JP2006030239A - 熱現像感光材料の熱現像方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 熱現像時の処理安定性を向上させ、画像保存時においても高画質な画像を提供しうる熱現像感光材料の熱現像方法を提供すること。
【解決手段】 支持体の一方の面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料を、熱現像部を有する熱現像装置にて熱現像する方法において、該熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で該熱現像感光材料が最初に接するプレートヒータの温度がそれ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とする熱現像感光材料の熱現像方法。
【選択図】 なし
【解決手段】 支持体の一方の面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料を、熱現像部を有する熱現像装置にて熱現像する方法において、該熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で該熱現像感光材料が最初に接するプレートヒータの温度がそれ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とする熱現像感光材料の熱現像方法。
【選択図】 なし
Description
近年、医療や印刷製版の分野では、画像形成材料の湿式処理に伴う廃液の低減が、環境保全や省スペース化の観点からもが強く望まれている。
その為、レーザ・イメージャーやレーザ・イメージセッターのような効率的な露光が可能で、且つ高解像度で鮮明な黒色画像を形成することができる写真技術用途の熱現像感光材料に関する技術が必要とされてきている。
上記熱現像感光材料に係る技術として、例えば、Ｄ．モーガン（Ｍｏｒｇａｎ）とＢ．シェリー（Ｓｈｅｌｙ）による米国特許第３，１５２，９０４号、同３，４８７，０７５号の各明細書またはＤ．Ｈ．クロスタベール（Ｋｌｏｓｔｅｒｂｏｅｒ）による「ドライシルバー写真材料（Ｄｒｙ Ｓｉｌｖｅｒ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）」（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎｃ．第４８頁、１９９１）等に記載されているように、支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀及び還元剤を含有する熱現像感光材料が知られている。この熱現像感光材料では、溶液系処理薬品を一切使用しないため、より簡便で環境を損なわないシステムをユーザーに提供することができる利点を有している。
これらの熱現像感光材料は、感光性層中に設置された感光性ハロゲン化銀粒子を光センサーとし、有機銀塩を銀イオンの供給源とし、内蔵された還元剤によって通常８０〜１４０℃にて熱現像することにより画像を形成させ、定着を行わないことが特徴である。
しかしながら、熱現像感光材料においては、有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子及び還元剤を含有するため、熱現像前にかぶりが生じ易い。また、露光後、通常８０〜２５０℃で熱現像するだけで定着を行わないため、熱現像後においても、ハロゲン化銀、有機銀塩及び還元剤等の全部あるいは一部が残留するため、長期間の保存過程で、熱や光により金属銀が生じ、銀画像の色調等、画質が変化し易いという問題がある。
これらの問題を解決するための技術が、例えば、特開平６−２０８１９２号公報、同８−２６７９３４号公報、米国特許第５，７１４，３１１号明細書、欧州特許第１，０９６，３１０号明細書、及びこれらの特許文献に引用されている文献等において開示されている。しかし、これらの開示技術の多くは、ある程度の効果を呈するものの、市場において要求されるレベルを満たすための技術としてはまだ充分なものではない。
また、更に、本願発明者等の研究過程において、銀被覆率（カバーリングパワー、ＣＰ）を上げる等の目的で熱現像感光材料に含有する感光性ハロゲン化銀粒子の粒径を小さくして数を増加させた場合には、現像処理によって形成される現像銀（銀原子のクラスター）の小粒径化等の形状変化により色調が劣化する場合があるとともに、現像後の銀画像の保存時および観察時に、当該感光性ハロゲン化銀粒子が受ける光の影響等により、銀画像の色調等の変動、劣化が一層大きくなるという問題が生じることがわかった。
また、現像銀の形状に起因する銀画像の色調を好ましい色調に補正調整するために発色性ロイコ染料等を使用する技術が、特開昭５０−３６１１０号、同５９−２０６８３１号、特開平５−２０４０８７号、同１１−２３１４６０号、特開２００２−１６９２４９号、同２００２−２３６３３４号の各公報等に開示されているが、これらの補正技術によっては、保存における色調の経時変動を防止することが十分にはできないことも分かってきた。
なお、上記の光の影響による銀画像の変動、劣化を防止する技術としては、従来後述する光誘起によって銀を酸化するハロゲン化合物が使用されており、当該ハロゲン化合物例は、特開昭５０−１２０３２８号、特開平６−２０８１９３号、同７−２７８１号の各公報等に開示されている。しかし、これらの化合物は一般的に熱分解によっても酸化機能を発現する性向を有するため、かぶりの生成、増長を防止する効果を有するものの、銀画像形成を阻害して感度やＤｍａｘ及び銀被覆率を低減するというような弊害をもたらす欠点があることも明らかになった。
医療用画像では微細な描写が要求されるため鮮鋭性、粒状性、面内均一性に優れる高画質が必要である。従来プレートヒートで現像処理を行うことにより面内濃度ムラ等が少なくなるとの技術（例えば、特許文献１、２参照。）が開示されているが、これらの技術によって画像保存での画質に関しては市場要求レベルを満足するものはなかった。
特開２００２−２１４７３５号公報（特許請求の範囲）
特開平１１−３５２６６０号公報（特許請求の範囲）
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、本発明の課題は、特に高画質が求められる医療用画像において、熱現像時の処理安定性を向上させ、画像保存時においても診断性の高い高画質な画像を提供しうる熱現像感光材料の熱現像方法を提供することにある。
本発明においては、熱現像時の処理安定性を向上させ、画像保存時においても診断性の高い高画質な画像を得るために検討を重ねた結果、熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で感光材料が最初に接する該プレートヒータの温度が、それ以外のプレートヒータの平均温度よりも高く設定する熱現像方法により上記目的が達成されることを見いだし、本発明に到達した。本発明の上記目的は、以下の構成によって達成された。
（請求項１）
支持体の一方の面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料を、熱現像部を有する熱現像装置にて熱現像する方法において、該熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で該熱現像感光材料が最初に接するプレートヒータの温度がそれ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とする熱現像感光材料の熱現像方法。
支持体の一方の面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料を、熱現像部を有する熱現像装置にて熱現像する方法において、該熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で該熱現像感光材料が最初に接するプレートヒータの温度がそれ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とする熱現像感光材料の熱現像方法。
（請求項２）
前記熱現像処理の工程で熱現像感光材料が最初に接するプレートヒータの温度と、それ以外のプレートヒータの平均温度の差が２℃以上１０℃未満であることを特徴とする請求項１に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
前記熱現像処理の工程で熱現像感光材料が最初に接するプレートヒータの温度と、それ以外のプレートヒータの平均温度の差が２℃以上１０℃未満であることを特徴とする請求項１に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
（請求項３）
前記熱現像感光材料が融点５０℃以上２００℃以下の熱溶剤を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の熱現像感光材料。
前記熱現像感光材料が融点５０℃以上２００℃以下の熱溶剤を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の熱現像感光材料。
（請求項４）
支持体の一方の面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料を、熱現像部を有する熱現像装置にて熱現像する方法において、該熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で該熱現像感光材料が最後に接するプレートヒータの温度がそれ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とする熱現像感光材料の熱現像方法。
支持体の一方の面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料を、熱現像部を有する熱現像装置にて熱現像する方法において、該熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で該熱現像感光材料が最後に接するプレートヒータの温度がそれ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とする熱現像感光材料の熱現像方法。
（請求項５）
前記熱現像処理の工程で熱現像感光材料が最後に接するプレートヒータの温度と、それ以外のプレートヒータの平均温度の差が５℃以上１５℃未満であることを特徴とする請求項４に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
前記熱現像処理の工程で熱現像感光材料が最後に接するプレートヒータの温度と、それ以外のプレートヒータの平均温度の差が５℃以上１５℃未満であることを特徴とする請求項４に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
（請求項６）
前記熱現像処理の工程で熱現像感光材料が最後に接するプレートヒータで該熱現像感光材料の定着処理が行われることを特徴とする請求項４または５に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
前記熱現像処理の工程で熱現像感光材料が最後に接するプレートヒータで該熱現像感光材料の定着処理が行われることを特徴とする請求項４または５に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
（請求項７）
前記定着処理が画保改良剤内包マイクロカプセルによるものであることを特徴とする請求項６に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
前記定着処理が画保改良剤内包マイクロカプセルによるものであることを特徴とする請求項６に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
（請求項８）
前記画保改良剤内包マイクロカプセルの壁材が５０〜１５０℃の範囲に融点を有する熱溶融性材料からなることを特徴とする請求項７に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
前記画保改良剤内包マイクロカプセルの壁材が５０〜１５０℃の範囲に融点を有する熱溶融性材料からなることを特徴とする請求項７に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
（請求項９）
前記画保改良剤内包マイクロカプセルに用いる壁材のＭＥＫ（メチルエチルケトン）に対する溶解性が５％以下であることを特徴とする請求項７または８記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
前記画保改良剤内包マイクロカプセルに用いる壁材のＭＥＫ（メチルエチルケトン）に対する溶解性が５％以下であることを特徴とする請求項７または８記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
（請求項１０）
前記感光性ハロゲン化銀が熱現像過程において表面潜像型から内部潜像型に変換することにより、表面感度が熱現像前より低下するハロゲン化銀粒子であること、及び黄色発色性ロイコ染料またはシアン発色性ロイコ染料の少なくともいずれかを含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
前記感光性ハロゲン化銀が熱現像過程において表面潜像型から内部潜像型に変換することにより、表面感度が熱現像前より低下するハロゲン化銀粒子であること、及び黄色発色性ロイコ染料またはシアン発色性ロイコ染料の少なくともいずれかを含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
（請求項１１）
前記銀イオン還元剤の少なくとも一種が下記一般式（１）で表されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
前記銀イオン還元剤の少なくとも一種が下記一般式（１）で表されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
（式中、Ｘ1はカルコゲン原子またはＣＨＲ1を表し、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ2はアルキル基を表し、同一でも異なってもよい。Ｒ3は水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。Ｒ4はベンゼン環上に置換可能な基を表し、ｍ及びｎは各々０〜２の整数を表す。）
本発明により、熱現像処理安定性に優れ、画像保存性に優れた熱現像感光材料の熱現像方法を提供することができた。
以下、本発明の構成要素について順次説明する。
（熱現像装置）
本発明の熱現像感光材料（単に感光材料ともいう）の熱現像方法のための熱現像装置は、熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で感光材料が最初に接する該プレートヒータの温度が、それ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とし、その温度差は好ましくは１℃以上１０℃未満、より好ましくは１℃以上８℃未満、更に好ましくは１℃以上５℃未満が特に好ましい。更に感光材料が最後に接する該プレートヒータの温度が、それ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とし、その温度差は好ましくは５℃以上１５℃未満、より好ましくは５℃以上１３℃未満、更に好ましくは５℃以上１０℃未満が特に好ましい。熱現像の初期に感光材料が高い温度に曝されることにより、現像反応が一気に進み、現像処理安定性につながると考えられる。また、熱現像の後期に高い温度に曝されることにより、感光材料内の硬膜反応などを促進し、画像保存時において高画質な画像を維持できると考えられる。
本発明の熱現像感光材料（単に感光材料ともいう）の熱現像方法のための熱現像装置は、熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で感光材料が最初に接する該プレートヒータの温度が、それ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とし、その温度差は好ましくは１℃以上１０℃未満、より好ましくは１℃以上８℃未満、更に好ましくは１℃以上５℃未満が特に好ましい。更に感光材料が最後に接する該プレートヒータの温度が、それ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とし、その温度差は好ましくは５℃以上１５℃未満、より好ましくは５℃以上１３℃未満、更に好ましくは５℃以上１０℃未満が特に好ましい。熱現像の初期に感光材料が高い温度に曝されることにより、現像反応が一気に進み、現像処理安定性につながると考えられる。また、熱現像の後期に高い温度に曝されることにより、感光材料内の硬膜反応などを促進し、画像保存時において高画質な画像を維持できると考えられる。
本発明において、プレートヒータ方式による熱現像方式とは特開平１１−１３３５７２号公報に記載の方法が好ましく、潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得る熱現像装置であって、前記加熱手段がプレートヒータからなり、且つ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行うことを特徴とする熱現像装置である。
本発明の好ましい現像温度としては８０〜２５０℃であり、好ましくは１００〜１４０℃、更に好ましくは１１０〜１３０℃である。現像時間としては１〜３０秒が好ましく、より好ましくは３〜１５秒、更に好ましくは３〜１０秒が特に好ましい。
本発明で言う熱現像装置は、構成としてはストックトレイで代表される熱現像感光材料供給部、レーザによる画像露光部、熱現像感光材料の全面に均一で安定した熱を供給する熱現像部、熱現像部で加熱された熱現像感光材料を冷却する冷却部を備えている。なお、該熱現像装置は、熱現像感光材料供給部からレーザ記録を経て、熱現像により画像形成された熱現像感光材料を冷却後、装置外に排出するまでの搬送手段を有する。この態様の熱現像装置の具体例は図１、図２に示す。
図１に、本発明に係る熱現像装置１５０の概略構成図を示す。熱現像装置１５０は基本的に熱現像感光材料の搬送方向順に、熱現像感光材料供給部Ａと、画像露光部Ｂと、熱現像部Ｃと、冷却部Ｄとを備えており、また各部間の要所に設けられ熱現像感光材料を搬送するための搬送手段と、各部を駆動し制御する電源／制御部Ｅを備えている。
熱現像感光材料供給部Ａは、熱現像感光材料を一枚ずつ取り出して、熱現像感光材料の搬送方向の下流に位置する画像露光部Ｂに供給する部分であり、三つのストックトレイ１０ａ、１０ｂ、１０ｃと、各装填部にそれぞれ配置される供給ローラ対１３ａ、１３ｂ、１３ｃと、不図示の搬送ローラ及び搬送ガイドとを有して構成される。また、三段構成となっている各装填部１０ａ、１０ｂ、１０ｃの内部には、異なる熱現像感光材料（例えば、Ｂ４サイズ、及び半切サイズなど）が収容されたマガジン１５ａ、１５ｂ、１５ｃが挿入され、各段に装填されたサイズや向きのいずれかを選択的に使用できるようにしている。なお、マガジン１５ａは床面から５５ｃｍ以下の高さにある。
画像露光部Ｂは、熱現像感光材料供給部Ａから搬送されてきた熱現像感光材料に対して光ビームＬを主走査方向に走査露光し、また主走査方向に略直交する副走査方向（即ち、搬送方向）に搬送することで、所望の画像を熱現像感光材料に記録して潜像を形成する。
ここで、画像露光部Ｂについて具体的に説明する。図２にシート状の熱現像感光材料３を搬送するための副走査搬送部と、走査露光部の概略構成を示す構成図を示した。画像露光部Ｂは、光ビーム走査露光によって熱現像感光材料を露光する部位であり、熱現像材料の搬送面からのばたつきを防止しつつ搬送するばたつき防止機構を有した副走査搬送部（副走査手段）１７と、走査露光部（レーザ照射手段）１９とを備えている。走査露光部１９は、別途用意された画像データに従ってレーザの出力を制御しつつ、このレーザを走査（主走査）させる。このとき熱現像感光材料を副走査搬送部１７によって副走査方向に移動させる。
副走査搬送部１７は、照射するレーザ光の主走査ラインを挟んで、軸線がこの走査ラインに対して略平行に配置された２本の駆動ローラ２１、２２と、これら駆動ローラ２１、２２に対向して配置され、熱現像感光材料３を支持するガイド板２３を備えている。ガイド板２３は、各駆動ローラ２１、２２との間に挿入される熱現像感光材料３を、並設されたこれら駆動ローラ同士間の外側で該駆動ローラ周面の一部に沿って撓ませるスロープ部２５、２６と、駆動ローラ同士間で熱現像感光材料の撓みによる弾性反発力を当接して受け止める略水平な面からなる押し当て部２９が設けられている。
スロープ部２５は、押し当て部２９との境界部分で屈曲して接続された傾斜面であり、このスロープ部２５と押し当て部２９との交差角度φは、０〜４５°の範囲に設定されている。そして、搬送下流側のスロープ部２６についても同様に形成され、押し当て部２９に対して上記交差角度φの傾斜面が設けられている。なお、０°より大きな交差角度φで屈曲させた傾斜面は少なくとも搬送方向上流側に設けてあればよい。
一方、走査露光部１９は、図２に示すように、画像信号に応じて変調したレーザ光Ｌを主走査方向に偏向して、所定の記録位置Ｘに入射するものであって、熱現像感光材料の分光感度特性に応じた狭帯波長域のレーザ光（波長３５０〜９００ｎｍ）を出射するレーザ光源３５と、レーザ光源３５を駆動する記録制御装置３７と、シリンドリカルレンズ３９と、光偏光器であるポリゴンミラー４１と、ｆθレンズ４３と、立ち下げ用のシリンドリカルミラー４５とを備えている。なお、走査露光部１９には、これ以外にもレーザ光源３５から出射された光ビームを成形するコリメータレンズやビームエキスパンダ、面倒れ補正光学系、光路調整用ミラー等、公知の光ビーム走査露光装置に配置される各種光学系部材が必要に応じて配置される。なお、レーザ光の熱現像感光材料３上における記録ビーム径は、φ５０〜φ２００μｍに設定している。特に副走査方向の記録ビーム径は、干渉領域を縮小するため小さい方が好ましい。なお、熱現像感光材料３の法線方向と副走査方向（搬送方向）に平行な面内で、熱現像感光材料３の法線から副走査方向へ４〜１５°の傾斜を有する入射角度θで、熱現像感光材料３に向けてレーザ光Ｌを照射することが好ましい。
次に、熱現像部Ｃについて説明する。熱現像部Ｃは熱処理を適用されるタイプの被熱処理熱現像感光材料を加熱するものであり、構成としては、図１に示すように、熱現像感光材料３を処理するのに必要な温度となる加熱体としての熱現像感光材料の移送方向に並ぶ複数のプレートヒータ５１ａ、５１ｂ、５１ｃを湾曲させ、且つこれらのプレートヒータ５１ａ、５１ｂ、５１ｃを一連の円弧状配置としている。
このプレートヒータ５１ａ、５１ｂ、５１ｃを含む熱現像部Ｃの構成としては、図示されるように、各プレートヒータに凹面を設け、熱現像感光材料３をこのプレートヒータの凹面に対して接触させつつ滑らせて、相対的に移動させる。このときの熱現像感光材料３の移送手段として、供給ローラ５３と、各プレートヒータから熱現像感光材料３への伝熱用でもある複数の押さえローラ５５とを配設している。押さえローラ５５はドラム５２の周面に当接して、ドラム５２の回転に従動して回転駆動される。これらの押さえローラ５５としては、金属ローラ、樹脂ローラ、ゴムローラ等が利用できる。この構成により、搬送される熱現像感光材料３がプレートヒータ５１ａ、５１ｂ、５１ｃに押し付けられつつ搬送されるので、熱現像感光材料３の座屈を防止することができる。そして、熱現像部Ｃ内における熱現像感光材料３の搬送路の終端には、熱現像感光材料を移送する排出ローラ５７が配設されている。
そして、熱現像部Ｃから搬出された熱現像感光材料３は、冷却部Ｄによってシワが発生しないように、且つ湾曲ぐせが付かないように注意しながら冷却される。冷却部Ｃから排出された熱現像感光材料３は搬送路途中に設けられた冷却ローラ対５９によりガイドプレート６１内に案内され、更に排出ローラ対６３から排出トレイ１６に排出される。
露光処理と熱現像処理を同時に行う、即ち、シート感材の一部分を露光しながら、すでに露光がなされたシートの一部分で現像が開始されるためには、露光処理を行う露光部と現像部の間の距離が０ｃｍ以上５０ｃｍ以下であることが好ましく、これにより露光・現像の一連の処理時間が極めて短くなる。この距離の好ましい範囲は、３ｃｍ以上４０ｃｍ以下であり、より好ましくは、５ｃｍ以上３０ｃｍ以下である。
ここで露光部とは、露光光源からの光が熱現像感光材料に照射される位置をいい、現像部とは、熱現像感光材料が熱現像を行うために初めて加熱される位置をいう。図２におけるＸが露光部であり、図１の５３から搬送された感光材料が５１ａのプレートに初めて接した所が現像部である。
なお、熱現像感光材料の熱現像部における搬送速度は２０〜２００ｍｍ／秒が好ましい範囲であり、より好ましくは２５〜２００ｍｍ／秒である。搬送速度をこの範囲とすることにより、熱現像時の濃度むらを改良でき、また処理時間が短縮できるため、緊急時の診断にも対応できて好ましい。
熱現像感光材料の現像条件は、使用する機器、装置、あるいは手段に依存して変化するが、典型的には適した高温において、像様に露光した熱現像感光材料を加熱することにより現像を行うものである。露光後に得られた潜像は、中程度の高温（約８０〜２００℃、好ましくは約１００〜１４０℃、より好ましくは１１０〜１３０℃）で、十分な時間（一般には約１秒〜２分間、好ましくは３〜３０秒、より好ましくは５〜２０秒である。）かけて熱現像される。
加熱温度が８０℃未満では短時間に十分な画像濃度が得られず、また２００℃を超えるとバインダーが溶融し、ローラーへの転写等画像そのものだけでなく、搬送性や現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩（酸化剤として機能する）と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の供給を一切行わないで進行する。また、熱現像後の画像濃度の最大値は３．８〜５．０であることが好ましく、３．９〜４．７であることがより好ましく、４．０〜４．５であることが最も好ましい。
（熱溶剤）
熱溶剤を使用することにより、感光材料を熱現像初期に高温に曝した際に、より迅速に現像反応が進み、更に熱現像処理安定性につながると考えられる。ここで、熱溶剤とは、熱溶剤含有熱現像感光材料に対して、熱溶剤を含まない熱現像感光材料に比べて熱現像温度を１℃以上低くすることができる素材と定義する。更に好ましくは２℃以上熱現像温度を低くできる素材であり、特に好ましくは３℃以上低くできる素材である。例えば、熱溶剤を含む熱現像感光材料Ａに対して、熱現像感光材料Ａから熱溶剤を含まない熱現像感光材料をＢとした時に、熱現像感光材料Ｂを露光し熱現像温度１２０℃、熱現像時間２０秒で処理して得られる濃度を、熱現像感光材料Ａで同一露光量、熱現像時間で得るための熱現像温度が１１９℃以下になる場合を熱溶剤とする。
熱溶剤を使用することにより、感光材料を熱現像初期に高温に曝した際に、より迅速に現像反応が進み、更に熱現像処理安定性につながると考えられる。ここで、熱溶剤とは、熱溶剤含有熱現像感光材料に対して、熱溶剤を含まない熱現像感光材料に比べて熱現像温度を１℃以上低くすることができる素材と定義する。更に好ましくは２℃以上熱現像温度を低くできる素材であり、特に好ましくは３℃以上低くできる素材である。例えば、熱溶剤を含む熱現像感光材料Ａに対して、熱現像感光材料Ａから熱溶剤を含まない熱現像感光材料をＢとした時に、熱現像感光材料Ｂを露光し熱現像温度１２０℃、熱現像時間２０秒で処理して得られる濃度を、熱現像感光材料Ａで同一露光量、熱現像時間で得るための熱現像温度が１１９℃以下になる場合を熱溶剤とする。
本発明に係る熱溶剤は極性基を置換基として有しており、式（１）で表されるのが好ましいが、これらに限定されるものではない。
式（１） （Ｙ）nＺ
式（１）において、Ｙはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｚはヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、リン酸アミド基、シアノ基、イミド、ウレイド、スルホキシド、スルホン、ホスフィン、ホスフィンオキシドまたは含窒素複素環基から選ばれる基を表す。ｎは１ないし３の整数を表し、Ｚが１価の基である場合には１、Ｚが２価以上の基である場合にはＺの価数と同一である。ｎが２以上の場合、複数のＹは同一であっても異なっていてもよい。Ｙは更に置換基を有していてもよく、置換基としてＺで表される基を有していてもよい。
式（１）において、Ｙはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｚはヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、リン酸アミド基、シアノ基、イミド、ウレイド、スルホキシド、スルホン、ホスフィン、ホスフィンオキシドまたは含窒素複素環基から選ばれる基を表す。ｎは１ないし３の整数を表し、Ｚが１価の基である場合には１、Ｚが２価以上の基である場合にはＺの価数と同一である。ｎが２以上の場合、複数のＹは同一であっても異なっていてもよい。Ｙは更に置換基を有していてもよく、置換基としてＺで表される基を有していてもよい。
Ｙについて更に詳しく説明する。式（１）において、Ｙは直鎖、分岐または環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは１〜３０、特に好ましくは１〜２５であり、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−オクチル、ｎ−アミル、ｔ−アミル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、オクタデシル、イコシル、ドコシル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは２〜３０、特に好ましくは２〜２５であり、例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは６〜３０、特に好ましくは６〜２５であり、例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、複素環基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えば、ピリジル、ピラジル、イミダゾイル、ピロリジルなどが挙げられる。）を表す。これらの置換基は更に他の置換基で置換されていてもよい。また、これらの置換基は互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｙは更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、クロル原子、臭素原子、またはヨウ素原子）、アルキル基（直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基、活性メチン基を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基（置換する位置は問わない）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アシルカルバモイル基、Ｎ−スルホニルカルバモイル基、Ｎ−カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、Ｎ−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基またはその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基（Ｃａｒｂｏｎｉｍｉｄｏｙｌ基）、ホルミル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル，アリール，またはヘテロ環）アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、Ｎ−（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、Ｎ−アシルウレイド基、Ｎ−アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基）、イソシアノ基、イミノ基、メルカプト基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）ジチオ基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基、Ｎ−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が挙げられる。なおここで活性メチン基とは２つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基を意味する。ここで２つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。また塩とはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンや、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンを意味する。これら置換基は、これら置換基で更に置換されていてもよい。Ｙは置換基としてＺで表される基を更に有していてもよい。
熱溶剤が本発明の効果を発現する理由としては、熱溶剤が現像温度付近で溶融することにより現像に関与する物質と相溶し、熱溶剤を添加しないときよりも低い温度での反応を可能としているためと考えられる。熱現像は、比較的極性の高いカルボン酸や銀イオン輸送体が関与している還元反応であるため、極性基を有している熱溶剤により適度の極性を有する反応場を形成することが好ましい。
本発明に係る熱溶剤の融点は５０℃以上２００℃以下であるが、好ましくは６０℃以上１５０℃以下である。特に、本発明の目的であるような、画像保存性などの外的環境に対しての安定性を重視した熱現像感光材料では、融点が１００℃以上１５０℃以下の熱溶剤が好ましい。
以下に、本発明に係る熱溶剤の具体例を示すが、本発明の内容はこれにより限定されるものではない。なお括弧内は融点を示している。
Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロソ−ｐ−トルエンスルホンアミド（６１℃）、１，８−オクタンジオール（６２℃）、安息香酸フェニル（６７〜７１℃）、ヒドロキノンジエチルエーテル（６７〜７３℃）、ε−カプロラクタム（６８〜７０℃）、りん酸ジフェニル（６８〜７０℃）、（±）−２−ヒドロキシオクタン酸（６８〜７１℃）、（±）−３−ヒドロキシドデカン酸（６８〜７１℃）、５−クロロ−２−メチルベンゾチアゾール（６８〜７１℃）、酢酸β−ナフチル（６８〜７１℃）、バチルアルコール（６８〜７３℃）、（±）−２−ヒドロキシデカン酸（６９〜７２℃）、２，２，２−トリフルオロアセトアミド（６９〜７２℃）、ピラゾール（６９℃）、（±）−２−ヒドロキシウンデカン酸（７０〜７３℃）、Ｎ，Ｎ−ジフェニルホルムアミド（７１〜７２℃）、ジベンジルジスルフィド（７１〜７２℃）、（±）−３−ヒドロキシウンデカン酸（７１〜７４℃）、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（７１℃）、２，４−ジニトロトルエン（７１℃）、２，４−ジメトキシベンズアルデヒド（７１℃）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール（７１℃）、２，６−ジクロロベンズアルデヒド（７１℃）、ジフェニルスルホキシド（７１℃）、ステアリン酸（７１℃）、２，５−ジメトキシニトロベンゼン（７２〜７３℃）、１，１０−デカンジオール（７２〜７４℃）、（Ｒ）−（−）−３−ヒドロキシテトラデカン酸（７２〜７５℃）、２−テトラデシルヘキサデカン酸（７２〜７５℃）、２−メトキシナフタレン（７２〜７５℃）、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸メチル（７２〜７６℃）、トリステアリン（７３．５℃）、ドトリアコンタン（７４〜７５℃）、フラバノン（７４〜７８℃）、２，５−ジフェニルオキサゾール（７４℃）、８−キノリノール（７４℃）、ｏ−クロロベンジルアルコール（７４℃）、オレイン酸アミド（７５〜７６℃）、（±）−２−ヒドロキシドデカン酸（７５〜７８℃）、ｎ−ヘキサトリアコンタン（７５〜７９℃）、イミノジアセトニトリル（７５〜７９℃）、ｐ−クロロベンジルアルコール（７５℃）、フタル酸ジフェニル（７５℃）、Ｎ−メチルベンズアミド（７６〜７８℃）、（±）−２−ヒドロキシトリデカン酸（７６〜７９℃）、１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオン（７６〜７９℃）、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミド（７６〜７９℃）、３′−ニトロアセトフェノン（７６〜８０℃）、４−フェニルシクロヘキサノン（７６〜８０℃）、エイコサン酸（７６℃）、４−クロロベンゾフェノン（７７〜７８℃）、（±）−３−ヒドロキシテトラデカン酸（７７〜８０℃）、２−ヘキサデシルオクタデカン酸（７７〜８０℃）、酢酸ｐ−ニトロフェニル（７７〜８０℃）、４′−ニトロアセトフェノン（７７〜８１℃）、１２−ヒドロキシステアリン酸（７７℃）、α，α′−ジブロモ−ｍ−キシレン（７７℃）、９−メチルアントラセン（７８〜８１℃）、１，４−シクロヘキサンジオン（７８℃）、ｍ−ジエチルアミノフェノール（７８℃）、ｍ−ニトロ安息香酸メチル（７８℃）、（±）−２−ヒドロキシテトラデカン酸（７９〜８２℃）、１−（フェニルスルホニル）インドール（７９℃）、ジ−ｐ−トリルメタン（７９℃）、プロピオンアミド（７９℃）、（±）−３−ヒドロキシトリデカン酸（８０〜８３℃）、グアヤコールグリセリンエーテル（８０〜８５℃）、オクタノイル−Ｎ−メチルグルカミド（８０〜９０℃）、ｏ−フルオロアセトアニリド（８０℃）、アセトアセトアニリド（８０℃）、ドコサン酸（８１〜８２℃）、ｐ−ブロモベンゾフェノン（８１℃）、トリフェニルホスフィン（８１℃）、ジベンゾフラン（８２．８℃）、（±）−２−ヒドロキシペンタデカン酸（８２〜８５℃）、２−オクタデシルエイコサン酸（８２〜８５℃）、１，１２−ドデカンジオール（８２℃）、３，４，５−トリメトキシ安息香酸メチル（８３℃）、ｐ−クロロニトロベンゼン（８３℃）、（±）−３−ヒドロキシヘキサデカン酸（８４〜８５℃）、ｏ−ヒドロキシベンジルアルコール（８４〜８６℃）、１−トリアコンタノール（８４〜８８℃）、ｏ−アミノベンジルアルコール（８４℃）、酢酸４−メトキシベンジル（８４℃）、（±）−２−ヒドロキシヘキサデカン酸（８５〜８８℃）、ｍ−ジメチルアミノフェノール（８５℃）、ｐ−ジブロモベンゼン（８６〜８７℃）、２，５−ジヒドロキシ安息香酸メチル（８６〜８８℃）、（±）−３−ヒドロキシペンタデカン酸（８６〜８９℃）、４−ベンジルビフェニル（８６℃）、ｐ−フルオロフェニル酢酸（８６℃）、１，１４−テトラデカンジオール（８７〜８９℃）、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール（８７〜９０℃）、ｐ−ペンチル安息香酸（８７〜９１℃）、酢酸α−（トリクロロメチル）ベンジル（８８〜８９℃）、４，４′−ジメチルベンゾイン（８８℃）、炭酸ジフェニル（８８℃）、ｍ−ジニトロベンゼン（８９．５７℃）、（３Ｒ，５Ｒ）−（＋）−２，６−ジメチル−３，５−ヘプタンジオール（９０〜９３℃）、（３Ｓ，５Ｓ）−（−）−２，６−ジメチル−３，５−ヘプタンジオール（９０〜９３℃）、シクロヘキサノンオキシム（９０℃）、ｐ−ブロモヨードベンゼン（９１〜９２℃）、４，４′−ジメチルベンゾフェノン（９２〜９５℃）、トリフェニルメタン（９２〜９５℃）、ステアリン酸アニリド（９２〜９６℃）、ｐ−ヒドロキシフェニルエタノール（９２℃）、モノエチル尿素，（９２℃）、アセナフチレン（９３．５〜９４．