JP2006007075A - Chemical liquid supply and control apparatus - Google Patents

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清 上林
Toshimichi Yamanaka
利道 山中
Kazuyuki Hashimoto
和之 橋本
Masato Shimura
正人 志村
Shizuo Nachi
志津雄 那智
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chemical liquid supply and control apparatus that is capable of accurately supplying a predetermined amount of the chemical liquid. <P>SOLUTION: The chemical liquid supply and control apparatus is provided with a memory means 204 to memorize the set value of the amount of the chemical liquid supplied established in advance, a flow rate measuring means 202 to measure the flow rate of the chemical liquid by hours, a means 214 for obtaining the amount supplied to obtain the actual value supplied to a material 104 to be coated by integrating the flow rate of the chemical liquid, an evaluation means 216 to evaluate whether or not the amount of the chemical liquid supplied to the material to be coated 104 through a supply line L1 has reached the set value of the amount of the chemical liquid supplied based on the actual value and the set value of the amount of the chemical liquid supplied and a supply stopping means 218 to stop the supply of the chemical liquid through the supply line, when evaluated as that the amount of the chemical liquid supplied to the material to be coated through the supply line has reached the set value of the amount of the chemical liquid supplied. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、スピンナにおける被塗布物に対して供給ラインを介して供給される薬液の供給量を管理する薬液供給管理装置に関する。   The present invention relates to a chemical liquid supply management apparatus that manages the supply amount of a chemical liquid supplied via a supply line to an object to be coated in a spinner.

従来より、半導体、磁気ディスク等の製造プロセスにおいて、純水、酸、アルカリ、有機溶剤、フォトレジスト等の薬液を用いた処理工程が多用されている。   Conventionally, processing processes using chemical solutions such as pure water, acids, alkalis, organic solvents, and photoresists have been frequently used in manufacturing processes for semiconductors, magnetic disks, and the like.

例えば、半導体の製造プロセスでは、これらの薬液による前処理、レジスト膜形成、エッチング等を含むフォトリソグラフィー法によって、例えば、0.3〜0.1μm、さらにはそれ以下の精度での加工が行なわれる。   For example, in a semiconductor manufacturing process, processing with an accuracy of, for example, 0.3 to 0.1 μm or less is performed by a photolithography method including pretreatment with these chemical solutions, resist film formation, etching, and the like. .

このような製造プロセスでは、スピンナを用いた回転塗布法によって、薬液を基板等の被塗布物に塗布することが多い。   In such a manufacturing process, a chemical solution is often applied to an object to be coated such as a substrate by a spin coating method using a spinner.

ここで、スピンナにおいて被塗布物に対して供給する薬液の量が所定の量よりも少なすぎると当該薬液による処理が十分に行われなくなる一方、供給する薬液の量が多すぎると高価な薬液の無駄が多くなってコスト高となる。したがって、薬液を正確な量被塗布物に対して供給することが求められている。   Here, if the amount of the chemical solution supplied to the coating object in the spinner is too small than the predetermined amount, the treatment with the chemical solution is not sufficiently performed. On the other hand, if the amount of the chemical solution to be supplied is too large, Waste increases and costs increase. Therefore, it is required to supply an accurate amount of the chemical solution to the object to be coated.

そして、従来は、供給ラインのバルブを開放する時間をあらかじめ定めておくことにより、所定量の薬液を被塗布物に対して繰返し供給するようにしていた。
特開昭62−221463号公報
Conventionally, a predetermined amount of a chemical solution is repeatedly supplied to an object to be coated by predetermining a time for opening a valve of the supply line.
JP-A-62-221463

しかしながら、本発明者らが検討したところ以下のような不具合が生ずることが判明した。   However, as a result of investigations by the present inventors, it has been found that the following problems occur.

薬液をスピンナの被塗布物に対して供給するにあたっては、薬液の量だけではなく、薬液中の異物等の低減も求められており、通常供給ラインには異物を除去するためのフィルタが設けられている。   When supplying a chemical solution to an object to be applied to a spinner, not only the amount of the chemical solution but also the reduction of foreign matter in the chemical solution is required, and a normal supply line is provided with a filter for removing the foreign matter. ing.

そして、時間の経過、すなわち、供給ラインを通過する薬液の総量が増えるにしたがってフィルタの圧力損失が大きくなり、定量ポンプを用いていたとしても流量が変動し、バルブ開放時間を同じにするだけでは薬液の供給量が変動してしまう。   And as time elapses, that is, as the total amount of chemicals passing through the supply line increases, the pressure loss of the filter increases, and even if a metering pump is used, the flow rate fluctuates and the valve opening time is the same. The supply amount of chemicals will fluctuate.

そして、この供給量の変わり方は供給ラインL1の使用状況等に応じて異なるために、あらかじめこの変わり方を予測してバルブの開放時間を設定しておいても、精度良く供給量をコントロールすることは困難である。   Since the way of changing the supply amount varies depending on the usage state of the supply line L1, etc., even if the change time is predicted and the valve opening time is set in advance, the supply amount is accurately controlled. It is difficult.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、所定の量の薬液を精度良く供給可能な薬液供給管理装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a chemical liquid supply management apparatus that can accurately supply a predetermined amount of chemical liquid.

