JP2006016649A - Plating fixture - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はウエハ等の表面にのみメッキを施すのに適するメッキ治具に関する。 The present invention relates to a plating jig suitable for plating only the surface of a wafer or the like.
一般に半導体等を実装するウエハ等の表面には銅メッキが施されるようになっている。 In general, copper plating is applied to the surface of a wafer or the like on which a semiconductor or the like is mounted.
ウエハの表面に銅メッキを施すには、メッキ液が満たされたメッキ槽内にウエハ全体を沈めることでメッキが施されるようになるが、前記した通りウエハの表面にのみメッキされるようになっている。ウエハの周縁部及び裏面の一部分にメッキが施されるようになると不良品となって廃棄処分されるため、メッキ作業にあたってウエハの表面のみ露出するようメッキ治具にセットし、メッキ治具ごとメッキ槽内へ沈める手段を採っている。 In order to perform copper plating on the surface of the wafer, plating is performed by immersing the entire wafer in a plating tank filled with a plating solution. However, as described above, plating is performed only on the surface of the wafer. It has become. When plating is performed on the peripheral edge and part of the back surface of the wafer, it is discarded as a defective product. Therefore, in the plating operation, set the plating jig so that only the wafer surface is exposed. The means to sink into the tank is taken.
一般的な公知のメッキ治具の概要は、ゴム製のシールカバー内にウエハをセットすることで、その弾性力によって周縁部及び裏面側にメッキ液が侵入することがないようシールされ、表面のみ露出する構造となっている。 An outline of a general known plating jig is that a wafer is set in a rubber seal cover, which is sealed so that the plating solution does not invade the peripheral portion and the back side by the elastic force, and only the front surface. It has an exposed structure.
ゴム製のシールカバーは、ウエハの表面を除いて全体がカバーされるようになるが、シールカバーに対するウエハのセット管理を怠たるとメッキ液の中へ沈めた時にメッキ液が裏面へ回り込み不良品につながる問題があり、いかに歩留りをアップさせるかが課題となっている。 The rubber seal cover covers the entire surface except for the wafer surface. However, if the wafer is not properly set on the seal cover, the plating solution will wrap around the plating solution and become a defective product. There is a problem of connection, and how to increase the yield is an issue.
そこで、本発明は、メッキ液の中へ沈めた時に確実なシール状態を確保することができるメッキ治具を提供することを目的としている。 Therefore, an object of the present invention is to provide a plating jig capable of ensuring a reliable sealing state when submerged in a plating solution.
前記目的を達成するために、本発明にあっては、上下に貫通した開口の開口周縁に沿って設けられた複数の給電電極を有するベース部材と、前記開口の開口周縁に沿って配置され前記給電電極と電気的に接続し合う板状の形成された被メッキ体の表面が載置セットされるリング状の第1シール部材と、その第1シール部材にセットされる前記被メッキ体の裏面全体を覆うカバー部材と、そのカバー部材と前記被メッキ体の裏面とそれぞれ接触し前記被メッキ体を前記第1シール部材へ向けて押えつける被メッキ押え部材と、前記被メッキ押え部材の外周に沿って配置されたリング状の第2シール部材と、前記カバー部材とベース部材とを前記第2シール部材を挟んで締結する複数の締結具とから成ることを特徴とする。 In order to achieve the above object, in the present invention, a base member having a plurality of feeding electrodes provided along an opening periphery of an opening penetrating vertically, and disposed along the opening periphery of the opening. A ring-shaped first seal member on which the surface of the plate-shaped object to be electrically connected to the power supply electrode is placed and set, and the back surface of the object to be plated set on the first seal member A cover member that covers the entire surface, a plate holding member that contacts the cover member and the back surface of the member to be plated and presses the member to be plated toward the first seal member, and an outer periphery of the plate holding member. A ring-shaped second seal member disposed along the plurality of fasteners that fasten the cover member and the base member with the second seal member interposed therebetween.
本発明のメッキ治具によれば、被メッキ体の表面が露出する開口はリング状の第1シール部材によって確実にシールされ、開口周縁部から侵入するメッキ液を確実に阻止することができる。 According to the plating jig of the present invention, the opening through which the surface of the object to be plated is exposed is reliably sealed by the ring-shaped first seal member, and the plating solution entering from the peripheral edge of the opening can be reliably prevented.
また、カバー部材とベース部材との間はリング状の第2シール部材を挟んで締結されるため、その第2シール部材によって全周が確実にシールされ、被メッキ体の周縁部及び裏面へのメッキ液の侵入を確実に阻止することができるようになり、歩留りの向上が図れる。 Further, since the cover member and the base member are fastened with the ring-shaped second seal member sandwiched therebetween, the entire circumference is surely sealed by the second seal member, and the periphery of the object to be plated and the back surface are sealed. Intrusion of the plating solution can be surely prevented, and the yield can be improved.
