JP2006066607A - シリコン膜の結晶性測定方法及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 シリコン膜の結晶性測定方法は、シリコン膜上の被測定領域に、被測定領域におけるパワー密度が、第1のパワー密度未満であり、かつ第1のパワー密度の25%以上である光を照射して、散乱光のラマンシフトを測定するシリコン膜の結晶性測定方法であって、第1のパワー密度は、被測定領域におけるパワー密度が第1のパワー密度未満である第2のパワー密度の光を照射して、第1のラマンシフトを測定し、次いで、その被測定領域におけるパワー密度が該第1のパワー密度以上である光を照射してラマンシフトを測定し、さらに、その被測定領域におけるパワー密度が第2のパワー密度である光を照射して第2のラマンシフトを測定したとき、第1及び第2のラマンシフトが一致しないようなパワー密度である。
【選択図】 図2
Description
A2 範囲A1の上限値より高く範囲A3の下限値より低い設定パワーの範囲
A3 ラマン測定用のレーザ照射に伴いシリコン膜に損傷が生じる設定パワーの範囲
Claims (4)
- シリコン膜上の被測定領域に、該被測定領域におけるパワー密度が、 第1のパワー密度未満であり、かつ該第1のパワー密度の25%以上である光を照射して、散乱光のラマンシフトを測定するシリコン膜の結晶性測定方法であって、
該第1のパワー密度は、被測定領域におけるパワー密度が該第1のパワー密度未満である第2のパワー密度の光を照射して、第1のラマンシフトを測定し、次いで、その被測定領域におけるパワー密度が該第1のパワー密度以上である光を照射してラマンシフトを測定し、さらに、その被測定領域におけるパワー密度が該第2のパワー密度である光を照射して第2のラマンシフトを測定したとき、該第1及び第2のラマンシフトが一致しないようなパワー密度であるシリコン膜の結晶性測定方法。 - 前記被測定領域に、該被測定領域におけるパワー密度が前記第1のパワー密度の80%以上である光を照射する請求項1に記載のシリコン膜の結晶性測定方法。
- (a)表面にシリコン膜が形成された基板の被測定領域に、該被測定領域におけるパワー密度が、第1のパワー密度未満であり、かつ該第1のパワー密度の25%以上である光を照射して、ラマン散乱光の強度スペクトルを測定する工程であって、
該第1のパワー密度は、被測定領域におけるパワー密度が該第1のパワー密度未満である第2のパワー密度の光を照射して、第1のラマンシフトを測定し、次いで、その被測定領域におけるパワー密度が該第1のパワー密度以上である光を照射してラマンシフトを測定し、さらに、その被測定領域におけるパワー密度が該第2のパワー密度である光を照射して第2のラマンシフトを測定したとき、該第1及び第2のラマンシフトが一致しないようなパワー密度である工程と、
(b)前記工程(a)で測定された強度スペクトルから求められたラマンシフトと予め求められた単結晶シリコンのラマンシフトとの差であるΔラマンシフトの大きさを、予め定められた基準値と比較し、該基準値以下であるときのみ、前記基板上に半導体装置を形成する工程と
を含む半導体装置の製造方法。 - さらに、前記工程(a)で測定された強度スペクトルについて、該強度スペクトルの形状を表す物理量が、予め定められたその物理量に関する許容範囲内か否かを判定し、許容範囲内であるときのみ、前記基板上に半導体装置を形成する請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
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