JP2006106360A - Light source of image forming apparatus and end face processing method of light guide plate used for this light source - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、画像形成装置の光源、この光源に用いる導光板の端面加工方法に関し、特に、基板上に複数条の導光路が所定ピッチで配設され、導光路の上面に発光素子を備える画像形成装置の光源及びこの光源に用いる導光板の端面加工方法に関する。 The present invention relates to a light source of an image forming apparatus and a method of processing an end face of a light guide plate used for the light source. The present invention relates to a light source of a forming apparatus and an end face processing method of a light guide plate used for the light source.
近年、複写機、プリンタ、ファクシミリ、及びこれらの複合機等の画像形成装置では、高解像度の画像を短時間で印刷する機能が要求されている。 In recent years, image forming apparatuses such as copiers, printers, facsimile machines, and multi-function machines have been required to have a function of printing high-resolution images in a short time.
高解像度の画像を印刷するためには、印刷画像の潜像を感光体上に形成する光源が、主走査方向に狭ピッチで露光できることが必要である。また、印刷を短時間で行うためには感光体上に潜像の形成を短時間で行うこと、すなわち、感光体への照射光量を十分大きくして、露光時間を短くすることが必要になる。 In order to print a high-resolution image, it is necessary that a light source for forming a latent image of the printed image on the photoconductor can be exposed at a narrow pitch in the main scanning direction. In order to perform printing in a short time, it is necessary to form a latent image on the photoconductor in a short time, that is, to sufficiently increase the amount of light applied to the photoconductor to shorten the exposure time. .
上記光源に使用される代表的な発光素子として、LED(Light Emitting Diode)がある。例えば、2400dpiの光源を形成しようとすると、LEDは約10μmピッチで形成される必要があり、このとき1素子の大きさは5μm程度にする必要がある。このようなサイズのLEDの形成は、発光部となる拡散層(pn接合)の形成が困難である上、形成が可能であっても、発光部の面積は素子面積と同一になるので、十分な光量を得ることができず、発光素子を狭ピッチで配置することと、露光時間を短くすることとを両立させることは困難であった。 As a typical light emitting element used for the light source, there is an LED (Light Emitting Diode). For example, when a light source of 2400 dpi is to be formed, the LEDs need to be formed at a pitch of about 10 μm, and at this time, the size of one element needs to be about 5 μm. In the formation of an LED having such a size, it is difficult to form a diffusion layer (pn junction) to be a light emitting portion, and even if it can be formed, the area of the light emitting portion is the same as the element area. Therefore, it was difficult to achieve both the arrangement of the light emitting elements at a narrow pitch and the shortening of the exposure time.
そこで、本願出願人は、後掲の特許文献1において、図6の斜視図及び図7の側面図に示す光源100を提案している。図6及び図7に示すように、この光源100は、導光板形成用基板205上に感光体400の表面に対して垂直な方向(以下、光伝送方向という。)に伸びるコア(導光路)201が感光体400の表面に対して平行な方向(以下、主走査方向という。)に複数条配置された導光板200を備え、前記各コア201の上面に光伝送方向に長い発光面を有する発光素子300が形成されている。
Therefore, the applicant of the present application has proposed a