第1には、前記被メッキ押え部材を、リング状の円板と、その円板の中央部位に設けられ前記カバー部材の内壁面と接触し合う上下伸縮調整可能な突起体と、前記円板に設けられ前記被メッキ体の裏面外周縁に沿って弾接し合うリング状の弾性部材とによって、全周面にわたってほぼ均一なシール圧が作用する構造とする。 First, the pressed member to be plated includes a ring-shaped disk, a protrusion that is provided at a central portion of the disk and that can be adjusted in the vertical direction to contact the inner wall surface of the cover member, and the disk And a ring-shaped elastic member elastically contacting along the outer peripheral edge of the back surface of the object to be plated so that a substantially uniform sealing pressure acts on the entire peripheral surface.
第2には、前記給電電極を、帯板状に形成された水平部と垂直部とで形成し、前記水平部を前記垂直部を介して入力される入力荷重に対して反発力を備えた弾性体によって支持する一方、前記垂直部の先端縁を前記被メッキ体と電気的に接続させ、弾性体による弾性反力を利用することで給電電極の先端を被メッキ体に確実に接続させる構造とする。 Second, the feeding electrode is formed of a horizontal portion and a vertical portion formed in a strip shape, and the horizontal portion has a repulsive force against an input load input through the vertical portion. A structure in which the tip end of the vertical portion is electrically connected to the object to be plated and the tip of the feeding electrode is securely connected to the object to be plated by utilizing an elastic reaction force by the elastic body while being supported by the elastic body. And
第3には、前記給電電極の垂直部先端縁を、複数の山形形状とし、その山形形状によって被メッキ体に給電電極の先端が確実に突刺さる接続状態が得られる構造とする。 Thirdly, the vertical edge of the feeding electrode has a plurality of chevron shapes, and the chevron shape ensures a connection state in which the tip of the power feeding electrode reliably pierces the object to be plated.
以下、図1乃至図5の図面を参照しながら本発明の実施の形態について具体的に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to FIGS. 1 to 5.
図1はメッキ治具の概要断面図、図2はメッキ治具の概要分解断面図をそれぞれ示している。 FIG. 1 is a schematic sectional view of the plating jig, and FIG. 2 is a schematic exploded sectional view of the plating jig.
メッキ治具1のベース部材3は、図1において上下に貫通した開口5とその開口周縁に沿って配置され図外のメッキ槽内に設けられる陽極に対して陰極となる複数の給電電極7を有している。前記開口5の開口周縁には、その開口周縁に沿ってリング状の第1シール部材9が設けられている。
The
給電電極7は帯板状に形成された水平部11とその水平部11から垂直に立上がる垂直部13とから成り、水平部11は、上方からの荷重に対して弾性反力を備えた弾性体15の上面に載置されている。この場合、弾性体15は独立して設けてもよく、前記第1シール部材9と一体の一体形成であってもよい。
The
垂直部13は、前記第1シール部材9に沿って上方へ延長され、その垂直部先端縁13aは図3に示すように複数の山形形状となっていて前記第1シール部材9に載置セットされるウエハ等の被メッキ体17に対して確実に突刺さるようになっている。この場合、山形形状は2連となっているが3連又は4連であってもよい。
The
被メッキ体17は板状に形成され前記開口5を介して表面17aにのみ銅メッキが施されるようになっている。被メッキ体17の裏面17bには、被メッキ押え部材19と、さらにその被メッキ押え部材19全体をカバーするカバー部材21がそれぞれ設けられている。
The object to be plated 17 is formed in a plate shape, and copper plating is applied only to the
被メッキ押え部材19は、所定の板厚により面剛性を備えた円板20と、その円板20の中央部位に設けられたねじ式の突起体23と、前記円板20の裏面外周縁に沿って配置されたリング状の弾性部材25とで形成されている。
The to-be-plated
リング状の弾性部材25は前記第1シール部材9に載置セットされる被メッキ体17の裏面17b外周縁に沿って弾接している。
The ring-shaped
突起体23は、外周に雄ねじが設けられたスクリュウねじとなっていて円板20の中央に設けられた雌ねじ孔に螺合し、左又は右回転させることで、円板20の上面から上方へ突出する突出量の調整が可能となっている。したがって、突起体23の先端頭部がカバー部材21の内壁面と突当ることで上方からの荷重Wは、前記突起体23が中央部位に位置するという条件と相俟って、前記円板20を介して弾性部材25にほぼ均一に伝達されるようになっている。これにより、被メッキ体7の外周縁は図1下向きに均等に押えつけられる作用が働き全周面にわたって前記第1シール部材9による均一なシール圧が確保されるようになっている。
The
