JP2006106360A - Light source of image forming apparatus and end face processing method of light guide plate used for this light source - Google Patents

Light source of image forming apparatus and end face processing method of light guide plate used for this light source Download PDF

Info

Publication number
JP2006106360A
JP2006106360A JP2004292929A JP2004292929A JP2006106360A JP 2006106360 A JP2006106360 A JP 2006106360A JP 2004292929 A JP2004292929 A JP 2004292929A JP 2004292929 A JP2004292929 A JP 2004292929A JP 2006106360 A JP2006106360 A JP 2006106360A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
guide plate
light guide
light
light source
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004292929A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Nishimura
和夫 西村
Takanori Nakano
貴徳 中野
Tetsuro Nakamura
哲朗 中村
Masaichiro Tachikawa
雅一郎 立川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2004292929A priority Critical patent/JP2006106360A/en
Publication of JP2006106360A publication Critical patent/JP2006106360A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light source that facilitates optical alignment for an image forming apparatus, and also to provide an end face processing method that can suppress generation of damage such as cracks and chipping of a light guide plate when it is manufactured for the use of the light source. <P>SOLUTION: In the structure of the light source, there are mounted on a base material 11, a light guide plate 2 that converges light D emitted from a light emitting element 3 and that has a plurality of waveguide lines emitting the converged light D individually, and a lens array 12 that forms an image on a photoreceptor drum 40 with the light exited from the emitting face of the light guide plate 2. The base material 11 is equipped with a means for positioning the light emitting face 24 of the light guide plate 2, at a position corresponding to each focus on the base material 11 of the mounted lens array. In addition, the end face processing of the light guide plate 2 employs a method in which the light guide plate 2 is polished together with a substrate 25 for forming a light guide plate and a substrate 4 for holding the upper part in a state clamped between the substrate 25 for forming a light guide plate and the substrate 4 for holding the upper part. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、画像形成装置の光源、この光源に用いる導光板の端面加工方法に関し、特に、基板上に複数条の導光路が所定ピッチで配設され、導光路の上面に発光素子を備える画像形成装置の光源及びこの光源に用いる導光板の端面加工方法に関する。   The present invention relates to a light source of an image forming apparatus and a method of processing an end face of a light guide plate used for the light source. The present invention relates to a light source of a forming apparatus and an end face processing method of a light guide plate used for the light source.

近年、複写機、プリンタ、ファクシミリ、及びこれらの複合機等の画像形成装置では、高解像度の画像を短時間で印刷する機能が要求されている。   In recent years, image forming apparatuses such as copiers, printers, facsimile machines, and multi-function machines have been required to have a function of printing high-resolution images in a short time.

高解像度の画像を印刷するためには、印刷画像の潜像を感光体上に形成する光源が、主走査方向に狭ピッチで露光できることが必要である。また、印刷を短時間で行うためには感光体上に潜像の形成を短時間で行うこと、すなわち、感光体への照射光量を十分大きくして、露光時間を短くすることが必要になる。   In order to print a high-resolution image, it is necessary that a light source for forming a latent image of the printed image on the photoconductor can be exposed at a narrow pitch in the main scanning direction. In order to perform printing in a short time, it is necessary to form a latent image on the photoconductor in a short time, that is, to sufficiently increase the amount of light applied to the photoconductor to shorten the exposure time. .

上記光源に使用される代表的な発光素子として、LED(Light Emitting Diode)がある。例えば、2400dpiの光源を形成しようとすると、LEDは約10μmピッチで形成される必要があり、このとき1素子の大きさは5μm程度にする必要がある。このようなサイズのLEDの形成は、発光部となる拡散層(pn接合)の形成が困難である上、形成が可能であっても、発光部の面積は素子面積と同一になるので、十分な光量を得ることができず、発光素子を狭ピッチで配置することと、露光時間を短くすることとを両立させることは困難であった。   As a typical light emitting element used for the light source, there is an LED (Light Emitting Diode). For example, when a light source of 2400 dpi is to be formed, the LEDs need to be formed at a pitch of about 10 μm, and at this time, the size of one element needs to be about 5 μm. In the formation of an LED having such a size, it is difficult to form a diffusion layer (pn junction) to be a light emitting portion, and even if it can be formed, the area of the light emitting portion is the same as the element area. Therefore, it was difficult to achieve both the arrangement of the light emitting elements at a narrow pitch and the shortening of the exposure time.

そこで、本願出願人は、後掲の特許文献1において、図6の斜視図及び図7の側面図に示す光源100を提案している。図6及び図7に示すように、この光源100は、導光板形成用基板205上に感光体400の表面に対して垂直な方向(以下、光伝送方向という。)に伸びるコア(導光路)201が感光体400の表面に対して平行な方向(以下、主走査方向という。)に複数条配置された導光板200を備え、前記各コア201の上面に光伝送方向に長い発光面を有する発光素子300が形成されている。   Therefore, the applicant of the present application has proposed a light source 100 shown in a perspective view of FIG. 6 and a side view of FIG. As shown in FIGS. 6 and 7, the light source 100 has a core (light guide path) extending on a light guide plate forming substrate 205 in a direction perpendicular to the surface of the photoreceptor 400 (hereinafter referred to as a light transmission direction). 201 includes a plurality of light guide plates 200 arranged in a direction parallel to the surface of the photoreceptor 400 (hereinafter referred to as a main scanning direction), and has a light emitting surface that is long in the light transmission direction on the upper surface of each core 201. A light emitting element 300 is formed.

この発光素子300が発した光Dは、コア201内で全反射を繰り返して、コア201の光伝送方向の一端面である出射面203から出射する。なお、コア201の光伝送方向の他端面には反射材204が積層されており、光Dの漏れを少なくしている。   The light D emitted from the light emitting element 300 repeats total reflection in the core 201 and is emitted from the emission surface 203 which is one end surface of the core 201 in the light transmission direction. In addition, the reflective material 204 is laminated | stacked on the other end surface of the optical transmission direction of the core 201, and the leakage of the light D is reduced.

