JP2006016399A - 安息香酸アリールアルキル誘導体およびアミドベースの油によってジベンゾイルメタン誘導体を光安定化させる方法、および光防護用化粧品組成物 - Google Patents
安息香酸アリールアルキル誘導体およびアミドベースの油によってジベンゾイルメタン誘導体を光安定化させる方法、および光防護用化粧品組成物 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体をUV放射に関して光安定化させる方法を提供。
【解決手段】安息香酸アリールアルキル誘導体、及びその構造中にアミド単位を含む油によって、ジベンゾイルメタン誘導体をUV放射に関して光安定化させる方法、又、局所使用のための化粧品組成物又は皮膚科用組成物であって、前記組成物が、化粧品として許容される担体中に、 (a)ジベンゾイルメタン誘導体型UVスクリーニング剤、 (b)安息香酸アリールアルキル誘導体、 (c)その構造中にアミド単位を含む油 を含む組成物、 更には、前記ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に関する安定性を改善する目的で、ジベンゾイルメタン誘導体を含む化粧品組成物または皮膚科用組成物中に、安息香酸アリールアルキル誘導体、及びその構造中にアミド単位を含む油を使用すること。
【選択図】 なし
【解決手段】安息香酸アリールアルキル誘導体、及びその構造中にアミド単位を含む油によって、ジベンゾイルメタン誘導体をUV放射に関して光安定化させる方法、又、局所使用のための化粧品組成物又は皮膚科用組成物であって、前記組成物が、化粧品として許容される担体中に、 (a)ジベンゾイルメタン誘導体型UVスクリーニング剤、 (b)安息香酸アリールアルキル誘導体、 (c)その構造中にアミド単位を含む油 を含む組成物、 更には、前記ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に関する安定性を改善する目的で、ジベンゾイルメタン誘導体を含む化粧品組成物または皮膚科用組成物中に、安息香酸アリールアルキル誘導体、及びその構造中にアミド単位を含む油を使用すること。
【選択図】 なし
Description
本発明は、少なくとも1種の安息香酸アリールアルキル誘導体、およびその構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む少なくとも1種の油によって、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体をUV放射に関して光安定化させる方法に関する。
本発明は、新規な組成物、特に、局所使用のための化粧品組成物にも関する。
波長280nm〜400nmの光放射は、ヒト表皮を日焼けさせ、特にUV-B線として知られている波長280〜320nmの光線は、皮膚熱傷、および自然な日焼けの発生を妨害し得る紅斑の原因になることが知られている。これらの理由や美的な理由で、したがって肌の色を制御するために、この自然な日焼けを制御する手段には一定の需要があり、このUV-B放射は排除すべきである。
皮膚の日焼けの原因となる波長320〜400nmのUV-A線は、皮膚の中で有害な変化を誘発しやすく、特に、過敏な皮膚または太陽光に継続的に曝露されている皮膚の場合に有害な変化を誘発しやすいことも知られている。UV-A線は、特に、皮膚の弾性を消失させ、早すぎる皮膚の老化を招く小皺を出現させる原因となる。この光線は、紅斑反応の誘発を促進し、または一定の個人においてこの反応を増幅させ、光毒性反応または光アレルギー性反応の原因とさえなり得る。したがって、例えば、皮膚の自然な弾性の維持など、美的および美容上の理由で、ますます多くの人々が、皮膚に対するUV-A線の作用を制御したいと願っている。したがって、UV-A放射も排除することが望ましい。
UV照射から皮膚およびケラチン物質を防護する目的で、一般的に、UV-A領域およびUV-B領域で活性な有機スクリーニング剤を含む日焼け防止用組成物が使用されている。これらのスクリーニング剤のほとんどは脂溶性である。
この点で、現在、UV-Aスクリーニング剤の1つの特に有利なファミリーは、ジベンゾイルメタン誘導体、特に、4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタンからなり、この誘導体は固有の吸収力は高い。それ自体、UV-A領域で活性なスクリーニング剤として現在よく知られている製品である、これらのジベンゾイルメタン誘導体は、特に、フランス国特許出願FR-A-2326405および同FR-A-2440933に、ならびに欧州特許出願EP-A-0-114607にも記載されており、さらに現在、4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタンは、Roche Vitamins社から商品名「Parsol 1789」で販売されている。
遺憾ながら、ジベンゾイルメタン誘導体は紫外放射(特にUV-A)に対してやや敏感な製品であり、すなわちより詳細には、これらの誘導体はこのUVの作用下で幾分急速に分解される厄介な傾向があることが判明している。したがって、本来、誘導体をその影響下に置くことが意図されている紫外放射に対するジベンゾイルメタン誘導体のこの実質的な光化学安定性の欠如は、太陽への長時間の曝露中継続的な防護を確実なものにできないので、UV線に対して有効に皮膚を防護するためには、使用者は一定および接近した時間間隔で繰り返し塗布しなければならない。
ジベンゾイルメタン誘導体は、油溶性固形スクリーニング剤である。これらのUVスクリーニング剤を効果的に溶解することができる油のうちで、アルキルベンゾエートが知られており、特にC12/C15アルキルベンゾエート、例えば、商品Finsolv TNまたはWitco社から製造販売されているWitconol APMが知られている。
フランス国特許出願公開第2326405号公報
フランス国特許出願公開第2440933号公報
欧州特許出願公開第114607号公報
しかし、現在まで分かっている安息香酸アルキル（アルキルベンゾエート）は、ジベンゾイルメタン誘導体のUV照射に関する光安定性問題を解決していない。
今回、本出願人は、驚くべきことに、上記ジベンゾイルメタン誘導体を、有効量の安息香酸アリールアルキル誘導体、およびその構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む油と組み合わせることによって、こうしたそれらのジベンゾイルメタン誘導体の光化学的安定性(または光安定性)を実質的に顕著な方式で改善できることを発見している。
この本質的な発見が、本発明の基礎となっている。
すなわち、本発明の主題の1つによれば、今回、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体のUV放射に関する安定性を改善する方法が提案され、この方法は、前記ジベンゾイルメタン誘導体を、少なくとも1種の安息香酸アリールアルキル誘導体、およびその構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む少なくとも1種の油と組み合わせることから構成される。
表現「その構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む油」は、説明文全体にわたって、その化学構造中に少なくとも1個の以下のタイプ:
のアミド基(または官能基)を含むと同時に、以下の特性を有する任意の化合物を意味すると理解されよう:
a)25°Cで液体であり、
b)25°Cでは不溶性または水に混和せず、
c)乳化特性を有しない。
a)25°Cで液体であり、
b)25°Cでは不溶性または水に混和せず、
c)乳化特性を有しない。
本発明の別の主題は、局所使用のための化粧品組成物または皮膚科用組成物であって、組成物が、化粧品として許容される担体中に、
(a)ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも1種のUVスクリーニング剤および
(b)少なくとも1種の安息香酸アリールアルキル誘導体および
(c)その構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む少なくとも1種の油
を含むことを特徴とする組成物にも関する。
(a)ジベンゾイルメタン誘導体型の少なくとも1種のUVスクリーニング剤および
(b)少なくとも1種の安息香酸アリールアルキル誘導体および
(c)その構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む少なくとも1種の油
を含むことを特徴とする組成物にも関する。
最後に、本発明の主題は、前記ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に関する安定性を改善する目的で、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を含む化粧品組成物または皮膚科用組成物中に安息香酸アリールアルキル誘導体を使用することでもある。
本発明の他の特性、態様および利点は、以下の詳細な説明を読むことによって明らかになるであろう。
非限定的に特に挙げることができるジベンゾイルメタン誘導体は以下のものである。
- 2-メチルジベンゾイルメタン、
- 4-メチルジベンゾイルメタン、
- 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
- 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
- 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
- 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
- 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
- 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
