JP2006120891A - Evaluation method and device of solid state imaging element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、固体撮像素子の電気的特性を検査し、判定する固体撮像素子の評価方法および評価装置に関するものである。 The present invention relates to an evaluation method and an evaluation apparatus for a solid-state imaging device that inspects and determines the electrical characteristics of the solid-state imaging device.
近年、固体撮像素子の民生、産業分野への進出は目覚ましく、特に、デジタルカメラ、ビデオカメラにおいては、ほぼ100%固体撮像素子が使用されている。 In recent years, solid-state imaging devices have made remarkable progress in the consumer and industrial fields, and in particular, almost 100% solid-state imaging devices are used in digital cameras and video cameras.
固体撮像素子には、通常、電気的特性の中に画像の画質に対する規定が設けられており、これらの規定を満足する製品を正確かつ迅速に検査し、選別することが必要である。 The solid-state imaging device usually has provisions for image quality in the electrical characteristics, and it is necessary to accurately and quickly inspect and select products that satisfy these provisions.
固体撮像素子の電気的特性を検査して選別する手段としては、まず、ウェハ状態でテスタにより自動選別し、次に組立後にテスタまたは実装評価装置により選別するのが一般的である。 As a means for inspecting and selecting the electrical characteristics of the solid-state imaging device, it is common to first select automatically in a wafer state by a tester and then select by a tester or a mounting evaluation apparatus after assembly.
そこで、テスタを用いた固体撮像素子の欠陥検査方法を、図5の検査フローチャートに基づいて説明する。まず、固体撮像素子を動作させ(F41)、固体撮像素子からの信号である画像データがテスタ内部または外部の画像記憶装置に画素毎に記憶する(F42)。この記憶された画像データ全体の平均値AVGに所定比率を乗じることによって得られるしきい値TH1による2値化を行い(F43)、欠陥面積を算出し(F44)、この欠陥面積が面積規格S1より小さい場合は(F45のNo)、良品(F46)へ分岐し、面積規格S1より大きい場合は(F45のYes)、不良品(F47)とする。 Accordingly, a defect inspection method for a solid-state imaging device using a tester will be described based on the inspection flowchart of FIG. First, the solid-state image sensor is operated (F41), and image data that is a signal from the solid-state image sensor is stored for each pixel in an image storage device inside or outside the tester (F42). Binarization is performed with a threshold value TH1 obtained by multiplying the average value AVG of the entire stored image data by a predetermined ratio (F43), a defect area is calculated (F44), and the defect area is determined as an area standard S1. If it is smaller (No in F45), it branches to a non-defective product (F46). If it is larger than the area standard S1 (Yes in F45), it is determined as a defective product (F47).
例えば、しきい値TH1としては、平均値AVGの±3%程度に設定され、この場合、平均値AVGの97%以上、103%以下の範囲に在るか否かが判定される。ここで、100%より小さい場合は暗側のノイズ、100%より大きい場合は明側のノイズとして検出される。 For example, the threshold value TH1 is set to about ± 3% of the average value AVG. In this case, it is determined whether or not the average value AVG is in the range of 97% to 103%. Here, when it is smaller than 100%, it is detected as dark side noise, and when it is larger than 100%, it is detected as bright side noise.
また、欠陥には図3の画像に示すように、キズと呼ばれる局所的に信号レベルの変化が現れるものや、シミと呼ばれる面積的に広がりを持って信号レベル変化が現れるものがある。ここで、キズについては、信号処理による補間処理により補正が可能であるが、シミ・ムラについては対策が困難であるため、検査においては、キズについては良品として扱い、シミ・ムラについては不良品として選別する必要がある。
しかし、上記従来の評価方法によると、画像データの平均値から算出されたしきい値を用いて、1回の判定により欠陥の判定が行われていたため、平均値に対して明瞭なコントラストを持つ欠陥の判定は可能である。しかし、画像で問題となるコントラストの弱い欠陥、いわゆるシミ・ムラを選択的に判定することが困難である。すなわち、判定条件を緩くするとベースノイズを多く検出するようになり、その結果、検出精度が悪くなる。また、判定条件を厳しくすると検出されない可能性があり、しかも、キズとシミ・ムラとの判定が非常に困難であった。 However, according to the above-described conventional evaluation method, since the defect is determined by one determination using the threshold value calculated from the average value of the image data, the contrast is clear with respect to the average value. Defect determination is possible. However, it is difficult to selectively determine defects with low contrast, which are problems in images, so-called spots and unevenness. That is, if the determination condition is relaxed, a lot of base noise is detected, and as a result, the detection accuracy deteriorates. Further, if the judgment conditions are strict, it may not be detected, and it is very difficult to judge scratches, spots, and unevenness.