本発明に係る薬液供給管理装置は、スピンナにおける被塗布物に対して供給ラインを介して供給される薬液の供給量を管理する薬液供給管理装置であって、予め設定された薬液供給量の設定値を記憶する記憶手段と、供給ラインを流れる薬液の流量を時間毎に測定する流量測定手段と、流量測定手段によって得られた薬液の流量を積算することにより、被塗布物に対して供給された薬液供給量の実測値を取得する供給量取得手段と、供給量取得手段によって取得された薬液供給量の実測値と、記憶手段に記憶された薬液供給量の設定値とに基づいて、供給ラインを介して被塗布物に対して供給された薬液供給量が薬液供給量の設定値に達したか否かを判断する供給量判断手段と、供給量判断手段が、供給ラインを介して被塗布物に対して供給された薬液供給量が薬液供給量の設定値に達したと判断した場合に、供給ラインを介した薬液の供給を停止させる供給停止手段と、を備えている。   A chemical supply management device according to the present invention is a chemical supply management device that manages a supply amount of a chemical solution supplied to an object to be coated in a spinner via a supply line, and is configured to set a preset chemical supply amount. The storage means for storing the value, the flow rate measuring means for measuring the flow rate of the chemical liquid flowing through the supply line every time, and the flow rate of the chemical liquid obtained by the flow rate measurement means are integrated to be supplied to the object to be coated. Supply based on the supply amount acquisition means for acquiring the actual measurement value of the chemical supply amount, the actual measurement value of the chemical supply amount acquired by the supply amount acquisition means, and the set value of the chemical supply amount stored in the storage means Supply amount judgment means for judging whether or not the chemical supply amount supplied to the object to be coated via the line has reached the set value of the chemical supply amount, and the supply amount judgment means are connected via the supply line. Supply for coating Chemical liquid supply amount of the when it is determined to have reached the set value of the chemical liquid supply amount, and a, and supply stop means for stopping the supply of the chemical liquid through the supply line.

本発明に係る薬液供給管理装置によれば、スピンナにおける被塗布物に供給される薬液の量が所定の供給量の設定値に精度よく管理され、薬液の供給量が少なすぎることよる不完全な処理や、薬液の供給量が多すぎることによる薬液の無駄が防止され、低コストかつ高品質のスピンナによる処理が実現される。特に、供給ラインにフィルタ等が設けられていて供給ラインの圧力損失が時間と共に変動する場合等、供給ラインを流れる薬液の流量、すなわち、単位時間当たりの容積や重量が変動する可能性がある場合でも、本発明によれば流量が逐次積算されるので、供給量が十分に高い精度で管理される。   According to the chemical solution supply management device of the present invention, the amount of the chemical solution supplied to the object to be coated in the spinner is accurately controlled to the set value of the predetermined supply amount, and the supply amount of the chemical solution is incomplete. The waste of the chemical solution due to the treatment and the excessive supply amount of the chemical solution is prevented, and the treatment by the low cost and high quality spinner is realized. Especially when there is a possibility that the flow rate of chemicals flowing through the supply line, that is, the volume or weight per unit time may fluctuate, such as when the supply line is equipped with a filter and the pressure loss of the supply line fluctuates with time. However, according to the present invention, since the flow rate is sequentially accumulated, the supply amount is managed with sufficiently high accuracy.

ここで、記憶手段は薬液供給量の設定値を複数記憶し、薬液供給管理装置は、さらに、外部からの信号に応じて記憶手段に記憶された複数の薬液供給量の設定値の内のいずれかを選択する選択手段を備え、供給量判断手段は、選択手段によって選択された薬液供給量の設定値と、供給量取得手段によって取得された薬液供給量の実測値と、に基づいて上述の判断を行うことが好ましい。   Here, the storage unit stores a plurality of set values of the chemical solution supply amount, and the chemical solution supply management device further selects any of the plurality of set values of the chemical solution supply amount stored in the storage unit in response to an external signal. The supply amount determination means includes the above-described value based on the set value of the chemical supply amount selected by the selection means and the actual measurement value of the chemical supply amount acquired by the supply amount acquisition means. It is preferable to make a judgment.

これによれば、あらかじめ記憶手段に複数の薬液供給量を記憶しておけば、外部からの指示に応じて薬液の供給量を所望の値に切り替えることができる。したがって、処理の内容に応じて薬液の供給量を変える必要がある場合に特に好適である。   According to this, if a plurality of chemical liquid supply amounts are stored in the storage means in advance, the chemical liquid supply amount can be switched to a desired value in accordance with an instruction from the outside. Therefore, it is particularly suitable when it is necessary to change the supply amount of the chemical according to the content of the treatment.

また、供給ラインを介した被塗布物に対する薬液の供給が開始された時点から、供給ラインを介した被塗布物に対する薬液の供給が停止された時点までの吐出時間を取得するタイマ手段をさらに有することが好ましい。   In addition, it further has a timer means for acquiring a discharge time from the time when supply of the chemical liquid to the application object via the supply line is started to the time when supply of the chemical liquid to the application object via the supply line is stopped. It is preferable.

薬液の変質や薬液の補充ミス等により供給ラインを介して供給される薬液の特性が大きく変動した場合等には、設定された供給量となるまでに要する吐出時間が変動前と比べて大きく変わることとなる。したがって、このような吐出時間を取得することにより、このような薬液の変質や薬液補充ミス等を容易に発見できる。   If the characteristics of the chemical liquid supplied via the supply line change significantly due to chemical deterioration or chemical replenishment mistakes, etc., the discharge time required to reach the set supply amount will vary greatly compared to before the change. It will be. Therefore, by acquiring such a discharge time, it is possible to easily find such a chemical change, a chemical replenishment error, or the like.

例えば、吐出時間を記録部に記録させる記録制御手段をさらに備えると、製造の履歴管理が容易になり、不良発生の原因追求等が容易となる。   For example, if a recording control means for recording the discharge time in the recording unit is further provided, manufacturing history management becomes easy, and the cause of the occurrence of defects becomes easy.

