。   In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-106767, a condensing plate that is a plate-like member is installed almost in parallel with the traveling position immediately after coating, and the distance between the condensing plate and the coating film and the temperature of the condensing plate are controlled, It is shown that by providing a drying device that condenses and recovers the solvent, it is possible to dry without causing unevenness in film thickness due to drying. This method can also be applied to the present invention.

図20(a)は、本発明の塗布膜の乾燥方法を実施するための塗布・乾燥ライン210の一例を示す概略図である。塗布・乾燥ラインは、ウェブ211を送り出す送出機212とバックアップローラ213と塗布ダイ214と第1乾燥装置215とローラ216と第2乾燥装置217とローラ218、219と巻取機220とから構成されている。ウェブ211は送出機212から送り出される。ウェブ211は、バックアップローラ213に巻き掛けられながら搬送されて塗布ダイ214によりウェブ211に塗布液が塗布されてウェブ211は、塗布ウェブ211aとなる。   FIG. 20A is a schematic view showing an example of a coating / drying line 210 for carrying out the coating film drying method of the present invention. The coating / drying line includes a delivery device 212 for feeding out the web 211, a backup roller 213, a coating die 214, a first drying device 215, a roller 216, a second drying device 217, rollers 218, 219, and a winder 220. ing. The web 211 is sent out from the transmitter 212. The web 211 is conveyed while being wound around the backup roller 213, and the application liquid is applied to the web 211 by the application die 214, so that the web 211 becomes the application web 211a.

第1乾燥装置215は、ウェブ211と所定距離をおいて平行に設けられる凝縮板221、222と、凝縮板221、222の前後辺から下方に垂設される側面板等とで構成される。これにより、塗布膜中の溶媒が揮発した際に、揮発した溶媒が凝縮板221、222に凝縮し回収される構成となっている。   The first drying device 215 includes condensing plates 221 and 222 that are provided in parallel with the web 211 at a predetermined distance, and side plates that are hanged downward from the front and rear sides of the condensing plates 221 and 222. Thereby, when the solvent in the coating film is volatilized, the volatilized solvent is condensed on the condensing plates 221 and 222 and collected.

第1乾燥装置215では、ウェブ211の塗布面と凝縮板221、222との間の空間へ溶媒が蒸発するとともに、蒸発した溶媒が凝縮板221、222の凝縮面から回収される。塗布面の均一な乾燥が行われるには、塗布面と凝縮板213、214の凝縮面との間に、乱れのない境界層が形成され、均一な物質移動と熱伝達が行われることが必要である。   In the first drying device 215, the solvent evaporates into the space between the application surface of the web 211 and the condensing plates 221 and 222, and the evaporated solvent is recovered from the condensing surfaces of the condensing plates 221 and 222. In order for the coated surface to be uniformly dried, an undisturbed boundary layer is formed between the coated surface and the condensing surfaces of the condenser plates 213 and 214, and uniform mass transfer and heat transfer must be performed. It is.

しかし、上記塗布膜の乾燥装置におけるような、温度の違う二平面間では、それら均一な熱伝達を阻害するものとして、熱自然対流が一般的に知られている。熱自然対流が発生すると、この境界層を不安定にし、境界層を乱すことにより、不均一な乾燥速度分布を生じる。その結果、塗布膜の均一な乾燥を行うことができなくなる。   However, natural thermal convection is generally known as an obstacle to uniform heat transfer between two planes having different temperatures as in the coating film drying apparatus. When thermal natural convection occurs, this boundary layer becomes unstable and disturbs the boundary layer, resulting in a non-uniform drying rate distribution. As a result, the coating film cannot be uniformly dried.

自然対流に関する研究は古くから行われており、たとえば、Heat Transfer 、vol.1(1953) 、Max Jacob 著( 出版社:John Wiley & Sons)には、様々な場合における自然対流に関する実験的研究が紹介されている。化学工学便覧、改訂六版、化学工学会編( 出版社:丸善) には、自然対流に関する研究がまとめて紹介されている。   Research on natural convection has been conducted for a long time, for example, Heat Transfer, vol.1 (1953) and Max Jacob (publisher: John Wiley & Sons) have experimental studies on natural convection in various cases. It has been introduced. The Chemical Engineering Handbook, Revised Sixth Edition, edited by the Society of Chemical Engineering (Publisher: Maruzen), presents research on natural convection all together.

これらは、垂直平板、水平正方形板、傾斜平板、水平円柱面、傾斜円柱面、垂直平板で挟まれた間隙、水平平面板で挟まれた間隙、等に関する。これらの研究で明らかなように、固体表面の形状が伝熱量に大きな影響を及ぼす。
しかし、これらの研究は主に空気中に単純に置かれた板または円柱に関するものである。一方、今回対象とするような、一方が連続走行する、塗布液を塗られた面を含む二平面間の問題に関する研究は少なく、自然対流を抑え、均一な境界層の形成するための条件については、明確になっていない。また、自然対流は流体塊の浮力によって生じる対流であるので、浮力に対する粘性力の比、運動量拡散率に対する熱拡散率の比などが重要である。これらを表す無次元数として、それぞれ次の形で表現できる。
グラスホフ数=[熱膨張率×(T−T)×L×d×g]/δ・・式 (11)
プラントル数=(比熱容量×δ)/熱伝導度・・式(12)
一般的に、式(11)はグラスホフ数、式(12)はプラントル数と呼ばれる。これらの値と自然対流の発生との関係は、特有の場合についてのみ実験式が示されているのみである。なお、これら二つの無次元数を掛けた値は、一般にレイリー数と言われる。
These relate to vertical flat plates, horizontal square plates, inclined flat plates, horizontal cylindrical surfaces, inclined cylindrical surfaces, gaps sandwiched between vertical flat plates, gaps sandwiched between horizontal flat plates, and the like. As is clear from these studies, the shape of the solid surface greatly affects the amount of heat transfer.
However, these studies are mainly about plates or cylinders that are simply placed in the air. On the other hand, there are few studies on the problem between two planes, including the surface coated with coating liquid, where one side runs continuously, which is the subject of this study, and the conditions for the formation of a uniform boundary layer by suppressing natural convection Is not clear. In addition, since natural convection is convection caused by buoyancy of a fluid mass, the ratio of viscous force to buoyancy, the ratio of thermal diffusivity to momentum diffusivity, and the like are important. Each dimensionless number can be expressed in the following form.
Grasshof number = [thermal expansion coefficient × (T 1 −T 2 ) × L 3 × d 2 × g] / δ 2 ... (11)
Prandtl number = (specific heat capacity x δ) / thermal conductivity ··· Formula (12)
In general, equation (11) is called the Grashof number and equation (12) is called the Prandtl number. The relationship between these values and the occurrence of natural convection is only an empirical formula for a specific case. A value obtained by multiplying these two dimensionless numbers is generally called a Rayleigh number.

本発明に係る塗布方法を実施するための塗布・乾燥ライン210では、レイリー数を5000未満にするように、ウェブ211と凝縮板221、222との距離、凝縮板221、222の温度および塗布膜の温度を設定することにより、塗布液の溶媒の種類、凝縮板221、222の形状、凝縮板221、222の配置角度、ウェブ211の走行角度などによらず、乾燥ムラのない良好な面の塗布膜が得られる。また、レイリー数が2000未満になるように各条件を設定すると、塗布膜の表面性状はさらに改善される。   In the coating / drying line 210 for carrying out the coating method according to the present invention, the distance between the web 211 and the condenser plates 221 and 222, the temperature of the condenser plates 221 and 222, and the coating film so that the Rayleigh number is less than 5000. By setting the temperature of the coating liquid, regardless of the type of solvent of the coating liquid, the shape of the condenser plates 221, 222, the arrangement angle of the condenser plates 221, 222, the traveling angle of the web 211, etc. A coating film is obtained. Moreover, when each condition is set so that the number of Rayleigh is less than 2000, the surface property of the coating film is further improved.

凝縮板221、222の溶媒を凝縮させる面に用いる材質は、金属、プラスチック、木材等、特に限定はされないが、塗布液中に有機溶剤が含まれる場合には、その有機溶剤に対して耐性のある材料を使用するか、または表面にコーティングを施すことが望ましい。   The material used for condensing the solvent of the condensing plates 221 and 222 is not particularly limited, such as metal, plastic, wood, etc., but when the coating solution contains an organic solvent, it is resistant to the organic solvent. It is desirable to use some material or apply a coating to the surface.

第1乾燥装置215において、凝縮板221、222に凝縮した溶媒を回収させる手段は、たとえば、凝縮板221、222の凝縮面に溝を設け、毛管力を利用して溶媒を回収させる。溝の方向は、ウェブ211の走行方向であってもよく、これに直交する方向であってもよい。凝縮板221、222が傾斜して設置されている場合には、溶媒を回収させやすい方向に溝を設ければよい。   In the first drying device 215, the means for recovering the solvent condensed on the condensing plates 221 and 222, for example, provides grooves on the condensing surfaces of the condensing plates 221 and 222, and recovers the solvent using capillary force. The direction of the groove may be the traveling direction of the web 211 or may be a direction perpendicular to the traveling direction. When the condensing plates 221 and 222 are installed with an inclination, the grooves may be provided in a direction in which the solvent can be easily recovered.

図20(b)に他の実施形態の塗布・乾燥ライン225を示す。なお、図20(a)の塗布・乾燥ライン210と同一箇所には同一の符号を付して、説明は省略する。塗布・乾燥ライン225の第1乾燥装置226には温度調整が可能な温調ローラ227が多数備えられている。温調ローラ227の温度を制御することで塗布ウェブ221aの塗布膜表面温度を調整して塗布膜からの有機溶剤の揮発量を所望のものとする。   FIG. 20B shows a coating / drying line 225 of another embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same location as the application | coating and drying line 210 of Fig.20 (a), and description is abbreviate | omitted. The first drying device 226 of the coating / drying line 225 is provided with a number of temperature adjusting rollers 227 capable of adjusting the temperature. By controlling the temperature of the temperature control roller 227, the coating film surface temperature of the coating web 221a is adjusted to make the volatilization amount of the organic solvent from the coating film as desired.

図21(a)に本発明の塗布膜の製造方法が適用されるフィルム製品製造ライン230を示す。調製されているドープを流延ダイ231から回転ドラム232上へ流延して流延膜を形成する。流延膜が自己支持性を有するものとなった後に、剥取ローラ233で支持しながらウェブ234として剥ぎ取る。そして、多数のローラ235が設けられている前乾燥室226へウェブ234は送られ所望の溶媒含有量となるまで乾燥する。その後にローラ237で塗布ダイ238まで搬送される。塗布ダイ238にウェブ234と対向して設けられているバックアップローラ239と併せて塗布装置が構成されている。ウェブ2
34はバックアップローラ239に巻き掛けられながら搬送され塗布ダイ238から塗布液が塗付され、塗布膜が形成されている塗布ウェブ234aとなる。
FIG. 21A shows a film product production line 230 to which the coating film production method of the present invention is applied. The prepared dope is cast from the casting die 231 onto the rotating drum 232 to form a casting film. After the cast film has a self-supporting property, it is peeled off as the web 234 while being supported by the peeling roller 233. Then, the web 234 is sent to the pre-drying chamber 226 where a large number of rollers 235 are provided, and is dried until the desired solvent content is obtained. Thereafter, the roller 237 is conveyed to the coating die 238. A coating apparatus is configured together with a backup roller 239 provided on the coating die 238 so as to face the web 234. Web 2
34 is conveyed while being wound around the backup roller 239, and a coating liquid is applied from the coating die 238 to form a coating web 234a on which a coating film is formed.

塗布ウェブ234aは、乾燥装置240に送られ塗布膜が所望の溶媒量となるように乾燥を行う。乾燥装置240には、凝縮板241、242が設けられており、塗布膜から揮発した有機溶剤ガスを凝縮回収する。凝縮板231の右端の下方には凝縮した溶媒を回収するための樋243が設けられており、樋243を経て溶媒が回収される。   The coating web 234a is sent to the drying device 240 and dried so that the coating film has a desired solvent amount. The drying device 240 is provided with condensing plates 241 and 242 to condense and recover the organic solvent gas volatilized from the coating film. Below the right end of the condensing plate 231, a bottle 243 for collecting the condensed solvent is provided, and the solvent is collected through the bottle 243.

乾燥装置240から送り出される塗布ウェブ234aは、ローラ244で搬送されて多数のローラ245が備えられている後乾燥室246に送られ、塗布膜が所望の溶媒含有量となるまで乾燥される。最後に、塗布ウェブ234aは、巻取機247に巻き取られる。   The coating web 234a delivered from the drying device 240 is conveyed by a roller 244 and sent to a drying chamber 246 provided with a number of rollers 245, and dried until the coating film has a desired solvent content. Finally, the coating web 234a is wound around a winder 247.

乾燥装置240に凝縮板241を採用する構成以外に、同様な機能を奏する構成、たとえば、多孔板、網、簀の子、ロール等を使用する構成も採用できる。また、US5694701号明細書に示されるような回収装置と併用してもよい。   In addition to the configuration in which the condenser plate 241 is used for the drying device 240, a configuration having a similar function, for example, a configuration using a perforated plate, a net, a scissors, a roll, or the like can be used. Moreover, you may use together with a collection | recovery apparatus as shown in US5694701 specification.

乾燥装置240は、塗布液を塗布した直後の自然対流の発生による塗布膜の乾燥ムラを防止するため、塗布ダイ238のできるだけ近くに配設することが好ましい。具体的には、乾燥装置240の入口が塗布ダイ238から5m以内の位置になるように配設することが好ましく、2m以内の位置になるように配設することがより好ましく、0.7m以内の位置になるように配設することが最も好ましい。また、乾燥装置240の長さとしては、塗布後の塗布膜を乾燥装置240中に2秒以上置くことのできる長さにしておくことが望ましく、3秒以上がより望ましく、5秒以上が更に好ましい。   The drying device 240 is preferably disposed as close as possible to the coating die 238 in order to prevent drying unevenness of the coating film due to the occurrence of natural convection immediately after the coating liquid is applied. Specifically, it is preferable that the inlet of the drying device 240 is located within 5 m from the coating die 238, more preferably within 2 m, and within 0.7 m. It is most preferable to arrange so as to be in the position. Further, the length of the drying device 240 is preferably set to a length that allows the coating film after coating to be placed in the drying device 240 for 2 seconds or more, more preferably 3 seconds or more, and further preferably 5 seconds or more. preferable.

同様の理由で、ウェブ234の走行速度は、ウェブ234が塗布ダイ238による塗布後30秒以内に乾燥装置240に到達する速度であることが好ましく、塗布後20秒以内に乾燥装置240に到達する速度であることがより好ましい。   For the same reason, the traveling speed of the web 234 is preferably a speed at which the web 234 reaches the drying device 240 within 30 seconds after coating by the coating die 238, and reaches the drying device 240 within 20 seconds after coating. More preferred is speed.

塗布液の塗布量および塗布膜厚さは、大きい程塗布膜内部での流動が起きやすいことよりムラが発生しやすいが、上記乾燥装置240を使用すれば、塗布量および塗布膜厚さが大きい場合でも十分な効果が得られる。塗布膜の厚さが0.001mm〜0.08mm(1μm〜80μm)であれば、ムラなくかつ効率よく乾燥することができる。   The larger the coating amount and the coating film thickness of the coating solution, the more easily the unevenness occurs because the flow inside the coating film is more likely to occur. However, if the drying device 240 is used, the coating amount and the coating film thickness are large. Even in the case, a sufficient effect can be obtained. If the thickness of the coating film is 0.001 mm to 0.08 mm (1 μm to 80 μm), the coating film can be dried uniformly and efficiently.

ウェブ234の走行速度が大きすぎると、同伴風によって塗布膜近傍の境界層が乱され、塗布膜に悪影響を及ぼす。したがって、ウェブ234の走行速度は1m/分〜100m/分に設定することが好ましく、5m/分〜80m/分に設定することがより好ましい。   If the running speed of the web 234 is too high, the boundary layer in the vicinity of the coating film is disturbed by the accompanying wind, which adversely affects the coating film. Therefore, the traveling speed of the web 234 is preferably set to 1 m / min to 100 m / min, and more preferably set to 5 m / min to 80 m / min.

塗布膜のムラは、乾燥初期で特に発生しやすいので、乾燥装置240が塗布液中の溶媒の70%以上を凝縮、回収し、残りの塗布液を後乾燥室246で乾燥させることが好ましい。塗布液中の溶媒の何%を凝縮、回収させるかは、塗布膜の乾燥ムラへの影響、生産効率、等を総合的に判断して決定すればよい。   Since unevenness of the coating film is particularly likely to occur in the early stage of drying, it is preferable that the drying device 240 condenses and collects 70% or more of the solvent in the coating solution, and the remaining coating solution is dried in the post-drying chamber 246. What percentage of the solvent in the coating solution is condensed and recovered may be determined by comprehensively determining the influence on the drying unevenness of the coating film, production efficiency, and the like.

塗布液中の溶媒の蒸発、凝縮を促進させるため、塗布ウェブ234aを加熱するか、凝縮板241、242を冷却するか、またはその両手段を採用することが好ましい。たとえば、乾燥装置240に冷却手段を配し、また、塗布ウェブ234aを挟んで非塗布面側に加熱手段を配することもできる。   In order to promote evaporation and condensation of the solvent in the coating solution, it is preferable to heat the coating web 234a, cool the condenser plates 241, 242 or both. For example, a cooling unit may be provided in the drying device 240, and a heating unit may be provided on the non-application surface side with the application web 234a interposed therebetween.

