JP2006029821A - 光周波数測定システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光周波数可変レーザ光源12が出射する周波数f2を掃引し、光周波数コムLcomのN次のサイドバンドと被測定レーザ光Lxとを第1の光合成器16により合成した干渉光LAの干渉周波数fAと、レーザ光源11から出射される基準光と上記光周波数可変レーザ光源12からの光とを第2の光合成器17により合成した干渉光LBの干渉周波数fBの変化する方向を特定した状態で、上記光周波数コム発生器14の変調周波数fmを微少周波数Δfだけ変更させ、第1及び第2の周波数カウンタ20,21により各干渉周波数fA,fBを測定し、上記微少周波数Δfに対する各干渉周波数fA,fBの変化分から、上記被測定レーザ光Lxが干渉している上記光周波数コムの次数Nを求め、決定した次数Nを用いて、 fx=f1±fB+ Nfm±fAにて上記被測定レーザ光Lxの周波数fxを決定する。
【選択図】 図1
Description
ν2=ν1+mfm±Δfb
である。ここで、ν1は、レーザ光源111から出射されるレーザ光L0周波数、fmは、変調信号発生器113により光周波数コム発生器112に与えられる変調信号SMODの周波数すなわち変調周波数である。これらの値は、既知であるので±Δfbの符号の決定及び整数である光周波数コムのサイドバンド次数mを知ることで、上記被測定レーザ光LOBの周波数ν2を決定することができる(例えば、特許文献1参照)。
fx=f1±fB+ Nfm±fA
にて上記被測定レーザ光の周波数fxを決定することを特徴とする。
fx=f1±fB+ Nfm±fA (1)
である。
fx=f1+fB+ Nfm−fA (2)
にて求めることができる。
N=((fA−fB)−(fA’−fB’))/Δf (3)
にて上記光周波数コムの次数Nを決定する。
fx=f1+fB+ Nfm−fA
にて上記被測定レーザ光Lxの周波数fxを決定する。
N=((−fA−fB)−(−fA’−fB’))/Δf (4)
にて次数Nを決定し、
fx=f1+fB+ Nfm+fA (5)
にて被測定レーザ光Lxの周波数fxを決定することもできる。
N=((fA+fB)−(fA’+fB’))/Δf (6)
にて次数Nを決定し、
fx=f1−fB+ Nfm−fA (7)
にて被測定レーザ光Lxの周波数fxを決定することもできる。
N=((fB−fA)−(fB’−fA’))/Δf (6)
にて次数Nを決定し、
fx=f1−fB+ Nfm+fA (7)
にて被測定レーザ光Lxの周波数fxを決定することもできる。
Claims (1)
- 基準となる周波数f1の第1のレーザ光L1を出射するレーザ光源と、
高出力の第2のレーザL2を出射する光周波数可変レーザ光源と、
上記光周波数可変レーザ光源から出射された第2のレーザL2が入射される光周波数コム発生器と、
上記光周波数コム発生器に与える変調信号SMODを発生する変調信号発生器と、
上記光周波数コム発生器により生成された光周波数コムLcomと被測定レーザ光Lxとを合成する第1の光合成器と、
上記光周波数可変レーザ光源から出射された第2のレーザL2が光分離器を介して入射され、上記レーザ光源から出射された第1のレーザ光L1と上記第2のレーザ光L2とを合成する第2の光合成器と、
上記第1の光合成器により合成された光周波数コムLcomと被測定レーザ光Lxの干渉光LAの光強度の変化を検出する第1の光検出器と、
上記第2の光合成器により合成された上記第1のレーザ光L1と第2のレーザ光L2との干渉光LBの光強度の変化を検出する第2の光検出器と、
上記第1の光検出器により得られる検出信号DAに基づいて上記第1のレーザ光L1と第2のレーザ光L2との干渉周波数fAを測定する第1の周波数カウンタと、
上記第2の光検出器により得られる検出信号DBに基づいて上記光周波数コムLcomと被測定レーザ光Lxとの干渉周波数fBを測定する第2の周波数カウンタと、
上記光周波数可変レーザ光源及び変調信号発生器の動作を制御して、上記第1及び第2の周波数カウンタにより測定される各干渉周波数fA,fBに基づいて、上記被測定レーザ光Lxの周波数fxを決定する測定制御部とを備え、
上記測定制御部は、上記光周波数可変レーザ光源が出射する第2のレーザの周波数を掃引し、各干渉周波数fA,fBの変化する方向を特定した状態で、上記光周波数コム発生手段の変調周波数fmを微少周波数Δfだけ変更させて、上記第1及び第2の周波数カウンタにより各干渉周波数fA,fBを測定し、上記微少周波数Δfに対する各干渉周波数fA,fBの変化分から、上記被測定レーザ光が干渉している上記光周波数コムの次数Nを求める処理を複数回行って、その平均値により上記光周波数コムの次数Nを決定し、決定した次数Nを用いて、
fx=f1±fB+ Nfm±fA
にて上記被測定レーザ光の周波数fxを決定することを特徴とする光周波数測定システム。
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