この発光素子300が発した光Dは、コア201内で全反射を繰り返して、コア201の光伝送方向の一端面である出射面203から出射する。なお、コア201の光伝送方向の他端面には反射材204が積層されており、光Dの漏れを少なくしている。
The light D emitted from the
上記のように、コア201から出射された光は、GI(Graded Index)ファイバレンズやロッドレンズ等のレンズアレイ102を介して感光体400の表面に結像される。したがって、上記複数条のコア201の出射面203を、感光体400に形成される潜像の1画素に要求される面積と同じ面積にするとともに、画素間のピッチと同じピッチで配列することで、主走査方向に狭ピッチで配置された、大光量を出射可能な光源100を実現することができる。なお、図6及び図7に示すように、上記導光板200とレンズアレイ102は、例えばアルミニウム等からなる基材101に、レンズアレイ102の一方の焦点にコア201の出射面203が位置するように実装され、レンズアレイ102の他方の焦点が感光体400の表面となるように位置合わせされる。
As described above, the light emitted from the
また、上記図6では、導光板形成用基板205上にコア201が単純に所定の間隔をおいて配設された導光板200を用いた光源100を概念的に示したが、現実には、各コア201上面への発光素子300の形成を容易にするために、各コア201の間にコア201よりも低屈折率のクラッド202(図6に二点鎖線で示す。)を介在させて導光板200の上面が平面になる構成としている。
上述のように、導光板200の出射面203とレンズアレイ102の入射面との間の距離、及び、レンズアレイ102の出射面と感光体400との間の距離は、潜像を良好に形成するためにレンズアレイ102の焦点距離Fと一致させる必要がある。また、図7に一点鎖線で示すように、導光板200とレンズアレイ102を伝送される光Dの光軸Lも、感光体400の表面に略垂直の角度で入射させなければならないため、導光板200及びレンズアレイはこのような光学的なアライメントがなされた状態で基材101に実装されなければならない。
As described above, the distance between the
上記光学的なアライメントは、画像形成装置の高解像度化の要求に応じるために、微細化された構造を有する光源では非常に高精度(例えば、位置合わせ精度が数μm)で行われることが必要であり、光源100の組立は非常に困難な作業となっている。
The optical alignment needs to be performed with very high accuracy (for example, alignment accuracy of several μm) with a light source having a miniaturized structure in order to meet the demand for higher resolution of the image forming apparatus. Therefore, assembling the
一方、上記導光板200の出射面203は、光伝送手段102への光Dの入射効率を高めるために平滑面であることが望ましく、このような平滑な出射面203を得るために図8(a)に示すような、端面加工(端面研磨)がなされる。すなわち、導光板200が形成された導光板形成用基板205の出射面203側の端面に対して、光伝送方向に直交するように研磨プレートや研磨パッド等の研磨具Pが配置され、この研磨具Pが導光板形成用基板に当接した状態で上下方向(あるいは、左右方向、円状)に繰り返し移動することによって端面が研磨され、平滑面に加工される。
On the other hand, the
しかし、導光板200は、導光板形成用基板205の上面に形成された厚さ150μm程度の薄膜であるため、研磨の際に導光板200に加わる振動や衝撃によって、例えば、図8(b)の端面加工後の導光板200を示す平面図に矢印Xとして示すように、コア201とクラッド202との接合面や導光板形成用基板205とクラッド202との接合面に剥離が発生したり、図8(b)に示す平面図や図8(c)の端面加工後の導光板200を示す正面図に矢印Yで示すように、研磨面にクラックやチッピング等が発生したりするという問題があった。なお、図8(b)、(c)において、チッピング部分は白色で示している。
However, since the
また、導光板200の製造は、導光板形成用基板205上に大きなサイズで一括形成された後に、スクライブやダイシング(カッティング)等の手法を用いて所望のサイズに分割する製造方法も使用されるが、この分割の際にも、衝撃や振動により研磨と同様の不具合が発生するという問題があった。
The
本発明は、上記従来の事情に基づいて提案されたものであって、光学的なアライメントを容易に行うことができる画像形成装置の光源を提供することを目的とする。また、本発明は上記画像形成装置の光源に用いる導光板を製造する際に、導光板のクラックやチッピング等の損傷が発生することを抑制できる端面加工方法を提供することを目的とする。 The present invention has been proposed based on the above-described conventional circumstances, and an object thereof is to provide a light source of an image forming apparatus capable of easily performing optical alignment. Another object of the present invention is to provide an end face processing method capable of suppressing the occurrence of damage such as cracking and chipping of the light guide plate when manufacturing the light guide plate used for the light source of the image forming apparatus.