また、記憶手段が、薬液供給量の設定値に対応付けて、さらに吐出時間の許容範囲を記憶し、薬液供給管理装置は、さらに、タイマ手段により取得された吐出時間と、記憶手段に記憶された吐出時間の許容範囲とに基づいて、タイマ手段により取得された吐出時間が吐出時間の許容範囲内か否かを判断する時間判断手段と、時間判断手段が、タイマ手段により取得された吐出時間が吐出時間の許容範囲外であると判断した場合、警告信号を発生させる警告制御手段と、をさらに有することが好ましい。   Further, the storage means stores the allowable range of the discharge time in association with the set value of the chemical liquid supply amount, and the chemical liquid supply management apparatus further stores the discharge time acquired by the timer means and the storage means. A time determining means for determining whether the discharge time acquired by the timer means is within the allowable range of the discharge time based on the allowable range of the discharge time, and the discharge time acquired by the timer means by the time determining means It is preferable to further include a warning control means for generating a warning signal when it is determined that is outside the allowable range of the discharge time.

これにより、薬液の変質や異なる種類の薬液が供給された場合等の薬液の性質の急変が自動的に検出されて警告されるので、製造不良が特に低減される。   As a result, a chemical change of the chemical solution or a sudden change in the properties of the chemical solution, such as when a different type of chemical solution is supplied, is automatically detected and warned, so that manufacturing defects are particularly reduced.

本発明によれば、所定の量の薬液を精度良く供給可能な薬液供給管理装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the chemical | medical solution supply management apparatus which can supply a predetermined quantity of chemical | medical solutions accurately is provided.

以下、添付図面を参照しながら、本発明に係る好適な実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本実施形態に係る半導体製造システムを示す概略構成図である。本実施形態の半導体製造システムは、主として、回転するテーブル106上の基板(被塗布物)104に対して薬液102を供給するスピンナ100、スピンナ100の制御を行うスピンナコントローラ150、及び、基板104に供給する薬液の量を所定の量に管理する薬液供給管理装置200を備えている。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a semiconductor manufacturing system according to the present embodiment. The semiconductor manufacturing system of the present embodiment mainly includes a spinner 100 that supplies a chemical solution 102 to a substrate (object to be coated) 104 on a rotating table 106, a spinner controller 150 that controls the spinner 100, and a substrate 104. A chemical supply management apparatus 200 that manages the amount of chemical to be supplied to a predetermined amount is provided.

スピンナ100は、フォトレジスト等の薬液102を基板104上に回転塗布(スピンコート)する装置である。このスピンナ100は、基板104を上面に載せて固定すると共に基板104を垂直軸周りに回転させるテーブル106と、薬液を貯蔵する薬液貯蔵タンク108と、薬液貯蔵タンク108から基板104まで薬液102を導く供給ラインL1と、供給ラインL1に接続され薬液102を薬液貯蔵タンク108から基板104に対して供給するポンプ110と、供給ラインL1に接続されたバルブ112と、供給ラインL1に設けられたフィルタ117と、を主として備えている。   The spinner 100 is a device that spin-coats (spin coats) a chemical solution 102 such as a photoresist onto a substrate 104. The spinner 100 fixes the substrate 104 on the upper surface and fixes the substrate 104 around the vertical axis, the chemical solution storage tank 108 for storing the chemical solution, and guides the chemical solution 102 from the chemical solution storage tank 108 to the substrate 104. A supply line L1, a pump 110 connected to the supply line L1 and supplying the chemical solution 102 from the chemical solution storage tank 108 to the substrate 104, a valve 112 connected to the supply line L1, and a filter 117 provided on the supply line L1. And mainly.

ポンプ110は薬液を供給できれば特に限定されないが、パルスポンプ、ヘリカルポンプ、ベローズポンプ及びダイヤフラムポンプ等の定量ポンプが好ましく、特に、高い定量性からパルスポンプが好ましい。   The pump 110 is not particularly limited as long as it can supply a chemical solution. However, a metering pump such as a pulse pump, a helical pump, a bellows pump, and a diaphragm pump is preferable, and a pulse pump is particularly preferable because of high quantitativeness.

また、バルブ112も特に限定されないが、高い応答性で開動作と閉動作との切り替えが可能なものが好ましく、後述するスピンナコントローラ150による制御を好適に可能とすべく、電磁石駆動の開閉弁や空気圧駆動の開閉弁が好ましい。   Further, the valve 112 is not particularly limited, but is preferably one that can be switched between an opening operation and a closing operation with high responsiveness. In order to enable control by a spinner controller 150 described later, Pneumatically driven on / off valves are preferred.

スピンナ100において用いられる薬液102は特に限定されないが、例えば、レジスト膜をスピンコートする場合には、フォトレジストが挙げられる。具体的には、例えば、ポジ型フォトレジストとしては、ナフトキノンジアジド系感光剤とアルカリ可溶性樹脂(ノボラック樹脂)とを主成分とするものが挙げられる。また、薬液102としては、レジスト液以外に、現像液、剥離液、研磨液等が挙げられる。   The chemical solution 102 used in the spinner 100 is not particularly limited. For example, in the case where a resist film is spin-coated, a photoresist is used. Specifically, examples of the positive photoresist include those having a naphthoquinone diazide-based photosensitizer and an alkali-soluble resin (novolak resin) as main components. Examples of the chemical solution 102 include a developing solution, a stripping solution, and a polishing solution in addition to the resist solution.

スピンナコントローラ150は、スピンナ100のテーブル106の回転を制御したり、ポンプ110の駆動・停止やバルブ112の開閉を制御したりする制御装置である。具体的には、スピンナコントローラ150は、薬液102の供給を開始させる一方、薬液102の供給を停止させる。   The spinner controller 150 is a control device that controls the rotation of the table 106 of the spinner 100, and controls the driving / stopping of the pump 110 and the opening / closing of the valve 112. Specifically, the spinner controller 150 starts the supply of the chemical solution 102 and stops the supply of the chemical solution 102.