- 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン。
- 2-メチルジベンゾイルメタン、
- 4-メチルジベンゾイルメタン、
- 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
- 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
- 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
- 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
- 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
- 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
- 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
- 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン。
上記ジベンゾイルメタン誘導体の中では、メルク社から「Eusolex 8020」の名で販売され、次式に相当する4-イソプロピルジベンゾイルメタンが特に使用される。
Roche Vitamins社から商品名「Parsol 1789」で販売されている4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンまたはブチルメトキシジベンゾイルメタンを使用することが最も好ましく、このスクリーニング剤は次式に相当する。
ジベンゾイルメタン誘導体は、本発明による組成物中に、組成物の全重量に対して好ましくは0.01重量%〜10重量%の範囲、より好ましくは0.1重量%〜6重量%の量で存在することができる。
本発明による安息香酸アリールアルキル誘導体は、下式(I)または(II)の誘導体から選択することが好ましい。
[式中、
Xは、O、S、またはNを示し、
nは、1〜10、より好ましくは2〜6の整数であり、
R1およびR2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子；ヒドロキシル基；ハロゲン原子(塩素またはフッ素)；直鎖または分枝C1〜C4アルコキシ基(好ましくはメトキシまたはエトキシ)；ニトロ基；アミノ基；C6H6SO2基を示し、
R3、R4、およびR5は、同一でも異なっていてもよく、次式の基を示す。
Xは、O、S、またはNを示し、
nは、1〜10、より好ましくは2〜6の整数であり、
R1およびR2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子；ヒドロキシル基；ハロゲン原子(塩素またはフッ素)；直鎖または分枝C1〜C4アルコキシ基(好ましくはメトキシまたはエトキシ)；ニトロ基；アミノ基；C6H6SO2基を示し、
R3、R4、およびR5は、同一でも異なっていてもよく、次式の基を示す。
(式中、nは上記と同じ意味を有し；R6は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子(例えば塩素またはフッ素)、直鎖または分枝C1〜C4アルコキシ基(好ましくはメトキシまたはエトキシ)、ニトロ基、アミノ基、C6H6SO2基を示す。)]
本発明による安息香酸アリールアルキル誘導体、およびその合成は、長い間化学文献で知られており、特に、特許PL55230で知られている。
上記安息香酸アリールアルキル誘導体の中で、特に、安息香酸2-フェニルエチル:
が使用され、例えば、ISP社製の商品X-Tend 226(登録商標)が使用されうる。
本発明による安息香酸アリールアルキル誘導体は、本発明による組成物中に組成物の全重量に対して0.1重量%〜40重量%、より好ましくは0.1重量%〜30重量%の範囲の含有量で存在してもよい。
本発明による、構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む油は、下式(III)の化合物から選択されることが好ましい:
[式中、
‐ 基R1は、1〜30個の炭素原子、好ましくは1〜22個の炭素原子(両端値を含む)を含む官能化されていてもよい、脂肪族、脂環式または環式、飽和または不飽和の一価炭化水素ベースの基を表し、
‐ 基R2、R3、およびR4は、同一でも異なっていてもよく、水素、あるいは1〜30個の炭素原子、好ましくは1〜22個の炭素原子(両端値を含む)を含む官能化されていてもよい、脂肪族、脂環式または環式、飽和または不飽和の一価炭化水素ベースの基を表し、
‐ rは、0または1であり、
‐ qは、0〜2の整数であり、
‐ pは、0または1であり、
‐ ただし、
p=1である場合は、rは0であり、p=0の場合は、q=0かつr=1である。]
‐ 基R1は、1〜30個の炭素原子、好ましくは1〜22個の炭素原子(両端値を含む)を含む官能化されていてもよい、脂肪族、脂環式または環式、飽和または不飽和の一価炭化水素ベースの基を表し、
‐ 基R2、R3、およびR4は、同一でも異なっていてもよく、水素、あるいは1〜30個の炭素原子、好ましくは1〜22個の炭素原子(両端値を含む)を含む官能化されていてもよい、脂肪族、脂環式または環式、飽和または不飽和の一価炭化水素ベースの基を表し、
‐ rは、0または1であり、
‐ qは、0〜2の整数であり、
‐ pは、0または1であり、
‐ ただし、
p=1である場合は、rは0であり、p=0の場合は、q=0かつr=1である。]
特に挙げてよい飽和脂肪族炭化水素ベースの基の例には、直鎖または分枝、置換または非置換のC1〜C30、好ましくはC1〜C22アルキル基、特にメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、ペンチル、n-アミル、イソアミル、ネオペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、2-エチルヘキシル、tert-オクチル、デシル、ラウリル、およびオクタデシル基が含まれる。
特に挙げられる飽和環式炭化水素ベースの基の例には、任意選択で、特にアルキル基によって置換されているシクロペンチルおよびシクロヘキシル基が含まれる。
特に挙げられる不飽和脂肪族炭化水素ベースの基の例には、直鎖または分枝、置換または非置換のC2〜C30、好ましくはC2〜C22アルケニルまたはアルキニル基、特にビニル、アリル、オレイル、およびリノレイル基が含まれる。
特に挙げられる不飽和環式炭化水素ベースの基の例には、特に、任意選択で、特にアルキルによって置換されているフェニルやナフチルなどのアリール基、例えば、トリル基が含まれ、挙げてよい不飽和脂環式基の例には、より具体的にはベンジルおよびフェニルエチル基が含まれる。
用語「官能化基」は、より具体的には、主鎖中または二次的鎖単位上であるその化学構造中に、1個または複数の官能基、特に、エステル、エーテル、アルコール、アミン、アミド、およびケトン、特にエステル、を含む基を意味する。
式(II)のアミドベースの油は、
R1が、直鎖または分枝C1〜C22アルキル基、直鎖または分枝C2〜C22アルケニル基、アリール基を表し、
R2が、水素原子、または直鎖もしくは分枝C1〜C6アルキル基を表し、
R3が、水素原子、または直鎖もしくは分枝C1〜C6アルキル基を表し、
R4が、直鎖もしくは分枝C1〜C10アルキル基、または直鎖もしくは分枝C2〜C10アルケニル基、またはステロール残基を表す油から選択される油であることが好ましい。
R1が、直鎖または分枝C1〜C22アルキル基、直鎖または分枝C2〜C22アルケニル基、アリール基を表し、
R2が、水素原子、または直鎖もしくは分枝C1〜C6アルキル基を表し、
R3が、水素原子、または直鎖もしくは分枝C1〜C6アルキル基を表し、
R4が、直鎖もしくは分枝C1〜C10アルキル基、または直鎖もしくは分枝C2〜C10アルケニル基、またはステロール残基を表す油から選択される油であることが好ましい。
上記式(III)では、基R1(CO)-は、好ましくは、酢酸、トルイル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、リノール酸、リノレン酸、オレイン酸、イソステアリン酸、2-エチルヘキサン酸、ココナッツ油脂肪酸、およびパーム核油脂肪酸で構成された群から選択された酸のアシル基である。これらの酸は、ヒドロキシル基を含んでいてもよい。
式(III)では、pが1である場合、アミノ酸エステルの-N(R2)CH(R3)(CH2)q(CO)-部分が、以下のアミノ酸：
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン、β-アラニン、N-ブチル-β-アラニン、アミノ酪酸、アミノカプロン酸、サルコシン、またはN-メチル-β-アラニン
に対応するアミノ酸エステルから選択されることが好ましい。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン、β-アラニン、N-ブチル-β-アラニン、アミノ酪酸、アミノカプロン酸、サルコシン、またはN-メチル-β-アラニン
に対応するアミノ酸エステルから選択されることが好ましい。
式(III)では、pが1である場合、基OR4に対応するアミノ酸エステル部分は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、tert-ブタノール、イソブタノール、3-メチル-1-ブタノール、2-メチル-1-ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール、2-エチルヘキサノール、デカノール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、ベヘニルアルコール、ホホバアルコール、2-ヘキサデシルアルコール、2-オクチルドデカノール、およびイソステアリルアルコールで構成された群から選択されたアルコールから得ることができる。