本発明は、上記目的を達成するために以下の手段を採用している。すなわち、本発明に係る画像形成装置の光源は、上面に設けられた発光素子が出射した光を集光するとともに、当該集光した光を個別に出射する複数条の導光路を備えた導光板と、導光路の出射面から出射した光を感光体上に結像させるレンズアレイとが基材に実装される構成を有している。そして、前記基材は、実装されたレンズアレイの基材上の焦点に、上記導光板の出射面を位置決めする位置決め手段を備える。 The present invention employs the following means in order to achieve the above object. That is, the light source of the image forming apparatus according to the present invention condenses the light emitted from the light emitting element provided on the upper surface, and includes a light guide plate having a plurality of light guide paths for individually emitting the collected light. And a lens array that forms an image of light emitted from the exit surface of the light guide on the photosensitive member. And the said base material is provided with the positioning means which positions the output surface of the said light-guide plate in the focus on the base material of the mounted lens array.
上記位置決め手段には、例えば、当該レンズアレイの基材上の焦点に対応する位置に形成した、導光板の実装面がレンズアレイの実装面より低い状態となる段差を採用することができる。このとき、当該段差に、例えば、上記導光板が形成された導光板形成用基板の出射面側の端面を当接させることで、レンズアレイと導光板との間の光学的なアライメントを行う自動的に行うことが可能となる。このとき、導光板の出射面と導光板形成用基板の出射面側の端面とが面一であれば、上記段差の形成位置はレンズアレイの入射面から焦点距離だけ離れた位置になる。この場合、光学的なアライメントの精度は、段差の位置精度と形状精度及び、導光板形成用基板の端面の平滑度に依存することになり、段差の形成、及び導光板形成用基板端面の平滑化を高精度で行うことにより、容易に且つ高精度でアライメントを行うことが可能となる。 For the positioning means, for example, a step formed at a position corresponding to the focal point on the base material of the lens array so that the mounting surface of the light guide plate is lower than the mounting surface of the lens array can be employed. At this time, the optical alignment between the lens array and the light guide plate is performed automatically by bringing the end surface on the light emitting plate forming substrate on which the light guide plate is formed into contact with the step, for example. Can be performed automatically. At this time, if the exit surface of the light guide plate and the end surface on the exit surface side of the light guide plate forming substrate are flush with each other, the step is formed at a position away from the entrance surface of the lens array by the focal length. In this case, the accuracy of the optical alignment depends on the position accuracy and shape accuracy of the step and the smoothness of the end surface of the light guide plate forming substrate. By performing the conversion with high accuracy, alignment can be performed easily and with high accuracy.
一方、導光板の出射面と導光板形成用基板の出射面側の端面とを面一にする端面加工には、上記導光板の上面に当該導光板を支持する支持基板(以下、上部支持基板という。)を貼付した後、導光板が導光板形成用基板と前記上部支持基板とに挟持された状態で、少なくとも一方の導光路端面を、導光板形成用基板及び上部支持基板とともに研磨し、研磨後に前記導光板から上部支持基板を分離する方法を採用すればよい。 On the other hand, for end surface processing in which the exit surface of the light guide plate and the end surface on the exit surface side of the light guide plate forming substrate are flush with each other, a support substrate (hereinafter referred to as an upper support substrate) that supports the light guide plate on the upper surface of the light guide plate. Is attached, and at least one light guide path end surface is polished together with the light guide plate forming substrate and the upper support substrate in a state where the light guide plate is sandwiched between the light guide plate forming substrate and the upper support substrate, A method of separating the upper support substrate from the light guide plate after polishing may be employed.
これによれば、端面加工の際に、導光板にクラックやチッピング等が発生することを抑制することができ、良品率を向上させることができる。また、前記導光板が導光板形成用基板と上部支持基板とに挟持された状態で、当該導光板をダイシングやスクライブ(カッティング)等により分割し、その後に端面を研磨する構成とすれば、分割の際に導光板にクラックやチッピング等が発生することも抑制することができる。 According to this, in end face processing, it can control that a crack, chipping, etc. occur in a light guide plate, and can improve a yield rate. In addition, if the light guide plate is sandwiched between the light guide plate forming substrate and the upper support substrate, the light guide plate is divided by dicing, scribe (cutting), etc., and then the end face is polished. In this case, the occurrence of cracks and chipping in the light guide plate can also be suppressed.
