JP2006120729A - Method of manufacturing wiring board - Google Patents

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Tetsuya Kashiwagi
哲哉 柏木
Tatsuya Hatano
達也 羽田野
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Niterra Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing wiring board by which sagging down etc., of paste can be corrected easily through a simple process, even if sagging down occurs, after the paste has been charged in a through hole due to the low viscosity of the paste. <P>SOLUTION: After a plate-like core 2 is arranged with its first main surface side on the upside, an uncured packing composition 130 is packed into through holes 12S and 12L from the first main surface-side openings of the holes 12S and 12L, in a state where the second main surface-side openings are not closed in the holes 12S and 12L covered with through hole conductors 12. Then the excessive packing composition 11 swollen from the second main surface-side openings of the through holes 12S and 12L in a sagging-down state is tore, in a state where the contained resin is uncured. In addition, after the tearing process of the excessive packing composition is completed, the uncured packing composition 130 is cured. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は配線基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board.

特開2002−64263号公報JP 2002-64263 A 特開2004−158441号公報JP 2004-158441 A

LSIやICなどの半導体部品を搭載したり、あるいは基板内部に種々の厚膜印刷素子を作りこんだりした配線基板として、ガラス強化樹脂等で構成された板状コアの両面に、樹脂誘電体層と配線層(金属導体層)とを交互に積層した多層配線基板が使用されている。両面に振り分けられた配線層は、板状コアに形成されたスルーホールの内面を覆うスルーホール導体により電気的に接続される。スルーホールの内径は広い範囲で調整されるが、メッキ形成されるスルーホール導体だけでは内部空間を埋めきれないので、その内側を樹脂硬化型の充填組成物(ペースト)で満たし、その充填組成物の硬化後に、樹脂誘電体層や配線層をビルドアップすることで多層配線積層部の平坦性を確保するようにしている。   Resin dielectric layers on both sides of a plate-like core made of glass-reinforced resin as a wiring board on which semiconductor parts such as LSI and IC are mounted or various thick-film printing elements are built inside the board A multilayer wiring board in which wiring layers (metal conductor layers) are alternately stacked is used. The wiring layers distributed on both surfaces are electrically connected by a through-hole conductor that covers the inner surface of the through-hole formed in the plate-like core. The inner diameter of the through-hole is adjusted in a wide range, but the inner space cannot be filled only with the plated through-hole conductor, so the inside is filled with a resin-curing filling composition (paste), and the filling composition After curing, the resin dielectric layer and the wiring layer are built up to ensure the flatness of the multilayer wiring laminated portion.

上記のごときスルーホールへのペーストの充填は、例えば、印刷マスクとスキージを用いる方式や、ロールコータを用いる方法、さらには専用のインジェクタを用いる方法などが実用化されている。ペーストの充填に際しては、スルーホール内へのボイド等の残留が生じないように、ペーストの粘度を適宜調整する必要があるが、充填の確実性を上げるために、最近は比較的低粘度のペーストが使用される傾向にある。特許文献1及び特許文献2で述べられているごとく、基板の小形化と配線の高密度化が進むにつれ、スルーホールの内径はますます縮小し、内径とホール深さとのアスペクト比は大きくなる傾向にあるので、使用されるペーストはより低粘度のものを使用する必要が生じてきている。   As for the filling of the paste into the through hole as described above, for example, a method using a printing mask and a squeegee, a method using a roll coater, and a method using a dedicated injector have been put into practical use. When filling the paste, it is necessary to adjust the viscosity of the paste appropriately so that voids and the like do not remain in the through-holes. Tend to be used. As described in Patent Document 1 and Patent Document 2, as the size of the substrate and the density of the wiring increase, the inner diameter of the through hole becomes smaller and the aspect ratio between the inner diameter and the hole depth tends to increase. Therefore, it is necessary to use a paste having a lower viscosity.

しかし、低粘度のペーストを用いてスルーホールの内部を充填しようとする場合、次のような問題を生ずる。
(1)スルーホールへのペーストの充填は、ボイド残留を防ぐためにホールの下側の開口を開放にして、上側の開口から行なうのが一般的である。しかし、充填するペーストの粘度が低いと、ペーストが下側の開口から漏れ出てしまう問題がある。この場合、その漏出したペーストが膨出した状態で硬化すると、研磨による修正に非常に長時間を要する。
(2)ペーストに含有される熱硬化型樹脂は、硬化熱処理する際に、一旦粘度がさらに低下した後硬化反応に移行するものが多い。この硬化熱処理時の粘度低下により、充填されたスルーホール開口周縁で表面張力により吊り上がり、開口周囲に漏れ出てしまうことがある(いわゆるブリードアウト)。もとから粘度が小さいペーストは、ブリードアウトが非常に生じやすく、スルーホール内に充填された硬化後のペースト上面にくぼみを生じ、ビルドアップ層の平坦性を悪化させやすくなる。
(3)スルーホールの開口周縁には、内面を覆うスルーホール導体と一体のスルーホールパッドがメッキ形成される場合が多いが、(1)の重力によるペースト垂下を抑制するために、化学処理による面粗し処理をスルーホール導体内面に施すと、スルーホールパッドの表面にも面粗し処理が施されることになる。面粗し処理されたスルーホールパッドがスルーホールの開口周縁に存在していると、(2)のブリードアウトはますます生じやすくなる傾向にある。
However, when filling the inside of the through hole using a low-viscosity paste, the following problem occurs.
(1) Filling the through hole with the paste is generally performed from the upper opening with the lower opening being opened to prevent voids remaining. However, if the viscosity of the paste to be filled is low, there is a problem that the paste leaks out from the lower opening. In this case, if the leaked paste is hardened in a swelled state, it takes a very long time to correct by polishing.
(2) Many of the thermosetting resins contained in the paste are transferred to a curing reaction after the viscosity is once further lowered during the curing heat treatment. Due to the decrease in the viscosity during the curing heat treatment, it may be lifted by the surface tension at the periphery of the filled through-hole opening and leak around the opening (so-called bleed out). A paste with a low viscosity from the beginning is very likely to bleed out, and a dent is formed on the upper surface of the cured paste filled in the through hole, which tends to deteriorate the flatness of the build-up layer.
(3) The through-hole pad integral with the through-hole conductor covering the inner surface is often plated on the periphery of the opening of the through-hole, but in order to suppress paste drooping due to gravity in (1), chemical treatment is used. When the surface roughening process is performed on the inner surface of the through-hole conductor, the surface roughening process is also performed on the surface of the through-hole pad. When the through-hole pad subjected to surface roughening exists at the periphery of the opening of the through-hole, the bleedout in (2) tends to be more likely to occur.