カバー部材21は、丸い板状に形成され、リング状の第2シール部材27を挟んで前記ベース部材3と締結可能となっている。カバー部材21の内側外周縁には、第2シール部材セット溝28が全周にわたって設けられると共にその外側に締結用の締結孔30が所定の間隔で7つ設けられている。
The
第2シール部材27は、前記被メッキ押え部材19の外周に沿ってリング状に配置されベース部材3とカバー部材21との間を全周にわたってシールするようになっている。
The
カバー部材21とベース部材3を締結する締結具29は、ボルトタイプとなっていて、前記カバー部材21の締結孔30から挿入され、先端部は前記ベース部材3のねじ孔3aと螺合し合う形状となっている。この場合、締結具29はベース部材3から立上がると共に締結孔30を貫通した後、ナットが螺合されるセットボルトタイプであってもよい。
A
したがって、締結具29を取外すことでベース部材3に対する被メッキ押え部材19及びカバー部材21の取外しが可能となり、被メッキ体17のセットが可能となる。
Therefore, by removing the
このように構成されたメッキ治具1によれば、ウエハ等の被メッキ体17を図1に示すようにセットした後、締結具29を締付けることで、前記第2シール部材27を挟んでカバー部材21とベース部材3との締結状態が確保され、全周にわたって確実なシール状態が得られる。
According to the plating jig 1 configured in this way, after the object to be plated 17 such as a wafer is set as shown in FIG. 1, the
この締結時において、カバー部材21からの荷重Wは突起体23に伝達される。この時、締結具29による締結力が場所によって異なっても、中央部位の突起体23により円板20を介して弾性部材25にほぼ均等に伝達され、被メッキ体17を押圧する。押圧された被メッキ体17は、図4の鎖線から実線に示すように第1シール部材9及び弾性体15の弾性反力に抗して給電電極7の垂直部先端縁13aを下方へ押圧する。この押圧により蓄積された弾性反力によって第1シール部材9は被メッキ体17と確実に密着し合い全周にわたって確実なシール状態が得られる。
At the time of this fastening, the load W from the
同時に給電電極7は、弾性体15の弾性反力によって山形状の垂直部先端線13aは前記被メッキ体17に突刺さり確実な接続状態が得られるようになる。
At the same time, the
したがって、被メッキ体17がセットされたメッキ治具1のベース部材3を図外のメッキ槽内へ縦に並べてセットすることで、被メッキ体17の表面のみ銅メッキが確実に得られるようになり、歩留りの向上が図れる。
Therefore, by setting the
3…ベース部材
5…開口
7…給電電極
9…第1シール部材
11…水平部
13…垂直部
13a…垂直部先端縁
15…弾性体
17…被メッキ体
19…被メッキ押え部材
20…円板
21…カバー部材
23…突起体
25…弾性部材
27…第2シール部材
29…締結具
DESCRIPTION OF
Claims (4)
The plating jig according to claim 3, wherein the leading edge of the vertical portion of the power supply electrode has a plurality of chevron shapes.
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JP2008133526A (en) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Fujikura Ltd | Plating tool |
JP2008202065A (en) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Mitsubishi Materials Corp | Anode electrode attachment structure for electroplating |
CN103132123A (en) * | 2011-11-29 | 2013-06-05 | 北京有色金属研究总院 | Fixture for fixing soft material plated piece substrate |
JP2013119648A (en) * | 2011-12-07 | 2013-06-17 | Yamamoto Mekki Shikenki:Kk | Tool for holding workpiece |
JP2014065953A (en) * | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Support jig for plating semiconductor wafer |
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---|---|---|---|---|
JP2008133526A (en) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Fujikura Ltd | Plating tool |
JP2008202065A (en) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | Mitsubishi Materials Corp | Anode electrode attachment structure for electroplating |
CN103132123A (en) * | 2011-11-29 | 2013-06-05 | 北京有色金属研究总院 | Fixture for fixing soft material plated piece substrate |
CN103132123B (en) * | 2011-11-29 | 2015-08-26 | 北京有色金属研究总院 | A kind of stationary fixture of soft material plating piece matrix |
JP2013119648A (en) * | 2011-12-07 | 2013-06-17 | Yamamoto Mekki Shikenki:Kk | Tool for holding workpiece |
JP2014065953A (en) * | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Support jig for plating semiconductor wafer |
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