いずれの場合も、塗布膜の乾燥速度を制御するために、凝縮板241、242は温度管理されていることが望ましい。凝縮板241、242は、温度コントロールできるようにし、冷却したい場合には、冷却するための設備を設置する必要がある。冷却には、冷媒等を使った水冷式の熱交換器方式のもの、風を使った空冷式、電気を用いた方式、たとえばペルチェ素子を使用した方式などを用いることができる。   In any case, it is desirable that the condenser plates 241 and 242 be temperature-controlled in order to control the drying speed of the coating film. The condenser plates 241 and 242 can be controlled in temperature, and if it is desired to cool, it is necessary to install equipment for cooling. For cooling, a water-cooled heat exchanger method using a refrigerant or the like, an air-cooled method using wind, a method using electricity, for example, a method using a Peltier element, or the like can be used.

塗布ウェブ234aを加熱したい場合には、反塗布膜側にヒータを配設して加熱することができる。また、昇温可能な搬送ロール(加熱ロール)を配設して加熱することもできる。その他、赤外線ヒータ、マイクロ波加熱手段などを用いて加熱してもよい。   When it is desired to heat the coating web 234a, a heater can be provided on the anti-coating film side to heat it. Moreover, it can also heat by arrange | positioning the conveyance roll (heating roll) which can be heated up. In addition, you may heat using an infrared heater, a microwave heating means, etc.

塗布ウェブ234a、凝縮板241、242の温度を決定する際、注意しなければならないのは、蒸発させた溶媒が凝縮板241、242以外の場所、たとえば、搬送ロールの表面等に結露しないようにしなければならないことである。このため、たとえば、凝縮板241、242以外の部分の温度を凝縮板241、242の温度よりも高くしておくことによりこの種の結露を回避することができる。   When determining the temperature of the coating web 234a and the condensing plates 241, 242, it should be noted that the evaporated solvent does not condense on a place other than the condensing plates 241, 242, such as the surface of the transport roll. It must be. For this reason, for example, this kind of dew condensation can be avoided by setting the temperature of the part other than the condenser plates 241 and 242 higher than the temperature of the condenser plates 241 and 242.

塗布膜の表面と凝縮板241、242表面との距離(間隔)は、所望の塗布膜の乾燥速度を考慮した上で、適当な距離に調整する必要がある。距離を短くすると乾燥速度が上がる一方、設定した距離精度の影響を受けやすい。一方、距離を大きくすると乾燥速度が大幅に低下するのみならず、熱による自然対流が起きて乾燥ムラを引き起こす。   The distance (interval) between the surface of the coating film and the surfaces of the condenser plates 241 and 242 needs to be adjusted to an appropriate distance in consideration of the desired coating film drying speed. Shortening the distance increases the drying speed, but is easily affected by the set distance accuracy. On the other hand, when the distance is increased, not only the drying speed is significantly reduced, but also natural convection due to heat occurs, resulting in drying unevenness.

塗布膜の表面と凝縮板241、242表面との距離は、式(11)で示されるグラスホス数と式(12)で示されるプラントル数を掛けた値で示されるレイリー数が5000未満となる条件を満たす範囲で決定する必要があるが、0.1mm〜200mmの範囲で調整することが好ましく、0.5mm〜100mmの範囲で調整することがより好ましく、5mm〜10mmの範囲が最も好ましい。   The distance between the surface of the coating film and the surfaces of the condensing plates 241 and 242 is such that the Rayleigh number indicated by a value obtained by multiplying the glassphos number indicated by the equation (11) and the Prandtl number indicated by the equation (12) is less than 5000. However, it is preferable to adjust in the range of 0.1 mm to 200 mm, more preferably in the range of 0.5 mm to 100 mm, and most preferably in the range of 5 mm to 10 mm.

なお、乾燥装置240内には、塗布ウェブ234aを挟んで凝縮板241、242の反対側に多数のガイドローラ248を設けても良いし、設けなくても良い。   In the drying device 240, a large number of guide rollers 248 may or may not be provided on the opposite side of the condensing plates 241 and 242 across the coating web 234a.

第1乾燥装置は、必ずしも図20に示されるような直線状である必要はなく、たとえば、図22a、22bの塗布・乾燥ライン250、251に示されるような円弧状の形状を有する第1乾燥装置252、253であってもよい。また、大きなドラムを設け、それにドライヤを配設してもよい。なお、図20と同一の箇所は同一の符号を付して説明は省略する。なお、図22の塗布・乾燥ライン250、251では、円弧状の第1乾燥装置252、253を塗布ダイ214に近づけて溶媒の回収効率の向上を図っている。   The first drying device does not necessarily have a linear shape as shown in FIG. 20, for example, a first drying having an arc shape as shown in the coating / drying lines 250 and 251 of FIGS. 22a and 22b. Devices 252 and 253 may be used. Further, a large drum may be provided, and a dryer may be disposed thereon. Note that the same portions as those in FIG. 20 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. In the coating / drying lines 250 and 251 in FIG. 22, the arc-shaped first drying devices 252 and 253 are brought close to the coating die 214 to improve the solvent recovery efficiency.

第2乾燥装置217としては、従来技術として使用されているローラ搬送ドライヤ方式またはエアフローティングドライヤ方式の乾燥装置が使用できる。いずれの方式の乾燥装置であっても、乾燥した空気を塗布膜の表面に供給して塗布膜を乾燥させる点では共通する。   As the second drying device 217, a roller conveying dryer type or air floating dryer type drying device used as a conventional technique can be used. Any type of drying apparatus is common in that dried air is supplied to the surface of the coating film to dry the coating film.

なお、第2乾燥装置を設けず、第1乾燥装置のみで塗布膜を乾燥させる方法も採り得る。図23、図24、図25は、いずれも第1乾燥装置のみで塗布膜を乾燥させる構成の例である。なお、図20と同一の箇所は同一の符号を付して説明は省略する。また、塗布。乾燥ラインの要部を図示している。   In addition, the method of drying a coating film only with a 1st drying apparatus without providing a 2nd drying apparatus can also be taken. FIG. 23, FIG. 24, and FIG. 25 are examples of configurations in which the coating film is dried only by the first drying device. Note that the same portions as those in FIG. 20 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. Also apply. The main part of a drying line is illustrated.

図23の塗布・乾燥ライン260では、第1乾燥装置261を複数のゾーン261a、261b、261c、261d、261eに分割している。それぞれのゾーン261a〜261eにおいて凝縮板262、263、264、265、266と塗布膜との距離が階段的に変化する構成としてある。また、塗布ウェブ211aを挟んで凝縮板262〜266の反対側に多数のガイドローラ267が設けてある。   In the coating / drying line 260 of FIG. 23, the first drying device 261 is divided into a plurality of zones 261a, 261b, 261c, 261d, 261e. In each of the zones 261a to 261e, the distance between the condenser plates 262, 263, 264, 265, 266 and the coating film is changed stepwise. A large number of guide rollers 267 are provided on the opposite side of the condensing plates 262 to 266 across the coating web 211a.

図24の塗布・乾燥ライン270では、第1乾燥装置271を複数のゾーン271a〜271eに分割している。また、それぞれのゾーン271a〜271eにおいて凝縮板272〜276と塗布膜との距離が階段的に変化する構成としてある。ガイドローラは設けていない。   In the coating / drying line 270 of FIG. 24, the first drying device 271 is divided into a plurality of zones 271a to 271e. Further, in each of the zones 271a to 271e, the distance between the condenser plates 272 to 276 and the coating film changes stepwise. No guide roller is provided.

図25の塗布・乾燥ライン280では、第1乾燥装置281は複数のゾーンに分割されておらず、また、それぞれの凝縮板282〜286と塗布膜との距離は一定とした構成としてある。また、塗布ウェブ211aを挟んで凝縮板282〜286の反対側に多数のガイドローラ287が設けてある。
〔塗布フィルムの硬化工程〕
本発明において、反射防止フィルム各層の硬化方法については、塗布組成物を塗布と同時、又は塗布後に光照射、電子線ビーム照射や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましい。
In the coating / drying line 280 of FIG. 25, the first drying device 281 is not divided into a plurality of zones, and the distance between each of the condenser plates 282 to 286 and the coating film is constant. A large number of guide rollers 287 are provided on the opposite side of the condensing plates 282 to 286 across the coating web 211a.
[Curing process of coated film]
In the present invention, the method for curing each layer of the antireflective film is preferably formed by applying a coating composition at the same time as coating or by a crosslinking reaction or polymerization reaction by light irradiation, electron beam irradiation or heating after coating. .

反射防止フィルムの各層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応又は重合反応は、酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が10体積%以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。   When each layer of the antireflection film is formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound, the crosslinking reaction or the polymerization reaction is preferably performed in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less. By forming in an atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less, an outermost layer having excellent physical strength and chemical resistance can be obtained.

好ましくは酸素濃度が5体積%以下であり、更に好ましくは酸素濃度が1体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が0.5体積%以下、最も好ましくは0.1体積%以下である。   The oxygen concentration is preferably 5% by volume or less, more preferably 1% by volume or less, particularly preferably the oxygen concentration is 0.5% by volume or less, and most preferably 0.1% by volume or less.

酸素濃度を10体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。   As a method of reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration of about 79% by volume, oxygen concentration of about 21% by volume) with another gas, particularly preferably replacement with nitrogen (nitrogen purge). It is to be.

光照射の光源は、紫外線光域又は近赤外線光域のものであればいずれでもよく、紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長350〜420nmの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。   The light source for light irradiation may be any one in the ultraviolet light region or near infrared light region, and as a light source for ultraviolet light, ultrahigh pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, metal halides. Lamp, xenon lamp, sunlight, and the like. Various available laser light sources having a wavelength of 350 to 420 nm may be irradiated as a multi-beam.

また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長750〜1400nmの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。   Further, examples of the near-infrared light source include a halogen lamp, a xenon lamp, and a high-pressure sodium lamp. Various available laser light sources having a wavelength of 750 to 1400 nm may be irradiated in a multi-beam form.

近赤外光光源を用いる場合、紫外線光源と組み合わせて用いてもよいし、又は塗布面側と反対の基材面側より光照射してもよい。これにより、塗膜層内の深さ方向での膜硬化が表面近傍と遅滞無く進行し均一な硬化状態の硬化膜が得られる。   When using a near-infrared light source, it may be used in combination with an ultraviolet light source, or light may be irradiated from the substrate surface side opposite to the coating surface side. Thereby, the film hardening in the depth direction in the coating layer proceeds without delay with the vicinity of the surface, and a cured film having a uniform cured state is obtained.

照射する紫外線の照射強度は、0.1〜1000mW/cm2 程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は10〜1000mJ/cm が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±3°C以内が好ましく、更には±1.5°C以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内及び層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。 Irradiation intensity of ultraviolet irradiation is preferably about 0.1~1000mW / cm 2, irradiation amount on the coating film surface is preferably 10~1000mJ / cm 2. Further, the temperature distribution of the coating film in the light irradiation step is preferably as uniform as possible, preferably within ± 3 ° C., and more preferably controlled within ± 1.5 ° C. In this range, the polymerization reaction in the in-plane and in-layer depth directions of the coating film proceeds uniformly, which is preferable.

上記のようにして作成した反射防止フィルムは、反射防止を必要とする物品、特に以下に述べる偏光板や各種の画像表示装置に用いることができる。   The antireflection film prepared as described above can be used for articles that require antireflection, particularly for polarizing plates and various image display devices described below.

[偏光板]
本発明の反射防止フィルムを偏光子の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、ウェブの反射防止層が形成される面とは反対側の面をアルカリによって鹸化処理することが必要である。アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の2つから選択することができる。
[Polarizer]
When the antireflection film of the present invention is used as one side of the surface protective film of the polarizer, it is necessary to saponify the surface of the web opposite to the surface on which the antireflection layer is formed with an alkali. Specific means for the alkali saponification treatment can be selected from the following two.

(1)ウェブ上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも1回浸漬することで、ウェブ裏面を鹸化処理する。   (1) After forming the antireflection layer on the web, the back surface of the web is saponified by immersing it in an alkaline solution at least once.

(2)ウェブ上に反射防止層を形成する前又は後に、アルカリ液をウェブの反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗及び/又は中和することで、ウェブの裏面だけを鹸化処理する。   (2) Before or after forming the antireflection layer on the web, by applying an alkaline liquid to the surface of the web opposite to the surface on which the antireflection film is to be formed, heating, washing and / or neutralizing, Only the back side of the web is saponified.

汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で(1)が優れているが、反射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、(2)が優れる。   (1) is superior in that it can be processed in the same process as a general-purpose triacetylcellulose film, but since the surface of the antireflection film is saponified, the surface is alkali-hydrolyzed and the film deteriorates. The point that it becomes dirty when the liquid remains can be a problem. In that case, although it becomes a special process, (2) is excellent.

偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルム(以下、「PVA」と記載する)が好ましく用いられる。PVAは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、変性PVAも用いることができる。   Examples of the polarizer include an iodine polarizer, a dye polarizer using a dichroic dye, and a polyene polarizer. In general, a polyvinyl alcohol film (hereinafter referred to as “PVA”) is preferably used as the iodine polarizer and the dye polarizer. PVA is usually saponified polyvinyl acetate, but modified PVA can also be used.

PVAを染色して偏光膜が得られる。染色を行う例としては、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液にPVAフィルムを浸漬させる方法、ヨウ素又は染料溶液の塗布又は噴霧など任意の手段で行うことができる。PVAを延伸して偏光膜を製造する過程では、PVAを架橋させる添加物、たとえば、ホウ酸類を用いることが好ましい。   A polarizing film is obtained by dyeing PVA. Examples of dyeing can be performed by any means such as a method of immersing a PVA film in an iodine-potassium iodide aqueous solution, application or spraying of iodine or a dye solution. In the process of producing a polarizing film by stretching PVA, it is preferable to use an additive that crosslinks PVA, for example, boric acids.

偏光板の透過率は、波長550nmの光において、30〜50%の範囲にあることが好ましく、35〜50%の範囲にあることが更に好ましい。偏光度は、波長550nmの光において、90〜100%の範囲にあることが好ましく、95〜100%の範囲にあることが更に好ましく、99〜100%の範囲にあることが最も好ましい。   The transmittance of the polarizing plate is preferably in the range of 30 to 50% and more preferably in the range of 35 to 50% in the light with a wavelength of 550 nm. The degree of polarization is preferably in the range of 90 to 100%, more preferably in the range of 95 to 100%, and most preferably in the range of 99 to 100% in light having a wavelength of 550 nm.

[画像表示装置]
本発明の反射防止フィルムは、偏光子の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
[Image display device]
The antireflection film of the present invention, when used as one side of a polarizer surface protective film, is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optical It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device of a mode such as a curry compensate bend cell (OCB).

また、透過型又は半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム(偏光選択層を有する偏光分離フィルム、たとえば、住友3M(株)製のD−BEFなど)と併せて用いることにより、更に視認性の高い表示装置を得ることができる。   When used in a transmissive or transflective liquid crystal display device, it is combined with a commercially available brightness enhancement film (a polarized light separation film having a polarization selective layer, such as D-BEF manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.). By using it, a display device with higher visibility can be obtained.

また、透過型、反射型、及び半透過型の液晶表示装置において液晶セルの全面に空気を介してアクリル板等の前面板を配する場合には、液晶セル表面側の偏光板だけでなく、前面板の内側及び/又は外側に粘着剤等を介して貼り付けることが、界面の反射を低減することができるため好ましい。また、λ/4板と組み合わせることにより、反射型又は半透過型のLCDや、有機ELディスプレイ用表面保護板として用いることができる。   In addition, when a front plate such as an acrylic plate is disposed over the entire surface of the liquid crystal cell in the transmissive, reflective, and transflective liquid crystal display devices, not only the polarizing plate on the liquid crystal cell surface side, Adhering to the inside and / or outside of the front plate via an adhesive or the like is preferable because reflection at the interface can be reduced. Further, by combining with a λ / 4 plate, it can be used as a reflective or transflective LCD or a surface protection plate for an organic EL display.

更に、PET、PEN等の透明支持体上に本発明の反射防止層を形成して、PDA、携帯電話の表面保護板、タッチパネル、プラズマディスプレイパネル(PDP)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に適用できる。   Furthermore, the antireflection layer of the present invention is formed on a transparent support such as PET and PEN, and the like, such as PDA, cell phone surface protection plate, touch panel, plasma display panel (PDP) and cathode ray tube display (CRT). It can be applied to various image display devices.

以下に、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

(ハードコート層用塗布液(HCL−1)の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
(Preparation of coating liquid for hard coat layer (HCL-1))
The following composition was put into a mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution.

トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA、日本化薬(株)製)742.0質量部に、重量平均分子量15000のポリ(グリシジルメタクリレート)277質量部、メチルエチルケトン728.0質量部、シクロヘキサノン503.0質量部及び光重合開始剤(イルガキュア184、日本チバガイギー(株)製)51.0質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液(HCL−1)を調製した。   742.0 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (TMPTA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), 277 parts by mass of poly (glycidyl methacrylate) having a weight average molecular weight of 15000, 728.0 parts by mass of methyl ethyl ketone, 503.0 parts by mass of cyclohexanone And 51.0 mass parts of photoinitiators (Irgacure 184, Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd. product) were added and stirred. It filtered with the polypropylene filter with the hole diameter of 0.4 micrometer, and prepared the coating liquid (HCL-1) for hard-coat layers.