５℃）、ｍ−ヒドロキシアセトフェノン（９３〜９７℃）、キシリトール（９３〜９７℃）、ｐ−ヨードフェノール（９３℃）、ｐ−ニトロ安息香酸メチル（９４〜９８℃）、ｐ−ニトロベンジルアルコール（９４℃）、１，２，４−トリアセトキシベンゼン（９５〜１００℃）、３−アセチルベンゾニトリル（９５〜１０３℃）、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル（９５〜９７℃）、１６−ヒドロキシヘキサデカン酸（９５〜９９℃）、Ｄ（−）−リボース（９５℃）、ｏ−ベンゾイル安息香酸（９５℃）、α，α′−ジブロモ−ｏ−キシレン（９５℃）、ベンジル（９５℃）、ヨードアセトアミド（９５℃）、ｐ−ヒドロキシ安息香酸ｎ−プロピル（９６〜９７℃）、ｐ−ヒドロキシ安息香酸ｎ−プロピル（９６〜９７℃）、フラボン（９６〜９７℃）、２−デオキシ−Ｄ−リボース（９６〜９８℃）、没食子酸ラウリル（９６〜９９℃）、１−ナフトール（９６℃）、２，７−ジメチルナフタレン（９６℃）、２−クロロフェニル酢酸（９６℃）、アセナフテン（９６℃）、テレフタル酸ジベンジル（９６℃）、フマロニトリル（９６℃）、４′−アミノ−２′，５′−ジエトキシベンズアニリド（９７〜１００℃）、フェノキシ酢酸（９７〜１００℃）、２，５−ジメチル−３−ヘキシン−２，５−ジオール（９７℃）、Ｄ−ソルビトール（９７℃）、ｍ−アミノベンジルアルコール（９７℃）、アセトアミドマロン酸ジエチル（９７℃）、１，１０−フェナントロリン一水和物（９８〜１００℃）、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４′−メチルベンゾフェノン（９８〜１００℃）、２−ブロモ−４′−クロロアセトフェノン（９８℃）、メチル尿素（９８℃）、４−フェノキシフタロニトリル（９９〜１００℃）、ｏ−メトキシ安息香酸（９９〜１００℃）、ｐ−ブチル安息香酸（９９〜１００℃）、キサンテン（９９〜１００℃）、ペンタフルオロ安息香酸（９９〜１０１℃）、フェナントレン（９９℃）、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（１００．４℃）、９−フルオレニルメタノール（１００〜１０１℃）、１，３−ジメチル尿素（１００〜１０２℃）、４−アセトキシインドール（１００〜１０２℃）、１，３−シクロヘキサンジオン（１００℃）、ステアリン酸アミド（１００℃）、トリ−ｍ−トリルホスフィン（１００℃）、４−ビフェニルメタノール（１０１〜１０２℃）、１，４−シクロヘキサンジオール（ｃｉｓ、ｔｒａｎｓ−混合物）（１０１℃）、α，α′−ジクロロ−ｐ−キシレン（１０１℃）、２−ｔ−ブチルアントラキノン（１０２℃）、フマル酸ジメチル（１０２℃）、３，３−ジメチルグルタル酸（１０３〜１０４℃）、２−ヒドロキシ−３−メチル−２−シクロペンテン−１−オン（１０３℃）、４−クロロ−３−ニトロアニリン（１０３℃）、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアセトアミド（１０３℃）、３（２）−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール（１０４〜１０５℃）、４，４′−ジメチルベンジル（１０４〜１０５℃）、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−２，２′，２″−ニトリロトリエタノール（１０４℃）、ｍ−トリフルオロメチル安息香酸（１０４℃）、３−ペンタノール（１０５〜１０８℃）、２−メチル−１，４−ナフトキノン（１０５℃）、α，α，α′，α′−テトラブロモ−ｍ−キシレン（１０５℃）、４−クロロフェニル酢酸（１０６℃）、４，４′−ジフルオロベンゾフェノン（１０７．５〜１０８．５℃）、２，４−ジクロロ−１−ナフトール（１０７〜１０８℃）、Ｌ−アスコルビン酸パルミチン酸エステル（１０７〜１１７℃）、２，４−ジメトキシ安息香酸（１０８〜１０９℃）、ｏ−トリフルオロメチル安息香酸（１０８〜１０９℃）、ｐ−ヒドロキシアセトフェノン（１０９℃）、ジメチルスルホン（１０９℃）、２，６−ジメチルナフタレン（１１０〜１１１℃）、２，３，５，６−テトラメチル−１，４−ベンゾキノン（１１０℃）、トリデカン二酸（１１０℃）、トリフェニルクロロメタン（１１０℃）、フルオランテン（１１０℃）、ラウリンアミド（１１０℃）、１，４−ベンゾキノン（１１１℃）、３−ベンジルインドール（１１１℃）、レゾルシノール（１１１℃）、１ーブロモブタン（１１２．３℃）、２，２−ビス（ブロモメチル）−１，３−プロパンジオール（１１２〜１１４℃）、ｐ−エチル安息香酸（１１３．５℃）、１，４−ジアセトキシ−２−メチルナフタレン（１１３℃）、１−エチル−２，３−ピペラジンジオン（１１３℃）、４−メチル−２−ニトロアニリン（１１３℃）、Ｌ−アスコルビン酸二パルミチン酸エステル（１１３℃）、ｏ−フェノキシ安息香酸（１１３℃）、ｐ−ニトロフェノール（１１３℃）、メチル（ジフェニル）ホスフィン・オキシド（１１３℃）、酢酸コレステロール（１１４〜１１５℃）、２，６−ジメチル安息香酸（１１４〜１１６℃）、３−ニトロベンゾニトリル（１１４℃）、ｍ−ニトロアニリン（１１４℃）、エチルα−Ｄ−グルコシド（１１４℃）、アセトアニリド（１１５〜１１６℃）、（±）−２−フェノキシプロピオン酸（１１５℃）、４−クロロ−１−ナフトール（１１６〜１１７℃）、ｐ−ニトロフェニルアセトニトリル（１１６〜１１７℃）、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチル（１１６℃）、ｐ−イソプロピル安息香酸（１１７〜１１８℃）、Ｄ（＋）−ガラクトース（１１８〜１２０℃）、ｏ−ジニトロベンゼン（１１８℃）、ｐ−ベンジルオキシ安息香酸ベンジル（１１８℃）、１，３，５−トリブロモベンゼン（１１９℃）、２，３−ジメトキシ安息香酸（１２０〜１２２℃）、４−クロロ−２−メチルフェノキシ酢酸（１２０℃）、ｍｅｓｏ−エリトリトール（１２１．５℃）、９，１０−ジメチル−１，２−ベンズアントラセン（１２２〜１２３℃）、２−ナフトール（１２２℃）、Ｎ−フェニルグリシン（１２２℃）、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）スルフィド（１２２℃）、ｐ−ヒドロキシベンジルアルコール（１２４．５〜１２５．５℃）、２′，４′−ジヒドロキシ−３′−プロピルアセトフェノン（１２４〜１２７℃）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（１２４℃）、ｍ−フルオロ安息香酸（１２４℃）、ジフェニルスルホン（１２４℃）、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピオン酸（１２５℃）、３，４，５−トリメトキシけい皮酸（１２５℃）、ｏ−フルオロ安息香酸（１２６．５℃）、イソニトロソアセトフェノン（１２６〜１２８℃）、５−メチル−１，３−シクロヘキサンジオン（１２６℃）、４−ベンゾイル酪酸（１２７℃）、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチル（１２７℃）、ｐ−ブロモニトロベンゼン（１２７℃）、３，４−ジヒドロ
キシフェニル酢酸（１２８〜１３０℃）、５α−コレスタン−３−オン（１２８〜１３０℃）、６−ブロモ−２−ナフトール（１２８℃）、イソブチルアミド（１２８℃）、１−ナフチル酢酸（１２９℃）、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（１２９℃）、ｐ−ジヨードベンゼン（１２９℃）、ドデカン二酸（１２９℃）、４，４′−ジメトキシベンジル（１３１〜１３３℃）、ジメチロール尿素（１３２．５℃）、ｏ−エトキシベンズアミド（１３２〜１３４℃）、セバシン酸（１３２℃）、ｐ−トルエンスルホンアミド（１３４℃）、サリチルアニリド（１３５℃）、β−シトステロール（１３６〜１３７℃）、１，２，４，５−テトラクロロベンゼン（１３６℃）、１，３−ビス（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）ベンゼン（１３７℃）、フタロニトリル（１３８℃）、４−ｎ−プロピル安息香酸（１３９℃）、２，４−ジクロロフェノキシ酢酸（１４０．５℃）、２−ナフチル酢酸（１４０℃）、テレフタル酸メチル（１４０℃）、２，２−ジメチルこはく酸（１４１℃）、２，６−ジクロロベンゾニトリル（１４２．５〜１４３．５℃）、ｏ−クロロ安息香酸（１４２℃）、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（１４３〜１４４℃）、α，α，α−トリブロモメチルフェニルスルホン（１４３℃）、Ｄ（＋）−キシロース（１４４〜１４５℃）、フェニル尿素（１４６℃）、没食子酸ｎ−プロピル（１４６℃）、４，４’−ジクロロベンゾフェノン（１４７〜１４８℃）、２′，４′−ジヒドロキシアセトフェノン（１４７℃）、コレステロール（１４８．５℃）、２−メチル−１−ペンタノール（１４８℃）、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン（１４８℃）、ジグリコール酸（１４８℃）、アジピン酸（１４９〜１５０℃）、２−デオキシ−Ｄ−グルコース（１４９℃）、ジフェニル酢酸（１４９℃）、ｏ−ブロモ安息香酸（１５０℃）。その他に米国特許出願公開第２００２／００２５４９８号明細書の「００２７」に記載の化合物、ＭＦ−１〜ＭＦ−３、ＭＦ６、ＭＦ−７、ＭＦ−９〜ＭＦ−１２、ＭＦ−１５〜ＭＦ−２２を挙げることができる。
キシフェニル酢酸（１２８〜１３０℃）、５α−コレスタン−３−オン（１２８〜１３０℃）、６−ブロモ−２−ナフトール（１２８℃）、イソブチルアミド（１２８℃）、１−ナフチル酢酸（１２９℃）、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（１２９℃）、ｐ−ジヨードベンゼン（１２９℃）、ドデカン二酸（１２９℃）、４，４′−ジメトキシベンジル（１３１〜１３３℃）、ジメチロール尿素（１３２．５℃）、ｏ−エトキシベンズアミド（１３２〜１３４℃）、セバシン酸（１３２℃）、ｐ−トルエンスルホンアミド（１３４℃）、サリチルアニリド（１３５℃）、β−シトステロール（１３６〜１３７℃）、１，２，４，５−テトラクロロベンゼン（１３６℃）、１，３−ビス（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）ベンゼン（１３７℃）、フタロニトリル（１３８℃）、４−ｎ−プロピル安息香酸（１３９℃）、２，４−ジクロロフェノキシ酢酸（１４０．５℃）、２−ナフチル酢酸（１４０℃）、テレフタル酸メチル（１４０℃）、２，２−ジメチルこはく酸（１４１℃）、２，６−ジクロロベンゾニトリル（１４２．５〜１４３．５℃）、ｏ−クロロ安息香酸（１４２℃）、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（１４３〜１４４℃）、α，α，α−トリブロモメチルフェニルスルホン（１４３℃）、Ｄ（＋）−キシロース（１４４〜１４５℃）、フェニル尿素（１４６℃）、没食子酸ｎ−プロピル（１４６℃）、４，４’−ジクロロベンゾフェノン（１４７〜１４８℃）、２′，４′−ジヒドロキシアセトフェノン（１４７℃）、コレステロール（１４８．５℃）、２−メチル−１−ペンタノール（１４８℃）、４，４′−ジクロロジフェニルスルホン（１４８℃）、ジグリコール酸（１４８℃）、アジピン酸（１４９〜１５０℃）、２−デオキシ−Ｄ−グルコース（１４９℃）、ジフェニル酢酸（１４９℃）、ｏ−ブロモ安息香酸（１５０℃）。その他に米国特許出願公開第２００２／００２５４９８号明細書の「００２７」に記載の化合物、ＭＦ−１〜ＭＦ−３、ＭＦ６、ＭＦ−７、ＭＦ−９〜ＭＦ−１２、ＭＦ−１５〜ＭＦ−２２を挙げることができる。
本発明において熱溶剤の添加量は０．０１〜５．０ｇ／ｍ2であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜２．５ｇ／ｍ2で、更に好ましくは０．１〜１．５ｇ／ｍ2である。熱溶剤は画像形成層に含有させることが好ましい。また、上記熱溶剤は単独で用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明において熱溶剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。
よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。
また、固体微粒子分散法としては、熱溶剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラーミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作成する方法が挙げられる。なお、その際に保護コロイド（例えば、ポリビニルアルコール）、界面活性剤（例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム（３つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物）などのアニオン性界面活性剤）を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するＺｒ等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は１〜１０００ｐｐｍの範囲である。感光材料中のＺｒの含有量が銀１ｇ当たり０．５ｍｇ以下であれば実用上差し支えない。
水分散物には防腐剤（例えば、ベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩）を含有させることが好ましい。また、本発明においては熱溶剤は固体分散物として使用することが好ましい。
（画保改良剤内包マイクロカプセル）
以下、本発明に係る画保改良剤内包マイクロカプセルについて詳細に説明する。
以下、本発明に係る画保改良剤内包マイクロカプセルについて詳細に説明する。
皮膜形成性のあるポリオレフィンワックスは、例えば、クラリアント社製ポリオレフィンワックスＰＰ１３０２、ＰＰ１５０２、ＰＰ１６０２、ＰＥ２３０１、三井化学社製ハイワックス１１０Ｐ、４２０Ｐ、２１０Ｐ、２２０Ｐ、３２０Ｐ、４１０Ｐ、７２０Ｐ、４２０２Ｅ、東邦化学社製ポリエチレンラテックスＳ３１２１、Ｓ６２５４Ｂ、Ｓ９２５４、Ｓ３１２３、Ｓ３１２７、Ｓ７０２４、Ｓ６２１１、Ｓ８５１２、Ｓ３１４８等を挙げられる。高速で熱応答するためのマイクロカプセルの壁材として用いるポリオレフィンワックスの融点としては５０〜１５０℃が好ましく、更に好ましくは保存安定性と放出性の観点から７０〜１００℃である。耐溶剤性の指針として求めたＭＥＫに対する溶解性は、１００μｍの薄膜を作製してＭＥＫに２４時間放置した後の質量変化から求めた値で５％以下が好ましく、更に好ましくは１％以下である。カプセルの光学特性、皮膜形成性の指針としてヘーズが重要であり、壁材の膜厚１００μｍにおいて２０以下が好ましい。ヘーズについては種々の測定機が市販されており利用できるが、本発明の実施例では下記装置で測定した。東京電色株式会社製ＭＯＤＥＬ Ｔ−２６００ＤＡ濁度計（積分球光電散乱光度計）。
本発明に係るカプセルは現像時の加熱で８０℃から２５０℃の熱で内包物を放出できるが、圧力を併用することで更に高速に放出できる現像時に加える圧力としては、一般的な圧力破壊カプセルに比較すると微量でよく、０．０１〜１Ｍｐａで充分な効果が得られる。
（カプセルの作製方法）
本発明に係るカプセルは、感光材料の生フィルム保存性、現像性、画像保存性に影響を及ぼす化合物をカプセル化により安定に含有することを目的としているため、表面が実質的にポリオレフィンワックスで覆われることにより各種性能を発現できる。従って芯（コア）と表面皮膜（シェル）を有するコアシェル構造を取る必要がある。
本発明に係るカプセルは、感光材料の生フィルム保存性、現像性、画像保存性に影響を及ぼす化合物をカプセル化により安定に含有することを目的としているため、表面が実質的にポリオレフィンワックスで覆われることにより各種性能を発現できる。従って芯（コア）と表面皮膜（シェル）を有するコアシェル構造を取る必要がある。
その作製方法としては、本発明に係る化合物を含有するコアを形成した後、ポリオレフィンワックスシェルを設ける方法と、コア及びシェルを同時に設ける方法が挙げられる。
（ａ）コア作製後にシェルを設ける方法
コアは、目的とする化合物単体に低分子または高分子分散剤を加え必要に応じて溶剤を用いて、種々の分散機（例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテーターミル、ヘンシェルミキサー、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、ジェットミル、オングミル、高速撹拌機、メディア分散機等）を用いて水、または溶剤中で乳化、分散することができる。その他ポリマーを用いる方法もある。例えば、化合物とポリマーを混練して分散剤の存在下、水、または溶剤中で分散しコア粒子を作製する方法、化合物とポリマー化合物を可溶な有機溶媒に溶解した後に、分散剤とともに水、または溶剤中で分散させることができる。有機溶剤を使用する場合は、通常更に常圧、または減圧で溶剤を除去する工程が加わる（液中乾燥法）。
コアは、目的とする化合物単体に低分子または高分子分散剤を加え必要に応じて溶剤を用いて、種々の分散機（例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテーターミル、ヘンシェルミキサー、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、ジェットミル、オングミル、高速撹拌機、メディア分散機等）を用いて水、または溶剤中で乳化、分散することができる。その他ポリマーを用いる方法もある。例えば、化合物とポリマーを混練して分散剤の存在下、水、または溶剤中で分散しコア粒子を作製する方法、化合物とポリマー化合物を可溶な有機溶媒に溶解した後に、分散剤とともに水、または溶剤中で分散させることができる。有機溶剤を使用する場合は、通常更に常圧、または減圧で溶剤を除去する工程が加わる（液中乾燥法）。
以上のようにして得られたコア粒子分散物にシェルを分散物として混合しコア表面にシェル粒子を沈積する方法が一般的である。シェルを沈積する方法として電解質、特に２価のＭｇ++、Ｃａ++（例えば、塩化マグネシウム、塩化カルシウム等）を添加する方法。酸を添加する方法（塩酸、酢酸、クエン酸等）、温度を上げる方法、遠心分離で遠心力をかける方法等の分散性を劣化させる方法により促進でき、攪拌も重要な制御因子である。この方法では皮膜としての性能を向上するために沈積後に融点以上に加熱する方が好ましい。また、スプレードライヤー、減圧乾燥機等で加熱しながら分散体の水または溶剤を除去することにより、コア表面にシェル沈積、皮膜形成を同時に行う方法も可能である。その他、シェルの供給を融解液で行い、分散混合液の温度を下げることでコア表面にシェル皮膜形成する方法も可能である。
（ｂ）コアとシェルを同時に設ける方法
内包すべき化合物を、シェルとなるポリオレフィンワックスと加熱混合して溶解し、水または溶剤中で攪拌下冷却時にコアシェル構造を形成する方法がある。この方法では必要に応じて溶剤を用いることでコアシェルの構造をより明確にすることも可能である。有機溶剤は、更に常圧、または減圧で溶剤を除去するのが一般的であるが、高沸点溶剤の場合は安定性のために除去しない場合もある。得られた分散体は前記の様な方法で粉体にすることも可能である。
内包すべき化合物を、シェルとなるポリオレフィンワックスと加熱混合して溶解し、水または溶剤中で攪拌下冷却時にコアシェル構造を形成する方法がある。この方法では必要に応じて溶剤を用いることでコアシェルの構造をより明確にすることも可能である。有機溶剤は、更に常圧、または減圧で溶剤を除去するのが一般的であるが、高沸点溶剤の場合は安定性のために除去しない場合もある。得られた分散体は前記の様な方法で粉体にすることも可能である。
化合物の粉体とポリオレフィンワックスの粉体を特殊な固体分散機で粉砕混合（乾式混合）し、化合物表面にポリオレフィンワックスのシェルを付着させた後、ポリオレフィンワックスの融点以上にしてシェルの皮膜を完成させる方法も可能である
カプセルに内包される化合物は必要に応じて中性塩、錯塩等の塩形成を行い用いることも可能であるし、熱溶剤として低融点の化合物を混合することもできる。また同種、異種の複数の機能性化合物を同時に混合してコアとすることも分散安定性の観点、及び多機能カプセルとして有効である。
カプセルに内包される化合物は必要に応じて中性塩、錯塩等の塩形成を行い用いることも可能であるし、熱溶剤として低融点の化合物を混合することもできる。また同種、異種の複数の機能性化合物を同時に混合してコアとすることも分散安定性の観点、及び多機能カプセルとして有効である。
前記カプセルを分散体として得た場合、そのまま塗付液とすることもできるが、塗付溶剤を変更する場合は水、または溶剤を除去する必要があり、このためには前記スプレードライヤ、フリーズドライヤー、減圧乾燥機、加熱乾燥機等が必要となる。
（コア作製に用いるポリマー）
本発明ではコアに用いるポリマーとして、種々のものが使用可能であるが、好ましいポリマーとしては、主な官能基としてアセタール基を含有するポリマー、炭酸エステル基を含有するポリマー、水酸基を含有するポリマーおよびエステル基を有するポリマーなどであり、特にアセタール基を含有するポリマー、中でもポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール等が挙げられる。
本発明ではコアに用いるポリマーとして、種々のものが使用可能であるが、好ましいポリマーとしては、主な官能基としてアセタール基を含有するポリマー、炭酸エステル基を含有するポリマー、水酸基を含有するポリマーおよびエステル基を有するポリマーなどであり、特にアセタール基を含有するポリマー、中でもポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール等が挙げられる。
また、重合性エチレン性不飽和二重結合を有するビニルモノマーのラジカル重合によって得られたポリマーも好ましく用いられる。エチレン、プロピレン、ブタジエン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、スチレン、（メタ）アクリル酸エステル類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド類等のラジカル重合によって得られるポリマー、例えば、スチレン、アクリル酸メチル、或いはスチレンとアクリル酸エステルの共重合体ポリマー、例えば、スチレン／メタクリル酸エチルヘキシル、スチレン／メタクリル酸エチルヘキシル／ヒドロキシエチルアクリレート等の共重合体ポリマー等が例として挙げられる。また、ポリマーも同種同士であっても異種であってもよく、平均重合度の異なるものや分子量分布の異なるもの等を組み合わせてもよい。
（目的化合物とコアポリマーの比率）
化合物の性能を充分に出し、且つ安定に含浸するためには目的化合物とポリマーの比率は質量比で５／９５から９５／５まで任意の割合で混合できる。感光材料における性能から更に５０／５０以上が好ましい。本発明に係るカプセルを分散体として作製する場合、または感光材料作製時に水系、または溶剤系の分散液で塗付する場合に分散剤、または分散性のポリマーが必要になる。従ってカプセル内のコアまたはシェルを形成するポリマーの１部が分散性モノマーを有してもよい。
化合物の性能を充分に出し、且つ安定に含浸するためには目的化合物とポリマーの比率は質量比で５／９５から９５／５まで任意の割合で混合できる。感光材料における性能から更に５０／５０以上が好ましい。本発明に係るカプセルを分散体として作製する場合、または感光材料作製時に水系、または溶剤系の分散液で塗付する場合に分散剤、または分散性のポリマーが必要になる。従ってカプセル内のコアまたはシェルを形成するポリマーの１部が分散性モノマーを有してもよい。
（分散性のポリマー）
分散性のモノマーとしてはカルボン酸、スルホン酸などのアニオン性の解離性基を含有するモノマー、ポリエチレンオキシ鎖等を有する非イオン性分散性基含有型のモノマー、三級アミノ基などのカチオン性の解離性基を含有するモノマーが挙げられる。
分散性のモノマーとしてはカルボン酸、スルホン酸などのアニオン性の解離性基を含有するモノマー、ポリエチレンオキシ鎖等を有する非イオン性分散性基含有型のモノマー、三級アミノ基などのカチオン性の解離性基を含有するモノマーが挙げられる。
前記アニオン性の解離性基を有するモノマーとしては、例えば、カルボン酸モノマー、スルホン酸モノマー、リン酸モノマー等が挙げられる。
カルボン酸モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、クロトン酸、イタコン酸モノアルキルエステル（例えば、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノブチルなど）、マレイン酸モノアルキルエステル（例えば、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノブチルなど）などが挙げられる。
スルホン酸モノマーとしては、例えば、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸（例えば、アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン酸など）、メタクリロイルオキシアルキルスルホン酸（例えば、メタクリロイルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピルスルホン酸など）、アクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば、２−アクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルブタンスルホン酸など）、メタクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば、２−メタクルリアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−メタクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド−２−メチルブタンスルホン酸など）などが挙げられる。
リン酸モノマーとしては、例えば、ビニルホスホン酸、メタクリロイルオキシエチルホスホン酸などが挙げられる。
これらの中でも、アクリル酸、メタクリル酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリルアミドアルキルスルホン酸、メタクリルアミドアルキルスルホン酸が好ましく、更に好ましくは、アクリル酸、メタクリル酸、スチレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルブタンスルホン酸等が挙げられる。
また、非イオン性分散性基を含有するモノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルとカルボン酸モノマーとのエステル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルとスルホン酸モノマーとのエステル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルとリン酸モノマーとのエステル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルとイソシアネート基含有モノマーから形成されるビニル基含有ウレタン、ポリビニルアルコール構造を含有するマクロモノマーなどが挙げられる。前記ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルのエチレンオキシ部の繰り返し数としては、８〜５０が好ましく、１０〜３０がより好ましい。前記ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルのアルキル基の炭素原子数としては１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましい。
前記カチオン性の解離性基を有するモノマーとしては、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、あるいはジアルキルアミノエチルメタクリレート、ジアルキルアミノエチルアタクリレートなどの３級アミノ基を有するモノマーが挙げられる。
これらのモノマーは、前記ポリオレフィンワックスまたはコアポリマーと併用されてポリマーを形成することができる、配合はポリマーの目的（Ｔｇ調節、溶解性改良、分散物安定性等）に応じて適宜選択することができる。
（界面活性剤）
また、乳化剤、分散剤、表面張力調整剤としては特に制限されるものではないが、陽イオン性、陰イオン性、両性、非イオン性のいずれの界面活性剤も用いることができる。
また、乳化剤、分散剤、表面張力調整剤としては特に制限されるものではないが、陽イオン性、陰イオン性、両性、非イオン性のいずれの界面活性剤も用いることができる。
乳化剤或いは分散剤として、好ましくは陰イオン性界面活性剤または非イオン性が特によい。様々な条件を満足するために両方の活性剤を併用することも可能である。
陰イオン性界面活性剤としては、脂肪酸石鹸、Ｎ−アシル−Ｎ−メチルグリシン塩、Ｎ−アシル−Ｎ−メチル−β−アラニン塩、Ｎ−アシルグルタミン酸塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、アシル化ペプチド、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩（例えば、コハク酸ジエチルヘキシル−２−スルホン酸ナトリウム塩）、アルキルスルホ酢酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、Ｎ−アシルメチルタウリン、硫酸化油、高級アルコール硫酸エステル塩、第２級高級アルコール硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸塩、第２級高級アルコールエトキシサルフェート、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、モノグリサルフェート、脂肪酸アルキロールアミド硫酸エステル塩、アルキルエーテルリン酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩等が挙げられる。
両性界面活性剤としては、カルボキシベタイン型、スルホベタイン型、アミノカルボン酸塩、イミダゾリニウムベタイン等が挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン２級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル（例えば、エマルゲン９１１）、ポリオキシエチレンステロールエーテル、ポリオキシエチレンラノリン誘導体、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル（例えば、ニューポールＰＥ−６２）、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンヒマシ油、硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアミンオキサイド、アセチレングリコール、アセチレンアルコール等が挙げられる。その他に、界面活性剤としては、例えば、花王（株）製の分散剤デモールＳＮＢ、ＭＳ、Ｎ、ＳＳＬ、ＳＴ、Ｐ（商品名）も挙げられる。
陽イオン性界面活性剤としては、脂肪族アミン塩、脂肪族４級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、高分子界面活性剤として、以下の水溶性樹脂を用いることができる。水溶性樹脂として好ましく用いられるのは、スチレン−アクリル酸−アクリル酸アルキルエステル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−マレイン酸−アクリル酸アルキルエステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸アルキルエステル共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−マレイン酸ハーフエステル共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体等を挙げることができる。高分子界面活性剤の例として、その他にアクリル−スチレン系樹脂であるジョンクリル等（ジョンソン社）が挙げられる。これらの高分子界面活性剤は、２種以上併用することも可能である。
これらの界面活性剤を使用する場合、単独または２種類以上を混合して用いることができ、分散体に対して０．００１〜１．０質量％の範囲で添加することにより、分散液または塗付液の表面張力を任意に調整することができる。長期保存安定性を保つため、防腐剤、防黴剤を分散液、または塗付液に添加しても構わない。
（カプセル分散溶媒）
本発明に係るカプセルの分散に用いられる有機溶媒について説明する。目的とする化合物を溶解し水または有機溶剤中で分散性を付与する溶剤であれば特に制限はない。
本発明に係るカプセルの分散に用いられる有機溶媒について説明する。目的とする化合物を溶解し水または有機溶剤中で分散性を付与する溶剤であれば特に制限はない。
具体的には、アルコール類（例えば、ペンタノール、ヘプタノール、オクタノール、フェニルエチルアルコール、フェニルプロピルアルコール、フルフリルアルコール、アニルアルコール、セチルアルコール、オレイルアルコール、オクタデシルアルコール等）、エステル類（エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、酢酸フェニルエチル、酢酸フェノキシエチル、フェニル酢酸エチル、プロピオン酸ベンジル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、ラウリン酸ブチル、ミリスチン酸イソプロピル、リン酸トリエチル、リン酸トリブチル、リン酸トリ（２−エチルヘキシル）、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジウンデシル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジプロピル、ジエチルマロン酸ジエチル、コハク酸ジエチル、コハク酸ジブチル、グルタル酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、アジピン酸ジプロピル、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ジ（２−メトキシエチル）、セバシン酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジオクチル、ケイ皮酸−３−ヘキセニル、クエン酸トリブチル等）、エーテル類（例えば、ブチルフェニルエーテル、ベンジルエチルエーテル、ヘキシルエーテル等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ベンジルメチルケトン、ベンジルアセトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン等）、炭化水素類（例えば、石油エーテル、石油ベンジル、テトラリン、デカリン、ターシャリーアミルベンゼン、ジメチルナフタリン等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルドデカンアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチルドデカンアミド等）、芳香族類（例えば、トルエン、キシレン等）が挙げられる。前記溶剤は一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよく、水との混合溶剤であってもよい。
前記溶剤の使用量としては、カプセルの安定な分散を可能にし、且つ前記溶剤を除去するための脱溶媒と濃縮の工程の簡略化の観点から、前記樹脂１００質量部に対し、１０質量部〜２０００質量部が好ましく、１００質量部〜１０００質量部がより好ましい。
前記溶剤は高沸点溶剤の場合カプセル内に残留するが、低沸点の場合は通常水に分散させた後除去する。水に対する溶解度が１０質量％以下である場合、または溶剤の蒸気圧が水より大きい場合には、カプセルの安定性から除去されるのが好ましい。前記溶剤の除去は、常圧〜減圧条件において１０〜１００℃で行うことができ、常圧条件において４０〜１００℃、あるいは減圧条件下において１０〜５０℃で行うのが好ましい。
本発明に係るカプセル中に熱溶剤を加えることで熱応答性を更に高めることができる。例えば、天然ワックス（蜜ロウ、カルナウバワックス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油、鯨ロウ、カンデリラワックス、ラノリン、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等）、ポリエチレンワックス誘導体、塩素化炭化水素、有機酸（例えば、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、チグリン酸、２−アセトナフトンベヘン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、ジヒドロキシステアリン酸等）、有機酸エステル（例えば、上記した有機酸のグリセリン、ジエチレングリコール、エチレングリコール等のアルコールとのエステル等）、アルコール（例えば、ドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、エイコサノール、ドコサノール、テトラコサノール、ヘキサコサノール、オクタコサノール、ドデセノール、ミリシルアルコール、テトラセノール、ヘキサデセノール、エイコセノール、ドコセノール、ピネングリコール、ヒノキオール、ブチンジオール、ノナンジオール、イソフタリルアルコール、メシセリン、テレアフタリルアルコール、ヘキサンジオール、デカンジオール、ドデカンジオール、テトラデカンジオール、ヘキサデカンジオール、ドコサンジオール、テトラコサンジオール、テレビネオール、フェニルグリセリン、エイコサンジオール、オクタンジオール、フェニルプロピレングリコール、ビスフェノールＡ、パラアルファクミルフェノール等）、ケトン（例えば、ベンゾイルアセトン、ジアセトベンゼン、ベンゾフェノン、トリコサノン、ヘプタコサノン、ヘプタトリアコンタノン、ヘントリアコンタノン、ヘプタトリアコンタノン、ステアロン、ラウロン、ジアニソール等）、アミド（例えば、オレイン酸アミド、ラウリル酸アミド、ステアリン酸アミド、リシノール酸アミド、パルミチン酸アミド、テトラヒドロフラン酸アミド、エルカ酸アミド、ミリスチン酸アミド、１２−ヒドロキシステアリン酸アミド、Ｎ−ステアリルエルカ酸アミド、Ｎ−オレイルステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−エチレンビスラウリン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−エチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−エチレンビスオレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−メチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−エチレンビスベヘン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−キシリレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−ブチレンビスステアリン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−ジオレイルアジピン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−ジステアリルアジピン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−ジオレイルセバシン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−システアリルセバシン酸アミド、Ｎ，Ｎ′−ジステアリルテレフタル酸アミド、Ｎ，Ｎ′−ジステアリルイソフタル酸アミド、フェナセチン、トルアミド、アセトアミド、オレイン酸２量体／エチレンジアミン／ステアリン酸（１：２：２のモル比）のような２量体酸とジアミンと脂肪酸の反応生成物テトラアミド等）、スルホンアミド（例えば、パラトルエンスルホンアミド、エチルベンゼンスルホンアミド、ブチルベンゼンスルホンアミド等）、シリコーン類（例えば、シリコーンＳＨ６０１８（東レシリコーン）、シリコーンＫＲ２１５、２１６、２２０（信越シリコーン）等）、クマロン類（例えば、エスクロンＧ−９０（新日鐵化学）等）、コレステロール脂肪酸エステル（例えば、ステアリン酸コレステロール、パルミチン酸コレステロール、ミリスチン酸コレステロール、ベヘン酸コレステロール、ラウリン酸コレステロール、メリシン酸コレステロール等）、糖類脂肪酸エステル（ステアリン酸サッカロース、パルミチン酸サッカロース、ベヘン酸サッカロース、ラウリン酸サッカロース、メリシン酸サッカロース、ステアリン酸ラクトース、パルミチン酸ラクトース、ミリスチン酸ラクトース、ベヘン酸ラクトース、ラウリン酸ラクトース、メリシン酸ラクトース等）が挙げられる。
（カプセルの粒径）
