JP2006098757A - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display Download PDF

Info

Publication number
JP2006098757A
JP2006098757A JP2004285029A JP2004285029A JP2006098757A JP 2006098757 A JP2006098757 A JP 2006098757A JP 2004285029 A JP2004285029 A JP 2004285029A JP 2004285029 A JP2004285029 A JP 2004285029A JP 2006098757 A JP2006098757 A JP 2006098757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal display
display device
electrode
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004285029A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tokuo Koma
徳夫 小間
Kazuhiro Inoue
和弘 井上
Takahiro Kimura
隆宏 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP2004285029A priority Critical patent/JP2006098757A/en
Publication of JP2006098757A publication Critical patent/JP2006098757A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display with high display quality by preventing the reflectance from lowering. <P>SOLUTION: A liquid crystal panel 40 is constituted, by placing an array substrate 50 and a color filter substrate 30 opposite to each other with a liquid crystal material 20 interposed in between, and is equipped with a plurality of pixels. On the array substrate 50, a thin-film transistor 4 formed for each pixel, a transmission electrode 11, a planarizing film 6 formed between the thin-film transistor 4 and the transmission electrode 11, and a contact pad 8 formed on a recessing section penetrating the planarizing film 6 and connecting the thin-film transistor 4 and the transmission electrode 11 to each other are formed. The color filter substrate 30 is equipped with a common electrode 32 and a protruding portion 34, formed at the position of the common electrode 32 facing the contact pad 8. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、外光を反射する反射部を備えた半導体層と画素電極との電気的接続を行うコンタクト部を備えた液晶表示装置に係り、更に、詳述すれば、コンタクト部に段差があって、液晶層のセルギャップがコンタクト部の内周部と周辺部とで異なっている液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device having a contact portion that electrically connects a semiconductor layer having a reflection portion that reflects external light and a pixel electrode. More specifically, the contact portion has a step. The present invention relates to a liquid crystal display device in which the cell gap of the liquid crystal layer is different between the inner peripheral portion and the peripheral portion of the contact portion.

近年、情報通信機器のみならず一般の電気機器においても液晶表示装置の適用が急速に普及している。特に、携帯型のものについては消費電力を低減させるためにバックライトを必要とせず外光を反射させて画像を表示させる反射型の液晶表示装置が多く用いられているが、この反射型液晶表示装置は、外光を光源とするために、暗い室内などでは見えにくくなってしまう。そこで、近年に至り特に透過型と反射型の性質を併せ持つ半透過型液晶装置の開発が進められている。   In recent years, the application of liquid crystal display devices has rapidly spread not only in information communication equipment but also in general electric equipment. In particular, for the portable type, a reflective liquid crystal display device that reflects an external light and displays an image without using a backlight is used in order to reduce power consumption. Since the device uses external light as a light source, it is difficult to see in a dark room. Thus, in recent years, transflective liquid crystal devices having both transmissive and reflective properties have been developed.

この半透過型液晶表示装置の特徴は、一つの画素内に透過電極を備えた透過部と反射膜を備えた反射部を有しており、暗い場所ではバックライトを点灯し、その光を透過する透過部を利用して画像表示し、明るい室外などではバックライトを点灯することなく反射部で外光を利用して画像を表示させるため、消費電力を大幅に減少することができるという利点を有している。   This transflective liquid crystal display device has a transmissive part with a transmissive electrode and a reflective part with a reflective film in one pixel, and the backlight is turned on in a dark place to transmit the light. Since the image is displayed using the transmitting part and the image is displayed using the external light in the reflecting part without turning on the backlight in a bright outdoor environment, the power consumption can be greatly reduced. Have.

従来の半透過型液晶表示装置(特許文献1参照)のアレイ基板を図4の平面図、及び、図5の前記図4のX−X線に沿った位置における断面図に基づき説明する。   An array substrate of a conventional transflective liquid crystal display device (see Patent Document 1) will be described with reference to a plan view of FIG. 4 and a cross-sectional view taken along line XX of FIG. 4 in FIG.

ガラス基板上101上には、それぞれの画素ごとにゲート電極G、補助容量電極Csが配置され、その表面を含むガラス基板101全体には窒化シリコン膜又は酸化シリコン膜からなるゲート絶縁膜102で被われ、次いでゲート電極Gの周囲に能動層103、ドレイン電極D,ソース電極S1が順次形成されてスイッチング素子であるMOS型の薄型トランジスタ素子104(以下、TFT素子104という)が形成されている。   On the glass substrate 101, a gate electrode G and an auxiliary capacitance electrode Cs are arranged for each pixel, and the entire glass substrate 101 including the surface thereof is covered with a gate insulating film 102 made of a silicon nitride film or a silicon oxide film. Next, an active layer 103, a drain electrode D, and a source electrode S1 are sequentially formed around the gate electrode G to form a MOS-type thin transistor element 104 (hereinafter referred to as a TFT element 104) as a switching element.