上記の問題が、特に、特許文献1や特許文献2のように、1つの配線基板に大小サイズの異なるスルーホールが混在形成されている場合に特に生じやすい。すなわち、ペーストの粘度は、充填がより困難な小径のスルーホールに合せて調整する必要があるが、小径のスルーホールに適合するペーストの粘度が大径のスルーホールでは小さくなりすぎると、その大径のスルーホールで上述のペースト垂下やブリードアウトをより生じやすくなることは明らかである。   The above problem is particularly likely to occur when through-holes of different sizes are mixedly formed on one wiring board as in Patent Document 1 and Patent Document 2. In other words, the viscosity of the paste needs to be adjusted according to the small-diameter through hole that is more difficult to fill, but if the viscosity of the paste that fits into the small-diameter through-hole becomes too small for the large-diameter through-hole, its viscosity increases. It is clear that the above-described paste sag and bleed-out are more likely to occur in the diameter through hole.

特許文献2では、粘度を上げたペーストを用いるとともに、小径のスルーホールへはマスクを用いてペーストを盛り上げ充填し、半硬化後に盛り上げ部分を研磨除去する方法が開示されている。しかし、この方法は、大小のスルーホール内部へのペースト充填の後、マスクを用いて盛り上げ用の2段目のペースト印刷を行なう必要があり、工程の増加とマスクの準備コストがかかる問題がある。他方、特許文献1では、ペーストに含まれるフィラーの粒度標準偏差を大径スルーホールにおいて小径スルーホールよりも小さくする方法が提案されている。しかし、この方法は、スルーホールの寸法に応じて異なる粘度のペーストを、同じ配線基板の中で使い分ける必要があり、ペーストの調整や印刷塗布の工程が複雑化することはいうまでもない。   Patent Document 2 discloses a method in which a paste with increased viscosity is used, and paste is filled and filled into a small-diameter through hole using a mask, and the raised portion is polished and removed after semi-curing. However, this method has a problem that it is necessary to perform the second stage paste printing for enlarging using a mask after filling the paste into large and small through holes, which increases the number of processes and costs for preparing the mask. . On the other hand, Patent Document 1 proposes a method in which the particle size standard deviation of the filler contained in the paste is made smaller in the large diameter through hole than in the small diameter through hole. However, in this method, pastes having different viscosities depending on the dimensions of the through holes need to be used properly in the same wiring board, and it goes without saying that the paste adjustment and printing application processes become complicated.

本発明の課題は、ペーストの粘度が低くスルーホールへの充填後に垂れ下がり等を生じても、簡便な工程によりその修正を容易に行なうことができる配線基板の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring board that can be easily corrected by a simple process even if the paste has a low viscosity and sags after filling into a through hole.

課題を解決するための手段及び発明の効果Means for Solving the Problems and Effects of the Invention

上記課題を解決するために、本発明の配線基板の製造方法は、
絶縁体からなる板状コアの第一主表面と第二主表面とに導体層が形成されるとともに、それら導体層が板状コアの板厚方向に形成されたスルーホールの内面を覆うスルーホール導体によって導通接続されるとともに、スルーホール導体のさらに内側を樹脂硬化型の充填組成物によって充填した配線基板の製造方法において、
板状コアを第一主表面側が上となるように配置し、スルーホール導体で覆われたスルーホールの第二主表面側の開口を塞がない状態で、当該スルーホールの内部に、その第一主表面側の開口から未硬化の充填組成物を充填する組成物充填工程と、
充填工程の終了後、スルーホールの第二主表面側の開口から垂れ下がる形態で膨出する余剰の充填組成物を、含有される樹脂が未硬化の状態で擦り切り処理する余剰充填組成物擦り切り工程と、
余剰充填組成物擦り切り工程が終了した後、未硬化の充填組成物を硬化させる硬化工程と、を有したことを特徴とする。
In order to solve the above problems, a method for manufacturing a wiring board according to the present invention includes:
A through-hole in which a conductor layer is formed on the first main surface and the second main surface of a plate-shaped core made of an insulator and covers the inner surface of the through-hole formed in the plate thickness direction of the plate-shaped core In the method for manufacturing a wiring board that is conductively connected by a conductor and further filled with a resin-curing filling composition inside the through-hole conductor,
The plate-like core is arranged so that the first main surface side is on top, and the opening on the second main surface side of the through hole covered with the through hole conductor is not blocked, and the first core surface side is placed inside the through hole. A composition filling step of filling an uncured filling composition from an opening on one main surface side;
After completion of the filling process, surplus filling composition scouring process in which the surplus filling composition swelled in a form depending on the second main surface side of the through hole is scraped off in a state where the resin contained is uncured. ,
And a curing step of curing the uncured filling composition after the surplus filling composition scraping step is completed.

上記本発明によると、粘度の小さい充填組成物を用いてスルーホールを充填する際に、スルーホールの第二主表面(裏面)側の開口から垂れ下がる形態で膨出する余剰の充填組成物を、含有される樹脂が未硬化の状態で擦り切り処理し、その後、充填させた未硬化の充填組成物を硬化させるようにしたから、膨出部の除去を容易に行なうことができ、ひいては平坦性の良好なスルーホールの充填状態を簡易な工程で確実に達成することができる。   According to the present invention, when filling a through hole with a filling composition having a low viscosity, the surplus filling composition swells in a form that hangs down from the opening on the second main surface (back surface) side of the through hole. Since the resin contained is scraped off in an uncured state and then the filled uncured filling composition is cured, the bulging portion can be easily removed, and the flatness A good through hole filling state can be reliably achieved by a simple process.