本発明において、感光材料の光学特性を維持するためにカプセルの体積平均粒子径は、２０ｎｍ〜２μｍの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは１００〜５００ｎｍの範囲である。
本発明において、感光材料の光学特性を維持するためにカプセルの体積平均粒子径は、２０ｎｍ〜２μｍの範囲に調整することが好ましく、更に好ましくは１００〜５００ｎｍの範囲である。
（体積平均粒子径）
ここで、微粒子の体積平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真の投影面積（少なくとも１００粒子以上に対して求める）の平均値から得られた円換算平均粒径を、球形換算して求められる。体積平均粒子径とその標準偏差を求め、標準偏差を体積平均粒子径で割ることで変動係数を求められる。或いは、動的光散乱法を利用して変動係数を求めることもできる。例えば、大塚電子製レーザ粒径解析システムや、マルバーン社製ゼータサイザを用いて求めることができる。
ここで、微粒子の体積平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真の投影面積（少なくとも１００粒子以上に対して求める）の平均値から得られた円換算平均粒径を、球形換算して求められる。体積平均粒子径とその標準偏差を求め、標準偏差を体積平均粒子径で割ることで変動係数を求められる。或いは、動的光散乱法を利用して変動係数を求めることもできる。例えば、大塚電子製レーザ粒径解析システムや、マルバーン社製ゼータサイザを用いて求めることができる。
（粒子径の変動係数）
粒子径の変動係数は、粒子径の標準偏差を粒子径で割った値であるが、この値が大きいほど粒子径の分布が広いことを意味する。
粒子径の変動係数は、粒子径の標準偏差を粒子径で割った値であるが、この値が大きいほど粒子径の分布が広いことを意味する。
コアシェルの厚みの均一性を高め、粒子間の表面物性を均一化して粒子の凝集を低減させ、不用な光散乱を防止して画質の低下を抑制する効果を共に得る観点から、粒子径の変動係数は、８０％未満が好ましく、更に好ましくは５０％以下であり、特に好ましくは３０％以下である。
（コアシェル構造の評価方法）
着色微粒子が実際にコアシェル化されているかを評価することは重要である。本発明では後述するように、着色微粒子の個々の粒子径が２μｍ以下と非常に微小であるため、分析手法は分解能の観点から限られたものとなる。
着色微粒子が実際にコアシェル化されているかを評価することは重要である。本発明では後述するように、着色微粒子の個々の粒子径が２μｍ以下と非常に微小であるため、分析手法は分解能の観点から限られたものとなる。
このような目的に沿う分析手法としては、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）、ＳＴＥＭ（走査型透過電子顕 微）、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析）、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）などが適用できる。ＴＥＭによりコアシェル化した微粒子を観察する場合、カーボン支持膜上に分散液を塗布、乾燥させ観察することができる。ＴＥＭの観察像は、有機物である樹脂の種類のみではコントラスト差が小さい場合があるため、コアシェル化されているかどうかを評価するために、微粒子を４酸化オスミウム、４酸化ルテニウム、クロロスルホン酸／酢酸ウラニル、硫化銀等を用いて染色することが好ましい。コアを溶解し、且つシェルを溶解しない溶剤で内包物の流出量から被覆の程度を実技的に求める方法もある。
（画保改良剤）
画保改良剤とは具体的には酸性物質であり、ｐＫａが６．５以下の有機化合物、またはその塩を差す。これらの酸性物質は感光材料中にハロゲン化銀、有機銀塩と共存して保存すると減感、感光性の失活有機銀の難溶化による現像阻害を起こすが、現像、加熱時に放出することでプロトン供与性雰囲気を作り、現像剤、有機銀塩、ハロゲン化銀の安定化を促進したり、有機銀からかぶり現像サイトへの銀イオンの移動を制限するためと考えられる。
画保改良剤とは具体的には酸性物質であり、ｐＫａが６．５以下の有機化合物、またはその塩を差す。これらの酸性物質は感光材料中にハロゲン化銀、有機銀塩と共存して保存すると減感、感光性の失活有機銀の難溶化による現像阻害を起こすが、現像、加熱時に放出することでプロトン供与性雰囲気を作り、現像剤、有機銀塩、ハロゲン化銀の安定化を促進したり、有機銀からかぶり現像サイトへの銀イオンの移動を制限するためと考えられる。
画保改良剤の例としては、Ｐ−トルエンスルホン酸、Ｐ−トルエンスルフィン酸、Ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、マレイン酸、マロン酸、サリチル酸、フマル酸、酢酸ナトリウム、メタンスルホン酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウム、メルカプト酢酸、コハク酸、コハク酸ナトリウム、フタル酸、テトラクロロフタル酸、フェニルチオ酢酸、フェノキシ酢酸、ピロメリット酸、メルカプトイミダゾール、及びそのナトリウム塩、メルカプトトリアゾール（例えば、２−メルカプトトリアゾール）、メルカプトテトラゾール（例えば、１−フェニル−２−メルカプトテトラゾール、及びそのナトリウム塩）、チオスルホン酸、チオジプロピオン酸等を挙げることができる。
使用量としては、熱現像感光材料中に上記素材の質量として１．５ｇ／ｍ2以下であり、好ましくは０．０１〜０．５ｇ／ｍ2である。
（有機銀塩）
本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒（感光性ハロゲン化銀の潜像など）及び還元剤の存在下で、８０℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形成する銀塩である。このような非感光性の有機銀塩については、特開平１０−６２８９９号公報の段落「００４８」〜「００４９」、欧州特許出願公開第８０３，７６４Ａ１号明細書の第１８ページ第２４行〜第１９ページ第３７行、欧州特許出願公開第９６２，８１２Ａ１号明細書、特開平１１−３４９５９１号公報、特開２０００−７６８３号公報、同２０００−７２７１１号公報、同２００２−２３３０１号公報、同２００２−２３３０３号公報、同２００２−４９１１９号公報、同２００２−１９６４４６号公報、欧州特許出願公開第１，２４６，００１Ａ１号明細書、同１，２５８，７７５Ａ１号明細書、特開２００３−１４０２９０号公報、特開２００３−１９５４４５号公報、同２００３−２９５３７８号公報、同２００３−２９５３７９号公報、同２００３−２９５３８０号公報、同２００３−２９５３８１号公報等に記載されている。
本発明に用いることのできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒（感光性ハロゲン化銀の潜像など）及び還元剤の存在下で、８０℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形成する銀塩である。このような非感光性の有機銀塩については、特開平１０−６２８９９号公報の段落「００４８」〜「００４９」、欧州特許出願公開第８０３，７６４Ａ１号明細書の第１８ページ第２４行〜第１９ページ第３７行、欧州特許出願公開第９６２，８１２Ａ１号明細書、特開平１１−３４９５９１号公報、特開２０００−７６８３号公報、同２０００−７２７１１号公報、同２００２−２３３０１号公報、同２００２−２３３０３号公報、同２００２−４９１１９号公報、同２００２−１９６４４６号公報、欧州特許出願公開第１，２４６，００１Ａ１号明細書、同１，２５８，７７５Ａ１号明細書、特開２００３−１４０２９０号公報、特開２００３−１９５４４５号公報、同２００３−２９５３７８号公報、同２００３−２９５３７９号公報、同２００３−２９５３８０号公報、同２００３−２９５３８１号公報等に記載されている。
本発明においては、上記の有機銀塩と併用して、脂肪族カルボン酸の銀塩、特に（炭素数が１０〜３０、好ましくは１５〜２８の長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩を用いることができる。銀塩を生成するための脂肪族カルボン酸の分子量は好ましくは２００〜５００であり、より好ましくは２５０〜４００である。脂肪酸銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、およびこれらの混合物などを含む。
本発明においては、これら脂肪酸銀の中でも、ベヘン酸銀含有率が好ましくは５０モル％以上、より好ましくは８０モル％以上９９．９モル％以下、更に好ましくは９０モル％以上９９．９モル％以下の脂肪酸銀を用いることが好ましい。
上記以外の有機銀としては、コアシェル有機銀塩（特開２００２−２３３０３号公報）、多価カルボン酸の銀塩（欧州特許第１，２４６，００１号明細書、特開２００４−０６１９４８号公報）、ポリマー銀塩（特開２０００−２９２８８１号公報、特開２００３−２９５３７８〜同２００３−２９５３８１号公報）を用いることもできる。
本発明に用いることができる有機銀塩の形状としては、特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状いずれでもよい。本発明においては、りん片状の有機銀塩が好ましい。また、長軸と単軸の長さの比が５以下の短針状、直方体、立方体またはジャガイモ状の不定形粒子も好ましく用いられる。これらの有機銀塩粒子は、長軸と単軸の長さの比が５以上の長針状粒子に比べて熱現像時のかぶりが少ないという特徴を有している。本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からａ、ｂ、ｃとした（ｃはｂと同じであってもよい。）とき、短い方の数値ａ、ｂで計算し、次のようにしてｘを求める。
ｘ＝ｂ／ａ
このようにして２００個程度の粒子についてｘを求め、その平均値ｘ（平均）としたとき、ｘ（平均）≧１．５の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは３０≧ｘ（平均）≧１．５、より好ましくは２０≧ｘ（平均）≧２．０である。因みに針状とは１≦ｘ（平均）＜１．５である。りん片状粒子において、ａはｂとｃを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。ａの平均は０．０１μｍ以上、０．２３μｍが好ましく、０．１μｍ以上、０．２０μｍ以下がより好ましい。ｃ／ｂの平均は好ましくは１以上、６以下、より好ましくは１．０５以上、４以下、更に好ましくは１．１以上、３以下、特に好ましくは１．１以上、２以下である。
このようにして２００個程度の粒子についてｘを求め、その平均値ｘ（平均）としたとき、ｘ（平均）≧１．５の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは３０≧ｘ（平均）≧１．５、より好ましくは２０≧ｘ（平均）≧２．０である。因みに針状とは１≦ｘ（平均）＜１．５である。りん片状粒子において、ａはｂとｃを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。ａの平均は０．０１μｍ以上、０．２３μｍが好ましく、０．１μｍ以上、０．２０μｍ以下がより好ましい。ｃ／ｂの平均は好ましくは１以上、６以下、より好ましくは１．０５以上、４以下、更に好ましくは１．１以上、３以下、特に好ましくは１．１以上、２以下である。
有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の１００分率が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては、有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率（変動係数）が好ましくは１００％以下、より好ましくは８０％以下、更に好ましくは５０％以下である。測定方法としては、例えば、液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒子サイズ（体積加重平均直径）から求めることができる。
本発明に用いられる有機酸銀の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば、上記の特開平１０−６２８９９号公報、欧州特許出願公開第８０３，７６３Ａ１号明細書、同９６２，８１２Ａ１号明細書、特開２００１−１６７０２２号公報、同２０００−７６８３号公報、同２０００−７２７１１号公報、同２００１−１６３８８９号公報、同２００１−１６３８９０号公報、同２００１−１６３８２７号公報、同２００１−３３９０７号公報、同２００１−１８８３１３号公報、同２００１−８３６５２号公報、同２００２−６４４２号公報、同２００２−３１８７０号公報、同２００３−２８０１３５号公報等を参考にすることができる。
なお、有機銀塩の分散時に、感光性銀塩を共存させるとかぶりが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時には感光性銀塩を実質的に含まないことがより好ましい。本発明では、分散される水分散液中での感光性銀塩量は、その液中の有機酸銀塩１モルに対し１モル％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１モル％以下であり、更に好ましいのは積極的な感光性銀塩の添加を行わないものである。
本発明において有機銀塩水分散液と感光性銀塩水分散液を混合して感光材料を製造することが可能であるが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比率は目的に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性銀塩の割合は１〜３０モル％の範囲が好ましく、更に２〜２０モル％、特に３〜１５モル％の範囲が好ましい。混合する際に２種以上の有機銀塩水分散液と２種以上の感光性銀塩水分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。
本発明に係る有機銀塩は所望の量で使用できるが、銀量として０．１〜５ｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは０．３〜３ｇ／ｍ2、更に好ましくは０．５〜２ｇ／ｍ2である。
（感光性ハロゲン化銀）
本発明に係る感光性ハロゲン化銀（以下、感光性ハロゲン化銀粒子またはハロゲン化銀粒子ともいう）について説明する。なお、本発明に係る感光性ハロゲン化銀とは、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収し得て、または人為的に物理化学的な方法により可視光ないし赤外光を吸収し得て、且つ紫外光領域から赤外光領域の光波長範囲内のいずれかの領域の光を吸収した時に当該ハロゲン化銀結晶内及び／または結晶表面において物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子をいう。
本発明に係る感光性ハロゲン化銀（以下、感光性ハロゲン化銀粒子またはハロゲン化銀粒子ともいう）について説明する。なお、本発明に係る感光性ハロゲン化銀とは、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収し得て、または人為的に物理化学的な方法により可視光ないし赤外光を吸収し得て、且つ紫外光領域から赤外光領域の光波長範囲内のいずれかの領域の光を吸収した時に当該ハロゲン化銀結晶内及び／または結晶表面において物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子をいう。
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子自体は、公知の方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤（ハロゲン化銀乳剤ともいう）として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、また可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいずれを用いてもよいが、上記方法の中でも形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する、いわゆるコントロールドダブルジェット法が好ましい。
粒子形成は、通常ハロゲン化銀種粒子（核）生成と粒子成長の２段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、また核（種粒子）形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件であるｐＡｇ、ｐＨ等をコントロールして粒子形成を行うコントロールドダブルジェット法が粒子形状やサイズのコントロールができるので好ましい。例えば、核生成と粒子成長を分離して行う方法を行う場合には、先ず銀塩水溶液とハライド水溶液をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させ核（種粒子）生成（核生成工程）した後、コントロールされたｐＡｇ、ｐＨ等のもとで銀塩水溶液とハライド水溶液を供給しつつ粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、脱塩工程により不要な塩類等をヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等公知の脱塩法により除くことで所望のハロゲン化銀乳剤を得ることができる。
本発明において、ハロゲン化銀粒子の粒子サイズは単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる粒子サイズの変動係数が３０％以下をいう。好ましくは２０％以下であり、更に好ましくは１５％以下である。
粒子サイズの変動係数％＝（粒径の標準偏差／粒径の平均値）×１００
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、１４面体粒子、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、これらの中で特に立方体、八面体、１４面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、１４面体粒子、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、これらの中で特に立方体、八面体、１４面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は、好ましくは１．５以上、１００以下、より好ましくは２以上、５０以下である。これらについては米国特許第５，２６４，３３７号、同５，３１４，７９８号、同５，３２０，９５８号の各明細書に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更にハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。
ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖については特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への増感色素の吸着反応において、晶癖（面）選択性を有する増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔１００〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔１００〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが特に好ましい。なお、ミラー指数〔１００〕面の比率は増感色素の吸着における〔１１１〕面と〔１００〕面との吸着依存性を利用したＴ．Ｔａｎｉ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，２９，１６５（１９８５年）により求めることができる。
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に平均分子量５万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。
本発明において低分子量ゼラチンは、平均分子量５万以下のものが好ましく、より好ましくは２，０００〜４０，０００であり、特に好ましくは５，０００〜２５，０００である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均分子量１０万程度のゼラチン水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解したり、酸またはアルカリを加えて加熱し加水分解したり、大気圧下または加圧下での加熱により熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方法を併用したりして得ることができる。
核形成時の分散媒の濃度は５質量％以下が好ましく、０．０５〜３．０質量％の低濃度で行うのがより好ましい。
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に下記の一般式で表される化合物を用いることが好ましい。
ＹＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m（ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ）p（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＹ
式中、Ｙは水素原子、−ＳＯ3Ｍ、または−ＣＯ−Ｂ−ＣＯＯＭを表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または炭素原子数５以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を表し、Ｂは有機２塩基性酸を形成する鎖状または環状の基を表す。ｍ及びｎは各々０〜５０を表し、ｐは１〜１００を表す。
式中、Ｙは水素原子、−ＳＯ3Ｍ、または−ＣＯ−Ｂ−ＣＯＯＭを表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または炭素原子数５以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を表し、Ｂは有機２塩基性酸を形成する鎖状または環状の基を表す。ｍ及びｎは各々０〜５０を表し、ｐは１〜１００を表す。
上記の一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、ハロゲン化銀写真感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられてきたものであり、消泡剤として用いる技術は、例えば、特開昭４４−９４９７号公報に記載されている。上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は核形成時の消泡剤としても機能する。上記一般式で表される化合物は銀に対して１質量％以下で用いるのが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．１質量％で用いる。
上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は核形成時に存在していればよく、核形成前の分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくはハライド水溶液もしくは両方の水溶液に０．０１〜２．０質量％で添加して用いることである。また、上記一般式で表される化合物は核形成工程の少なくとも５０％に亘る時間で存在せしめるのが好ましく、更に好ましくは７０％以上に亘る時間で存在せしめる。上記一般式で表される化合物は粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶かして添加してもよい。
なお、核形成時の温度は通常５〜６０℃、好ましくは１５〜５０℃であり、一定の温度であっても、昇温パターン（例えば、核形成開始時の温度が２５℃で、核形成中徐々に温度を上げ、核形成終了時の温度が４０℃の様な場合）やその逆のパターンであっても前記温度範囲内で制御するのが好ましい。
核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水溶液の濃度は３．５モル／Ｌ以下が好ましく、更には０．０１〜２．５モル／Ｌの低濃度域で使用されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度は、反応液１Ｌ当たり１．５×１０-3〜３．０×１０-1モル／分が好ましく、更に好ましくは３．０×１０-3〜８．０×１０-2モル／分である。
核形成時のｐＨは通常１．７〜１０の範囲に設定できるが、アルカリ側のｐＨでは形成する核の粒径分布を広げてしまうので、好ましくはｐＨ２〜６である。また、核形成時のｐＢｒは通常０．０５〜３．０であり、好ましくは１．０〜２．５、より好ましくは１．５〜２．０である。
本発明において、ハロゲン化銀の平均粒子サイズは通常１０〜５０ｎｍ、好ましくは１０〜４０ｎｍであり、より好ましくは１０〜３５ｎｍである。ハロゲン化銀の平均粒子サイズが１０ｎｍより小さいと画像濃度が低下したり、光照射画像保存性が劣化したりすることがある。また、５０ｎｍを超えると画像濃度が低下してしまうことがある。
ここで言う平均粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体、あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを言う。また、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には、主表面の投影面積と同面積の円像に換算した時の直径を言う。その他、正常晶でない場合、例えば、球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えた時の直径を粒子サイズとして算出する。測定は電子顕微鏡を用いて行い、３００個の粒子サイズの測定値を平均することで平均粒子サイズを求めた。
また本発明においては、平均粒子サイズが５５〜１００ｎｍであるハロゲン化銀粒子と平均粒子サイズが１０〜５０ｎｍであるハロゲン化銀粒子とを併用することで、画像濃度を向上させたり、経時での画像濃度低下を改善（小さく）することができる。平均粒子サイズが１０〜５０ｎｍであるハロゲン化銀粒子と平均粒子サイズが５５〜１００ｎｍであるハロゲン化銀粒子との割合（質量比）は、９５：５〜５０：５０が好ましく、より好ましくは９０：１０〜６０：４０である。
本発明に用いられるハロゲン化銀粒子としては、沃化銀含有量が０．５モル％以上、５モル％以下であることが好ましいが、沃化銀含有量が５モル％以上１００モル％以下のハロゲン化銀粒子を用いてもよい。沃化銀含有率がこの範囲であれば、粒子内ハロゲン組成分布が、均一であっても、段階的に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。また、内部および／または表面に沃化銀含有率が高いコア／シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。構造として好ましいものは２〜５重構造であり、より好ましくは２〜４重構造のコア／シェル粒子である。ハロゲン化銀粒子に沃化銀を導入する方法としては、粒子形成中に沃化アルカリ水溶液を添加する方法、微粒子沃化銀、微粒子沃臭化銀、微粒子沃塩化銀、微粒子沃塩臭化銀のうち少なくとも一つの微粒子を添加する方法、特開平５−３２３４８７号公報および特開平６−１１７８０号公報記載の沃化物イオン放出剤を用いる方法などが好ましい。
（熱現像後内潜型ハロゲン化銀粒子）
本発明に係る感光性ハロゲン化銀は、熱現像によって表面潜像型から内部潜像型に変換することにより表面感度が低下するハロゲン化銀粒子であることが好ましい。即ち、熱現像前の露光では、現像反応（銀イオン還元剤による銀イオンの還元反応）の触媒として機能し得る潜像を該ハロゲン化銀粒子の表面に形成し、熱現像過程経過後の露光では該ハロゲン化銀粒子の表面より内部に多くの潜像を形成するようになるため、表面における潜像形成が抑制されるハロゲン化銀粒子であることを特徴とする。なお、このように熱現像処理前後で潜像形成機能が大幅に変化するハロゲン化銀粒子をドライイメージング材料に用いることは従来知られていなかった。
本発明に係る感光性ハロゲン化銀は、熱現像によって表面潜像型から内部潜像型に変換することにより表面感度が低下するハロゲン化銀粒子であることが好ましい。即ち、熱現像前の露光では、現像反応（銀イオン還元剤による銀イオンの還元反応）の触媒として機能し得る潜像を該ハロゲン化銀粒子の表面に形成し、熱現像過程経過後の露光では該ハロゲン化銀粒子の表面より内部に多くの潜像を形成するようになるため、表面における潜像形成が抑制されるハロゲン化銀粒子であることを特徴とする。なお、このように熱現像処理前後で潜像形成機能が大幅に変化するハロゲン化銀粒子をドライイメージング材料に用いることは従来知られていなかった。
一般に、感光性ハロゲン化銀粒子が露光されると、ハロゲン化銀粒子自身、または感光性ハロゲン化銀粒子表面上に吸着している分光増感色素が光励起されて、自由に移動できる電子を生じるが、この電子はハロゲン化銀粒子表面に存在する電子トラップ（感光中心）または当該粒子の内部にある電子トラップに競争的にトラップ（捕獲）される。従って、電子トラップとして有効な化学増感中心（化学増感核）やドーパント等がハロゲン化銀粒子内部より表面に多く、且つ適当数ある場合には表面に優先的に潜像が形成され、現像可能となる。逆に、電子トラップとして有効な化学増感中心（化学増感核）やドーパント等がハロゲン化銀粒子表面より内部に多く、且つ適当数ある場合には内部に優先的に潜像が形成され、表面現像が困難となる。換言すると、前者の場合は内部より表面の感度が高く、後者の場合は内部より表面の感度が低いと言える（参考文献：（１）Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ編”Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ”第４版、Ｍａｃｍｉｌｌａｎ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．１９７７、（２）日本写真学会編”改訂 写真工学の基礎（銀塩写真編）”、コロナ社、１９９８）。
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子においては、少なくとも熱現像後の露光時において、電子トラップ性ドーパントとして機能するドーパントをハロゲン化銀粒子の内部に含有させることが、感度及び画像保存性上好ましい。なお、熱現像前の画像形成のための露光の際には、正孔（ホール）トラップとして機能し、熱現像過程において変質し、熱現像後においては電子トラップとして機能することができるドーパントが、特に好ましい。
ここで用いられる電子トラップ性ドーパントとは、ハロゲン化銀粒子を構成する銀及びハロゲン以外の元素または化合物であって、当該ドーパント自身が自由電子をトラップ（捕獲）できる性質を有するまたは当該ドーパントがハロゲン化銀粒子内に含有されることで電子トラップ性の格子欠陥等の部位が生じるものをいう。例えば、銀以外の金属イオンまたはその塩若しくは錯体、硫黄、セレン、テルルのようなカルコゲン（酸素族元素）または窒素原子を含む無機化合物または有機化合物若しくはそれらの金属錯体、希土類イオンまたはその錯体等が挙げられる。
金属イオンまたはその塩若しくは錯体としては、鉛イオン、ビスマスイオン、金イオン等または臭化鉛、硝酸鉛、炭酸鉛、硫酸鉛、硝酸ビスマス、塩化ビスマス、三塩化ビスマス、炭酸ビスマス、ビスマス酸ナトリウム、塩化金酸、酢酸鉛、ステアリン酸鉛、酢酸ビスマス等を挙げることができる。
硫黄、セレン、テルルのようなカルコゲンを含む化合物としては、写真業界において、一般にカルコゲン増感剤として知られているカルコゲン放出性の種々の化合物を使用することができる。また、カルコゲンまたは窒素を含有する有機物としては、ヘテロ環式化合物が好ましい。例えば、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、インドレニン、テトラザインデンであり、好ましくはイミダゾール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、テトラザインデンである。
なお、上記のヘテロ環式化合物は置換基を有していてもよく、置換基として好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、更に好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基である。
なお、本発明に用いられるハロゲン化銀粒子には、上記のドーパントのように電子トラップ性ドーパントとして機能するように、或いはホールトラップ性ドーパントとして機能するように元素周期律表の６族から１１族に属する遷移金属のイオンを当該金属の酸化状態を配位子（リガンド）等により化学的に調整して含有させてもよい。上記の遷移金属としては、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔが好ましい。
本発明において、上記の各種ドーパントについては、１種類でも同種或いは異種の化合物若しくは錯体を２種以上併用してもよい。但し、少なくとも１種は、熱現後の露光の際に、電子トラップ性ドーパントとして機能することが必要である。これらのドーパントはどのような化学的形態でもハロゲン化銀粒子内に導入してもよい。なお、本発明においては、Ｉｒ、またはＣｕの錯体ないし塩のいずれか１種を単独で用いてドーピングする態様はあまり好ましくはない。ドーパントの好ましい含有率は、銀１モルに対し１×１０-9〜１×１０モルの範囲が好ましく、１×１０-8〜１×１０-1モルの範囲がより好ましい。更に、１×１０-6〜１×１０-2モルが好ましい。但し、最適量はドーパントの種類、ハロゲン化銀粒子の粒径、形状等、その他環境条件等に依存するのでこれらの条件に応じてドーパント添加条件の最適化の検討をすることが好ましい。
本発明においては、遷移金属錯体または錯体イオンとしては、下記一般式で表されるものが好ましい。
一般式〔ＭＬ6〕m
式中、Ｍは元素周期表の６〜１１族の元素から選ばれる遷移金属、Ｌは配位子を表し、ｍは０、−、２−、３−または４−を表す。Ｌで表される配位子の具体例としては、ハロゲンイオン（例えば、弗素イオン、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン）、シアナイド、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占めることが好ましい。Ｌは同一でもよく、また異なっていてもよい。
式中、Ｍは元素周期表の６〜１１族の元素から選ばれる遷移金属、Ｌは配位子を表し、ｍは０、−、２−、３−または４−を表す。Ｌで表される配位子の具体例としては、ハロゲンイオン（例えば、弗素イオン、塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン）、シアナイド、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つまたは二つを占めることが好ましい。Ｌは同一でもよく、また異なっていてもよい。
これらの金属のイオンまたは錯体イオンを提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特に、核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。添加に際しては、数回にわたって分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、例えば、特開昭６３−２９６０３号、特開平２−３０６２３６号、同３−１６７５４５号、同４−７６５３４号、同６−１１０１４６号、同５−２７３６８３号の各公報等に記載されている様に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。
これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒（例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類）に溶解して添加することができるが、例えば、金属化合物粉末の水溶液もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液または水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第３の水溶液として添加し、３液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオンまたは錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とＮａＣｌ、ＫＣｌとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加する時には、粒子形成直後、物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。
なお、非金属性ドーパントも上記の金属性ドーパントと同様の方法によってハロゲン化銀内部に導入することができる。
本発明に係る熱現像感光材料において、上記のドーパントが電子トラップ性を有するか否かについては、次のように、写真業界において従来一般的に用いられている方法で評価することができる。即ち、上記のドーパントまたはその分解物がハロゲン化銀粒子内にドープされたハロゲン化銀粒子からなるハロゲン化銀乳剤を、マイクロ波光伝導測定法等による光伝導測定によりドーパントを含有していないハロゲン化銀粒子乳剤を基準として光伝導の減少度を測定することにより評価できる。または、当該ハロゲン化銀粒子の内部感度と表面感度の比較実験によってもできる。
または、熱現像感光材料とした後に本発明に係る電子トラップ性ドーパントの効果を評価する場合の方法は、例えば、当該イメージング材料を露光前に通常の実用的熱現像条件と同じ条件で加熱して、その後に一定時間（例えば、３０秒間）、白色光または特定の分光増感領域の光（特定の波長域のレーザー光に対して分光増感を施した場合は、当該波長領域の光、例えば、赤外光に対して分光増感を施した場合には、赤外光）を光学楔を通して露光し、更に同一の熱現像条件で熱現像して得られる特性曲線（センシトメトリーカーブ）に基づき得られる感度を当該電子トラップ性ドーパントを含有していないハロゲン化銀粒子乳剤を使用したイメージング材料の感度と比較することにより評価できる。即ち、本発明に係るドーパントを含有するハロゲン化銀粒子乳剤を含む前者の試料の感度は、当該ドーパントを含まない後者の試料の感度に比較して低くなっていることの確認が必要である。
なお、当該材料に一定時間（例えば、３０秒間）、白色光または特定の分光増感領域の光（例えば、赤外光）を光学楔を通して露光をした後に、通常の熱現像条件で熱現像をしたときに得られる特性曲線に基づき得られる当該試料の感度に対して露光前に通常の熱現像条件と同じ条件で加熱して、その後に上記と同一の一定時間、及び一定の露光を施し、更に通常の熱現像条件で熱現像して得られる特性曲線に基づき得られる感度が１／１０以下、好ましくは１／２０以下、更にハロゲン化銀乳剤に化学増感を施した場合は、好ましくは１／５０以下の低感度であることが好ましい。
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子は、いかなる方法で感光性層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀粒子は還元可能な銀源（脂肪族カルボン酸銀塩）に近接するように配置するのが、高感度且つ高カバリングパワー（ＣＰ）のイメージング材料を得るためには、好ましい。
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子は予め調製しておき、これを脂肪族カルボン酸銀塩粒子を調製するための溶液に添加することが、ハロゲン化銀粒子調製工程と脂肪族カルボン酸銀塩粒子調製工程を分離して扱え、製造コントロール上も最も好ましいが、英国特許第１，４４７，４５４号明細書に記載されている様に、脂肪族カルボン酸銀塩粒子を調製する際に、ハライドイオン等のハロゲン成分を脂肪族カルボン酸銀塩形成成分と共存させ、これに銀イオンを注入することで、脂肪族カルボン酸銀塩粒子の生成とほぼ同時に生成させたハロゲン化銀粒子を併用することもできる。また、脂肪族カルボン酸銀塩にハロゲン含有化合物を作用させ、脂肪族カルボン酸銀塩のコンバージョンによりハロゲン化銀粒子を調製し、当該粒子を併用することも可能である。即ち、予め調製された脂肪族カルボン酸銀塩の溶液もしくは分散液、または脂肪族カルボン酸銀塩を含むシート材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、脂肪族カルボン酸銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