本発明による、構造中に少なくとも1個のアミド官能基を含む式(III)の油自体公知である。そのいくつかは、特に、味の素株式会社からの特許出願EP1044676および同EP0928608にその調製方法と共に記載されている。他には、化粧品、例えば、エチルN-アセチル-N-ブチルアミノプロピオネートやN,N-ジエチルトルアミドなどの昆虫忌避剤が知られている。
特に好ましい式(III)の化合物の中では、
(1)次式で表され:
(1)次式で表され:
メルク社から商品名Repellent R3535で販売されている商品など、エチルN-アセチル-N-ブチルアミノプロピオネート、
(2)次式で表され:
(2)次式で表され:
味の素株式会社からEldew SL-205の名で販売されている商品など、イソプロピルN-ラウロイルサルコシネート、
(3)次式で表され:
(3)次式で表され:
Showa Denko社から商品名Deetで販売されている商品など、N,N-ジエチルトルアミドが挙げられる。
先に定義した、その構造中に少なくとも1個のアミド官能基を含む油は、本発明による組成物中に、組成物の全重量に対して0.1重量%〜40重量%、より好ましくは1重量%〜20重量%の範囲の濃度で存在する。
本発明によれば、安息香酸アリールアルキル誘導体/アミドベースの油の光安定化混合物は、所定の組成物中のジベンゾイルメタン誘導体の光安定性を、感知可能かつ著しく改善するために充分な量で使用される。光安定化剤のこの使用最少量は、当初に配合物中に存在するジベンゾイルメタンの量、および組成物に用いた化粧品として許容される担体の性質に従って変わりうる。その量は、光安定性を測定するための標準的試験によって難なく決定することができる。
本発明による組成物は、水溶性もしくは脂溶性であり、または通常使用されている化粧品用溶媒に不溶性の、UVA活性および/またはUVB活性の有機または無機光防護剤を含んでいてよい。
追加の有機光防護剤は、特に、アントラニラート；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸誘導体；カンファー誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリレート誘導体；トリアジン誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロネート誘導体；ベンズイミダゾール誘導体；イミダゾリン；特許EP669323およびUS2463264に記載されているビス-ベンゾアゾリル誘導体；p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体；特許出願US5237071、US5166355、GB2303549、DE19726184、およびEP893119に記載されているメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体；特許出願EP0832642、EP1027883、EP1300137、およびDE10162844に記載されているベンゾオキサゾール誘導体；特に出願WO93/04665に記載されているものなどのスクリーニングポリマーおよびスクリーニングシリコーン；特許出願DE19855649に記載されているものなどα-アルキルスチレンに由来する二量体；特許出願EP0967200、DE19746654、DE19755649、EP-A1008586、EP1133980、およびEP133981に記載されている4,4-ジアリールブタジエン、ならびにそれらの混合物、から選択される。
追加の有機光防護剤の例としては、そのINCI名で以下に示すもの、およびそれらの混合物を挙げることができる。
〔パラ-アミノ安息香酸誘導体: 〕
PABA、
エチルPABA、
エチルジヒドロキシプロピルPABA、
特に、ISPから「Escalol 507」の名称で販売されているエチルヘキシルジメチルPABA、
グリセリルPABA、
BASFから「Uvinul P25」の名で販売されているPEG-25PABA、
〔サリチル酸誘導体: 〕
Rona/EM Industriesから「Eusolex HMS」の名で販売されているホモサレート、
Haarmann and Reimerから「Neo Heliopan OS」の名で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
Scherから「Dipsal」の名で販売されているジプロピレングリコールサリチレート、
Haarmann and Reimerから「Neo Heliopan TS」の名で販売されているサリチル酸TEA。
〔ケイ皮酸誘導体: 〕
特に、Hoffmann LaRocheから商品名「Parsol MCX」で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
メトキシケイ皮酸イソプロピル、
Haarmann and Reimerから商品名「Neo Heliopan E 1000」で販売されているメトキシケイ皮酸イソアミル、
シノキサート、
メトキシケイ皮酸DEA、
メチルケイ皮酸ジイソプロピル、
エチルヘキサン酸ジメトキシケイ皮酸グリセリル。
〔β,β-ジフェニルアクリル酸誘導体: 〕
特に、BASFから商品名「Uvinul N539」で販売されているオクトクリレン、
特に、BASFから商品名「Uvinul N35」で販売されているエトクリレン、
〔ベンゾフェノン誘導体: 〕
BASFから商品名「Uvinul 400」で販売されているベンゾフェノン-1、
BASFから商品名「Uvinul D50」で販売されているベンゾフェノン-2、
BASFから商品名「Uvinul M40」で販売されているベンゾフェノン-3またはオキシベンゾン、
BASFから商品名「Uvinul MS40」で販売されているベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
Norquayから商品名「Helisorb 11」で販売されているベンゾフェノン-6、
American Cyanamidから商品名「Spectra-Sorb UV-24」で販売されているベンゾフェノン-8、
BASFから商品名「Uvinul DS-49」で販売されているベンゾフェノン-9、
ベンゾフェノン-12、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル、
〔ベンジリデンカンファー誘導体: 〕
Chimexから「Mexoryl SD」の名で製造されている3-ベンジリデンカンファー、
メルクから「Eusolex 6300」」の名で販売されている4-メチルベンジリデンカンファー、
Chimexから「Mexoryl SL」の名で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、
Chimexから「Mexoryl SO」の名で製造されているカンファーベンザルコニウムメトスルフェート、
Chimexから「Mexoryl SX」の名で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸、
Chimexから「Mexoryl SW」の名で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー、
〔フェニルベンズイミダゾール誘導体: 〕
特に、メルクから商品名「Eusolex 232」で販売されているフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
Haarmann and Reimerから商品名「Neo Heliopan AP」で販売されているフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート二ナトリウム、
〔フェニルベンゾトリアゾール誘導体: 〕
Rhodia Chimieから「Silatrizole」の名で販売されているドロメトリゾールトリシロキサン、
固形形態でFairmount Chemicalから商品名「MIXXIM BB/100」で、または水性分散体として微粉末形態でCiba Specialty Chemicalsから商品名「Tinosorb M」で販売されている、メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
〔トリアジン誘導体: 〕
Ciba Geigyから商品名「Tinosorb S」で販売されているビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
特に、BASFから商品名「Uvinul T150」で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
Sigma 3Vから商品名「Uvasorb HEB」で販売されているジエチルヘキシルブタアミドトリアゾン、
2,4,6-トリス(4'-アミノベンザルマロン酸ジイソブチル)-s-トリアジン、
〔アントラニル誘導体: 〕
Haarmann and Reimerから商品名「Neo Heliopan MA」で販売されているアントラニル酸メンチル、
イミダゾリン誘導体:
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート、
〔ベンザルマロネート誘導体: 〕
ベンザルマロネート官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えば、Hoffmann LaRocheから商品名「Parsol SLX」で販売されているポリシリコーン-15、
〔4,4-ジアリールブタジエン誘導体: 〕
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
〔ベンゾオキサゾール誘導体: 〕
Sigma 3VからUvasorb K2Aの名で販売されている2,4-ビス[5-(1-ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)-イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン。
〔パラ-アミノ安息香酸誘導体: 〕