そして、TFT素子104を被うように酸化シリコン膜又は窒化シリコン膜からなる保護膜105が形成され、保護膜105上にスキャタリング層又は平坦化膜からなる層間膜106が形成される。この保護膜105と層間膜106には、TFT素子104のソース電極S1の上方に画素電極である透過電極111とソース電極S1との電気的接続を行うためのコンタクトホール107が設けられ、TFT素子104から離れた場所には層間膜106が取除かれた溝部が設けられる。そして、この溝部が透過部109に該当する。   Then, a protective film 105 made of a silicon oxide film or a silicon nitride film is formed so as to cover the TFT element 104, and an interlayer film 106 made of a scattering layer or a planarizing film is formed on the protective film 105. The protective film 105 and the interlayer film 106 are provided with a contact hole 107 for electrical connection between the transmissive electrode 111 as a pixel electrode and the source electrode S1 above the source electrode S1 of the TFT element 104. A groove portion from which the interlayer film 106 is removed is provided at a location away from 104. This groove corresponds to the transmission part 109.

保護膜105や層間膜106の上には透過電極111が積層される。この透過電極111の材料としてITO(Indium-Tin-Oxide) を一画素全体に積層し、その透過電極111上の透過部109を除いた部分に反射膜110用の材料を積層させる。この反射膜110を積層させた部分が反射部112である。図に記載のものでは、反射膜110の材料に、一般的に広く用いられているAlに換えて高価なAgを用いている。その理由として、ITOとAlとはその間にTiを介在させないとオーミックな接触を形成しないためTi膜形成の工程を要するが、ITOとAgは良好なオーミックな接触を形成するので、工程が少なくてすむからである。透過電極111はコンタクトホール107の部分でソース電極S1と電気的に接続されている。   A transmissive electrode 111 is laminated on the protective film 105 and the interlayer film 106. ITO (Indium-Tin-Oxide) is laminated on the entire pixel as a material of the transmissive electrode 111, and a material for the reflective film 110 is laminated on a portion of the transmissive electrode 111 excluding the transmissive portion 109. A portion where the reflection film 110 is laminated is a reflection portion 112. In the illustrated example, expensive Ag is used as the material of the reflective film 110 instead of Al which is generally widely used. The reason is that ITO and Al do not form an ohmic contact unless Ti is interposed between them, and therefore a Ti film forming step is required. However, ITO and Ag form a good ohmic contact, so the number of steps is small. This is because. The transmissive electrode 111 is electrically connected to the source electrode S1 at the contact hole 107 portion.

アレイ基板100と対向してカラーフィルタ基板130が配置され、アレイ基板100とカラーフィルタ基板130との間(セルギャップ)に液晶材料120が挟持されている。このセルギャップは、反射部112と透過部109の領域の各々で、セルギャップが均一になるように柱状スペーサ133が、カラーフィルタ基板130上に形成されている。   A color filter substrate 130 is disposed facing the array substrate 100, and a liquid crystal material 120 is sandwiched between the array substrate 100 and the color filter substrate 130 (cell gap). Columnar spacers 133 are formed on the color filter substrate 130 so that the cell gap is uniform in each of the regions of the reflection portion 112 and the transmission portion 109.

カラーフィルタ基板130は、ガラス基板131上にカラーフィルタやITOからなる共通電極132が形成されている。このアレイ基板100、カラーフィルタ基板130、液晶材料120などにより液晶パネル140が構成されている。   In the color filter substrate 130, a common electrode 132 made of a color filter or ITO is formed on a glass substrate 131. The array substrate 100, the color filter substrate 130, the liquid crystal material 120, and the like constitute a liquid crystal panel 140.

アレイ基板100の下方には図示していないが、周知の光源、導光板、拡散シート等を有するバックライト装置が配置され、このバックライト装置から透過した透過光は透過部109を通過し、外光は反射部112で反射される。この透過部109と反射部112を同一画素内に有するアレイ基板100と液晶材料120、カラーフィルタ基板130と、バックライト装置などが組み合わされて半透過型液晶表示装置となる。
特開2004−144965号公報
Although not shown below the array substrate 100, a backlight device having a well-known light source, light guide plate, diffusing sheet, and the like is disposed, and transmitted light transmitted from the backlight device passes through the transmission unit 109 and is externally transmitted. The light is reflected by the reflecting portion 112. The array substrate 100 having the transmissive portion 109 and the reflective portion 112 in the same pixel, the liquid crystal material 120, the color filter substrate 130, the backlight device, and the like are combined to form a transflective liquid crystal display device.
JP 2004-144965 A

反射部112の領域のセルギャップdrは、液晶材料120の種類や両極間111,132に印加する駆動電圧などの条件により、カラーフィルタ基板130側から入射した外光の反射率が最も大きくなる最良の間隔となるように設定している。   The cell gap dr in the region of the reflective portion 112 is the best at which the reflectance of the external light incident from the color filter substrate 130 side is the largest, depending on conditions such as the type of the liquid crystal material 120 and the drive voltage applied between the electrodes 111 and 132. The interval is set to be.