上記本発明の方法は、コア基板にスルーホールとして、内径の異なるものが混在形成されている場合に特に顕著な効果を発揮する。すなわち、ペーストの粘度を、充填がより困難な小径のスルーホールに合せて調整した場合、小径のスルーホールに適合するペーストの粘度が大径のスルーホールで小さすぎ、その大径のスルーホールでペースト垂下が生じても、擦り切り処理にてこれを簡単かつ問題なく除去することができる。その結果、異なる内径のスルーホールに同一種類の充填組成物を一括充填することが可能となり、特許文献1や特許文献2に開示された方法よりも工程を飛躍的に簡略化することが可能となるのである。   The above-described method of the present invention exhibits a particularly remarkable effect when the core substrate is formed with a mixture of through holes having different inner diameters. In other words, when the viscosity of the paste is adjusted to match the smaller diameter through hole that is more difficult to fill, the viscosity of the paste that fits into the smaller diameter through hole is too small for the large diameter through hole. Even if paste dripping occurs, it can be removed easily and without problems by the scraping process. As a result, it is possible to collectively fill the same kind of filling composition into through holes having different inner diameters, and the process can be greatly simplified as compared with the methods disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2. It becomes.

余剰充填組成物擦り切り工程は、組成物充填工程の終了後、板状コアの上下を反転して実施するのが容易である。この場合、余剰充填組成物擦り切り工程において、スルーホールの開口周囲に一定厚さの充填組成物層が残留するように、余剰の充填組成物を擦り切ることが望ましい。余剰充填組成物擦り切り時に、スルーホールの開口周囲に一定厚さの充填組成物層が残留することで、硬化処理時に充填組成物の粘度がさらに低下しても、周囲に既に充填組成物層が存在していることで、スルーホール内から開口周囲への充填組成物の流出が抑制され、ブリードアウトを極めて効果的に抑制することができる。   It is easy to carry out the surplus filling composition scraping step by inverting the top and bottom of the plate-like core after the composition filling step. In this case, in the surplus filling composition scraping step, it is desirable to scrape off the surplus filling composition so that a filling composition layer having a constant thickness remains around the opening of the through hole. When the surplus filling composition is scraped off, the filling composition layer having a certain thickness remains around the opening of the through hole, so that even if the viscosity of the filling composition further decreases during the curing process, the filling composition layer is already present around the opening. By being present, the outflow of the filling composition from the through hole to the periphery of the opening is suppressed, and bleed out can be extremely effectively suppressed.

特に、板状コアの第一主表面において、スルーホールの開口周囲領域にスルーホール導体と一体のスルーホールパッドが形成されている場合、上記ブリードアウトを防止するには、充填組成物層を少なくとも該スルーホールパッド上に残留させるようにす余剰充填組成物擦り切り工程を実施することが望ましい。特に、スルーホール導体の内面とともにスルーホールパッドの表面に面粗し処理が施される場合は、スルーホールパッドの表面が粗化されていることで、粘度の低下した充填組成物層との濡れ性が増大しており、硬化処理時の溢れ出しひいてはブリードアウトが一層生じやすい状態となる。従って、この場合は、上記のごとく余剰充填組成物擦り切り工程において充填組成物層をスルーホールパッド上に残留させるとより効果的である。   In particular, when a through-hole pad integrated with a through-hole conductor is formed on the first main surface of the plate-shaped core in the peripheral region of the through-hole opening, in order to prevent the bleed-out, the filling composition layer is at least It is desirable to carry out a surplus filling composition scraping process so as to remain on the through-hole pad. In particular, when the surface of the through-hole pad is roughened together with the inner surface of the through-hole conductor, the surface of the through-hole pad is roughened, so that the wetting with the filling composition layer having reduced viscosity is achieved. As a result, the spillage and the bleed-out are more likely to occur during the curing process. Therefore, in this case, it is more effective to leave the filling composition layer on the through-hole pad in the surplus filling composition scraping process as described above.

また、残留した充填組成物層を研磨により除去する研磨工程を設けておけば、スルーホールパッドの表面への充填組成物層の残留を防止でき、導体層を積層形成したときに導通不良等が活性することを効果的に抑制できる。充填組成物が加熱硬化型樹脂を含有する場合、硬化工程は、スルーホールに充填された未硬化の充填組成物を半硬化させる半硬化工程と、該半硬化工程の終了後に加熱硬化型樹脂を本硬化させる本硬化工程とを含み、上記の研磨工程を、仮乾燥工程と熱硬化処理工程との間で実施することが望ましい。残留した充填組成物層が半硬化状態であれば、その研磨による除去を非常に簡便に行なうことができる。なお、半硬化工程は本硬化工程よりも低温又は短時間の少なくともいずれかの条件を充足するように行なうとよい。   In addition, if a polishing step for removing the remaining filling composition layer by polishing is provided, it is possible to prevent the filling composition layer from remaining on the surface of the through-hole pad. It can suppress effectively. When the filling composition contains a thermosetting resin, the curing step includes a semi-curing step for semi-curing the uncured filling composition filled in the through holes, and a thermosetting resin after the semi-curing step is completed. It is desirable to carry out the above-described polishing step between the temporary drying step and the thermosetting treatment step, including a main curing step for main curing. If the remaining filling composition layer is in a semi-cured state, removal by polishing can be performed very simply. In addition, it is good to perform a semi-hardening process so that at least any one of low temperature or short time conditions may be satisfied rather than a main hardening process.