PABA、
エチルPABA、
エチルジヒドロキシプロピルPABA、
特に、ISPから「Escalol 507」の名称で販売されているエチルヘキシルジメチルPABA、
グリセリルPABA、
BASFから「Uvinul P25」の名で販売されているPEG-25PABA、
〔サリチル酸誘導体: 〕
Rona/EM Industriesから「Eusolex HMS」の名で販売されているホモサレート、
Haarmann and Reimerから「Neo Heliopan OS」の名で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
Scherから「Dipsal」の名で販売されているジプロピレングリコールサリチレート、
Haarmann and Reimerから「Neo Heliopan TS」の名で販売されているサリチル酸TEA。
〔ケイ皮酸誘導体: 〕
特に、Hoffmann LaRocheから商品名「Parsol MCX」で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
メトキシケイ皮酸イソプロピル、
Haarmann and Reimerから商品名「Neo Heliopan E 1000」で販売されているメトキシケイ皮酸イソアミル、
シノキサート、
メトキシケイ皮酸DEA、
メチルケイ皮酸ジイソプロピル、
エチルヘキサン酸ジメトキシケイ皮酸グリセリル。
〔β,β-ジフェニルアクリル酸誘導体: 〕
特に、BASFから商品名「Uvinul N539」で販売されているオクトクリレン、
特に、BASFから商品名「Uvinul N35」で販売されているエトクリレン、
〔ベンゾフェノン誘導体: 〕
BASFから商品名「Uvinul 400」で販売されているベンゾフェノン-1、
BASFから商品名「Uvinul D50」で販売されているベンゾフェノン-2、
BASFから商品名「Uvinul M40」で販売されているベンゾフェノン-3またはオキシベンゾン、
BASFから商品名「Uvinul MS40」で販売されているベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
Norquayから商品名「Helisorb 11」で販売されているベンゾフェノン-6、
American Cyanamidから商品名「Spectra-Sorb UV-24」で販売されているベンゾフェノン-8、
BASFから商品名「Uvinul DS-49」で販売されているベンゾフェノン-9、
ベンゾフェノン-12、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル、
〔ベンジリデンカンファー誘導体: 〕
Chimexから「Mexoryl SD」の名で製造されている3-ベンジリデンカンファー、
メルクから「Eusolex 6300」」の名で販売されている4-メチルベンジリデンカンファー、
Chimexから「Mexoryl SL」の名で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、
Chimexから「Mexoryl SO」の名で製造されているカンファーベンザルコニウムメトスルフェート、
Chimexから「Mexoryl SX」の名で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸、
Chimexから「Mexoryl SW」の名で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー、
〔フェニルベンズイミダゾール誘導体: 〕
特に、メルクから商品名「Eusolex 232」で販売されているフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
Haarmann and Reimerから商品名「Neo Heliopan AP」で販売されているフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート二ナトリウム、
〔フェニルベンゾトリアゾール誘導体: 〕
Rhodia Chimieから「Silatrizole」の名で販売されているドロメトリゾールトリシロキサン、
固形形態でFairmount Chemicalから商品名「MIXXIM BB/100」で、または水性分散体として微粉末形態でCiba Specialty Chemicalsから商品名「Tinosorb M」で販売されている、メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
〔トリアジン誘導体: 〕
Ciba Geigyから商品名「Tinosorb S」で販売されているビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
特に、BASFから商品名「Uvinul T150」で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
Sigma 3Vから商品名「Uvasorb HEB」で販売されているジエチルヘキシルブタアミドトリアゾン、
2,4,6-トリス(4'-アミノベンザルマロン酸ジイソブチル)-s-トリアジン、
〔アントラニル誘導体: 〕
Haarmann and Reimerから商品名「Neo Heliopan MA」で販売されているアントラニル酸メンチル、
イミダゾリン誘導体:
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート、
〔ベンザルマロネート誘導体: 〕
ベンザルマロネート官能基を含むポリオルガノシロキサン、例えば、Hoffmann LaRocheから商品名「Parsol SLX」で販売されているポリシリコーン-15、
〔4,4-ジアリールブタジエン誘導体: 〕
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
〔ベンゾオキサゾール誘導体: 〕
Sigma 3VからUvasorb K2Aの名で販売されている2,4-ビス[5-(1-ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)-イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン。
好ましい追加の有機光防護剤は、以下のもの、およびそれらの混合物から選択される。
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
ホモサレート、
サリチル酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート二ナトリウム、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタアミドトリアゾン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1-(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン。
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
ホモサレート、
サリチル酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート二ナトリウム、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタアミドトリアゾン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1-(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン。
追加の無機光防護剤は、顔料から選択され、例えば、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、または酸化セリウムの(ルチル形および/またはアナターゼ形の非結晶または結晶化)酸化チタンナノ顔料などの、ナノ顔料(主粒子の平均径:一般に5nm〜100nm、好ましくは10nm〜50nm)から選択されることがより好ましい。
処理済ナノ顔料は、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪族アルコール、アニオン性界面活性剤、レシチン;脂肪酸のナトリウム、カリウム、亜鉛、鉄、またはアルミニウム塩;、金属(チタンまたはアルミニウム)アルコキシド、ポリエチレン、シリコーン、蛋白質(コラーゲンまたはエラスチン)、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物、ヘキサメタリン酸ナトリウム、アルミナ、またはグリセロールなど、例えば、Cosmetics & Toiletries、1990年、2月、第105巻、5364ページに記載されている化合物によって、化学的、電子的、機械化学的、および/または機械的性質の1種または複数の表面処理が施されている顔料である。
処理済ナノ顔料は、より具体的には、以下によって処理した酸化チタンであってよい:
- シリカおよびアルミナ、例えば、Tayca社製「Microtitanium dioxide MT 500 SA」および「Microtitanium Dioxide MT 100 SA」、ならびにTioxide社製品「Tioveil Fin」、「Tioveil OP」、「Tioveil MOTG」、「Tioveil IPM」、
- アルミナおよびステアリン酸アルミニウム、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 100 T」、
- アルミナおよびラウリン酸アルミニウム、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 100 S」、
- 酸化鉄およびステアリン酸鉄、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 100 F」、
