JP2006047338A - プロジェクタ、および、プロジェクタの制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 CPU120は、露出計算対象範囲設定テーブル格納部107に格納された露出計算対象範囲設定テーブルを参照し、ズーム量検出部122によって検出されたズーム量zに基づいて、露出計算対象範囲を設定する。露出計算対象範囲設定テーブルには、各ズーム量zにおける好適な露出計算対象範囲が規定されている。次に、撮像制御部105は、CCDモジュール130によってスクリーン上に投写された調整用パターン画像を撮像し、設定された露出計算対象範囲について、露出計算値を算出する。そして、撮像制御部105は、この露出計算値と、所定の露出目標値とが等しくなるように、撮像部104におけるシャッタ速度、ゲイン、絞りのうちの少なくとも1つを制御して、露出調整を行う。
【選択図】 図1
Description
本発明の第1のプロジェクタは、
投写対象物上に画像を投写するプロジェクタであって、
前記投写対象物上に投写される画像の投写範囲を変化させることが可能なズームレンズと、
前記投写された所定の画像を撮影する撮像部と、
前記撮像部における露出調整を行う撮像制御部と、を備え、
前記撮像制御部は、前記ズームレンズのズーム量に基づいて、前記撮影された撮影画像における露出計算対象範囲を設定し、前記撮影画像から、前記設定された露出計算対象範囲について、露出計算値を算出し、該算出された露出計算値が、所定の露出目標値とほぼ等しくなるように、前記露出調整を行うことを要旨とする。
前記撮像制御部は、前記ズーム量が第1のズーム量である場合の前記露出計算対象範囲に対し、前記ズーム量が前記第1のズーム量よりも大きい第2のズーム量である場合には、前記露出計算対象範囲を大きく設定するようにしてもよい。
前記撮像制御部は、前記ズーム量に基づいて、所定の演算によって、前記露出計算対象範囲を設定するようにしてもよい。
前記所定の画像について用意され、前記ズーム量と、前記露出計算対象範囲との関係を記した所定の露出計算対象範囲設定テーブルを備えるようし、
前記撮像制御部は、前記露出計算対象範囲設定テーブルを参照し、前記検出されたズーム量に基づいて、前記露出計算対象範囲を設定するようにしてもよい。
投写対象物上に画像を投写するプロジェクタであって、
前記投写対象物上に投写される画像の投写範囲を変化させることが可能なズームレンズと、
前記投写された所定の画像を撮影する撮像部と、
前記撮像部における露出調整を行う撮像制御部と、を備え、
前記撮影された撮影画像は、比較的階調値が高い高階調領域と、比較的階調値が低い低階調領域とを有しており、
前記撮像制御部は、前記撮影画像から、前記高階調領域の面積に関する所定のパラメータを導出し、該導出されたパラメータに基づいて、前記撮影画像における露出計算対象範囲を設定し、前記撮影画像から、前記設定された露出計算対象範囲について、露出計算値を算出し、該算出された露出計算値が、所定の露出目標値とほぼ等しくなるように、前記露出調整を行うことを要旨とする。
前記所定の画像について用意され、前記パラメータと、前記露出計算対象範囲との関係を記した露出計算対象範囲設定テーブルを備えるようにし、
前記撮像制御部は、前記露出計算対象範囲設定テーブルを参照し、前記パラメータに基づいて、前記露出計算対象範囲を設定するようにしてもよい。
投写光学系の光軸の基準位置からのシフト量を変更するシフト量変更部を備える場合、
前記撮像制御部は、さらに、前記シフト量に基づいて、前記露出計算対象範囲を設定するようにしてもよい。
A.プロジェクタの構成(第1実施例):
B.画像投写動作:
C.露出目標値設定動作:
D.実施例の効果:
E.第2実施例:
F.変形例:
図1は、本発明の第1実施例としてのプロジェクタ100の概略構成を示す説明図である。このプロジェクタ100は、ズームレンズによって、スクリーン上に投写される画像の投写範囲を変化させることが可能な液晶プロジェクタである。また、このプロジェクタ100は、自動露出調整機能を有するモニタカメラ等を備えており、モニタカメラによって、自動露出調整を行いつつ、スクリーン上に投写された調整用パターン画像を撮影し、その撮影画像を解析して、その解析結果に基づいて、ズーム調整や、キーストーン補正や、フォーカス調整など、種々の調整を行うことが可能である。
プロジェクタ100における通常動作である画像投写動作について簡単に説明する。
プロジェクタ100における本発明の特徴部分である露出計算対象範囲の設定について説明する。