上記のように、コア201から出射された光は、GI(Graded Index)ファイバレンズやロッドレンズ等のレンズアレイ102を介して感光体400の表面に結像される。したがって、上記複数条のコア201の出射面203を、感光体400に形成される潜像の1画素に要求される面積と同じ面積にするとともに、画素間のピッチと同じピッチで配列することで、主走査方向に狭ピッチで配置された、大光量を出射可能な光源100を実現することができる。なお、図6及び図7に示すように、上記導光板200とレンズアレイ102は、例えばアルミニウム等からなる基材101に、レンズアレイ102の一方の焦点にコア201の出射面203が位置するように実装され、レンズアレイ102の他方の焦点が感光体400の表面となるように位置合わせされる。   As described above, the light emitted from the core 201 forms an image on the surface of the photoreceptor 400 via the lens array 102 such as a GI (Graded Index) fiber lens or a rod lens. Therefore, the exit surfaces 203 of the plurality of cores 201 are made to have the same area as that required for one pixel of the latent image formed on the photoconductor 400 and arranged at the same pitch as the pitch between pixels. The light source 100 that is arranged at a narrow pitch in the main scanning direction and can emit a large amount of light can be realized. As shown in FIGS. 6 and 7, the light guide plate 200 and the lens array 102 are arranged such that the emission surface 203 of the core 201 is positioned at one focal point of the lens array 102 on the base material 101 made of, for example, aluminum. And is aligned so that the other focal point of the lens array 102 is the surface of the photoreceptor 400.

また、上記図6では、導光板形成用基板205上にコア201が単純に所定の間隔をおいて配設された導光板200を用いた光源100を概念的に示したが、現実には、各コア201上面への発光素子300の形成を容易にするために、各コア201の間にコア201よりも低屈折率のクラッド202(図6に二点鎖線で示す。)を介在させて導光板200の上面が平面になる構成としている。
国際公開第2004/039595号パンフレット
6 conceptually shows the light source 100 using the light guide plate 200 in which the cores 201 are simply arranged at a predetermined interval on the light guide plate forming substrate 205, but in reality, In order to facilitate the formation of the light emitting element 300 on the upper surface of each core 201, a cladding 202 (shown by a two-dot chain line in FIG. 6) having a lower refractive index than the core 201 is interposed between the cores 201. The optical plate 200 has a flat upper surface.
International Publication No. 2004/039595 Pamphlet

上述のように、導光板200の出射面203とレンズアレイ102の入射面との間の距離、及び、レンズアレイ102の出射面と感光体400との間の距離は、潜像を良好に形成するためにレンズアレイ102の焦点距離Fと一致させる必要がある。また、図7に一点鎖線で示すように、導光板200とレンズアレイ102を伝送される光Dの光軸Lも、感光体400の表面に略垂直の角度で入射させなければならないため、導光板200及びレンズアレイはこのような光学的なアライメントがなされた状態で基材101に実装されなければならない。   As described above, the distance between the exit surface 203 of the light guide plate 200 and the entrance surface of the lens array 102 and the distance between the exit surface of the lens array 102 and the photoreceptor 400 form a good latent image. In order to achieve this, it is necessary to match the focal length F of the lens array 102. Further, as indicated by a one-dot chain line in FIG. 7, the optical axis L of the light D transmitted through the light guide plate 200 and the lens array 102 must also be incident on the surface of the photosensitive member 400 at a substantially vertical angle. The optical plate 200 and the lens array must be mounted on the substrate 101 in such an optically aligned state.

上記光学的なアライメントは、画像形成装置の高解像度化の要求に応じるために、微細化された構造を有する光源では非常に高精度(例えば、位置合わせ精度が数μm)で行われることが必要であり、光源100の組立は非常に困難な作業となっている。   The optical alignment needs to be performed with very high accuracy (for example, alignment accuracy of several μm) with a light source having a miniaturized structure in order to meet the demand for higher resolution of the image forming apparatus. Therefore, assembling the light source 100 is a very difficult task.

一方、上記導光板200の出射面203は、光伝送手段102への光Dの入射効率を高めるために平滑面であることが望ましく、このような平滑な出射面203を得るために図8(a)に示すような、端面加工(端面研磨)がなされる。すなわち、導光板200が形成された導光板形成用基板205の出射面203側の端面に対して、光伝送方向に直交するように研磨プレートや研磨パッド等の研磨具Pが配置され、この研磨具Pが導光板形成用基板に当接した状態で上下方向(あるいは、左右方向、円状)に繰り返し移動することによって端面が研磨され、平滑面に加工される。   On the other hand, the exit surface 203 of the light guide plate 200 is desirably a smooth surface in order to increase the incident efficiency of the light D to the light transmission means 102. In order to obtain such a smooth exit surface 203, FIG. End face processing (end face polishing) is performed as shown in a). That is, a polishing tool P such as a polishing plate or a polishing pad is disposed so as to be orthogonal to the light transmission direction with respect to the end surface on the emission surface 203 side of the light guide plate forming substrate 205 on which the light guide plate 200 is formed. The end face is polished and processed into a smooth surface by repeatedly moving in the vertical direction (or left and right direction, circular shape) while the tool P is in contact with the light guide plate forming substrate.

しかし、導光板200は、導光板形成用基板205の上面に形成された厚さ150μm程度の薄膜であるため、研磨の際に導光板200に加わる振動や衝撃によって、例えば、図8(b)の端面加工後の導光板200を示す平面図に矢印Xとして示すように、コア201とクラッド202との接合面や導光板形成用基板205とクラッド202との接合面に剥離が発生したり、図8(b)に示す平面図や図8(c)の端面加工後の導光板200を示す正面図に矢印Yで示すように、研磨面にクラックやチッピング等が発生したりするという問題があった。なお、図8(b)、(c)において、チッピング部分は白色で示している。   However, since the light guide plate 200 is a thin film having a thickness of about 150 μm formed on the upper surface of the light guide plate forming substrate 205, the vibration or impact applied to the light guide plate 200 during polishing causes, for example, FIG. As shown by the arrow X in the plan view showing the light guide plate 200 after the end face processing, peeling occurs on the joint surface between the core 201 and the clad 202 or the joint surface between the light guide plate forming substrate 205 and the clad 202, As shown by an arrow Y in the plan view shown in FIG. 8B and the front view showing the light guide plate 200 after end face processing in FIG. 8C, there is a problem that cracks, chipping, etc. occur on the polished surface. there were. In FIGS. 8B and 8C, the chipping portion is shown in white.