(防眩性ハードコート層用塗布液(HCL−2)の調製)
市販のジルコニア含有UV硬化型ハードコート液(デソライトZ7404、JSR(株)製、固形分濃度約61%、固形分中ZrO含率約70%、重合性モノマー、重合開始剤含有)284質量部g、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)86質量部gを混合し、更に、メチルイソブチルケトン60質量部g、メチルエチルケトン17質量部gで希釈した。
(Preparation of anti-glare hard coat layer coating solution (HCL-2))
284 parts by mass of commercially available zirconia-containing UV curable hard coat liquid (Desolite Z7404, manufactured by JSR Corporation, solid content concentration of about 61%, ZrO 2 content of solid content of about 70%, polymerizable monomer, polymerization initiator) g, 86 parts by mass g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), 60 parts by mass g of methyl isobutyl ketone, and 17 parts by mass g of methyl ethyl ketone Diluted.

更に、シランカップリング剤(KBM−5103、信越化学(株)製)28.5質量部gを混合攪拌した。   Furthermore, 28.5 parts by mass of a silane coupling agent (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was mixed and stirred.

更にこの溶液に平均粒径3.0μmの分級強化架橋PMMA粒子(屈折率1.49、MXS−300、綜研化学(株)製)の30%メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散した分散液を30質量部g加え、次いで、平均粒径1.5μmのシリカ粒子(屈折率1.46、シーホスタKE−P150、日本触媒(株)製)の30%メチルエチルケトン分散液をポリトロン分散機にて10000rpmで30分分散した分散液を95質量部g加えて混合攪拌し、完成液とした。   Furthermore, a 30% methyl isobutyl ketone dispersion of classified strengthened crosslinked PMMA particles (refractive index 1.49, MXS-300, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) having an average particle size of 3.0 μm was added to this solution at 10,000 rpm with a Polytron disperser. 30 parts by weight of a dispersion dispersed for 20 minutes was added, and then a 30% methyl ethyl ketone dispersion of silica particles having an average particle diameter of 1.5 μm (refractive index: 1.46, Seahosta KE-P150, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 95 parts by mass of a dispersion liquid dispersed at 10000 rpm for 30 minutes with a Polytron disperser was added and mixed and stirred to obtain a finished liquid.

上記完成液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層用塗布液(HCL−2)を調製した。   The finished solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare an antiglare hard coat layer coating solution (HCL-2).

(防眩性ハードコート層用塗布液(HCL−3)の調製)
紫外線硬化型樹脂であるPET−30(商品名、ペンタエリスリトールトリアクリレート、日本化薬(株)製、屈折率1.51)を26.6128.0質量部、同じく紫外線硬化型樹脂であるDPHA(商品名、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬(株)製、屈折率1.51)を1.41質量部、アクリル系ポリマーを2.94質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア184(商品名、チバガイギー(株)製)を1.35質量部、第1の透光性微粒子としてのアクリル−スチレンビーズ(綜研化学(株)製、粒径3.5μm、屈折率1.55)を1.5質量部、第2の透光性微粒子としてのスチレンビーズ(綜研化学(株)製、粒径3.5μm、屈折率1.60)を4.65質量部、レベリング剤であるR−30(商品名、大日本インキ化学工業(株)製)を0.05質量部、下記フッ素系表面改質剤(化学式 11、FP-1)を0.05質量部、オルガノシラン化合物であるKBM−5103(商品名、信越化学工業(株)製)を6.2質量部、トルエンを38.7質量部、及び、シクロヘキサノンを16.6質量部を十分混合して塗布液として調整した。
(Preparation of coating solution for antiglare hard coat layer (HCL-3))
26.6128.0 parts by mass of PET-30 (trade name, pentaerythritol triacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., refractive index 1.51) which is an ultraviolet curable resin, DPHA (also an ultraviolet curable resin) Product name, 1.41 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, Nippon Kayaku Co., Ltd., refractive index 1.51), 2.94 parts by mass of acrylic polymer, photocuring 1.35 parts by mass of Irgacure 184 (trade name, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) which is an initiator, acrylic-styrene beads (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., particle size of 3.5 μm) as the first translucent fine particles, 1.55 parts by weight of refractive index 1.55), styrene beads (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., particle size 3.5 μm, refractive index 1.60) as the second light-transmitting fine particles 4.65 parts by mass, 0.05% by mass of R-30 (trade name, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) as a leveling agent, and the following fluorine-based surface modifier (Chemical Formula 11, FP-1) 0.05 parts by mass, 6.2 parts by mass of KBM-5103 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) which is an organosilane compound, 38.7 parts by mass of toluene, and 16.6 parts by mass of cyclohexanone Were sufficiently mixed to prepare a coating solution.

Figure 2006122889
この塗布液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩性ハードコート層用塗布液(HCL−3)を調製した。
Figure 2006122889
This coating solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare an antiglare hard coat layer coating solution (HCL-3).

(二酸化チタン微粒子分散液Aの調製)
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子(MPT−129C、石原産業(株)製、TiO2 :Co3 O4 :Al2 O3 :ZrO2 =90.5:3.0:4.0:0.5重量比)を使用した。
(Preparation of titanium dioxide fine particle dispersion A)
As the titanium dioxide fine particles, titanium dioxide fine particles (MPT-129C, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., TiO2: Co3 O4: Al2 O3: containing cobalt and surface-treated with aluminum hydroxide and zirconium hydroxide: ZrO2 = 90.5: 3.0: 4.0: 0.5 weight ratio) was used.

この粒子256質量部に、下記分散剤(化学式12)42質量部、及びシクロヘキサノン702質量部を添加してダイノミルにより分散し、重量平均径70nmの二酸化チタン分散液Aを調製した。   42 parts by mass of the following dispersant (Chemical Formula 12) and 702 parts by mass of cyclohexanone were added to 256 parts by mass of the particles and dispersed by dynomill to prepare a titanium dioxide dispersion A having a weight average diameter of 70 nm.

Figure 2006122889

(中屈折率層用塗布液(ML−1)の調製)
上記の二酸化チタン分散液A59.6質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)40.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア907)2.19質量部、光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.8質量部、メチルエチルケトン280質量部及びシクロヘキサノン1049.0質量部を添加して攪拌した。
Figure 2006122889

(Preparation of Medium Refractive Index Layer Coating Solution (ML-1))
In 59.6 parts by mass of the above titanium dioxide dispersion A, 40.7 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 2.19 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907), light A sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.8 parts by mass, 280 parts by mass of methyl ethyl ketone and 1049.0 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred.

充分に攪拌ののち、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液(ML−1)を調製した。この塗布液の粘度は1.5mPa・秒、表面張力は28mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は3.5ml/mとした。 After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare an intermediate refractive index layer coating solution (ML-1). The coating solution had a viscosity of 1.5 mPa · sec, a surface tension of 28 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 3.5 ml / m 2 .

(高屈折率層用塗布液(HL−1)の調製)
上記の二酸化チタン分散液A430.7質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)36.6質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)3.0質量部、光増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)1.0質量部、メチルエチルケトン535.0質量部、及びシクロヘキサノン495質量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer (HL-1))
A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 36.6 parts by mass, a photopolymerization initiator (Irgacure 907) , Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd.) 3.0 parts by mass, photosensitizer (Kayacure-DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.0 part by mass, methyl ethyl ketone 535.0 parts by mass, and cyclohexanone 495 parts by mass Added and stirred.

孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液(HL−1)を調製した。この塗布液の粘度は1.6mPa・秒、表面張力は28mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は3.5ml/mとした。 The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution (HL-1) for a high refractive index layer. The coating solution had a viscosity of 1.6 mPa · sec, a surface tension of 28 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 3.5 ml / m 2 .

(高屈折率層用塗布液(HL−2)の調製)
上記の二酸化チタン分散液A430.6質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)36.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)3.0質量部、光増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)1.0質量部、メチルエチルケトン267.0質量部、及びシクロヘキサノン761.7質量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer (HL-2))
A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 36.7 parts by mass, a photopolymerization initiator (Irgacure 907) , Manufactured by Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd.) 3.0 parts by mass, photosensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.0 part by mass, methyl ethyl ketone 267.0 parts by mass, and cyclohexanone 761.7 parts by mass Parts were added and stirred.

孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液(HL−2)を調製した。この塗布液の粘度は2.0mPa・秒、表面張力は28mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は3.5ml/mとした。 The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution (HL-2) for a high refractive index layer. The viscosity of this coating solution was 2.0 mPa · sec, the surface tension was 28 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 3.5 ml / m 2 .

(高屈折率層用塗布液(HL−3)の調製)
上記の二酸化チタン分散液A430.6質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)36.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)3.0質量部、光増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)1.0質量部、及びシクロヘキサノン1028.6質量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating liquid for high refractive index layer (HL-3))
A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 36.7 parts by mass, a photopolymerization initiator (Irgacure 907) , Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd.) 3.0 parts by mass, photosensitizer (Kayacure-DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.0 part by mass, and cyclohexanone 1028.6 parts by mass were added and stirred. .

孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液(HL−3)を調製した。この塗布液の粘度は2.6mPa・秒、表面張力は28mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は3.5ml/mとした。 The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution (HL-3) for a high refractive index layer. The coating solution had a viscosity of 2.6 mPa · sec, a surface tension of 28 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 3.5 ml / m 2 .

(高屈折率層用塗布液(HL−4)の調製)
上記の二酸化チタン分散液A430.6質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)36.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)3.0質量部、光増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)1.0質量部、及びメチルエチルケトン50.0質量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer (HL-4))
A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 36.7 parts by mass, a photopolymerization initiator (Irgacure 907) , Nippon Ciba Geigy Co., Ltd.) 3.0 parts by mass, photosensitizer (Kayacure-DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.0 part by mass, and methyl ethyl ketone 50.0 parts by mass were added and stirred. .

孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液(HL−4)を調製した。この塗布液の粘度は20.0mPa・秒、表面張力28mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は3.5ml/mとした。 The mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution (HL-4) for a high refractive index layer. The coating solution had a viscosity of 20.0 mPa · sec and a surface tension of 28 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 3.5 ml / m 2 .

(高屈折率層用塗布液(HL−5)の調製)
上記の二酸化チタン分散液A430.6質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)36.7質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)3.0質量部、及び光増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)1.0量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer (HL-5))
A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 36.7 parts by mass, a photopolymerization initiator (Irgacure 907) , Nippon Ciba-Geigy Co., Ltd.) 3.0 parts by mass, and photosensitizer (Kayacure-DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.0 part by mass were added and stirred.

孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液(HL−5)を調製した。この塗布液の粘度は24.0mPa・秒、表面張力は28mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は3.5ml/mとした。 The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm to prepare a coating solution (HL-5) for a high refractive index layer. The coating solution had a viscosity of 24.0 mPa · sec, a surface tension of 28 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 3.5 ml / m 2 .

(低屈折率層用塗布液(LL−1)の調製)
下記の共重合体(化学式13)をメチルエチルケトンに23.7質量%の濃度になるように溶解した溶液203.2質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X−22−164C(信越化学(株)製)1.4質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)2.4質量部、メチルエチルケトン764.6質量部、及びシクロヘキサノン28.4質量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-1))
203.2 parts by mass of a solution obtained by dissolving the following copolymer (chemical formula 13) in methyl ethyl ketone so as to have a concentration of 23.7% by mass, a terminal methacrylate group-containing silicone resin X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) 1.4 parts by mass, photoradical generator Irgacure 907 (trade name) 2.4 parts by mass, methyl ethyl ketone 764.6 parts by mass, and cyclohexanone 28.4 parts by mass were added and stirred.

孔径0.45μmのPTFE製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液(LL−1)を調製した。この塗布液の粘度は0.61mPa・秒、表面張力は24mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は3.5ml/mとした。 The mixture was filtered through a PTFE filter having a pore diameter of 0.45 μm to prepare a coating solution for low refractive index layer (LL-1). The viscosity of this coating solution was 0.61 mPa · sec, the surface tension was 24 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 3.5 ml / m 2 .

Figure 2006122889

(低屈折率層用塗布液(LL−2)の調製)
上記の共重合体(化学式13)をメチルエチルケトンに23.7質量%の濃度になるように溶解した溶液468.8質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X−22−164C(信越化学(株)製)3.3質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)5.6質量部、メチルエチルケトン495.9質量部、及びシクロヘキサノン26.4質量部を添加して攪拌した。
Figure 2006122889

(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-2))
468.8 parts by mass of a solution obtained by dissolving the above copolymer (Chemical Formula 13) in methyl ethyl ketone to a concentration of 23.7% by mass, terminal methacrylate group-containing silicone resin X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) 3.3 parts by mass, 5.6 parts by mass of photoradical generator Irgacure 907 (trade name), 495.9 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 26.4 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred.

孔径0.45μmのPTFE製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液(LL−2)を調製した。この塗布液の粘度は1.0mPa・秒、表面張力は24mN/mであり、透明支持体に塗布される塗布液の量は1.5ml/mとした。 The mixture was filtered through a PTFE filter having a pore diameter of 0.45 μm to prepare a coating solution for low refractive index layer (LL-2). The coating solution had a viscosity of 1.0 mPa · sec, a surface tension of 24 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the transparent support was 1.5 ml / m 2 .

(低屈折率層用塗布液(LL−3)の調製)
上記の共重合体(化学式13)をメチルエチルケトンに23.7質量%の濃度になるように溶解した溶液355.5質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X−22−164C(信越化学(株)製)2.5質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)4.2質量部、メチルエチルケトン610.5質量部、及びシクロヘキサノン27.3質量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-3))
355.5 parts by mass of a solution obtained by dissolving the above copolymer (Chemical Formula 13) in methyl ethyl ketone to a concentration of 23.7% by mass, a terminal methacrylate group-containing silicone resin X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) 2.5 parts by mass, 4.2 parts by mass of photo radical generator Irgacure 907 (trade name), 610.5 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 27.3 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred.

孔径0.45μmのPTFE製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液(LL−3)を調製した。この塗布液の粘度は0.76mPa・秒、表面張力は24mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は2.0ml/mとした。 The mixture was filtered through a PTFE filter having a pore diameter of 0.45 μm to prepare a coating solution for low refractive index layer (LL-3). The viscosity of this coating solution was 0.76 mPa · sec, the surface tension was 24 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 2.0 ml / m 2 .

(低屈折率層用塗布液(LL−4)の調製)
上記の共重合体(化学式13)をメチルエチルケトンに23.7質量%の濃度になるように溶解した溶液142.2質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X−22−164C(信越化学(株)製)1.0質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)1.7質量部、メチルエチルケトン826.2質量部、及びシクロヘキサノン28.9質量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-4))
142.2 parts by mass of a solution obtained by dissolving the above copolymer (Chemical Formula 13) in methyl ethyl ketone to a concentration of 23.7% by mass, terminal methacrylate group-containing silicone resin X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) 1.0 part by mass, 1.7 parts by mass of photoradical generator Irgacure 907 (trade name), 826.2 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 28.9 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred.

孔径0.45μmのPTFE製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液(LL−4)を調製した。この塗布液の粘度は0.49mPa・秒、表面張力は24mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は5.0ml/mとした。 The mixture was filtered through a PTFE filter having a pore diameter of 0.45 μm to prepare a coating solution for low refractive index layer (LL-4). The viscosity of this coating solution was 0.49 mPa · sec, the surface tension was 24 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 5.0 ml / m 2 .

(低屈折率層用塗布液(LL−5)の調製)
上記の共重合体(化学式13)をメチルエチルケトンに23.7質量%の濃度になるように溶解した溶液118.4質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X−22−164C(信越化学(株)製)0.8質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)1.4質量部、メチルエチルケトン850.3質量部、及びシクロヘキサノン29.1質量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-5))
118.4 parts by mass of a solution obtained by dissolving the above copolymer (Chemical Formula 13) in methyl ethyl ketone to a concentration of 23.7% by mass, terminal methacrylate group-containing silicone resin X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) 0.8 parts by mass, 1.4 parts by mass of photo radical generator Irgacure 907 (trade name), 850.3 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 29.1 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred.

孔径0.45μmのPTFE製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液(LL−5)を調製した。この塗布液の粘度は0.46mPa・秒、表面張力は24mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は6.0ml/mとした。 The mixture was filtered through a PTFE filter having a pore diameter of 0.45 μm to prepare a coating solution for low refractive index layer (LL-5). The coating solution had a viscosity of 0.46 mPa · sec, a surface tension of 24 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 6.0 ml / m 2 .

(低屈折率層用塗布液(LL−6)の調製)
上記の共重合体(化学式13)をメチルエチルケトンに23.7質量%の濃度になるように溶解した溶液71.1質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X−22−164C(信越化学(株)製)0.5質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)0.8質量部、メチルエチルケトン898.1質量部、及びシクロヘキサノン29.5質量部を添加して攪拌した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-6))
71.1 parts by mass of a solution obtained by dissolving the above copolymer (Chemical Formula 13) in methyl ethyl ketone to a concentration of 23.7% by mass, terminal methacrylate group-containing silicone resin X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) 0.5 parts by mass, 0.8 parts by mass of photoradical generator Irgacure 907 (trade name), 898.1 parts by mass of methyl ethyl ketone, and 29.5 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred.