以下、本発明の実施の形態を、図面を用いて説明する。
図1は、本発明の配線基板の第一実施形態を模式的に示す断面図である。配線基板1は、絶縁体からなる板状コア2の第一主表面と第二主表面とに導体層3,23が形成されるとともに、それら導体層が板状コア2の板厚方向に形成されたスルーホール12S,12Lの内面を覆うスルーホール導体12によって導通接続されるとともに、スルーホール導体12のさらに内側を樹脂硬化型の充填組成物30によって充填したものである。板状コア2は、耐熱性樹脂板(例えばビスマレイミド−トリアジン樹脂板)や繊維強化樹脂板(例えばガラス繊維強化エポキシ樹脂)で構成されており、その板状コア2の両表面に、導体層3,23としてのコア配線パターン層3,23がそれぞれ形成される。これらコア配線パターン層3,13は、電源層又は接地層を含む。他方、板状コア2には、ドリル等により穿設されたスルーホール12S,12Lが形成され、その内壁面にはコア配線パターン層3,13を互いに導通させるスルーホー導体120が形成されている。また、スルーホール12は充填組成物30により充填されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a first embodiment of a wiring board of the present invention. In the wiring board 1, the conductor layers 3 and 23 are formed on the first main surface and the second main surface of the plate-shaped core 2 made of an insulator, and the conductor layers are formed in the plate thickness direction of the plate-shaped core 2. The through-hole conductors 12 that cover the inner surfaces of the through-holes 12S and 12L are electrically connected and the inner side of the through-hole conductor 12 is filled with a resin-curing filling composition 30. The plate-like core 2 is composed of a heat-resistant resin plate (for example, bismaleimide-triazine resin plate) or a fiber-reinforced resin plate (for example, glass fiber-reinforced epoxy resin), and a conductor layer is formed on both surfaces of the plate-like core 2. Core wiring pattern layers 3 and 23 are formed as 3 and 23, respectively. These core wiring pattern layers 3 and 13 include a power supply layer or a ground layer. On the other hand, the plate-like core 2 is formed with through-holes 12S and 12L drilled by a drill or the like, and through-hole conductors 120 for connecting the core wiring pattern layers 3 and 13 to each other are formed on the inner wall surfaces thereof. The through hole 12 is filled with the filling composition 30.

充填組成物30は、エポキシ樹脂等の熱硬化型樹脂をベースとして、これにシリカ等の誘電体粒子からなるフィラーを分散させたものである。なお、スルーホール導体12の両端開口を電解メッキ層で塞ぎたい場合など、充填組成物30自体に導電性を付与したい場合は、金属粉末やカーボンブラックなどの導電性フィラーを配合することも可能である。図5に示すごとく、充填組成物30のスルーホール12S,12Lへの充填は、未硬化の熱硬化型樹脂粒子90とフィラー粒子80とを配合して溶媒により粘度調整したペースト130(未硬化の充填組成物)を用い、周知の印刷装置やロールコータあるいはインジェクタを用いて実施することができる。   The filling composition 30 is based on a thermosetting resin such as an epoxy resin, in which a filler made of dielectric particles such as silica is dispersed. In addition, when it is desired to provide conductivity to the filling composition 30 itself, such as when both ends of the through-hole conductor 12 are to be plugged with an electrolytic plating layer, a conductive filler such as metal powder or carbon black can be blended. is there. As shown in FIG. 5, the filling composition 30 is filled into the through holes 12S and 12L by mixing uncured thermosetting resin particles 90 and filler particles 80 and adjusting the viscosity with a solvent (uncured paste 130). It can be carried out using a known printing apparatus, roll coater or injector.

図1に戻り、コア配線パターン層3,13の上層には、第一樹脂ビルドアップ層4,14がそれぞれ形成されている。さらに、その表面にはそれぞれ第一配線パターン層5,15がCuメッキにより形成されている。なお、コア配線パターン層3,13と第一配線パターン層5,15とは、それぞれビア導体32,33により層間接続がなされている。同様に、第一配線パターン層5,15の上層には、本発明の感光性充填組成物を用いた第二樹脂ビルドアップ層6,16がそれぞれ形成されている。その表面にはそれぞれ第二配線パターン層7,17がCuメッキにより形成されている。これら第一配線パターン層5,15と第二配線パターン層7,17とも、それぞれビア導体34,35により層間接続がなされている。   Returning to FIG. 1, first resin build-up layers 4 and 14 are formed on the core wiring pattern layers 3 and 13, respectively. Further, first wiring pattern layers 5 and 15 are formed on the surfaces by Cu plating, respectively. The core wiring pattern layers 3 and 13 and the first wiring pattern layers 5 and 15 are connected to each other by via conductors 32 and 33, respectively. Similarly, second resin build-up layers 6 and 16 using the photosensitive filling composition of the present invention are formed on the first wiring pattern layers 5 and 15, respectively. Second wiring pattern layers 7 and 17 are formed on the surfaces by Cu plating, respectively. The first wiring pattern layers 5 and 15 and the second wiring pattern layers 7 and 17 are interconnected by via conductors 34 and 35, respectively.

図1に示すように、コア基板2にはスルーホール12S,12Lとして内径の異なるものが混在形成されてなり、それら異なる内径のスルーホール12S,12Lに同一種類の充填組成物30が充填されている。具体的には、スルーホール12S,12Lとして、充填組成物30の充填内径が200μm以上350mm以下の大径スルーホール12Lと、充填組成物30の充填内径が75μm以上200μm未満の小径スルーホール12Sとが形成されている。図2に示すように、複数の小径スルーホール12Sは専用の領域3に格子状(あるいは千鳥状)に密集配置され、大径スルーホール12Lはその周囲を取り囲むように配置されている。   As shown in FIG. 1, the core substrate 2 is formed with through holes 12S and 12L having different inner diameters. The through holes 12S and 12L having different inner diameters are filled with the same type of filling composition 30. Yes. Specifically, as the through holes 12S and 12L, a large diameter through hole 12L having a filling inner diameter of the filling composition 30 of 200 μm or more and 350 mm or less, and a small diameter through hole 12S having a filling inner diameter of the filling composition 30 of 75 μm or more and less than 200 μm, Is formed. As shown in FIG. 2, a plurality of small-diameter through holes 12S are densely arranged in a grid (or zigzag) in the dedicated region 3, and the large-diameter through holes 12L are arranged so as to surround the periphery thereof.