図5は、ズーム量を変えた場合の、撮影画像における白色部分の各画素の階調値を示す説明図である。図5において、図9、および、図10と同様に、上段は、調整用パターン画像の表示されたスクリーンを、中段は、そのスクリーンの撮影画像を、下段は、その撮影画像における画素の階調値を、それぞれ示している。また、図5(A)は、ズームレンズのズーム量を中間値に設定した場合の状態を示しており、図5(B)は、ズーム量をワイド側に設定した場合の状態を示しており、図5(C)は、ズーム量をテレ側に設定した場合の状態を示している。
図6は、本発明の第2実施例としてのプロジェクタ100Aの概略構成を示す説明図である。第1実施例のプロジェクタ100は、ズーム量zに基づいて、露出計算対象範囲の設定を行った。これに対し、第2実施例のプロジェクタ100Aは、ズーム量zの代わりに、撮影画像における高階調領域RH(図2参照)の面積SH、すなわち、高階調領域RHの画素数に基づいて、露出計算対象範囲を設定する。したがって、プロジェクタ100Aは、第1実施例のプロジェクタ100と異なり、ズーム量検出部122を備えていない。また、露出計算対象範囲設定テーブル格納部107Aに格納されている露出計算対象範囲設定テーブルの内容が第1実施例のプロジェクタ100と異なる。この他は、第1実施例のプロジェクタ100とほぼ同じである。したがって、以下では、第1実施例と異なる事項についてのみ説明する。
ただし、k、w0は、それぞれ、定数である。
ただし、Kは、高階調領域RHのアスペクト比に応じた係数である。例えば、高階調領域RHのアスペクト比が4:3である場合には、K=3/4となる。
=w×K×w
=K×(k×z+w0)2 …(3)
以上、本発明のいくつかの実施の形態について説明したが、本発明はこのような実施の形態になんら限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内において種々なる態様での実施が可能である。例えば、以下のような変形例が可能である。
上記第1実施例では、露出計算対象範囲設定テーブルを参照して、ズーム量zに基づいて、露出計算対象範囲の設定を行うものとしたが、これに限られない。ズーム量zと、投写画像の倍率との関係は、予め既知であるから、露出計算対象範囲を、ズーム量zに基づいて、所定の演算によって設定するようにしてもよい。
A0=(x1,y1);
B0=(x2,y1);
C0=(x1,y2);
D0=(x2,y2);
Az=(x1−dx,y1−dy1);
Bz=(x2+dx,y1−dy1);
Cz=(x1−dx,y2+dy2);
Dz=(x2+dx,y2+dy2);
dxは、各点のx方向の変動量である。dx=p×z;
dy1は、露出計算対象範囲の上辺を構成する点A0,B0のy方向の変動量である。
dy1=q×z;
dy2は、露出計算対象範囲の下辺を構成する点C0,D0のy方向の変動量である。
dy2=r×z;
上記実施例では、ズームレンズのズーム量zや、撮影画像における高階調領域RHの面積SHに基づいて、露出計算対象範囲を設定したが、これに限られない。投写光学系の光軸のシフト量を変更可能なプロジェクタにおいては、さらに、シフト量に基づいて、露出計算対象範囲を設定するようにしてもよい。投写光学系の光軸のシフト量は、シフト量検出部を設けることによって検出可能である。この場合、露出計算対象範囲の設定は、例えば、上記変形例1における係数p,q,rを、シフト量の関数として演算することによって、設定することができる。こうすることによって、投写光学系の光軸のシフト量が変化しても、撮影画像における、調整用パターン画像の階調値の平均値を、所望階調値にほぼ維持することができる。
上記実施例では、調整用パターン画像として、全面白色の画像を用いるようにしたが、これに限られない。調整用パターン画像として、例えば、所定の階調パターンを有する画像や、ロゴなどを用いるようにしてもよい。
上記実施例では、露出計算対象範囲は、撮影画像における調整用パターン画像の範囲としたが、これに限られない。露出計算対象範囲は、撮影画像における調整用パターン画像の少なくとも一部を含み、調整用パターン画像の範囲と、露出計算対象範囲との相対的な位置関係が、ズームレンズのズーム量に関わらず、一定であればよい。この場合、例えば、露出計算対象範囲は、撮影画像における調整用パターン画像を含む所定の範囲としてもよいし、調整用パターン画像の内部の所定の範囲としてもよい。
上記第2実施例では、高階調領域RHの面積SHに基づいて、露出計算対象範囲を設定したが、これに限られない。一般に、高階調領域RHの面積に関する所定のパラメータに基づいて、露出計算対象範囲を設定すればよく、例えば、高階調領域RHの一辺の長さ(例えば、図2におけるAz−Bz間の長さ)に基づいて、露出計算対象範囲を設定するようにしてもよい。
上記実施例では、プロジェクタ100,100Aは、液晶プロジェクタであるものとしたが、DLPプロジェクタ(DLPは、登録商標)であってもよい。