また、導光板200の製造は、導光板形成用基板205上に大きなサイズで一括形成された後に、スクライブやダイシング(カッティング)等の手法を用いて所望のサイズに分割する製造方法も使用されるが、この分割の際にも、衝撃や振動により研磨と同様の不具合が発生するという問題があった。   The light guide plate 200 may be manufactured by forming a large size on the light guide plate forming substrate 205 and then dividing it into a desired size using a technique such as scribing or dicing (cutting). However, even in this division, there is a problem that the same problem as polishing occurs due to impact and vibration.

本発明は、上記従来の事情に基づいて提案されたものであって、光学的なアライメントを容易に行うことができる画像形成装置の光源を提供することを目的とする。また、本発明は上記画像形成装置の光源に用いる導光板を製造する際に、導光板のクラックやチッピング等の損傷が発生することを抑制できる端面加工方法を提供することを目的とする。   The present invention has been proposed based on the above-described conventional circumstances, and an object thereof is to provide a light source of an image forming apparatus capable of easily performing optical alignment. Another object of the present invention is to provide an end face processing method capable of suppressing the occurrence of damage such as cracking and chipping of the light guide plate when manufacturing the light guide plate used for the light source of the image forming apparatus.

本発明は、上記目的を達成するために以下の手段を採用している。すなわち、本発明に係る画像形成装置の光源は、上面に設けられた発光素子が出射した光を集光するとともに、当該集光した光を個別に出射する複数条の導光路を備えた導光板と、導光路の出射面から出射した光を感光体上に結像させるレンズアレイとが基材に実装される構成を有している。そして、前記基材は、実装されたレンズアレイの基材上の焦点に、上記導光板の出射面を位置決めする位置決め手段を備える。   The present invention employs the following means in order to achieve the above object. That is, the light source of the image forming apparatus according to the present invention condenses the light emitted from the light emitting element provided on the upper surface, and includes a light guide plate having a plurality of light guide paths for individually emitting the collected light. And a lens array that forms an image of light emitted from the exit surface of the light guide on the photosensitive member. And the said base material is provided with the positioning means which positions the output surface of the said light-guide plate in the focus on the base material of the mounted lens array.

上記位置決め手段には、例えば、当該レンズアレイの基材上の焦点に対応する位置に形成した、導光板の実装面がレンズアレイの実装面より低い状態となる段差を採用することができる。このとき、当該段差に、例えば、上記導光板が形成された導光板形成用基板の出射面側の端面を当接させることで、レンズアレイと導光板との間の光学的なアライメントを行う自動的に行うことが可能となる。このとき、導光板の出射面と導光板形成用基板の出射面側の端面とが面一であれば、上記段差の形成位置はレンズアレイの入射面から焦点距離だけ離れた位置になる。この場合、光学的なアライメントの精度は、段差の位置精度と形状精度及び、導光板形成用基板の端面の平滑度に依存することになり、段差の形成、及び導光板形成用基板端面の平滑化を高精度で行うことにより、容易に且つ高精度でアライメントを行うことが可能となる。   For the positioning means, for example, a step formed at a position corresponding to the focal point on the base material of the lens array so that the mounting surface of the light guide plate is lower than the mounting surface of the lens array can be employed. At this time, the optical alignment between the lens array and the light guide plate is performed automatically by bringing the end surface on the light emitting plate forming substrate on which the light guide plate is formed into contact with the step, for example. Can be performed automatically. At this time, if the exit surface of the light guide plate and the end surface on the exit surface side of the light guide plate forming substrate are flush with each other, the step is formed at a position away from the entrance surface of the lens array by the focal length. In this case, the accuracy of the optical alignment depends on the position accuracy and shape accuracy of the step and the smoothness of the end surface of the light guide plate forming substrate. By performing the conversion with high accuracy, alignment can be performed easily and with high accuracy.

一方、導光板の出射面と導光板形成用基板の出射面側の端面とを面一にする端面加工には、上記導光板の上面に当該導光板を支持する支持基板(以下、上部支持基板という。)を貼付した後、導光板が導光板形成用基板と前記上部支持基板とに挟持された状態で、少なくとも一方の導光路端面を、導光板形成用基板及び上部支持基板とともに研磨し、研磨後に前記導光板から上部支持基板を分離する方法を採用すればよい。   On the other hand, for end surface processing in which the exit surface of the light guide plate and the end surface on the exit surface side of the light guide plate forming substrate are flush with each other, a support substrate (hereinafter referred to as an upper support substrate) that supports the light guide plate on the upper surface of the light guide plate. Is attached, and at least one light guide path end surface is polished together with the light guide plate forming substrate and the upper support substrate in a state where the light guide plate is sandwiched between the light guide plate forming substrate and the upper support substrate, A method of separating the upper support substrate from the light guide plate after polishing may be employed.

これによれば、端面加工の際に、導光板にクラックやチッピング等が発生することを抑制することができ、良品率を向上させることができる。また、前記導光板が導光板形成用基板と上部支持基板とに挟持された状態で、当該導光板をダイシングやスクライブ(カッティング)等により分割し、その後に端面を研磨する構成とすれば、分割の際に導光板にクラックやチッピング等が発生することも抑制することができる。   According to this, in end face processing, it can control that a crack, chipping, etc. occur in a light guide plate, and can improve a yield rate. In addition, if the light guide plate is sandwiched between the light guide plate forming substrate and the upper support substrate, the light guide plate is divided by dicing, scribe (cutting), etc., and then the end face is polished. In this case, the occurrence of cracks and chipping in the light guide plate can also be suppressed.

本発明によれば、光源組立時に、レンズアレイの基材上の焦点に導光板の出射面を自動的に位置合わせすることができるため、光学的アライメントが非常に容易となる。   According to the present invention, when the light source is assembled, the exit surface of the light guide plate can be automatically aligned with the focal point on the substrate of the lens array, so that optical alignment becomes very easy.