板状コア2の第一主表面及び第二主表面において、スルーホール12S,12Lの開口周囲領域には、スルーホール導体12と一体のスルーホールパッド13が形成されている。スルーホール導体12の内面とスルーホールパッド13の表面には、図5に示すように、スルーホール内の充填組成物や上層の樹脂ビルドアップ層との密着強度を上げるために、表面粗化処理(面粗し処理:例えば黒化処理やキレートエッチング処理等の化学的な処理に基づくもの)が施されている。また、図1において、コア配線パターン3,13、第一配線パターン層5,15及び第二配線パターン層7,17の各表面にも、同様の表面粗化処理が施されている。   On the first main surface and the second main surface of the plate-like core 2, a through-hole pad 13 integrated with the through-hole conductor 12 is formed in the opening peripheral region of the through-holes 12 </ b> S and 12 </ b> L. As shown in FIG. 5, the inner surface of the through-hole conductor 12 and the surface of the through-hole pad 13 are subjected to surface roughening treatment in order to increase the adhesion strength between the filling composition in the through-hole and the upper resin buildup layer. (Roughening treatment: based on chemical treatment such as blackening treatment or chelate etching treatment). In FIG. 1, the same surface roughening treatment is also applied to the surfaces of the core wiring patterns 3 and 13, the first wiring pattern layers 5 and 15, and the second wiring pattern layers 7 and 17.

図1に示すように、第二樹脂ビルドアップ層6上には、第二配線パターン層7と導通する下地導電性パッド10が多数設けられている。これら下地導電性パッド10は、無電解Ni−PメッキおよびAuメッキにより基板のほぼ中央部分に正方形状に配列し、各々その上に形成された半田バンプ11とともにチップ搭載部40を形成している。他方、第二配線パターン層7が形成されている側、及び第二配線パターン層17が形成されている側には、それら配線パターン層7,17を覆う形で、ソルダーレジスト層8,18がそれぞれ形成されている。   As shown in FIG. 1, on the second resin buildup layer 6, a large number of base conductive pads 10 that are electrically connected to the second wiring pattern layer 7 are provided. These base conductive pads 10 are arranged in a square shape at the substantially central portion of the substrate by electroless Ni-P plating and Au plating, and form chip mounting portions 40 together with the solder bumps 11 formed thereon, respectively. . On the other hand, on the side where the second wiring pattern layer 7 is formed and the side where the second wiring pattern layer 17 is formed, solder resist layers 8 and 18 are formed so as to cover the wiring pattern layers 7 and 17. Each is formed.

以下、本発明に基づく図1の配線基板の製造方法について説明する。
まず、図3の工程1に示すように、板状コア2に小径スルーホール12Sと大径スルーホール12Lとをドリリング等により形成し、さらに、各スルーホール12S,12Lにスルーホール導体12とスルーホールパッド13をメッキにより形成する。次に、工程2及び工程3に示すように、板状コア2の第一主表面にマスク109を配置し、該マスク109の開口を介して各スルーホール12S,12Lに、未硬化充填組成物であるペースト130を印刷充填する。スルーホール12S,12Lへのペースト130の充填は、スルーホール内へのボイド残留を防ぐために、ホールの下側(第二主表面側)の開口を開放にして、上側(第一主表面側)の開口から行なう。当然のことながら、2種のスルーホール12S,12Lへは、同じ組成のペースト130が、上記印刷により一括充填される。
Hereinafter, a method for manufacturing the wiring board of FIG. 1 according to the present invention will be described.
First, as shown in Step 1 of FIG. 3, a small-diameter through hole 12S and a large-diameter through hole 12L are formed in the plate-like core 2 by drilling or the like, and further, through-hole conductors 12 and through-holes are formed in the respective through holes 12S and 12L. The hole pad 13 is formed by plating. Next, as shown in Step 2 and Step 3, a mask 109 is disposed on the first main surface of the plate-like core 2, and the uncured filling composition is placed in each of the through holes 12S and 12L through the opening of the mask 109. The paste 130 is printed and filled. Filling the through holes 12S and 12L with the paste 130 is performed by opening the lower side (second main surface side) of the hole and preventing the voids from remaining in the through holes. From the opening. As a matter of course, the two types of through holes 12S and 12L are collectively filled with the paste 130 having the same composition.

既に説明したごとく、大径スルーホール12Lは、充填組成物30の充填内径(スルーホール導体12した後の内径である)が200μm以上350mm以下に設定されているが、小径スルーホール12Sは、充填組成物30の充填内径が75μm以上200μm未満(特には150μm以下、あるいは100μm以下)と小さい。また、ホール深さ/内径で表すアスペクト比は、大径スルーホール12Lは23以上40以下であるのに対し、小径スルーホール12Sのアスペクト比は4.0以上10.7以下(特には5.3以上、あるいは8.0以上)と非常に大きく、ペースト130の充填条件は大径スルーホール12Lと比較して相当厳しい。そこで、ペースト130は、この小径スルーホール12Sへの充填条件緩和を目的として、低粘度のもの、例えば22±3℃(つまり常温)にて、剪断速度を21s−1に定めて測定したときの粘度が300Pa・s以下(さらには、200Pa・s以下:下限値は例えば10Pa・s)のものを採用する。 As already described, the large-diameter through hole 12L has a filling inner diameter (the inner diameter after the through-hole conductor 12) of the filling composition 30 is set to 200 μm or more and 350 mm or less. The filling inner diameter of the composition 30 is as small as 75 μm or more and less than 200 μm (particularly 150 μm or less, or 100 μm or less). The aspect ratio expressed by the hole depth / inner diameter is 23 to 40 for the large diameter through hole 12L, whereas the aspect ratio of the small diameter through hole 12S is 4.0 to 10.7 (particularly 5. 3 or more, or 8.0 or more), and the filling condition of the paste 130 is considerably stricter than that of the large-diameter through hole 12L. Therefore, the paste 130 has a low viscosity, for example, 22 ± 3 ° C. (that is, normal temperature) and the shear rate is set to 21 s −1 for the purpose of relaxing the filling conditions for the small diameter through-hole 12S. A viscosity of 300 Pa · s or less (further 200 Pa · s or less: the lower limit is, for example, 10 Pa · s) is employed.