スピンナコントローラ150による薬液の供給の開始動作は、具体的には、ポンプ110を起動させること、バルブ112を開放させること、さらに、薬液供給管理装置200に対して、供給開始の旨の信号、及び供給すべき設定供給量のモード番号(詳しくは後述)を示す信号を送信することを含む。   Specifically, the operation of starting the supply of the chemical solution by the spinner controller 150 includes starting the pump 110, opening the valve 112, and further supplying a signal indicating the supply start to the chemical solution supply management device 200, and This includes transmitting a signal indicating the mode number (details will be described later) of the set supply amount to be supplied.

また、スピンナコントローラ150による薬液の供給の停止の動作は、具体的には、薬液供給管理装置200から受信した供給停止の信号に基づいて、ポンプ110の停止及びバルブ112の閉鎖を行うことを含む。   The operation of stopping the supply of the chemical liquid by the spinner controller 150 specifically includes stopping the pump 110 and closing the valve 112 based on the supply stop signal received from the chemical supply management apparatus 200. .

続いて、本実施形態に係る薬液供給管理装置200について説明する。この薬液供給管理装置200は、流量計(流量測定手段)202と、記憶部(記憶手段)204と、インターフェース部206と、制御部210と、記録部250と、警報部252とを有している。   Then, the chemical | medical solution supply management apparatus 200 which concerns on this embodiment is demonstrated. The chemical solution supply management apparatus 200 includes a flow meter (flow rate measuring unit) 202, a storage unit (storage unit) 204, an interface unit 206, a control unit 210, a recording unit 250, and an alarm unit 252. Yes.

流量計202は、スピンナ100の供給ラインL1に接続されており、供給ラインL1を流れる薬液の流量、すなわち、単位時間に移送される薬液の重量又は体積を測定し、この流量に関する情報を制御部210に所定時間毎に送信する。このような流量計202は、特に限定されないが、測定レンジが広くかつ高い正確性を有する観点から、電磁流量計、面積式流量計、超音波流量計等が好ましい。   The flow meter 202 is connected to the supply line L1 of the spinner 100, measures the flow rate of the chemical solution flowing through the supply line L1, that is, the weight or volume of the chemical solution transferred per unit time, and controls the flow rate information. It transmits to 210 for every predetermined time. Such a flow meter 202 is not particularly limited, but an electromagnetic flow meter, an area flow meter, an ultrasonic flow meter, and the like are preferable from the viewpoint of a wide measurement range and high accuracy.

記憶部204には、図2に示すように、記憶領域204A、204B、204C、204Dとが設定されている。記憶領域204Aには、モード番号が記憶されている。記憶領域204Bには、各モード番号に対応付けて予め設定された設定供給量が記憶されている。記憶領域204Cには、各モード番号の設定供給量に対して予め設定された吐出時間の第1の許容範囲が記憶されている。記憶領域204Dには、各モード番号の設定供給量に対して予め設定された吐出時間の第2の許容範囲が記憶されている。第2の許容範囲は、第1の許容範囲よりも狭くなっている。記憶部204としては、例えば、ROM、RAM、HDD等を採用することができる。   As shown in FIG. 2, storage areas 204A, 204B, 204C, and 204D are set in the storage unit 204. A mode number is stored in the storage area 204A. The storage area 204B stores a preset supply amount that is set in advance in association with each mode number. The storage area 204C stores a first allowable range of discharge time that is set in advance for the set supply amount of each mode number. The storage area 204D stores a second allowable range of discharge time that is preset for the set supply amount of each mode number. The second allowable range is narrower than the first allowable range. As the storage unit 204, for example, a ROM, a RAM, an HDD, or the like can be employed.

インターフェース部206は、制御部210とスピンナコントローラ150との信号のやり取りを行う接続装置である。具体的には、インターフェース部206は、スピンナコントローラ150から、薬液の供給開始信号及び供給量のモード番号を受信して制御部210に送信する。一方、インターフェース部206は、制御部210の指示に基づいて薬液の供給を停止させる信号をスピンナコントローラ150に対して送信する。   The interface unit 206 is a connection device that exchanges signals between the control unit 210 and the spinner controller 150. Specifically, the interface unit 206 receives a chemical solution supply start signal and a supply amount mode number from the spinner controller 150 and transmits them to the control unit 210. On the other hand, the interface unit 206 transmits a signal for stopping the supply of the chemical solution to the spinner controller 150 based on an instruction from the control unit 210.

制御部210は、選択手段212、供給量取得手段214、供給量判断手段216、供給停止手段218、タイマ手段220、時間判断手段222、警告制御手段224、及び記録制御手段226の機能を発揮するものである。このような装置は、CPUにより所定のプログラムを実行するコンピュータによって実現できる。   The control unit 210 performs the functions of a selection unit 212, a supply amount acquisition unit 214, a supply amount determination unit 216, a supply stop unit 218, a timer unit 220, a time determination unit 222, a warning control unit 224, and a recording control unit 226. Is. Such an apparatus can be realized by a computer that executes a predetermined program by a CPU.

選択手段212は、インターフェース部206からモード番号を取得すると共に、記憶部204の記憶領域204A〜204Dにアクセスして、このモード番号に対応する薬液供給量の設定値、及び、第1の許容範囲、第2の許容範囲を選択的に取得する。   The selection unit 212 obtains the mode number from the interface unit 206 and accesses the storage areas 204A to 204D of the storage unit 204 to set the chemical supply amount corresponding to the mode number and the first allowable range. The second allowable range is selectively acquired.