また、導光板の出射面の端面加工(端面研磨)を行う際に、導光板は導光板形成用基板と上部支持基板とに挟持されているため、従来、端面加工時に導光板に多発していたクラックやチッピング等の損傷の発生を抑制できるとともに、良品率を著しく向上させることができる。また、導光板の分割する際にも、導光板を導光板形成用基板と上部支持基板とに挟持させることで、クラックやチッピング等の損傷が発生することを抑制することができ、更に、良品率を向上させることができる。   In addition, when the end face processing (end face polishing) of the light guide plate is performed, the light guide plate is sandwiched between the light guide plate forming substrate and the upper support substrate. The occurrence of damage such as cracks and chipping can be suppressed, and the yield rate can be significantly improved. Also, when the light guide plate is divided, the occurrence of damage such as cracking and chipping can be suppressed by sandwiching the light guide plate between the light guide plate forming substrate and the upper support substrate. The rate can be improved.

以下、本発明の実施の形態を図面にしたがって詳細に説明する。図1は、本発明の画像形成装置の光源1を示す概略断面図である。また、図2は、図1のS−S部の概略断面図である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing a light source 1 of the image forming apparatus of the present invention. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the SS portion of FIG.

図1に示すように、光源1は、上記で説明した従来の光源100と同様に、基材11上に導光板2とGIファイバレンズやロッドレンズ等のレンズアレイ12が実装された構成を有する。   As shown in FIG. 1, the light source 1 has a configuration in which a light guide plate 2 and a lens array 12 such as a GI fiber lens or a rod lens are mounted on a base material 11 in the same manner as the conventional light source 100 described above. .

また、導光板2は、図2に示すように、導光板形成用基板25上に設けられた板状のクラッド22に複数条のコア21が所定ピッチで埋設された構造を有し、各コア21の上面には、有機あるいは無機の発光材料を用いた発光素子3(エレクトロルミネッセンス素子)が形成される。   Further, as shown in FIG. 2, the light guide plate 2 has a structure in which a plurality of cores 21 are embedded in a plate-like clad 22 provided on a light guide plate forming substrate 25 at a predetermined pitch. A light emitting element 3 (electroluminescence element) using an organic or inorganic light emitting material is formed on the upper surface of 21.

発光素子3は、下層電極31(個別透明電極)、発光層32、上層電極33(共通金属電極)からなり、下層電極31と上層電極33とに挟まれた領域の発光層32が、両電極間に印加された電圧(あるいは、電流)に応じた発光強度で発光することになる。   The light emitting element 3 includes a lower layer electrode 31 (individual transparent electrode), a light emitting layer 32, and an upper layer electrode 33 (common metal electrode). The light emitting layer 32 in a region sandwiched between the lower layer electrode 31 and the upper layer electrode 33 includes both electrodes. Light is emitted at a light emission intensity corresponding to the voltage (or current) applied between them.

上記導光板2は、導光板形成用基板25上に形成されていればよく、その形成方法は本発明に直接関与しないため任意の方法を使用することができる。例えば、以下の方法により導光板2を形成することが可能である。   The light guide plate 2 only needs to be formed on the light guide plate forming substrate 25, and the formation method does not directly relate to the present invention, and any method can be used. For example, the light guide plate 2 can be formed by the following method.

まず、シリコンや石英等からなる1mm程度の厚さを有する導光板形成用基板25上に、スピンコートやスクリーン印刷等により、熱硬化又はUV(Ultra Violet)硬化樹脂からなる液状のクラッド材を塗布した後、加熱やUV光照射等の硬化処理を行うことで板状のクラッド22が形成される。   First, a liquid clad material made of thermosetting or UV (Ultra Violet) curable resin is applied on a light guide plate forming substrate 25 made of silicon, quartz or the like having a thickness of about 1 mm by spin coating or screen printing. After that, a plate-like clad 22 is formed by performing a curing process such as heating or UV light irradiation.

次に、クラッド22上に、UV硬化樹脂からなる液状の透光性を有するコア材が塗布される。このコア材にマスク(コア21のパターンに対応する開口部を有するマスク)を介してUV光が上方から照射される。このとき、マスクの開口部に位置するコア材のみが硬化されるため、有機溶剤等を用いて未硬化のコア材を洗浄除去することで、図2に示すコア21の矩形パターンが形成される。   Next, a liquid translucent core material made of UV curable resin is applied onto the clad 22. The core material is irradiated with UV light from above via a mask (a mask having an opening corresponding to the pattern of the core 21). At this time, since only the core material located in the opening of the mask is cured, the rectangular pattern of the core 21 shown in FIG. 2 is formed by washing and removing the uncured core material using an organic solvent or the like. .

続いて、コア21の各パターン間に液状のクラッド材を充填するとともに、当該クラッド材の硬化処理を行うことで、コア21がクラッド22で被覆される。そして、クラッド22を上面から研磨し、コア21の表面を露出させることで、図2に示す複数条のコア21(導光路)を備える導光板2が得られる。   Subsequently, a liquid clad material is filled between the patterns of the core 21, and the core 21 is covered with the clad 22 by curing the clad material. Then, the light guide plate 2 including a plurality of cores 21 (light guide paths) shown in FIG. 2 is obtained by polishing the clad 22 from the upper surface and exposing the surface of the core 21.

また、他の形成方法として、上述のようにして形成した板状のクラッド22にフォトリソグラフィ及びエッチング等の公知の微細加工技術によりコア21に対応する溝を形成し、当該溝に液状のコア材を充填して硬化させる方法や、金型等を用いた公知の成型技術によりコア21に対応する溝を備えたクラッド22形成し、当該溝に液状のコア材を充填して硬化させる方法等がある。   As another forming method, a groove corresponding to the core 21 is formed in the plate-like clad 22 formed as described above by a known fine processing technique such as photolithography and etching, and a liquid core material is formed in the groove. And a method of forming a clad 22 having a groove corresponding to the core 21 by a known molding technique using a mold or the like, filling the groove with a liquid core material, and curing the same. is there.