そのため、シミ・ムラの検査は、固体撮像素子からの画像データをモニタテレビに入力し、目視により行わねばならず、正確かつ迅速な選別が困難であった。 For this reason, the spot / unevenness inspection has to be performed by inputting the image data from the solid-state imaging device to a monitor television and visually observing it, and it has been difficult to perform accurate and rapid sorting.
本発明は上記問題を解消するものであり、コントラストの弱い欠陥いわゆるシミ・ムラの判定を行うことができる固体撮像素子の評価方法および評価装置を提供することを目的とするものである。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an evaluation method and an evaluation apparatus for a solid-state imaging device capable of determining defects with low contrast, so-called spots / unevenness.
上記課題を解決するために本発明の固体撮像素子の評価方法は、2次元的に配列された複数の画素を有する固体撮像装置の各画素から出力される画素信号レベルを記憶する工程と、前記複数の画素のうち、第1の信号レベル範囲を逸脱する第1の欠陥画素を選別する工程と、前記第1の欠陥画素において、前記配列上で互いに隣接する画素数から第1の欠陥面積を算出する工程と、前記第1の欠陥画素のうち、前記第1の欠陥面積が第1の面積範囲以上の第2の欠陥画素を選別する工程と、前記複数の画素のうち、第2の信号レベル範囲を逸脱する第3の欠陥画素を選別する工程と、前記第3の欠陥画素において、前記配列上で互いに隣接する画素数から第2の欠陥面積を算出する工程と、前記第3の欠陥画素のうち、前記第2の欠陥面積が第2の面積範囲以上であり、かつ前記第2の欠陥画素を含む第4の欠陥画素を選別する工程とを備えることを特徴とする。 In order to solve the above problems, a method for evaluating a solid-state imaging device according to the present invention includes a step of storing a pixel signal level output from each pixel of a solid-state imaging device having a plurality of pixels arranged two-dimensionally; Selecting a first defective pixel out of the first signal level range from the plurality of pixels, and determining the first defective area from the number of pixels adjacent to each other on the array in the first defective pixel. A step of calculating, a step of selecting a second defective pixel in which the first defective area is equal to or greater than a first area range among the first defective pixels, and a second signal among the plurality of pixels. Selecting a third defective pixel that deviates from the level range, calculating a second defective area from the number of pixels adjacent to each other on the array in the third defective pixel, and the third defective pixel Among the pixels, the second defect area is Is 2 areal extent or more, and characterized in that it comprises the step of selecting a fourth defective pixel including the second defective pixel.
ここで、第2の面積範囲は、第1の面積範囲より大きいことを特徴とする。 Here, the second area range is larger than the first area range.
また、上記課題を解決するために本発明の固体撮像素子の評価装置は、2次元的に配列された複数の画素を有する固体撮像装置の各画素から出力される画素信号レベルを記憶する画像記憶手段と、前記複数の画素のうち、第1の信号レベル範囲を逸脱する第1の欠陥画素を選別する第1の2値化手段と、前記第1の欠陥画素において、前記配列上で互いに隣接する画素数から第1の欠陥面積を算出する第1の欠陥面積算出手段と、前記第1の欠陥画素のうち、前記第1の欠陥面積が第1の面積範囲以上の第2の欠陥画素を選別する第1の面積判断手段と、前記複数の画素のうち、第2の信号レベル範囲を逸脱する第3の欠陥画素を選別する第2の2値化手段と、前記第3の欠陥画素において、前記配列上で互いに隣接する画素数から第2の欠陥面積を算出する第2の欠陥面積算出手段と、前記第3の欠陥画素のうち、前記第2の欠陥面積が第2の面積範囲以上であり、かつ前記第2の欠陥画素を含む第4の欠陥画素を選別する第2の面積判断手段とを備えることを特徴とする。 In order to solve the above problems, the solid-state imaging device evaluation apparatus according to the present invention stores an image memory that stores a pixel signal level output from each pixel of a solid-state imaging device having a plurality of pixels arranged two-dimensionally. And a first binarization unit that selects a first defective pixel that deviates from a first signal level range among the plurality of pixels, and the first defective pixel is adjacent to each other on the array. First defect area calculating means for calculating a first defect area from the number of pixels to be processed, and among the first defective pixels, a second defective pixel whose first defective area is not less than a first area range is selected. A first area judging means for selecting; a second binarizing means for selecting a third defective pixel that deviates from a second signal level range among the plurality of pixels; and the third defective pixel. , From the number of pixels adjacent to each other on the array, A second defect area calculating means for calculating an area; and a fourth defect area of the third defect pixel, wherein the second defect area is not less than a second area range and includes the second defect pixel. And a second area determining means for selecting defective pixels.