供給量取得手段214は、供給ラインL1を流れている薬液の流量を流量計202から所定時間毎に受信する。さらに、供給量取得手段214は、インターフェース部206から薬液の供給開始信号を受けると、流量計202から受けた流量を積算する、すなわち、流量を時間に関して積分し、供給ラインL1による薬液の供給が開始されてから実際に基板104に対して供給された総供給量としての供給量の実測値を取得する。この供給量の実測値の取得は、所定時間毎、例えば、供給量取得手段214が流量計202から流量を得る毎に繰返し行う。これにより、基板104に対して供給された薬液の供給量の実測値が経時的に得られる。   The supply amount acquisition unit 214 receives the flow rate of the chemical solution flowing through the supply line L1 from the flow meter 202 every predetermined time. Furthermore, when the supply amount acquisition unit 214 receives the chemical solution supply start signal from the interface unit 206, the supply amount acquisition unit 214 integrates the flow rate received from the flow meter 202, that is, integrates the flow rate with respect to time, and supply of the chemical solution through the supply line L1 The actual measurement value of the supply amount as the total supply amount actually supplied to the substrate 104 after the start is acquired. The actual measurement of the supply amount is repeated every predetermined time, for example, every time the supply amount acquisition unit 214 obtains a flow rate from the flow meter 202. Thereby, an actual measurement value of the supply amount of the chemical solution supplied to the substrate 104 is obtained over time.

供給量判断手段216は、選択手段212により取得された薬液供給量の設定値と、供給量取得手段214により取得された供給量の実測値とに基づいて、実際に基板104に対して供給された供給量が供給量の設定値に到達したか否かを判断する。   The supply amount determination unit 216 is actually supplied to the substrate 104 based on the set value of the chemical solution supply amount acquired by the selection unit 212 and the measured value of the supply amount acquired by the supply amount acquisition unit 214. It is determined whether the supplied amount has reached the set value of the supplied amount.

具体的には、例えば、(供給量の実測値−供給量の設定値)≧0を満たせば、実際の供給量が供給量の実測値に達したことを判断できる。また、供給量判断手段216は、このような判断を、供給量取得手段214が供給量の実測値を取得する毎に行うことができる。   Specifically, for example, if (measured value of supply amount−set value of supply amount) ≧ 0, it can be determined that the actual supply amount has reached the measured value of supply amount. Further, the supply amount determination unit 216 can make such a determination every time the supply amount acquisition unit 214 acquires an actual measurement value of the supply amount.

供給停止手段218は、供給量判断手段216が、実際の供給量が供給量の設定値に到達したと判断した場合に、インターフェース部206を介してスピンナコントローラ150に対して薬液の供給を停止させる信号を送信する。   The supply stop unit 218 stops the supply of the chemical solution to the spinner controller 150 via the interface unit 206 when the supply amount determination unit 216 determines that the actual supply amount has reached the set value of the supply amount. Send a signal.

一方、タイマ手段220は、供給ラインL1を介しての基板104に対する薬液の供給が開始された時から、供給ラインL1を介しての基板104に対する薬液の供給が停止された時までの吐出時間を取得する。具体的には、例えば、開始された時は、薬液供給管理装置200がスピンナコントローラ150から供給開始の信号を受けた時点として取得でき、停止された時は、供給停止手段218がスピンナコントローラ150に対して供給停止の信号を送信したときとすることができる。   On the other hand, the timer means 220 calculates a discharge time from the time when supply of the chemical liquid to the substrate 104 via the supply line L1 is started to the time when supply of the chemical liquid to the substrate 104 via the supply line L1 is stopped. get. Specifically, for example, when it is started, it can be acquired as a point in time when the chemical solution supply management apparatus 200 receives a supply start signal from the spinner controller 150, and when it is stopped, the supply stop unit 218 sends it to the spinner controller 150. On the other hand, it may be when a supply stop signal is transmitted.

時間判断手段222は、タイマ手段220によって取得された吐出時間と、選択手段212によって取得された第1の許容範囲及び第1の許容範囲よりも狭い第2の許容範囲とに基づいて以下のような判断を行う。まず吐出時間が第2の許容範囲に含まれているか否かを判断し、吐出時間が第2の許容範囲に含まれない場合にはさらにこの吐出時間が第1の許容範囲に含まれているか否かを判断する。   The time determination unit 222 is based on the discharge time acquired by the timer unit 220 and the first allowable range acquired by the selection unit 212 and the second allowable range narrower than the first allowable range as follows. Make a good judgment. First, it is determined whether or not the discharge time is included in the second allowable range. If the discharge time is not included in the second allowable range, is this discharge time included in the first allowable range? Judge whether or not.

そして、警告制御手段224は、時間判断手段222において吐出時間が第1の許容範囲及び第2の許容範囲の何れにも含まれていない場合には、警報部252に対して重度の警告、例えば、警告灯の点滅やアラーム音の発生を行わせる。一方、警告制御手段224は、時間判断手段222において吐出時間が広い第1の許容範囲には含まれるものの第1の許容範囲より狭い第2の許容範囲に含まれない場合には、警報部252に対して軽度の警告、例えば、表示灯の点灯等を行わせる。このように二つの範囲を設定することにより、異常の程度に応じた柔軟な対応が可能となる。   Then, the warning control unit 224 gives a severe warning to the alarm unit 252 when the time determination unit 222 does not include the discharge time in either the first allowable range or the second allowable range, for example, , Flashing warning lights and generating alarm sounds. On the other hand, the warning control unit 224 includes the warning unit 252 when the time determination unit 222 includes the discharge time that is included in the wide first allowable range but is not included in the second allowable range that is narrower than the first allowable range. A light warning, for example, lighting of an indicator lamp or the like is performed. By setting the two ranges in this way, it is possible to flexibly cope with the degree of abnormality.