ハロゲン化銀粒子形成成分としては、無機ハロゲン化合物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、Ｎ−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、その具体例は、米国特許第４，００９，０３９号、同３，４５７，０７５号、同４，００３，７４９号、英国特許第１，４９８，９５６号の各明細書及び特開昭５３−２７０２７号、同５３−２５４２０号の各公報等に開示されている。
上述のように別途調製したハロゲン化銀粒子に脂肪族カルボン酸銀塩の一部をコンバージョンすることで製造したハロゲン化銀粒子を併用してもよい。
これらのハロゲン化銀粒子は、別途調製したハロゲン化銀粒子、脂肪族カルボン酸銀塩のコンバージョンによるハロゲン化銀粒子とも、脂肪族カルボン酸銀塩１モルに対し０．００１〜０．７モル、好ましくは０．０３〜０．５モルで使用するのが好ましい。
別途調製した感光性ハロゲン化銀粒子は、脱塩工程により不要な塩類等を、例えば、ヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等の公知の脱塩法により脱塩することができるが、脱塩しないで用いることもできる。
（化学増感）
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子には、化学増感を施すことができる。例えば、特開２００１−２４９４２８号公報及び特開２００１−２４９４２６号公報に記載されている方法等により、硫黄、セレン、テルル等のカルコゲンを放出する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物の利用により、感光性ハロゲン化銀粒子または当該粒子上の分光増感色素の光励起によって生じた電子または正孔（ホール）を捕獲することができる化学増感中心（化学増感核）を形成付与できる。特に、カルコゲン原子を含有する有機増感剤により化学増感されているのが好ましい。
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子には、化学増感を施すことができる。例えば、特開２００１−２４９４２８号公報及び特開２００１−２４９４２６号公報に記載されている方法等により、硫黄、セレン、テルル等のカルコゲンを放出する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物の利用により、感光性ハロゲン化銀粒子または当該粒子上の分光増感色素の光励起によって生じた電子または正孔（ホール）を捕獲することができる化学増感中心（化学増感核）を形成付与できる。特に、カルコゲン原子を含有する有機増感剤により化学増感されているのが好ましい。
これらカルコゲン原子を含有する有機増感剤は、ハロゲン化銀へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。
これらの有機増感剤としては、特開昭６０−１５００４６号、特開平４−１０９２４０号、同１１−２１８８７４号、同１１−２１８８７５号、同１１−２１８８７６号、同１１−１９４４４７号の各公報等に開示されている種々の構造を有する有機増感剤を用いることができるが、それらのうち、カルコゲン原子が炭素原子またはリン原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも１種であることが好ましい。特に、複素環基を有するチオ尿素誘導体及びトリフェニルホスフィンサルファイド誘導体等が好ましい。
化学増感を施す方法としては、従来の湿式処理用のハロゲン化銀感光材料の製造の際に慣用されている種々の化学増感技術に準じた技術が使用できる（参考文献：（１）Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ編”Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ”第４版、Ｍａｃｍｉｌｌａｎ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．１９７７、（２）日本写真学会編”写真工学の基礎（銀塩写真編）、コロナ社、１９７９）。特に、ハロゲン化銀粒子乳剤に予め化学増感を施し、その後に非感光性有機銀塩粒子と混合する場合には、従来の慣用方法により化学増感を施すことができる。
有機増感剤としてのカルコゲン化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などにより変わるが、ハロゲン化銀１モル当たり、１０-8〜１０-2モルが好ましく、より好ましくは１０-7〜１０-3モルを用いる。化学増感を施す際の環境条件としては、特に制限はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀または銀核を消滅或いはそれらの大きさを減少させ得る化合物の存在下において、また特に銀核を酸化しうる酸化剤の共存下において、カルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましい場合がある。この場合の増感条件は、ｐＡｇとしては６〜１１が好ましく、より好ましくは７〜１０であり、ｐＨは４〜１０が好ましく、より好ましくは５〜８、また温度としては３０℃以下で増感を施すことが好ましい。
また、これらの有機増感剤を用いた化学増感は、分光増感色素またはハロゲン化銀粒子に対して、吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀に吸着性を有する化合物の存在下化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低かぶりを達成できる。分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物とは、特開平３−２４５３７号公報に記載されている含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。含窒素複素環化合物において、複素環としては、例えば、ピラゾール環、ピリミジン環、１，２，４−トリアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，３−チアジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，２，５−チアジアゾール環、１，２，３，４−テトラゾール環、ピリダジン環、１，２，３−トリアジン環、これらの環が２〜３個結合した環、例えば、トリアゾロトリアゾール環、ジアザインデン環、トリアザインデン環、ペンタアザインデン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えば、フタラジン環、ベンズイミダゾール環、インダゾール環、ベンズチアゾール環なども適用できる。
これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、且つ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えば、ヒドロキシトリアザインデン、テトラヒドロキシアザインデン、ヒドロキシペンタアザインデン化合物等が更に好ましい。
複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。
これ含複素環化合物の添加量は、ハロゲン化銀粒子の大きさや組成その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、おおよその量はハロゲン化銀１モル当たりの量で１０-6〜１モルの範囲であり、好ましくは１０-4〜１０-1モルの範囲である。
本発明に係る感光性ハロゲン化銀には、金イオンなどの貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば、金増感剤として塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。なお、特開平１１−１９４４４７号公報に開示されている金増感技術が参考となる。
また、上記の増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物として、例えば、アスコルビン酸、２酸化チオ尿素、塩化第１スズ、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。また、乳剤のｐＨを７以上またはｐＡｇを８．３以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。
本発明において、化学増感を施されるハロゲン化銀粒子は、脂肪族カルボン酸銀塩の存在下で形成されたのでも、当該有機銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、また、両者が混合されたものでもよい。
本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に化学増感を施した場合においては、熱現像過程経過後に該化学増感の効果が実質的に消失することが必要である。ここで、化学増感の効果が実質的に消失するとは、前記の化学増感技術によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に化学増感を施していない場合の感度の１．１以下に減少することを言う。なお、化学増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、化学増感中心（化学増感核）を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば、前記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層または／及び非感光性層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、化学増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。
（分光増感）
本発明における感光性ハロゲン化銀には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば、特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４５号の各公報、米国特許第４，６３９，４１４号、同４，７４０，４５５号、同４，７４１，９６６号、同４，７５１，１７５号、同４，８３５，０９６号の各明細書に記載された増感色素が使用できる。
本発明における感光性ハロゲン化銀には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば、特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４５号の各公報、米国特許第４，６３９，４１４号、同４，７４０，４５５号、同４，７４１，９６６号、同４，７５１，１７５号、同４，８３５，０９６号の各明細書に記載された増感色素が使用できる。
本発明に使用される有用な増感色素は、例えば、リサーチ・ディスクロージャー（以下、ＲＤと略す）１７６４３IV−Ａ項（１９７８年１２月ｐ．２３）、ＲＤ１８４３１Ｘ項（１９７８年８月ｐ．４３７）に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に、各種レーザイメージャーやスキャナーの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平９−３４０７８号、同９−５４４０９号、同９−８０６７９号の各公報に記載の化合物が好ましく用いられる。
有用なシアニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核及びイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核及びピラゾロン核などの酸性核も含む。
本発明においては、特に赤外に分光感度を有する増感色素を用いることもできる。好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例えば、米国特許第４，５３６，４７３号、同４，５１５，８８８号、同４，９５９，２９４号の各明細書等に開示されている赤外分光増感色素が挙げられる。
本発明に係る熱現像感光材料においては、特願２００３−１０２７２６号明細書に記載されているような下記一般式（ＳＤ−１）で表される増感色素及び下記一般式（ＳＤ−２）で表される増感色素のうちから少なくとも１種を選び含有することが好ましい。
式中、Ｙ11及びＹ12は、各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、または−ＣＨ＝ＣＨ−基を表し、Ｌ1〜Ｌ9は各々、メチン基を表す。Ｒ11、Ｒ12は各々、脂肪族基を表す。Ｒ13、Ｒ14、Ｒ23及びＲ24は各々、低級アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。Ｗ11、Ｗ12、Ｗ13、Ｗ14は各々、水素原子、置換基、或いはＷ11とＷ12、Ｗ13とＷ14の間で結合して縮合環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。或いはＲ13とＷ11、Ｒ13とＷ12、Ｒ23とＷ11、Ｒ23とＷ12、Ｒ14とＷ13、Ｒ14とＷ14、Ｒ24とＷ13、Ｒ24とＷ14の間で結合して５員、６員の縮合環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｘ11は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、ｋ１１は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。ｍ１１は０又は１を表す。ｎ１１及びｎ１２は各々、０、１又は２を表す。但し、ｎ１１とｎ１２は同時に０とはならない。
上記の赤外増感色素は、例えば、エフ・エム・ハーマー著、Ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ第１８巻、Ｔｈｅ Ｃｙａｎｉｎｅ Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ（Ａ．Ｗｅｉｓｓｂｅｒｇｅｒ ｅｄ．Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ社刊、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９６４年）に記載の方法によって容易に合成することができる。
これらの赤外増感色素の添加時期は、ハロゲン化銀調製後の任意の時期でよく、例えば、溶剤に添加して、或いは微粒子状に分散した、いわゆる固体分散状態でハロゲン化銀粒子或いはハロゲン化銀粒子／脂肪族カルボン酸銀塩粒子を含有する感光性乳剤に添加できる。また、前記のハロゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これにより化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低かぶりを達成できる。
本発明において、上記の分光増感色素は１種類を単独に用いてもよいが、上述のように、分光増感色素の複数の種類の組合せを用いることが好ましく、そのような増感色素の組合せは、特に強色増感及び感光波長領域の拡大や調整等の目的でしばしば用いられる。
本発明に係る熱現像感光材料に用いられる感光性ハロゲン化銀、脂肪族カルボン酸銀塩を含有する乳剤は、増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これによりハロゲン化銀粒子が強色増感されていてもよい。
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質は、ＲＤ１７６４３（１９７８年１２月発行）第２３頁IVのＪ項、あるいは特公平９−２５５００号、同４３−４９３３号、特開昭５９−１９０３２号、同５９−１９２２４２号、特開平５−３４１４３２号の各公報等に記載されているが、強色増感剤としては、下記で表される複素芳香族メルカプト化合物がまたはメルカプト誘導体化合物が好ましい。
Ａｒ−ＳＭ
式中、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Ａｒは１個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、またはテルリウム原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましくは、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンズセレナゾール、ベンズテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、またはキナゾリンである。しかしながら、他の複素芳香環も含まれる。
式中、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Ａｒは１個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、またはテルリウム原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましくは、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンズセレナゾール、ベンズテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、またはキナゾリンである。しかしながら、他の複素芳香環も含まれる。
なお、脂肪族カルボン酸銀塩またはハロゲン化銀粒子乳剤の分散物中に含有させたときに実質的に上記のメルカプト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物も含まれる。特に下記で表されるメルカプト誘導体化合物が、好ましい例として挙げられる。
Ａｒ−Ｓ−Ｓ−Ａｒ
式中のＡｒは上記で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。
式中のＡｒは上記で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。
上記の複素芳香環は、例えば、ハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、ヨウ素）、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基（例えば、１個以上の炭素原子、好ましくは、１〜４個の炭素原子を有するもの）及びアルコキシ基（例えば、１個以上の炭素原子、好ましくは、１〜４個の炭素原子を有するもの）からなる群から選ばれる置換基を有しうる。
上記の強色増感剤の他に、特開２００１−３３０９１８号公報に開示されているヘテロ原子を有する大環状化合物も強色増感剤として使用できる。
本発明に係る強色増感剤は、有機銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む感光性層中に銀１モル当たり０．００１〜１．０モルで用いるのが好ましい。特に好ましくは、銀１モル当たり０．０１〜０．５モルの量が好ましい。
本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に分光増感色素を吸着せしめ分光増感が施されており、且つ熱現像過程経過後に該分光増感効果が実質的に消失することが必要である。ここで、分光増感効果が実質的に消失するとは、増感色素、強色増感剤等によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に分光増感を施していない場合の感度の１．１倍以下に減少することを言う。
なお、化学増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、熱によってハロゲン化銀粒子より脱離しやすい分光増感色素を使用するまたは／および分光増感色素を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば、前記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層または／及び非感光性層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、分光増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。
（還元剤）
本発明においては、還元剤（銀イオン還元剤）として、特に還元剤の少なくとも１種が前記一般式（１）で表される化合物を単独または他の異なる化学構造を有する還元剤と併せて用いる。
本発明においては、還元剤（銀イオン還元剤）として、特に還元剤の少なくとも１種が前記一般式（１）で表される化合物を単独または他の異なる化学構造を有する還元剤と併せて用いる。
一般式（１）で表される化合物のうちでも、特にＲ2の少なくとも一方が２級または３級のアルキル基である高活性な還元剤（以降は一般式（１ａ）の化合物と呼ぶ）を用いることが、高濃度で、光照射画像保存性に優れた熱現像感光材料を得ることができる点でより好ましい。本発明においては、一般式（１ａ）の化合物と下記一般式（２）の化合物とを併用することが望ましい色調を得るためには好ましい。
式中、Ｘ2はカルコゲン原子またはＣＨＲ5を表し、Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、２級または３級のアルキル基であることはない。Ｒ7は水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。Ｒ8はベンゼン環上に置換可能な基を表し、ｍ及びｎは各々０〜２の整数を表す。
その併用比率としては、［一般式（１ａ）の化合物の質量］：［一般式（２）の化合物の質量］が５：９５〜４５：５５であることが好ましく、より好ましくは１０：９０〜４０：６０である。
一般式（１）中、Ｘ1はカルコゲン原子またはＣＨＲ1を表す。カルコゲン原子としては、硫黄セレン、テルルであり、好ましくは硫黄原子である。ＣＨＲ1におけるＲ1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等であり、アルキル基としては置換または無置換の炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘプチル等、アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−２−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ブテニル等、アリール基としてはベンゼン環、ナフタレン環等、複素環基としてはチオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等の各基である。
これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基として具体的には、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、アルキル基（メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ｉ−ペンチル、２−エチルヘキシル、オクチル、デシル等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル、シクロヘプチル等）、アルケニル基（エテニル−２−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ペンテニル、１−メチル−３−ブテニル等）、シクロアルケニル基（１−シクロアルケニル、２−シクロアルケニル基等）、アルキニル基（エチニル、１−プロピニル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、プロポキシ等）、アルキルカルボニルオキシ基（アセチルオキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、トリフルオロメチルチオ等）、アシル基（アセチル基、ベンゾイル基）、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基（アセチルアミノ等）、ウレイド基（メチルアミノカルボニルアミノ等）、アルキルスルホニルアミノ基（メタンスルホニルアミノ等）、アルキルスルホニル基（メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−モルホリノカルボニル等）、スルファモイル基（スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、モルホリノスルファモイル等）、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基（メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド等）、アルキルアミノ基（アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ等）、スルホ基、ホスホノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基（メタンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルアミノカルボニル等）、アルキルカルボニルアミノスルホニル基（アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミドスルホニル等）、アルキニルアミノカルボニル基（アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカルボニル等）、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基（メタンスルフィニルアミノカルボニル、エタンスルフィニルアミノカルボニル等）等が挙げられる。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。特に好ましい置換基はアルキル基である。
Ｒ2はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、少なくとも一方は２級または３級のアルキル基であることが好ましい。アルキル基としては置換または無置換の炭素数１〜２０のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、ｔ−オクチル、シクロヘキシル、シクロペンチル、１−メチルシクロヘキシル、１−メチルシクロプロピル等の基が挙げられる。
アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えば、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。また、（Ｒ4）n及び（Ｒ4）mと飽和環を形成してもよい。Ｒ2は好ましくは何れも２級または３級のアルキル基であり、炭素数２〜２０が好ましい。より好ましくは３級アルキル基であり、更に好ましくはｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、１−メチルシクロヘキシルであり、最も好ましくはｔ−ブチルである。
Ｒ3は水素原子またはベンゼン環に置換可能な基を表す。ベンゼン環に置換可能な基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられる。
Ｒ3として好ましくは、メチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、２−ヒドロキシエチル等が挙げられる。更に好ましくはメチル、２−ヒドロキシエチルである。
これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては前記Ｒ1で挙げた置換基を用いることができる。Ｒ3は好ましくはヒドロキシル基またはそのプレカーサー基を有する炭素数１〜２０のアルキル基であり、炭素数１〜５のアルキル基であることがより好ましい。最も好ましくは２−ヒドロキシエチルである。Ｒ2及びＲ3の最も好ましい組合せは、Ｒ2が第３級アルキル基（ｔ−ブチル、１−メチルシクロヘキシル等）であり、Ｒ3がヒドロキシル基またはそのプレカーサー基を有する第１級アルキル基（２−ヒドロキシエチル等）である。複数のＲ2、Ｒ3は同じでも異なっていてもよい。
Ｒ4はベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数１〜２５のアルキル基（メチル、エチル、プロピル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等）、ハロゲン化アルキル基（トリフルオロメチル、パーフルオロオクチル等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル、シクロペンチル等）、アルキニル基（プロパルギル等）、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基（フェニル等）、複素環基（ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等）、ハロゲン原子（塩素、臭素、沃素、フッ素）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等）、アリールオキシ基（フェノキシ等）、アルコキシカルボニル基（メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル等）、スルホンアミド基（メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等）、スルファモイル基（アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、２−ピリジルアミノスルホニル等）、ウレタン基（メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、２−ピリジルウレイド等）、アシル基（アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等）、カルバモイル基（アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、２−ピリジルアミノカルボニル）、アミド基（アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等）、スルホニル基（メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、２−ピリジルスルホニル等）、アミノ基（アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、２−ピリジルアミノ等）、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。また、これらの基は更にこれらの基で置換されてもよい。ｎ及びｍは０〜２の整数を表すが、最も好ましくはｎ、ｍ共に０の場合である。
また、Ｒ4はＲ2、Ｒ3と飽和環を形成してもよい。Ｒ4は好ましくは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。複数のＲ4は同じでも異なっていてもよい。
一般式（２）中、Ｒ5はＲ1と同様の基であり、Ｒ7はＲ3と同様の基であり、Ｒ8はＲ4と同様の基である。Ｒ6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、２級または３級のアルキル基であることはない。アルキル基としては置換または無置換の炭素数１〜２０のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル等の基が挙げられる。
アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えば、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。また、（Ｒ8）n及び（Ｒ8）mと飽和環を形成してもよい。Ｒ6は、好ましくはメチルである。一般式（２）で表される化合物のうちでも好ましく用いられる
化合物は欧州特許第１，２７８，１０１号明細書に記載の一般式（Ｓ）、一般式（Ｔ）を満足する化合物であり、具体的にはｐ２１〜ｐ２８に記載の（１−２４）、（１−２８）〜（１−５４）、（１−５６）〜（１−７５）の化合物が挙げられる。
化合物は欧州特許第１，２７８，１０１号明細書に記載の一般式（Ｓ）、一般式（Ｔ）を満足する化合物であり、具体的にはｐ２１〜ｐ２８に記載の（１−２４）、（１−２８）〜（１−５４）、（１−５６）〜（１−７５）の化合物が挙げられる。
以下に、一般式（１）、一般式（２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
これら一般式（１）、一般式（２）で表されるビスフェノール化合物は、従来公知の方法により容易に合成することができる。
熱現像感光材料が含有する還元剤は、有機銀塩を還元して銀画像を形成するものである。本発明に係る還元剤と併用することができる還元剤としては、例えば、米国特許第３，７７０，４４８号、同３，７７３，５１２号、同３，５９３，８６３号の各明細書、ＲＤ１７０２９号及び２９９６３号、特開平１１−１１９３７２号、特開２００２−６２６１６号の各公報等に記載されている。
前記一般式（１）で表される化合物を初めとする還元剤の使用量は、好ましくは銀１モル当たり１×１０-2〜１０モル、特に好ましくは１×１０-2〜１．５モルである。
（画像の色調）
次に、熱現像感光材料を熱現像処理して得られる画像の色調について述べる。
次に、熱現像感光材料を熱現像処理して得られる画像の色調について述べる。
従来のレントゲン写真フィルムのような医療診断用の出力画像の色調に関しては、冷調の画像調子の方が、判読者にとってより的確な診断観察結果が得易いと言われている。ここで冷調な画像調子とは、純黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であることを言う。一方、温調な画像調子とは、黒画像が褐色味を帯びた温黒調であると言われているが、より厳密な定量的な議論ができるように、以下、国際照明委員会（ＣＩＥ）の推奨する表現法に基づき説明する。
色調に関しての用語「より冷調」及び「より温調」は、最低濃度Ｄｍｉｎ及び光学濃度Ｄ＝１．０における色相角ｈａｂにより表現できる。即ち、色相角ｈａｂは、国際照明委員会（ＣＩＥ）が１９７６年に推奨した知覚的にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるＬ*ａ*ｂ*色空間の色座標ａ*、ｂ*を用いて次の式によって求める。
ｈａｂ＝ｔａｎ-1（ｂ*／ａ*）
上記色相角に基づく表現法により検討した結果、本発明に係る熱現像感光材料の現像後の色調は、色相角ｈａｂの範囲が１８０度＜ｈａｂ＜２７０度であることが好ましく、更に好ましくは２００度＜ｈａｂ＜２７０度、最も好ましくは２２０度＜ｈａｂ＜２６０度であることが判った。このことは、特開２００２−６４６３号公報に開示されている。
上記色相角に基づく表現法により検討した結果、本発明に係る熱現像感光材料の現像後の色調は、色相角ｈａｂの範囲が１８０度＜ｈａｂ＜２７０度であることが好ましく、更に好ましくは２００度＜ｈａｂ＜２７０度、最も好ましくは２２０度＜ｈａｂ＜２６０度であることが判った。このことは、特開２００２−６４６３号公報に開示されている。
なお、従来、光学濃度１．０付近でのＣＩＥ １９７６（Ｌ*ｕ*ｖ*）色空間または（Ｌ*ａ*ｂ*）色空間におけるｕ*、ｖ*またはａ*、ｂ*を特定の数値に調整することにより、見た目の色調が好ましい診断画像が得られることが知られており、例えば、特開２０００−２９１６４号公報に記載されている。
しかしながら、本発明に係る熱現像感光材料について更に鋭意検討の結果、ＣＩＥ １９７６（Ｌ*ｕ*ｖ*）色空間または（Ｌ*ａ*ｂ*）色空間において横軸をｕ*またはａ*、縦軸をｖ*またはｂ*としたグラフ上に、様々な写真濃度でのｕ*、ｖ*またはａ*、ｂ*をプロットし、線形回帰直線を作成した際に、その線形回帰直線を特定の範囲に調整することにより、従来の湿式の銀塩感光材料同等以上の診断性を持つことを見い出した。以下に好ましい条件範囲について述べる。
１）熱現像感光材料を熱現像処理後に得られた銀画像の光学濃度０．５、１．０、１．５及び最低光学濃度の各濃度を測定し、ＣＩＥ １９７６（Ｌ*ｕ*ｖ*）色空間の横軸をｕ＊、縦軸をｖ＊とする２次元座標に、上記各光学濃度でのｕ*、ｖ*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数（重決定）Ｒ２が０．９９８〜１．０００であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のｖ*値が−５〜５であること、且つ傾き（ｖ*／ｕ*）が０．７〜２．５であることが好ましい。
２）また、当該熱現像感光材料の光学濃度０．５、１．０、１．５及び最低光学濃度の各濃度を測定し、ＣＩＥ １９７６（Ｌ*ａ*ｂ*）色空間の横軸をａ*、縦軸をｂ*とする２次元座標に、上記各光学濃度でのａ*、ｂ*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数（重決定）Ｒ２が０．９９８〜１．０００であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のｂ*値が−５〜５であること、且つ傾き（ｂ*／ａ*）が０．７〜２．５であることが好ましい。
なお、次に上述の線形回帰直線の作成法、則ちＣＩＥ １９７６色空間におけるｕ*、ｖ*及びａ*、ｂ*の測定法の一例を説明する。
熱現像装置を用いて未露光部、及び光学濃度０．５、１．０、１．５を含む４段のウエッジ試料を作製する。このようにして作製した、それぞれのウエッジ濃度部を分光色彩計（コニカミノルタ社製：ＣＭ−３６００ｄ等）で測定し、ｕ*、ｖ*またはａ*、ｂ*を算出する。その際の測定条件は光源としてＦ７光源、視野角を１０度として透過測定モードで測定を行う。横軸をｕ*またはａ*、縦軸をｖ*またはｂ*としたグラフ上に測定したｕ*、ｖ*またはａ*、ｂ*をプロットし線形回帰直線を求め、決定係数（重決定）Ｒ２、切片及び傾きを求める。
次に、上記のような特徴を持つ線形回帰直線を得るための具体的な方法について説明する。
本発明においては、下記の調色剤、現像剤、ハロゲン化銀粒子及び脂肪族カルボン酸銀等の現像反応過程において、直接的及び間接的に関与する化合物等の添加量の調整により、現像銀形状を最適化し好ましい色調にすることができる。例えば、現像銀形状をデンドライト状にすると青味を帯びる方向になり、フィラメント状にすると黄色味を帯びる方向になる。即ち、このような現像銀形状の性向を考慮して調整できる。
従来、調色剤としてはフタラジノンまたはフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類が一般的に使用されている。好適な調色剤の例は、ＲＤ１７０２９号、米国特許第４，１２３，２８２号、同３，９９４，７３２号、同３，８４６，１３６号、同４，０２１，２４９号の各明細書等に開示されている。
このような調色剤の他に、特開平１１−２８８０５７号公報、欧州特許第１，１３４，６１１Ａ２号明細書等に開示されているカプラー及び、以下で詳述するロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。特に、色調の微調整のためにカプラーまたはロイコ染料を用いることが好ましい。
（ロイコ染料）
ロイコ染料として好ましくは、約８０〜２００℃の温度で約０．５〜３０秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色または僅かに着色した化合物でよく、銀イオンにより酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。ｐＨ感受性を有し、且つ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