- シリカ、アルミナ、およびシリコーン、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 100 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 600 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 500SAS」、
- ヘキサメタリン酸ナトリウム、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 150W」など、、
- オクチルトリメトキシシラン、例えば、Degussa社製品「T-805」、
- アルミナおよびステアリン酸、例えば、Kemira社製品「UVT-M160」、
- アルミナおよびグリセロール、例えば、Kemira社製品「UVT-M212」、
- アルミナおよびシリコーン、例えば、Kemira社製品「UVT-M262」。
- シリカおよびアルミナ、例えば、Tayca社製「Microtitanium dioxide MT 500 SA」および「Microtitanium Dioxide MT 100 SA」、ならびにTioxide社製品「Tioveil Fin」、「Tioveil OP」、「Tioveil MOTG」、「Tioveil IPM」、
- アルミナおよびステアリン酸アルミニウム、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 100 T」、
- アルミナおよびラウリン酸アルミニウム、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 100 S」、
- 酸化鉄およびステアリン酸鉄、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 100 F」、
- シリカ、アルミナ、およびシリコーン、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 100 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 600 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 500SAS」、
- ヘキサメタリン酸ナトリウム、例えば、Tayca社製品「Microtitanium Dioxide MT 150W」など、、
- オクチルトリメトキシシラン、例えば、Degussa社製品「T-805」、
- アルミナおよびステアリン酸、例えば、Kemira社製品「UVT-M160」、
- アルミナおよびグリセロール、例えば、Kemira社製品「UVT-M212」、
- アルミナおよびシリコーン、例えば、Kemira社製品「UVT-M262」。
シリコーンで処理した他の酸化チタンナノ顔料は、オクチルトリメチルシランで処理され基本粒子の平均径が25〜40nmであるTiO2、例えば、Degussa Silices社から商品名「T805」で販売されている商品、ポリジメチルシロキサンで処理され基本粒子の平均径が21nmであるTiO2、例えば、Cardre社から商品名「70250 Cardre UF TiO2SI3」で販売されている商品、ポリジメチルヒドロゲノシロキサンで処理され基本粒子の平均径が25nmであるアナターゼ/ルチルTiO2、例えば、Color Techniques社から商品名「Microtitanium Dioxide USP Grade Hydrophobic」で販売されている商品、である。
未被覆酸化チタンナノ顔料は、例えば、Tayca社から商品名「Microtitanium Dioxide MT 500 B」または「Microtitanium Dioxide MT600 B」で、Degussa社から「P25」の名で、Wackher社から「Oxyde de titane transparent PW」の名で、Myoshi Kasei社から「UFTR」の名で、Tomen社から「ITS」の名で、Tioxide社から「Tioveil AQ」の名で販売されている。
未被覆酸化亜鉛ナノ顔料には、例えば以下のものがある:
- Sunsmart社から「Z-Cote」の名で販売されているもの、
- Elementis社から「Nanox」の名で販売されているもの、
- NanophaseTechnologies社から「Nanogard WCD 2025」の名で販売されているもの。
- Sunsmart社から「Z-Cote」の名で販売されているもの、
- Elementis社から「Nanox」の名で販売されているもの、
- NanophaseTechnologies社から「Nanogard WCD 2025」の名で販売されているもの。
被覆された酸化亜鉛ナノ顔料は、例えば、以下のものがある:
- Toshibi社から「Zinc Oxide CS-5」の名で販売されているもの(ZnOをポリメチルヒドロゲノシロキサンによって被覆)、
- Nanophase Technologies社から「Nanogard Zinc Oxide FN」の名で販売されているもの(C12〜C15アルキルベンゾエートであるFinsolv TN中の40%分散液として)、
- Daito社から「Daitopersion ZN-30」および「Daitopersion ZN-50」の名で販売されているもの(シリカおよびポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆したナノ酸化亜鉛を30%または50%含む、シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散液)、
- Daikin社から「NFD Ultrafine ZNO」の名で販売されているもの(シクロペンタシロキサン中の分散液として、ZnOをリン酸ペルフルオロアルキルおよびペルフルオロアルキルエチル系コポリマーによって被覆)、
- Shin-Etsu社から「SPD-Z1」の名で販売されているもの(ZnOをシリコーングラフト化アクリルポリマーによって被覆し、シクロジメチルシロキサン中に分散したもの)、
- ISP社から「Escalol Z100」の名で販売されているもの(アルミナ処理済ZnOをメトキシケイ皮酸エチルヘキシル/PVP-ヘキサデセン/メチコンコポリマー混合物中に分散)、
- Fuji Pigment社から「Fuji ZNO-SMS-10」の名で販売されているもの(ZnOをシリカおよびポリメチルシルセスキオキサンによって被覆)、
- Elementis社から「Nanox Gel TN」の名で販売されているもの(ヒドロキシステアリン酸ポリ縮合体含有C12〜C15アルキルベンゾエート中にZnOを55%濃度で分散)。
- Toshibi社から「Zinc Oxide CS-5」の名で販売されているもの(ZnOをポリメチルヒドロゲノシロキサンによって被覆)、
- Nanophase Technologies社から「Nanogard Zinc Oxide FN」の名で販売されているもの(C12〜C15アルキルベンゾエートであるFinsolv TN中の40%分散液として)、
- Daito社から「Daitopersion ZN-30」および「Daitopersion ZN-50」の名で販売されているもの(シリカおよびポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆したナノ酸化亜鉛を30%または50%含む、シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散液)、
- Daikin社から「NFD Ultrafine ZNO」の名で販売されているもの(シクロペンタシロキサン中の分散液として、ZnOをリン酸ペルフルオロアルキルおよびペルフルオロアルキルエチル系コポリマーによって被覆)、
- Shin-Etsu社から「SPD-Z1」の名で販売されているもの(ZnOをシリコーングラフト化アクリルポリマーによって被覆し、シクロジメチルシロキサン中に分散したもの)、
- ISP社から「Escalol Z100」の名で販売されているもの(アルミナ処理済ZnOをメトキシケイ皮酸エチルヘキシル/PVP-ヘキサデセン/メチコンコポリマー混合物中に分散)、
- Fuji Pigment社から「Fuji ZNO-SMS-10」の名で販売されているもの(ZnOをシリカおよびポリメチルシルセスキオキサンによって被覆)、
- Elementis社から「Nanox Gel TN」の名で販売されているもの(ヒドロキシステアリン酸ポリ縮合体含有C12〜C15アルキルベンゾエート中にZnOを55%濃度で分散)。
未被覆酸化セリウムナノ顔料は、Rhone Poulenc社から「Colloidal Cerium Oxide」の名で販売されている。
未被覆酸化鉄ナノ顔料は、例えば、Arnaud社から「Nanogard WCD 2002(FE 45B)」、「Nanogard Iron FE 45 BL AQ」、「Nanogard FE 45R AQ」および「Nanogard WCD 2006(FE 45R)」の名で、またはMitsubishi社からの名で「TY-220」の名で販売されている。
被覆された酸化鉄ナノ顔料は、例えば、Arnaud社から「Nanogard WCD 2008(FE 45B FN)」、「Nanogard WCD 2009(FE 45B 556)」、「Nanogard FE 45 BL 345」および「Nanogard FE 45 BL」の名で、またはBASF社から「Transparent Iron Oxide」の名で販売されている。
金属酸化物の混合物、特に、Ikeda社から「Sunveil A」の名で販売されている、シリカ被覆された二酸化チタンおよび二酸化セリウムの等重量混合物を含む混合物、また、アルミナ、シリカ、およびシリコーン被覆された二酸化チタンおよび二酸化亜鉛の混合物、例えば、Kemira社から販売されている商品「M 261」、あるいは、アルミナ、シリカ、およびグリセロール被覆された二酸化チタンおよび二酸化亜鉛の混合物、例えば、Kemira社から販売されている商品「M 211」も挙げられる。