記録制御手段226は、供給量の実測値及び吐出時間を記録部250に時刻と共に記録する。記録部250としては、HD、プリンタ等を使用できる。   The recording control unit 226 records the measured value of the supply amount and the discharge time together with the time in the recording unit 250. As the recording unit 250, an HD, a printer, or the like can be used.

続いて、図3のフローチャートを参照して、本実施形態の半導体製造装置の動作について説明する。   Next, the operation of the semiconductor manufacturing apparatus of this embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG.

ここでは、簡単のため、テーブル106上に基板104が載置され、所定の回転数でテーブル106が回転され、薬液供給前の準備が完了した状態から説明する。このとき、記憶部204内には、各モード番号に対して、設定供給量、第1の許容範囲及び第2の許容範囲が記憶されている。   Here, for simplicity, the substrate 104 is placed on the table 106, the table 106 is rotated at a predetermined number of rotations, and the preparation before supplying the chemical solution is described. At this time, the storage unit 204 stores a set supply amount, a first allowable range, and a second allowable range for each mode number.

まず、スピンナコントローラ150は、ステップS101において薬液供給管理装置200に薬液供給開始信号及び設定供給量のモード番号を送信すると共に、ポンプ110の駆動及びバルブ112の開放を行う。   First, in step S101, the spinner controller 150 transmits a chemical supply start signal and a set supply amount mode number to the chemical supply management apparatus 200, and drives the pump 110 and opens the valve 112.

これに応じて、薬液供給管理装置200は、ステップS201において、開始信号及びモード番号の受信を行う。   In response to this, the chemical supply management apparatus 200 receives a start signal and a mode number in step S201.

次に、薬液供給管理装置200では、ステップS203において、タイマ手段220を起動して吐出時間の計測を開始すると共に、モード番号に基づいて供給量の設定値、第1の許容範囲、第2の許容範囲を記憶部204から選択して取得する。   Next, in step S <b> 203, the chemical supply management apparatus 200 activates the timer unit 220 to start measurement of the discharge time, and sets the supply amount set value, the first allowable range, the second based on the mode number. An allowable range is selected and acquired from the storage unit 204.

次に、ステップS205において、薬液供給管理装置200は、流量計202からの流量のデータを積算して供給量の実測値を取得する。   Next, in step S <b> 205, the chemical solution supply management apparatus 200 integrates the flow rate data from the flow meter 202 to obtain an actual supply value.

次に、ステップS207において、薬液供給管理装置200は、供給量の設定値と、供給量の実測値とに基づいて、実際の供給量が供給量の設定値を超えたか否かを判定する。   Next, in step S207, the chemical supply management apparatus 200 determines whether or not the actual supply amount has exceeded the supply amount set value based on the set value of the supply amount and the actually measured value of the supply amount.

そして、実際の供給量が、供給量の設定値を超えていないと判断した場合には、再びステップS205に戻って、供給量の実測値の取得を再び行う。   If it is determined that the actual supply amount does not exceed the set value of the supply amount, the process returns to step S205 again to acquire the actual supply amount.

一方、実際の供給量が、供給量の設定値以上となったと判断した場合には、ステップS209に進んで、スピンナコントローラ150に対して薬液供給停止の信号を送信する一方、タイマ手段220による時間測定を停止して吐出時間を取得する。   On the other hand, if it is determined that the actual supply amount is equal to or greater than the set value of the supply amount, the process proceeds to step S209 to transmit a chemical supply stop signal to the spinner controller 150, while the time by the timer means 220 is reached. Stop the measurement and get the discharge time.

これに対応して、スピンナコントローラ150では、ステップS103において、この供給停止信号を受信し、ステップS105において、ポンプ110の駆動停止及びバルブ112の閉鎖を行い、薬液の供給を停止する。   Correspondingly, the spinner controller 150 receives this supply stop signal in step S103, stops the driving of the pump 110 and closes the valve 112 in step S105, and stops the supply of the chemical solution.

続いて、薬液供給管理装置200では、ステップS211において、吐出時間が第2の許容範囲に含まれているか否かを判断し、吐出時間が第2の許容範囲に含まれない場合にはさらにこの吐出時間が第1の許容範囲に含まれているか否かを判断する。   Subsequently, in the chemical liquid supply management apparatus 200, in step S211, it is determined whether or not the discharge time is included in the second allowable range. It is determined whether or not the discharge time is included in the first allowable range.

そして、吐出時間が第2の許容範囲に含まれる場合には、ステップS217に進む。一方、吐出時間が第1の許容範囲及び第2の許容範囲に含まれていない場合には、ステップS213に進んで警報部252によって重度の警告を行わせ、その後ステップS217に進む。さらに、吐出時間が第1の許容範囲に含まれるものの第2の許容範囲に含まれない場合には、ステップS215に進んで警報部252によって軽度の警告を行わせ、ステップS217に進む。最後にステップS217では、供給量の実測値及び吐出時間を記録部250に記録する。そして、これによって一連の処理を終了する。   If the discharge time is included in the second allowable range, the process proceeds to step S217. On the other hand, when the discharge time is not included in the first allowable range and the second allowable range, the process proceeds to step S213 to cause the alarm unit 252 to issue a severe warning, and then proceeds to step S217. Further, if the discharge time is included in the first allowable range but not included in the second allowable range, the process proceeds to step S215 to cause the warning unit 252 to issue a slight warning, and then proceeds to step S217. Finally, in step S217, the measured value of the supply amount and the discharge time are recorded in the recording unit 250. This completes the series of processing.

この後、必要に応じて、再び、スピンナコントローラ150からの指示によって再び同様の処理を繰り返すことができる。   Thereafter, if necessary, the same processing can be repeated again according to an instruction from the spinner controller 150.