ここで、第2の面積範囲は、第1の面積範囲より大きいことを特徴とする。 Here, the second area range is larger than the first area range.
本発明によれば、少なくとも2段階の、濃淡差と欠陥面積とを組み合わせた判定を行うことにより、画像で問題となるコントラストの弱い欠陥いわゆるシミ・ムラの判定を目視によることなく、テスタで自動判定することが可能である。濃淡差と面積を指標に複合的に組み合わせて固体撮像素子の合否の判定を行うため、従来のようにデータ平均値からしきい値を算出し、このしきい値と上記データ平均値を比較する方法とは異なり、濃淡差が点状キズや高域のベースノイズと同等で、かつ画像で問題となるコントラストの弱い欠陥、いわゆるシミ・ムラの判定を正確かつ迅速に行うことができる。 According to the present invention, at least two stages of determination that combines the density difference and the defect area are performed, so that a defect having low contrast, which is a problem in an image, that is, a so-called spot / unevenness is automatically determined by a tester without visual inspection. It is possible to determine. In order to determine whether or not the solid-state image sensor is acceptable by combining the density difference and the area as an index, a threshold value is calculated from the data average value as in the past, and this threshold value is compared with the above data average value. Unlike the method, it is possible to accurately and quickly determine a defect having low contrast, which is equivalent to a point-like scratch or a high-frequency base noise, and has a low contrast, which is a problem in an image, so-called spots / unevenness.
以下、本発明の一実施形態について、図面に基づいて説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は本発明の一実施形態における固体撮像素子の評価方法を説明する検査フローチャート、図2は固体撮像素子の評価装置のブロック図である。 FIG. 1 is an inspection flowchart for explaining a solid-state image sensor evaluation method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block diagram of a solid-state image sensor evaluation apparatus.
図3は、図1の検査フローチャートを実行した際に得られる結果を、シミ、キズを相対的に比較した事例を用いて示すものである。 FIG. 3 shows the results obtained when the inspection flowchart of FIG. 1 is executed, using an example in which spots and scratches are relatively compared.
図4は図1の検査フローチャートを実行した際にしきい値と面積規格を調整する概念を説明するための事例を示すものである。 FIG. 4 shows an example for explaining the concept of adjusting the threshold value and the area standard when the inspection flowchart of FIG. 1 is executed.
なお、以下の実施形態では、ノイズが正方向に出力されるものとしているが、負の方向に出力される場合においても同様である。 In the following embodiments, noise is output in the positive direction, but the same applies to the case where noise is output in the negative direction.