孔径0.45μmのPTFE製フィルターで濾過して低屈折率層用塗布液(LL−5)を調製した。この塗布液の粘度は0.43mPa・秒、表面張力は24mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は10.0ml/mとした。 The mixture was filtered through a PTFE filter having a pore diameter of 0.45 μm to prepare a coating solution for low refractive index layer (LL-5). The viscosity of this coating solution was 0.43 mPa · sec, the surface tension was 24 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 10.0 ml / m 2 .

(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器内において、メチルエチルケトン119部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM5103、信越化学工業(株)製)101質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3質量部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60°Cで4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。
(Preparation of sol solution a)
In a reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 119 parts of methyl ethyl ketone, 101 parts by weight of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 3 parts by weight of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added. After mixing, 30 parts of ion exchange water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a.

ゾル液aの質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。   The mass average molecular weight of the sol liquid a was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(低屈折率層用塗布液(LL−7)の調製)
ポリシロキサン及び水酸基含有フッ素ポリマーを含有するJN−7228A(屈折率1.42、固形分濃度6%、JSR(株)製)14.9質量部g、シリカゾル(シリカ、MEK−ST、平均粒径15nm、固形分濃度30%、日産化学社製)0.61質量部g、シリカゾル(シリカ、MEK−STの粒子サイズ違い、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)0.79質量部g、ゾル液a0.41質量部g及びメチルエチルケトン3.1質量部g、シクロヘキサノン0.6質量部gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液(LL−7)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-7))
JN-7228A containing a polysiloxane and a hydroxyl group-containing fluoropolymer (refractive index 1.42, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation) 14.9 parts by mass g, silica sol (silica, MEK-ST, average particle size) 15 nm, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 0.61 parts by mass g, silica sol (silica, MEK-ST particle size difference, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 0.79 parts by mass g, sol liquid a 0.41 parts by mass g, methyl ethyl ketone 3.1 parts by mass g, cyclohexanone 0.6 parts by mass g were added, and after stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm. A coating solution for refractive index layer (LL-7) was prepared.

この塗布液の粘度は0.61mPa・秒、表面張力は24mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は2.8ml/mとした。 The coating solution had a viscosity of 0.61 mPa · sec, a surface tension of 24 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 2.8 ml / m 2 .

(低屈折率層用塗布液(LL−8)の調製)
既述のJN−7228Aに比して塗膜強度を高めたJTA113(商品名、屈折率1.44、固形分濃度6%、MEK溶液、JSR(株)製)13.1質量部g、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)1.31質量部g、前記ゾル液a0.59質量部g、及びメチルエチルケトン5.1質量部g、シクロヘキサノン0.6質量部gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液(LL−8)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-8))
JTA113 (trade name, refractive index 1.44, solid content concentration 6%, MEK solution, manufactured by JSR Corp.) 13.1 parts by mass g, colloidal, which has higher coating strength than JN-7228A described above Silica dispersion MEK-ST-L (trade name, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.31 parts by mass g, sol liquid a 0.59 parts by mass g, and methyl ethyl ketone 5 0.1 parts by mass g and 0.6 parts by mass of cyclohexanone were added, and after stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for low refractive index layer (LL-8).

この塗布液の粘度は0.66mPa・秒m、表面張力は23.7mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は2.8ml/mとした。 The coating solution had a viscosity of 0.66 mPa · sec m, a surface tension of 23.7 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 2.8 ml / m 2 .

(分散液A−1の調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31、特開2002−79616の調製例4に準じサイズを変更して作成)500部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)30部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水を9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加した。この分散液500gにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力20kPaで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し20質量%にしたときの粘度は25℃で5mPa・sであった。得られた分散液A−1のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.5%であった。
(Preparation of dispersion A-1)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol silica sol, average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20% by mass, silica particle refractive index 1.31, prepared by changing the size according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616 ) To 500 parts, 30 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetate were added and mixed, and then 9 parts of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 parts of acetylacetone was added. While adding cyclohexanone to 500 g of this dispersion so that the silica content was almost constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 20 kPa. There was no generation of foreign matter in the dispersion, and the viscosity when the solid content concentration was adjusted to 20% by mass with cyclohexanone was 5 mPa · s at 25 ° C. When the residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion A-1 was analyzed by gas chromatography, it was 1.5%.

(低屈折率層用塗布液(LL−9)の調製)
メチルエチルケトン100質量部に対して、特開平2004−45462号公報に記載の含フッ素共重合体P−3(重量平均分子量約50000)44.0質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)6.0質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンRMS−033(Gelest社製)3.0質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)3.0質量部を加えて溶解した。その後に分散液(A−1)を195質量部(シリカ+表面処理剤固形分として39.0質量部)、ゾル液a17.2質量部(固形分として5.0質量部)を添加した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%になり、シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの比率が10対90になるようにシクロヘキサノン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率層用塗布液(LL-9)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-9))
44.0 parts by mass of fluorine-containing copolymer P-3 (weight average molecular weight of about 50000) described in JP-A No. 2004-45462, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate with respect to 100 parts by mass of methyl ethyl ketone (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 6.0 parts by mass, terminal methacrylate group-containing silicone RMS-033 (Gelest) 3.0 parts by mass, photoradical generator Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals) 3.0 parts by mass was added and dissolved. Thereafter, 195 parts by mass (39.0 parts by mass as silica + surface treatment agent solid content) and 17.2 parts by mass of sol liquid a (5.0 parts by mass as solid content) were added to dispersion (A-1). A coating solution for low refractive index layer (LL-9) was prepared by diluting with cyclohexanone and methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating solution was 6% by mass and the ratio of cyclohexanone and methyl ethyl ketone was 10:90.

この塗布液の粘度は0.66mPa・秒m、表面張力は23.7mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は2.8ml/m とした。 The coating solution had a viscosity of 0.66 mPa · sec m, a surface tension of 23.7 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 2.8 ml / m 2 .

(低屈折率層用塗布液(LL−10)の調製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)3.3質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンRMS−033(Gelest社製)0.7質量部、光ラジカル発生剤イルガキュア907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.2質量部を加えて溶解した。その後に分散液(A−1)を36.4質量部、ゾル液a6.2質量部を添加した。メチルエチルケトンを290.6質量部、シクロヘキサノンを9.0質量部添加し、低屈折率層用塗布液(LL-10)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-10))
A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 3.3 parts by mass, terminal methacrylate group-containing silicone RMS-033 (Gelest) 0.7 parts by mass, light Radical generator Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.2 parts by mass was added and dissolved. Thereafter, 36.4 parts by mass of dispersion (A-1) and 6.2 parts by mass of sol liquid a were added. 290.6 parts by mass of methyl ethyl ketone and 9.0 parts by mass of cyclohexanone were added to prepare a coating solution for low refractive index layer (LL-10).

この塗布液の粘度は0.66mPa・秒m、表面張力は23.7mN/mであり、ウェブWに塗布される塗布液の量は2.8ml/mとした。 The coating solution had a viscosity of 0.66 mPa · sec m, a surface tension of 23.7 mN / m, and the amount of the coating solution applied to the web W was 2.8 ml / m 2 .

(ダイコーターの構成)
図10に示されるスロットダイ13は、上流側リップランド長IUPが0.5mm、下流側リップランド長ILOが50μmで、スロット16の開口部のウェブ走行方向における長さが150μm、スロット16の長さが50mmのものを使用した。
(Die coater configuration)
The slot die 13 shown in FIG. 10 has an upstream lip land length IUP of 0.5 mm, a downstream lip land length ILO of 50 μm, a length of the opening of the slot 16 in the web running direction of 150 μm, and the length of the slot 16. The one with a length of 50 mm was used.

上流側リップランド18aとウェブWの隙間を、下流側リップランド18bとウェブWの隙間よりも50μm長くし(以下、オーバーバイト長さ50μmと称する)、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GLを50μmに設定した。   The gap between the upstream lip land 18a and the web W is 50 μm longer than the gap between the downstream lip land 18b and the web W (hereinafter referred to as an overbite length of 50 μm), and the gap between the downstream lip land 18b and the web W GL was set to 50 μm.

また、減圧チャンバー40のサイドプレート40bとウェブWとの隙間GS、及びバックプレート40aとウェブWとの隙間GBはともに200μmとした。   Further, the gap GS between the side plate 40b and the web W of the decompression chamber 40 and the gap GB between the back plate 40a and the web W were both 200 μm.

(実施例1)
(反射防止フィルムの作製)
膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD−80UF、富士写真フイルム(株)製)の上に、ハードコート層用塗布液(HCL−1)を前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。HCL−1の塗布では、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GL80μmに変更し、減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。
Example 1
(Preparation of antireflection film)
On a triacetyl cellulose film (TD-80UF, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with a film thickness of 80 μm, a hard coat layer coating solution (HCL-1) is applied at a coating speed of 25 m / min using the die coater. Applied. In application | coating of HCL-1, it changed into the clearance gap GL80micrometer of the downstream lip land 18b and the web W, and the pressure reduction degree of the pressure reduction chamber was 0.8 kPa.

その後80°Cで乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量500mJ/cm の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層(2)を形成した。 Then, after drying at 80 ° C., using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less, an illuminance of 400 mW / cm 2, irradiation amount 500 mJ / cm 2 of ultraviolet to cure the coated layer was irradiated, to form a hard coat layer having a thickness of 8μm (2).

上記のハードコート層(2)の上に、中屈折率層用塗布液(ML−1)を前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。   On the hard coat layer (2), the medium refractive index layer coating solution (ML-1) was coated at a coating speed of 25 m / min using the die coater. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa.

その後100°Cで30秒間乾燥した後、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度550mW/cm、照射量550mJ/cm の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層(屈折率1.63、膜厚64nm)を形成した。 Then, after drying at 100 ° C. for 30 seconds, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (made by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 0.1 vol% or less, The coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays having an illuminance of 550 mW / cm 2 and an irradiation amount of 550 mJ / cm 2 to form a medium refractive index layer (refractive index 1.63, film thickness 64 nm).

中屈折率層(3)の上に、高屈折率層用塗布液(HL−1)を前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。   On the middle refractive index layer (3), a coating solution for high refractive index layer (HL-1) was applied at a coating speed of 25 m / min using the die coater. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa.

その後100°Cで30秒間乾燥した後、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度550mW/ cm 、照射量550mJ/cm の紫外線を照射し、高屈折率層(屈折率1.90、膜厚103nm)を形成した。 Then, after drying at 100 ° C. for 30 seconds, using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 240 W / cm while purging with nitrogen so that the oxygen concentration becomes 0.1 vol% or less. The film was irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 550 mW / cm 2 and an irradiation amount of 550 mJ / cm 2 to form a high refractive index layer (refractive index 1.90, film thickness 103 nm).

高屈折率層の上に、低屈折率層用塗布液(LL−1)を前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。その後90°Cで30秒間乾燥した後、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/ cm 、照射量400mJ/cm の紫外線を照射し、低屈折率層(屈折率1.45 、膜厚83 nm)を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。 On the high refractive index layer, the low refractive index layer coating solution (LL-1) was applied at a coating speed of 25 m / min using the die coater. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa. Then, after drying at 90 ° C. for 30 seconds, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. The film was irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 600 mW / cm 2 and an irradiation amount of 400 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer (refractive index 1.45, film thickness 83 nm). In this way, an antireflection film was produced.

上記製造工程において、塗布、乾燥工程は0.5μm以上の粒子として30個/(立方メートル)以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平10−309553号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をウェブWの表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、200V以下であった。上記の塗布は1層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−(UV又は熱)硬化−巻き取りの各工程で行った。   In the above manufacturing process, the coating and drying processes are performed in an air atmosphere with an air cleanliness of 30 particles / (cubic meter) or less as particles of 0.5 μm or more, and the cleaning described in JP-A-10-309553 is performed immediately before coating. The air was blown at a high speed to peel off the deposits from the surface of the web W, and the coating was performed while removing dust by a method of sucking with a suction port close to the web W. The charged voltage of the base before dust removal was 200 V or less. Said application | coating was performed in each process of sending-out-dust removal-application-dry- (UV or heat) hardening-winding up for every layer.

作成された反射防止フィルムを、2.0規定、55°CのNaOH水溶液中に2分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TACーTD80U、富士写真フィルム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。   The prepared antireflection film was immersed in a 2.0 normal, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes to saponify the triacetyl cellulose surface on the back side of the film, and a 80 μm thick triacetyl cellulose film (TAC) A polarizing plate was prepared by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol with a film obtained by saponifying TD80U (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) under the same conditions and adhering and protecting both sides of a polarizer prepared by stretching.

このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   The thus-prepared polarizing plate is a liquid crystal display device of a notebook computer equipped with a transmission type TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the antireflection film side is the outermost surface. When the polarizing plate on the viewing side of D-BEF (made between the backlight and the liquid crystal cell) is replaced, the reflection of the background is extremely small, the color of the reflected light is remarkably reduced, and the display A display device with very high display quality in which in-plane uniformity was ensured was obtained.

(実施例2)
前記ダイコーターを使用する代わりにグラビアコーターを使用し、その他の条件は実施例1と同様にして反射防止フィルムを作成した。塗布は可能であったが、ウェブW(ベース)の長手方向に等間隔で発生するスジ及び幅方向に発生する段状のムラが発生した。実施例1と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えないレベルであった。
(Example 2)
A gravure coater was used instead of the die coater, and an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except for the other conditions. Although coating was possible, streaks that occurred at equal intervals in the longitudinal direction of the web W (base) and stepwise unevenness that occurred in the width direction occurred. When a display device was created in the same procedure as in Example 1, uneven coloring was visually recognized in the display device, which was not at a high quality level.

(実施例3〜6)
コーター10の下流側リップランド長ILOを10μm、30μm、100μm、及び120μmにした他は、実施例1と同様の構成で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。
(Examples 3 to 6)
An antireflection film was prepared by coating in the same manner as in Example 1 except that the downstream lip land length ILO of the coater 10 was changed to 10 μm, 30 μm, 100 μm, and 120 μm.

結果を表1に示す。下流側リップランド長ILOが30μmから100μmの範囲で面状故障の発生しない反射防止フィルムが得られている。   The results are shown in Table 1. An antireflection film in which no surface failure occurs is obtained when the downstream lip land length ILO is in the range of 30 μm to 100 μm.

実施例3では、ベース長手方向にスジ状のムラが発生した。   In Example 3, streaky unevenness occurred in the longitudinal direction of the base.

実施例6では実施例1と同様のスピードではビード14aの形成ができず、塗布不可能であった。塗布速度を半分に落とすことにより塗布は可能となったが、ベース長手方向にスジ状のムラが発生した。   In Example 6, the bead 14a could not be formed at the same speed as in Example 1, and application was impossible. Application was possible by reducing the application speed to half, but streaky irregularities occurred in the longitudinal direction of the base.

実施例4及び5で作成された反射防止フィルムを使用し、実施例1と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   When using the antireflection film prepared in Examples 4 and 5 and producing a display device in the same procedure as in Example 1, the reflection of the background is extremely small, and the color of the reflected light is significantly reduced. Thus, a display device with very high display quality in which uniformity within the display surface was ensured was obtained.

一方、実施例3及び6で得られた反射防止フィルムを使用し、実施例1と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えないレベルであった。   On the other hand, when the antireflection film obtained in Examples 3 and 6 was used and a display device was created in the same procedure as in Example 1, uneven coloring was visually recognized in the display device, which could not be said to be high quality. It was a level.

(実施例7〜10)
コーター10のオーバーバイト長さLOを0μm、30μm、120μm、及び150μmとした他は、実施例1と同様の構成で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。
(Examples 7 to 10)
Coating was performed in the same configuration as in Example 1 except that the overbite length LO of the coater 10 was 0 μm, 30 μm, 120 μm, and 150 μm, and an antireflection film was prepared.

結果を表1に示す。オーバーバイト長さがLO30μmから120μmまでの範囲で面状故障の発生しない反射防止フィルムが得られている
実施例7では塗布は可能であったが、面状を見るとベース幅方向に段状ムラが認められている。
The results are shown in Table 1. An anti-reflection film that does not cause surface failure is obtained when the over bit length is in the range of LO 30 μm to 120 μm. Although application was possible in Example 7, stepped unevenness in the base width direction was seen in the surface shape. Is allowed.

実施例10では実施例1と同様のスピードではビード14aの形成ができず、塗布不可能であった。塗布速度を半分に落とすことにより塗布は可能となったが、ベース長手方向にスジ状のムラが発生した。   In Example 10, the bead 14a could not be formed at the same speed as in Example 1, and coating was impossible. Application was possible by reducing the application speed to half, but streaky irregularities occurred in the longitudinal direction of the base.

実施例8及び9で作成された反射防止フィルムを使用し、実施例1と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   Using the antireflection film prepared in Examples 8 and 9, and producing a display device in the same procedure as in Example 1, there is very little reflection of the background, the color of reflected light is significantly reduced, and Thus, a display device with very high display quality in which uniformity within the display surface was ensured was obtained.

一方、実施例7及び10で得られた反射防止フィルムを使用し、実施例1と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えないレベルであった。   On the other hand, when the anti-reflection film obtained in Examples 7 and 10 was used and a display device was prepared in the same procedure as in Example 1, uneven coloring was visually recognized in the display device, which could not be said to be high quality. It was a level.