以上のようにして形成された導光板2は、図4に示すように、スクライブやダイシング(カッティング)等により、光伝送方向及び/又は主走査方向が所望の大きさになるように分割された後、各コア21の上面に発光素子3が形成される。   As shown in FIG. 4, the light guide plate 2 formed as described above is divided by scribing, dicing (cutting) or the like so that the light transmission direction and / or the main scanning direction have a desired size. Thereafter, the light emitting element 3 is formed on the upper surface of each core 21.

このような分割は、導光板2上に発光素子3を形成し、さらに、最上面にポリイミド膜等からなる保護膜を形成した後に行ってもよいが、本実施の形態では発光素子3の形成前に分割を行うようにしている。   Such division may be performed after the light emitting element 3 is formed on the light guide plate 2 and further a protective film made of a polyimide film or the like is formed on the uppermost surface. In this embodiment, the light emitting element 3 is formed. The division is done before.

なお、上記発光素子3の形成工程では、蒸着やスピンコート等により、下層電極31、発光層32がサブミクロンオーダの膜厚で順に形成され、発光層32上に上層電極33が形成される。各層は、図6に示したように、各コア21上に個別に形成されてもよいが、図2の例では、製造プロセスを容易にするために、下層電極31として各コア21に個別な透明電極を形成し、発光層32と上層電極33は共通の層(全下層電極31を覆う単一の層)を形成している。また、図面では、発光層32を単層構造として示しているが、電子輸送層や正孔輸送層等を備えた多層構造であってもよい。   In the step of forming the light emitting element 3, the lower layer electrode 31 and the light emitting layer 32 are formed in order of submicron thickness by vapor deposition, spin coating, or the like, and the upper layer electrode 33 is formed on the light emitting layer 32. As shown in FIG. 6, each layer may be formed individually on each core 21. However, in the example of FIG. 2, in order to facilitate the manufacturing process, each layer 21 is individually provided as a lower layer electrode 31. A transparent electrode is formed, and the light emitting layer 32 and the upper layer electrode 33 form a common layer (a single layer covering all the lower layer electrodes 31). Further, in the drawing, the light emitting layer 32 is shown as a single layer structure, but a multilayer structure including an electron transport layer, a hole transport layer, and the like may be used.

以上のようにして形成された発光素子3を備える導光板2は、各発光素子3が出射した光を対応するコア21で集光し、コア21の光伝送方向の一端面から出射することができる。なお、導光板2の各コア21の光出射面と反対側の面には、反射材24が塗布あるいは蒸着されている。   The light guide plate 2 including the light emitting element 3 formed as described above can collect the light emitted from each light emitting element 3 by the corresponding core 21 and emit the light from one end surface of the core 21 in the light transmission direction. it can. A reflective material 24 is applied or vapor-deposited on the surface opposite to the light exit surface of each core 21 of the light guide plate 2.

さて、本発明の光源1は、上述した発光素子3を備えた導光板2とレンズアレイ12とが、基材11上に公知のダイボンド材等を用いて実装される。なお、本発明に直接関与するものではないため詳細な説明は省略するが、基材11上の任意の箇所には、各発光素子3の発光を制御するポリシリコンTFT(Thin Film Transistor)等からなる電源制御回路が必要に応じて形成され、ワイヤボンド等により各発光素子3と接続されている。   In the light source 1 of the present invention, the light guide plate 2 including the light emitting element 3 and the lens array 12 are mounted on the base material 11 using a known die bond material or the like. Although not described in detail because it is not directly related to the present invention, an arbitrary location on the substrate 11 includes a polysilicon TFT (Thin Film Transistor) for controlling the light emission of each light emitting element 3 or the like. A power supply control circuit is formed as necessary and connected to each light emitting element 3 by wire bonding or the like.

図1に示すように、本発明の光源1に使用する基材11は、導光板2の出射面23をレンズアレイ12の基材11上の焦点位置に位置決めするために、導光板2の実装面11aがレンズアレイ12の実装面11bより掘り下げられた段差13(位置決め手段)を備えている。この段差13の大きさは、導光板形成用基板25の端面が位置決めできる程度(例えば、数百μm)であればよいが、段差13の大きさh1、レンズアレイ12の実装面11bに対する焦点の高さh2(以下、光軸高さh2という)、および、導光板2の実装面11aに対するコア21中心部の高さh3(以下、光軸高さh3という)は、h1=h3−h2の関係式を満たすようにしている。例えば、導光板形成用基板25の厚さが1mm、クラッド22の厚さが150μm、コア21の厚さが103μm(解像度200dpi相当)、レンズアレイ12の光軸高さh3が500μmである場合、段差13の大きさは約600μmとなる。   As shown in FIG. 1, the base 11 used in the light source 1 of the present invention is mounted on the light guide plate 2 in order to position the exit surface 23 of the light guide plate 2 at the focal position on the base 11 of the lens array 12. The surface 11 a is provided with a step 13 (positioning means) dug down from the mounting surface 11 b of the lens array 12. The size of the step 13 may be such that the end face of the light guide plate forming substrate 25 can be positioned (for example, several hundred μm). However, the size of the step 13 and the focal point of the lens array 12 with respect to the mounting surface 11b are not limited. The height h2 (hereinafter referred to as the optical axis height h2) and the height h3 (hereinafter referred to as the optical axis height h3) of the core 21 with respect to the mounting surface 11a of the light guide plate 2 are h1 = h3−h2. The relational expression is satisfied. For example, when the thickness of the light guide plate forming substrate 25 is 1 mm, the thickness of the clad 22 is 150 μm, the thickness of the core 21 is 103 μm (corresponding to a resolution of 200 dpi), and the optical axis height h3 of the lens array 12 is 500 μm, The size of the step 13 is about 600 μm.