上記のように、ペースト130の粘度を、充填がより困難な小径スルーホール12Sに合せて調整した場合、小径スルーホール12Sに適合するペースト130の粘度が大径スルーホール12Lでは小さすぎ、図6に示すように、大径スルーホール12Lでは、第二主表面側の開口から垂れ下がる形態で膨出する余剰のペースト(充填組成物)11が多くなる。この漏出したペースト130が膨出した状態で硬化すると、研磨による修正(つまり、膨出した余剰ペーストの硬化物の除去)に非常に長時間を要する。   As described above, when the viscosity of the paste 130 is adjusted in accordance with the small-diameter through hole 12S that is more difficult to fill, the viscosity of the paste 130 that fits the small-diameter through-hole 12S is too small in the large-diameter through-hole 12L. As shown in FIG. 4, in the large-diameter through-hole 12L, the excess paste (filling composition) 11 swells in a form that hangs down from the opening on the second main surface side increases. When the leaked paste 130 is hardened in a swelled state, it takes a very long time for correction by polishing (that is, removal of the hardened material of the swelled excess paste).

そこで、本発明では、図4に示すような工程を採用する。上記の工程3のごとく、スルーホール12への充填組成物を充填した後、工程4のごとく、板状コア2の上下を反転する。そして、工程5に示すごとく、スルーホール12S,12Lの第二主表面側の開口から垂れ下がる形態で膨出する余剰の充填組成物11を、含有される樹脂が未硬化の状態で擦り切り処理する。擦り切り処理は、本実施形態ではスキージ110(例えばプラスチック製のもの)のエッジを基板に一定の圧力で押し付け付勢しながら、これを板面上で移動させることにより行なっている。   Therefore, the present invention employs a process as shown in FIG. After filling the through hole 12 with the filling composition as in step 3 above, the plate core 2 is turned upside down as in step 4. Then, as shown in step 5, the surplus filling composition 11 that swells in a form that hangs down from the opening on the second main surface side of the through holes 12S and 12L is scraped off in a state where the resin contained is uncured. In this embodiment, the scraping process is performed by moving the edge of a squeegee 110 (for example, made of plastic) on the plate surface while pressing and urging the edge of the squeegee 110 with a certain pressure.

なお、スキージ110の板状コア2への押し付け力を十分に大きくすることで、スルーホール12の内部以外において、板面上の組成物の残留をごく小さくすることが可能である。しかし、本実施形態では、スルーホール12S,12Lの開口周囲に一定厚さの充填組成物層31fが残留するように、余剰の充填組成物11を擦り切るようにしている。この残留厚さは、スキージ110の板状コア2への押し付け力を加減することにより調整できる。   In addition, by sufficiently increasing the pressing force of the squeegee 110 against the plate-like core 2, it is possible to make the residue of the composition on the plate surface extremely small except inside the through hole 12. However, in the present embodiment, the surplus filling composition 11 is scraped off so that the filling composition layer 31f having a certain thickness remains around the openings of the through holes 12S and 12L. This residual thickness can be adjusted by adjusting the pressing force of the squeegee 110 against the plate-like core 2.

この状態で、工程6に示すように、充填されたペースト130を半硬化させる。この半硬化処理は、最終的な硬化処理である本硬化処理よりも低温又は短時間の少なくともいずれかの条件を充足するように行なう(例えば、熱硬化型樹脂としてエポキシ樹脂を使用する場合の半硬化処理条件として、120℃で20分加熱後、140℃で70分加熱する条件を例示しておく)。ペースト130に含有される上記エポキシ樹脂等の熱硬化型樹脂は、硬化処理する際に、一旦溶融して粘度が低下し、その後硬化反応が進行する。この硬化熱処理時の粘度低下により、充填されたスルーホール12S,12L開口周縁で表面張力により吊り上がり、開口周囲に漏れ出るブリードアウトが生じやすい。本実施形態で採用するペースト130は、本来的に粘度が小さく留められているので、このブリードアウトがより生じやすいといえる。ブリードアウトが生ずると、図6に示すように、スルーホール12S,12L内に充填された硬化後のペーストの上面にくぼみ12cを生じる。   In this state, as shown in step 6, the filled paste 130 is semi-cured. This semi-curing treatment is performed so as to satisfy at least one of the conditions of a lower temperature or a shorter time than the final curing treatment, ie, the main curing treatment (for example, the half-curing in the case of using an epoxy resin as a thermosetting resin). Examples of the curing treatment conditions include the conditions of heating at 120 ° C. for 20 minutes and then heating at 140 ° C. for 70 minutes). The thermosetting resin such as the epoxy resin contained in the paste 130 is once melted to lower the viscosity during the curing process, and then the curing reaction proceeds. Due to the decrease in the viscosity during the curing heat treatment, the filled through holes 12S and 12L are likely to bleed out due to surface tension that is lifted by the surface tension and leaks around the openings. Since the paste 130 employed in the present embodiment is inherently kept low in viscosity, it can be said that this bleedout is more likely to occur. When the bleed-out occurs, as shown in FIG. 6, a dent 12c is formed on the upper surface of the cured paste filled in the through holes 12S and 12L.