(実施例11〜15)
低屈折率層用塗布液として、LL−1の代わりにLL−2、LL−3、LL−4、LL−5、及びLL−6を使用する他は実施例1と同様の条件で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。
(Examples 11 to 15)
Coating is performed under the same conditions as in Example 1 except that LL-2, LL-3, LL-4, LL-5, and LL-6 are used instead of LL-1 as the coating solution for the low refractive index layer. The antireflection film was made.

結果を表2に示す。ウェブWに塗布される塗布液の量が2ml/m 以上では塗布液の塗布が可能であるが、1.5ml/mでは全面均一に塗布することができず、反射防止フィルムを作成することができなかった。 The results are shown in Table 2. When the amount of the coating solution applied to the web W is 2 ml / m 2 or more, the coating solution can be applied. However, when the amount is 1.5 ml / m 2 , the entire surface cannot be applied uniformly, and an antireflection film is produced. I couldn't.

また、ウェブWに塗布される塗布液の量が6ml/m 及び10ml/m の時は塗布は可能であるが、塗布液の量が多いため乾燥が間に合わず、風に起因する縦スジ状のムラが全面に発生した。 In addition, when the amount of the coating liquid applied to the web W is 6 ml / m 2 and 10 ml / m 2 , the coating is possible, but since the amount of the coating liquid is large, drying is not in time, and vertical streaks caused by the wind occur. Unevenness occurred on the entire surface.

実施例12及び13で作成された反射防止フィルムを使用し、実施例1と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   Using the antireflection film prepared in Examples 12 and 13 and producing a display device in the same procedure as in Example 1, the reflection of the background is extremely small, the color of the reflected light is significantly reduced, and Thus, a display device with very high display quality in which uniformity within the display surface was ensured was obtained.

一方、実施例14及び実施例15で得られた反射防止フィルムを使用し、実施例1と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えないレベルであった。   On the other hand, when the antireflection film obtained in Example 14 and Example 15 was used and a display device was created in the same procedure as in Example 1, uneven coloring was visually recognized in the display device, and what is high quality? It was a level I couldn't say.

(実施例16〜19)
高屈折率層用塗布液をHL−1の代わりにHL−2、HL−3、HL−4、及びHL−5を使用する他は実施例1と同様の条件で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。
(Examples 16 to 19)
The antireflective film is coated under the same conditions as in Example 1 except that HL-2, HL-3, HL-4, and HL-5 are used instead of HL-1 as the coating solution for the high refractive index layer. It was created.

結果を表3に示す。塗布液の粘度が2mPa・秒までは、25m/分で塗布可能である。   The results are shown in Table 3. The coating solution can be applied at a rate of 25 m / min up to a viscosity of 2 mPa · sec.

2.6mPa・秒の粘度を示すHL−3は、25m/分では、全面均一に塗布することができなかったが、20m/分では、良好な反射防止フィルムを作成することができた。   HL-3 showing a viscosity of 2.6 mPa · sec could not be applied uniformly over the entire surface at 25 m / min, but a good antireflection film could be produced at 20 m / min.

20mPa・秒の粘度を示すHL−4は、25m/分では、全面均一に塗布することができなかったが、3m/分では、良好な反射防止フィルムを作成することができた。   HL-4 showing a viscosity of 20 mPa · sec could not be applied uniformly over the entire surface at 25 m / min, but a good antireflection film could be produced at 3 m / min.

24mPa・秒の粘度を示すHL−5は、塗布速度を下げても全面に塗布することができなかった。   HL-5 showing a viscosity of 24 mPa · sec could not be applied to the entire surface even when the coating speed was lowered.

実施例16で作成された反射防止フィルム及びHL−3を20m/分で塗布して作成された反射防止フィルムを使用し、実施例1と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   Using the antireflection film prepared in Example 16 and the antireflection film prepared by applying HL-3 at 20 m / min, a display device was prepared in the same procedure as in Example 1, and the background reflection was obtained. A display device with extremely high display quality in which there was very little dust, the color of reflected light was significantly reduced, and uniformity within the display surface was ensured was obtained.

(実施例20)
(反射防止フィルムの作製)
(1)防眩性ハードコート層の塗布
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフイルム(TACーTD80UL、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、防眩性ハードコート層用塗布液(HCL−2)を前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。HCL−2の塗布では、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GLを80μmに変更し、減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。
(Example 20)
(Preparation of antireflection film)
(1) Application of anti-glare hard coat layer A triacetyl cellulose film (TAC-TD80UL, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm is unrolled in the form of a roll and applied for an anti-glare hard coat layer. (HCL-2) was coated at a coating speed of 25 m / min using the die coater. In the application of HCL-2, the gap GL between the downstream lip land 18b and the web W was changed to 80 μm, and the degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa.

60°Cで150秒乾燥の後、更に窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量300mJ/cm の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ2.9μmのハードコート層(2)を形成し、巻き取った。 After drying at 60 ° C. for 150 seconds, using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm under a nitrogen purge, ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 are used. The coating layer was cured by irradiation to form a hard coat layer (2) having a thickness of 2.9 μm and wound up.

(2)低屈折率層の塗布
ハードコート層(2)を塗布したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液LL−7を前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。
(2) Application of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with the hard coat layer (2) is unwound again, and the low refractive index layer coating solution LL-7 is applied at 25 m / min using the die coater. Coating was performed at a coating speed. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa.

120°Cで150秒乾燥の後、更に140°Cで8分乾燥させてから、窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量600mJ/cm の紫外線を照射し、厚さ100nmの低屈折率層(5)を形成し、巻き取った。 After drying at 120 ° C. for 150 seconds and further drying at 140 ° C. for 8 minutes, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen purge, the illuminance is 400 mW / cm. 2. Irradiation with an irradiation amount of 600 mJ / cm 2 was performed to form a low refractive index layer (5) having a thickness of 100 nm and wound up.

上記の工程において、塗布、乾燥工程は0.5μm以上の粒子として30個/(立方メートル)以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平10−309553号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、200V以下であった。上記の塗布は1層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−(UV又は熱)硬化−巻き取りの各工程で行った。   In the above steps, the coating and drying steps are performed in an air atmosphere with an air cleanliness of 30 particles / (cubic meter) or less as particles of 0.5 μm or more, and the cleaning described in JP-A-10-309553 is performed immediately before coating. The air was blown at a high speed to remove the deposits from the film surface, and the coating was performed while removing dust by a method of sucking with a suction port close to the film. The charged voltage of the base before dust removal was 200 V or less. Said application | coating was performed in each process of sending-out-dust removal-application-dry- (UV or heat) hardening-winding up for every layer.

作成された反射防止フィルムを、2.0規定、55°CのNaOH水溶液中に2分間浸漬して、フィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フィルム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。   The prepared anti-reflection film was immersed in a 2.0 normal, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes to saponify the triacetyl cellulose surface on the back side of the film, and a 80 μm thick triacetyl cellulose film ( A polarizing plate was prepared by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol with a film obtained by saponifying TAC-TD80U (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) under the same conditions and adhering and protecting both sides of a polarizer prepared by stretching. .

このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   The thus-prepared polarizing plate is a liquid crystal display device of a notebook computer equipped with a transmission type TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the antireflection film side is the outermost surface. When the polarizing plate on the viewing side of D-BEF (made between the backlight and the liquid crystal cell) is replaced, the reflection of the background is extremely small, the color of the reflected light is remarkably reduced, and the display A display device with very high display quality in which in-plane uniformity was ensured was obtained.

(実施例21)
(反射防止フィルムの作製)
(1)防眩性ハードコート層の塗布
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TD80U:商品名、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、防眩性ハードコート層用塗布液HCL−3を、乾燥膜厚が7μmになるように前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。
(Example 21)
(Preparation of antireflection film)
(1) Application of antiglare hard coat layer A triacetyl cellulose film (TD80U: trade name, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm is unrolled in a roll form and applied for an antiglare hard coat layer. Liquid HCL-3 was applied at a coating speed of 25 m / min using the die coater so that the dry film thickness was 7 μm.

HCL−3の塗布では、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GLを80μmに変更し、減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。110°Cで10秒間、50°Cで20秒間、溶剤乾燥の後、更に窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、積算光量が55mJになるようにUV照射して、光硬化させ、防眩層を形成し、巻き取った。   In application of HCL-3, the gap GL between the downstream lip land 18b and the web W was changed to 80 μm, and the degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa. After solvent drying at 110 ° C. for 10 seconds and at 50 ° C. for 20 seconds, under nitrogen purge (oxygen concentration of 200 ppm or less), UV irradiation is performed so that the integrated light amount becomes 55 mJ, photocuring, anti-glare A layer was formed and wound up.

(2)低屈折率層の塗布
前記防眩層を塗布したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液(LL−8)を乾燥膜厚が100nmになるように前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。
(2) Application of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with the antiglare layer is unwound again, and the coating liquid for low refractive index layer (LL-8) is dried so that the dry film thickness becomes 100 nm. Coating was performed at a coating speed of 25 m / min using a die coater. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa.

120°Cで70秒乾燥の後、更に110°C°Cで10分乾燥し、熱硬化させてから、窒素パージ下(酸素濃度100ppm以下)で、積算光量が120mJになるようにUV照射して、光硬化させ、低屈折率層(5)が塗布された反射防止フィルムを形成し、巻き取った。   After drying at 120 ° C for 70 seconds, further drying at 110 ° C ° C for 10 minutes and thermosetting, under a nitrogen purge (oxygen concentration of 100 ppm or less), UV irradiation is performed so that the integrated light quantity becomes 120 mJ. Then, it was photocured to form an antireflection film coated with the low refractive index layer (5) and wound up.

上記工程において、塗布、乾燥工程は0.5μm以上の粒子として30個/(立方メートル)以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平10−309553号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、200V以下であった。上記の塗布は1層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−(UV又は熱)硬化−巻き取りの各工程で行った。   In the above steps, the coating and drying steps are carried out in an air atmosphere with an air cleanliness of 30 particles / (cubic meter) or less as particles of 0.5 μm or more, and the cleanliness described in JP-A-10-309553 just before the coating. The air was sprayed at a high speed to peel off the deposits from the film surface, and the coating was performed while removing dust by a method of sucking with a suction port close to the film. The charged voltage of the base before dust removal was 200 V or less. Said application | coating was performed in each process of sending-out-dust removal-application-dry- (UV or heat) hardening-winding up for every layer.

作成された反射防止フィルムを、2.0規定、55°CのNaOH水溶液中に2分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フィルム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   The prepared antireflection film was immersed in a 2.0 normal, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes to saponify the triacetyl cellulose surface on the back side of the film, and a 80 μm thick triacetyl cellulose film (TAC) A polarizing plate was prepared by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol with a film obtained by saponifying TD80U (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) under the same conditions and adhering and protecting both sides of a polarizer prepared by stretching. The thus-prepared polarizing plate is a liquid crystal display device of a notebook computer equipped with a transmission type TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the antireflection film side is the outermost surface. When the polarizing plate on the viewing side of D-BEF (made between the backlight and the liquid crystal cell) is replaced, the reflection of the background is extremely small, the color of the reflected light is remarkably reduced, and the display A display device with very high display quality in which in-plane uniformity was ensured was obtained.

(実施例22)
(反射防止フィルムの作製)
(1)防眩性ハードコート層の塗布
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TD80U:商品名、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、防眩性ハードコート層用塗布液HCL−3を、乾燥膜厚が7μmになるように前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。
(Example 22)
(Preparation of antireflection film)
(1) Application of antiglare hard coat layer A triacetyl cellulose film (TD80U: trade name, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm is unrolled in a roll form and applied for an antiglare hard coat layer. Liquid HCL-3 was applied at a coating speed of 25 m / min using the die coater so that the dry film thickness was 7 μm.

HCL−3の塗布では、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GLを80μmに変更し、減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。110°Cで10秒間、50°Cで20秒間、溶剤乾燥の後、更に窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、積算光量が55mJになるようにUV照射して、光硬化させ、防眩層を形成し、巻き取った。   In application of HCL-3, the gap GL between the downstream lip land 18b and the web W was changed to 80 μm, and the degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa. After solvent drying at 110 ° C. for 10 seconds and at 50 ° C. for 20 seconds, under a nitrogen purge (oxygen concentration of 200 ppm or less), UV irradiation is performed so that the integrated light quantity becomes 55 mJ, photocuring, anti-glare A layer was formed and wound up.

(2)低屈折率層の塗布
前記防眩層を塗布したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、低屈折率層用塗布液(LL−9)を前記ダイコーターを用いて25m/分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバーの減圧度は0.8kPaとした。その後90°Cで30秒間乾燥した後、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/ cm 、照射量400mJ/cm の紫外線を照射し、低屈折率層(膜厚95nm)を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。
(2) Application of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with the antiglare layer is unwound again, and the low refractive index layer coating solution (LL-9) is applied at 25 m / min using the die coater. Applied at speed. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa. Then, after drying at 90 ° C. for 30 seconds, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. The film was irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 600 mW / cm 2 and an irradiation amount of 400 mJ / cm 2 to form a low refractive index layer (film thickness 95 nm). In this way, an antireflection film was produced.

上記工程において、塗布、乾燥工程は0.5μm以上の粒子として30個/(立方メートル)以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平10−309553号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、200V以下であった。上記の塗布は1層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−(UV又は熱)硬化−巻き取りの各工程で行った。   In the above steps, the coating and drying steps are carried out in an air atmosphere with an air cleanliness of 30 particles / (cubic meter) or less as particles of 0.5 μm or more, and the cleanliness described in JP-A-10-309553 just before the coating. The air was sprayed at a high speed to peel off the deposits from the film surface, and the coating was performed while removing dust by a method of sucking with a suction port close to the film. The charged voltage of the base before dust removal was 200 V or less. Said application | coating was performed in each process of sending-out-dust removal-application-dry- (UV or heat) hardening-winding up for every layer.

作成された反射防止フィルムを、2.0規定、55°CのNaOH水溶液中に2分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フィルム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   The prepared antireflection film was immersed in a 2.0 normal, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes to saponify the triacetyl cellulose surface on the back side of the film, and a 80 μm thick triacetyl cellulose film (TAC) A polarizing plate was prepared by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol with a film obtained by saponifying TD80U (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) under the same conditions and adhering and protecting both sides of a polarizer prepared by stretching. The thus-prepared polarizing plate is a liquid crystal display device of a notebook computer equipped with a transmission type TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the antireflection film side is the outermost surface. When the polarizing plate on the viewing side of D-BEF (made between the backlight and the liquid crystal cell) is replaced, the reflection of the background is extremely small, the color of the reflected light is remarkably reduced, and the display A display device with very high display quality in which in-plane uniformity was ensured was obtained.

(実施例23)
低屈折率層用塗布液として、LL−9の代わりにLL−10を使用する他は実施例22と同様の条件で塗布を行い、反射防止フィルムを作成した。
該反射防止フィルムを使用して実施例22と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
(Example 23)
An antireflection film was prepared by coating under the same conditions as in Example 22 except that LL-10 was used instead of LL-9 as the coating solution for the low refractive index layer.
When a display device was prepared using the antireflection film in the same procedure as in Example 22, the background reflection was extremely small, the color of the reflected light was significantly reduced, and the uniformity within the display surface was further improved. A display device with very high display quality was obtained.

(比較例)
物理蒸着法により、実施例1のハードコート上に順次、酸化チタン(屈折率:2.39)25nmと酸化ケイ素(屈折率1.47)25nmの2層からなる実質上中屈折率層、酸化チタン46nmからなる高屈折率層、酸化ケイ素97nmからなる低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作成したところ、反射光が赤紫色に強く着色していた。
(Comparative example)
By means of physical vapor deposition, a substantially middle refractive index layer consisting of two layers of titanium oxide (refractive index: 2.39) 25 nm and silicon oxide (refractive index 1.47) 25 nm is sequentially formed on the hard coat of Example 1 and oxidized. When an antireflective film was formed by forming a high refractive index layer made of titanium 46 nm and a low refractive index layer made of silicon oxide 97 nm, the reflected light was strongly colored reddish purple.

また、得られた反射防止フィルムを使用し、実施例1と同様の手順で表示装置を作成したところ、画面が赤紫色に強く着色しておリ、表示品位が劣っていた。   Moreover, when the obtained antireflection film was used and a display device was prepared in the same procedure as in Example 1, the screen was strongly colored purple-red and the display quality was inferior.

(実施例101)
(ハードコート層用塗布液(HCL−1)の調整)
実施例1のHCL−1と同じものを調製して用いた。
(Example 101)
(Preparation of hard coat layer coating solution (HCL-1))
The same HCL-1 as in Example 1 was prepared and used.