本発明によれば、光源組立時に、レンズアレイの基材上の焦点に導光板の出射面を自動的に位置合わせすることができるため、光学的アライメントが非常に容易となる。 According to the present invention, when the light source is assembled, the exit surface of the light guide plate can be automatically aligned with the focal point on the substrate of the lens array, so that optical alignment becomes very easy.
また、導光板の出射面の端面加工(端面研磨)を行う際に、導光板は導光板形成用基板と上部支持基板とに挟持されているため、従来、端面加工時に導光板に多発していたクラックやチッピング等の損傷の発生を抑制できるとともに、良品率を著しく向上させることができる。また、導光板の分割する際にも、導光板を導光板形成用基板と上部支持基板とに挟持させることで、クラックやチッピング等の損傷が発生することを抑制することができ、更に、良品率を向上させることができる。 In addition, when the end face processing (end face polishing) of the light guide plate is performed, the light guide plate is sandwiched between the light guide plate forming substrate and the upper support substrate. The occurrence of damage such as cracks and chipping can be suppressed, and the yield rate can be significantly improved. Also, when the light guide plate is divided, the occurrence of damage such as cracking and chipping can be suppressed by sandwiching the light guide plate between the light guide plate forming substrate and the upper support substrate. The rate can be improved.
以下、本発明の実施の形態を図面にしたがって詳細に説明する。図1は、本発明の画像形成装置の光源1を示す概略断面図である。また、図2は、図1のS−S部の概略断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing a
図1に示すように、光源1は、上記で説明した従来の光源100と同様に、基材11上に導光板2とGIファイバレンズやロッドレンズ等のレンズアレイ12が実装された構成を有する。
As shown in FIG. 1, the
また、導光板2は、図2に示すように、導光板形成用基板25上に設けられた板状のクラッド22に複数条のコア21が所定ピッチで埋設された構造を有し、各コア21の上面には、有機あるいは無機の発光材料を用いた発光素子3(エレクトロルミネッセンス素子)が形成される。
Further, as shown in FIG. 2, the
発光素子3は、下層電極31(個別透明電極)、発光層32、上層電極33(共通金属電極)からなり、下層電極31と上層電極33とに挟まれた領域の発光層32が、両電極間に印加された電圧(あるいは、電流)に応じた発光強度で発光することになる。
The
上記導光板2は、導光板形成用基板25上に形成されていればよく、その形成方法は本発明に直接関与しないため任意の方法を使用することができる。例えば、以下の方法により導光板2を形成することが可能である。
The
まず、シリコンや石英等からなる1mm程度の厚さを有する導光板形成用基板25上に、スピンコートやスクリーン印刷等により、熱硬化又はUV(Ultra Violet)硬化樹脂からなる液状のクラッド材を塗布した後、加熱やUV光照射等の硬化処理を行うことで板状のクラッド22が形成される。
First, a liquid clad material made of thermosetting or UV (Ultra Violet) curable resin is applied on a light guide
次に、クラッド22上に、UV硬化樹脂からなる液状の透光性を有するコア材が塗布される。このコア材にマスク(コア21のパターンに対応する開口部を有するマスク)を介してUV光が上方から照射される。このとき、マスクの開口部に位置するコア材のみが硬化されるため、有機溶剤等を用いて未硬化のコア材を洗浄除去することで、図2に示すコア21の矩形パターンが形成される。 Next, a liquid translucent core material made of UV curable resin is applied onto the clad 22. The core material is irradiated with UV light from above via a mask (a mask having an opening corresponding to the pattern of the core 21). At this time, since only the core material located in the opening of the mask is cured, the rectangular pattern of the core 21 shown in FIG. 2 is formed by washing and removing the uncured core material using an organic solvent or the like. .
