JP2006013274A - 半導体素子の製造方法、この方法に用いるスキージ装置及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】
封止材料の上面を平坦化して均一な厚みで封止することができる半導体封止用のスキージ装置と、この半導体封止用のスキージ装置を用いた半導体素子の製造方法、さらにこの半導体素子の製造方法により得た半導体装置を提供する。
【解決手段】
半導体素子13が搭載された配線基板11上に半導体素子13の搭載位置に合わせて開口部15を有するマスク12を重ね、封止材料10をスキージ2を用いてマスク12の開口部15から印刷することによって半導体素子13を封止材料で封止して半導体装置を得る半導体装置の製造方法に用いられるスキージ装置1であって、封止材料を供給する封止材料供給手段6と、この封止材料供給手段6と接続されて封止材料をマスク12上面に印刷するスキージ2とを備え、スキージ2の下端部2bは弾性体からなるとともに封止材料を吐出するための吐出口3がスキージ2の幅方向に沿って設ける。
【選択図】図3
封止材料の上面を平坦化して均一な厚みで封止することができる半導体封止用のスキージ装置と、この半導体封止用のスキージ装置を用いた半導体素子の製造方法、さらにこの半導体素子の製造方法により得た半導体装置を提供する。
【解決手段】
半導体素子13が搭載された配線基板11上に半導体素子13の搭載位置に合わせて開口部15を有するマスク12を重ね、封止材料10をスキージ2を用いてマスク12の開口部15から印刷することによって半導体素子13を封止材料で封止して半導体装置を得る半導体装置の製造方法に用いられるスキージ装置1であって、封止材料を供給する封止材料供給手段6と、この封止材料供給手段6と接続されて封止材料をマスク12上面に印刷するスキージ2とを備え、スキージ2の下端部2bは弾性体からなるとともに封止材料を吐出するための吐出口3がスキージ2の幅方向に沿って設ける。
【選択図】図3
Description
本発明は、配線基板に半導体素子を搭載し封止して得られる半導体装置とその製造方法及びその製造に用いるスキージ装置に関するものである。
従来の半導体装置、特にチップオンボード(COB)と呼ばれるものにおいては、IC等の半導体素子を配線基板上に搭載した後に封止材料を用いて半導体素子を封止することにより製造されている。
ここで、半導体素子の封止方法としては、封止材料が液状である場合、ディスペンサーを用いて封止材料を半導体素子上に滴下させる、いわゆるディスペンサー法が知られている。
一方、配線基板の表面にIC等の半導体素子を多数個搭載し、これらの半導体素子を封止材料で封止した後、配線基板を切断して各半導体素子を個片に分離させる方法が増えてきている。このように配線基板に搭載した多数個の半導体素子に同時に封止材料を封止する場合には、封止材料の封止面積が大幅に拡大し、また半導体装置の薄型化に応じて薄い厚みで封止を行なう方向にあることから、スクリーン印刷の手法を用いて半導体素子を液状の封止材料で封止する方法(以下、印刷法と称する)が増えてきている。(例えば、特許文献1)
特開2000−31172公報
しかしながら、上記ディスペンサー法においては、面積が大きい配線基板に対して封止材料を一定の厚みで塗布することが困難であり、また、各半導体素子を個々に封止していくため、生産効率が低いという問題があった。
また、上記印刷法においては、図5(a)に示すように、配線基板21に搭載された半導体素子22に対応して開口部23を設けたマスク27を用い、半導体素子22を開口部23内に位置させて配線基板21の上にこのマスク27を重ねるように配置し、マスク27の上に液状の封止材料24を供給すると共に、マスク27の上面に圧接させながら一方向に移動させるスキージ25でこの封止材料24を擦って、開口部23内に封止材料24を充填することによって、封止材料24で半導体素子22を封止するようにしたものである。
しかしこのように液状封止材料24をマスク27を通してスクリーン印刷して、半導体素子22を封止する場合、マスク27の上面に圧接させたスキージ25の移動に伴って封止材料24を開口部23内に押し込んで充填することによって封止が行なわれるが、移動するスキージ25が開口部23の上を通過する際に、開口部23に充填された封止材料24がスキージ25によって引張られ、スキージ25の移動方向での、スキージ25が開口部23に最初に到達する始端部内と、スキージ25が最後に到達する終端部内とを比較すると、開口部23の終端部内において封止材料24が過剰に供給されることになる。従って図5(b)のように、封止材料24の厚みが開口部23の始端部よりも終端部付近で厚くなるおそれがあり、半導体素子22を封止した封止材料24の上面の平坦性を得ることができない。そしてこのように、半導体素子22を封止した封止材料24の上面が平坦でないと、製造した半導体装置をボードに実装する場合などに吸引して取り扱う際の吸着性が悪くなって、組み立て性が低下するという問題や、半導体装置の表面にマーキングする場合にマーキングがし難くなるという問題など、製品化の場面での問題が種々発生するものであった。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、半導体素子を封止材料で封止するにあたって、封止材料の上面を平坦化して均一な厚みで封止することができる半導体封止用のスキージ装置を提供することを目的とするものであり、またこの半導体封止用のスキージ装置を用いて、封止材料の上面を平坦化して均一な厚みで半導体素子の封止をすることができる半導体素子の製造方法を提供することを目的とするものであり、さらにこの半導体素子の製造方法を用いて、上面が平坦で均一な厚みの封止材料で半導体素子を封止した半導体装置を提供することを目的とするものである。