(防眩性ハードコート層用塗布液(HCL−2)の調製)
紫外線硬化型樹脂であるPETA(商品名、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、日本化薬(株)製)を50.0質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア184(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製)を2.0質量部、第1の透光性微粒子としての架橋アクリル−スチレン粒子(綜研化学(株)製、平均粒径3.5μm、屈折率1.55、30%トルエン分散液)を13.3質量部、第2の透光性微粒子としての架橋ポリスチレン粒子(綜研化学(株)製、粒径3.5μm、屈折率1.60、30%トルエン分散液。ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用)を1.7質量部、下記のフッ素系表面改質剤(化学式14)であるFP−132を0.75質量部、オルガノシラン化合物であるKBM−5103(商品名、信越化学工業(株)製)を10.0質量部、及びトルエン38.5質量部を十分混合して塗布液として調整した。この塗布液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して防眩性ハードコート層用塗布液(HCL−2)を調製した。
(Preparation of anti-glare hard coat layer coating solution (HCL-2))
50.0 parts by mass of PETA (trade name, a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), an ultraviolet curable resin, and Irgacure 184 (Ciba Specialty), a photocuring initiator・ Chemicals Co., Ltd. (2.0 parts by mass), cross-linked acrylic-styrene particles as first translucent fine particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., average particle size 3.5 μm, refractive index 1.55, 30) % Toluene dispersion) 13.3 parts by mass, crosslinked polystyrene particles as second light-transmitting fine particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., particle size 3.5 μm, refractive index 1.60, 30% toluene dispersion). 1.7 parts by weight of a polytron disperser used after dispersion at 10,000 rpm for 20 minutes) and 0.75 mass of FP-132, which is the following fluorine-based surface modifier (Chemical Formula 14) 10.0 parts by mass of KBM-5103 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which is an organosilane compound, and 38.5 parts by mass of toluene were sufficiently mixed to prepare a coating solution. This coating solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare an antiglare hard coat layer coating solution (HCL-2).

Figure 2006122889

(二酸化チタン微粒子分散液Aの調整)
二酸化チタン微粒子分散液Aは実施例1の二酸化チタン微粒子分散液Aと全く同様にして調製した。
Figure 2006122889

(Preparation of titanium dioxide fine particle dispersion A)
The titanium dioxide fine particle dispersion A was prepared in exactly the same manner as the titanium dioxide fine particle dispersion A of Example 1.

(中屈折率層用塗布液(ML−1)の調製)
実施例1のML−1と全く同様にしてML−1を調整した。
(Preparation of Medium Refractive Index Layer Coating Solution (ML-1))
ML-1 was prepared in exactly the same manner as ML-1 in Example 1.

(高屈折率層用塗布液(HL−1)の調製)
実施例1のHL−1と全く同様にしてHL−1を調整した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer (HL-1))
HL-1 was prepared in exactly the same manner as HL-1 in Example 1.

(低屈折率層用塗布液(LL−1)の調製)
実施例1のLL−1と全く同様にしてLL−1を調整した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-1))
LL-1 was prepared in exactly the same manner as LL-1 in Example 1.

(ゾル液aの調製)
実施例1のゾル液aと全く同様にしてゾル液aを調整した。
(Preparation of sol solution a)
Sol solution a was prepared in exactly the same manner as Sol solution a of Example 1.

(低屈折率層用塗布液(LL−2)の調製)
既述のJN−7228Aに比して塗膜強度を高めたJTA113(商品名、屈折率1.44、固形分濃度6%、MEK溶液、JSR(株)製)13.1g、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)1.31g、前記ゾル液a0.59g、及びメチルエチルケトン5.1g、シクロヘキサノン0.6gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、低屈折率層用塗布液(LL−2)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LL-2))
JTA113 (trade name, refractive index 1.44, solid content concentration 6%, MEK solution, manufactured by JSR Corporation) 13.1 g, colloidal silica dispersion, which has higher coating strength than JN-7228A described above MEK-ST-L (trade name, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.31 g, the sol a0.59 g, methyl ethyl ketone 5.1 g, and cyclohexanone 0.6 g were added. After stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 1 μm to prepare a coating solution for low refractive index layer (LL-2).

(ダイコータの構成)
図10に示したスロットダイ13は、上流側リップランド長IUPが0.5mm、下流側リップランド長ILOが50μmで、スロット16の開口部のウェブ走行方向における長さが150μm、スロット16の長さが50mmのものを使用した。上流側リップランド18aとウェブ12の隙間を、下流側リップランド18bとウェブ12の隙間よりも50μm長くし(以下、オーバーバイト長さ50μmと称する)、下流側リップランド18bとウェブ12との隙間GLを50μmに設定した。また、図11に示した減圧チャンバ40のサイドプレート40bとウェブWとの隙間GS及びバックプレート40aとウェブWとの隙間GBはともに200μmとした。
(Die coater configuration)
The slot die 13 shown in FIG. 10 has an upstream lip land length IUP of 0.5 mm, a downstream lip land length ILO of 50 μm, a length of the opening of the slot 16 in the web running direction of 150 μm, and the length of the slot 16. The one with a length of 50 mm was used. The gap between the upstream lip land 18a and the web 12 is 50 μm longer than the gap between the downstream lip land 18b and the web 12 (hereinafter referred to as an overbite length of 50 μm), and the gap between the downstream lip land 18b and the web 12 is set. GL was set to 50 μm. Further, the gap GS between the side plate 40b and the web W and the gap GB between the back plate 40a and the web W of the decompression chamber 40 shown in FIG.

(反射防止フィルムの作製)
超音波除塵器で、膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD−80UF、富士写真フイルム(株)製)の塗布側表面を除電処理した上に、ハードコート層用塗布液(HCL−1)を前記ダイコータを用いて30m/minの塗布速度で塗布した。減圧チャンバ40の減圧度は0.8kPaとした。HLC−1(ハードコート層用塗布液)の塗布においては、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GLを80μmに変更して塗布を行った。塗布直後に図20(a)に示した第1乾燥装置215を使用して初期乾燥を行った。第1乾燥装置215の全長は5mとした。第1乾燥装置215中の凝縮板221、222は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第1乾燥装置215で初期乾燥された塗布ウェブ211aは、第2乾燥装置217を用いて80℃で乾燥した後、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量500mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。上記のハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液(ML−1)を前記ダイコータを用いて30m/minの塗布速度で塗布した。減圧チャンバの減圧度は0.8kPaとした。
(Preparation of antireflection film)
With an ultrasonic dust remover, the surface of the application side of a triacetyl cellulose film (TD-80UF, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) with a film thickness of 80 μm is subjected to charge removal treatment, and then the hard coat layer coating liquid (HCL-1) is applied. Coating was performed at a coating speed of 30 m / min using the die coater. The degree of decompression of the decompression chamber 40 was 0.8 kPa. In the application of HLC-1 (hard coat layer coating solution), the gap GL between the downstream lip land 18b and the web W was changed to 80 μm. Immediately after application, initial drying was performed using the first drying device 215 shown in FIG. The total length of the first drying device 215 was 5 m. The condensing plates 221 and 222 in the first drying device 215 were arranged with a predetermined inclination angle such that the downstream side in the traveling direction was separated from the coating film. The coated web 211a initially dried by the first drying device 215 is dried at 80 ° C. using the second drying device 217, and then 160 W while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. / Cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 500 mJ / cm 2 to cure the coating layer, and a hard coat layer having a thickness of 8 μm Formed. On the above-mentioned hard coat layer, a medium refractive index layer coating solution (ML-1) was applied at a coating speed of 30 m / min using the die coater. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa.

中屈折率層用塗布液を塗布した直後に図20(a)に示した第1乾燥装置215を使用して初期乾燥を行った。第1乾燥装置215中の凝縮板221、222は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第1乾燥装置215で初期乾燥された塗布ウェブ211aは、その後第2乾燥装置217を用いて100℃で30秒間乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度550mW/cm、照射量550mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層(屈折率1.63、膜厚64nm)を形成した。 Immediately after applying the medium refractive index layer coating solution, initial drying was performed using the first drying device 215 shown in FIG. The condensing plates 221 and 222 in the first drying device 215 were arranged with a predetermined inclination angle such that the downstream side in the traveling direction was separated from the coating film. The coated web 211a initially dried by the first drying device 215 is then dried by using the second drying device 217 at 100 ° C. for 30 seconds, and then purged with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. While using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 550 mW / cm 2 and an irradiation amount of 550 mJ / cm 2 , and a medium refractive index layer (Refractive index 1.63, film thickness 64 nm) was formed.

中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液(HL−1)を前記ダイコータを用いて30m/minの塗布速度で塗布した。減圧チャンバの減圧度は0.8kPaとした。塗布直後に図20(a)に示した第1乾燥装置215を使用して初期乾燥を行った。第1乾燥装置215中の凝縮板221、222は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第1乾燥装置215で初期乾燥された塗布ウェブ211aは、その後第2乾燥装置217を用いて100℃で30秒間乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度550mW/cm、照射量550mJ/cmの紫外線を照射し、高屈折率層(屈折率1.90、膜厚103nm)を形成した。 On the middle refractive index layer, a coating solution for high refractive index layer (HL-1) was applied at a coating speed of 30 m / min using the die coater. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa. Immediately after application, initial drying was performed using the first drying device 215 shown in FIG. The condensing plates 221 and 222 in the first drying device 215 were arranged with a predetermined inclination angle such that the downstream side in the traveling direction was separated from the coating film. The coating web 211a initially dried by the first drying device 215 is then dried by using the second drying device 217 at 100 ° C. for 30 seconds, and then purged with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. On the other hand, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), ultraviolet rays having an illuminance of 550 mW / cm 2 and an irradiation amount of 550 mJ / cm 2 were irradiated, and a high refractive index layer (refractive index of 1. 90, and a film thickness of 103 nm).

高屈折率層の上に、低屈折率層用塗布液(LL−1)を前記ダイコータを用いて30m/minで塗布した。減圧チャンバの減圧度は0.8kPaとした。塗布直後に図20に示した第1乾燥装置215を使用して初期乾燥を行った。第1乾燥装置215中の凝縮板221、222は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第1乾燥装置215で初期乾燥された塗布ウェブ211aは、その後第2乾燥装置217を用いて90℃で30秒間乾燥した後、酸素濃度が0.1体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラ
フィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm、照射量400mJ/cmの紫外線を照射し、低屈折率層(屈折率1.45、膜厚83nm)を形成した。このようにして、図1に示した反射防止フィルム10を作製した。
On the high refractive index layer, a coating solution for low refractive index layer (LL-1) was applied at 30 m / min using the die coater. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa. Immediately after the application, initial drying was performed using the first drying device 215 shown in FIG. The condensing plates 221 and 222 in the first drying device 215 were arranged with a predetermined inclination angle such that the downstream side in the traveling direction was separated from the coating film. The coating web 211a initially dried by the first drying device 215 is then dried by using the second drying device 217 at 90 ° C. for 30 seconds, and then purged with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 0.1% by volume or less. While using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), ultraviolet rays having an illuminance of 600 mW / cm 2 and an irradiation amount of 400 mJ / cm 2 were irradiated, and a low refractive index layer (refractive index 1. 45, film thickness 83 nm). Thus, the antireflection film 10 shown in FIG. 1 was produced.

上記工程において、塗布、乾燥工程は0.5μm以上の粒子として30個/(立方メートル)以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平10−309553号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をウェブ表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、200V以下であった。上記の塗布は1層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−(UV又は熱)硬化−巻き取りの各工程で行った。   In the above steps, the coating and drying steps are carried out in an air atmosphere with an air cleanliness of 30 particles / (cubic meter) or less as particles of 0.5 μm or more, and the cleanliness described in JP-A-10-309553 just before the coating. The air was sprayed at a high speed to separate the deposits from the web surface, and the coating was carried out while removing dust by a method of sucking with a suction port close to the web. The charged voltage of the base before dust removal was 200 V or less. Said application | coating was performed in each process of sending-out-dust removal-application-dry- (UV or heat) hardening-winding up for every layer.

この反射防止フィルムは塗布工程が起因で発生する故障が全く発生していない。更に、塗布直後の乾燥速度は200nm以下の乾燥膜厚を持つ各層とも0.3[g/(m・s)]以上であったが、乾燥工程に起因する膜厚ムラが視認されないため、色味の均一性が非常に高い反射防止フィルムであった。上記乾燥速度は第1乾燥装置215内の数点における塗布膜を採取して測定した。 This antireflection film does not have any failure that occurs due to the coating process. Furthermore, although the drying speed immediately after coating was 0.3 [g / (m 2 · s)] or more for each layer having a dry film thickness of 200 nm or less, film thickness unevenness due to the drying process is not visually recognized. It was an antireflection film with very high color uniformity. The drying speed was measured by collecting coating films at several points in the first drying device 215.

作製された反射防止フィルム10を、2.0規定、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フィルム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BE
Fをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
The prepared antireflection film 10 was immersed in a 2.0 normal, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes to saponify the triacetyl cellulose surface on the back side of the film, and a triacetyl cellulose film (TAC) having a thickness of 80 μm. -TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was saponified under the same conditions, and iodine was adsorbed to polyvinyl alcohol, and both sides of a polarizer prepared by stretching were bonded and protected to prepare a polarizing plate. The thus-prepared polarizing plate is a liquid crystal display device of a notebook computer equipped with a transmission type TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the antireflection film side is the outermost surface. Made D-BE
When F is replaced with the polarizing plate on the viewing side (having between the backlight and the liquid crystal cell), the reflection of the background is extremely small, the color of the reflected light is significantly reduced, and the uniformity within the display surface As a result, a display device with extremely high display quality was obtained.

(実施例102)
80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TD80U:商品名、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、防眩性ハードコート層用塗布液HCL−2を、乾燥膜厚が7μmになるように前記ダイコータ(図8及び図9参照)を用いて30m/分の塗布速度で塗布した。
(Example 102)
An 80 μm-thick triacetylcellulose film (TD80U: trade name, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is unwound in a roll form, and the antiglare hard coat layer coating solution HCL-2 has a dry film thickness of 7 μm. Using the die coater (see FIGS. 8 and 9), coating was performed at a coating speed of 30 m / min.

HCL−2の塗布では、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GLを80μmに変更し、減圧チャンバの減圧度は0.8kPaとした。塗布直後に図20(a)に示した第1乾燥装置215を使用して初期乾燥を行った。第1乾燥装置215の全長は5mとした。第1乾燥装置215中の凝縮板221、222は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第1乾燥装置215で初期乾燥された塗布ウェブ211aは、その後第2乾燥装置217を用いて110℃で10秒間、50℃で20秒間乾燥の後、更に窒素パージ下(酸素濃度200ppm以下)で、積算光量が55mJになるようにUV照射して、光硬化させ、防眩層を形成し、巻き取った。   In the application of HCL-2, the gap GL between the downstream lip land 18b and the web W was changed to 80 μm, and the degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa. Immediately after application, initial drying was performed using the first drying device 215 shown in FIG. The total length of the first drying device 215 was 5 m. The condensing plates 221 and 222 in the first drying device 215 were arranged with a predetermined inclination angle such that the downstream side in the traveling direction was separated from the coating film. The coating web 211a initially dried by the first drying device 215 is then dried at 110 ° C. for 10 seconds and at 50 ° C. for 20 seconds using the second drying device 217, and further under a nitrogen purge (oxygen concentration of 200 ppm or less). Then, UV irradiation was carried out so that the integrated light amount was 55 mJ, photocuring was performed, and an antiglare layer was formed and wound up.

前記防眩層を塗布したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液(LL−8)を乾燥膜厚が100nmになるように前記ダイコータを用いて30m/分の塗布速度で塗布した。減圧チャンバの減圧度は0.8kPaとした。塗布直後に図20に示した第1乾燥装置215を使用して初期乾燥を行った。第1乾燥装置215の全長は5mとした。第1乾燥装置215中の凝縮板221、222は、走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配した。第1乾燥装置215で初期乾燥された塗布ウェブ211aは、その後第2乾燥装置217を用いて120℃で70
秒乾燥の後、更に110℃で10分乾燥し、熱硬化させてから、窒素パージ下(酸素濃度100ppm以下)で、積算光量が120mJになるようにUV照射して、光硬化させ、低屈折率層が塗布された反射防止フィルム30(図3参照)を形成し、巻き取った。
The triacetyl cellulose film coated with the antiglare layer is unwound again, and the coating solution for low refractive index layer (LL-8) is applied at 30 m / min using the die coater so that the dry film thickness becomes 100 nm. Applied at speed. The degree of vacuum in the vacuum chamber was 0.8 kPa. Immediately after the application, initial drying was performed using the first drying device 215 shown in FIG. The total length of the first drying device 215 was 5 m. The condensing plates 221 and 222 in the first drying device 215 were arranged with a predetermined inclination angle such that the downstream side in the traveling direction was separated from the coating film. The coated web 211 a initially dried by the first drying device 215 is then 70 ° C. at 120 ° C. using the second drying device 217.
After drying for 2 seconds, it is further dried at 110 ° C. for 10 minutes and thermally cured, then under a nitrogen purge (oxygen concentration of 100 ppm or less), UV irradiation is performed so that the integrated light amount becomes 120 mJ, photocuring, and low refraction An antireflection film 30 (see FIG. 3) coated with a rate layer was formed and wound up.

上記工程において、塗布、乾燥工程は0.5μm以上の粒子として30個/(立方メートル)以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平10−309553号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、200V以下であった。上記の塗布は1層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−(UV又は熱)硬化−巻き取りの各工程で行った。   In the above steps, the coating and drying steps are carried out in an air atmosphere with an air cleanliness of 30 particles / (cubic meter) or less as particles of 0.5 μm or more, and the cleanliness described in JP-A-10-309553 just before the coating. The air was sprayed at a high speed to peel off the deposits from the film surface, and the coating was performed while removing dust by a method of sucking with a suction port close to the film. The charged voltage of the base before dust removal was 200 V or less. Said application | coating was performed in each process of sending-out-dust removal-application-dry- (UV or heat) hardening-winding up for every layer.