続いて、コア21の各パターン間に液状のクラッド材を充填するとともに、当該クラッド材の硬化処理を行うことで、コア21がクラッド22で被覆される。そして、クラッド22を上面から研磨し、コア21の表面を露出させることで、図2に示す複数条のコア21(導光路)を備える導光板2が得られる。
Subsequently, a liquid clad material is filled between the patterns of the core 21, and the
また、他の形成方法として、上述のようにして形成した板状のクラッド22にフォトリソグラフィ及びエッチング等の公知の微細加工技術によりコア21に対応する溝を形成し、当該溝に液状のコア材を充填して硬化させる方法や、金型等を用いた公知の成型技術によりコア21に対応する溝を備えたクラッド22形成し、当該溝に液状のコア材を充填して硬化させる方法等がある。
As another forming method, a groove corresponding to the
以上のようにして形成された導光板2は、図4に示すように、スクライブやダイシング(カッティング)等により、光伝送方向及び/又は主走査方向が所望の大きさになるように分割された後、各コア21の上面に発光素子3が形成される。
As shown in FIG. 4, the
このような分割は、導光板2上に発光素子3を形成し、さらに、最上面にポリイミド膜等からなる保護膜を形成した後に行ってもよいが、本実施の形態では発光素子3の形成前に分割を行うようにしている。
Such division may be performed after the
なお、上記発光素子3の形成工程では、蒸着やスピンコート等により、下層電極31、発光層32がサブミクロンオーダの膜厚で順に形成され、発光層32上に上層電極33が形成される。各層は、図6に示したように、各コア21上に個別に形成されてもよいが、図2の例では、製造プロセスを容易にするために、下層電極31として各コア21に個別な透明電極を形成し、発光層32と上層電極33は共通の層(全下層電極31を覆う単一の層)を形成している。また、図面では、発光層32を単層構造として示しているが、電子輸送層や正孔輸送層等を備えた多層構造であってもよい。
In the step of forming the
以上のようにして形成された発光素子3を備える導光板2は、各発光素子3が出射した光を対応するコア21で集光し、コア21の光伝送方向の一端面から出射することができる。なお、導光板2の各コア21の光出射面と反対側の面には、反射材24が塗布あるいは蒸着されている。
The
さて、本発明の光源1は、上述した発光素子3を備えた導光板2とレンズアレイ12とが、基材11上に公知のダイボンド材等を用いて実装される。なお、本発明に直接関与するものではないため詳細な説明は省略するが、基材11上の任意の箇所には、各発光素子3の発光を制御するポリシリコンTFT(Thin Film Transistor)等からなる電源制御回路が必要に応じて形成され、ワイヤボンド等により各発光素子3と接続されている。
In the
図1に示すように、本発明の光源1に使用する基材11は、導光板2の出射面23をレンズアレイ12の基材11上の焦点位置に位置決めするために、導光板2の実装面11aがレンズアレイ12の実装面11bより掘り下げられた段差13(位置決め手段)を備えている。この段差13の大きさは、導光板形成用基板25の端面が位置決めできる程度(例えば、数百μm)であればよいが、段差13の大きさh1、レンズアレイ12の実装面11bに対する焦点の高さh2(以下、光軸高さh2という)、および、導光板2の実装面11aに対するコア21中心部の高さh3(以下、光軸高さh3という)は、h1=h3−h2の関係式を満たすようにしている。例えば、導光板形成用基板25の厚さが1mm、クラッド22の厚さが150μm、コア21の厚さが103μm(解像度200dpi相当)、レンズアレイ12の光軸高さh3が500μmである場合、段差13の大きさは約600μmとなる。
As shown in FIG. 1, the base 11 used in the
また、図1の例では、上記段差13は、基材11の感光体400側の端面14(以下、出射側端面14という。)からの距離がレンズアレイ12の光伝送方向の長さLとレンズアレイ12の焦点距離Fとの合算距離(L+F)となる位置に形成されており、出射面23側の導光板形成用基板25の端面26をこの段差13に当接させた状態で実装する。そして、レンズアレイ12が、基材11の出射側端面14を基準に位置合わせされて実装されることで、出射面23を自動的にレンズアレイの焦点位置に配設することが可能となる。
In the example of FIG. 1, the
なお、上記説明では導光板形成用基板25の光伝送方向の端面と、導光板2の出射面23とが面一である場合について説明したが、導光板2の出射面23が導光板形成用基板25の光伝送方向の端面に対して内側にオフセットして形成されている場合は、上記段差13は、基材11の出射側端面14との距離が、レンズアレイ12の光伝送方向の長さLとレンズアレイ12の焦点距離Fとの合算距離に当該オフセット距離を加算した距離となる位置に形成すればよい。
In the above description, the case where the end face in the light transmission direction of the light guide
また、上記では、レンズアレイ12を基材11の出射側端面14に位置合わせする構成を説明したが、図3(a)に示すように、レンズアレイ12を位置決めするために、上記段差13に加えて、レンズアレイ12の実装面11bを掘り下げた第2の段差15を基材11が備える構成としてもよい。このとき、導光板2の実装面11aとレンズアレイ12の実装面11bとの高さの差をh4は、h4=h3−h2の関係式を満足する大きさに設定される。