しかし、図4の工程5のように、余剰充填組成物30擦り切り時に、スルーホール12S,12Lの開口周囲に一定厚さの充填組成物層31fが残留することで、硬化処理時に充填組成物30の粘度がさらに低下しても、周囲に既に充填組成物層31fが存在していることで、スルーホール12S,12L内から開口周囲への充填組成物30の流出が抑制され、工程6に示すように、ブリードアウトによるくぼみも生じにくい。本実施形態では、スルーホール12S,12Lの開口周囲領域にスルーホール導体12と一体のスルーホールパッド13が形成されており、該スルーホールパッド13の表面を含めて板状コア2の主表面が覆われるように充填組成物層31fを残留させている。スルーホール導体12の内面とともにスルーホールパッド13の表面には、前述のごとく表面粗化処理が施されていて濡れ性が大きいため、粘度の低下した充填組成物層31fがより広がりやすく、リードアウトが一層生じやすい。しかし、充填組成物層31fが表面粗化処理されたスルーホールパッド13も覆うことで、ブリードアウト防止効果が一層顕著に発揮されている。   However, as shown in Step 5 of FIG. 4, when the surplus filling composition 30 is scraped off, the filling composition layer 31 f having a certain thickness remains around the opening of the through holes 12 </ b> S and 12 </ b> L, so that the filling composition 30 is cured during the curing process. Even if the viscosity of the liquid is further reduced, the filling composition layer 31f is already present in the periphery, so that the outflow of the filling composition 30 from the through holes 12S and 12L to the periphery of the opening is suppressed. As described above, dents due to bleed-out are less likely to occur. In the present embodiment, a through-hole pad 13 that is integral with the through-hole conductor 12 is formed in a region around the opening of the through-holes 12S and 12L, and the main surface of the plate core 2 including the surface of the through-hole pad 13 is The filling composition layer 31f is left so as to be covered. Since the surface of the through-hole pad 13 as well as the inner surface of the through-hole conductor 12 has been subjected to surface roughening as described above and has high wettability, the filling composition layer 31f with reduced viscosity is more easily spread, leading to lead-out. Is more likely to occur. However, the bleed-out prevention effect is more remarkably exhibited by covering the through-hole pad 13 whose surface is roughened by the filling composition layer 31f.

続いて、図4の工程7に示すごとく、半硬化状態の充填組成物層31fを、平面研削盤やラップ盤を用いた研磨装置により研磨し除去する。この研磨は、スルーホールパッド13の金属表面が露出する程度に(図中に拡大して示すように、スルーホールパッド13の表層部が一部研磨された状態になってもよい)行なう。また、スルーホールパッド13の周囲においては、スルーホールパッド13の厚さに相当する充填組成物層31fが残留する。半硬化状態の充填組成物層31fは比較的柔らかく、その除去に必要な研磨時間も短くて済む。   Subsequently, as shown in step 7 of FIG. 4, the semi-cured filling composition layer 31f is polished and removed by a polishing apparatus using a surface grinder or a lapping machine. This polishing is performed to such an extent that the metal surface of the through-hole pad 13 is exposed (as shown in an enlarged view in the drawing, the surface layer portion of the through-hole pad 13 may be partially polished). Further, around the through hole pad 13, a filling composition layer 31 f corresponding to the thickness of the through hole pad 13 remains. The semi-cured filling composition layer 31f is relatively soft, and the polishing time required for its removal can be shortened.

次いで、スルーホール12を埋めたペースト(充填組成物)を本硬化させる(本硬化の条件は、例えば150℃で5時間程度である)。この本硬化後に、必要に応じて工程8に示すごとく、硬化した充填組成物30の両面をスルーホールパッド13とともに蓋メッキ層31Cで覆うことができる(ただし、この工程は省略してもよい)。こうして図7に示すように、全てのスルーホール12S,12Lに対し、良好な平坦度で充填組成物30を充填することができる。この後、さらに板状コア2の両面に配線層と樹脂ビルドアップ層とを積層形成すれば、図1に示す配線基板1の積層構造が完成する。   Next, the paste (filling composition) in which the through-holes 12 are filled is fully cured (the condition for the main curing is, for example, about 150 hours at 150 ° C.). After this main curing, as shown in step 8, if necessary, both surfaces of the cured filling composition 30 can be covered with the cover plating layer 31C together with the through-hole pads 13 (however, this step may be omitted). . Thus, as shown in FIG. 7, the filling composition 30 can be filled with good flatness in all the through holes 12S and 12L. Thereafter, if a wiring layer and a resin buildup layer are further laminated on both surfaces of the plate-like core 2, the laminated structure of the wiring substrate 1 shown in FIG. 1 is completed.

本発明の適用対象となる配線基板の一実施形態を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically one Embodiment of the wiring board used as the application object of this invention. 図1の配線基板のスルーホールの形成形態を一例にて示す平面図。The top view which shows the formation form of the through hole of the wiring board of FIG. 1 as an example. 本発明による図1の配線基板の製造工程を示す第一の図。The 1st figure which shows the manufacturing process of the wiring board of FIG. 1 by this invention. 同じく第二の図。The second figure. 充填組成物を形成するためのペーストの概念図。The conceptual diagram of the paste for forming a filling composition. ペーストの漏れ出しと、ブリードアウトによるくぼみ発生を説明する図。The figure explaining the leak of paste and the indentation generation | occurrence | production by bleed-out. 本発明による図1の配線基板の製造工程を示す第三の図。The 3rd figure which shows the manufacturing process of the wiring board of FIG. 1 by this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 配線基板
2 板状コア
5 第一面導体
7 導体線路
9 第二面導体
12S,12L スルーホール
13 スルーホールパッド
30 充填組成物
130 未硬化の充填組成物(ペースト)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wiring board 2 Plate core 5 1st surface conductor 7 Conductor line 9 2nd surface conductor 12S, 12L Through-hole 13 Through-hole pad 30 Filling composition 130 Uncured filling composition (paste)

Claims (8)