また、図1の例では、上記段差13は、基材11の感光体400側の端面14(以下、出射側端面14という。)からの距離がレンズアレイ12の光伝送方向の長さLとレンズアレイ12の焦点距離Fとの合算距離(L+F)となる位置に形成されており、出射面23側の導光板形成用基板25の端面26をこの段差13に当接させた状態で実装する。そして、レンズアレイ12が、基材11の出射側端面14を基準に位置合わせされて実装されることで、出射面23を自動的にレンズアレイの焦点位置に配設することが可能となる。   In the example of FIG. 1, the step 13 is such that the distance from the end surface 14 of the substrate 11 on the photoconductor 400 side (hereinafter referred to as the emission-side end surface 14) is the length L of the lens array 12 in the light transmission direction. The lens array 12 is formed at a position that is a total distance (L + F) with the focal length F of the lens array 12, and is mounted in a state where the end face 26 of the light guide plate forming substrate 25 on the emission surface 23 side is in contact with the step 13. . Then, the lens array 12 is mounted by being aligned with respect to the emission side end face 14 of the base material 11, so that the emission surface 23 can be automatically arranged at the focal position of the lens array.

なお、上記説明では導光板形成用基板25の光伝送方向の端面と、導光板2の出射面23とが面一である場合について説明したが、導光板2の出射面23が導光板形成用基板25の光伝送方向の端面に対して内側にオフセットして形成されている場合は、上記段差13は、基材11の出射側端面14との距離が、レンズアレイ12の光伝送方向の長さLとレンズアレイ12の焦点距離Fとの合算距離に当該オフセット距離を加算した距離となる位置に形成すればよい。   In the above description, the case where the end face in the light transmission direction of the light guide plate forming substrate 25 and the light exit surface 23 of the light guide plate 2 are flush with each other is explained. However, the light exit surface 23 of the light guide plate 2 is used for light guide plate formation. When formed so as to be offset inward with respect to the end face of the substrate 25 in the light transmission direction, the step 13 has a distance from the emission side end face 14 of the base material 11 in the light transmission direction of the lens array 12. What is necessary is just to form in the position used as the distance which added the said offset distance to the total distance of length L and the focal distance F of the lens array 12. FIG.

また、上記では、レンズアレイ12を基材11の出射側端面14に位置合わせする構成を説明したが、図3(a)に示すように、レンズアレイ12を位置決めするために、上記段差13に加えて、レンズアレイ12の実装面11bを掘り下げた第2の段差15を基材11が備える構成としてもよい。このとき、導光板2の実装面11aとレンズアレイ12の実装面11bとの高さの差をh4は、h4=h3−h2の関係式を満足する大きさに設定される。   In the above description, the configuration in which the lens array 12 is aligned with the emission-side end surface 14 of the base material 11 has been described. However, as shown in FIG. In addition, the base 11 may be configured to include the second step 15 obtained by deepening the mounting surface 11b of the lens array 12. At this time, the height difference h4 between the mounting surface 11a of the light guide plate 2 and the mounting surface 11b of the lens array 12 is set to a size satisfying the relational expression h4 = h3-h2.

さらに、位置決め手段は、基材11に一体に形成されていることが好ましいが、図3(b)に示すように、別体の板材16を配置する構成としてもよい。この場合、導光板2とレンズアレイ12の光軸高さを合わせるためには、導光板2の導光板形成用基板25の厚さを調整すればよい。また、位置決め手段は、図3(c)に示すように、主走査方向に連続した段差(突条)に限るものではなく、主走査方向で複数に分断された突部17でもよい。   Further, the positioning means is preferably formed integrally with the base material 11, but as shown in FIG. 3B, a separate plate material 16 may be arranged. In this case, in order to match the optical axis heights of the light guide plate 2 and the lens array 12, the thickness of the light guide plate forming substrate 25 of the light guide plate 2 may be adjusted. Further, as shown in FIG. 3C, the positioning means is not limited to a level difference (protrusion) continuous in the main scanning direction, and may be a protrusion 17 divided into a plurality in the main scanning direction.

上記構成とすれば、光源1の光学的なアライメントを自動的に行うことができ、組立が非常に容易になる。また、より高いアライメント精度を得るために、上記段差13に当接する導光板形成用基板25の端面26は極めて平滑であることが好ましく、当該端面26と出射面23とは面一であることが好ましい。   If it is set as the said structure, the optical alignment of the light source 1 can be performed automatically and an assembly will become very easy. In order to obtain higher alignment accuracy, the end face 26 of the light guide plate forming substrate 25 that is in contact with the step 13 is preferably extremely smooth, and the end face 26 and the exit face 23 are flush with each other. preferable.

そこで、このような端面26の形成に好適な端面加工方法を以下で説明する。なお、図5は本発明に係る端面加工方法を示す模式図である。   Therefore, an end face processing method suitable for forming such an end face 26 will be described below. FIG. 5 is a schematic diagram showing an end face processing method according to the present invention.

図5(a)に示すように、本発明に係る端面加工方法では、まず、上述のように形成した導光板2の上面に、石英やシリコン等からなる0.5〜1mm程度の厚さを有する上部支持基板4を、公知の高耐熱ワックス等、後の工程で当該上部支持基板4を分離することが可能な接着剤を用いて貼り付ける。このとき、必要に応じて、導光板形成用基板25の下面に上部支持基板4と同一の材質からなる下部支持基板を貼り付けてもよい。本実施の形態では、導光板形成用基板25の厚さが1mm程度であるため、下部支持基板の貼付は行わず、導光板形成用基板25を下部支持基板として用いている。   As shown in FIG. 5A, in the end face processing method according to the present invention, first, a thickness of about 0.5 to 1 mm made of quartz, silicon or the like is formed on the upper surface of the light guide plate 2 formed as described above. The upper support substrate 4 is pasted by using an adhesive that can separate the upper support substrate 4 in a later process, such as a known high heat-resistant wax. At this time, if necessary, a lower support substrate made of the same material as that of the upper support substrate 4 may be attached to the lower surface of the light guide plate forming substrate 25. In the present embodiment, since the thickness of the light guide plate forming substrate 25 is about 1 mm, the lower support substrate is not attached, and the light guide plate forming substrate 25 is used as the lower support substrate.