上記ナノ顔料は、本発明による組成物中に未修飾形でまたは顔料性ペーストの形で、すなわち、例えば、文献GB-A-2206339に記載されているように分散剤を含む混合物として、導入することができる。
一般に、追加の光防護剤は、本発明による組成物中に、組成物の全重量に対して0.01重量%〜20重量%の範囲の比率で存在し、好ましくは組成物の全重量に対して0.1重量%〜10重量%の範囲で存在する。
本発明による組成物は、皮膚を人工的に日焼けさせ、かつ/または褐変させるための作用薬(セルフタニング剤)、より具体的にはジヒドロキシアセトン(DHA)を含むことができる。これらの作用薬は、組成物の全重量に対して0.1重量%〜10重量%の範囲の量で存在することが好ましい。
本発明による組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性または非イオン性、親水性または親油性増粘剤、柔軟剤、湿潤剤、乳白剤、安定剤、皮膚軟化剤、シリコーン、消泡剤、香料、保存剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、双性イオン性、または両性界面活性剤、活性剤、充填剤、ポリマー、噴射剤、酸性化剤または塩基性化剤から選択された標準的化粧品用アジュバント、あるいは化粧品および/または皮膚科学で通常使用されている他の任意の成分を含んでいてもよい。
脂肪物質は、油もしくはワックスまたはそれらの混合物からなることができる。用語「油」は、室温で液体の化合物を意味する。用語「ワックス」は、室温で固体、または実質的に固体であり、その融点が、一般に35℃を超える化合物を意味する。
挙げることができる油には、鉱油(パラフィン)；植物油(スイートアーモンド油、マカダミア油、ブドウ種子油またはホホバ油)；合成油、例えば、パーヒドロスクアレン；脂肪族アルコール、脂肪酸または脂肪族エステル(例えば、Witco社から商品名「Finsolv TN」または「Witconol TN」で販売されているC12〜C15アルキルベンゾエート、オクチルパルミテート、イソプロピルラノレート、およびカプリン/カプリル酸トリグリセリドを含むトリグリセリド)、オキシエチレン化またはオキシプロピレン化脂肪族エステルおよびエーテル；シリコーン油(シクロメチコンおよびポリジメチルシロキサン、もしくはPDMS)またはフルオロ油、ならびにポリアルキレン類が含まれる。
挙げることができるワックス化合物には、パラフィン、カルナウバワックス、蜜蝋、および水添ひまし油が含まれる。
有機溶媒の中では、低級アルコールおよびポリオールを挙げることができる。こうしたポリオールはグリコールおよびグリコールエーテル、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジプロピレングリコール、またはジエチレングリコールから選択できる。
挙げることができる親水性増粘剤には、カルボキシビニルポリマー、例えばカーボポール製品(カーボマー)、およびPemulen商品(アクリレート/C10-C30-アルキルアクリレートコポリマー)；ポリアクリルアミド、例えば、SEPPIC社からSepigel 305(CTFA名:ポリアクリルアミド/C13-14イソパラフィン/ラウレス7)またはSimulgel 600(CTFA名:アクリルアミド/アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウムコポリマー/イソヘキサデカン/ポリソルバート80)の名で販売されている架橋コポリマー；任意選択で架橋し、かつ/または中和させた2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ポリマーおよびコポリマー、Hoechst社から商品名「Hostacerin AMPS」(CTFA名：アンモニウムポリアクリルジメチルタウルアミド)で販売されているポリ(2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸)など；ヒドロキシエチルセルロースなどのセルロースベースの誘導体；多糖類、特に、キサンタンガムなどのガム；ならびにそれらの混合物が含まれる。
挙げることができる親油性増粘剤には、ヘクトライトおよびその誘導体など、改質粘土、例えば、bentoneの名で販売されている製品が含まれる。
活性剤の中では、以下を挙げることができる:
- 抗汚染剤および/またはフリーラジカル捕捉剤、
- 脱色素剤および/または着色促進剤、
- 抗糖化剤、
- NO合成酵素阻害剤、
- 真皮または表皮巨大分子の合成刺激剤、および/またはその分解防止剤、
- 線維芽細胞増殖刺激剤、
- ケラチノサイト増殖刺激剤、
- 筋弛緩剤、
- 引き締め剤、
- 剥離剤、
- 保湿剤、
- 抗炎症剤、
- 細胞のエネルギー代謝に作用する作用薬、
- 昆虫忌避剤、
- サブスタンスPまたはCRGP拮抗薬。
- 抗汚染剤および/またはフリーラジカル捕捉剤、
- 脱色素剤および/または着色促進剤、
- 抗糖化剤、
- NO合成酵素阻害剤、
- 真皮または表皮巨大分子の合成刺激剤、および/またはその分解防止剤、
- 線維芽細胞増殖刺激剤、
- ケラチノサイト増殖刺激剤、
- 筋弛緩剤、
- 引き締め剤、
- 剥離剤、
- 保湿剤、
- 抗炎症剤、
- 細胞のエネルギー代謝に作用する作用薬、
- 昆虫忌避剤、
- サブスタンスPまたはCRGP拮抗薬。
もちろん、当業者は、本発明による化合物に本質的に備わる有利な特性が、想定した追加によって悪影響を受けない、または実質的に受けないように、上記任意選択の追加化合物および/またはその量の選択に注意を払うであろう。
本発明による組成物は、当業者には周知の技術によって、特に、水中油型または油中水型エマルションの調製を意図した技術によって調製することができる。組成物は、特に、クリームまたは乳液など、単純なまたは複雑なエマルション形(O/W、W/O、O/W/O、またはW/O/W型エマルション)、ゲルまたはクリームゲル形、あるいはローション形、粉または固体チューブ形であってよく、エアロゾルとして任意選択でパッケージしてよく、ムースまたはスプレー形であってよい。
本発明による組成物は、水中油型または油中水型エマルションの形であることが好ましい。
一般に、エマルションは、両性、アニオン性、カチオン性、および非イオン性乳化剤から選択された少なくとも1種の乳化剤を含み、この乳化剤は単独または混合物として使用される。乳化剤は、得ようとするエマルション(W/OまたはO/W)に従って適切に選択する。
W/Oエマルションの調製に使用することができる乳化界面活性剤としては、挙げることができる例は以下のものである：ソルビタン、グリセロール、または糖類のアルキルエステルもしくはエーテル；シリコーン界面活性剤、例えば、Dow Corning社から「DC 5225 C」の名で販売されているシクロメチコンとジメチコンコポリオールの混合液や、Dow Corning社から「Dow Corning 5200 Formulation Aid」の名で販売されているラウリルメチコンコポリオールなどのアルキルジメチコンコポリオールなどの、ジメチコンコポリオール類；Goldschmidt社からAbil EM 90Rの名で販売されている商品や、Goldschmidt社からAbil WE 09の名で販売されている、イソステアリン酸ポリグリセリル(4mol)およびラウリン酸ヘキシルのセチルジメチコンコポリオールの混合液などのセチルジメチコンコポリオール。1種または複数の共乳化剤をそこに加えてもよく、この共乳化剤はポリオールアルキルエステルを含む群から有利に選択することができる。特に挙げることができるポリオールアルキルエステルには、グリセロールおよび/またはソルビタンエステル、例えば、Goldschmidt社からIsolan GI 34の名で販売されている商品などのイソステアリン酸ポリグリセリル、ICI社からArlacel 987の名で販売されている商品などのソルビタンイソステアラート、ICI社からArlacel 986の名で販売されている商品などのソルビタングリセリンイソステアラート、ならびにそれらの混合物が含まれる。
O/Wエマルションに関して挙げることができる乳化剤の例には、以下が含まれる：非イオン性乳化剤、例えば、グリセロールのオキシアルキレン化(特にポリオキシエチレン化)脂肪酸エステル；ソルビタンのオキシアルキレン化脂肪酸エステル；オキシアルキレン化(オキシエチレン化および/またはオキシプロピレン化)脂肪酸エステル；オキシアルキレン化(オキシエチレン化および/またはオキシプロピレン化)脂肪族アルキルエーテル；糖エステル、例えば、スクロースステアレート；糖類の脂肪族アルキルエーテル、特に、例えば、Henkel社から、それぞれ、Plantaren2000およびPlantaren1200の名で販売されているデシルグルコシドやラウリルグルコシド、例えば、SEPPIC社からMontanov 68の名で、Goldschmidt社からTegocare CG90の名で、およびHenkel社からEmulgade KE3302の名で販売されている任意選択でセトステアリルアルコールとの混合物としてのセトステアリルグルコシド、ならびにまたアラキジルグルコシド、例えば、SEPPIC社からMontanov 202の名で販売されているアラキジルアルコール、ベヘニルアルコール、およびアラキジルグルコシドの混合物形態などのアルキルポリグルコシド(APG)。本発明の1つの特定の実施形態によれば、先に定義したアルキルポリグルコシドと、対応する脂肪族アルコールとの混合物は、例えば、文献WO-A-92/06778に記載されているように自己乳化組成物の形をとってよい。
エマルションである場合、このエマルションの水相は、公知の方法(Bangham、StandishおよびWatkins、J.Mol.Biol.13、238(1965)、FR2315991、およびFR2416008)に従って調製した非イオン性小胞分散液を含んでいてよい。
本発明による組成物は、特に、皮膚、唇、および/または毛髪を防護し、かつ/またはケアするために、ならびに/あるいは皮膚および/または唇を化粧するために、皮膚、唇、および頭皮を含む毛髪の多くの処置に、特に美容トリートメントにその適用例を見出している。