この反射防止フィルム30は塗布工程が起因で発生する故障が全く発生していない。更に、塗布直後の乾燥速度は200nm以下の乾燥膜厚を持つ各層とも0.3[g/(m・sec)]以上であったが、乾燥工程に起因する膜厚ムラが視認されないため、色味の均一性が非常に高い反射防止フィルム30であった。 This antireflection film 30 does not have any failure caused by the coating process. Furthermore, although the drying speed immediately after coating was 0.3 [g / (m 2 · sec)] or more for each layer having a dry film thickness of 200 nm or less, film thickness unevenness due to the drying process is not visually recognized. The anti-reflection film 30 had very high color uniformity.

作製された反射防止フィルム30を、2.0規定、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フィルム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BE
Fをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に、表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
The prepared antireflection film 30 was immersed in a 2.0 normal, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes to saponify the triacetyl cellulose surface on the back side of the film, and a triacetyl cellulose film (TAC) having a thickness of 80 μm. -TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was saponified under the same conditions, and iodine was adsorbed to polyvinyl alcohol, and both sides of a polarizer prepared by stretching were bonded and protected to prepare a polarizing plate. The thus-prepared polarizing plate is a liquid crystal display device of a notebook computer equipped with a transmission type TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the antireflection film side is the outermost surface. Made D-BE
When F is replaced with the polarizing plate on the viewing side (having between the backlight and the liquid crystal cell), reflection of the background is extremely small, the color of the reflected light is remarkably reduced, and the display surface is uniform. Thus, a display device with a very high display quality in which properties were ensured was obtained.

(実施例103)
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程を図20の塗布・乾燥ライン210に示したものから図17に示した乾燥装置160変更して初期乾燥を行う以外は実施例102と同様にして塗布を行い、反射防止フィルム(図3参照)30を作製した。図17に示された乾燥装置160は、整風板190の開口率25%、塗膜面と整風板間距離Cは10mm、各乾燥ゾーン167〜173の排気風速は0.1m/秒に設定した。乾燥装置160の全長は5mとした。この反射防止フィルム30は塗布工程が起因で発生する故障が全く発生していなかった。更に、塗布直後の乾燥速度は200nm以下の乾燥膜厚を持つ各層とも0.3[g/(m・sec)]以上であったが、乾燥工程に起因する膜厚ムラが視認されないため、色味の均一性が非常に高い反射防止フィルムであった。この反射防止フィルムを用いて実施例102と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
(Example 103)
The drying process installed immediately after application when applying each layer is the same as in Example 102, except that the drying apparatus 160 shown in FIG. 17 is changed from the one shown in the application / drying line 210 to perform initial drying. Then, an antireflection film (see FIG. 3) 30 was produced. In the drying device 160 shown in FIG. 17, the opening ratio of the air conditioning plate 190 is 25%, the distance C between the coating surface and the air conditioning plate is 10 mm, and the exhaust air velocity of each of the drying zones 167 to 173 is set to 0.1 m / second. . The total length of the drying device 160 was 5 m. This antireflection film 30 did not have any failure caused by the coating process. Furthermore, although the drying speed immediately after coating was 0.3 [g / (m 2 · sec)] or more for each layer having a dry film thickness of 200 nm or less, film thickness unevenness due to the drying process is not visually recognized. It was an antireflection film with very high color uniformity. Using this antireflection film, a display device was produced in the same procedure as in Example 102. As a result, the background reflection was extremely small, the color of the reflected light was remarkably reduced, and the uniformity within the display surface was ensured. A display device with very high display quality was obtained.

(実施例104)
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程を図20に示した塗布・乾燥ライン210から図14に示した乾燥装置に変更して初期乾燥を行う以外は実施例102と同様にして塗布を行い、反射防止フィルム30を作製した。乾燥工程に於いては、整流板112を過ぎた後の乾燥ゾーン113の金網から塗布室給気口(5mm×1600mm)からの風(塗布面が受ける相対風速:搬送方向に0.05m/秒;25℃、50%RH)を導入した。塗布室給気口からの風は、塗布室排気口から排気されると共に、多孔板115及び金網116を介して排気口117から排気される。
(Example 104)
Coating is performed in the same manner as in Example 102 except that the drying process installed immediately after coating when applying each layer is changed from the coating / drying line 210 shown in FIG. 20 to the drying device shown in FIG. The antireflection film 30 was produced. In the drying process, the wind (5 mm × 1600 mm) from the wire mesh in the drying zone 113 after passing the current plate 112 (relative wind speed applied to the coating surface: 0.05 m / second in the transport direction) 25 ° C., 50% RH). The wind from the coating chamber air supply port is exhausted from the coating chamber exhaust port and is exhausted from the exhaust port 117 through the perforated plate 115 and the metal mesh 116.

この反射防止フィルム30は塗布工程が起因で発生する故障が全く発生していなかった。更に、塗布直後の乾燥速度は200nm以下の乾燥膜厚を持つ各層とも0.3[g/(m・sec)]以上であったが、乾燥工程に起因する膜厚ムラが視認されないため、色味の均一性が非常に高い反射防止フィルムであった。この反射防止フィルムを用いて実施例102と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。 This antireflection film 30 did not have any failure caused by the coating process. Furthermore, although the drying speed immediately after coating was 0.3 [g / (m 2 · sec)] or more for each layer having a dry film thickness of 200 nm or less, film thickness unevenness due to the drying process is not visually recognized. It was an antireflection film with very high color uniformity. Using this antireflection film, a display device was produced in the same procedure as in Example 102. As a result, the background reflection was extremely small, the color of the reflected light was remarkably reduced, and the uniformity within the display surface was ensured. A display device with very high display quality was obtained.

[比較例101]
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程として、非塗布面側をロールで支持し、塗布面側にエア・ノズルから風を吹いて乾燥させる熱風乾燥方法を採用する以外は実施例102と同様にして塗布を行い、反射防止フィルムを作製したところ、塗布直後から風が当たるため塗布面が乱れ、膜厚ムラが全面に強く発生した。塗布直後の乾燥速度は各層とも0.3[g/(m・sec)]以上であった。また、得られた反射防止フィルムを実施例102と同様の手順で表示装置を作成したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。
[Comparative Example 101]
Example 102 Except for adopting a hot air drying method in which a non-application surface side is supported by a roll and dried by blowing air from an air nozzle on the application surface side as a drying step that is installed immediately after application when applying each layer. Application was performed in the same manner as described above to produce an antireflection film. As a result, wind was applied immediately after application, and the coated surface was disturbed, resulting in strong film thickness unevenness. The drying rate immediately after coating was 0.3 [g / (m 2 · sec)] or more for each layer. Moreover, when the display apparatus was produced for the obtained anti-reflective film in the procedure similar to Example 102, the color nonuniformity was visually recognized in the display apparatus, and it could not be said that it was high quality.

[比較例102]
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程を、各層の蒸発速度が0.15[g/(m・sec)]になるように、凝縮板を走行方向の下流側が塗布膜から離れるような所定の傾斜角度をもって配する以外は実施例102と同様にして塗布を行い、反射防止フィルムを作製した。
[Comparative Example 102]
In the drying process that is installed immediately after application when applying each layer, the downstream side in the running direction of the condenser plate is separated from the coating film so that the evaporation rate of each layer is 0.15 [g / (m 2 · sec)]. An antireflection film was produced by coating in the same manner as in Example 102 except that the film was arranged with a predetermined inclination angle.

本実験(比較例102)では各層の蒸発速度は0.15[g/(m・sec)]であり、0.3[g/(m・sec)]を下回っているため、十分に乾燥しきらずに乾燥装置を出てしまい、その後急激に乾燥が進行して膜厚ムラが全面に発生した。この反射防止フィルムを使用して実施例102と同様の手順で表示装置を作成すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。 In this experiment (Comparative Example 102), the evaporation rate of each layer is 0.15 [g / (m 2 · sec)], which is less than 0.3 [g / (m 2 · sec)]. The drying apparatus was left without being completely dried, and then the drying progressed rapidly, resulting in uneven film thickness. When a display device was produced using this antireflection film in the same procedure as in Example 102, color unevenness was visually recognized in the display device, which was not high quality.

[比較例103]
各層を塗布する際に塗布直後に設置する乾燥工程の全長を0.5mとする以外は実施例102と同様にして塗布を行い、反射防止フィルムを作製した。比較例103では乾燥工程の全長が短いため、十分に乾燥しきらずに乾燥装置を出てしまい、その後急激に乾燥が進行して膜厚ムラが全面に発生した。この反射防止フィルムを使用して実施例102と同様の手順で表示装置を作製すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。
[Comparative Example 103]
When applying each layer, coating was performed in the same manner as in Example 102 except that the total length of the drying step installed immediately after coating was 0.5 m, and an antireflection film was produced. In Comparative Example 103, since the total length of the drying process was short, the drying apparatus was left without being fully dried, and then the drying progressed rapidly, resulting in uneven film thickness. When a display device was produced using this antireflection film in the same procedure as in Example 102, color unevenness was visually recognized in the display device, which was not high quality.

[比較例104]
前記ダイコータ(図9及び図10参照)を使用する代わりにグラビアコータを使用し、その他の条件は実施例102と同様にして反射防止フィルムを作製した。塗布は可能であったが、塗布に起因する膜厚ムラが発生した。実施例102と同様の手順で表示装置を作製したところ、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えない。
[Comparative Example 104]
A gravure coater was used instead of using the die coater (see FIGS. 9 and 10), and an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 102 except for the other conditions. Although coating was possible, film thickness unevenness due to coating occurred. When a display device was manufactured in the same procedure as in Example 102, the color unevenness was visually recognized in the display device, and it could not be said that the quality was high.

下流側リップランド長ILOを10μm(比較例105)、30μm(実施例105)、100μm(実施例106)、120μm(比較例106)にした他は実施例102と同様に塗布を行い、反射防止フィルムを作製した。下流側リップランド長ILOが30μmから100μmの範囲で面状故障の発生しない反射防止フィルムが得られることが分かった。比較例105ではベース長手方向に塗布に起因する膜厚ムラが発生し、比較例106では実施例102と同様のスピードでは塗布ビード14aの形成ができず、塗布不可能であった。実施例105及び実施例106で作製された反射防止フィルムを実施例101と同様の手順で表示装置を作製したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   Coating is carried out in the same manner as in Example 102 except that the downstream lip land length ILO is 10 μm (Comparative Example 105), 30 μm (Example 105), 100 μm (Example 106), and 120 μm (Comparative Example 106). A film was prepared. It has been found that an antireflection film free from surface defects can be obtained when the downstream lip land length ILO is in the range of 30 μm to 100 μm. In Comparative Example 105, film thickness unevenness caused by coating occurred in the longitudinal direction of the base. In Comparative Example 106, coating bead 14a could not be formed at the same speed as Example 102, and coating was impossible. When a display device was produced from the antireflection film produced in Example 105 and Example 106 in the same manner as in Example 101, the reflection of the background was extremely small, the color of the reflected light was remarkably reduced, and the display was further improved. A display device with very high display quality in which in-plane uniformity was ensured was obtained.

一方、比較例105及び比較例106で得られた反射防止フィルムを実施例102と同様の手順で表示装置を作製すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。   On the other hand, when a display device was produced using the antireflection film obtained in Comparative Example 105 and Comparative Example 106 in the same procedure as in Example 102, color unevenness was visually recognized in the display device, and it could not be said that the quality was high.

[比較例107、実施例107、実施例108、比較例108]
ダイコータのオーバーバイト長さLOを0μm(比較例107)、30μm(実施例107)、120μm(実施例108)、150μm(比較例108)とした他は、実施例102と同様に塗布を行い、反射防止フィルムを作製した。オーバーバイト長さが30μmから120μmまでの範囲で面状故障の発生しない反射防止フィルムが得られた。比較例107では塗布は可能であったが、面状を見ると塗布に起因する膜厚ムラが認められた。
[Comparative Example 107, Example 107, Example 108, Comparative Example 108]
Coating was performed in the same manner as in Example 102, except that the overcoating length LO of the die coater was 0 μm (Comparative Example 107), 30 μm (Example 107), 120 μm (Example 108), and 150 μm (Comparative Example 108). An antireflection film was produced. When the overbite length was in the range of 30 μm to 120 μm, an antireflection film free from surface defects was obtained. Although application was possible in Comparative Example 107, film thickness unevenness due to the application was recognized when the surface shape was seen.

また、比較例108では実施例102と同様のスピードでは塗布ビード14aの形成ができず、塗布不可能であった。実施例107及び実施例108で作製された反射防止フィルムを実施例102と同様の手順で表示装置を作成したところ、背景の映りこみが極めて少なく、反射光の色味が著しく低減され、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。一方、比較例107及び比較例108で得られた反射防止フィルムを実施例102と同様の手順で表示装置を作製すると、表示装置内に色味ムラが視認され、高品位とは言えなかった。   Further, in Comparative Example 108, the coating bead 14a could not be formed at the same speed as in Example 102, and coating was impossible. When a display device was produced from the antireflection film produced in Example 107 and Example 108 in the same manner as in Example 102, the reflection of the background was extremely small, the color of reflected light was remarkably reduced, and the display was further improved. A display device with very high display quality in which in-plane uniformity was ensured was obtained. On the other hand, when the antireflection film obtained in Comparative Example 107 and Comparative Example 108 was used to produce a display device in the same procedure as in Example 102, uneven coloring was visually observed in the display device, and it could not be said that the quality was high.

本発明に係る反射防止フィルムの基本的な層構成を示す断面模式図Sectional schematic diagram showing the basic layer structure of the antireflection film according to the present invention 反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図Cross-sectional schematic diagram showing an example of the layer structure of the antireflection film 反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図Cross-sectional schematic diagram showing an example of the layer structure of the antireflection film 反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図Cross-sectional schematic diagram showing an example of the layer structure of the antireflection film 反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図Cross-sectional schematic diagram showing an example of the layer structure of the antireflection film 反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図Cross-sectional schematic diagram showing an example of the layer structure of the antireflection film 反射防止フィルムの層構成の例を示す断面模式図Cross-sectional schematic diagram showing an example of the layer structure of the antireflection film 各層の塗布を連続的に行う装置の構成例を示す説明図Explanatory drawing showing a configuration example of a device that continuously applies each layer スロットダイを用いたコーターの断面図Cross section of coater using slot die スロットダイの要部拡大断面図Expanded sectional view of the main part of the slot die スロットダイ及びその周辺を示す斜視図The perspective view which shows a slot die and its periphery 減圧チャンバーとウェブとの位置関係を示す断面図Sectional view showing the positional relationship between the vacuum chamber and the web 減圧チャンバーとウェブとの位置関係を示す断面図Sectional view showing the positional relationship between the vacuum chamber and the web 本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。It is the schematic of the apparatus of other embodiment used for the manufacturing method of the coating film which concerns on this invention. 本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。It is the schematic of the apparatus of other embodiment used for the manufacturing method of the coating film which concerns on this invention. 図15の平面図である。FIG. 16 is a plan view of FIG. 15. 本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。It is the schematic of the apparatus of other embodiment used for the manufacturing method of the coating film which concerns on this invention. 図17の平面図である。It is a top view of FIG. 図17の断面図である。It is sectional drawing of FIG. 本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。It is the schematic of the apparatus of other embodiment used for the manufacturing method of the coating film which concerns on this invention. 本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。It is the schematic of the apparatus of other embodiment used for the manufacturing method of the coating film which concerns on this invention. 本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の概略図である。It is the schematic of the apparatus of other embodiment used for the manufacturing method of the coating film which concerns on this invention. 本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の要部概略図である。It is a principal part schematic of the apparatus of other embodiment used for the manufacturing method of the coating film which concerns on this invention. 本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の要部概略図である。It is a principal part schematic of the apparatus of other embodiment used for the manufacturing method of the coating film which concerns on this invention. 本発明に係る塗布膜の製造方法に用いられる他の実施形態の装置の要部概略図である。It is a principal part schematic of the apparatus of other embodiment used for the manufacturing method of the coating film which concerns on this invention. 実施例3乃至6、及び7乃至10の結果を示す表である。It is a table | surface which shows the result of Example 3 thru | or 6 and 7 thru | or 10. 実施例1、及び11乃至15の結果を示す表である。It is a table | surface which shows the result of Example 1 and 11 thru | or 15. 実施例1、及び16乃至19の結果を示す表である。It is a table | surface which shows the result of Example 1 and 16 thru | or 19.