しかしながら、コンタクトホール107は図5に示したように凹部になっており、この部分のセルギャップdc2はdrの約2倍のギャップ長となっている。そのため、コンタクトホール107の部分でリタデーション値(△n・d(△nは屈折率異方性、dはセルギャップ))が異なることになり、コンタクトホール107の部分で反射率が低下し、表示品質が低下することがわかった。   However, the contact hole 107 is a recess as shown in FIG. 5, and the cell gap dc2 in this portion is approximately twice as long as dr. For this reason, the retardation value (Δn · d (Δn is refractive index anisotropy, d is cell gap)) is different in the contact hole 107 portion, and the reflectance is lowered in the contact hole 107 portion. It turns out that quality falls.

本発明は、上記の問題点に鑑み、コンタクトホール107の部分で反射率の低下が生じないように工夫した液晶表示装置を提供することを目的とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device devised so as not to cause a decrease in reflectivity at the contact hole 107 portion.

本発明の第1発明は、対向面側にそれぞれ液晶駆動用の電極を備える2枚の基板(アレイ基板50、カラーフィルタ基板30)が液晶層(液晶材料20)を挟んで対向配置して構成され、複数の画素を備える液晶表示装置(液晶パネル40)であって、前記基板の一方側(アレイ基板50)には、各画素毎に形成される薄膜トランジスタ(TFT素子4)と、画素電極(透過電極11)と、該薄膜トランジスタと画素電極間に形成される層間膜(平坦化膜6)と、前記層間膜(平坦化膜6)を貫通する凹部(コンタクトホール7)に形成される前記薄膜トランジスタと画素電極とを接続するコンタクト部(コンタクトパッド8)とを備え、前記基板の他方側(カラーフィルタ基板30)には、対向電極(共通電極32)と、該対向電極(共通電極32)の前記コンタクト部(コンタクトパッド8)に対向する位置に形成された突起部(突起部34)とを備えたことを特徴とする液晶表示装置(液晶パネル40)である。   The first invention of the present invention is configured such that two substrates (array substrate 50 and color filter substrate 30) each having an electrode for driving a liquid crystal on the opposite surface side are opposed to each other with a liquid crystal layer (liquid crystal material 20) interposed therebetween. A liquid crystal display device (liquid crystal panel 40) having a plurality of pixels, on one side of the substrate (array substrate 50), a thin film transistor (TFT element 4) formed for each pixel and a pixel electrode ( The transmissive electrode 11), an interlayer film (planarization film 6) formed between the thin film transistor and the pixel electrode, and the thin film transistor formed in a recess (contact hole 7) penetrating the interlayer film (planarization film 6) And a contact portion (contact pad 8) for connecting the pixel electrode and a counter electrode (common electrode 32) and a counter electrode (common electrode 32) on the other side (color filter substrate 30) of the substrate. A liquid crystal display device (liquid crystal panel 40) comprising a protrusion (protrusion 34) formed at a position facing the contact portion (contact pad 8) of the pole 32).

本発明の他の態様では、前記第1発明において、前記突起部(突起部34)は、前記コンタクト部(コンタクトパッド8)の周辺のセルギャップ(dr)と、前記コンタクト部と突起部と間のセルギャップ(dc1)が略同じになる高さに形成されたことを特徴とする液晶表示装置(液晶パネル40)である。   In another aspect of the present invention, in the first invention, the protrusion (protrusion 34) includes a cell gap (dr) around the contact (contact pad 8) and a gap between the contact and protrusion. The liquid crystal display device (liquid crystal panel 40) is characterized in that the cell gap (dc1) is formed at a height that is substantially the same.

本発明の他の態様では、前記第1発明において、前記突起部(突起部34)は、前記コンタクト部(コンタクトパッド8)の凹部(コンタクトホール7)の深さ(dc1)と略同じ長さに高さ(h)が形成されたことを特徴とする液晶表示装置(液晶パネル40)である。   In another aspect of the present invention, in the first invention, the protrusion (protrusion 34) is substantially the same length as the depth (dc1) of the recess (contact hole 7) of the contact (contact pad 8). The liquid crystal display device (liquid crystal panel 40) is characterized in that a height (h) is formed on the liquid crystal display device.