ロイコ染料として好ましくは、約８０〜２００℃の温度で約０．５〜３０秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色または僅かに着色した化合物でよく、銀イオンにより酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。ｐＨ感受性を有し、且つ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
本発明で使用するのに適した代表的なロイコ染料は特に限定されないが、例えば、ビフェノールロイコ染料、フェノールロイコ染料、インドアニリンロイコ染料、アクリル化アジンロイコ染料、フェノキサジンロイコ染料、フェノジアジンロイコ染料及びフェノチアジンロイコ染料等が挙げられる。また、有用なものは、米国特許第３，４４５，２３４号、同３，８４６，１３６号、同３，９９４，７３２号、同４，０２１，２４９号、同４，０２１，２５０号、同４，０２２，６１７号、同４，１２３，２８２号、同４，３６８，２４７号、同４，４６１，６８１号の各明細書、及び特開昭５０−３６１１０号、同５９−２０６８３１号、特開平５−２０４０８７号、同１１−２３１４６０号、特開２００２−１６９２４９号、同２００２−２３６３３４号の各公報等に開示されているロイコ染料である。
所定の色調に調整するために、種々の色のロイコ染料を単独使用または複数の種類の併用をすることが好ましい。本発明においては高活性な還元剤を使用することに伴ってその使用量や使用比率によって色調（特に黄色味）が変化したり、微粒子のハロゲン化銀を用いることにより、特に濃度が２．０以上の高濃度部で画像が過度に赤みをおびることを防止するために、黄色及びシアン色に発色するロイコ染料を併用してその使用量を調整するのが好ましい。
発色濃度は現像銀自身による色調との関係で適切に調整することが好ましい。本発明では、０．０１〜０．０５の反射光学濃度または０．００５〜０．５０の透過光学濃度を有するように発色させ上記した好ましい色調範囲の画像になるように色調を調整することが好ましい。本発明では、ロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を０．０１以上０．５０以下とするのが好ましく、より好ましくは０．０２以上０．３０以下、特に好ましくは０．０３以上０．１０以下を有するように発色させることが好ましい。
（黄色発色性ロイコ染料）
本発明において、特に黄色発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより３６０〜４５０ｎｍの吸光度が増加する色像形成剤であり、下記一般式（ＹＡ）で表される色像形成剤であることが好ましい。
本発明において、特に黄色発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより３６０〜４５０ｎｍの吸光度が増加する色像形成剤であり、下記一般式（ＹＡ）で表される色像形成剤であることが好ましい。
式中、Ｒ11は置換または無置換のアルキル基を表し、Ｒ12は水素原子、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基またはアシルアミノ基を表すが、Ｒ11、Ｒ12は２−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。Ｒ13は水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基を表し、Ｒ14はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。
以下、一般式（ＹＡ）の化合物について詳細に説明する。一般式（ＹＡ）において、Ｒ11は置換または無置換のアルキル基を表すが、Ｒ12が水素原子以外の置換基である場合、Ｒ11はアルキル基を表す。該アルキル基としては炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、置換基を有してもよい。
具体的にはメチル、エチル、ブチル、オクチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｔ−オクチル、ｔ−ペンチル、ｓｅｃ−ブチル、シクロヘキシル、１−メチル−シクロヘキシル等が好ましく、ｉ−プロピルよりも立体的に大きな基（ｉ−プロピル、ｉ−ノニル、ｔ−ブチル、ｔ−アミル、ｔ−オクチル、シクロヘキシル、１−メチル−シクロヘキシル、アダマンチル等）であることが好ましく、その中でも２級または３級のアルキル基が好ましく、３級アルキル基であるｔ−ブチル、ｔ−オクチル、ｔ−ペンチル等が特に好ましい。Ｒ11が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基等が挙げられる。
Ｒ12は水素原子、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基またはアシルアミノ基を表す。Ｒ12で表されるアルキル基は炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、アシルアミノ基は炭素数１〜３０のアシルアミノ基が好ましい。この内、アルキル基の説明は前記Ｒ11と同様である。
Ｒ12で表されるアシルアミノ基は、無置換でも置換基を有してもよく、具体的には、アセチルアミノ基、アルコキシアセチルアミノ基、アリールオキシアセチルアミノ基等が挙げられる。Ｒ12として好ましくは、水素原子または無置換の炭素数１〜２４のアルキル基であり、具体的にはメチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチルが挙げられる。また、Ｒ11、Ｒ12は２−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。
Ｒ13は水素原子または置換もしくは無置換のアルキル基を表す。アルキル基としては炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、アルキル基の説明は前記Ｒ11と同様である。Ｒ13として好ましくは、水素原子または無置換の炭素数１〜２４のアルキル基で、具体的にはメチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル等が挙げられる。また、Ｒ12、Ｒ13の何れか一方は水素原子であることが好ましい。
Ｒ14はベンゼン環に置換可能な基を表し、例えば、前記一般式（１）における置換基Ｒ4で説明したのと同様な基である。Ｒ14として好ましいのは、置換または無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のオキシカルボニル基であり、炭素数１〜２４のアルキル基がより好ましい。アルキル基の置換基としてはアリール基、アミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、イミド基、ウレイド基等が挙げられ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基がより好ましい。これらのアルキル基の置換基は、更にこれらの置換基で置換されてもよい。
次に、一般式（ＹＡ）で表される化合物のうちでも、特に本発明で好ましく用いられる、下記一般式（ＹＢ）で表されるビスフェノール化合物について説明する。
式中、Ｚは−Ｓ−または−Ｃ（Ｒ21）（Ｒ21′）−を表し、Ｒ21、Ｒ21′は各々、水素原子または置換基を表す。Ｒ21、Ｒ21′の表す置換基としては、前記一般式（１）のＲ1の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。Ｒ21、Ｒ21′として好ましくは、水素原子またはアルキル基である。
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ22′及びＲ23′は各々置換基を表すが、置換基としては一般式（１）におけるＲ2、Ｒ3で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ22′及びＲ23′として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基であるが、アルキル基が更に好ましい。アルキル基上の置換基としては、一般式（１）における置換基の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ22′及びＲ23′として、更に好ましくはｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、ｔ−オクチル、１−メチル−シクロヘキシル等の３級アルキル基である。
Ｒ24及びＲ24′は各々、水素原子または置換基を表すが、置換基としては、一般式（１）におけるＲ4の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。
一般式（ＹＡ）及び（ＹＢ）で表される化合物としては、例えば、特開２００２−１６９２４９号公報の段落「００３２」〜「００３８」記載の化合物（II−１）〜（II−４０）、欧州特許第１，２１１，０９３号明細書の段落「００２６」記載の化合物（ＩＴＳ−１）〜（ＩＴＳ−１２）を挙げることができる。
以下に、一般式（ＹＡ）及び（ＹＢ）で表されるビスフェノール化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
一般式（ＹＡ）の化合物（ヒンダードフェノール化合物、一般式（ＹＢ）の化合物も含まれる）の添加量は、通常銀１モル当たり０．００００１〜０．０１モルであり、好ましくは０．０００５〜０．０１モル、より好ましくは０．００１〜０．００８モルである。
また黄色発色性ロイコ染料の一般式（１）、（２）で表される還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で０．００１〜０．２であることが好ましく、０．００５〜０．１であることがより好ましい。
（シアン発色性ロイコ染料）
本発明で好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料について説明する。ロイコ染料として好ましくは、約８０〜２００℃の温度で約０．５〜３０秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色または僅かに着色した化合物でよく、銀イオンにより酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。ｐＨ感受性を有し、且つ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
本発明で好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料について説明する。ロイコ染料として好ましくは、約８０〜２００℃の温度で約０．５〜３０秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色または僅かに着色した化合物でよく、銀イオンにより酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。ｐＨ感受性を有し、且つ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
本発明において、特にシアン発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより６００〜７００ｎｍの吸光度が増加する色像形成剤であり、特開昭５９−２０６８３１号（特にλｍａｘが６００〜７００ｎｍの範囲内にある化合物）、特開平５−２０４０８７号公報の一般式（Ｉ）〜一般式（IV）の化合物（具体的には段落「００３２」〜「００３７」に記載の（１）〜（１８）の化合物）及び特開平１１−２３１４６０号公報の一般式４〜一般式７の化合物（具体的には段落「０１０５」に記載されるＮｏ．１〜Ｎｏ．７９の化合物）である。
本発明において特に好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料は、下記一般式（ＣＬ）で表される。
式中、Ｒ81、Ｒ82は水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、−ＮＨＣＯ−Ｒ10基（Ｒ10はアルキル基、アリール基、複素環基を表す。）であるか、またはＲ81、Ｒ82は互いに連結して脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環または複素環を形成する基である。Ａ8は−ＮＨＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基または−ＮＨＣＯＮＨ−基を表し、Ｒ83は置換または無置換の、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。また、−Ａ8−Ｒ83は水素原子であってもよい。Ｗ8は水素原子または−ＣＯＮＨ−Ｒ85基、−ＣＯ−Ｒ85基または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ85基（Ｒ85は置換または無置換のアルキル基、アリール基または複素環基を表す。）を表し、Ｒ84は水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、カルバモイル基、またはニトリル基を表す。Ｒ86は−ＣＯＮＨ−Ｒ87基、−ＣＯ−Ｒ87基または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ87基（Ｒ87が置換または無置換の、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。）を表す。Ｘ8は、置換または無置換の、アリール基、複素環基を表す。
一般式（ＣＬ）において、Ｒ81、Ｒ82で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子等が挙げられ、アルキル基としては炭素原子数が２０までのアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等）が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数２０までのアルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘキサジエニル基、エテニル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル等）が挙げられ、アルコキシ基としては炭素原子数２０までのアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ等）が挙げられる。また、−ＮＨＣＯ−Ｒ10基におけるＲ10で表されるアルキル基としては、炭素原子数が２０までのアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等）が挙げられ、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基のような炭素原子数６〜２０の基が挙げられ、複素環基としては、例えば、チオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。Ｒ83で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数２０までのアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は好ましくは炭素数６〜２０のアリール基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、複素環基としては、例えばチオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。Ｗ8で表される−ＣＯＮＨ−Ｒ85基、−ＣＯ−Ｒ85基または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ85基において、Ｒ85で表されるアルキル基は、好ましくは炭素原子数２０までのアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数６〜２０までのアリール基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、複素環基としては、例えば、チオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。
Ｒ84で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等が挙げられ、アルキル基としては鎖状若しくは環状のアルキル基、例えば、メチル基、ブチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、アルケニル基としては炭素原子数２０までのアルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘキサジエニル基、エテニル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル等）が挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、ブトキシ基、テトラデシルオキシ基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等が挙げられる。またニトリル基も好ましい。これらの中でも、水素原子、アルキル基がより好ましい。前記Ｒ83とＲ84は、互いに連結して環構造を形成してもよい。
上記の基は更に単一の置換基または複数の置換基を有することができる。典型的な置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ドデシル基等）、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、アルキルスルホンアミド基（例えば、メチルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド基等）、アリールスルホンアミド基（例えば、フェニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド基等）、アルキルスルファモイル基（例えば、ブチルスルファモイル基等）、アリールスルファモイル（例えば、フェニルスルファモイル基等）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、アミノスルホンアミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホキシ基、スルホ基、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカルボニル基等が挙げられる。
Ｒ10またはＲ85は好ましくはフェニル基であり、より好ましくはハロゲン原子およびシアノ基を置換基として複数有するフェニル基である。
Ｒ86で表される−ＣＯＮＨ−Ｒ87基、−ＣＯ−Ｒ87基または−ＣＯ−Ｏ−Ｒ87基において、Ｒ87で表されるアルキル基は、好ましく炭素原子数２０までのアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数６〜２０のアリール基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基、チエニル基等が挙げられ、複素環基としては、例えば、チオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。
Ｒ87で表される基が有することができる置換基としては、一般式（ＣＬ）のＲ81〜Ｒ84の説明において挙げた置換基と同様のものが使用できる。
Ｘ8で表されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、チエニル基のような炭素原子数６〜２０のアリール基が挙げられ、複素環基としては、例えば、チオフェン基、フラン基、イミダゾール基、ピラゾール基、ピロール基等が挙げられる。
Ｘ8で表される基が有することができる置換基としては、一般式（ＣＬ）のＲ81〜Ｒ84の説明において挙げた置換基と同様のものを挙げることができる。Ｘ8で表される基としては、パラ位にアルキルアミノ基（ジエチルアミノ基等）を有するアリール基または複素環基が好ましい。これらの基は写真的に有用な基を含んでもよい。
以下にシアン発色性ロイコ染料（ＣＬ）の具体例を示すが、本発明で用いられるシアン発色性ロイコ染料はこれらに限定されるものではない。
シアン発色性ロイコ染料の添加量は、通常０．００００１〜０．０５モル／Ａｇ１モルであり、好ましくは０．０００５〜０．０２モル／Ａｇ１モル、より好ましくは０．００１〜０．０１モル／Ａｇ１モルである。シアン発色性ロイコ染料の一般式（１）、一般式（２）で表される還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で０．００１〜０．２であることが好ましく、０．００５〜０．１であることがより好ましい。本発明では、シアンロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を０．０１以上０．５０以下とするのが好ましく、より好ましくは０．０２以上０．３０以下、特に好ましくは０．０３以上０．１０以下を有するように発色させることが好ましい。
本発明においては上記のシアン発色性ロイコ染料に加えてマゼンタ発色性ロイコ染料または黄色発色性ロイコ染料を併用することで更に微妙な色調の調整を可能とすることができる。
一般式（ＹＡ）および（ＹＢ）で表される化合物及びシアン発色性ロイコ染料の添加方法としては、一般式（１）で表される還元剤の添加方法と同様な方法で添加することができ、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態等、任意の方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてよい。
一般式（１）、（２）、一般式（ＹＡ）、（ＹＢ）の化合物及びシアン発色性ロイコ染料は、有機銀塩を含有する画像形成層に含有させることが好ましいが、一方を画像形成層に、他方を該画像形成層に隣接する非画像形成層に含有させてもよく、両者を非画像形成層に含有させてもよい。また、画像形成層が複数層で構成されている場合には、それぞれ別層に含有させてもよい。
（バインダー）
熱現像感光材料に好適なバインダーは、透明または半透明で一般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、特開２００１−３３０９１８号公報の段落「００６９」に記載のものが挙げられる。これらの内、本発明に係る熱現像感光材料の感光性層に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましくはポリビニルブチラールである。これらについては詳しく後述する。
熱現像感光材料に好適なバインダーは、透明または半透明で一般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、特開２００１−３３０９１８号公報の段落「００６９」に記載のものが挙げられる。これらの内、本発明に係る熱現像感光材料の感光性層に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましくはポリビニルブチラールである。これらについては詳しく後述する。
また、上塗り層や下塗り層、特に保護層やバックコート層等の非感光層に対しては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。なお、必要に応じて、上記のバインダーは２種以上を組み合わせて用い得る。
バインダーには−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｎ（Ｒ）2、−Ｎ+（Ｒ）3（Ｍは水素原子、またはアルカリ金属塩基、Ｒは炭化水素基を表す）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ等から選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましく、特に−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、が好ましい。この様な極性基の量は１×１０-1〜１×１０-8モル／ｇであり、好ましくは１×１０-2〜１×１０-6モル／ｇである。
この様なバインダーは、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。効果的な範囲は当業者が容易に決定し得る。例えば、画像形成層において少なくとも有機銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと有機銀塩との割合は１５：１〜１：２（質量比）が好ましく、特に８：１〜１：１の範囲が好ましい。即ち、画像形成層のバインダー量が１．５〜６ｇ／ｍ2であることが好ましく、更に好ましくは１．７〜５ｇ／ｍ2である。１．５ｇ／ｍ2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
本発明で用いるバインダーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、７０〜１０５℃であることが好ましい。Ｔｇは示差走査熱量計で測定して求めることができ、ベースラインと吸熱ピークの傾きとの交点をＴｇとする。本発明におけるＴｇは、ブランドラップ等による「重合体ハンドブック」III−１３９〜１７９頁（１９６６年、ワイリーアンドサン社版）に記載の方法で求めたものである。
バインダーが共重合体樹脂である場合のＴｇは下記の式で求められる。
Ｔｇ（共重合体）（℃）＝ｖ1Ｔｇ1＋ｖ2Ｔｇ2＋・・・＋ｖnＴｇn
式中、ｖ1、ｖ2・・・ｖnは共重合体中の単量体の質量分率を表し、Ｔｇ1、Ｔｇ2・・・Ｔｇnは共重合体中の各単量体から得られる単一重合体のＴｇ（℃）を表す。上式に従って計算されたＴｇの精度は±５℃である。
式中、ｖ1、ｖ2・・・ｖnは共重合体中の単量体の質量分率を表し、Ｔｇ1、Ｔｇ2・・・Ｔｇnは共重合体中の各単量体から得られる単一重合体のＴｇ（℃）を表す。上式に従って計算されたＴｇの精度は±５℃である。
Ｔｇが７０〜１０５℃のバインダーを用いると、画像形成において十分な最高濃度が得ることができ好ましい。
本発明に係るバインダーとしては、Ｔｇが７０〜１０５℃、数平均分子量が１，０００〜１，０００，０００、好ましくは１０，０００〜５００，０００、重合度が約５０〜１，０００程度のものである。また、エチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体または共重合体については、特開２００１−３３０９１８号公報の段落番号「００６９」に記載のものが挙げられる。
これらの内、特に好ましい例としては、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、スチレン類等が挙げられる。この様な高分子化合物の中でも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。アセタール基を持つ高分子化合物でも、アセトアセタール構造を持つポリビニルアセタールであることがより好ましく、例えば、米国特許第２，３５８，８３６号、同３，００３，８７９号、同２，８２８，２０４号、英国特許第７７１，１５５号の各明細書等に示されるポリビニルアセタールを挙げることができる。
アセタール基を持つ高分子化合物としては、特開２００２−２８７２９９号公報の「１５０」に記載の一般式（Ｖ）で表される化合物が特に好ましい。
本発明で用いることのできるポリウレタン樹脂としては、構造がポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン等公知のものが使用できる。また、ポリウレタン分子末端に少なくとも１個ずつ、合計２個以上のヒドロキシル基を有することが好ましい。ヒドロキシル基は、硬化剤であるポリイソシアネートと架橋して３次元の網状構造を形成するので、分子中に多数含むほど好ましい。特に、ヒドロキシル基が分子末端にある方が、硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレタンは、分子末端にヒドロキシル基を３個以上有することが好ましく、４個以上有することが特に好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合は、Ｔｇが７０〜１０５℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．５〜１００Ｎ／ｍｍ2が好ましい。
これらの高分子化合物（ポリマー）は単独で用いてもよいし、２種類以上をブレンドして用いてもよい。
本発明に係る画像形成層には上記ポリマーを主バインダーとして用いることが好ましい。ここで言う主バインダーとは、「画像形成層の全バインダーの５０質量％以上を上記ポリマーが占めている状態」をいう。従って、全バインダーの５０質量％未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。これらのポリマーとしては、本発明に係るポリマーが可溶となる溶媒であれば特に制限はない。より好ましくはポリ酢酸ビニル、ポリアクリル樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。
画像形成層に有機性ゲル化剤を含有せしめてもよい。なお、ここで言う有機性ゲル化剤とは、例えば多価アルコール類のように、有機液体に添加することにより、その系に降伏値を付与し、系の流動性を消失あるいは低下させる機能を有する化合物を言う。
画像形成層用塗布液が水性分散されたポリマーラテックスを含有するのも好ましい態様である。この場合、画像形成層用塗布液中の全バインダーの５０質量％以上が水性分散されたポリマーラテックスであることが好ましい。また、画像形成層がポリマーラテックスを含有する場合、画像形成層中の全バインダーの５０質量％以上がポリマーラテックスであることが好ましく、更に好ましくは７０質量％以上である。
ポリマーラテックスとは、水不溶性の疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち、分子鎖自身が分子状分散したもの等、何れでもよい。分散粒子の平均粒径は１〜５０，０００ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜１，０００ｎｍ程度の範囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はなく、広い粒径分布を持つものでも、単分散の粒径分布を持つものでもよい。
本発明に用いられるポリマーラテックスとしては、通常の均一構造のポリマーラテックス以外、所謂コア／シェル型のラテックスでもよい。この場合、コアとシェルはＴｇを変えると好ましい場合がある。本発明に係るポリマーラテックスの最低造膜温度（ＭＦＴ）は、−３０〜９０℃であることが好ましく、更に好ましくは０〜７０℃程度である。また、最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。
上記造膜助剤は可塑剤とも呼ばれ、ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物（通常、有機溶媒）であり、例えば、「合成ラテックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行、１９７０）」に記載されている。
ポリマーラテックスに用いられるポリマー種としては、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、またはこれらの共重合体等がある。ポリマーとしては、直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、また架橋されたポリマーでもよい。また、ポリマーとしては、単一のモノマーが重合した所謂ホモポリマーでもよいし、２種以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合は、ランダムコポリマーでもブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は数平均分子量で、通常５，０００〜１，０００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００程度である。分子量が小さすぎるものは感光層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が悪く、共に好ましくない。
ポリマーラテックスは、２５℃、６０％ＲＨ（相対湿度）での平衡含水率が０．０１〜２質量％以下のものが好ましく、更に好ましくは０．０１〜１質量％のものである。平衡含水率の定義と測定法については、例えば、「高分子工学講座１４、高分子材料試験法（高分子学会編、地人書館）」等を参考にすることができる。
ポリマーラテックスの具体例としては、特開２００２−２８７２９９号公報の「０１７３」に記載の各ラテックスが挙げられる。これらのポリマーは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上ブレンドして用いてもよい。ポリマーラテックスのポリマー種としては、アクリレートまたはメタクリレート成分の如きカルボン酸成分を０．１〜１０質量％程度含有するものが好ましい。
更に、必要に応じて全バインダーの５０質量％以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は前記感光層の全バインダーの３０質量％以下が好ましい。
画像形成層用塗布液の調製において、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスの添加の順序については、何れを先に添加してもよいし、同時に添加してもよいが、好ましくはポリマーラテックスが後である。
更に、ポリマーラテックス添加前に有機銀塩、更には還元剤が混合されていることが好ましい。また、有機銀塩とポリマーラテックスを混合した後、経時させる温度が低すぎると塗布面状が損なわれ、高すぎるとかぶりが上昇する問題があるので、混合後の塗布液は３０〜６５℃で上記時間経時されることが好ましい。更には３５〜６０℃で経時されることが好ましく、特に３５〜５５℃での経時が好ましい。この様に温度を維持するには、塗布液の調液槽等を保温すればよい。
画像形成層用塗布液の塗布は、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを混合した後、３０分〜２４時間経過した塗布液を用いるのが好ましく、更に好ましくは、混合した後、６０分〜１２時間経過させることであり、特に好ましくは、１２０分〜１０時間経過した塗布液を用いることである。
ここで、「混合した後」とは、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを添加し、添加素材が均一に分散された後を言う。
架橋剤を上記バインダーに対し用いることにより、膜付きが良くなり、現像ムラが少なくなることは知られているが、保存時のかぶり抑制や、現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果もある。
用いられる架橋剤としては、従来、写真感光材料用として使用されている種々の架橋剤、例えば、特開昭５０−９６２１６号公報に記載されるアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤が用いられるが、好ましくは以下に示すイソシアネート系、シラン化合物系、エポキシ系化合物または酸無水物である。
イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも２個有しているイソシアネート類及びその付加体（アダクト体）であり、更に具体的には、脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と２価または３価のポリアルコール類との付加体等が挙げられる。具体例として、特開昭５６−５５３５号公報の１０〜１２頁に記載されるイソシアネート化合物を利用することができる。
なお、イソシアネートとポリアルコールの付加体は特に層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。かかるイソシアネートは、熱現像感光材料のどの部分に置かれてもよい。例えば、支持体中（特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる）感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の１層または２層以上に添加することができる。
また、本発明に使用可能なチオイソシアネート系架橋剤としては、上記のイソシアネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化合物も有用である。
上記架橋剤の使用量は、銀１モルに対して、通常０．００１〜２モル、好ましくは０．００５〜０．５モルの範囲である。
本発明において含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、当該官能基を１個のみ有する化合物であっても良い結果が得られる。
シラン化合物の例としては、特開２００１−２６４９３０号公報に開示されている一般式（１）〜一般式（３）で表される化合物が挙げられる。
また、架橋剤として使用できるエポキシ化合物としては、エポキシ基を１個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。また、エポキシ化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマー等の何れであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常１〜１０個程度、好ましくは２〜４個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーの何れであってもよく、その数平均分子量Ｍｎの特に好ましい範囲は２，０００〜２０，０００程度である。
本発明に用いられる酸無水物は、下記の構造式で示される酸無水物基を少なくとも１個有する化合物である。この様な酸無水基を１個以上有するものであればよく、酸無水基の数、分子量、その他に制限はない。
−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−
上記のエポキシ化合物や酸無水物は、１種のみを用いても２種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、１×１０-6〜１×１０-2モル／ｍ2の範囲が好ましく、より好ましくは１×１０-5〜１×１０-3モル／ｍ2の範囲である。このエポキシ化合物や酸無水物は、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の１層または２層以上に添加することができる。
上記のエポキシ化合物や酸無水物は、１種のみを用いても２種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、１×１０-6〜１×１０-2モル／ｍ2の範囲が好ましく、より好ましくは１×１０-5〜１×１０-3モル／ｍ2の範囲である。このエポキシ化合物や酸無水物は、感光層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の１層または２層以上に添加することができる。
（省銀化剤）
本発明において使用される省銀化剤とは、一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物をいう。この低減化する機能の作用機構は種々考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有する化合物が好ましい。ここで、現像銀の被覆力とは、銀の単位量当たりの光学濃度をいう。この省銀化剤は感光性層または非感光性層、更にはそのいずれにも存在せしめることができる。省銀化剤としては、ヒドラジン誘導体化合物、ビニル化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、４級オニウム化合物及びシラン化合物が好ましい例として挙げられる。