本実施形態の評価装置は、図2に示すように、2次元的に配列された複数の画素を有し入力画像を光電変換する固体撮像素子1と、各画素から出力される画素信号を取り込んで記憶する画像記憶手段2と、画像記憶手段2に記憶された各画素信号を第1のしきい値TH1で2値化して第1の欠陥画素を検出する第1の2値化手段3と、第1の欠陥画素において画素配列上で互いに隣接する画素数から第1の欠陥面積を算出する第1の欠陥面積算出手段4と、第1の欠陥画素のうち第1の欠陥面積が第1の面積範囲以上の第2の欠陥画素を選別する第1の面積判断手段5と、画像記憶手段2に記憶された各画素信号を第2のしきい値THnで2値化して第3の欠陥画素を検出する第2の2値化手段6と、第3の欠陥画素において画素配列上で互いに隣接する画素数から第2の欠陥面積を算出する第2の欠陥面積算出手段7と、第3の欠陥画素のうち第2の欠陥面積が第2の面積範囲以上であり、かつ第2の欠陥画素を含む第4の欠陥画素を選別する第2の面積判断手段8とを備えている。
As shown in FIG. 2, the evaluation apparatus according to the present embodiment captures a solid-
本実施形態の評価方法について図1を用いて説明する。固体撮像装置は、2次元的に配列された複数の画素を有しており、各画素から出力される画素信号がテスタに取り込まれる。画素信号の全体は画像データとしてテスタに取り込まれ(F1)、この画像データはテスタの内部または外部の画像記憶装置に記憶される(F2)。その後、第1のしきい値TH1による2値化(F3)が行われ、しきい値TH1を超えた隣接部分の面積の大きさを検出して欠陥面積算出が行われる(F4)。ここで、第1のしきい値TH1は、一般的には画像記憶装置に記憶された画像データ全体の平均値に所定比率を乗じることによって定められる。例えば、しきい値としては、平均値AVGの+3%程度に設定され、この場合、平均値AVGの103%以上はノイズとして判定する。なお、第1のしきい値TH1は、固定値であっても構わない。 The evaluation method of this embodiment is demonstrated using FIG. The solid-state imaging device has a plurality of pixels arranged two-dimensionally, and a pixel signal output from each pixel is taken into a tester. The entire pixel signal is captured by the tester as image data (F1), and this image data is stored in an image storage device inside or outside the tester (F2). Thereafter, binarization (F3) is performed using the first threshold value TH1, and the defect area calculation is performed by detecting the size of the area of the adjacent portion exceeding the threshold value TH1 (F4). Here, the first threshold value TH1 is generally determined by multiplying the average value of the entire image data stored in the image storage device by a predetermined ratio. For example, the threshold value is set to about + 3% of the average value AVG. In this case, 103% or more of the average value AVG is determined as noise. Note that the first threshold value TH1 may be a fixed value.
そして、第1のしきい値TH1を超えた隣接部分の欠陥面積を面積規格S1と比較し(F5)、面積がS1より小さいものは良品(F9)へ、面積がS1より大きいものはシミ候補として選別される。本実施形態では、キズ、シミの両方が混合した状態で検出される。 Then, the defect area of the adjacent portion exceeding the first threshold value TH1 is compared with the area standard S1 (F5). If the area is smaller than S1, the defect area is determined to be non-defective (F9). As screened. In the present embodiment, both scratches and spots are detected in a mixed state.
さらに、第2のしきい値THnによる2値化(F6)が行われ、しきい値THnを超える隣接部分の面積の大きさを検出して欠陥面積算出が行われる(F7)。検出された欠陥面積を面積規格Snと比較を行い(F8)、面積がSnより小さいものは良品(F9)と判定される、シミ候補として選別された欠陥画素を含み、かつ面積がSnより大きいものは不良品(F10)と判定され、合否の判定が行われる。なお、面積規格Snは、面積規格S1を基にしてSn>S1として決定することが好ましい。 Further, binarization by the second threshold value THn (F6) is performed, and the defect area calculation is performed by detecting the size of the area of the adjacent portion exceeding the threshold value THn (F7). The detected defect area is compared with the area standard Sn (F8), and if the area is smaller than Sn, it is determined as a non-defective product (F9), which includes defective pixels selected as spot candidates and the area is larger than Sn. A thing is determined to be a defective product (F10), and a pass / fail determination is performed. The area standard Sn is preferably determined as Sn> S1 based on the area standard S1.