本発明の他の態様では、前記第1発明において、前記画素電極(透過電極11)には、前記他方側の基板(カラーフィルタ基板30)から入射された光を反射する反射領域(反射部12)が重畳して形成され、前記コンタクト部(コンタクトパッド8)は前記反射領域(反射部12)に形成されていることを特徴とする液晶表示装置(液晶パネル40)である。   In another aspect of the present invention, in the first invention, the pixel electrode (transmissive electrode 11) is a reflective region (reflecting portion 12) that reflects light incident from the other substrate (color filter substrate 30). ), And the contact portion (contact pad 8) is formed in the reflective region (reflective portion 12). This is a liquid crystal display device (liquid crystal panel 40).

本発明の他の態様では、前記第1発明において、前記画素電極(透過電極11)に重畳した前記他方側の基板(カラーフィルタ基板30)から入射された光を反射する反射領域(反射部12)と、前記他方側の基板(カラーフィルタ基板30)から入射された光を透過する透過領域(透過部9)とを備え、前記コンタクト部(コンタクトパッド8)は前記反射領域(反射部)に形成されていることを特徴とする液晶表示装置(液晶パネル40)である。   In another aspect of the present invention, in the first invention, a reflective region (reflecting portion 12) that reflects light incident from the other substrate (color filter substrate 30) superimposed on the pixel electrode (transmissive electrode 11). ) And a transmissive region (transmissive portion 9) that transmits light incident from the other substrate (color filter substrate 30), and the contact portion (contact pad 8) is located in the reflective region (reflective portion). The liquid crystal display device (liquid crystal panel 40) is characterized by being formed.

本発明の他の態様では、前記第1発明において、前記コンタクト部(コンタクトパッド8)は、前記突起部(突起部34)に形成された対向電極(共通電極32)と干渉する部位(コンタクトパッド抜き部14)が取り除かれていることを特徴とする液晶表示装置(液晶パネル40)である。   In another aspect of the present invention, in the first invention, the contact portion (contact pad 8) may interfere with a counter electrode (common electrode 32) formed on the protrusion (protrusion 34) (contact pad). The liquid crystal display device (liquid crystal panel 40) is characterized in that the punching portion 14) is removed.

本発明の他の態様では、前記2枚の基板(アレイ基板50、カラーフィルタ基板30)間のセルギャップ(dr)を一定に保つ柱状スペーサ(柱状スペーサ33)を備え、前記柱状スペーサ(柱状スペーサ33)は前記突起部(突起部34)と同じ工程で形成されることを特徴とする液晶表示装置である。。   In another aspect of the present invention, a columnar spacer (columnar spacer 33) that maintains a constant cell gap (dr) between the two substrates (array substrate 50, color filter substrate 30) is provided, and the columnar spacer (columnar spacer) is provided. 33) is a liquid crystal display device formed by the same process as that of the projection (projection 34). .

本発明によれば液晶表示装置において、反射率の低下を防止して、表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, in a liquid crystal display device, it is possible to provide a liquid crystal display device with high display quality by preventing a decrease in reflectance.

以下、本発明の実施をするための好適な実施の形態(以下、実施形態という)について、図面を参照して説明する。図1は液晶表示装置の概略平面図、図2は図1のA−A線断面図、図3はコンタクトホール部の他の実施態様を示す図である。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments for carrying out the invention (hereinafter referred to as embodiments) will be described with reference to the drawings. 1 is a schematic plan view of a liquid crystal display device, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 1, and FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of a contact hole portion.