本発明において使用される省銀化剤とは、一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物をいう。この低減化する機能の作用機構は種々考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有する化合物が好ましい。ここで、現像銀の被覆力とは、銀の単位量当たりの光学濃度をいう。この省銀化剤は感光性層または非感光性層、更にはそのいずれにも存在せしめることができる。省銀化剤としては、ヒドラジン誘導体化合物、ビニル化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、４級オニウム化合物及びシラン化合物が好ましい例として挙げられる。
ヒドラジン誘導体の具体例としては、米国特許第５，５４５，５０５号明細書カラム１１〜２０に記載の化合物Ｈ−１〜Ｈ−２９、米国特許第５，４６４，７３８号明細書カラム９〜１１に記載の化合物１〜１２、特開２００１−２７７９０号公報の段落「００４２」〜「００５２」に記載の化合物Ｈ−１−１〜Ｈ−１−２８、Ｈ−２−１〜Ｈ−２−９、Ｈ−３−１〜Ｈ−３−１２、Ｈ−４−１〜Ｈ−４−２１、Ｈ−５−１〜Ｈ−５−５が挙げられる。
ビニル化合物の具体例としては、米国特許第５，５４５，５１５号明細書のカラム１３〜１４に記載の化合物ＣＮ−０１〜ＣＮ−１３、米国特許第５，６３５，３３９号明細書のカラム１０に記載の化合物ＨＥＴ−０１〜ＨＥＴ−０２、米国特許第５，６５４，１３０号明細書のカラム９〜１０に記載の化合物ＭＡ−０１〜ＭＡ−０７の化合物、米国特許第５，７０５，３２４号明細書のカラム９〜１０に記載の化合物ＩＳ−０１〜ＩＳ−０４、特開２００１−１２５２２４号公報の段落「００４３」〜「００８８」記載の化合物１−１〜２１８−２が挙げられる。
フェノール誘導体、ナフトール誘導体の具体例としては、特開２０００−２６７２２２号公報の段落「００７５」〜「００７８」の記載の化合物Ａ−１〜Ａ−８９、特開２００３−６６５５８号公報の段落「００２５」〜「００４５」に記載の化合物Ａ−１〜Ａ−２５８が挙げられる。
４級オニウム化合物の具体例としては、トリフェニルテトラゾリウムが挙げられる。
シラン化合物の具体例としては、特開２００３−５３２４号公報の段落「００２７」〜「００２９」記載の化合物Ａ１〜Ａ３３に示されるような一級または二級アミノ基を２個以上有するアルコキシシラン化合物或いはその塩が挙げられる。
上記省銀化剤の添加量は有機銀塩１モルに対し１×１０-5〜１モル、好ましくは１×１０-4〜５×１０-1モルの範囲である。
本発明に係る特に好ましい省銀化剤は下記一般式（Ａ−１）および（Ａ−２）で表される化合物である。
一般式（Ａ−１） Ｑ1−ＮＨＮＨ−Ｑ2
式中、Ｑ1は炭素原子で−ＮＨＮＨ−Ｑ2と結合する芳香族基、またはヘテロ環基を表し、Ｑ2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、またはスルファモイル基を表す。
式中、Ｑ1は炭素原子で−ＮＨＮＨ−Ｑ2と結合する芳香族基、またはヘテロ環基を表し、Ｑ2はカルバモイル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、またはスルファモイル基を表す。
一般式（Ａ−１）において、Ｑ1で表される芳香族基またはヘテロ環基としては５〜７員の不飽和環が好ましい。好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、１，２，４−トリアジン環、１，３，５−トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、テトラゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，２，５−チアジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−オキサジアゾール環、１，２，５−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、チオフェン環などが好ましく、更にこれらの環が互いに縮合した縮合環も好ましい。
これらの環は置換基を有していてもよく、２個以上の置換基を有する場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルバモイル基、スルファモイル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、およびアシル基を挙げることができる。これらの置換基が置換可能な基である場合、更に置換基を有してもよく、好ましい置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、およびアシルオキシ基を挙げることができる。
Ｑ2で表されるカルバモイル基は、好ましくは炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のカルバモイル基であり、例えば、無置換カルバモイル、メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルカルバモイル、Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイル、Ｎ−ドデシルカルバモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）カルバモイル、Ｎ−オクタデシルカルバモイル、Ｎ−｛３−（２，４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノキシ）プロピル｝カルバモイル、Ｎ−（２−ヘキシルデシル）カルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−（４−ドデシルオキシフェニル）カルバモイル、Ｎ−（２−クロロ−５−ドデシルオキシカルボニルフェニル）カルバモイル、Ｎ−ナフチルカルバモイル、Ｎ−３−ピリジルカルバモイル、Ｎ−ベンジルカルバモイルが挙げられる。
Ｑ2で表されるアシル基は、好ましくは炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のアシル基であり、例えば、ホルミル、アセチル、２−メチルプロパノイル、シクロヘキシルカルボニル、オクタノイル、２−ヘキシルデカノイル、ドデカノイル、クロロアセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、４−ドデシルオキシベンゾイル、２−ヒドロキシメチルベンゾイルが挙げられる。Ｑ2で表されるアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数２〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルが挙げられる。
Ｑ2で表されるアリールオキシカルボニル基は、好ましくは炭素数７〜５０、より好ましくは炭素数７〜４０のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、４−オクチルオキシフェノキシカルボニル、２−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル、４−ドデシルオキシフェノキシカルボニルが挙げられる。Ｑ2で表されるスルホニル基は、好ましくは炭素数１〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル、２−ヘキサデシルスルホニル、３−ドデシルオキシプロピルスルホニル、２−オクチルオキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニルスルホニル、４−ドデシルオキシフェニルスルホニルが挙げられる。
Ｑ2で表されるスルファモイル基は、好ましくは炭素数０〜５０、より好ましくは炭素数６〜４０のスルファモイル基で、例えば、無置換スルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）スルファモイル、Ｎ−デシルスルファモイル、Ｎ−ヘキサデシルスルファモイル、Ｎ−｛３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピル｝スルファモイル、Ｎ−（２−クロロ−５−ドデシルオキシカルボニルフェニル）スルファモイル、Ｎ−（２−テトラデシルオキシフェニル）スルファモイルが挙げられる。Ｑ2で表される基は、更に置換可能な位置に前記のＱ1で表される５〜７員の不飽和環の置換基の例として挙げた基を有していてもよく、２個以上の置換基を有する場合には、それ等の置換基は同一であっても異なっていてもよい。
次に、式（Ａ−１）で表される化合物の好ましい範囲について述べる。Ｑ1としては５〜６員の不飽和環が好ましく、ベンゼン環、ピリミジン環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、テトラゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−オキサジアゾール環、１，２，４−オキサジアゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、イソチアゾール環、イソオキサゾール環、およびこれらの環がベンゼン環もしくは不飽和ヘテロ環と縮合した環が更に好ましい。また、Ｑ2はカルバモイル基が好ましく、特に窒素原子上に水素原子を有するカルバモイル基が好ましい。
一般式（Ａ−２）において、Ｒ1はアルキル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、炭酸エステル基を表す。Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ一般式（Ａ−１）の置換基例で挙げたベンゼン環に置換可能な基を表す。Ｒ3とＲ4は互いに連結して縮合環を形成してもよい。
Ｒ1は好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、シクロヘキシル基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンソイルアミノ基、メチルウレイド基、４−シアノフェニルウレイド基など）、カルバモイル基（ｎ−ブチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、２−クロロフェニルカルバモイル基、２，４−ジクロロフェニルカルバモイル基など）でアシルアミノ基（ウレイド基、ウレタン基を含む）がより好ましい。Ｒ2は好ましくはハロゲン原子（より好ましくは塩素原子、臭素原子）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、ブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基など）、アリールオキシ基（フェノキシ基、ナフトキシ基など）である。
Ｒ3は好ましくは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基であり、ハロゲン原子がもっとも好ましい。Ｒ4は水素原子、アルキル基、アシルアミノ基が好ましく、アルキル基またはアシルアミノ基がより好ましい。これらの好ましい置換基の例はＲ1と同様である。Ｒ4がアシルアミノ基である場合Ｒ4はＲ3と連結してカルボスチリル環を形成することも好ましい。
一般式（Ａ−２）においてＲ3とＲ4が互いに連結して縮合環を形成する場合、縮合環としてはナフタレン環が特に好ましい。ナフタレン環には一般式（Ａ−１）で挙げた置換基例と同じ置換基が結合していてもよい。一般式（Ａ−２）がナフトール系の化合物であるとき、Ｒ1はカルバモイル基であることが好ましい。その中でもベンゾイル基であることが特に好ましい。Ｒ2はアルコキシ基、アリールオキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。
以下、本発明に係る省銀化剤の好ましい具体例を挙げる。本発明はこれらに限定されるものではない。
（かぶり防止及び画像安定化剤）
本発明に係る熱現像感光材料に用いられるかぶり防止及び画像安定化剤について説明する。
本発明に係る熱現像感光材料に用いられるかぶり防止及び画像安定化剤について説明する。
還元剤としては、主にビスフェノール類やスルホンアミドフェノール類のようなプロトンを持った還元剤が用いられているので、これらの水素を引き抜くことができる活性種を発生することにより還元剤を不活性化できる化合物が含有されていることが好ましい。好適には、無色の光酸化性物質として、露光時にフリーラジカルを反応活性種として生成可能な化合物が好ましい。
従ってこれらの機能を有する化合物であればいかなる化合物でもよいが、複数の原子からなる有機フリーラジカルが好ましい。かかる機能を有し、且つ熱現像感光材料に格別の弊害を生じることのない化合物であればいかなる構造を持った化合物でもよい。
また、これらのフリーラジカルを発生する化合物としては、発生するフリーラジカルに、これが還元剤と反応し不活性化するに十分な時間接触できる位の安定性を持たせるために炭素環式、または複素環式の芳香族基を有するものが好ましい。これらの化合物の代表的なものとしてビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物を挙げることができる。
上記のビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物の添加量は０．００１〜０．１モル／ｍ2、好ましくは０．００５〜０．０５モル／ｍ2の範囲である。なお、当該化合物は、本発明に係る感光材料において、いかなる構成層中にも含有させることができるが、還元剤の近傍に含有させることが好ましい。
また、かぶり防止及び画像安定化剤として、ハロゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのものが知られている。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、特開２００２−２８７２９９号公報の「０２６４」〜「０２７１」に記載の一般式（９）の化合物が挙げられる。
これらの化合物の添加量は、実質的にハロゲン化銀の生成によるプリントアウト銀の増加が問題にならない範囲が好ましく、活性ハロゲンラジカルを生成しない化合物に対する比率で、最大１５０％以下、更に好ましくは１００％以下であることが好ましい。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、特開２００２−１６９２４９号公報の段落「００８６」〜「００８７」に記載されている化合物（III−１）〜（III−２３）、特開２００３−５０４４１号公報の段落「００３１」〜「００３４」記載の化合物１−１ａ〜１−１ｏ、１−２ａ〜１−２ｏ、段落「００５０」〜「００５６」記載の化合物２ａ〜２ｚ、２ａａ〜２ｌｌ、２−１ａ〜２−１ｆ、特開２００３−９１０５４号公報の段落「００５５」〜「００５８」記載の化合物４−１〜４−３２、段落「００６９」〜「００７２」記載の化合物５−１〜５−１０を挙げることができる。
本発明で好ましく使用されるかぶり防止剤としては、例えば、特開平８−３１４０５９号公報の段落「００１２」に記載の化合物例ａ〜ｊ、特開平７−２０９７９７号公報の段落「００２８」に記載のチオスルホネートエステルＡ〜Ｋ、特開昭５５−１４０８３３号公報のｐ１４から記載の化合物例（１）〜（４４）、特開２００１−１３６２７号公報の段落「００６３」記載の化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−６）、段落「００６６」記載の（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）、特開２００２−９０９３７号公報の段落「００２７」記載の化合物（III−１）〜（III−１０８）、ビニルスルホン類及び／またはβ−ハロスルホン類の化合物として特開平６−２０８１９２号公報の段落「００１３」に記載の化合物ＶＳ−１〜ＶＳ−７、化合物ＨＳ−１〜ＨＳ−５、スルホニルベンゾトリアゾール化合物として特開２０００−３３０２３５号公報に記載のＫＳ−１〜ＫＳ−８の化合物、置換されたプロペンニトリル化合物として特表２０００−５１５９９５号公報に記載のＰＲ−０１〜ＰＲ−０８、特開２００２−２０７２７３号公報の段落「００４２」〜「００５１」に記載の化合物（１）−１〜（１）−１３２を挙げることができる。
上記かぶり防止剤は一般に銀のモルに対して少なくとも０．００１モル用いる。通常、その範囲は銀のモルに対して化合物は０．０１〜５モル、好ましくは銀のモルに対して化合物は０．０２〜０．６モルである。
なお、上記の化合物の他に、本発明に係る熱現像感光材料中には、従来かぶり防止剤として知られている化合物が含まれてもよいが、上記の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化合物であっても、かぶり防止機構が異なる化合物であってもよい。例えば、米国特許第３，５８９，９０３号、同４，５４６，０７５号、同４，４５２，８８５号の各明細書、特開昭５９−５７２３４号公報、米国特許第３，８７４，９４６号明細書、同４，７５６，９９９号明細書、特開平９−２８８３２８号公報、同９−９０５５０号公報に記載されている化合物が挙げられる。更に、その他のかぶり防止剤としては、米国特許第５，０２８，５２３号及び欧州特許第６００，５８７号、同６０５，９８１号、同６３１，１７６号の各明細書に開示されている化合物が挙げられる。
本発明に用いる還元剤が芳香族性の水酸基（−ＯＨ）を有する場合、特にビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。
本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物の具体例としては、例えば、特開２００２−９０９３７号公報の段落「００６１」〜「００６４」に記載の化合物（II−１）〜（II−４０）が挙げられる。
本発明に係る熱現像感光材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を調整する色調剤を通常（有機）バインダーマトリックス中に分散した状態で含有していることが好ましい。
本発明に用いられる好適な色調剤の例は、ＲＤ１７０２９号、米国特許第４，１２３，２８２号、同３，９９４，７３２号、同３，８４６，１３６号及び同４，０２１，２４９号の各明細書に開示されており、例えば、次のものがある。
イミド類（例えば、スクシンイミド、フタルイミド、ナフタールイミド、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタールイミド）；メルカプタン類（例えば、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール）；フタラジノン誘導体またはこれらの誘導体の金属塩（例えば、フタラジノン、４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノン、５，７−ジメチルオキシフタラジノン、及び２，３−ジヒドロ−１，４−フタラジンジオン）；フタラジンとフタル酸類（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸）の組合せ；フタラジンとマレイン酸無水物、及びフタル酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸またはｏ−フェニレン酸誘導体及びその無水物（例えば、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物）から選択される少なくとも１つの化合物との組合せ等が挙げられる。特に好ましい色調剤としてはフタラジノンまたはフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組合せである。
（フッ素系界面活性剤）
本発明では熱現像装置でのフィルム搬送性や環境適性（生体内への蓄積性）を改良するために下記一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤が好ましく用いられる。
本発明では熱現像装置でのフィルム搬送性や環境適性（生体内への蓄積性）を改良するために下記一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤が好ましく用いられる。
一般式（ＳＦ） （Ｒｆ−（Ｌ１）n1−）p−（Ｙ）m1−（Ａ）q
式中、Ｒｆはフッ素原子を含有する置換基を表し、Ｌ１はフッ素原子を有しない２価の連結基を表し、Ｙはフッ素原子を有さない（ｐ＋ｑ）価の連結基を表し、Ａはアニオン基またはその塩を表し、ｎ１、ｍ１は各々０または１の整数を表し、ｐは１〜３の整数を表し、ｑは１〜３の整数を表す。但し、ｑが１の時はｎ１とｍ１は同時に０ではない。
式中、Ｒｆはフッ素原子を含有する置換基を表し、Ｌ１はフッ素原子を有しない２価の連結基を表し、Ｙはフッ素原子を有さない（ｐ＋ｑ）価の連結基を表し、Ａはアニオン基またはその塩を表し、ｎ１、ｍ１は各々０または１の整数を表し、ｐは１〜３の整数を表し、ｑは１〜３の整数を表す。但し、ｑが１の時はｎ１とｍ１は同時に０ではない。
前記一般式（ＳＦ）において、Ｒｆはフッ素原子を含有する置換基を表すが、該フッ素原子を含有する置換基としては、例えば、炭素数１〜２５のフッ化アルキル基（例えば、トリフロロメチル基、トリフロロエチル基、パーフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基、パーフロロドデシル基及びパーフロロオクタデシル基等）またはフッ化アルケニル基（例えば、パーフロロプロペニル基、パーフロロブテニル基、パーフロロノネニル基及びパーフロロドデセニル基等）等が挙げられる。
Ｌ１はフッ素原子を有さない２価の連結基を表すが、該フッ素原子を有さない２価の連結基としては、例えば、アルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基等）、アルキレンオキシ基（メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、ブチレンオキシ基等）、オキシアルキレン基（例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシブチレン基等）、オキシアルキレンオキシ基（例えば、オキシメチレンオキシ基、オキシエチレンオキシ基、オキシエチレンオキシエチレンオキシ基等）、フェニレン基、オキシフェニレン基、フェニルオキシ基、オキシフェニルオキシ基またはこれらの基を組合せた基等が挙げられる。
Ａはアニオン基またはその塩を表すが、例えば、カルボン酸基またはその塩（ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩）、スルホン酸基またはその塩（ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩）、硫酸ハーフエステル基またはその塩（ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩）、及び燐酸基またはその塩（ナトリウム塩及びカリウム塩等）等が挙げられる。
Ｙはフッ素原子を有さない（ｐ＋ｑ）価の連結基を表すが、例えば、フッ素原子を有さない３価または４価の連結基としては、窒素原子または炭素原子を中心にして構成される原子群が挙げられる。ｎ１は０または１の整数を表すが、１であるのが好ましい。
一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤は、フッ素原子を導入した炭素数１〜２５のアルキル化合物（例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基及びパーフロロオクタデシル基等を有する化合物）及びアルケニル化合物（例えば、パーフロロヘキセニル基及びパーフロロノネニル基等）と、それぞれフッ素原子を導入していない３価〜６価のアルカノール化合物、水酸基を３〜４個有する芳香族化合物またはヘテロ化合物との付加反応や縮合反応によって得られた化合物（一部Ｒｆ化されたアルカノール化合物）に、更に、例えば、硫酸エステル化等によりアニオン基（Ａ）を導入することにより得ることができる。
上記３〜６価のアルカノール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、２−メチル−２−ヒドロキシメチル１，３−プロパンジオール、２，４−ジヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルペンテン、１，２，６−ヘキサントリオール、１，１，１−トリス（ヒドロキシメチル）プロパン、２，２−ビス（ブタノール）−３、脂肪族トリオール、テトラメチロールメタン、Ｄ−ソルビトール、キシリトール、Ｄ−マンニトール等が挙げられる。
また、上記水酸基を３〜４個有する芳香族化合物及びへテロ化合物としては、１，３，５−トリヒドロキシベンゼン及び２，４，６−トリヒドロキシピリジン等が挙げられる。
以下に、一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤の好ましい具体的化合物を示す。
本発明に係る一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤を塗布液に添加する方法としては公知の添加法に従って添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができる。また、サンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジナイザ分散により１μｍ以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤は、最外層の保護層に添加することが好ましい。
本発明に係る一般式（ＳＦ）で表されるフッ素系界面活性剤の添加量は１ｍ2当たり１×１０-8〜１×１０-1モルが好ましく、１×１０-5〜１×１０-2モルが特に好ましい。前者の範囲未満では帯電特性が得られず、前者の範囲を越えると、湿度依存性が大きく高湿下の保存性が劣化する。
（表面層）
本発明における十点平均粗さ（Ｒｚ）、最大粗さ（Ｒｔ）、中心線平均粗さ（Ｒａ）は、下記のＪＩＳ表面粗さ（Ｂ０６０１）により定義される。十点平均粗さ（Ｒｚ）とは断面曲線から基準長さだけぬきとった部分において、平均線に平行、且つ断面曲線を横切らない直線から縦倍率の方向に測定した最高から５番目までの山頂の標高の平均値と最深から５番目までの谷底の標高の平均値との差をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。最大粗さ（Ｒｔ）とは粗さ曲線を基準長さＬだけ抜き取り、中心線に平行な２直線で抜き取り部分を挟んだとき、この２直線の間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定して、この値をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。中心線平均粗さ（Ｒａ）とは粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さＬの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸、粗さ曲線をｙ＝ｆ（ｘ）で表したとき、次の式によって求められる値をマイクロメートル（μｍ）であらわしたものをいう。
本発明における十点平均粗さ（Ｒｚ）、最大粗さ（Ｒｔ）、中心線平均粗さ（Ｒａ）は、下記のＪＩＳ表面粗さ（Ｂ０６０１）により定義される。十点平均粗さ（Ｒｚ）とは断面曲線から基準長さだけぬきとった部分において、平均線に平行、且つ断面曲線を横切らない直線から縦倍率の方向に測定した最高から５番目までの山頂の標高の平均値と最深から５番目までの谷底の標高の平均値との差をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。最大粗さ（Ｒｔ）とは粗さ曲線を基準長さＬだけ抜き取り、中心線に平行な２直線で抜き取り部分を挟んだとき、この２直線の間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定して、この値をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。中心線平均粗さ（Ｒａ）とは粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さＬの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸、粗さ曲線をｙ＝ｆ（ｘ）で表したとき、次の式によって求められる値をマイクロメートル（μｍ）であらわしたものをいう。
Ｒｚ、Ｒｔ、Ｒａの測定方法としては、２５℃、６５％ＲＨ環境下で測定試料同士が重ね合わされない条件で２４時間調湿した後、該環境下で測定した。ここで示す重ね合わされない条件とは、例えば、フィルムエッジ部分を高くした状態で巻き取る方法やフィルムとフィルムの間に紙をはさんで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることのできる測定装置としては、例えば、ＷＹＫＯ社製ＲＳＴＰＬＵＳ非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることができる。
感光材料の表面と裏面のＲｚ、Ｒｔ、Ｒａを本発明の範囲とするためには、下記に示す技術手段を適宜組み合わせて用いることで容易に調整することができる。
１）画像形成層を有する側の層、画像形成層を有する側と反対面の層に含まれるマット剤（無機または有機粉末）の種類、平均粒径、添加量、表面処理方法
２）マット剤の分散条件（使用する分散機の種類、分散時間、分散に使用するビーズの種類、平均粒径、分散時に使用する分散剤の種類と量、バインダーの極性基の種類、極性基含有量）
３）塗布時の乾燥条件（塗布速度、温風の吹き出しノズルの塗布面からの距離、乾燥風量）、残留溶媒量
４）塗布液の濾過に用いるフイルターの種類、濾過時間
５）塗布後にカレンダ処理を行う場合は、その条件（例えば、カレンダ温度４０〜８０℃、圧力４９０〜２９４０Ｎ／ｃｍ、ラインスピード２０〜１００ｍ、ニップ数２〜６）
本発明においては、Ｒｚ（Ｅ）／Ｒｚ（Ｂ）の値が０．１以上、０．７以下であるのが好ましく、特にＲｚ（Ｅ）／Ｒｚ（Ｂ）の値が０．２以上、０．６以下であるのが好ましく、０．３以上、０．５５以下であるのがより好ましい。この範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、フィルムの搬送性がよく、熱現像時の濃度むらの発生を格段に向上することができる。
２）マット剤の分散条件（使用する分散機の種類、分散時間、分散に使用するビーズの種類、平均粒径、分散時に使用する分散剤の種類と量、バインダーの極性基の種類、極性基含有量）
３）塗布時の乾燥条件（塗布速度、温風の吹き出しノズルの塗布面からの距離、乾燥風量）、残留溶媒量
４）塗布液の濾過に用いるフイルターの種類、濾過時間
５）塗布後にカレンダ処理を行う場合は、その条件（例えば、カレンダ温度４０〜８０℃、圧力４９０〜２９４０Ｎ／ｃｍ、ラインスピード２０〜１００ｍ、ニップ数２〜６）
本発明においては、Ｒｚ（Ｅ）／Ｒｚ（Ｂ）の値が０．１以上、０．７以下であるのが好ましく、特にＲｚ（Ｅ）／Ｒｚ（Ｂ）の値が０．２以上、０．６以下であるのが好ましく、０．３以上、０．５５以下であるのがより好ましい。この範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、フィルムの搬送性がよく、熱現像時の濃度むらの発生を格段に向上することができる。
また本発明においては、Ｒａ（Ｅ）／Ｒａ（Ｂ）の値が０．６以上、１．５以下であるのが好ましく、特にＲａ（Ｅ）／Ｒａ（Ｂ）の値が０．６以上、１．３以下であるのが好ましく、０．７以上、１．１以下であるのがより好ましい。この範囲とすることで、本発明の効果の中でも特に、経時でのかぶり上昇が小さく、フィルムの搬送性がよく、熱現像時の濃度むらの発生についてより向上させることができる。
本発明に係る画像形成方法においては、画像形成層を有する側の表面に含まれるマット剤の最大の平均粒径をもつものの平均粒径をＬｅ（μｍ）、バックコート層を有する側の表面に含まれるマット剤の最大の平均粒径をもつものの平均粒径をＬｂ（μｍ）とする時Ｌｂ／Ｌｅが２．０〜１０であることが好ましく、より好ましくは３．０〜４．５である。Ｌｂ／Ｌｅをこの範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、熱現像時の濃度ムラを改良することができる。また本発明に係る画像形成方法においてはＲｚ（Ｅ）／Ｒａ（Ｅ）の値は好ましくは１２以上、６０以下であり、より好ましくは１４以上、５０以下である。Ｒｚ（Ｅ）／Ｒａ（Ｅ）の値をこの範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、熱現像時の濃度ムラおよび経時での保存特性を改良することができる。また本発明に係る画像形成方法においてはＲｚ（Ｂ）／Ｒａ（Ｂ）の値は好ましくは２５以上、６５以下であり、より好ましくは３０以上、６０以下である。Ｒｚ（Ｂ）／Ｒａ（Ｂ）の値をこの範囲とすることで本発明の効果の中でも特に、熱現像時の濃度ムラおよび経時での保存特性を改良することができる。
本発明においては、熱現像感光材料の表面層に（画像形成層側、また支持体をはさみ画像形成層の反対側に非画像形成層を設けた場合にも）、本発明の目的、また表面粗さをコントロールする等のためにマット剤として有機または無機の粉末を用いることが好ましい。本発明において用いられる粉末としては、モース硬度が５以上の粉末を用いることが好ましい。粉末としては公知の無機質粉末や有機質粉末を適宜選択して使用することができる。無機質粉末としては、例えば、酸化チタン、窒化ホウ素、ＳｎＯ2、ＳｉＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、α−Ａｌ2Ｏ3、α−Ｆｅ2Ｏ3、α−ＦｅＯＯＨ、ＳｉＣ、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、ザクロ石、ガーネット、マイカ、ケイ石、窒化ケイ素、炭化ケイ素等を挙げることができる。有機質粉末としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、テフロン（登録商標）等の粉末を挙げることができる。これらの中でも好ましいのは、ＳｉＯ2、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Ａｌ2Ｏ3、α−Ｆｅ2Ｏ3、α−ＦｅＯＯＨ、Ｃｒ2Ｏ3、マイカ等の無機粉末等であり、その中でもＳｉＯ2、α−Ａｌ2Ｏ3が好ましく、特に好ましいのはＳｉＯ2である。
本発明において、前記粉末が、例えば、表面処理されていることが好ましい。表面処理層形成は、無機質粉末素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で無機質粉末粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなくＡｌＣｌ3、ＳｉＣｌ4の蒸気を非磁性無機質粉末に通じ、その後水蒸気を流入してＡｌ、Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。その他の表面処理法については、「Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ Ｐｏｗｄｅｒ Ｓｕｒｆａｃｅｓ」Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓを参考にすることができる。
本発明では、Ｓｉ化合物またはＡｌ化合物により表面処理されていることが好ましい。かかる表面処理のなされた粉末を用いるとマット剤分散時の分散状態を良好にすることができる。前記ＳｉまたはＡｌの含有量としては、前記粉末に対して、Ｓｉが０．１〜１０質量％、Ａｌが０．１〜１０質量％であるのが好ましく、より好ましくはＳｉが０．１〜５質量％、Ａｌが０．１〜５質量％であり、Ｓｉが０．１〜２質量％、Ａｌが０．１〜２質量％であるのが特に好ましい。また、Ｓｉ、Ａｌの質量比がＳｉ＜Ａｌであるのがよい。表面処理に関しては特開平２−８３２１９号公報に記載された方法により行うことができる。なお、本発明における粉末の平均粒径とは、球状粉末においてはその平均直径を、針状粉末においてはその平均長軸長を、板状粉末においてはその板状面の最大の対角線の長さの平均値をそれぞれ意味し、電子顕微鏡による測定から容易に求めることができる。
上記の有機または無機粉末は平均粒径が０．５〜１０μｍであることが好ましく、更に好ましくは１．０〜８．０μｍである。
画像形成層側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は、通常０．５〜８．０μｍ、好ましくは１．０〜６．０μｍであり、より好ましくは２．０〜５．０μｍである。添加量は最外層に用いられるバインダー量（架橋剤についてはバインダー量に含む）に対して通常１．０〜２０質量％であり、好ましくは２．０〜１５質量％であり、より好ましくは３．０〜１０質量％である。支持体をはさんで画像形成層側とは反対側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は、通常２．０〜１５．０μｍ、好ましくは３．０〜１２．０μｍであり、より好ましくは４．０〜１０．０μｍである。添加量は最外層に用いられるバインダー量（架橋剤についてはバインダー量に含む）に対して通常０．２〜１０質量％であり、好ましくは０．４〜７質量％であり、より好ましくは０．６〜５質量％である。
また、粒子サイズ分布の変動係数としては、５０％以下であることが好ましく、更に好ましくは４０％以下であり、特に好ましくは３０％以下となる粉末である。ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表される値である。
｛（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）｝×１００
有機または無機粉末の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前に有機または無機粉末を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類の粉末を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
有機または無機粉末の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前に有機または無機粉末を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類の粉末を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
（支持体）
熱現像感光材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属（アルミニウム等）等が挙げられるが、情報記録材料としての取扱い上は、可撓性のあるシートまたはロールに加工できるものが好適である。従って、本発明に係る熱現像感光材料における支持体としては、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣ）またはポリカーボネート（ＰＣ）フィルム等のプラスチックフィルムが好ましく、特に２軸延伸したＰＥＴフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては５０〜３００μｍ程度、好ましくは７０〜１８０μｍである。
熱現像感光材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属（アルミニウム等）等が挙げられるが、情報記録材料としての取扱い上は、可撓性のあるシートまたはロールに加工できるものが好適である。従って、本発明に係る熱現像感光材料における支持体としては、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣ）またはポリカーボネート（ＰＣ）フィルム等のプラスチックフィルムが好ましく、特に２軸延伸したＰＥＴフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては５０〜３００μｍ程度、好ましくは７０〜１８０μｍである。
帯電性を改良するために金属酸化物及び／または導電性ポリマー等の導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらは何れの層に含有させてもよいが、好ましくはバッキング層または感光性層側の表面保護層、下引層等に含まれる。米国特許第５，２４４，７７３号明細書のカラム１４〜２０に記載された導電性化合物等が好ましく用いられる。中でも、本発明では、バッキング層側の表面保護層に導電性金属酸化物を含有することが好ましい。このことで、更に本発明の効果（特に熱現像処理時の搬送性）を高められることが判った。