前記課題を解決するため、本発明に係るスキージ装置は、半導体素子が搭載された配線基板上に該半導体素子の搭載位置に合わせて開口部を有するマスクを重ね、液状封止材料(以下、封止材料と称する)をスキージを用いてマスクの開口部から印刷することによって半導体素子を封止材料で封止して半導体装置を得る半導体装置の製造方法に用いられるスキージ装置であって、封止材料を供給する封止材料供給手段と、この封止材料供給手段と接続されて封止材料をマスク上面に印刷するスキージとを備え、前記スキージの下端部は弾性体からなるとともに封止材料を吐出するための吐出口がスキージの幅方向に沿って設けられ、且つスキージの内部にはスキージ上面から前記吐出口まで連通した空洞部が設けられてなるようにする。
また、前記空洞部は、スキージの厚み方向における距離がスキージの底部に近づくほど小さくなるよう形成されてなるとともに、前記吐出口の開口幅が0.5〜2mmの範囲で調整できるものであることが好ましい。
また、前記課題を解決するため、本発明に係る半導体装置の製造方法は、請求項1又は請求項2に記載のスキージ装置を用いた半導体装置の製造方法であって、前記スキージの下端部を前記マスク上面に圧接させた状態で水平方向に移動させながら封止材料を吐出して封止を行うようにする。
また、前記封止材料の吐出圧力を変化させることにより、封止材料の吐出量を調整するものであることが好ましい。
また、前記封止材料の吐出を2000Pa以下の減圧雰囲気下で行うことが好ましい。
また、前記課題を解決するため、本発明に係る半導体装置は、請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のスキージ装置又は半導体装置の製造方法により得られた半導体装置であることを特徴とする。
上記本発明の請求項1に係るスキージ装置においては、封止材料の上面を平坦化して均一な厚みで封止することができ、製品化時における組み立て性を向上させたり、半導体装置表面へのマーキングをしやすくすることができる。
また、スキージの下端部をマスク上面と圧接させることにより、吐出口周囲とマスク上面との密閉性を高めることができ、封止材料を加圧した状態においてもマスクの開口部以外の部分に封止材料が吐出されることがないので、必要部のみに封止材料を供給することができ、封止材料を余分に吐出してマスク上面を汚したりすることがなく、封止材料の使用効率を向上させることができる。
上記本発明の請求項2に係るスキージ装置においては、封止材料をスムーズに吐出口まで誘導することができるとともに、マスクの開口部の大きさに応じて吐出口の開口幅を調整すればよく、開口幅の異なるスキージを複数準備しておく必要がない。
上記本発明の請求項3に係る半導体装置の製造方法においては、請求項1又は請求項2に記載のスキージ装置を用い、前記スキージの下端部を前記マスク上面に圧接させた状態で水平方向に移動させながら封止材料を吐出して封止を行うので、封止材料の上面を平坦化して均一な厚みで半導体素子の封止をすることができる。
また、吐出口周囲とマスク上面との密閉性を高めることができ、封止材料を加圧した状態においてもマスクの開口部以外の部分に封止材料が吐出されることがないので、必要部のみに封止材料を供給することができ、封止材料を余分に吐出してマスク上面を汚したりすることがなく、封止材料の使用効率を向上させることができる。
また、スキージをマスクの一端から他端へ水平に移動させる時に生じる封止材料のローリング現象を発生させずに封止材料を開口部内に充填することができるので、封止材料中に空気が混入するのを防止することができる。
上記本発明の請求項4に係る半導体装置の製造方法においては、マスクの開口部の大きさに合わせて最適な吐出量を設定することができる。
上記本発明の請求項5に係る半導体装置の製造方法においては、封止材料中に空気が巻き込まれるのを防止することができ、封止材料中にボイド等が発生するのを防止することができる。
上記本発明の請求項6に係る半導体装置においては、上面が平坦で均一な厚みの封止材料で半導体素子を封止した半導体装置を得ることができる。
本発明の実施形態におけるスキージ装置1は、図1、2に示すように、液状の封止材料10を供給する封止材料供給手段6と、この封止材料供給手段6と接続されて封止材料10を配線基板上にマスクを介して印刷するスキージ2とを備えている。
封止材料供給手段6は、封止材料10を貯めるタンク6aと、タンク6aに接続されてタンク6a内の封止材料10の圧力を調整する圧力調整部4を備えている。ここで、圧力調整部4としては、例えばポンプ等を用いることができる。
スキージ2は、幅方向に長尺となる形状を有しており、略直方体形状の本体部2aと、本体部2aの底面側に着脱自在に取り付けられた下端部2bにより構成されている。