ガラス基板上1上には、ポリシリコン膜からなる能動層3が形成され、その表面を含むガラス基板1全体には窒化シリコン膜又は酸化シリコン膜からなるゲート絶縁膜2で被われ、その上の前記能動層3に重なる部位にゲート電極G、補助容量電極Csが配置されている。そして、能動層3のドレイン電極D,ソース電極S1及びゲート電極Gによりスイッチング素子であるMOS型の薄型トランジスタ素子4(以下、TFT素子4という)が形成されている。
前記TFT素子4を被うように酸化シリコン膜又は窒化シリコン膜からなる層間絶縁膜5が形成され、層間絶縁膜5上に平坦化膜6が形成される。この層間絶縁膜5を貫いて、ソース電極S1と電気的に接続されたモリブデンを材料として形成されたメタルパッド13が形成される。また、前記平坦化膜6には、TFT素子4のソース電極S1の上方に画素電極である透過電極11とソース電極S1との電気的接続を行うための略八角形の形状に窪んだコンタクトホール7が設けられる。該コンタクトホール7には、クロムなどの高融点金属で形成されたコンタクトパッド8が形成され、前記コンタクトパッド8は前記メタルパッド13と電気的に接続される。
An active layer 3 made of a polysilicon film is formed on the glass substrate 1, and the entire glass substrate 1 including its surface is covered with a gate insulating film 2 made of a silicon nitride film or a silicon oxide film. A gate electrode G and an auxiliary capacitance electrode Cs are disposed at a portion overlapping the active layer 3. The drain electrode D, source electrode S1 and gate electrode G of the active layer 3 form a MOS type thin transistor element 4 (hereinafter referred to as TFT element 4) which is a switching element.
An interlayer insulating film 5 made of a silicon oxide film or a silicon nitride film is formed so as to cover the TFT element 4, and a planarizing film 6 is formed on the interlayer insulating film 5. A metal pad 13 made of molybdenum, which is electrically connected to the source electrode S1, is formed through the interlayer insulating film 5. Further, the planarizing film 6 has a contact hole recessed in a substantially octagonal shape for electrical connection between the transmissive electrode 11 as a pixel electrode and the source electrode S1 above the source electrode S1 of the TFT element 4. 7 is provided. A contact pad 8 made of a refractory metal such as chromium is formed in the contact hole 7, and the contact pad 8 is electrically connected to the metal pad 13.

TFT素子4から離れた場所には平坦化膜6が取除かれた溝部が設けられる。そして、この溝部が透過部9に該当する。   A groove portion from which the planarizing film 6 is removed is provided at a location away from the TFT element 4. The groove portion corresponds to the transmission portion 9.

平坦化膜6の上で、透過部9を除いた部分に反射膜10用の材料(Al)を積層させる。この反射膜10を積層させた部分が反射部12である。そして、反射部12及び透過部9全体にITO(もしくは、IZO(Indium-Zinc-Oxide))を積層する。この透明材料層はコンタクトホール7の部分でメタルパッド13を介してソース電極S1と電気的に接続され、この透明材料層が透明電極11として機能する。   On the flattening film 6, a material (Al) for the reflective film 10 is laminated on the portion excluding the transmission part 9. A portion where the reflection film 10 is laminated is a reflection portion 12. And ITO (or IZO (Indium-Zinc-Oxide)) is laminated | stacked on the reflection part 12 and the whole transmission part 9. As shown in FIG. This transparent material layer is electrically connected to the source electrode S 1 through the metal pad 13 at the contact hole 7, and this transparent material layer functions as the transparent electrode 11.

アレイ基板50と対向してカラーフィルタ基板30が配置され、アレイ基板50とカラーフィルタ基板30との間(セルギャップ)に液晶材料20が挟持されている。このセルギャップは、平坦化膜6の厚さが約2μmあるため反射部12で約2μm、透過部9で約4μmの間隔に形成される。そして、コンタクトホール7の部分は、平坦化膜6の厚さ2μmが加わって約4μmのセルギャップとなる。本実施形態では各画素ごとのセルギャップが均一になるように柱状スペーサ33が、カラーフィルタ基板30上に形成されている。   The color filter substrate 30 is disposed to face the array substrate 50, and the liquid crystal material 20 is sandwiched between the array substrate 50 and the color filter substrate 30 (cell gap). The cell gap is formed at an interval of about 2 μm at the reflecting portion 12 and about 4 μm at the transmitting portion 9 because the thickness of the planarizing film 6 is about 2 μm. The contact hole 7 has a cell gap of about 4 μm with the addition of the thickness 2 μm of the planarizing film 6. In this embodiment, columnar spacers 33 are formed on the color filter substrate 30 so that the cell gap for each pixel is uniform.

アレイ基板50と対向してカラーフィルタ基板30が配置され、アレイ基板50とカラーフィルタ基板30との間(セルギャップ)に液晶材料20が挟持されている。このセルギャップは、反射部12と透過部9のそれぞれの領域で、セルギャップが均一になるように柱状スペーサ33が、カラーフィルタ基板30上に形成されている。   The color filter substrate 30 is disposed to face the array substrate 50, and the liquid crystal material 20 is sandwiched between the array substrate 50 and the color filter substrate 30 (cell gap). Columnar spacers 33 are formed on the color filter substrate 30 so that the cell gap is uniform in each region of the reflective portion 12 and the transmissive portion 9.