次に、上記のように導光板2が導光板形成用基板25と上部支持基板4とに挟まれた状態で、導光板2の出射面23に対して、光伝送方向に垂直な面を形成する研磨が行われる。すなわち、光伝送方向に垂直な面となるように配置された研磨プレートや研磨パッド等の研磨具Pが、導光板2、導光板形成用基板25、及び上部支持基板4に当接した状態で上下(あるいは、左右、円状)に繰り返し移動され、導光板2の出射面23は、導光板形成用基板25と上部支持基板4とともに研磨される。   Next, in the state where the light guide plate 2 is sandwiched between the light guide plate forming substrate 25 and the upper support substrate 4 as described above, a surface perpendicular to the light transmission direction is formed with respect to the emission surface 23 of the light guide plate 2. Polishing is performed. That is, the polishing tool P such as a polishing plate and a polishing pad arranged so as to be a surface perpendicular to the light transmission direction is in contact with the light guide plate 2, the light guide plate forming substrate 25, and the upper support substrate 4. It is repeatedly moved up and down (or left and right, circular), and the light exit surface 23 of the light guide plate 2 is polished together with the light guide plate forming substrate 25 and the upper support substrate 4.

このとき、研磨が行われる研磨面10が、研磨前に図4に示すスクライブやダイシング(カッティング)により切断された面であれば、研磨量を分割により形成された凹凸が解消する量とすることができるので、研磨時間を短くすることができる(図5(b))。なお、スクライブやダイシング(カッティング)による分割も、導光板2が上部支持基板4と導光板形成用基板25(下部支持基板)とに挟持された状態で行うことが好ましい。図4では、上部支持基板4の輪郭のみを破線で示し、上部支持基板を透過させた図を示している。また、必要に応じて、導光板2の出射面23に対向する面(反射材24が積層される面)も研磨される(図5(c))。   At this time, if the polishing surface 10 to be polished is a surface cut by scribing or dicing (cutting) shown in FIG. 4 before polishing, the polishing amount should be an amount that eliminates the unevenness formed by the division. Therefore, the polishing time can be shortened (FIG. 5B). The division by scribing or dicing (cutting) is preferably performed in a state where the light guide plate 2 is sandwiched between the upper support substrate 4 and the light guide plate forming substrate 25 (lower support substrate). In FIG. 4, only the outline of the upper support substrate 4 is indicated by a broken line, and the upper support substrate is transmitted. Further, if necessary, the surface (surface on which the reflecting material 24 is laminated) facing the emission surface 23 of the light guide plate 2 is also polished (FIG. 5C).

そして、研磨が完了した後に(図5(d))、上部支持基板4が加熱や剥離剤を用いた剥離処理によって導光板2の上面から分離され(図5(e))、導光板2のコア21の上面に、上述のようにして発光素子3が形成される。   Then, after the polishing is completed (FIG. 5D), the upper support substrate 4 is separated from the upper surface of the light guide plate 2 by a heating process or a peeling process using a release agent (FIG. 5E). The light emitting element 3 is formed on the upper surface of the core 21 as described above.

以上のようにして端面加工がなされた導光板2は、その上面が上部支持基板4に、又下面が導光板形成用基板25(下部支持基板)に張り付いた状態で、両基板とともに分割や研磨が行われるため、コア21やクラッド22の剥離や、クラックやチッピング等の破損等の発生が抑制される。このため、本発明に係る端面加工方法を採用することで、導光板2の端面加工工程における不良率を著しく低減することが可能となる。   The light guide plate 2 subjected to the end face processing as described above can be divided together with both substrates with the upper surface attached to the upper support substrate 4 and the lower surface attached to the light guide plate forming substrate 25 (lower support substrate). Since polishing is performed, the occurrence of peeling of the core 21 and the clad 22, damage such as cracking and chipping is suppressed. For this reason, by adopting the end face processing method according to the present invention, the defect rate in the end face processing step of the light guide plate 2 can be significantly reduced.

本発明に係る画像形成装置の光源は、光学的なアライメントを容易に行うことができるという効果を有し、高解像度の印刷を可能とする光源等として有用である。また、本発明に係る端面加工方法は、画像形成装置の光源に用いる導光板の端面加工工程での不良の発生を著しく低減できるという効果を有するとともに、本方法を適用した光源は、高解像度の印刷を可能とする光源として有用である。   The light source of the image forming apparatus according to the present invention has an effect that optical alignment can be easily performed, and is useful as a light source that enables high-resolution printing. In addition, the end face processing method according to the present invention has the effect that the occurrence of defects in the end face processing step of the light guide plate used for the light source of the image forming apparatus can be remarkably reduced, and the light source to which this method is applied has a high resolution. It is useful as a light source that enables printing.

本発明の光源の断面図。Sectional drawing of the light source of this invention. 図1のS−S部の要部断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part of an SS part in FIG. 本発明の光源の変形例の断面図。Sectional drawing of the modification of the light source of this invention. 導光板の分割を説明する説明図。Explanatory drawing explaining division | segmentation of a light-guide plate. 本発明の端面加工方法を示す模式図。The schematic diagram which shows the end surface processing method of this invention. 画像形成装置に適用された従来の光源を示す斜視図。The perspective view which shows the conventional light source applied to the image forming apparatus. 従来の光源の製造方法を示す模式図。The schematic diagram which shows the manufacturing method of the conventional light source. 従来の端面加工方法による欠陥を示す図。The figure which shows the defect by the conventional end surface processing method.

