JP2006075739A - 負電荷酸素原子による殺菌・洗浄または浄化装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の負電荷酸素原子による殺菌・洗浄または浄化装置は、カルシウムアルミネート複合酸化物または少なくともセリウムを含む複合酸化物からなる部材を加熱し負電荷酸素原子を取り出すと共に、該負電荷酸素原子発生部から負電荷酸素原子をして希ガス流または乾燥空気流で搬送して液体中に放出し、該液体自体の殺菌・浄化もしくは該液体中に置かれた対象物(例えば、半導体ウエハー)の洗浄を行う。
【選択図】図1
Description
負電荷酸素原子の製造方法としては、放電などによって発生した酸素原子に低エネルギー電子を付着させることにより、負電荷酸素原子を製造する方法が知られている。しかしながら、放電を生じさせるために高真空を必要とするとともに、エネルギー面で間題点があった。
図4は、上記別途提案された負電荷酸素原子の製造装置の一実施例を説明する図である。負電荷酸素原子の製造装置は、カルシウムアルミニウム複合酸化物からなる焼成体からなる負電荷酸素原子発生部材22を有し、円筒状体の負電荷酸素原子発生部材22の内部の底面に陰極23が配置されるとともに、焼成体の加熱用の電気ヒーター、ハロゲンランプ等の加熱手段24が設けられており、隔壁25によって酸素26と負電荷酸素原子の生成室27とに分離されており、酸素室26には、酸素供給口28を通じて常圧の酸素が供給される。
生成室内での希ガス流は、加熱された負電荷酸素原子の発生部から熱を伝達する作用を有している。したがって、照射部11に対しては、負電荷酸素原子のみではなく、希ガス流によって熱が伝達するので希ガス流の流速は、照射部の温度上昇を考慮して行う必要があり、加熱によって変質するものについては希ガス流の流速を大きくしない方が好ましい。
さらに、前記液体中もしくはガス搬送チューブ内に陽極を配置して、前記負電荷酸素原子の流入を促進することを特徴とする。
またさらに、前記複合酸化物は、酸素イオン伝導体からなる基板上に薄膜形成されており、前記複合酸化物の加熱用ヒーターが上記複合酸化物からなる薄膜に近接して、または該薄膜に接して該薄膜と一体形成されることを特徴とする。
さらに詳細には、前記複合酸化物を薄膜形成した基体の裏面側に陰極を配置し、陰極を配置した面とは反対側には陽極を配置し、陰極側には酸素を供給し陰極と陽極との間に電圧を印加して陽極を配置した側から負電荷酸素原子を取り出すことを特徴とする。
図5と図7の違いは、図5が電界で強制的にO- を引き出しているのに対して、図7のものは複合酸化物の表面から熱脱離によってO- を生成している点である。前者は、前記半導体製造装置等の用途に用いられ、後者は殺菌、脱臭等の目的の用途に適した構造である。図7のものを液中に設置することでO-が液中に残存し、液の殺菌・浄化が行われる。この実施例は、電界を掛けられない場所に用いる場合に適する。なお、上記加熱を容易にするため、液循環型にする方がよい。
図1は、本発明の液相中で用いる負電荷酸素原子(O- )の殺菌・洗浄または浄化装置の実施例を示す。
O- 発生器として、自己加熱型C12A7(50mm*100mm)2枚を用意し、対向するように発生器内に設定し、加熱器表面温度が650℃になるようスライダックで電圧を調整する。さらに溶液系殺菌用に設定した装置(図1の2)2L水槽に調整液(蒸留水溶液中に大腸菌を106 個/L)を添加しO- 反応場とする。O- 発生器1から反応場への搬送は、ステンレス製フレキシブルtube(60Φ、800mmL)およびtube内に設定に設定された電極(図1の4)を用いることで搬送が可能となる。なお、該電極はO- 発生器1からO- を吸引する目的で上記チューブの出口付近に設けられる。該電極は上記チューブとは電気的に絶縁された円筒状メッシュである。
菌数 殺菌率
反応前 106
反応後 10個以下 99.999%
O- 発生器として、自己加熱型C12A7(50mm*100mm)2枚を用意し、対向するように発生器内に設定し、加熱器表面温度が650℃になるようスライダックで電圧を調整する。さらに溶液系有機物除去用に設定した装置(図1の2)の2L水槽に調整液(蒸留水1L中にホルマリンを3mg混入)を添加しO- 反応場とする。O- 発生器から反応場への搬送は、ステンレス製フレキシブルtube(60Φ、800mmL)およびtube内に設定に設定された電極(図1の4)を用いることで搬送が可能となる。
濃度ppm
反応前 0.1
反応後 測定濃度以下(1ppb以下)