絶縁体からなる板状コアの第一主表面と第二主表面とに導体層が形成されるとともに、それら導体層が前記板状コアの板厚方向に形成されたスルーホールの内面を覆うスルーホール導体によって導通接続されるとともに、前記スルーホール導体のさらに内側を樹脂硬化型の充填組成物によって充填した配線基板の製造方法において、
前記板状コアを第一主表面側が上となるように配置し、前記スルーホール導体で覆われた前記スルーホールの第二主表面側の開口を塞がない状態で、当該スルーホールの内部に、その第一主表面側の開口から未硬化の前記充填組成物を充填する組成物充填工程と、
前記充填工程の終了後、前記スルーホールの第二主表面側の開口から垂れ下がる形態で膨出する余剰の充填組成物を、含有される樹脂が未硬化の状態で擦り切り処理する余剰充填組成物擦り切り工程と、
前記余剰充填組成物擦り切り工程が終了した後、未硬化の前記充填組成物を硬化させる硬化工程と、
を有したことを特徴とする配線基板の製造方法。
A conductor layer is formed on the first main surface and the second main surface of the plate-shaped core made of an insulator, and the conductor layer covers the inner surface of the through-hole formed in the plate thickness direction of the plate-shaped core. In the method of manufacturing a wiring board that is conductively connected by a hole conductor and is further filled with a resin-curing filling composition inside the through-hole conductor,
The plate-like core is disposed so that the first main surface side is on the top, and the opening on the second main surface side of the through hole covered with the through-hole conductor is not blocked, inside the through-hole. A composition filling step of filling the uncured filling composition from the opening on the first main surface side;
After the filling step, the surplus filling composition that swells in a form that hangs down from the opening on the second main surface side of the through-hole is scraped off in a state in which the contained resin is uncured. Process,
A curing step of curing the uncured filling composition after the surplus filling composition scraping step is completed;
A method of manufacturing a wiring board, comprising:
前記コア基板に前記スルーホールとして、内径の異なるものが混在形成されてなり、それら異なる内径のスルーホールに同一種類の充填組成物が一括充填される請求項1記載の配線基板の製造方法。 2. The method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein the through-holes having different inner diameters are mixedly formed on the core substrate, and the same kind of filling composition is collectively filled into the through-holes having different inner diameters. 前記組成物充填工程の終了後、前記板状コアの上下を反転して前記余剰充填組成物擦り切り工程を実施する請求項1又は請求項2に記載の配線基板の製造方法。 3. The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein after the completion of the composition filling step, the plate-like core is turned upside down to perform the surplus filling composition scraping step. 余剰充填組成物擦り切り工程において、前記スルーホールの開口周囲に一定厚さの充填組成物層が残留するように、前記余剰の充填組成物を擦り切る請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の配線基板の製造方法。 4. The surplus filling composition is scraped off so that a filling composition layer having a certain thickness remains around the opening of the through hole in the surplus filling composition scraping step. 5. The manufacturing method of the wiring board as described in 2 .. 前記板状コアの前記第一主表面において、前記スルーホールの開口周囲領域に、前記スルーホール導体と一体のスルーホールパッドが形成され、前記充填組成物層を少なくとも該スルーホールパッド上に残留させる請求項4記載の配線基板の製造方法。 On the first main surface of the plate-shaped core, a through-hole pad integrated with the through-hole conductor is formed in a region around the opening of the through-hole, and the filling composition layer remains at least on the through-hole pad. The manufacturing method of the wiring board of Claim 4. 前記スルーホール導体の内面とともに前記スルーホールパッドの表面に面粗し処理を施した後、前記組成物充填工程を実施する請求項5記載の配線基板の製造方法。 6. The method of manufacturing a wiring board according to claim 5, wherein the composition filling step is performed after the surface of the through-hole pad is roughened together with the inner surface of the through-hole conductor. 残留した前記充填組成物層を研磨により除去する研磨工程を有する請求項4ないし請求項6のいずれか1項に記載の配線基板の製造方法。 The method for manufacturing a wiring substrate according to claim 4, further comprising a polishing step of removing the remaining filling composition layer by polishing. 前記充填組成物は加熱硬化型樹脂を含有し、前記硬化工程は、前記スルーホールに充填された未硬化の前記充填組成物を半硬化させる半硬化工程と、該半硬化工程の終了後に、半硬化状態の前記加熱硬化型樹脂を本硬化させる本硬化工程とを含み、前記研磨工程を、前記半硬化工程と前記本硬化工程との間で実施する請求項7記載の配線基板の製造方法。 The filling composition contains a thermosetting resin, and the curing step includes a semi-curing step for semi-curing the uncured filling composition filled in the through holes, and a semi-curing step after the semi-curing step is completed. The method for manufacturing a wiring board according to claim 7, further comprising: a main curing step of main curing the thermosetting resin in a cured state, wherein the polishing step is performed between the semi-curing step and the main curing step.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010238813A (en) * 2009-03-30 2010-10-21 Kyocer Slc Technologies Corp Method for manufacturing wiring board
KR20110049813A (en) * 2008-08-20 2011-05-12 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드 Improved method and apparatus for optically transparent via filling
JP2012212867A (en) * 2011-03-30 2012-11-01 Ibiden Co Ltd Printed wiring board and manufacturing method of the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110049813A (en) * 2008-08-20 2011-05-12 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드 Improved method and apparatus for optically transparent via filling
KR101637397B1 (en) 2008-08-20 2016-07-07 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드 Improved method and apparatus for optically transparent via filling
JP2010238813A (en) * 2009-03-30 2010-10-21 Kyocer Slc Technologies Corp Method for manufacturing wiring board
JP2012212867A (en) * 2011-03-30 2012-11-01 Ibiden Co Ltd Printed wiring board and manufacturing method of the same
US8993894B2 (en) 2011-03-30 2015-03-31 Ibiden Co., Ltd. Printed wiring board and method for manufacturing the same

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