本発明によれば、供給ラインL1を流れる薬液の流量が積算されて供給量が実測され、さらにこの実測値と設定値とに基づいて、スピンナ100の基板104に実際に供給される薬液の量が所定の設定値に精度よく管理される。したがって、薬液の供給量が少なすぎることよる不完全な処理や、薬液の供給量が多すぎることによる薬液の無駄が防止され、低コストかつ高品質にスピンナによる処理が実現される。   According to the present invention, the flow rate of the chemical solution flowing through the supply line L1 is integrated to actually measure the supply amount, and the amount of the chemical solution actually supplied to the substrate 104 of the spinner 100 based on the actually measured value and the set value. Is accurately controlled to a predetermined set value. Therefore, incomplete processing due to the supply amount of the chemical solution being too small and waste of the chemical solution due to the supply amount of the chemical solution being too large are prevented, and processing with a spinner is realized at low cost and high quality.

特に、時間の経過と共にフィルタ117の圧力損失が増加していく場合等、定量ポンプ110を使っていても供給ラインL1を流れる薬液の流量が変化する場合でも薬液の供給量が十分に高い精度で管理される。   In particular, even when the pressure loss of the filter 117 increases with time, even when the flow rate of the chemical flowing through the supply line L1 changes even when the metering pump 110 is used, the supply amount of the chemical is sufficiently accurate. Managed.

また、記憶部204は薬液供給量の設定値を複数記憶し、選択手段212は、スピンナコントローラ150からの信号に応じて記憶部204に記憶された複数の薬液供給量の設定値の内のいずれかを選択し、供給量判断手段216は、選択手段212によって選択された薬液供給量の設定値と、供給量取得手段214によって取得された薬液供給量の実測値と、に基づいて供給量の判断を行っている。   The storage unit 204 stores a plurality of set values of the chemical solution supply amount, and the selection unit 212 selects any of the plurality of set values of the chemical solution supply amount stored in the storage unit 204 in response to a signal from the spinner controller 150. The supply amount determination unit 216 determines the supply amount based on the set value of the chemical solution supply amount selected by the selection unit 212 and the measured value of the chemical solution supply amount acquired by the supply amount acquisition unit 214. Judgment is being made.

したがって、スピンナコントローラ150からの指示に応じて薬液の供給量を所望の値に切り替えることができる。したがって、処理の内容に応じて薬液の供給量を変える必要がある場合に特に好適である。なお、スピンナコントローラ150が、記憶部204に対して供給量の設定値を直接送信してもよい。   Therefore, the supply amount of the chemical solution can be switched to a desired value in accordance with an instruction from the spinner controller 150. Therefore, it is particularly suitable when it is necessary to change the supply amount of the chemical according to the content of the treatment. The spinner controller 150 may directly transmit the supply amount set value to the storage unit 204.

また、薬液の変質や薬液の補充ミス等により供給ラインL1を介して供給される薬液の特性が大きく変動した場合等には、設定された供給量となるまでに要する吐出時間が変動前と比べて大きく変わることとなる。そして、本実施形態では、タイマ手段220によって吐出時間が取得されている。   In addition, when the characteristics of the chemical liquid supplied through the supply line L1 greatly fluctuate due to chemical deterioration or chemical replenishment mistakes, etc., the discharge time required to reach the set supply amount is larger than before the fluctuation. Will change greatly. In this embodiment, the discharge time is acquired by the timer means 220.

したがって、この吐出時間に基づいて、薬液の変質や薬液補充ミス等を容易に発見できる。また、記録制御手段226によりこの吐出時間を記録しているので、製造の履歴管理が容易になり、不良発生の原因追求等が容易となる。   Therefore, based on this discharge time, it is possible to easily find out chemical alteration, chemical replenishment error, and the like. In addition, since the discharge time is recorded by the recording control means 226, manufacturing history management becomes easy, and the cause of the occurrence of defects can be easily pursued.

さらに、本実施形態では、記憶部204は、薬液供給量の設定値に対応付けてさらに吐出時間の許容範囲を記憶し、時間判断手段222は吐出時間が許容範囲内か否かを判断し、警告制御手段224は吐出時間が吐出時間の許容範囲外であると判断された場合に警告信号を発生させている。   Further, in the present embodiment, the storage unit 204 further stores an allowable range of discharge time in association with the set value of the chemical solution supply amount, and the time determination unit 222 determines whether the discharge time is within the allowable range, The warning control unit 224 generates a warning signal when it is determined that the discharge time is outside the allowable range of the discharge time.

これにより、薬液の変質や異なる種類の薬液が供給された場合等の薬液の性質の急変が自動的に検出されて警告されるので、製造不良が特に低減される。   As a result, a chemical change of the chemical solution or a sudden change in the properties of the chemical solution, such as when a different type of chemical solution is supplied, is automatically detected and warned, so that manufacturing defects are particularly reduced.

本発明は上記実施形態に限定されず様々な変形態様が可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made.

例えば、上記実施形態では、スピンナコントローラ150は、薬液供給管理装置200とは別に設けられているが、薬液供給管理装置200内にスピンナコントローラ150の機能を備え、薬液供給管理装置200が直接スピンナ100のバルブ112やポンプ110の制御を行ってもよい。   For example, in the above-described embodiment, the spinner controller 150 is provided separately from the chemical liquid supply management apparatus 200. However, the chemical liquid supply management apparatus 200 includes the function of the spinner controller 150, and the chemical liquid supply management apparatus 200 directly includes the spinner 100. The valve 112 and the pump 110 may be controlled.