下端部2bには、封止材料10を吐出するための吐出口3がスキージ2の幅方向に沿って設けられている。ここで、吐出口3は、リブ等を用いて幅方向において複数に分割されていてもよく、これにより吐出口3の変形を抑制することができる。
また、下端部2bは、ゴム等の弾性体からなり、底部に近づくにつれて厚みが薄くなるよう形成されたものである。
スキージ2内部にはスキージ2上面から吐出口3まで連通した空洞部5が設けられており、空洞部5の上部側はタンク6aと接続されている。
ここで、空洞部5は、スキージ2の厚み方向における距離がスキージ2の底部に近づくほど小さくなるよう形成されている。
下端部2bの上部には、スキージ2の幅方向に沿って設けられた支持部材9を介して厚み方向にボルト7が一方から貫通させてあり、他方からナット8をボルト7に螺合させてある。これにより、吐出口3の開口幅dを、0.5〜2mmの範囲で調整することができるようになっている。
次に、本実施形態におけるスキージ装置1を用いて半導体素子を封止して半導体装置を製造する方法について説明する。
図3に示すように、複数の半導体素子13が搭載された配線基板11上に、半導体素子13の搭載位置に合わせて予め開口部15が設けられたマスク12を、半導体素子13が開口部15内に位置するように重ねて配置する。
次いで、スキージ2の下端部2bがマスク12上面に圧接した状態となるようにスキージ2を配置する。
そして、スキージ2を図中の矢印で示す方向に移動させながら、吐出口3から封止材料10を吐出させて半導体素子13を封止していく。
その後、マスク12を取り外して個片化することにより半導体装置を得ることができる。
ここで、圧力調整部4により、タンク6a内の封止材料10の圧力を調整することにより吐出圧力を変化させ、封止材料10の吐出量を調整するようになっている。
また、バキュームチャンバー(図示せず)内において、減圧雰囲気下で封止材料10の吐出を行うことが好ましい。この場合、雰囲気の圧力を2000Pa以下とすることが好ましい。
次に、開口部15内に封止材料10が充填される様子について、図4を用いて説明する。
まず、図4(a)に示すように、下端部2bが開口部15の手前の位置にあるときには、吐出口3の周囲にわたって下端部2bとマスク12上面が圧接されているので、封止材料10は空洞部5内に密閉された状態となっている。
次いで、図4(b)に示すように、下端部2bの吐出口3が開口部15上にさしかかると、封止材料10が開口部15内に吐出され始める。
そして、図4(c)に示すように、半導体素子13の周囲を封止材料10で覆っていく。
このとき、スキージ2の下端部2bが、スキージ2が進行する向きと反対の向きにたわんだ状態でマスク12上を移動する。これにより、封止材料10は下端部2bの先端部分のたわみ方向に沿って吐出される。即ち、垂直方向よりもややスキージ2が進行する向きと反対向きに吐出される。
このため、スキージ2が開口部15に最初に到達する始端部側に封止材料10を横方向から押しながら充填していく。
さらに、下端部2bの先端部分のうちスキージ2の進行方向に対して後方に位置する方の先端部分により、封止材料10の高さがマスク12上面の高さと略等しくなるように、マスク12上を擦って移動する。
そして、図4(d)に示すように、下端部2bの吐出口3が開口部15を越えると、再び封止材料10は空洞部5内に密閉された状態となる。
このように、吐出口3から封止材料10を必要量だけ吐出しながらスキージ2が移動するので、封止材料10がスキージ2により引張られることがなく、且つ、開口部15の終端部内で封止材料10が過剰に供給されることがない。そのため、開口部15の中央部付近で封止材料10の厚みが薄くなることを防止できるとともに、開口部15の始端部よりも終端部付近で封止材料10の厚みが厚くなることを防止できる。
以上のように、本実施形態に係るスキージ装置1は、封止材料10の上面を平坦化して均一な厚みで封止することができ、製品化時における組み立て性を向上させたり、半導体装置表面へのマーキングをしやすくすることができる。
また、スキージ2の下端部2bをマスク12上面と圧接させることにより、吐出口3周囲とマスク12上面との密閉性を高めることができ、封止材料10を加圧した状態においてもマスク12の開口部15以外の部分に封止材料10が吐出されることがないので、必要部のみに封止材料10を供給することができ、封止材料10を余分に吐出してマスク12上面を汚したりすることがなく、封止材料10の使用効率を向上させることができる。
また、封止材料10をスムーズに吐出口3まで誘導することができるとともに、マスク12の開口部15の大きさに応じて吐出口3の開口幅dを調整すればよく、開口幅dの異なるスキージ2を複数準備しておく必要がない。
また、スキージ2をマスク12の一端から他端へ水平に移動させる時に生じるローリング現象を発生させずに封止材料10を開口部15内に充填することができるので、封止材料10中に空気が混入するのを防止することができる。
また、吐出口3の開口幅dを、0.5〜2mmの範囲で調整することができるので、マスク12の開口部15の大きさに合わせて最適な吐出量を設定することができる。
また、減圧雰囲気下で封止材料10の吐出を行うことにより、封止材料10中に空気が巻き込まれるのを防止することができ、封止材料10中にボイド等が発生するのを防止することができる。