符号の説明Explanation of symbols

1 光源
2 導光板
3 発光素子
4 上部支持基板
11 基材
12 レンズアレイ
13 段差(位置決め手段)
21 コア
22 クラッド
23 出射面
24 反射材
25 導光板形成用基板(下部支持基板)
31 下層電極
32 発光層
33 上層電極
100 光源
101 基材
102 レンズアレイ
200 導光板
201 コア
202 クラッド
203 出射面
205 導光板形成用基板
300 発光素子
400 感光体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light source 2 Light guide plate 3 Light emitting element 4 Upper support substrate 11 Base material 12 Lens array 13 Level difference (positioning means)
21 Core 22 Cladding 23 Output surface 24 Reflector 25 Light guide plate forming substrate (lower support substrate)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 31 Lower layer electrode 32 Light emitting layer 33 Upper layer electrode 100 Light source 101 Base material 102 Lens array 200 Light guide plate 201 Core 202 Clad 203 Output surface 205 Light guide plate formation substrate 300 Light emitting element 400 Photoconductor

Claims (6)

発光素子と、当該発光素子が出射した光を感光体上に結像させるレンズアレイとを備えた画像形成装置の光源において、
前記発光素子が上面に設けられ、当該発光素子が出射した光を集光するとともに、当該集光した光を前記レンズアレイに個別に出射する複数条の導光路を備えた導光板と、
前記導光板と前記レンズアレイとが実装される基材と、
前記実装されたレンズアレイの基材上の焦点位置に設けられた、前記導光板の出射面を位置決めする位置決め手段と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置の光源。
In a light source of an image forming apparatus including a light emitting element and a lens array that forms an image of light emitted from the light emitting element on a photoconductor,
The light-emitting element is provided on the upper surface, condenses the light emitted from the light-emitting element, and a light guide plate including a plurality of light guide paths for individually emitting the collected light to the lens array;
A substrate on which the light guide plate and the lens array are mounted;
Positioning means for positioning the exit surface of the light guide plate provided at a focal position on the substrate of the mounted lens array;
A light source for an image forming apparatus.
前記位置決め手段が、前記出射面に対応する面を当接させることで位置決めが行われる段差である請求項1に記載の画像形成装置の光源。   The light source of the image forming apparatus according to claim 1, wherein the positioning unit is a step where positioning is performed by bringing a surface corresponding to the emission surface into contact. 前記導光板が導光板形成用基板上に、当該導光板形成用基板の一端面と前記出射面とが面一となる状態に形成され、当該一端面を前記段差に当接させることで位置決めが行われる請求項2に記載の画像形成装置の光源。   The light guide plate is formed on the light guide plate forming substrate so that one end surface of the light guide plate forming substrate and the light exit surface are flush with each other, and positioning is performed by bringing the one end surface into contact with the step. The light source of the image forming apparatus according to claim 2, which is performed. 水平方向に複数条配置された導光路を備える導光板の端面加工方法において、
前記導光板の上面及び下面に、当該導光板を支持する支持基板を貼り付けるステップと、
前記導光板が前記支持基板に挟持された状態で、前記導光路の光伝送方向の少なくとも一方の端面を、両支持基板とともに研磨するステップと、
を有することを特徴とする導光板の端面加工方法。
In the end face processing method of the light guide plate comprising a light guide path arranged in a plurality of horizontal directions,
Affixing a support substrate for supporting the light guide plate on the upper and lower surfaces of the light guide plate;
Polishing at least one end surface of the light guide path in the light transmission direction together with both support substrates in a state where the light guide plate is sandwiched between the support substrates;
An end face processing method for a light guide plate, comprising:
前記導光板が前記両支持基板に挟持された状態で、当該導光板を分割するステップをさらに有し、分割後に前記研磨を行う請求項4に記載の導光板の端面加工方法。   5. The method of processing an end face of a light guide plate according to claim 4, further comprising the step of dividing the light guide plate in a state where the light guide plate is sandwiched between the support substrates, and performing the polishing after the division. 前記支持基板の一方が、前記導光板がその上面に形成される導光板形成用基板であり、他方の支持基板のみが導光板に貼り付けられる請求項4または5に記載の導光板の端面加工方法。

The end face processing of the light guide plate according to claim 4 or 5, wherein one of the support substrates is a light guide plate forming substrate on which the light guide plate is formed, and only the other support substrate is attached to the light guide plate. Method.

JP2004292929A 2004-10-05 2004-10-05 Light source of image forming apparatus and end face processing method of light guide plate used for this light source Pending JP2006106360A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004292929A JP2006106360A (en) 2004-10-05 2004-10-05 Light source of image forming apparatus and end face processing method of light guide plate used for this light source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004292929A JP2006106360A (en) 2004-10-05 2004-10-05 Light source of image forming apparatus and end face processing method of light guide plate used for this light source

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006106360A true JP2006106360A (en) 2006-04-20

Family

ID=36376177

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004292929A Pending JP2006106360A (en) 2004-10-05 2004-10-05 Light source of image forming apparatus and end face processing method of light guide plate used for this light source

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006106360A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1291847C (en) Resin lens array and optical writing head
JP6932676B2 (en) Transfer method, manufacturing method of image display device using this, and transfer device
JP5157896B2 (en) Light emitting element array with microlens and optical writing head
JPH10303439A (en) Optical transmissive layer, opto-electronic device and manufacture thereof
US4827290A (en) LED array head using a fiber bundle
JP2007294876A (en) Light emitting element array
JP2006327182A (en) Mold for molding with spacer and its manufacturing process, and method of manufacturing lens array using mold for molding with spacer
JP3708024B2 (en) Image writing device and light source of image writing device
JP3550076B2 (en) Exposure equipment
JP4992268B2 (en) Light emitting element array chip and optical writing head
JP2006106360A (en) Light source of image forming apparatus and end face processing method of light guide plate used for this light source
JP5055927B2 (en) Light emitting unit and printing apparatus
JP4127533B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT ARRAY, OPTICAL WRITE UNIT AND IMAGE FORMING APPARATUS PROVIDED WITH THE LIGHT EMITTING ELEMENT ARRAY, AND METHOD FOR PRODUCING THE LIGHT EMITTING ELEMENT ARRAY
JP2009272322A (en) Light emitting device
JP3156399B2 (en) Optical print head and its manufacturing method.
JP2007147913A (en) Method of manufacturing light guide plate
JP2006106361A (en) Method for manufacturing light guide plate, and light guide plate
JPH08156320A (en) Led printer head and manufacture thereof
JP2927619B2 (en) Optical print head
JP3180471B2 (en) Optical print head
JPH01122459A (en) Photowriting head
JP2006013441A (en) Optical write unit, image forming apparatus, and process cartridge
JPH11227247A (en) Minute light-guide element array
JP2008087304A (en) Luminous part and printer
JP4432609B2 (en) Light emitting element array head and optical printer using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070518

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080902

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080917

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090603

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20091021