図1の検査フローチャートを実行した結果について、図3に示すシミ画像11とキズ画像21を用いて比較説明する。欠陥の濃淡を三次元グラフで表したシミの濃淡分布12、キズの濃淡分布22は画像空間をx,y座標として欠陥の濃淡強度をz座標で表した例である。シミ欠陥を抽出するためにしきい値TH1で2値化を行う。シミの濃淡分布12,キズの濃淡分布22について、しきい値TH1以上の画素を1とし、しきい値TH1未満の画素を0としたグラフがしきい値2値化グラフ13、しきい値2値化グラフ23である。さらに、シミの濃淡分布12,キズの濃淡分布22をしきい値THn以上の画素を1とし、しきい値THn未満の画素を0としたグラフが、しきい値THnでの2値化グラフ14および2値化グラフ24である。
The result of executing the inspection flowchart of FIG. 1 will be described by comparison using the
次に、図4を用いて具体的なしきい値の設定方法について説明する。図4(a)は、シミ画像11とキズ画像21のそれぞれについて、キズ、シミの部分をx方向断面で見た時のグラフである。ここで、座標35を横軸に、濃淡差36を縦軸にしている。キズの濃淡差をキズ31、シミの濃淡差をシミ32の部分に示している。測定された濃淡分布で所定の値を超えるようなノイズを有する領域を判定するため、第一番目にしきい値TH1を調整し、高めの濃淡分布のレベルで2値化して検出できるように設定する。
Next, a specific threshold setting method will be described with reference to FIG. FIG. 4A is a graph of the
図4(b)はしきい値TH1で2値化を行った結果検出された位置座標を示したグラフである。2値化で検出された結果によれば、キズ31は座標=5において、欠陥面積の値は1となる、シミは座標=17において、結果欠陥面積の値は1となる。
FIG. 4B is a graph showing position coordinates detected as a result of binarization with the threshold value TH1. According to the result detected by binarization, the
2値化で検出された結果によれば、キズ31は座標=5において、欠陥面積の値は1となる、シミは座標=17において、結果欠陥面積の値は1となる。
According to the result detected by binarization, the
図4(c)はしきい値THnで2値化を行った結果検出された位置座標を示したグラフである。キズは座標=5において、欠陥面積の値は1となる。シミは座標=15〜19において検出された結果、欠陥面積の値は5である。 FIG. 4C is a graph showing position coordinates detected as a result of binarization with the threshold value THn. The scratch has a defect area value of 1 at coordinate = 5. As a result of detection of spots at coordinates = 15 to 19, the value of the defect area is 5.
キズの場合は、測定値の空間的な変化が急峻であるため、しきい値TH1の時とTHnの時とで、欠陥面積の差はほとんどないが、シミの場合は、測定値の空間的な変化が緩やかであるため、しきい値TH1の時とTHnの時とで、欠陥面積の差が大きく出る特徴がある。 In the case of a flaw, since the spatial change of the measured value is steep, there is almost no difference in the defect area between the threshold TH1 and THn. Since such a change is gradual, there is a feature that a difference in defect area is greatly increased between the threshold TH1 and THn.
したがって、ここで得られた欠陥面積の差に着目し面積規格Snの値を設定する(F8)。例えば、SnをS1(=1)よりも大きな値Sn=3に設定すれば、キズとシミを分離することができる。 Therefore, paying attention to the defect area difference obtained here, the value of the area standard Sn is set (F8). For example, if Sn is set to a value Sn = 3 larger than S1 (= 1), scratches and spots can be separated.
上記のように、2段階のしきい値(TH1,THn)および面積規格(S1,Sn)を用いて選別することにより、キズとシミを分離して、効率的に良品、不良品に分類することができる。 As described above, by using the two-stage thresholds (TH1, THn) and the area standard (S1, Sn) for sorting, scratches and spots are separated and efficiently classified into good products and defective products. be able to.
なお、上記の実施形態においては、(TH1,S1)と(THn,Sn)の2段階で、シミの判定を行ったが、同様の処理を複数回繰り返すことにより、シミの判定を行うものであっても構わない。 In the above embodiment, the stain is determined in two stages (TH1, S1) and (THn, Sn). However, the stain is determined by repeating the same processing a plurality of times. It does not matter.
このように本実施形態によれば、濃淡差と面積を指標に用いて複合的に組み合わせることで、コントラストの弱い欠陥、いわゆるシミ・ムラの判定を自動的に行うことができる。 As described above, according to the present embodiment, it is possible to automatically determine a defect having a low contrast, that is, a so-called spot / unevenness, by combining the density difference and the area as an index in combination.
本発明は、人の主観に依存する官能検査を自動化する技術として有用である。 The present invention is useful as a technique for automating sensory tests depending on human subjectivity.