符号の説明Explanation of symbols

10…コーター
11…バックアップローラ
13…スロットダイ
14…塗布液
14a…ビード
14b…塗膜
15…ポケット
16…スロット
17…先端リップ
18…ランド
18a…上流側リップランド
18b…下流側リップランド
W…ウェブ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Coater 11 ... Backup roller 13 ... Slot die 14 ... Coating liquid 14a ... Bead 14b ... Coating film 15 ... Pocket 16 ... Slot 17 ... Tip lip 18 ... Land 18a ... Upstream lip land 18b ... Downstream lip land W ... Web

Claims (24)

バックアップローラに支持されて連続走行する透明支持体上に、スロットダイを使用して塗布液を塗布し、乾燥状態での膜厚が200nm以下であり、かつ、該透明支持体よりも屈折率の低い層を少なくとも1層形成する反射防止フィルムの製造方法において、
前記スロットダイの、前記透明支持体走行方向下流側の先端リップの前記透明支持体走行方向ランド長さが30〜100μmであり、かつ、前記透明支持体走行方向上流側の先端リップと前記透明支持体表面との隙間を、前記透明支持体走行方向下流側の先端リップと前記透明支持体表面との隙間よりも30〜120μm大きく設定することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
On a transparent support that is continuously supported by a backup roller, a coating solution is applied using a slot die, the film thickness in a dry state is 200 nm or less, and the refractive index is higher than that of the transparent support. In the method for producing an antireflection film in which at least one low layer is formed,
The front end lip of the front end lip on the downstream side in the running direction of the transparent support of the slot die is 30 to 100 μm, and the front end lip and the transparent support on the upstream side in the running direction of the transparent support. A method for producing an antireflection film, characterized in that a gap with a body surface is set to be 30 to 120 μm larger than a gap between a tip lip on the downstream side in the running direction of the transparent support and the surface of the transparent support.
前記塗布液の塗布時における粘度が20.0mPa・秒以下であり、かつ、前記透明支持体上に塗布される塗布液の量が2.0〜5.0ml/mであることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルムの製造方法。 The viscosity at the time of application of the coating liquid is 20.0 mPa · sec or less, and the amount of the coating liquid applied on the transparent support is 2.0 to 5.0 ml / m 2. The method for producing an antireflection film according to claim 1. 前記透明支持体側より順に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層が形成され、実質上3層の屈折率の異なる層が形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の反射防止フィルムの製造方法。   3. A medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are formed in this order from the transparent support side, and substantially three layers having different refractive indexes are formed. The manufacturing method of the antireflection film as described in 1 .. 前記反射防止フィルムの設計波長λ(=400〜680nm)に対して、前記中屈折率層が下記の(式1)を、前記高屈折率層が下記の(式2)を、前記低屈折率層が下記の(式3)をそれぞれ満足することを特徴とする請求項3に記載の反射防止フィルムの製造方法。
λ/4×0.80<n1d1<λ/4×1.00 (式1)
λ/2×0.75<n2d2<λ/2×0.95 (式2)
λ/4×0.95<n3d3<λ/4×1.05 (式3)
(ただし、式1中、n1は中屈折率層の屈折率であり、d1は中屈折率層の層厚(nm)であり、式2中、n2は高屈折率層の屈折率であり、d2は高屈折率層の層厚(nm)であり、式3中、n3は低屈折率層の屈折率であり、d3は低屈折率層の層厚(nm)である)
For the design wavelength λ (= 400 to 680 nm) of the antireflection film, the medium refractive index layer represents the following (formula 1), the high refractive index layer represents the following (formula 2), and the low refractive index. 4. The method for producing an antireflection film according to claim 3, wherein the layers satisfy the following (Equation 3).
λ / 4 × 0.80 <n1d1 <λ / 4 × 1.00 (Formula 1)
λ / 2 × 0.75 <n2d2 <λ / 2 × 0.95 (Formula 2)
λ / 4 × 0.95 <n3d3 <λ / 4 × 1.05 (Formula 3)
(In formula 1, n1 is the refractive index of the medium refractive index layer, d1 is the layer thickness (nm) of the medium refractive index layer, and in formula 2, n2 is the refractive index of the high refractive index layer, (d2 is the layer thickness (nm) of the high refractive index layer. In Formula 3, n3 is the refractive index of the low refractive index layer, and d3 is the layer thickness (nm) of the low refractive index layer.)
屈折率が1.45〜1.55である前記透明支持体に対して、前記中屈折率層の屈折率n1が1.60〜1.65、前記高屈折率層の屈折率n2が1.85〜1.95、及び、前記低屈折率層の屈折率n3が1.35〜1.45であることを特徴とする請求項4に記載の反射防止フィルムの製造方法。   For the transparent support having a refractive index of 1.45 to 1.55, the refractive index n1 of the medium refractive index layer is 1.60 to 1.65, and the refractive index n2 of the high refractive index layer is 1. The method for producing an antireflection film according to claim 4, wherein 85 to 1.95 and a refractive index n3 of the low refractive index layer is 1.35 to 1.45. 前記透明支持体よりも屈折率の低い層又は前記低屈折率層が、熱硬化性及び/又は電離放射線硬化性の含フッ素樹脂からなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の反射防止フィルムの製造方法。   The layer having a refractive index lower than that of the transparent support or the low refractive index layer is made of a thermosetting and / or ionizing radiation curable fluorine-containing resin. The manufacturing method of the antireflection film as described in 1 .. 前記高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、及びジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有し、かつ、屈折率が1.55〜2.40であることを特徴とする請求項3、4及び6のいずれか1項に記載の反射防止フィルムの製造方法。   The high refractive index layer contains inorganic fine particles mainly composed of titanium dioxide containing at least one element selected from cobalt, aluminum, and zirconium, and has a refractive index of 1.55 to 2.40. The method for producing an antireflection film according to any one of claims 3, 4 and 6. 前記透明支持体よりも屈折率の低い層又は前記低屈折率層と、前記透明支持体との間に少なくとも1層のハードコート層を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の反射防止フィルムの製造方法。   8. The apparatus according to claim 1, further comprising at least one hard coat layer between the transparent support and a layer having a lower refractive index than the transparent support or the low refractive index layer. The manufacturing method of the antireflection film as described in claim | item. 前記反射防止フィルムを構成する層の1層以上を、巻き取ることなしに連続的に形成することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の反射防止フィルムの製造方法。   The method for producing an antireflection film according to any one of claims 1 to 8, wherein one or more layers constituting the antireflection film are continuously formed without winding. 前記請求項1乃至9のいずれか1項に記載の製造方法によって得られる層を少なくとも1層有することを特徴とする反射防止フィルム。   An antireflection film comprising at least one layer obtained by the production method according to any one of claims 1 to 9. 連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が200nm以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布して形成される塗布膜の製造方法において、
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを30μm以上100μm以下とし、
かつ、前記塗布直後のウェブを囲むケーシングを有するドライヤにより塗布面近傍の風の乱れを防止し、乾燥中の塗布面側の溶剤蒸気を高い濃度で保ったまま乾燥する乾燥装置により乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の製造方法。
In the method of manufacturing a coating film formed by applying a coating liquid using a slot die so that the film thickness in a dry state is 200 nm or less on a continuously running web,
The land length in the web traveling direction of the tip lip on the downstream side in the web traveling direction of the slot die is 30 μm or more and 100 μm or less,
In addition, drying is performed by a drying apparatus that prevents the turbulence of the wind in the vicinity of the coating surface by a dryer having a casing surrounding the web immediately after coating, and that dries while keeping the solvent vapor on the coating surface side being dried at a high concentration. The manufacturing method of the coating film characterized by these.
前記ドライヤの中の前記ウェブの走行位置の塗布面側に塗布液中の溶剤を凝縮、回収させる凝縮器を設けることを特徴とする請求項11記載の塗布膜の製造方法。   The method for producing a coating film according to claim 11, wherein a condenser for condensing and recovering the solvent in the coating liquid is provided on the coating surface side of the running position of the web in the dryer. 前記凝縮器が冷却機構を備えて温度制御可能であることを特徴とする請求項12記載の塗布膜の製造方法。   The method for producing a coating film according to claim 12, wherein the condenser is provided with a cooling mechanism and temperature control is possible. 連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が200nm以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布して形成される塗布膜の製造方法において、
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを30μm以上100μm以下とし、
かつ、前記塗布膜の表面を、前記塗布膜の表面に沿って気体を前記ウェブの移動速度に対して−0.1m/秒以上0.1m/秒以下の相対速度となるように移動させながら乾燥する乾燥装置により乾燥することを特徴とする塗布膜の製造方法。
In the method of manufacturing a coating film formed by applying a coating liquid using a slot die so that the film thickness in a dry state is 200 nm or less on a continuously running web,
The land length in the web traveling direction of the tip lip on the downstream side in the web traveling direction of the slot die is 30 μm or more and 100 μm or less,
And while moving the surface of the coating film along the surface of the coating film so that the gas has a relative speed of −0.1 m / second or more and 0.1 m / second or less with respect to the moving speed of the web. A method for producing a coating film, wherein the coating film is dried by a drying apparatus.
連続走行するウェブに、乾燥状態での膜厚が200nm以下となるようにスロットダイを用いて塗布液を塗布した後に、乾燥装置で乾燥され形成される塗布膜の製造方法において、
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向下流側の先端リップの前記ウェブ走行方向ランド長さを30μm以上100μm以下とし、
かつ、前記乾燥装置内を前記ウェブが搬送される間に、前記ウェブに塗布された前記塗布液から蒸発した有機溶媒のガスを整風部材の孔を通って排気室に逃がし、前記排気室に入った有機溶媒のガスを排気パイプを通して外部に排気する乾燥装置を用いて乾燥を行うことを特徴とする塗布膜の製造方法。
In the method of manufacturing a coating film formed by applying a coating solution using a slot die so that the film thickness in a dry state is 200 nm or less on a continuously running web,
The land length in the web traveling direction of the tip lip on the downstream side in the web traveling direction of the slot die is 30 μm or more and 100 μm or less,
In addition, while the web is transported through the drying device, the organic solvent gas evaporated from the coating liquid applied to the web is released to the exhaust chamber through the hole of the air conditioning member, and enters the exhaust chamber. A method for producing a coating film, wherein drying is performed using a drying device that exhausts the gas of the organic solvent to the outside through an exhaust pipe.
前記スロットダイの前記ウェブ走行方向上流側の先端リップと前記ウェブ表面との隙間を、前記ウェブ下流側の先端リップと前記ウェブとの隙間よりも大きくすることを特徴とする請求項11乃至15のいずれか1つに記載の塗布膜の製造方法。   The gap between the tip lip on the upstream side in the web running direction of the slot die and the web surface is made larger than the gap between the tip lip on the downstream side of the web and the web. The manufacturing method of the coating film as described in any one. 前記スロットダイの前記ウェブ走行方向上流側の先端リップと前記ウェブ表面との隙間を、前記ウェブ下流側の先端リップと前記ウェブとの隙間よりも30μm以上120μm以下の範囲で大きくすることを特徴とする請求項16に記載の塗布膜の製造方法。   The gap between the tip lip on the upstream side in the web running direction of the slot die and the web surface is made larger in the range of 30 μm or more and 120 μm or less than the gap between the tip lip on the downstream side of the web and the web. The manufacturing method of the coating film of Claim 16. 前記乾燥装置の全長が、前記乾燥装置中に前記塗布膜が2秒以上搬送される長さであり、かつ前記乾燥装置内における塗布液溶媒の蒸発速度が0.3g/(m・sec)以上であることを特徴とする請求項11乃至17のいずれか1つに記載の塗布膜の製造方法。 The total length of the drying apparatus is such that the coating film is transported in the drying apparatus for 2 seconds or more, and the evaporation rate of the coating solution solvent in the drying apparatus is 0.3 g / (m 2 · sec) It is the above, The manufacturing method of the coating film as described in any one of Claims 11 thru | or 17 characterized by the above-mentioned. 請求項11乃至18のいずれか1つに記載の塗布膜の製造方法により作製されることを特徴とする塗布膜。   A coating film produced by the coating film manufacturing method according to claim 11. 請求項19に記載の塗布膜が、乾燥状態での膜厚が200nm以下であり、かつ前記ウェブとしての透明支持体よりも屈折率の低い層を少なくとも1層有することを特徴とする反射防止フィルム。   The coating film according to claim 19, wherein the coating film has a dry film thickness of 200 nm or less and has at least one layer having a refractive index lower than that of the transparent support as the web. . 請求項10及び20に記載の反射防止フィルム、または請求項19に記載の塗布膜が偏光膜の少なくとも一方の面に貼付されていることを特徴とする偏光板。   21. A polarizing plate, wherein the antireflection film according to claim 10 or 20 or the coating film according to claim 19 is attached to at least one surface of the polarizing film. 請求項10及び20に記載の反射防止フィルム、または請求項19に記載の塗布膜が偏光膜の一方の面に貼付され、光学異方性を有する光学補償フィルムが前記偏光膜の他方の面に貼付されていることを特徴とする偏光板。   The antireflection film according to claim 10 or 20 or the coating film according to claim 19 is attached to one surface of the polarizing film, and an optical compensation film having optical anisotropy is formed on the other surface of the polarizing film. A polarizing plate characterized by being attached. 請求項10及び20に記載の反射防止フィルム、または請求項19に記載の塗布膜を用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置。   An image display device comprising the antireflection film according to claim 10 or 20 or the coating film according to claim 19. 請求項21または22に記載の偏光板を用いて構成されていることを特徴とする画像表示装置。   An image display device comprising the polarizing plate according to claim 21 or 22.
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007037078A1 (en) * 2005-09-29 2007-04-05 Nitto Denko Corporation Process for producing film with optical function, film with optical function, polarization plate, optical element and image display unit
JP2008003580A (en) * 2006-05-23 2008-01-10 Fujifilm Corp Protective film for polarizing plate and polarizing plate and liquid crystal display device
JP2008211036A (en) * 2007-02-27 2008-09-11 Tamura Kaken Co Ltd Photosensitive resin composition, solder resist composition for printed wiring board, and printed wiring board
EP2105767A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 Fujifilm Corporation Transparent support, optical film, polarizing plate and image display device
WO2013172460A1 (en) * 2012-05-18 2013-11-21 コニカミノルタ株式会社 Manufacturing method for optical film
JP2014149440A (en) * 2013-02-01 2014-08-21 Fujifilm Corp Method and apparatus for manufacturing antiglare film
JP2015108061A (en) * 2013-12-04 2015-06-11 旭化成株式会社 Coating composition and antireflection film
KR20160071387A (en) * 2013-09-16 2016-06-21 코에룩스 에스알엘 Composite system comprising a polymer matrix and core-shell nanoparticles, process for preparing it and use thereof
JP2017029945A (en) * 2015-08-04 2017-02-09 株式会社テクノスマート Coating system and coating apparatus
JPWO2015045804A1 (en) * 2013-09-30 2017-03-09 三菱化学株式会社 Manufacturing method of anisotropic dye film, anisotropic dye film manufactured by the manufacturing method, optical element including the anisotropic dye film, and liquid crystal element including the optical element
JP2020013154A (en) * 2015-11-16 2020-01-23 富士フイルム株式会社 Optical film, image display device, and method for producing optical film
JP2021079595A (en) * 2019-11-18 2021-05-27 中興化成工業株式会社 Composite sheet and release sheet
WO2021131355A1 (en) 2019-12-25 2021-07-01 富士フイルム株式会社 Resin composition, cured product, uv absorber, uv cut filter, lens, protective material, compound, and method for synthesizing compound
CN118357138A (en) * 2024-06-19 2024-07-19 浙江怡钛积科技有限公司 Coating type antireflection film and production method thereof

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007037078A1 (en) * 2005-09-29 2007-04-05 Nitto Denko Corporation Process for producing film with optical function, film with optical function, polarization plate, optical element and image display unit
JP2008003580A (en) * 2006-05-23 2008-01-10 Fujifilm Corp Protective film for polarizing plate and polarizing plate and liquid crystal display device
JP2008211036A (en) * 2007-02-27 2008-09-11 Tamura Kaken Co Ltd Photosensitive resin composition, solder resist composition for printed wiring board, and printed wiring board
EP2105767A1 (en) 2008-03-28 2009-09-30 Fujifilm Corporation Transparent support, optical film, polarizing plate and image display device
JPWO2013172460A1 (en) * 2012-05-18 2016-01-12 コニカミノルタ株式会社 Manufacturing method of optical film
WO2013172460A1 (en) * 2012-05-18 2013-11-21 コニカミノルタ株式会社 Manufacturing method for optical film
JP2014149440A (en) * 2013-02-01 2014-08-21 Fujifilm Corp Method and apparatus for manufacturing antiglare film
KR20160071387A (en) * 2013-09-16 2016-06-21 코에룩스 에스알엘 Composite system comprising a polymer matrix and core-shell nanoparticles, process for preparing it and use thereof
KR102114866B1 (en) 2013-09-16 2020-05-26 코에룩스 에스알엘 Composite system comprising a polymer matrix and core-shell nanoparticles, process for preparing it and use thereof
JPWO2015045804A1 (en) * 2013-09-30 2017-03-09 三菱化学株式会社 Manufacturing method of anisotropic dye film, anisotropic dye film manufactured by the manufacturing method, optical element including the anisotropic dye film, and liquid crystal element including the optical element
JP2015108061A (en) * 2013-12-04 2015-06-11 旭化成株式会社 Coating composition and antireflection film
JP2017029945A (en) * 2015-08-04 2017-02-09 株式会社テクノスマート Coating system and coating apparatus
JP2020013154A (en) * 2015-11-16 2020-01-23 富士フイルム株式会社 Optical film, image display device, and method for producing optical film
JP2021079595A (en) * 2019-11-18 2021-05-27 中興化成工業株式会社 Composite sheet and release sheet
JP7493745B2 (en) 2019-11-18 2024-06-03 中興化成工業株式会社 Release sheet
WO2021131355A1 (en) 2019-12-25 2021-07-01 富士フイルム株式会社 Resin composition, cured product, uv absorber, uv cut filter, lens, protective material, compound, and method for synthesizing compound
CN118357138A (en) * 2024-06-19 2024-07-19 浙江怡钛积科技有限公司 Coating type antireflection film and production method thereof

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