本発明の別の主題は、皮膚、唇、爪、毛髪、まつ毛、眉、および/または頭皮をトリートメントする化粧品を製造するために、特にケア製品およびメイクアップ製品を製造するために、先に定義した本発明による組成物を使用することからなる。
本発明による化粧品組成物は、例えば、乳液、多少濃厚なクリーム、クリーム-ゲル、ペーストなど、液体または半液体粘稠性の、顔および/または身体用ケア商品および/または日焼け防止用商品として使用することができる。それらは、エアロゾルとして任意選択でパッケージすることができ、ムースまたはスプレーの形にしてよい。
本発明に従って気化性液体ローションの形をした本発明による組成物は、加圧器具によって微粒子の形で皮膚または毛髪に適用する。本発明による器具は、当業者には周知であり、非エアロゾルポンプまたは「アトマイザ」を備え、エアロゾル容器は噴射剤を含み、エアロゾルポンプは噴射剤として圧縮空気を利用する。後者のポンプは、特許US4077411およびUS4850517(本説明内容の構成部分を形成)に記載されている。
一般に、本発明に従ってエアロゾルの形でパッケージした組成物は、従来の噴射剤、例えば、ヒドロフルオロ化合物、ジクロロジフルオロメタン、ジフルオロエタン、ジメチルエーテル、イソブタン、n-ブタン、プロパン、トリクロロフルオロメタンを含む。それは、組成物の全重量に対して15重量%〜50重量%の範囲の量で存在することが好ましい。
本発明を例示する具体的であるが、決して限定的でない実施例を次に示す。
以下の日焼け防止用製剤を調製した。量は、重量%で示す。
その成分のすべてを含む水相(相B)を水浴中で80℃に加熱する。その成分のすべてを含む脂肪相(相A)を水浴中で80℃に加熱する。ローターステータ型(Moritz社製機械)撹拌によってB中にAを乳化させる。相Cを混合し、混合物を静かに撹拌しながら室温に冷却する。製造の最後でpHを所望の値に調整するためにトリエタノールアミンを導入する。
Claims (36)
- UV放射に関して、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を光安定化させる方法であって、前記ジベンゾイルメタン誘導体を、有効量の少なくとも1種の安息香酸アリールアルキル誘導体、およびその構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む少なくとも1種の油と組み合わせることを特徴とする方法。
- 前記ジベンゾイルメタン誘導体が、
‐ 2-メチルジベンゾイルメタン、
‐ 4-メチルジベンゾイルメタン、
‐ 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
‐ 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
‐ 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
‐ 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
‐ 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
‐ 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
‐ 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
‐ 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
‐ 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
‐ 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
‐ 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
から選択される、請求項1に記載の方法。 - 前記ジベンゾイルメタン誘導体が、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタン、またはブチルメトキシジベンゾイルメタンである、請求項1または2に記載の方法。
- 前記安息香酸アリールアルキル誘導体が、下式(I)または(II)の誘導体から選択される、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
Xは、O、S、またはNを示し、
nは、1〜10、より好ましくは2〜6の整数であり、
R1およびR2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、直鎖または分枝C1〜C4アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、C6H6SO2基を示し、
R3、R4、およびR5は、同一でも異なっていてもよく、次式の基を示す:
- 前記安息香酸アリールアルキル誘導体が、次式の安息香酸2-フェニルエチルである、請求項4に記載の方法。
- その構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む前記油が、下式(III)の化合物から選択される、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
‐ 基R1は、1〜30個の炭素原子、好ましくは1〜22個の炭素原子(両端値を含む)を含む任意に官能化されていてもよい、脂肪族、脂環式または環式、飽和または不飽和の一価炭化水素ベースの基を表し、
‐ 基R2、R3、およびR4は、同一でも異なっていてもよく、水素、あるいは1〜30個の炭素原子、好ましくは1〜22個の炭素原子(両端値を含む)を含む任意に官能化されていてもよい、脂肪族、脂環式または環式、飽和または不飽和の一価炭化水素ベースの基を表し、
‐ rは、0または1であり、
‐ qは、0〜2の整数であり、
‐ pは、0または1であり、
‐ ただし、p=1である場合は、rは0であり、p=0の場合は、q=0かつr=1である。] - 式(III)の油が、
R1が、直鎖または分枝C1〜C22アルキル基、直鎖または分枝C2〜C22アルケニル基、アリール基を表し、
R2が、水素原子、または直鎖もしくは分枝C1〜C6アルキル基を表し、
R3が、水素原子、または直鎖もしくは分枝C1〜C6アルキル基を表し、
R4が、直鎖もしくは分枝C1〜C10アルキル基、または直鎖もしくは分枝C2〜C10アルケニル基、またはステロール残基を表す油から選択される、請求項6に記載の方法。 - 前記基R1(CO)-が、酢酸、トルイル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、リノール酸、リノレン酸、オレイン酸、イソステアリン酸、2-エチルヘキサン酸、ココナッツ油脂肪酸、およびパーム核油脂肪酸で構成された群から選択された酸のアシル基であり、これらの酸がヒドロキシル基も含んでいてもよい油から式(III)の油が選択される、請求項7に記載の方法。
- pが1であり、アミノ酸エステルの-N(R2)CH(R3)(CH2)q(CO)-部分が、以下のアミノ酸:グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン、β-アラニン、N-ブチル-β-アラニン、アミノ酪酸、アミノカプロン酸、サルコシン、またはN-メチル-β-アラニンに対応する部分から好ましくは選択された油から式(III)の油が選択される、請求項7または8に記載の方法。
- pが1であり、基OR4に対応するアミノ酸エステル部分は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、tert-ブタノール、イソブタノール、3-メチル-1-ブタノール、2-メチル-1-ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール、2-エチルヘキサノール、デカノール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、ベヘニルアルコール、ホホバアルコール、2-ヘキサデシルアルコール、2-オクチルドデカノール、およびイソステアリルアルコールで構成された群から選択されたアルコールから得ることができる油から式(III)の油が選択される、請求項6から9のいずれか一項に記載の方法。
- 式(II)の油が、
‐ 次式のエチルN-アセチル-N-ブチルアミノプロピオネート、
- 局所使用のための化粧品組成物または皮膚科用組成物であって、化粧品として許容される担体中に、
(a)少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体型UVスクリーニング剤、
(b)少なくとも1種の安息香酸アリールアルキル誘導体、および
(c)その構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む少なくとも1種の油
を含むことを特徴とする組成物。 - 前記ジベンゾイルメタン誘導体が、
‐ 2-メチルジベンゾイルメタン、
‐ 4-メチルジベンゾイルメタン、
‐ 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
‐ 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
‐ 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
‐ 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
‐ 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
‐ 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
‐ 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