34は、前記コンタクトホール7に対向する位置に形成された突起部であり、前記柱状スペーサ33と同じレジストを材料として、同じ工程でフォトリソグラフィー法により作成される。コンタクトホール7の底部7aと突起部34の先端部34aとの間のセルギャップdc1は、反射部12のセルギャップdrと同じ程度の間隔に形成されている。このようにセルギャップdc1とdrがほぼ同じ程度の間隔に形成されているので、リタデーション値はセルギャップdrとdc1とで同じ程度の値となるため、コンタクトホール7の部分で反射率の低下が生じることを防止することができる。   Reference numeral 34 denotes a protrusion formed at a position facing the contact hole 7, and is formed by the photolithography method in the same process using the same resist as the columnar spacer 33 as a material. The cell gap dc1 between the bottom 7a of the contact hole 7 and the tip 34a of the protrusion 34 is formed at the same interval as the cell gap dr of the reflecting portion 12. Since the cell gaps dc1 and dr are formed at substantially the same interval as described above, the retardation value becomes the same value between the cell gaps dr and dc1, and the reflectance is reduced in the contact hole 7 portion. It can be prevented from occurring.

また、カラーフィルタ基板30は、ガラス基板31上にカラーフィルタやITOからなる共通電極32が形成されている。このアレイ基板50、カラーフィルタ基板30、液晶材料20により液晶パネル40が構成されている。   In the color filter substrate 30, a common electrode 32 made of a color filter or ITO is formed on a glass substrate 31. The array substrate 50, the color filter substrate 30, and the liquid crystal material 20 constitute a liquid crystal panel 40.

アレイ基板50の下方には図示していないが、周知の光源、導光板、拡散シート等を有するバックライト装置が配置され、このバックライト装置から透過した透過光は透過部9を通過し、外光は反射部12で反射される。この透過部9と反射部12を同一画素内に有するアレイ基板50と液晶材料20、カラーフィルタ基板30と、バックライト装置などが組み合わされて半透過型液晶表示装置を構成する。   Although not shown below the array substrate 50, a backlight device having a well-known light source, light guide plate, diffusion sheet, and the like is disposed, and transmitted light transmitted from the backlight device passes through the transmission unit 9 and is externally transmitted. The light is reflected by the reflector 12. The array substrate 50 having the transmissive portion 9 and the reflective portion 12 in the same pixel, the liquid crystal material 20, the color filter substrate 30 and the backlight device are combined to constitute a transflective liquid crystal display device.

図3は、本発明の他の実施形態を示す図であり、図3Aはコンタクトホール7の部位の概要を示した平面図、図3Bは図3AのB−B断面図である。   FIG. 3 is a view showing another embodiment of the present invention, FIG. 3A is a plan view showing an outline of a portion of the contact hole 7, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line BB of FIG.

この実施形態では、突起部34の表面に積層される透過電極32aは、突起部34の一部、根元から先端部32aを帯状に覆うようにパターンニングして形成されている。一方、コンタクトパッド8には、前記突起部34に形成された帯状の透過電極32aと対向する部位にコンタクトバッドが形成されていない部分(コンタクトパッド抜き部14)が形成される。   In this embodiment, the transmissive electrode 32a laminated on the surface of the protruding portion 34 is formed by patterning so as to cover a part of the protruding portion 34, the tip 32a from the root to a strip shape. On the other hand, the contact pad 8 is formed with a portion where the contact pad is not formed (contact pad punched portion 14) at a portion facing the belt-like transmissive electrode 32 a formed on the protrusion 34.

これによりアレイ基板50とカラーフィルタ基板30との張り合わせのズレ、突起部34などの形成時のズレなどにより、突起部34がコンタクトホール7においてアレイ基板50側と接触することがあっても、透過電極32aが形成された部位に対向する部分にはコンタクトパッド抜き部14が形成され、コンタクトパッド8が切り欠かれているため、透過電極32aとコンタクトパッド8が接触することはなく、短絡が生じることはない。   As a result, even if the projection 34 comes into contact with the array substrate 50 side in the contact hole 7 due to misalignment of the alignment between the array substrate 50 and the color filter substrate 30, misalignment at the time of formation of the projection 34, etc. Since the contact pad removal portion 14 is formed in the portion facing the portion where the electrode 32a is formed and the contact pad 8 is cut away, the transmission electrode 32a and the contact pad 8 do not contact each other, and a short circuit occurs. There is nothing.

なお、本実施形態では、突起部34の高さは約2μm、幅は約6〜8μmに形成し、コンタクトホール7の直径は約10μmに形成している。   In the present embodiment, the protrusion 34 has a height of about 2 μm, a width of about 6 to 8 μm, and the contact hole 7 has a diameter of about 10 μm.