102…A/D変換部
104…撮像部
105…撮像制御部
106…撮影画像メモリ
107、107A…露出計算対象範囲設定テーブル格納部
108…画像処理部
110…液晶パネル駆動部
112…照明光学系
114…液晶パネル
116…ズームレンズ
118…投写光学系
122…ズーム量検出部
124…ズームレンズ駆動部
126…リモコン制御部
128…リモコン
RH…高階調領域
RL…低階調領域
Claims (8)
- 投写対象物上に画像を投写するプロジェクタであって、
前記投写対象物上に投写される画像の投写範囲を変化させることが可能なズームレンズと、
前記投写された所定の画像を撮影する撮像部と、
前記撮像部における露出調整を行う撮像制御部と、を備え、
前記撮像制御部は、前記ズームレンズのズーム量に基づいて、前記撮影された撮影画像における露出計算対象範囲を設定し、前記撮影画像から、前記設定された露出計算対象範囲について、露出計算値を算出し、該算出された露出計算値が、所定の露出目標値とほぼ等しくなるように、前記露出調整を行う、
プロジェクタ。 - 請求項1記載のプロジェクタであって、
前記撮像制御部は、前記ズーム量が第1のズーム量である場合の前記露出計算対象範囲に対し、前記ズーム量が前記第1のズーム量よりも大きい第2のズーム量である場合には、前記露出計算対象範囲を大きく設定する、
プロジェクタ。 - 請求項1記載のプロジェクタであって、さらに、
前記所定の画像について用意され、前記ズーム量と、前記露出計算対象範囲との関係を記した所定の露出計算対象範囲設定テーブルを備え、
前記撮像制御部は、前記露出計算対象範囲設定テーブルを参照し、前記ズーム量に基づいて、前記露出計算対象範囲を設定する、
プロジェクタ。 - 投写対象物上に画像を投写するプロジェクタであって、
前記投写対象物上に投写される画像の投写範囲を変化させることが可能なズームレンズと、
前記投写された所定の画像を撮影する撮像部と、
前記撮像部における露出調整を行う撮像制御部と、を備え、
前記撮影された撮影画像は、比較的階調値が高い高階調領域と、比較的階調値が低い低階調領域とを有しており、
前記撮像制御部は、前記撮影画像から、前記高階調領域の面積に関する所定のパラメータを導出し、該導出されたパラメータに基づいて、前記撮影画像における露出計算対象範囲を設定し、前記撮影画像から、前記設定された露出計算対象範囲について、露出計算値を算出し、該算出された露出計算値が、所定の露出目標値とほぼ等しくなるように、前記露出調整を行う、
プロジェクタ。 - 請求項4記載のプロジェクタであって、さらに、
前記所定の画像について用意され、前記パラメータと、前記露出計算対象範囲との関係を記した露出計算対象範囲設定テーブルを備え、
前記撮像制御部は、前記露出計算対象範囲設定テーブルを参照し、前記パラメータに基づいて、前記露出計算対象範囲を設定する、
プロジェクタ。 - 請求項1または4記載のプロジェクタであって、さらに、
投写光学系の光軸の基準位置からのシフト量を変更するシフト量変更部を備え、
前記撮像制御部は、さらに、前記シフト量に基づいて、前記露出計算対象範囲を設定する、
プロジェクタ。 - 投写対象物上に画像を投写するプロジェクタの制御方法であって、
前記プロジェクタは、
前記投写対象物上に投写される画像の投写範囲を変化させることが可能なズームレンズと、
前記投写された画像を撮影する撮像部と、を備えており、
(a)前記ズームレンズのズーム量に基づいて、前記撮影された撮影画像における露出計算対象範囲を設定する工程と、
(b)前記撮影画像から、前記設定された露出計算対象範囲について、露出計算値を算出し、該算出された露出計算値が、所定の露出目標値とほぼ等しくなるように、前記撮像部における露出調整を行う工程と、
を備える制御方法。 - 投写対象物上に画像を投写するプロジェクタの制御方法であって、
前記プロジェクタは、
前記投写対象物上に投写される画像の投写範囲を変化させることが可能なズームレンズと、
前記投写された画像を撮影する撮像部と、を備えており、
前記撮影された撮影画像は、比較的階調値が高い高階調領域と、比較的階調値が低い低階調領域とを有しており、
(a)前記撮影画像から、前記高階調領域の面積に関する所定のパラメータを導出する工程と、
(b)該導出されたパラメータに基づいて、前記撮影画像における露出計算対象範囲を設定する工程と、
(c)前記撮影画像から、前記設定された露出計算対象範囲について、露出計算値を算出し、該算出された露出計算値が、所定の露出目標値とほぼ等しくなるように、前記撮像部における露出調整を行う工程と、
を備える制御方法。
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