また、本実施形態において得られる半導体装置は、上面が平坦で厚みが均一なものであり、ボードに実装する場合などに吸引して取り扱う際の吸着性がよく、組み立て性に優れ、半導体装置表面にマーキングする場合に印刷がしやすいものである。
1 スキージ装置
2 スキージ
3 吐出口
4 圧力調整部
5 空洞部
6 封止材料供給手段
10 封止材料
2 スキージ
3 吐出口
4 圧力調整部
5 空洞部
6 封止材料供給手段
10 封止材料
Claims (6)
- 半導体素子が搭載された配線基板上に該半導体素子の搭載位置に合わせて開口部を有するマスクを重ね、封止材料をスキージを用いてマスクの開口部から印刷することによって半導体素子を封止材料で封止して半導体装置を得る半導体装置の製造方法に用いられるスキージ装置であって、
封止材料を供給する封止材料供給手段と、この封止材料供給手段と接続されて封止材料をマスク上面に印刷するスキージとを備え、
前記スキージの下端部は弾性体からなるとともに封止材料を吐出するための吐出口がスキージの幅方向に沿って設けられ、且つスキージの内部にはスキージ上面から前記吐出口まで連通した空洞部が設けられてなることを特徴とするスキージ装置。 - 前記空洞部は、スキージの厚み方向における距離がスキージの底部に近づくほど小さくなるよう形成されてなるとともに、前記吐出口の開口幅が0.5〜2mmの範囲で調整できるものであることを特徴とする請求項1に記載のスキージ装置。
- 請求項1又は請求項2に記載のスキージ装置を用いた半導体装置の製造方法であって、
前記スキージの下端部を前記マスク上面に圧接させた状態で水平方向に移動させながら封止材料を吐出して封止を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記封止材料の吐出圧力を変化させることにより、封止材料の吐出量を調整するものであることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記封止材料の吐出を2000Pa以下の減圧雰囲気下で行うことを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のスキージ装置又は半導体装置の製造方法により得られた半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004190685A JP2006013274A (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 半導体素子の製造方法、この方法に用いるスキージ装置及び半導体装置 |
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JP2004190685A JP2006013274A (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 半導体素子の製造方法、この方法に用いるスキージ装置及び半導体装置 |
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JP2006013274A true JP2006013274A (ja) | 2006-01-12 |
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ID=35780130
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JP2004190685A Pending JP2006013274A (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 半導体素子の製造方法、この方法に用いるスキージ装置及び半導体装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2174759B1 (en) * | 2007-07-18 | 2021-05-12 | NGK Insulators, Ltd. | Process for producing honeycomb structure and apparatus therefor |
US11660788B2 (en) | 2019-08-23 | 2023-05-30 | Nagase Chemtex Corporation | Method for producing sealed structure |
-
2004
- 2004-06-29 JP JP2004190685A patent/JP2006013274A/ja active Pending
Cited By (2)
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EP2174759B1 (en) * | 2007-07-18 | 2021-05-12 | NGK Insulators, Ltd. | Process for producing honeycomb structure and apparatus therefor |
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