尚、本実施形態では、アレイ基板50として、トップゲートタイプのTFT素子を記載したが、これに限定されることなく、ボトムゲートタイプのTFT素子を採用した液晶表示装置であっても適用できる。また、半透過型に限らず、反射型/透過型の液晶表示装置に適用することも可能である。また、反射部12と透過部9とでセルギャップを異ならせるため方法として、本実施形態では透過部9の部分の平坦化膜6を取り除く方法を採用した例を記載したが、これに限らず、カラーフィルタ基板30側の反射部12の部分にレジストでセルギャップ調整層を形成する方法を採用してもよい。   In the present embodiment, the top gate type TFT element is described as the array substrate 50. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to a liquid crystal display device adopting a bottom gate type TFT element. Further, the present invention is not limited to the transflective type, and can be applied to a reflective / transmissive liquid crystal display device. In addition, as an example of a method for making the cell gap different between the reflective portion 12 and the transmissive portion 9, an example in which the method of removing the planarizing film 6 in the transmissive portion 9 is described in the present embodiment, but the present invention is not limited thereto. Alternatively, a method of forming a cell gap adjusting layer with a resist on the reflective portion 12 on the color filter substrate 30 side may be employed.

また、前記突起部34を、前記コンタクトパッド8の凹部の深さ(dc1)と略同じ長さに高さ(h)に形成する構成としてもよい。   The protrusion 34 may be formed to have a height (h) substantially the same length as the depth (dc1) of the recess of the contact pad 8.

各種電子機器に搭載される液晶表示装置に採用することができる。   It can be employed in a liquid crystal display device mounted on various electronic devices.

本発明の実施形態にかかる液晶表示装置の概略平面図である。1 is a schematic plan view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態にかかる図1のA−A線に沿った位置における液晶表示装置の概略断面構成を示す図である。It is a figure which shows schematic sectional structure of the liquid crystal display device in the position along the AA line of FIG. 1 concerning embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows other embodiment of this invention. 従来の液晶表示装置を説明するための概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure for demonstrating the conventional liquid crystal display device. 図4のX−X線に沿った位置における半透過型液晶表示装置の概略断面構成を示す図である。It is a figure which shows schematic sectional structure of the transflective liquid crystal display device in the position along the XX line of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 ガラス基板
2 ゲート絶縁膜
3 能動層
4 TFT素子
5 層間絶縁膜
6 平坦化膜
7 コンタクトホール
8 コンタクトパッド
9 メタルパッド
10 反射膜
11 透過電極
12 反射部
13 メタルパッド
14 コンタクトパッド抜き部
20 液晶材料
30 カラーフィルタ基板
31 ガラス基板
32 透過電極
33 柱状スペーサ
34 突起部
40 液晶パネル
50 アレイ基板
100 アレイ基板
101 ガラス基板
102 ゲート絶縁膜
103 能動層
104 TFT素子
105 保護膜
106 層間膜
107 コンタクトホール
109 透過部
110 反射膜
111 透明電極
112 反射部
130 カラーフィルタ基板
131 ガラス基板
132 共通電極
133 柱状スペーサ
G ゲート電極
Gl ゲート配線
D ドレイン電極
S1 ソース電極
Cs 補助容量電極

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Gate insulating film 3 Active layer 4 TFT element 5 Interlayer insulating film 6 Planarizing film 7 Contact hole 8 Contact pad 9 Metal pad 10 Reflective film 11 Transmission electrode 12 Reflecting part 13 Metal pad 14 Contact pad extraction part 20 Liquid crystal material 30 color filter substrate 31 glass substrate 32 transmissive electrode 33 columnar spacer 34 protrusion 40 liquid crystal panel 50 array substrate 100 array substrate 101 glass substrate 102 gate insulating film 103 active layer 104 TFT element 105 protective film 106 interlayer film 107 contact hole 109 transmissive portion DESCRIPTION OF SYMBOLS 110 Reflective film 111 Transparent electrode 112 Reflector 130 Color filter substrate 131 Glass substrate 132 Common electrode 133 Columnar spacer G Gate electrode Gl Gate wiring D Drain electrode S1 Source electrode Cs Auxiliary capacitance electrode

Claims (7)