図2において、O- 発生部1で発生されたO- は搬送チューブ3を介して水槽2に送られる。水槽2内で放出されたO- はバブリングにより無数の泡となって液中に溶け込んでいく。O- を含む水がチューブ7を介して洗浄層5に送られる。洗浄層5内には半導体ウエハーが置かれていて、該ウエハーの表面が上記水に含まれるO- により洗浄される。洗浄層に発生したO2 は回収槽6において回収され、リサイクルされる。
2 水槽
3 O- 搬送チューブ
4 電極
5 洗浄槽
6 回収槽
7 チューブ
8 半導体ウエハー
9 洗浄槽
11 照射部
12 加速電極
13 試料
14 希ガス流入口
15 希ガス排出口
16 希ガス流
17 冷却手段
18 冷媒
22 負電荷酸素原子発生部材
23 陰極
24 加熱手段
25 隔壁
26 酸素室
27 生成室
28 酸素供給口
29 発生部
Claims (8)
- カルシウムアルミネート複合酸化物または少なくともセリウムを含む複合酸化物からなる部材を加熱して負電荷酸素原子を取り出すと共に、該負電荷酸素原子を希ガス流または乾燥空気流で搬送して液体中に放出し、該液体もしくは該液体中に置かれた対象物を殺菌・洗浄または浄化することを特徴とする殺菌・洗浄または浄化装置。
- 前記液体が水であり、前記洗浄対象物が半導体ウエハーであることを特徴とする前記請求項1記載の洗浄装置。
- 前記液体中への放出により生じる気泡および溶存負電荷酸素原子が、前記被洗浄物にぶつかるように前記洗浄対象物を配置することを特徴とする前記請求項1または2記載の洗浄装置。
- 前記液体中もしくはガス搬送チューブ内に陽極を配置して、前記負電荷酸素原子の流入を促進することを特徴とする前記請求項1記載の殺菌・洗浄または浄化装置。
- 前記複合酸化物は、酸素イオン伝導体からなる基板上に薄膜形成されており、前記複合酸化物の加熱用ヒータが上記複合酸化物からなる薄膜に近接して、または該薄膜に接して該薄膜と一体形成されることを特徴とする前記請求項1記載の殺菌・洗浄または浄化装置。
- 前記複合酸化物は、ステアタイト製のセラミック・ヒーター基板上に薄膜形成されていることを特徴とする前記請求項1記載の殺菌・洗浄または浄化装置。
- 前記複合酸化物を薄膜形成した基体の裏面側に陰極を配置し、陰極を配置した面とは反対側には陽極を配置し、陰極側には酸素を供給し陰極と陽極との間に電圧を印加して陽極を配置した側から負電荷酸素原子を取り出すことを特徴とする前記請求項1記載の殺菌・洗浄または浄化装置。
- 前記負電荷酸素原子発生部材の設けられた酸素室と、常圧の生成室とを区画し、負電荷酸素原子発生部材の酸素室側面に陰極を配置し、生成室側面には負電荷酸素原子発生部材から間隔を設けて陽極を配置し、該陽極と陰極に直流電源を接続するとともに、上記負電荷酸素原子発生部から生成室の負電荷酸素原子の搬送方向に対して希ガス流または乾燥空気流を形成したことを特徴とする前記前記請求項1記載の殺菌・洗浄または浄化装置。
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JP2004263130A JP2006075739A (ja) | 2004-09-10 | 2004-09-10 | 負電荷酸素原子による殺菌・洗浄または浄化装置 |
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JP2004263130A Pending JP2006075739A (ja) | 2004-09-10 | 2004-09-10 | 負電荷酸素原子による殺菌・洗浄または浄化装置 |
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
JP2008081376A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 活性酸素種発生装置及び活性酸素種含有液の製造方法 |
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2004
- 2004-09-10 JP JP2004263130A patent/JP2006075739A/ja active Pending
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JP2008081376A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 活性酸素種発生装置及び活性酸素種含有液の製造方法 |
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