ここで、導電性金属酸化物とは結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は、一般的に言って導電性が高いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳剤にかぶりを与えないので特に好ましい。金属酸化物の例として、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ3、Ｖ2Ｏ5等、またはこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ2及びＳｎＯ2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えば、ＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＳｎＯ2に対してはＳｂ、Ｎｂ、Ｐ、ハロゲン元素等の添加、またＴｉＯ2に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１〜３０モル％の範囲が好ましいが、０．１〜１０モル％であれば特に好ましい。更にまた、微粒子分散性、透明性改良のために、微粒子作製時に珪素化合物を添加してもよい。
本発明に用いられる金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その体積抵抗率は１０7Ω・ｃｍ以下、特に１０5Ω・ｃｍ以下である。これらの酸化物については特開昭５６−１４３４３１号、同５６−１２０５１９号、同５８−６２６４７号の各公報等に記載されている。更にまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物（酸化チタン等）に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用してもよい。
利用できる粒子サイズは１μｍ以下が好ましいが、０．５μｍ以下であると分散後の安定性が良く使用し易い。また、光散乱性をできるだけ小さくするために、０．３μｍ以下の導電性粒子を利用すると、透明感光材料を形成することが可能となり大変好ましい。また、導電性金属酸化物が針状あるいは繊維状の場合は、その長さは３０μｍ以下で直径が１μｍ以下が好ましく、特に好ましいのは長さが１０μｍ以下で直径０．３μｍ以下であり、長さ／直径比が３以上である。なお、ＳｎＯ2としては、石原産業社より市販されており、ＳＮＳ１０Ｍ、ＳＮ−１００Ｐ、ＳＮ−１００Ｄ、ＦＳＳ１０Ｍ等を用いることができる。
本発明に係る熱現像感光材料は、支持体上に少なくとも１層の感光層である画像形成層を有している。支持体上に画像形成層のみを形成してもよいが、画像形成層の上に少なくとも１層の非感光層を形成することが好ましい。例えば、画像形成層の上には保護層が、画像形成層を保護する目的で設けられることが好ましく、また支持体の反対の面には、感光材料間の、あるいは感光材料ロールにおける「くっつき」を防止するために、バックコート層が設けられる。
これらの保護層やバックコート層に用いるバインダーとしては、画像形成層よりもガラス転位点（Ｔｇ）が高く、擦傷や、変形の生じ難いポリマー、例えばセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のポリマーが、前記のバインダーの中から選ばれる。
なお、階調調整等のために、画像形成層を支持体の一方の側に２層以上または支持体の両側に１層以上設置してもよい。
（構成層の塗布）
本発明に係る熱現像感光材料は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解または分散させた塗布液を作り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層（例えば、画像形成層、保護層）の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各層個別に塗布、乾燥の繰り返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成しうることを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が７０質量％以下（より好ましくは９０質量％以下）となる前に、上層を設けることである。
本発明に係る熱現像感光材料は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解または分散させた塗布液を作り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層（例えば、画像形成層、保護層）の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各層個別に塗布、乾燥の繰り返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成しうることを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が７０質量％以下（より好ましくは９０質量％以下）となる前に、上層を設けることである。
各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えば、バーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、リバースロール塗布法、グラビア塗布法、エクストリュージョン塗布法等の公知の方法を用いることができる。これらのうちより好ましくはスライド塗布法、エクストリュージョン塗布法である。これらの塗布方法は画像形成層を有する側について述べたが、バック層を設ける際、下引きと共に塗布する場合についても同様である。熱現像感光材料における同時重層塗布方法に関しては、特開２０００−１５１７３号公報に詳細な記載がある。
なお、本発明において、塗布銀量のうちハロゲン化銀に由来するものは全銀量に対して２〜１８％を占めることが好ましい、更には５〜１５％が好ましい。
また、本発明において、０．０１μｍ以上（球相当換算粒径）のハロゲン化銀粒子の塗布密度は１×１０14個／ｍ2以上、１×１０18個／ｍ2以下が好ましい。更には１×１０15個／ｍ2以上、１×１０17個／ｍ2以下が好ましい。
更に、前記の非感光性長鎖脂肪族カルボン酸銀の塗布密度は、０．０１μｍ以上（球相当換算粒径）のハロゲン化銀粒子１個当たり、１×１０-17ｇ以上、１×１０-14ｇ以下が好ましく、１×１０-16ｇ以上、１×１０-15ｇ以下がより好ましい。
上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高濃度、即ち銀被覆量（カバーリング・パワー）及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。
本発明においては、熱現像感光材料が現像時に溶剤を５〜１，０００ｍｇ／ｍ2の範囲で含有していることが好ましい。１００〜５００ｍｇ／ｍ2であるように調整することがより好ましい。それにより、高感度、低かぶり、最高濃度の高い熱現像感光材料となる。溶剤としては、特開２００１−２６４９３０号公報の段落「００３０」に記載のものが挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。また、これらの溶剤は単独または数種類組合せて用いることができる。
なお、熱現像感光材料中の上記溶剤の含有量は塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によって調整できる。また、当該溶剤の含有量は、含有させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマトグラフィーで測定できる。
（包装体）
本発明に係る熱現像感光材料を保存する場合は、経時での濃度変化やかぶり発生を防止するため、もしくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率および／または水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は２５℃で４９．３×１０-5ｍｌ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは９．９×１０-5ｍｌ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下、更に好ましくは１．０×１０-5ｍｌ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下である。水分透過率は９．９×１０-5ｇ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは４．９×１０-5ｇ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下、更に好ましくは１．０×１０-5ｇ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下である。熱現像感光材料用の包装材料の具体例としては、例えば、特開平８−２５４７９３号、特開２０００−２０６６５３号、同２０００−２３５２４１号、同２００２−０６２６２５号、同２００３−０１５２６１号、同２００３−０５７７９０号、同２００３−０８４３９７号、同２００３−０９８６４８号、同２００３−０９８６３５号、同２００３−１０７６３５号、同２００３−１３１３３７号、同２００３−１４６３３０号、同２００３−２２６４３９、同２００３−２２８１５２号の各公報に記載されている包装材料である。また包装体内の空隙率は０．０１〜１０％、好ましくは０．０２〜５％とするのがよく、窒素封入を行って包装体内の窒素分圧を８０％以上、好ましくは９０％以上とするのがよい。また包装体内の相対湿度は１０％以上６０％以下、好ましくは４０％以上、５５％以下とするのが良い。
本発明に係る熱現像感光材料を保存する場合は、経時での濃度変化やかぶり発生を防止するため、もしくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率および／または水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は２５℃で４９．３×１０-5ｍｌ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは９．９×１０-5ｍｌ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下、更に好ましくは１．０×１０-5ｍｌ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下である。水分透過率は９．９×１０-5ｇ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは４．９×１０-5ｇ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下、更に好ましくは１．０×１０-5ｇ／Ｐａ・ｍ2・ｄａｙ以下である。熱現像感光材料用の包装材料の具体例としては、例えば、特開平８−２５４７９３号、特開２０００−２０６６５３号、同２０００−２３５２４１号、同２００２−０６２６２５号、同２００３−０１５２６１号、同２００３−０５７７９０号、同２００３−０８４３９７号、同２００３−０９８６４８号、同２００３−０９８６３５号、同２００３−１０７６３５号、同２００３−１３１３３７号、同２００３−１４６３３０号、同２００３−２２６４３９、同２００３−２２８１５２号の各公報に記載されている包装材料である。また包装体内の空隙率は０．０１〜１０％、好ましくは０．０２〜５％とするのがよく、窒素封入を行って包装体内の窒素分圧を８０％以上、好ましくは９０％以上とするのがよい。また包装体内の相対湿度は１０％以上６０％以下、好ましくは４０％以上、５５％以下とするのが良い。
（熱現像感光材料の露光）
熱現像感光材料は、画像記録する際にレーザ光を用いるのが普通である。本発明においては、当該感光材料に付与した感色性に対し適切な光源を用いることが望ましい。例えば、当該感光材料を赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザパワーがハイパワーであることや、熱現像感光材料を透明にできる等の点から、赤外半導体レーザ（７８０ｎｍ、８２０ｎｍ）がより好ましく用いられる。
熱現像感光材料は、画像記録する際にレーザ光を用いるのが普通である。本発明においては、当該感光材料に付与した感色性に対し適切な光源を用いることが望ましい。例えば、当該感光材料を赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザパワーがハイパワーであることや、熱現像感光材料を透明にできる等の点から、赤外半導体レーザ（７８０ｎｍ、８２０ｎｍ）がより好ましく用いられる。
また特に本発明に係る熱現像感光材料は、好ましくは光量が１ｍＷ／ｍｍ2以上の高照度の光で短時間露光されることでその特性を発揮する。ここでの照度は熱現像後の感光材料が３．０の光学濃度がでるときの照度を言う。このような高照度で露光を行うと必要な光学濃度を得るために必要な光量（＝照度×露光時間）が少なくてすみ、高感度システムを設計できる。より好ましくはその光量は２ｍＷ／ｍｍ2以上５０Ｗ／ｍｍ2以下であり、更に好ましくは１０ｍＷ／ｍｍ2以上５０Ｗ／ｍｍ2以下である。このような光源であればどのようなものでも構わないが、レーザ光であることによって好ましく達成できる。本発明にこのましく用いられるレーザ光としては、ガスレーザ（Ａｒ+、Ｋｒ+、Ｈｅ−Ｎｅ）、ＹＡＧレーザ、色素レーザ、半導体レーザなどが好ましい。また、半導体レーザと第２高調波発生素子などを用いることもできる。また青〜紫発光の半導体レーザ（波長３５０ｎｍ〜４４０ｎｍにピーク強度を持つもの等）を用いることができる。青〜紫発光の高出力半導体レーザとしては、日亜化学のＮＬＨＶ３０００Ｅ半導体レーザを挙げることができる。
本発明において、露光はレーザ走査露光により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用できる。例えば、第１の好ましい方法として、感光材料の露光面と走査レーザ光の為す角が実質的に垂直になることがないレーザ走査露光機を用いる方法が挙げられる。
ここで、「実質的に垂直になることがない」とは、レーザ光走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは５５〜８８度、より好ましくは６０〜８６度、更に好ましくは６５〜８４度、最も好ましくは７０〜８２度であることを言う。
レーザ光が感光材料に走査される時の、感光材料露光面でのビームスポット直径は好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下である。これは、スポット径が小さい方が、レーザ光入射角度の垂直からの「ずらし角度」を減らせる点で好ましい。なお、ビームスポット直径の下限は１０μｍである。この様なレーザ走査露光を行うことにより、干渉縞様のムラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じることができる。
また、第２の方法として、露光は縦マルチである走査レーザ光を発するレーザ走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザ光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。縦マルチ化するには、合波による、戻り光を利用する、高周波重畳を掛ける、等の方法がよい。なお、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常、露光波長の分布が５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常６０ｎｍ程度である。
更に、第３の態様としては、２本以上のレーザ光を用いて、走査露光により画像を形成することも好ましい。この様な複数本のレーザ光を利用した画像記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から１回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている技術であり、例えば、特開昭６０−１６６９１６号公報等により知られている。これは、光源ユニットから放射されたレーザ光をポリゴンミラーで偏向走査し、ｆθレンズ等を介して感光体上に結像する方法であり、これはレーザイメージャー等と原理的に同じレーザ走査光学装置である。
レーザプリンタやデジタル複写機の画像書込み手段における感光体上へのレーザ光の結像は、１回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むという用途から、一つのレーザ光の結像位置から１ライン分ずらして次のレーザ光が結像されている。具体的には、二つの光ビームは、互いに副走査方向に像面上で数１０μｍオーダーの間隔で近接しており、印字密度が４００ｄｐｉ（ｄｐｉとは、１インチ＝２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）で２ビームの副走査方向ピッチは６３．５μｍ、６００ｄｐｉで４２．３μｍである。この様な、副走査方向に解像度分ずらした方法とは異なり、本発明では同一の場所に２本以上のレーザを入射角を変え露光面に集光させ画像形成することが好ましい。この際、通常の１本のレーザ光（波長λ［ｎｍ］）で書き込む場合の露光面での露光エネルギーがＥであり、露光に使用するＮ本のレーザ光が同一波長（波長λ［ｎｍ］）、同一露光エネルギー（Ｅｎ）である場合に、０．９×Ｅ≦Ｅｎ×Ｎ≦１．１×Ｅの範囲にするのが好ましい。この様にすることにより、露光面ではエネルギーは確保されるが、それぞれのレーザ光の画像形成層への反射は、レーザの露光エネルギーが低いため低減され、ひいては干渉縞の発生が抑えられる。
なお、上述では複数本のレーザ光の波長をλと同一のものを使用したが、波長の異なるものを用いてもよい。この場合には、λ［ｎｍ］に対して（λ−３０）＜λ１、λ２、・・・・・λｎ≦（λ＋３０）の範囲にするのが好ましい。
なお、上述した第１、第２及び第３の態様の画像記録方法において、走査露光に用いるレーザとしては、一般によく知られている、ルビーレーザ、ＹＡＧレーザ、ガラスレーザ等の固体レーザ；Ｈｅ−Ｎｅレーザ、Ａｒイオンレーザ、Ｋｒイオンレーザ、ＣＯ2レーザ、ＣＯレーザ、Ｈｅ−Ｃｄレーザ、Ｎ2レーザ、エキシマーレーザ等の気体レーザ；ＩｎＧａＰレーザ、ＡｌＧａＡｓレーザ、ＧａＡｓＰレーザ、ＩｎＧａＡｓレーザ、ＩｎＡｓＰレーザ、ＣｄＳｎＰ2レーザ、ＧａＳｂレーザ等の半導体レーザ；化学レーザ、色素レーザ等を用途に併せて適時選択して使用できるが、これらの中でも、メンテナンスや光源の大きさの問題から、波長が６００〜１２００ｎｍの半導体レーザによるレーザ光を用いるのが好ましい。なお、レーザ・イメージャやレーザ・イメージセッタで使用されるレーザ光において、熱現像感光材料に走査される時の該材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として５〜７５μｍ、長軸径として５〜１００μｍの範囲であり、レーザ光走査速度は熱現像感光材料固有のレーザ発振波長における感度とレーザパワーによって、熱現像感光材料毎に最適な値に設定することができる。
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。なお、特に断りない限り、実施例中の「％」は「質量％」を表す。
実施例１
〈下引加工した写真用支持体の作製〉
光学濃度０．１５０（コニカミノルタ（株）製デンシトメータＰＤＡ−６５で測定）に下記青色染料で着色した２軸延伸熱固定した厚さ１７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に、８Ｗ・分／ｍ2のコロナ放電処理を施した写真用支持体に、下引加工を行った。即ち、この写真用支持体の一方の面に下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚が０．２μｍになるように２２℃、１００ｍ／分で塗設し、１４０℃で乾燥して画像形成層側下引層を形成した（下引下層Ａ−１という）。また、反対側の面にバッキング層下引層として、下記下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚が０．１２μｍになるように２２℃、１００ｍ／分で塗設し、１４０℃で乾燥させてバッキング層側に帯電防止機能を持つ下引導電層（下引下層Ｂ−１という）を塗設した。下引下層Ａ−１と下引下層Ｂ−１の上表面に、８Ｗ・分／ｍ2のコロナ放電を施し、下引下層Ａ−１の上には下記下引塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．０３μｍになるように３３℃、１００ｍ／分で塗設し、１４０℃で乾燥させて下引上層Ａ−２とし、下引下層Ｂ−１の上には下記下引塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．２μｍになるように３３℃、１００ｍ／分で塗設し、１４０℃で乾燥させて下引上層Ｂ−２とし、更に１２３℃で２分間支持体を熱処理し２５℃、５０％ＲＨの条件下で巻き取り、下引済み試料を作製した。
〈下引加工した写真用支持体の作製〉
光学濃度０．１５０（コニカミノルタ（株）製デンシトメータＰＤＡ−６５で測定）に下記青色染料で着色した２軸延伸熱固定した厚さ１７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に、８Ｗ・分／ｍ2のコロナ放電処理を施した写真用支持体に、下引加工を行った。即ち、この写真用支持体の一方の面に下引塗布液ａ−１を乾燥膜厚が０．２μｍになるように２２℃、１００ｍ／分で塗設し、１４０℃で乾燥して画像形成層側下引層を形成した（下引下層Ａ−１という）。また、反対側の面にバッキング層下引層として、下記下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚が０．１２μｍになるように２２℃、１００ｍ／分で塗設し、１４０℃で乾燥させてバッキング層側に帯電防止機能を持つ下引導電層（下引下層Ｂ−１という）を塗設した。下引下層Ａ−１と下引下層Ｂ−１の上表面に、８Ｗ・分／ｍ2のコロナ放電を施し、下引下層Ａ−１の上には下記下引塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．０３μｍになるように３３℃、１００ｍ／分で塗設し、１４０℃で乾燥させて下引上層Ａ−２とし、下引下層Ｂ−１の上には下記下引塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．２μｍになるように３３℃、１００ｍ／分で塗設し、１４０℃で乾燥させて下引上層Ｂ−２とし、更に１２３℃で２分間支持体を熱処理し２５℃、５０％ＲＨの条件下で巻き取り、下引済み試料を作製した。
〈水性ポリエステルＡ−１溶液の調製〉
テレフタル酸ジメチル３５．４質量部、イソフタル酸ジメチル３３．６３質量部、５−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム塩１７．９２質量部、エチレングリコール６２質量部、酢酸カルシウム・一水塩０．０６５質量部、酢酸マンガン四水塩０．０２２質量部を、窒素気流下において、１７０〜２２０℃でメタノールを留去しながらエステル交換反応を行った後、リン酸トリメチル０．０４質量部、重縮合触媒とし三酸化アンチモン０．０４質量部及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸６．８質量部を加え、２２０〜２３５℃の反応温度で、ほぼ理論量の水を留去しエステル化を行った。
テレフタル酸ジメチル３５．４質量部、イソフタル酸ジメチル３３．６３質量部、５−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム塩１７．９２質量部、エチレングリコール６２質量部、酢酸カルシウム・一水塩０．０６５質量部、酢酸マンガン四水塩０．０２２質量部を、窒素気流下において、１７０〜２２０℃でメタノールを留去しながらエステル交換反応を行った後、リン酸トリメチル０．０４質量部、重縮合触媒とし三酸化アンチモン０．０４質量部及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸６．８質量部を加え、２２０〜２３５℃の反応温度で、ほぼ理論量の水を留去しエステル化を行った。
その後、更に反応系内を約１時間かけて減圧、昇温し最終的に２８０℃、１３３Ｐａ以下で約１時間重縮合を行い、水性ポリエステルＡ−１を合成した。得られた水性ポリエステルＡ−１の固有粘度は０．３３、平均粒径は４０ｎｍ、Ｔｇ：５１℃、Ｍｗ＝８００００〜１０００００であった。
次いで、撹拌翼、環流冷却管、温度計を付した２Ｌの３つ口フラスコに、純水８５０ｍｌを入れ、撹拌翼を回転させながら、水性ポリエステルＡ−１を１５０ｇ徐々に添加した。室温でこのまま３０分間撹拌した後、１．５時間かけて内温が９８℃になるように加熱し、この温度で３時間加熱溶解した。加熱終了後、１時間かけて室温まで冷却し、一夜放置して、１５質量％の水性ポリエステルＡ−１溶液を調製した。
〈変性水性ポリエステルＢ−１〜２溶液の調製〉
撹拌翼、環流冷却管、温度計、滴下ロートを付した３Ｌの４つ口フラスコに、前記１５質量％の水性ポリエステルＡ−１溶液１９００ｍｌを入れ、撹拌翼を回転させながら、内温度を８０℃まで加熱する。この中に、過酸化アンモニウムの２４質量％水溶液を６．５２ｍｌ加え、モノマー混合液（メタクリル酸グリシジル２８．５ｇ、アクリル酸エチル２１．４ｇ、メタクリル酸メチル２１．４ｇ）を３０分間かけて滴下し、更に３時間反応を続ける。その後、３０℃以下まで冷却、濾過して、固形分濃度が１８質量％の変性水性ポリエステルＢ−１溶液（ビニル系成分変性比率２０質量％）を調製した。
撹拌翼、環流冷却管、温度計、滴下ロートを付した３Ｌの４つ口フラスコに、前記１５質量％の水性ポリエステルＡ−１溶液１９００ｍｌを入れ、撹拌翼を回転させながら、内温度を８０℃まで加熱する。この中に、過酸化アンモニウムの２４質量％水溶液を６．５２ｍｌ加え、モノマー混合液（メタクリル酸グリシジル２８．５ｇ、アクリル酸エチル２１．４ｇ、メタクリル酸メチル２１．４ｇ）を３０分間かけて滴下し、更に３時間反応を続ける。その後、３０℃以下まで冷却、濾過して、固形分濃度が１８質量％の変性水性ポリエステルＢ−１溶液（ビニル系成分変性比率２０質量％）を調製した。
ビニル変性比率を３６質量％にし、変性成分をスチレン：グリシジルメタクリレート：アセトアセトキシエチルメタクリレート：ｎ−ブチルアクリレート＝３９．５：４０：２０：０．５にした以外は同様にして、固形分濃度が１８質量％の変性水性ポリエステルＢ−２溶液（ビニル系成分変性比率２０質量％）を調製した。
〈アクリル系ポリマーラテックスＣ−１〜Ｃ−３の作製〉
乳化重合により、表１に示すモノマー組成を有するアクリル系ポリマーラテックスＣ−１〜Ｃ−３を合成した。固形分濃度は全て３０質量％とした。
乳化重合により、表１に示すモノマー組成を有するアクリル系ポリマーラテックスＣ−１〜Ｃ−３を合成した。固形分濃度は全て３０質量％とした。
〈画像形成層側下引下層用塗布液ａ−１〉
アクリル系ポリマーラテックスＣ−３（固形分３０％） ７０．０ｇ
エトキシ化アルコールとエチレンホモポリマーの水分散物（固形分１０％）
５．０ｇ
界面活性剤（Ａ） ０．１ｇ
以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とした。
アクリル系ポリマーラテックスＣ−３（固形分３０％） ７０．０ｇ
エトキシ化アルコールとエチレンホモポリマーの水分散物（固形分１０％）
５．０ｇ
界面活性剤（Ａ） ０．１ｇ
以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とした。
〈画像形成層側下引上層用塗布液ａ−２〉
変性水性ポリエステルＢ−２（１８質量％） ３０．０ｇ
界面活性剤（Ａ） ０．１ｇ
真球状シリカマット剤（日本触媒（株）製 シーホスターＫＥ−Ｐ５０）
０．０４ｇ
以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とした。
変性水性ポリエステルＢ−２（１８質量％） ３０．０ｇ
界面活性剤（Ａ） ０．１ｇ
真球状シリカマット剤（日本触媒（株）製 シーホスターＫＥ−Ｐ５０）
０．０４ｇ
以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とした。
〈バックコート層側下引下層用塗布液ｂ−１〉
アクリル系ポリマーラテックスＣ−１（固形分３０％） ３０．０ｇ
アクリル系ポリマーラテックスＣ−２（固形分３０％） ７．６ｇ
ＳｎＯ2ゾル １８０ｇ
（特公昭３５−６６１６号公報の実施例１に記載の方法で合成したＳｎＯ2ゾルを固形分濃度が１０質量％になるように加熱濃縮した後、アンモニア水でｐＨ＝１０に調整したもの）
界面活性剤（Ａ） ０．５ｇ
ＰＶＡ−６１３（クラレ（株）製 ＰＶＡ）５質量％水溶液 ０．４ｇ
以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とした。
アクリル系ポリマーラテックスＣ−１（固形分３０％） ３０．０ｇ
アクリル系ポリマーラテックスＣ−２（固形分３０％） ７．６ｇ
ＳｎＯ2ゾル １８０ｇ
（特公昭３５−６６１６号公報の実施例１に記載の方法で合成したＳｎＯ2ゾルを固形分濃度が１０質量％になるように加熱濃縮した後、アンモニア水でｐＨ＝１０に調整したもの）
界面活性剤（Ａ） ０．５ｇ
ＰＶＡ−６１３（クラレ（株）製 ＰＶＡ）５質量％水溶液 ０．４ｇ
以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とした。
〈バックコート層側下引上層用塗布液ｂ−２〉
変性水性ポリエステルＢ−１（１８質量％） １４５．０ｇ
真球状シリカマット剤（日本触媒（株）製 シーホスターＫＥ−Ｐ５０） ０．２ｇ
界面活性剤（Ａ） ０．１ｇ
以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とした。
変性水性ポリエステルＢ−１（１８質量％） １４５．０ｇ
真球状シリカマット剤（日本触媒（株）製 シーホスターＫＥ−Ｐ５０） ０．２ｇ
界面活性剤（Ａ） ０．１ｇ
以上に蒸留水を加えて１０００ｍｌとし、塗布液とした。
なお、前記下引層を施した支持体の下引層Ａ−２上には下記の組成のバックコート層、バックコート層保護層を塗設した。
〈バックコート層塗布液の調製〉
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）８３０ｇを撹拌しながら、セルロースアセテートプロピオネート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製：ＣＡＰ４８２−２０）８４．２ｇ及びポリエステル樹脂（Ｂｏｓｔｉｃ社：ＶｉｔｅｌＰＥ２２００Ｂ）４．５ｇを添加し溶解した。次に、溶解した液に０．３０ｇの下記赤外染料１を添加し、更にメタノール４３．２ｇに溶解した弗素系界面活性剤（旭硝子社製：サーフロンＫＨ４０）４．５ｇと弗素系界面活性剤（大日本インキ社製：メガファッグＦ１２０Ｋ）２．３ｇを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレートの２．５ｇを添加、撹拌しバックコート層塗布液を調製した。
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）８３０ｇを撹拌しながら、セルロースアセテートプロピオネート（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製：ＣＡＰ４８２−２０）８４．２ｇ及びポリエステル樹脂（Ｂｏｓｔｉｃ社：ＶｉｔｅｌＰＥ２２００Ｂ）４．５ｇを添加し溶解した。次に、溶解した液に０．３０ｇの下記赤外染料１を添加し、更にメタノール４３．２ｇに溶解した弗素系界面活性剤（旭硝子社製：サーフロンＫＨ４０）４．５ｇと弗素系界面活性剤（大日本インキ社製：メガファッグＦ１２０Ｋ）２．３ｇを添加して、溶解するまで十分に攪拌を行った。次にオレイルオレートの２．５ｇを添加、撹拌しバックコート層塗布液を調製した。
〈バックコート層保護層（表面保護層）塗布液の調製〉
バックコート層保護層についても下記の組成比率でバックコート層塗布液と同様にして調製した。シリカについてはＭＥＫに１％の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散を行い、最後に添加した。
バックコート層保護層についても下記の組成比率でバックコート層塗布液と同様にして調製した。シリカについてはＭＥＫに１％の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散を行い、最後に添加した。
セルロースアセテートプロピオネート（１０％ＭＥＫ溶液） １５ｇ
（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製：ＣＡＰ４８２−２０）
単分散度１５％の単分散シリカ（平均粒径：１０μｍ） ０．０３ｇ
（シリカ全質量の１％のアルミニウムで表面処理）
Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）12Ｃ8Ｆ17 ０．０５ｇ
弗素系界面活性剤（ＳＦ−１７） ０．０１ｇ
ステアリン酸 ０．１ｇ
オレイルオレート ０．１ｇ
α−アルミナ（モース硬度９） ０．１ｇ
〈マイクロカプセル１の製造〉
工程（１）：コア分散液の調製
クレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エムテクニク（株）製）のポットに、３０ｇのサリチル酸（関東化学社製）と３０ｇのポリビニルブチラールＢＬ−５（積水化学社製）、２５０ｇの酢酸エチルを加えて攪拌し溶解した、１．５ｇのドデシル硫酸ナトリウム（関東化学社製）をイオン交換水に溶解した水溶液６００ｇを添加後、回転数２００００ｒｐｍで５分間乳化した。その後、減圧下で溶剤を除去し、カプセルコア分散液約６４５ｇを得た。平均粒径３２０ｎｍ。コア粒子の平均粒径は、全てＭａｌｖｅｒｎ社製のＺｅｔａｓｉｚｅｒ １０００ＨＳで求めた。
（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製：ＣＡＰ４８２−２０）
単分散度１５％の単分散シリカ（平均粒径：１０μｍ） ０．０３ｇ
（シリカ全質量の１％のアルミニウムで表面処理）
Ｃ8Ｆ17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）12Ｃ8Ｆ17 ０．０５ｇ
弗素系界面活性剤（ＳＦ−１７） ０．０１ｇ
ステアリン酸 ０．１ｇ
オレイルオレート ０．１ｇ
α−アルミナ（モース硬度９） ０．１ｇ
〈マイクロカプセル１の製造〉
工程（１）：コア分散液の調製
クレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エムテクニク（株）製）のポットに、３０ｇのサリチル酸（関東化学社製）と３０ｇのポリビニルブチラールＢＬ−５（積水化学社製）、２５０ｇの酢酸エチルを加えて攪拌し溶解した、１．５ｇのドデシル硫酸ナトリウム（関東化学社製）をイオン交換水に溶解した水溶液６００ｇを添加後、回転数２００００ｒｐｍで５分間乳化した。その後、減圧下で溶剤を除去し、カプセルコア分散液約６４５ｇを得た。平均粒径３２０ｎｍ。コア粒子の平均粒径は、全てＭａｌｖｅｒｎ社製のＺｅｔａｓｉｚｅｒ １０００ＨＳで求めた。
工程（２）：カプセルの調製
上記で調製したカプセルコア分散液６２０ｇにポリエチレンワックスを含む分散液であるＳ６２５４Ｂ（東邦化学工業（株）製：固形分濃度２５％）２３０ｇを加えた。８０℃で１時間攪拌した後、室温まで戻し水２００ｇを加えて薄めた液をスプレードライヤーを用いて中心温度１００℃で乾燥しながら９５ｇのカプセル粉末を得た。得られたカプセルのＳＥＭ（走査型電子顕微鏡写真）からカプセル被覆を確認した。平均粒径７１０ｎｍ。
上記で調製したカプセルコア分散液６２０ｇにポリエチレンワックスを含む分散液であるＳ６２５４Ｂ（東邦化学工業（株）製：固形分濃度２５％）２３０ｇを加えた。８０℃で１時間攪拌した後、室温まで戻し水２００ｇを加えて薄めた液をスプレードライヤーを用いて中心温度１００℃で乾燥しながら９５ｇのカプセル粉末を得た。得られたカプセルのＳＥＭ（走査型電子顕微鏡写真）からカプセル被覆を確認した。平均粒径７１０ｎｍ。
〈マイクロカプセル２の製造〉
工程（１）：コア分散液の調製
クレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エムテクニク（株）製）のポットに、３０ｇのＰ−トルエンスルホン酸（関東化学社製）と３０ｇのポリビニルブチラールＢＬ−５（積水化学社製）、３５０ｇのトルエンを加えて攪拌・溶解した、５ｇのアクアロンＫＨ−０５（第一工業製薬社製：界面活性剤）をイオン交換水に溶解した水溶液９００ｇを添加後、回転数２００００ｒｐｍで７分間乳化した。その後、常圧で溶剤及び水を濃縮し、カプセルコア分散液約６４５ｇを得た。平均粒径１３０ｎｍ。
工程（１）：コア分散液の調製
クレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エムテクニク（株）製）のポットに、３０ｇのＰ−トルエンスルホン酸（関東化学社製）と３０ｇのポリビニルブチラールＢＬ−５（積水化学社製）、３５０ｇのトルエンを加えて攪拌・溶解した、５ｇのアクアロンＫＨ−０５（第一工業製薬社製：界面活性剤）をイオン交換水に溶解した水溶液９００ｇを添加後、回転数２００００ｒｐｍで７分間乳化した。その後、常圧で溶剤及び水を濃縮し、カプセルコア分散液約６４５ｇを得た。平均粒径１３０ｎｍ。
工程（２）：カプセルの調製
上記で調製したカプセルコア分散液６２０ｇにポリエチレンワックスを含む分散液であるＳ３１２１（東邦化学工業（株）製：固形分濃度２５％）３００ｇを加えた。更に水１０００ｇを加えて薄めた液をスプレードライヤーを用いて中心温度１１０℃で乾燥しながら７５ｇのカプセル粉末を得た。得られたカプセルのＳＥＭ（走査型電子顕微鏡写真）からカプセル被覆を確認した。平均粒径４５０ｎｍ。
上記で調製したカプセルコア分散液６２０ｇにポリエチレンワックスを含む分散液であるＳ３１２１（東邦化学工業（株）製：固形分濃度２５％）３００ｇを加えた。更に水１０００ｇを加えて薄めた液をスプレードライヤーを用いて中心温度１１０℃で乾燥しながら７５ｇのカプセル粉末を得た。得られたカプセルのＳＥＭ（走査型電子顕微鏡写真）からカプセル被覆を確認した。平均粒径４５０ｎｍ。
〈マイクロカプセル３の製造〉
１００ｇのＰ−トルエンスルホン酸ナトリウム（関東化学社製）、１５０ｇのＰＰ１３０２（クラリアント社製ポリオレフィンワックス）及び１０ｇのエフトップＥＦ−８０１（ジェムコ（株）製）、及び７５０ｇのＭＥＫ（メチルエチルケトン）を加えてクレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エムテクニク（株）製）回転数２００００ｒｐｍで１０分間分散した。分散した後反応釜で加熱還流しながら３０分攪拌後、ゆっくりと冷却することにより分散液の温度を室温まで戻しカプセルのＭＥＫ分散液を得た。減圧で溶剤を除去してカプセルのパウダーを得た。平均粒径４３０ｎｍ。
１００ｇのＰ−トルエンスルホン酸ナトリウム（関東化学社製）、１５０ｇのＰＰ１３０２（クラリアント社製ポリオレフィンワックス）及び１０ｇのエフトップＥＦ−８０１（ジェムコ（株）製）、及び７５０ｇのＭＥＫ（メチルエチルケトン）を加えてクレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エムテクニク（株）製）回転数２００００ｒｐｍで１０分間分散した。分散した後反応釜で加熱還流しながら３０分攪拌後、ゆっくりと冷却することにより分散液の温度を室温まで戻しカプセルのＭＥＫ分散液を得た。減圧で溶剤を除去してカプセルのパウダーを得た。平均粒径４３０ｎｍ。
〈マイクロカプセル４の製造〉
工程（１）：コア分散液の調製
クレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エムテクニク（株）製）のポットに、３０ｇのフタル酸（関東化学社製）と３０ｇの（アセトアセトキシエチルメタクリレート／メチルメタクリレート／ステアリルメタクリレート＝２０／３０／５０のポリマー、重量平均分子量２５０００）、及び２００ｇのトルエン、及び５０ｇのＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を入れて攪拌して、１ｇのドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（関東化学社製）をイオン交換水に溶解した水溶液６００ｇを添加後、回転数２００００ｒｐｍで１０分間乳化した。その後、減圧下で溶剤を除去し、カプセルコア分散液約３１２ｇを得た。平均粒径４０５ｎｍ。