対向面側にそれぞれ液晶駆動用の電極を備える2枚の基板が液晶層を挟んで対向配置して構成され、複数の画素を備える液晶表示装置であって、
前記基板の一方側には、各画素毎に形成される薄膜トランジスタと、画素電極と、該薄膜トランジスタと画素電極間に形成される層間膜と、前記層間膜を貫通する凹部に形成される前記薄膜トランジスタと画素電極とを接続するコンタクト部とを備え、
前記基板の他方側には、対向電極と、該対向電極の前記コンタクト部に対向する位置に形成された突起部とを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
A liquid crystal display device comprising a plurality of pixels, wherein two substrates each having electrodes for driving a liquid crystal on opposite sides are arranged to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween,
On one side of the substrate, a thin film transistor formed for each pixel, a pixel electrode, an interlayer film formed between the thin film transistor and the pixel electrode, and the thin film transistor formed in a recess penetrating the interlayer film, A contact portion for connecting the pixel electrode,
A liquid crystal display device comprising: a counter electrode on the other side of the substrate; and a protrusion formed at a position facing the contact portion of the counter electrode.
前記突起部は、前記コンタクト部の周辺のセルギャップと、前記コンタクト部と突起部と間のセルギャップが略同じになる高さに形成されたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display according to claim 1, wherein the protrusion is formed at a height at which a cell gap around the contact portion and a cell gap between the contact portion and the protrusion are substantially the same. apparatus. 前記突起部は、前記コンタクト部の凹部の深さと略同じ長さに高さが形成されたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the protrusion has a height substantially the same length as the depth of the recess of the contact portion. 前記画素電極には、前記他方側の基板から入射された光を反射する反射領域が重畳して形成され、前記コンタクト部は前記反射領域に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   2. The pixel electrode according to claim 1, wherein a reflection region that reflects light incident from the substrate on the other side is formed to overlap the pixel electrode, and the contact portion is formed in the reflection region. Liquid crystal display device. 前記画素電極に重畳した前記他方側の基板から入射された光を反射する反射領域と、前記他方側の基板から入射された光を透過する透過領域とを備え、前記コンタクト部は前記反射領域に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   A reflection region that reflects light incident from the other substrate superimposed on the pixel electrode; and a transmission region that transmits light incident from the other substrate, and the contact portion is disposed in the reflection region. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed. 前記コンタクト部は、前記突起部に形成された対向電極と干渉する部位が取り除かれていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a portion of the contact portion that interferes with a counter electrode formed on the protrusion is removed. 前記2枚の基板間のセルギャップを一定に保つ柱状スペーサを備え、前記柱状スペーサは前記突起部と同じ工程で形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。


The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a columnar spacer that keeps a cell gap between the two substrates constant, wherein the columnar spacer is formed in the same process as the protrusion.


JP2004285029A 2004-09-29 2004-09-29 Liquid crystal display Pending JP2006098757A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004285029A JP2006098757A (en) 2004-09-29 2004-09-29 Liquid crystal display

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004285029A JP2006098757A (en) 2004-09-29 2004-09-29 Liquid crystal display

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006098757A true JP2006098757A (en) 2006-04-13

Family

ID=36238638

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004285029A Pending JP2006098757A (en) 2004-09-29 2004-09-29 Liquid crystal display

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006098757A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016190196A1 (en) * 2015-05-22 2016-12-01 シャープ株式会社 Liquid crystal display device
US11513400B2 (en) * 2020-06-15 2022-11-29 Hannstar Display Corporation Pixel array substrate and display device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016190196A1 (en) * 2015-05-22 2016-12-01 シャープ株式会社 Liquid crystal display device
US11513400B2 (en) * 2020-06-15 2022-11-29 Hannstar Display Corporation Pixel array substrate and display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5063180B2 (en) Thin film transistor substrate, liquid crystal display panel including the same, and method of manufacturing the liquid crystal display panel
JP4744156B2 (en) Liquid crystal display
KR20080025552A (en) Thin film transistor substrate, method for manufacturing the same and liquid crystal display panel having the same
JP2004240268A (en) Liquid crystal display
JP4817718B2 (en) Display device substrate and liquid crystal display device including the same
JP4646018B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP2007310152A (en) Electro-optical device, manufacturing method of the electro-optical device and electronic device
JP2000258802A (en) Active matrix type liquid crystal display device and manufacture therefor
JP5026162B2 (en) Liquid crystal display
JP4764871B2 (en) Transflective liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
TWI295394B (en) Liquid crystal display device
JP4107047B2 (en) Transflective liquid crystal display device
JP2007093859A (en) Liquid crystal device and electronic apparatus
JP2007309965A (en) Liquid crystal display
KR20070070041A (en) Liquid crystal display device
JP2009093145A (en) Display device and method of manufacturing same
JP2006098756A (en) Liquid crystal display
JP2008003151A (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2006098757A (en) Liquid crystal display
JP4078928B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP2008157997A (en) Liquid crystal device and electronic equipment
JP2003255399A (en) Liquid crystal display apparatus
JP2008140950A (en) Display unit
JP2007304384A (en) Liquid crystal device, method for manufacturing the same, and electronic equipment
JP2007304351A (en) Liquid crystal device and electronic device