In the above description, the configuration in which the
さらに、位置決め手段は、基材11に一体に形成されていることが好ましいが、図3(b)に示すように、別体の板材16を配置する構成としてもよい。この場合、導光板2とレンズアレイ12の光軸高さを合わせるためには、導光板2の導光板形成用基板25の厚さを調整すればよい。また、位置決め手段は、図3(c)に示すように、主走査方向に連続した段差(突条)に限るものではなく、主走査方向で複数に分断された突部17でもよい。
Further, the positioning means is preferably formed integrally with the
上記構成とすれば、光源1の光学的なアライメントを自動的に行うことができ、組立が非常に容易になる。また、より高いアライメント精度を得るために、上記段差13に当接する導光板形成用基板25の端面26は極めて平滑であることが好ましく、当該端面26と出射面23とは面一であることが好ましい。
If it is set as the said structure, the optical alignment of the
そこで、このような端面26の形成に好適な端面加工方法を以下で説明する。なお、図5は本発明に係る端面加工方法を示す模式図である。
Therefore, an end face processing method suitable for forming such an
図5(a)に示すように、本発明に係る端面加工方法では、まず、上述のように形成した導光板2の上面に、石英やシリコン等からなる0.5〜1mm程度の厚さを有する上部支持基板4を、公知の高耐熱ワックス等、後の工程で当該上部支持基板4を分離することが可能な接着剤を用いて貼り付ける。このとき、必要に応じて、導光板形成用基板25の下面に上部支持基板4と同一の材質からなる下部支持基板を貼り付けてもよい。本実施の形態では、導光板形成用基板25の厚さが1mm程度であるため、下部支持基板の貼付は行わず、導光板形成用基板25を下部支持基板として用いている。
As shown in FIG. 5A, in the end face processing method according to the present invention, first, a thickness of about 0.5 to 1 mm made of quartz, silicon or the like is formed on the upper surface of the
次に、上記のように導光板2が導光板形成用基板25と上部支持基板4とに挟まれた状態で、導光板2の出射面23に対して、光伝送方向に垂直な面を形成する研磨が行われる。すなわち、光伝送方向に垂直な面となるように配置された研磨プレートや研磨パッド等の研磨具Pが、導光板2、導光板形成用基板25、及び上部支持基板4に当接した状態で上下(あるいは、左右、円状)に繰り返し移動され、導光板2の出射面23は、導光板形成用基板25と上部支持基板4とともに研磨される。
Next, in the state where the
このとき、研磨が行われる研磨面10が、研磨前に図4に示すスクライブやダイシング(カッティング)により切断された面であれば、研磨量を分割により形成された凹凸が解消する量とすることができるので、研磨時間を短くすることができる(図5(b))。なお、スクライブやダイシング(カッティング)による分割も、導光板2が上部支持基板4と導光板形成用基板25(下部支持基板)とに挟持された状態で行うことが好ましい。図4では、上部支持基板4の輪郭のみを破線で示し、上部支持基板を透過させた図を示している。また、必要に応じて、導光板2の出射面23に対向する面(反射材24が積層される面)も研磨される(図5(c))。
At this time, if the polishing
そして、研磨が完了した後に(図5(d))、上部支持基板4が加熱や剥離剤を用いた剥離処理によって導光板2の上面から分離され(図5(e))、導光板2のコア21の上面に、上述のようにして発光素子3が形成される。
Then, after the polishing is completed (FIG. 5D), the
以上のようにして端面加工がなされた導光板2は、その上面が上部支持基板4に、又下面が導光板形成用基板25(下部支持基板)に張り付いた状態で、両基板とともに分割や研磨が行われるため、コア21やクラッド22の剥離や、クラックやチッピング等の破損等の発生が抑制される。このため、本発明に係る端面加工方法を採用することで、導光板2の端面加工工程における不良率を著しく低減することが可能となる。
The
本発明に係る画像形成装置の光源は、光学的なアライメントを容易に行うことができるという効果を有し、高解像度の印刷を可能とする光源等として有用である。また、本発明に係る端面加工方法は、画像形成装置の光源に用いる導光板の端面加工工程での不良の発生を著しく低減できるという効果を有するとともに、本方法を適用した光源は、高解像度の印刷を可能とする光源として有用である。 The light source of the image forming apparatus according to the present invention has an effect that optical alignment can be easily performed, and is useful as a light source that enables high-resolution printing. In addition, the end face processing method according to the present invention has the effect that the occurrence of defects in the end face processing step of the light guide plate used for the light source of the image forming apparatus can be remarkably reduced, and the light source to which this method is applied has a high resolution. It is useful as a light source that enables printing.