工程（１）：コア分散液の調製
クレアミックスＣＬＭ−０．８Ｓ（エムテクニク（株）製）のポットに、３０ｇのフタル酸（関東化学社製）と３０ｇの（アセトアセトキシエチルメタクリレート／メチルメタクリレート／ステアリルメタクリレート＝２０／３０／５０のポリマー、重量平均分子量２５０００）、及び２００ｇのトルエン、及び５０ｇのＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を入れて攪拌して、１ｇのドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（関東化学社製）をイオン交換水に溶解した水溶液６００ｇを添加後、回転数２００００ｒｐｍで１０分間乳化した。その後、減圧下で溶剤を除去し、カプセルコア分散液約３１２ｇを得た。平均粒径４０５ｎｍ。
工程（２）：カプセルの調製
上記で調製したカプセルコア分散液３００ｇを攪拌下８０℃に加熱し、更にＰＰ１５０２（クラリアント社製ポリオレフィンワックス）１００ｇを９０℃で溶融した溶液を滴下した。全量滴下後３０分した後、反応液の温度を下げて室温に戻してカプセルの分散液を得た。減圧で溶剤を除去してカプセルのパウダーを得た。得られたカプセルのＳＥＭ（走査型電子顕微鏡写真）からカプセル被覆を確認した。平均粒径５６０ｎｍ。
上記で調製したカプセルコア分散液３００ｇを攪拌下８０℃に加熱し、更にＰＰ１５０２（クラリアント社製ポリオレフィンワックス）１００ｇを９０℃で溶融した溶液を滴下した。全量滴下後３０分した後、反応液の温度を下げて室温に戻してカプセルの分散液を得た。減圧で溶剤を除去してカプセルのパウダーを得た。得られたカプセルのＳＥＭ（走査型電子顕微鏡写真）からカプセル被覆を確認した。平均粒径５６０ｎｍ。
（カプセル皮膜性の評価）
上記に得られたカプセルの皮膜性をＳＥＭで観察した。更にＭＥＫ中でカプセルの溶解が始まるまでの時間を求めた。
上記に得られたカプセルの皮膜性をＳＥＭで観察した。更にＭＥＫ中でカプセルの溶解が始まるまでの時間を求めた。
表２から分かるようにポリオレフィンワックスを用いたカプセルは皮膜性がよく、且つＭＥＫ耐久性にも優れた材料であることが分かる。特にＭＥＫ耐久性が１％以内で、且つヘーズが２０以下のポリオレフィンワックスを用いたカプセルは特に性能が高かった。
〈感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ１の調製〉
（Ａ１）
フェニルカルバモイル化ゼラチン ８８．３ｇ
化合物（ＡＯ−１）の１０％メタノール水溶液 １０ｍｌ
臭化カリウム ０．３２ｇ
水で５４２９ｍｌに仕上げる
（Ｂ１）
０．６７モル／Ｌ硝酸銀水溶液 ２６３５ｍｌ
（Ｃ１）
臭化カリウム ５０．６９ｇ
沃化カリウム ２．６６ｇ
水で６６０ｍｌに仕上げる
（Ｄ１）
臭化カリウム １５１．６ｇ
沃化カリウム ７．６７ｇ
ヘキサクロロイリジウム（IV）酸カリウム（１％水溶液） ０．９３ｍｌ
ヘキサシアノ鉄（II）酸カリウム ０．００４ｇ
ヘキサクロロオスミウム（IV）酸カリウム ０．００４ｇ
水で１９８２ｍｌに仕上げる
（Ｅ１）
０．４モル／Ｌ臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量
（Ｆ１）
水酸化カリウム ０．７１ｇ
水で２０ｍｌに仕上げる
（Ｇ１）
５６％酢酸水溶液 １８．０ｍｌ
（Ｈ１）
無水炭酸ナトリウム １．７２ｇ
水で１５１ｍｌに仕上げる
ＡＯ−１：ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n〔ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ〕17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ（ｍ＋ｎ＝５〜７）。
（Ａ１）
フェニルカルバモイル化ゼラチン ８８．３ｇ
化合物（ＡＯ−１）の１０％メタノール水溶液 １０ｍｌ
臭化カリウム ０．３２ｇ
水で５４２９ｍｌに仕上げる
（Ｂ１）
０．６７モル／Ｌ硝酸銀水溶液 ２６３５ｍｌ
（Ｃ１）
臭化カリウム ５０．６９ｇ
沃化カリウム ２．６６ｇ
水で６６０ｍｌに仕上げる
（Ｄ１）
臭化カリウム １５１．６ｇ
沃化カリウム ７．６７ｇ
ヘキサクロロイリジウム（IV）酸カリウム（１％水溶液） ０．９３ｍｌ
ヘキサシアノ鉄（II）酸カリウム ０．００４ｇ
ヘキサクロロオスミウム（IV）酸カリウム ０．００４ｇ
水で１９８２ｍｌに仕上げる
（Ｅ１）
０．４モル／Ｌ臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量
（Ｆ１）
水酸化カリウム ０．７１ｇ
水で２０ｍｌに仕上げる
（Ｇ１）
５６％酢酸水溶液 １８．０ｍｌ
（Ｈ１）
無水炭酸ナトリウム １．７２ｇ
水で１５１ｍｌに仕上げる
ＡＯ−１：ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n〔ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ〕17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ（ｍ＋ｎ＝５〜７）。
特公昭５８−５８２８８号公報に示される混合撹拌機を用いて溶液（Ａ１）に溶液（Ｂ１）の１／４量及び溶液（Ｃ１）全量を２０℃、ｐＡｇ８．０９に制御しながら、同時混合法により４分４５秒を要して添加し核形成を行った。１分後に溶液（Ｆ１）の全量を添加した。この間、ｐＡｇの調整を（Ｅ１）を用いて適宜行った。６分間経過後、溶液（Ｂ１）の３／４量及び溶液（Ｄ１）の全量を、２０℃、ｐＡｇ８．０９に制御しながら、１４分１５秒かけて同時混合法により添加した。５分間撹拌した後、４０℃に降温し、溶液（Ｇ１）を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分２０００ｍｌを残して上澄み液を取り除き、水を１０Ｌ加え、撹拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分１５００ｍｌを残し、上澄み液を取り除き、更に水を１０Ｌ加え、撹拌後、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分１５００ｍｌを残し、上澄み液を取り除いた後、溶液（Ｈ１）を加え、６０℃に昇温し、更に１２０分撹拌した。最後にｐＨが５．８になるように調整し、銀量１モル当たり１１６１ｇになるように水を添加し、感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ１を得た。
この乳剤は、平均粒子サイズ２５ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった（ＡｇＩの含有率は３．５モル％）。
〈感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ２の調製〉
上記感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ１の調製において、核生成後に溶液Ｆ１の全量を添加した後に、下記の化合物（ＥＴＴＵ）の０．１％エタノール溶液を４ｍｌ添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ４を調製した。なお、この乳剤は平均粒子サイズ２５ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった（ＡｇＩの含有率は３．５モル％）。
上記感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ１の調製において、核生成後に溶液Ｆ１の全量を添加した後に、下記の化合物（ＥＴＴＵ）の０．１％エタノール溶液を４ｍｌ添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ４を調製した。なお、この乳剤は平均粒子サイズ２５ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった（ＡｇＩの含有率は３．５モル％）。
〈感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ３の調製〉
上記感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ１の調製において、核生成後に溶液Ｆ１の全量を添加した後に、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンの０．１％エタノール溶液を４ｍｌ添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ３を調製した。なお、この乳剤は平均粒子サイズ２５ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった（ＡｇＩの含有率は３．５モル％）。
上記感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ１の調製において、核生成後に溶液Ｆ１の全量を添加した後に、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オンの０．１％エタノール溶液を４ｍｌ添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ３を調製した。なお、この乳剤は平均粒子サイズ２５ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった（ＡｇＩの含有率は３．５モル％）。
〈感光性ハロゲン化銀乳剤Ｂ１の調製〉
同時混合法による添加時の温度を４５℃に変更した以外は、感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ１の調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子サイズ５５ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった（ＡｇＩの含有率は３．５モル％）。
同時混合法による添加時の温度を４５℃に変更した以外は、感光性ハロゲン化銀乳剤Ａ１の調製と同様に行った。この乳剤は平均粒子サイズ５５ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった（ＡｇＩの含有率は３．５モル％）。
〈感光性ハロゲン化銀乳剤Ｂ２の調製〉
上記感光性ハロゲン化銀乳剤Ｂ１の調製において、核生成後に溶液Ｆ１の全量を添加した後に、前記の化合物（ＥＴＴＵ）の０．１％エタノール溶液を４ｍｌ添加した以外は、同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤Ｂ２を調製した。この乳剤は平均粒子サイズ５５ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった（ＡｇＩの含有率は３．５モル％）。
上記感光性ハロゲン化銀乳剤Ｂ１の調製において、核生成後に溶液Ｆ１の全量を添加した後に、前記の化合物（ＥＴＴＵ）の０．１％エタノール溶液を４ｍｌ添加した以外は、同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤Ｂ２を調製した。この乳剤は平均粒子サイズ５５ｎｍ、粒子サイズの変動係数１２％、〔１００〕面比率９２％の単分散立方体沃臭化銀粒子であった（ＡｇＩの含有率は３．５モル％）。
〈粉末有機銀塩Ａの調製〉
４７２０ｍｌの純水にベヘン酸１３０．８ｇ、アラキジン酸６７．７ｇ、ステアリン酸４３．６ｇ、パルミチン酸２．３ｇを８０℃で溶解した。次に１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液５４０．２ｍｌを添加し濃硝酸６．９ｍｌを加えた後、５５℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。上記の脂肪酸ナトリウム溶液の温度を５５℃に保ったまま、感光性ハロゲン化銀乳剤（種類と添加量は表２に記載）と純水４５０ｍｌを添加し５分間撹拌した。次に１モル／Ｌの硝酸銀溶液４６８．４ｍｌを２分間かけて添加し、１０分間撹拌し有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて撹拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー（セイシン企業社製）を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機熱風温度の運転条件（入口６５℃、出口４０℃）により含水率が０．１％になるまで乾燥して乾燥済みの粉末有機銀塩Ａを得た。この有機銀塩を用いて作製した熱現像感光材料試料１７（後述）について電子顕微鏡を用いた分析結果から、平均粒径（円相当径）０．０８μｍ、アスペクト比５、単分散度１０％の平板状粒子であった。なお、有機銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。
４７２０ｍｌの純水にベヘン酸１３０．８ｇ、アラキジン酸６７．７ｇ、ステアリン酸４３．６ｇ、パルミチン酸２．３ｇを８０℃で溶解した。次に１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液５４０．２ｍｌを添加し濃硝酸６．９ｍｌを加えた後、５５℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。上記の脂肪酸ナトリウム溶液の温度を５５℃に保ったまま、感光性ハロゲン化銀乳剤（種類と添加量は表２に記載）と純水４５０ｍｌを添加し５分間撹拌した。次に１モル／Ｌの硝酸銀溶液４６８．４ｍｌを２分間かけて添加し、１０分間撹拌し有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて撹拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー（セイシン企業社製）を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機熱風温度の運転条件（入口６５℃、出口４０℃）により含水率が０．１％になるまで乾燥して乾燥済みの粉末有機銀塩Ａを得た。この有機銀塩を用いて作製した熱現像感光材料試料１７（後述）について電子顕微鏡を用いた分析結果から、平均粒径（円相当径）０．０８μｍ、アスペクト比５、単分散度１０％の平板状粒子であった。なお、有機銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。
〈予備分散液Ａの調製〉
画像形成層バインダーとして、ＳＯ3Ｋ基含有ポリビニルブチラール（Ｔｇ７５℃、−ＳＯ3Ｋ基を０．２ミリモル／ｇ含む）１４．５７ｇをＭＥＫ１４５７ｇに溶解し、ＶＭＡ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製ディゾルバＤＩＳＰＥＲＭＡＴ ＣＡ−４０Ｍ型にて撹拌しながら、上記粉末有機銀塩Ａ、５００ｇを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液Ａを調製した。
画像形成層バインダーとして、ＳＯ3Ｋ基含有ポリビニルブチラール（Ｔｇ７５℃、−ＳＯ3Ｋ基を０．２ミリモル／ｇ含む）１４．５７ｇをＭＥＫ１４５７ｇに溶解し、ＶＭＡ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製ディゾルバＤＩＳＰＥＲＭＡＴ ＣＡ−４０Ｍ型にて撹拌しながら、上記粉末有機銀塩Ａ、５００ｇを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液Ａを調製した。
〈感光性乳剤分散液Ａの調製〉
予備分散液Ａをポンプを用いてミル内滞留時間が１．５分間となるように、０．５ｍｍ径のジルコニアビーズ（東レ社製：トレセラム）を内容積の８０％充填したメディア型分散機ＤＩＳＰＥＲＭＡＴ ＳＬ−Ｃ１２ＥＸ型（ＶＭＡ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）に供給し、ミル周速８ｍ／ｓにて分散を行うことにより感光性乳剤分散液Ａを調製した。
予備分散液Ａをポンプを用いてミル内滞留時間が１．５分間となるように、０．５ｍｍ径のジルコニアビーズ（東レ社製：トレセラム）を内容積の８０％充填したメディア型分散機ＤＩＳＰＥＲＭＡＴ ＳＬ−Ｃ１２ＥＸ型（ＶＭＡ−ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）に供給し、ミル周速８ｍ／ｓにて分散を行うことにより感光性乳剤分散液Ａを調製した。
〈安定剤液の調製〉
１．０ｇの安定剤１、０．３１ｇの酢酸カリウムをメタノール４．９７ｇに溶解し安定剤液を調製した。
１．０ｇの安定剤１、０．３１ｇの酢酸カリウムをメタノール４．９７ｇに溶解し安定剤液を調製した。
〈赤外増感色素液Ａの調製〉
９．６ｍｇの赤外増感色素１、９．６ｍｇの赤外増感色素２、１．４８８ｇの２−クロロ安息香酸、２．７７９ｇの安定剤２及び３６５ｍｇの５−メチル−２−メルカプトベンズイミダゾールを３１．３ｍｌのＭＥＫに暗所にて溶解し赤外増感色素液Ａを調製した。
９．６ｍｇの赤外増感色素１、９．６ｍｇの赤外増感色素２、１．４８８ｇの２−クロロ安息香酸、２．７７９ｇの安定剤２及び３６５ｍｇの５−メチル−２−メルカプトベンズイミダゾールを３１．３ｍｌのＭＥＫに暗所にて溶解し赤外増感色素液Ａを調製した。
〈添加液ａの調製〉
４．２０ｇの一般式（１）の還元剤（１−１）、２３．７８ｇの一般式（２）の還元剤（２−６）、９．３ｇの熱溶剤（表３に記載の種類）、０．１５９ｇの一般式（ＹＢ）の化合物（ＹＡ−１）、０．１５９ｇのシアン発色性ロイコ染料ＣＡ−１２、１．５４ｇの４−メチルフタル酸、０．４８ｇの前記赤外染料１をＭＥＫ１００．７ｇに溶解し、２．０ｇのマイクロカプセル（表３に記載の種類）をＭＥＫ１００ｇに分散し、添加液ａとした。
４．２０ｇの一般式（１）の還元剤（１−１）、２３．７８ｇの一般式（２）の還元剤（２−６）、９．３ｇの熱溶剤（表３に記載の種類）、０．１５９ｇの一般式（ＹＢ）の化合物（ＹＡ−１）、０．１５９ｇのシアン発色性ロイコ染料ＣＡ−１２、１．５４ｇの４−メチルフタル酸、０．４８ｇの前記赤外染料１をＭＥＫ１００．７ｇに溶解し、２．０ｇのマイクロカプセル（表３に記載の種類）をＭＥＫ１００ｇに分散し、添加液ａとした。
〈添加液ｂの調製〉
１．５６ｇのかぶり防止剤２、０．５ｇのかぶり防止剤３、０．５ｇのかぶり防止剤４、０．５ｇのかぶり防止剤５、３．４３ｇのフタラジンをＭＥＫ４０．９ｇに溶解し添加液ｂとした。
１．５６ｇのかぶり防止剤２、０．５ｇのかぶり防止剤３、０．５ｇのかぶり防止剤４、０．５ｇのかぶり防止剤５、３．４３ｇのフタラジンをＭＥＫ４０．９ｇに溶解し添加液ｂとした。
〈添加液ｃの調製〉
省銀化剤（Ａ−７）０．３ｇ、をＭＥＫ３９．７ｇに溶解し添加液ｃとした。
省銀化剤（Ａ−７）０．３ｇ、をＭＥＫ３９．７ｇに溶解し添加液ｃとした。
〈添加液ｄの調製〉
０．１ｇの強色増感剤１をＭＥＫ９．９ｇに溶解し、添加液ｄとした。
０．１ｇの強色増感剤１をＭＥＫ９．９ｇに溶解し、添加液ｄとした。
〈添加液ｅの調製〉
０．５ｇのｐ−トルエンチオスルホン酸カリウム、０．５ｇのかぶり防止剤６をＭＥＫ９．０ｇに溶解し、添加液ｅとした。
０．５ｇのｐ−トルエンチオスルホン酸カリウム、０．５ｇのかぶり防止剤６をＭＥＫ９．０ｇに溶解し、添加液ｅとした。
〈添加液ｆの調製〉
１．０ｇのビニルスルホン〔（ＣＨ2＝ＣＨ−ＳＯ2ＣＨ2）2ＣＨＯＨ〕を含有するかぶり防止剤をＭＥＫ９．０ｇに溶解し、添加液ｆとした。
１．０ｇのビニルスルホン〔（ＣＨ2＝ＣＨ−ＳＯ2ＣＨ2）2ＣＨＯＨ〕を含有するかぶり防止剤をＭＥＫ９．０ｇに溶解し、添加液ｆとした。
〈画像形成層塗布液の調製〉
不活性気体雰囲気下（窒素９７％）において、前記感光性乳剤分散液Ａの５０ｇ及びＭＥＫ１５．１１ｇを撹拌しながら２１℃に保温し、化学増感剤Ｓ−５（０．５％メタノール溶液）１０００μｌを加え、２分後にかぶり防止剤１（１０％メタノール溶液）３９０μｌを加えて１時間撹拌した。更に臭化カルシウム（１０％メタノール溶液）４９４μｌを添加して１０分撹拌した後に上記の有機化学増感剤の１／２０モル相当の金増感剤Ａｕ−５を添加し、更に２０分撹拌した。続いて、安定剤液１６７μｌを添加して１０分間撹拌した後、１．３２ｇの前記赤外増感色素液Ａを添加して１時間撹拌した。その後、温度を１３℃まで降温して更に３０分撹拌した。１３℃に保温したまま、０．５ｇの添加液ｄ、０．５ｇの添加液ｅ、０．５ｇの添加液ｆ、予備分散液Ａで使用したバインダー１３．３１ｇを添加して３０分撹拌した後、テトラクロロフタル酸（９．４％ＭＥＫ溶液）１．０８４ｇを添加して１５分間撹拌した。更に撹拌を続けながら、２４．８６ｇの添加液ａ、１．６ｍｌのＤｅｓｍｏｄｕｒＮ３３００／モーベイ社製の脂肪族イソシアネート（１０％ＭＥＫ溶液）、４．２７ｇの添加液ｂ、４．０ｇの添加液ｃを順次添加し撹拌することにより画像形成層塗布液を得た。
不活性気体雰囲気下（窒素９７％）において、前記感光性乳剤分散液Ａの５０ｇ及びＭＥＫ１５．１１ｇを撹拌しながら２１℃に保温し、化学増感剤Ｓ−５（０．５％メタノール溶液）１０００μｌを加え、２分後にかぶり防止剤１（１０％メタノール溶液）３９０μｌを加えて１時間撹拌した。更に臭化カルシウム（１０％メタノール溶液）４９４μｌを添加して１０分撹拌した後に上記の有機化学増感剤の１／２０モル相当の金増感剤Ａｕ−５を添加し、更に２０分撹拌した。続いて、安定剤液１６７μｌを添加して１０分間撹拌した後、１．３２ｇの前記赤外増感色素液Ａを添加して１時間撹拌した。その後、温度を１３℃まで降温して更に３０分撹拌した。１３℃に保温したまま、０．５ｇの添加液ｄ、０．５ｇの添加液ｅ、０．５ｇの添加液ｆ、予備分散液Ａで使用したバインダー１３．３１ｇを添加して３０分撹拌した後、テトラクロロフタル酸（９．４％ＭＥＫ溶液）１．０８４ｇを添加して１５分間撹拌した。更に撹拌を続けながら、２４．８６ｇの添加液ａ、１．６ｍｌのＤｅｓｍｏｄｕｒＮ３３００／モーベイ社製の脂肪族イソシアネート（１０％ＭＥＫ溶液）、４．２７ｇの添加液ｂ、４．０ｇの添加液ｃを順次添加し撹拌することにより画像形成層塗布液を得た。
安定剤液を初めとする各塗布液、画像形成層塗布液の調製に用いた添加剤の構造を以下に示す。
また熱溶剤は以下の種類のものを使用した。
ＴＳ−１：１，１０−デカンジオール（融点７２〜７４℃）
ＴＳ−２：トリフェニルホスフィン（融点８１℃）
ＴＳ−３：ステアリン酸アミド（融点１００℃）
〈画像形成層保護層下層（表面保護層下層）の調製〉
アセトン ５ｇ
ＭＥＫ ２１ｇ
セルロースアセテートプロピオネート ２．３ｇ
（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製：ＣＡＰ−１４１−２０、ガラス転移温度Ｔｇ＝１９０℃）
メタノール ７ｇ
フタラジン ０．２５ｇ
ＣＨ2＝ＣＨＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＣＨ＝ＣＨ2 ０．０３５ｇ
Ｃ12Ｆ25（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｃ12Ｆ25 ０．０１ｇ
弗素系界面活性剤（ＳＦ−１７：前出） ０．０１ｇ
ステアリン酸 ０．１ｇ
ステアリン酸ブチル ０．１ｇ
α−アルミナ（モース硬度９） ０．１ｇ
〈画像形成層保護層上層（表面保護層上層）の調製〉
アセトン ５ｇ
メチルエチルケトン ２１ｇ
セルロースアセテートプロピオネート ２．３ｇ
（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製：ＣＡＰ−１４１−２０、ガラス転移温度Ｔｇ＝１９０℃）
パラロイドＡ−２１（ロームアンドハース社製） ０．０８ｇ
ベンゾトリアゾール ０．０３ｇ
メタノール ７ｇ
フタラジン ０．２５ｇ
単分散度１５％単分散シリカ（平均粒径： ３μｍ） ０．１４０ｇ
（シリカ全質量の１質量％のアルミニウムで表面処理）
ＣＨ2＝ＣＨＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＣＨ＝ＣＨ2 ０．０３５ｇ
Ｃ12Ｆ25（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｃ12Ｆ25 ０．０１ｇ
弗素系界面活性剤（ＳＦ−１７：前出） ０．０１ｇ
ステアリン酸 ０．１ｇ
ステアリン酸ブチル ０．１ｇ
α−アルミナ（モース硬度９） ０．１ｇ
なお画像形成層保護層上層、下層については、上記の組成比率でバックコート層塗布液の調製と同様な方法によって行った。シリカについてはバックコート層保護層と同様にＭＥＫに１質量％の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散を行い、最後に添加、撹拌することにより画像形成層保護層上層、下層の塗布液を得た。
ＴＳ−２：トリフェニルホスフィン（融点８１℃）
ＴＳ−３：ステアリン酸アミド（融点１００℃）
〈画像形成層保護層下層（表面保護層下層）の調製〉
アセトン ５ｇ
ＭＥＫ ２１ｇ
セルロースアセテートプロピオネート ２．３ｇ
（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製：ＣＡＰ−１４１−２０、ガラス転移温度Ｔｇ＝１９０℃）
メタノール ７ｇ
フタラジン ０．２５ｇ
ＣＨ2＝ＣＨＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＣＨ＝ＣＨ2 ０．０３５ｇ
Ｃ12Ｆ25（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｃ12Ｆ25 ０．０１ｇ
弗素系界面活性剤（ＳＦ−１７：前出） ０．０１ｇ
ステアリン酸 ０．１ｇ
ステアリン酸ブチル ０．１ｇ
α−アルミナ（モース硬度９） ０．１ｇ
〈画像形成層保護層上層（表面保護層上層）の調製〉
アセトン ５ｇ
メチルエチルケトン ２１ｇ
セルロースアセテートプロピオネート ２．３ｇ
（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製：ＣＡＰ−１４１−２０、ガラス転移温度Ｔｇ＝１９０℃）
パラロイドＡ−２１（ロームアンドハース社製） ０．０８ｇ
ベンゾトリアゾール ０．０３ｇ
メタノール ７ｇ
フタラジン ０．２５ｇ
単分散度１５％単分散シリカ（平均粒径： ３μｍ） ０．１４０ｇ
（シリカ全質量の１質量％のアルミニウムで表面処理）
ＣＨ2＝ＣＨＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2ＳＯ2ＣＨ＝ＣＨ2 ０．０３５ｇ
Ｃ12Ｆ25（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10Ｃ12Ｆ25 ０．０１ｇ
弗素系界面活性剤（ＳＦ−１７：前出） ０．０１ｇ
ステアリン酸 ０．１ｇ
ステアリン酸ブチル ０．１ｇ
α−アルミナ（モース硬度９） ０．１ｇ
なお画像形成層保護層上層、下層については、上記の組成比率でバックコート層塗布液の調製と同様な方法によって行った。シリカについてはバックコート層保護層と同様にＭＥＫに１質量％の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散を行い、最後に添加、撹拌することにより画像形成層保護層上層、下層の塗布液を得た。
〈熱現像感光材料の作製〉
前記のように調製したバックコート層塗布液、バックコート層保護層塗布液を、乾燥膜厚がそれぞれ３．５μｍになるように、下引上層Ｂ−２上に押出しコーターにて塗布速度５０ｍ／ｍｉｎにて塗布を行った。なお、乾燥は乾燥温度１００℃、露点温度１０℃の乾燥風を用いて５分間かけて行った。
前記のように調製したバックコート層塗布液、バックコート層保護層塗布液を、乾燥膜厚がそれぞれ３．５μｍになるように、下引上層Ｂ−２上に押出しコーターにて塗布速度５０ｍ／ｍｉｎにて塗布を行った。なお、乾燥は乾燥温度１００℃、露点温度１０℃の乾燥風を用いて５分間かけて行った。
前記画像形成層塗布液と画像形成層保護層（表面保護層）塗布液を押出し（エクストルージョン）コーターを用いて塗布速度５０ｍ／ｍｉｎにて、下引上層Ａ−２上に同時重層塗布することにより表２に示す感光材料試料１〜１１を作製した。塗布は画像形成層は塗布銀量１．４ｇ／ｍ2で、画像形成層保護層（表面保護層）は乾燥膜厚で３．０μｍ（表面保護層上層１．５μｍ、表面保護層下層１．５μｍ）になる様に行った後、乾燥温度７５℃、露点温度１０℃の乾燥風を用いて１０分間乾燥を行った。
得られた熱現像感光材料（試料１）の画像形成層側の膜面ｐＨは５．３、ベック平滑度は６０００秒であり、バックコート層側の膜面ｐＨは５．５、ベック平滑度は９０００秒であった。また試料１〜１１について表面粗さを測定したところＲｚ（Ｅ）／Ｒｚ（Ｂ）＝０．４０、Ｒｚ（Ｅ）＝１．４μｍであった。またＲｚ（Ｂ）は３．５μｍであった。Ｒａ（Ｅ）は０．０８５μｍであった。またＲａ（Ｂ）は０．１１６μｍであった。
〈露光及び現像処理〉
上記のように作製した熱現像感光材料試料１〜１１を半切サイズ（３４．５ｃｍ×４３．０ｃｍ）に加工した後、２５℃５０％の環境下で以下の包装材料に包装し、２週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
上記のように作製した熱現像感光材料試料１〜１１を半切サイズ（３４．５ｃｍ×４３．０ｃｍ）に加工した後、２５℃５０％の環境下で以下の包装材料に包装し、２週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
（包装材料）
ＰＥＴ１０μｍ／ＰＥ１２μｍ／アルミ箔９μｍ／Ｎｙ１５μｍ／カーボン３％を含むポリエチレン５０μｍ、酸素透過率：０ｍｌ／ａｔｍ・ｍ2・２５℃・ｄａｙ、水分透過率：０ｇ／ａｔｍ・ｍ2・２５℃・ｄａｙのバリア袋。紙トレーを使用。
ＰＥＴ１０μｍ／ＰＥ１２μｍ／アルミ箔９μｍ／Ｎｙ１５μｍ／カーボン３％を含むポリエチレン５０μｍ、酸素透過率：０ｍｌ／ａｔｍ・ｍ2・２５℃・ｄａｙ、水分透過率：０ｇ／ａｔｍ・ｍ2・２５℃・ｄａｙのバリア袋。紙トレーを使用。
〈試料の評価〉
評価は図１、図２に示した熱現像装置（最大５０ｍＷ出力の８１０ｎｍ半導体レーザー搭載）にて露光と同時に熱現像（表３記載の温度に設定した３枚のパネルヒータで合計１３．５秒）し、得られた画像の評価を濃度計により行った。ここで、「露光と同時に熱現像する」とは、熱現像感光材料からなる一枚のシート感材で一部が露光されながら、同時に既に露光がなされたシートの一部分で現像が開始されることを意味する。露光部と現像部との距離は１２ｃｍであった。このときの線速度は２５ｍｍ／秒であった。この時の感光材料供給部から画像露光部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、熱現像部での搬送速度はそれぞれ２５ｍｍ／秒で行った。また、感光材料ストックトレイの位置は床面から４５ｃｍの高さであった。なお、露光及び現像は２３℃、５０％ＲＨに調湿した部屋で行った。露光は最高出力から１段ごとに露光エネルギー量をｌｏｇＥ０．０５ずつ減じながら階段状に行った。熱現像された各画像について下記性能を評価した。
評価は図１、図２に示した熱現像装置（最大５０ｍＷ出力の８１０ｎｍ半導体レーザー搭載）にて露光と同時に熱現像（表３記載の温度に設定した３枚のパネルヒータで合計１３．５秒）し、得られた画像の評価を濃度計により行った。ここで、「露光と同時に熱現像する」とは、熱現像感光材料からなる一枚のシート感材で一部が露光されながら、同時に既に露光がなされたシートの一部分で現像が開始されることを意味する。露光部と現像部との距離は１２ｃｍであった。このときの線速度は２５ｍｍ／秒であった。この時の感光材料供給部から画像露光部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、熱現像部での搬送速度はそれぞれ２５ｍｍ／秒で行った。また、感光材料ストックトレイの位置は床面から４５ｃｍの高さであった。なお、露光及び現像は２３℃、５０％ＲＨに調湿した部屋で行った。露光は最高出力から１段ごとに露光エネルギー量をｌｏｇＥ０．０５ずつ減じながら階段状に行った。熱現像された各画像について下記性能を評価した。
（現像処理安定性）
熱現像感光材料を３０℃相対湿度７０％下２４時間と、２３℃相対湿度４５％ＲＨ下２４時間に置いた後、それぞれ熱現像装置を用いて露光現像処理を行い、２つの環境下における感度差ΔＳを測定した。この値が小さいほど現像処理安定性に優れている。
熱現像感光材料を３０℃相対湿度７０％下２４時間と、２３℃相対湿度４５％ＲＨ下２４時間に置いた後、それぞれ熱現像装置を用いて露光現像処理を行い、２つの環境下における感度差ΔＳを測定した。この値が小さいほど現像処理安定性に優れている。
（画像保存性）
熱現像感光材料を濃度１．５になるように熱現像装置を用いて露光現像処理を行い、非感光面を輝度が６０００ｃｄ／ｍ2で表面温度４２℃のシャーカステン（観察機）に７２時間接触させ濃度変動量ΔＤを測定した。変動が小さいほどより好ましい。結果を併せて表３に示す。
熱現像感光材料を濃度１．５になるように熱現像装置を用いて露光現像処理を行い、非感光面を輝度が６０００ｃｄ／ｍ2で表面温度４２℃のシャーカステン（観察機）に７２時間接触させ濃度変動量ΔＤを測定した。変動が小さいほどより好ましい。結果を併せて表３に示す。
表３から、比較の試料と比べて、本発明の試料は現像処理安定性、画像保存性に優れることが明らかである。
３ 熱現像感光材料
１０ａ、１０ｂ、１０ｃ ストックトレイ
１３ａ、１３ｂ、１３ｃ ローラ対
１５ａ、１５ｂ、１５ｃ マガジン
１６ 排出トレイ
１７ 副走査搬送部（副走査手段）
１９ 走査露光部（レーザ照射手段）
２１、２２ 駆動ローラ
２３ ガイド板
２５、２６ スロープ部
２９ 押し当て部
３１ ガイド板
３５ レーザ光源
３７ 記録制御装置
３９ シリンドリカルレンズ
４１ ポリゴンミラー
４３ ｆθレンズ
４５ 立ち下げ用シリンドリカルミラー
５１ａ、５１ｂ、５１ｃ プレートヒータ
５２ ドラム
５３ 供給ローラ
５５ 押さえローラ
５７ 排出ローラ
５９ 冷却ローラ対
６１ ガイドプレート
６３ 排出ローラ対
１５０ 熱現像装置
Ａ 熱現像感光材料供給部
Ｂ 画像露光部
Ｃ 熱現像部
Ｄ 冷却部
Ｅ 電源／制御部
１０ａ、１０ｂ、１０ｃ ストックトレイ
１３ａ、１３ｂ、１３ｃ ローラ対
１５ａ、１５ｂ、１５ｃ マガジン
１６ 排出トレイ
１７ 副走査搬送部（副走査手段）
１９ 走査露光部（レーザ照射手段）
２１、２２ 駆動ローラ
２３ ガイド板
２５、２６ スロープ部
２９ 押し当て部
３１ ガイド板
３５ レーザ光源
３７ 記録制御装置
３９ シリンドリカルレンズ
４１ ポリゴンミラー
４３ ｆθレンズ
４５ 立ち下げ用シリンドリカルミラー
５１ａ、５１ｂ、５１ｃ プレートヒータ
５２ ドラム
５３ 供給ローラ
５５ 押さえローラ
５７ 排出ローラ
５９ 冷却ローラ対
６１ ガイドプレート
６３ 排出ローラ対
１５０ 熱現像装置
Ａ 熱現像感光材料供給部
Ｂ 画像露光部
Ｃ 熱現像部
Ｄ 冷却部
Ｅ 電源／制御部
Claims (11)
- 支持体の一方の面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料を、熱現像部を有する熱現像装置にて熱現像する方法において、該熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で該熱現像感光材料が最初に接するプレートヒータの温度がそれ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とする熱現像感光材料の熱現像方法。
- 前記熱現像処理の工程で熱現像感光材料が最初に接するプレートヒータの温度と、それ以外のプレートヒータの平均温度の差が２℃以上１０℃未満であることを特徴とする請求項１に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
- 前記熱現像感光材料が融点５０℃以上２００℃以下の熱溶剤を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の熱現像感光材料。
- 支持体の一方の面上に少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオン還元剤及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料を、熱現像部を有する熱現像装置にて熱現像する方法において、該熱現像部が平面状または曲面状に配列された複数枚のプレートヒータからなる加熱手段を有し、熱現像処理の工程で該熱現像感光材料が最後に接するプレートヒータの温度がそれ以外のプレートヒータの平均温度よりも高いことを特徴とする熱現像感光材料の熱現像方法。
- 前記熱現像処理の工程で熱現像感光材料が最後に接するプレートヒータの温度と、それ以外のプレートヒータの平均温度の差が５℃以上１５℃未満であることを特徴とする請求項４に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
- 前記熱現像処理の工程で熱現像感光材料が最後に接するプレートヒータで該熱現像感光材料の定着処理が行われることを特徴とする請求項４または５に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
- 前記定着処理が画保改良剤内包マイクロカプセルによるものであることを特徴とする請求項６に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
- 前記画保改良剤内包マイクロカプセルの壁材が５０〜１５０℃の範囲に融点を有する熱溶融性材料からなることを特徴とする請求項７に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
- 前記画保改良剤内包マイクロカプセルに用いる壁材のＭＥＫ（メチルエチルケトン）に対する溶解性が５％以下であることを特徴とする請求項７または８記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
- 前記感光性ハロゲン化銀が熱現像過程において表面潜像型から内部潜像型に変換することにより、表面感度が熱現像前より低下するハロゲン化銀粒子であること、及び黄色発色性ロイコ染料またはシアン発色性ロイコ染料の少なくともいずれかを含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
- 前記銀イオン還元剤の少なくとも一種が下記一般式（１）で表されることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の熱現像感光材料の熱現像方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004204310A JP2006030239A (ja) | 2004-07-12 | 2004-07-12 | 熱現像感光材料の熱現像方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004204310A JP2006030239A (ja) | 2004-07-12 | 2004-07-12 | 熱現像感光材料の熱現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006030239A true JP2006030239A (ja) | 2006-02-02 |
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ID=35896721
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2004204310A Pending JP2006030239A (ja) | 2004-07-12 | 2004-07-12 | 熱現像感光材料の熱現像方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2006030239A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109823059A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-05-31 | 安徽亚创电子科技有限责任公司 | 一种多合一医疗自主打印装置 |
-
2004
- 2004-07-12 JP JP2004204310A patent/JP2006030239A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109823059A (zh) * | 2018-12-25 | 2019-05-31 | 安徽亚创电子科技有限责任公司 | 一种多合一医疗自主打印装置 |
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