1 固体撮像素子
2 画像記憶手段
3 第1の2値化手段
4 第1の欠陥面積算出手段
5 第1の面積判断手段
6 第2の2値化手段
7 第2の欠陥面積算出手段
8 第2の面積判断手段
11 シミ画像
12 シミ濃淡分布
13 シミの2値化グラフ(しきい値TH1)
14 シミの2値化グラフ(しきい値THn)
15 しきい値1
16 しきい値n
21 点キズ画像
22 キズ濃淡分布
23 キズの2値化グラフ(しきい値TH1)
24 キズの2値化グラフ(しきい値THn)
31 キズ
32 シミ
33 しきい値TH1
34 しきい値TH2
35 座標
36 濃淡分布
37 2値化カウント
F1 固体撮像素子
F2 画像記憶装置
F3 しきい値TH1による2値化
F4 欠陥面積算出手段
F5 面積比較手段
F6 しきい値THnによる2値化
F7 欠陥面積算出手段
F8 面積比較手段
F9 良品判定処理手段
F10 不良品判定処理手段
F41 固体撮像素子
F42 画像記憶装置
F43 しきい値による2値化
F44 欠陥面積算出
F45 面積規格
F45 良品
F46 不良品
DESCRIPTION OF
14 Binarization graph (threshold value THn)
15
16 threshold n
21
24 Scratch binarization graph (threshold value THn)
31 Scratches 32
34 Threshold TH2
35
Claims (4)
前記複数の画素のうち、第1の信号レベル範囲を逸脱する第1の欠陥画素を選別する工程と、
前記第1の欠陥画素において、前記配列上で互いに隣接する画素数から第1の欠陥面積を算出する工程と、
前記第1の欠陥画素のうち、前記第1の欠陥面積が第1の面積範囲以上の第2の欠陥画素を選別する工程と、
前記複数の画素のうち、第2の信号レベル範囲を逸脱する第3の欠陥画素を選別する工程と、
前記第3の欠陥画素において、前記配列上で互いに隣接する画素数から第2の欠陥面積を算出する工程と、
前記第3の欠陥画素のうち、前記第2の欠陥面積が第2の面積範囲以上であり、かつ前記第2の欠陥画素を含む第4の欠陥画素を選別する工程とを備えることを特徴とする固体撮像素子の評価方法。 Storing a pixel signal level output from each pixel of a solid-state imaging device having a plurality of pixels arranged two-dimensionally;
Selecting a first defective pixel out of the first signal level range from the plurality of pixels;
In the first defective pixel, calculating a first defective area from the number of pixels adjacent to each other on the array;
Selecting a second defective pixel in which the first defective area is equal to or greater than a first area range among the first defective pixels;
Selecting a third defective pixel out of the second signal level range from the plurality of pixels;
Calculating a second defect area from the number of pixels adjacent to each other on the array in the third defective pixel;
Selecting the fourth defective pixel including the second defective pixel, the second defective area being equal to or larger than the second area range among the third defective pixels. For evaluating a solid-state imaging device.
前記複数の画素のうち、第1の信号レベル範囲を逸脱する第1の欠陥画素を選別する第1の2値化手段と、
前記第1の欠陥画素において、前記配列上で互いに隣接する画素数から第1の欠陥面積を算出する第1の欠陥面積算出手段と、
前記第1の欠陥画素のうち、前記第1の欠陥面積が第1の面積範囲以上の第2の欠陥画素を選別する第1の面積判断手段と、
前記複数の画素のうち、第2の信号レベル範囲を逸脱する第3の欠陥画素を選別する第2の2値化手段と、
前記第3の欠陥画素において、前記配列上で互いに隣接する画素数から第2の欠陥面積を算出する第2の欠陥面積算出手段と、
前記第3の欠陥画素のうち、前記第2の欠陥面積が第2の面積範囲以上であり、かつ前記第2の欠陥画素を含む第4の欠陥画素を選別する第2の面積判断手段とを備えることを特徴とする固体撮像素子の評価装置。 Image storage means for storing a pixel signal level output from each pixel of a solid-state imaging device having a plurality of pixels arranged two-dimensionally;
First binarization means for selecting a first defective pixel out of the first signal level range from the plurality of pixels;
First defect area calculating means for calculating a first defect area from the number of pixels adjacent to each other on the array in the first defective pixel;
A first area determining means for selecting a second defective pixel having a first defective area equal to or larger than a first area range among the first defective pixels;
A second binarizing means for selecting a third defective pixel out of the second signal level range from the plurality of pixels;
Second defect area calculation means for calculating a second defect area from the number of pixels adjacent to each other on the array in the third defective pixel;
Second area determination means for selecting a fourth defective pixel including the second defective pixel, wherein the second defective area is equal to or larger than a second area range among the third defective pixels; An evaluation apparatus for a solid-state imaging device, comprising:
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
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JP2010219737A (en) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Shimadzu Corp | Radiation imaging apparatus |
CN104992429A (en) * | 2015-04-23 | 2015-10-21 | 北京宇航时代科技发展有限公司 | Mountain crack detection method based on image local reinforcement |
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2004
- 2004-10-22 JP JP2004307842A patent/JP2006120891A/en active Pending
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