‐ 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
‐ 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
‐ 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
‐ 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン
から選択される、請求項12に記載の組成物。 - 前記ジベンゾイルメタン誘導体が、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンまたはブチルメトキシジベンゾイルメタンである、請求項12または13に記載の組成物。
- 前記ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して0.01重量%〜10重量%、より好ましくは0.1重量%〜6重量%の範囲の含有量で存在する、請求項12から14のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記安息香酸アリールアルキル誘導体が、下式(I)または(II)の誘導体から選択される、請求項12から15のいずれか一項に記載の組成物。
Xは、O、S、またはNを示し、
nは、1〜10、より好ましくは2〜6の整数であり、
R1およびR2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、直鎖または分枝C1〜C4アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、C6H6SO2基を示し、
R3、R4、およびR5は、同一でも異なっていてもよく、次式の基を示す:
- 前記安息香酸アリールアルキル誘導体が、次式の安息香酸2-フェニルエチルである、請求項16に記載の組成物。
- 前記安息香酸アリールアルキル誘導体が、組成物の全重量に対して0.1重量%〜40重量%、より好ましくは1重量%〜30重量%の範囲の濃度で存在する、請求項12から17のいずれか一項に記載の組成物。
- その構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む前記油が、下式(III)の化合物から選択される、請求項12から18のいずれか一項に記載の組成物
‐ 基R1は、1〜30個の炭素原子、好ましくは1〜22個の炭素原子(両端値を含む)を含む任意に官能化されていてもよい、脂肪族、脂環式または環式、飽和または不飽和の一価炭化水素ベースの基を表し、
‐ 基R2、R3、およびR4は、同一でも異なっていてもよく、水素、あるいは1〜30個の炭素原子、好ましくは1〜22個の炭素原子(両端値を含む)を含む任意に官能化されていてもよい、脂肪族、脂環式または環式、飽和または不飽和の一価炭化水素ベースの基を表し、
‐ rは、0または1であり、
‐ qは、0〜2の整数であり、
‐ pは、0または1であり、
‐ ただし、p=1である場合は、rは0であり、p=0の場合は、q=0かつr=1である。] - R1が、直鎖または分枝C1〜C22アルキル基、直鎖または分枝C2〜C22アルケニル基、アリール基を表し、
R2が、水素原子、または直鎖もしくは分枝C1〜C6アルキル基を表し、
R3が、水素原子、または直鎖もしくは分枝C1〜C6アルキル基を表し、
R4が、直鎖もしくは分枝C1〜C10アルキル基、または直鎖もしくは分枝C2〜C10アルケニル基、またはステロール残基を表す油から式(III)の油が選択される、請求項19に記載の組成物。 - 前記基R1(CO)-が、酢酸、トルイル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、リノール酸、リノレン酸、オレイン酸、イソステアリン酸、2-エチルヘキサン酸、ココナッツ油脂肪酸、およびパーム核油脂肪酸で構成された群から選択された酸のアシル基であり、これらの酸がヒドロキシル基を含んでいてもよい油から式(III)の油が選択される、請求項20に記載の組成物。
- pが1であり、アミノ酸エステルの-N(R2)CH(R3)(CH2)q(CO)-部分が、以下のアミノ酸:グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン、β-アラニン、N-ブチル-β-アラニン、アミノ酪酸、アミノカプロン酸、サルコシン、またはN-メチル-β-アラニンに対応する部分から好ましくは選択された油から式(III)の油が選択される、請求項20または21に記載の方法。
- pが1であり、基OR4に対応するアミノ酸エステル部分が、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、tert-ブタノール、イソブタノール、3-メチル-1-ブタノール、2-メチル-1-ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール、2-エチルヘキサノール、デカノール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、ベヘニルアルコール、ホホバアルコール、2-ヘキサデシルアルコール、2-オクチルドデカノール、およびイソステアリルアルコールで構成された群から選択されたアルコールから得た油から式(III)の油が選択される、請求項19から22のいずれか一項に記載の方法。
- 前記式(III)の油が、
‐ 次式のエチルN-アセチル-N-ブチルアミノプロピオナート、
- その構造中に少なくとも1個のアミド官能基を含む前記油が、組成物の全重量に対して0.1重量%〜40重量%、好ましくは1重量%〜20重量%の範囲の濃度で存在する、請求項12から24のいずれか一項に記載の組成物。
- 水溶性もしくは脂溶性、あるいは通常使用されている化粧品用溶媒に不溶性であるその他のUV-A活性および/またはUV-B活性な有機または無機光防護剤をさらに含むことを特徴とする、請求項12から25のいずれか一項に記載の組成物。
- 追加の有機光防護剤が、アントラニレート、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、カンファー誘導体、ベンゾフェノン誘導体、β,β-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンザルマロネート誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、イミダゾリン、ビス-ベンゾアゾリル誘導体、p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体、メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、スクリーニングポリマーおよびスクリーニングシリコーン、α-アルキルスチレン誘導体、4,4-ジアリールブタジエン、ならびにそれらの混合物から選択される、請求項26に記載の組成物。
- 前記有機UVスクリーニング剤が、以下の化合物：
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、
ホモサレート、
サリチル酸エチルヘキシル、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸n-ヘキシル、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート二ナトリウム、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニル-ブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
およびそれらの混合物、から選択されることを特徴とする、請求項27に記載の組成物。 - 前記追加の無機光防護剤が、処理済または未処理の金属酸化物顔料またはナノ顔料であることを特徴とする、請求項26に記載の組成物。
- 前記顔料またはナノ顔料が、処理済または未処理の、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム、および酸化セリウム、ならびにそれらの混合物、から選択されることを特徴とする、請求項29に記載の組成物。
- 皮膚を人工的に日焼けさせ、かつ/または褐変させる少なくとも1種の作用薬をさらに含むことを特徴とする、請求項12から30のいずれか一項に記載の組成物。
- 脂肪物質、有機溶媒、イオン性または非イオン性、親水性または親油性増粘剤、柔軟剤、湿潤剤、乳白剤、安定剤、皮膚軟化剤、シリコーン、消泡剤、香料、保存剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、双性イオン性または両性界面活性剤、活性剤、充填剤、ポリマー、噴射剤、ならびに酸性化剤または塩基性化剤から選択された少なくとも1種のアジュバントをさらに含むことを特徴とする、請求項12から31のいずれか一項に記載の組成物。
- 皮膚、唇、爪、毛髪、まつ毛、眉、および/または頭皮の美容トリートメント製品を製造するための請求項12から32のいずれか一項に記載の組成物の使用。
- 皮膚、唇、爪、毛髪、および/または頭皮ケア製品を製造するための請求項12から32のいずれか一項に記載の組成物の使用。
- メイクアップ製品を製造するための請求項12から32のいずれか一項に記載の組成物の使用。
- 前記ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に関する安定性を改善する目的での、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を含む請求項1から35のいずれか一項に記載の化粧品組成物または皮膚科用組成物における、安息香酸アリールアルキル誘導体およびその構造中に少なくとも1個のアミド単位を含む油の前記請求項1から35のいずれか一項に記載の使用。
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