JP2006066744A - 固体ソースエッチング装置及び固体ソースエッチング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 エッチングチャンバ10には、高周波プラズマを発生させる等の機能を有する電極12と、エッチング処理の対象となるサンプル14を保持するサンプルホルダ16とが設置され、またサンプルホルダ16の上にはエッチングガス用の固体ソース18も配置されている。さらに、エッチングチャンバ10内には、放電用ガス20が導入されている。電極12から放電用ガス20に高周波電力が印可されて放電用ガス20のプラズマが発生すると、このプラズマにより固体ソース18がたたかれ、固体ソース18の成分がガス化し、反応性エッチングガスとなる。この反応性エッチングガスは、電極12から高周波電力が印可されてプラズマ化し、このプラズマによりサンプル14がドライエッチングされる。
【選択図】 図1
Description
A. Narai et al., Jpn. J. Appl. Phys. 30 : 3159, 1991
18 固体ソース、20 放電用ガス、22 導入路、24 排出路、26 天板、
28 コイル、30 最外周領域、32 カバー領域、34 トレイ領域、36 容器。
Claims (4)
- エッチング処理を行うためのエッチングチャンバと、
前記エッチングチャンバ内に高周波プラズマを発生させる等の機能を有する電極と、
前記エッチングチャンバ内に導入された放電用ガスと、
前記エッチングチャンバ内に配置された反応性エッチングガス用の固体ソースと、
を備えることを特徴とする固体ソースエッチング装置。 - 請求項1記載の固体ソースエッチング装置において、前記固体ソースはヨウ素であることを特徴とする固体ソースエッチング装置。
- 請求項2記載の固体ソースエッチング装置において、前記固体ソースとしてのヨウ素は、その周囲を壁で囲まれていることを特徴とする固体ソースエッチング装置。
- エッチング処理を行うためのエッチングチャンバ内にエッチング対象であるサンプルを配置し、
前記エッチングチャンバ内にエッチングガス用の固体ソースを配置し、
前記エッチングチャンバ内に放電用ガスを導入し、
前記エッチングチャンバ内に高周波印加電極により高周波電界を印可してプラズマを発生させる、
ことを特徴とする固体ソースエッチング方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0377317A (ja) * | 1989-08-19 | 1991-04-02 | Toshiba Corp | プラズマエッチング装置 |
JP2000124196A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-04-28 | Sony Corp | プラズマエッチング法に基づくポリメタル積層体の形成方法 |
JP2000514599A (ja) * | 1996-07-03 | 2000-10-31 | ティーガル コーポレイション | プラズマエッチングリアクタ及び方法 |
JP2001093881A (ja) * | 1999-09-20 | 2001-04-06 | Kobe Steel Ltd | プラズマ処理装置 |
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2004
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