1 光源
2 導光板
3 発光素子
4 上部支持基板
11 基材
12 レンズアレイ
13 段差(位置決め手段)
21 コア
22 クラッド
23 出射面
24 反射材
25 導光板形成用基板(下部支持基板)
31 下層電極
32 発光層
33 上層電極
100 光源
101 基材
102 レンズアレイ
200 導光板
201 コア
202 クラッド
203 出射面
205 導光板形成用基板
300 発光素子
400 感光体
DESCRIPTION OF
21
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記発光素子が上面に設けられ、当該発光素子が出射した光を集光するとともに、当該集光した光を前記レンズアレイに個別に出射する複数条の導光路を備えた導光板と、
前記導光板と前記レンズアレイとが実装される基材と、
前記実装されたレンズアレイの基材上の焦点位置に設けられた、前記導光板の出射面を位置決めする位置決め手段と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置の光源。 In a light source of an image forming apparatus including a light emitting element and a lens array that forms an image of light emitted from the light emitting element on a photoconductor,
The light-emitting element is provided on the upper surface, condenses the light emitted from the light-emitting element, and a light guide plate including a plurality of light guide paths for individually emitting the collected light to the lens array;
A substrate on which the light guide plate and the lens array are mounted;
Positioning means for positioning the exit surface of the light guide plate provided at a focal position on the substrate of the mounted lens array;
A light source for an image forming apparatus.
前記導光板の上面及び下面に、当該導光板を支持する支持基板を貼り付けるステップと、
前記導光板が前記支持基板に挟持された状態で、前記導光路の光伝送方向の少なくとも一方の端面を、両支持基板とともに研磨するステップと、
を有することを特徴とする導光板の端面加工方法。 In the end face processing method of the light guide plate comprising a light guide path arranged in a plurality of horizontal directions,
Affixing a support substrate for supporting the light guide plate on the upper and lower surfaces of the light guide plate;
Polishing at least one end surface of the light guide path in the light transmission direction together with both support substrates in a state where the light guide plate is sandwiched between the support substrates;
An end face processing method for a light guide plate, comprising:
The end face processing of the light guide plate according to claim 4 or 5, wherein one of the support substrates is a light guide plate forming substrate on which the light guide plate is formed, and only the other support substrate is attached to the light guide plate. Method.
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