続いて、本実施形態に係る薬液供給管理装置200を用いてスピンナ100において、供給量の設定値を10mLとしてフォトレジストの供給を繰り返し行った場合の供給量の実測値を図4に、この薬液供給管理装置を用いずにバルブの開放時間が5秒となるようにフォトレジストを繰り返し供給した場合のフォトレジストの供給量の実測値を図5に示す。図5に示すように、従来の制御では、大きな供給量の誤差が生じているが、本実施形態に係る薬液供給管理装置を用いた場合には、供給量はきわめて精度よく管理された。   Subsequently, in the spinner 100 using the chemical solution supply management apparatus 200 according to the present embodiment, the measured value of the supply amount when the supply amount of the photoresist is repeatedly set at 10 mL is shown in FIG. FIG. 5 shows measured values of the photoresist supply amount when the photoresist is repeatedly supplied so that the valve opening time is 5 seconds without using the supply management device. As shown in FIG. 5, in the conventional control, a large supply amount error occurs. However, when the chemical solution supply management apparatus according to the present embodiment is used, the supply amount is managed with extremely high accuracy.

本発明の実施形態に係る半導体製造装置を示す概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram showing a semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 図1の記憶部の記憶内容を示す図である。It is a figure which shows the memory content of the memory | storage part of FIG. 図1の半導体製造装置のフローチャートを示す図である。It is a figure which shows the flowchart of the semiconductor manufacturing apparatus of FIG. 薬液供給量管理装置を用いた場合の薬液供給量の実測値を示すグラフである。It is a graph which shows the measured value of the chemical | medical solution supply amount at the time of using a chemical | medical solution supply amount management apparatus. 薬液供給量管理装置を用いなかった場合の薬液供給量の実測値を示すグラフである。It is a graph which shows the measured value of the chemical | medical solution supply amount at the time of not using a chemical | medical solution supply amount management apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

100…スピンナ、104…基板(被塗布物)、200…薬液供給管理装置、202…流量計(流量測定手段)、204…記憶手段(記憶部)、212…選択手段、214…供給量取得手段、216…供給量判断手段、218…供給停止手段、220…タイマ手段、226…記録制御手段、222…時間判断手段、224…警告制御手段、L1…供給ライン。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Spinner, 104 ... Board | substrate (to-be-coated object), 200 ... Chemical solution supply management apparatus, 202 ... Flowmeter (flow-rate measuring means), 204 ... Memory | storage means (memory | storage part), 212 ... Selection means, 214 ... Supply amount acquisition means 216... Supply amount judging means, 218... Supply stopping means, 220... Timer means, 226 .. Recording control means, 222 .. Time judging means, 224.

Claims (5)

スピンナにおける被塗布物に対して供給ラインを介して供給される薬液の供給量を管理する薬液供給管理装置であって、
予め設定された薬液供給量の設定値を記憶する記憶手段と、
前記供給ラインを流れる薬液の流量を時間毎に測定する流量測定手段と、
前記流量測定手段によって得られた薬液の流量を積算することにより、前記被塗布物に対して供給された薬液供給量の実測値を取得する供給量取得手段と、
前記供給量取得手段によって取得された薬液供給量の実測値と、前記記憶手段に記憶された薬液供給量の設定値とに基づいて、前記供給ラインを介して前記被塗布物に対して供給された薬液供給量が前記薬液供給量の設定値に達したか否かを判断する供給量判断手段と、
前記供給量判断手段が、前記供給ラインを介して前記被塗布物に対して供給された薬液供給量が前記薬液供給量の設定値に達したと判断した場合に、前記供給ラインを介した薬液の供給を停止させる供給停止手段と、
を備えた薬液供給管理装置。
A chemical supply management device that manages the supply amount of a chemical supplied through a supply line to an object to be coated in a spinner,
Storage means for storing a preset value of the chemical supply amount;
Flow rate measuring means for measuring the flow rate of the chemical flowing through the supply line every hour;
A supply amount acquiring means for acquiring an actual measurement value of the chemical liquid supply amount supplied to the coating object by integrating the flow rate of the chemical liquid obtained by the flow rate measuring means;
Based on the measured value of the chemical supply amount acquired by the supply amount acquisition means and the set value of the chemical supply amount stored in the storage means, the supply amount is supplied to the application object via the supply line. Supply amount determining means for determining whether or not the chemical solution supply amount has reached the set value of the chemical solution supply amount;
When the supply amount determination means determines that the chemical supply amount supplied to the object to be coated via the supply line has reached the set value of the chemical supply amount, the chemical solution via the supply line Supply stop means for stopping the supply of
A chemical supply management device.
前記記憶手段は前記薬液供給量の設定値を複数記憶し、
前記薬液供給管理装置は、さらに、
外部からの信号に応じて、前記記憶手段に記憶された複数の薬液供給量の設定値の内のいずれかを選択する選択手段を備え、
前記供給量判断手段は、前記選択手段によって選択された薬液供給量の設定値と、前記供給量取得手段によって取得された薬液供給量の実測値と、に基づいて前記判断を行う請求項1に記載の薬液供給管理装置。
The storage means stores a plurality of set values of the chemical supply amount,
The chemical solution supply management device further includes:
In accordance with a signal from the outside, comprising a selection means for selecting any of a plurality of chemical solution supply amount set values stored in the storage means,
The supply amount determination unit performs the determination based on a set value of the chemical solution supply amount selected by the selection unit and an actual measurement value of the chemical solution supply amount acquired by the supply amount acquisition unit. The chemical solution supply management device described.
前記供給ラインを介した前記被塗布物に対する薬液の供給が開始された時点から、前記供給ラインを介した前記被塗布物に対する薬液の供給が停止された時点までの吐出時間を取得するタイマ手段をさらに備える請求項1又は2に記載の薬液供給管理装置。   Timer means for obtaining a discharge time from the time when supply of the chemical liquid to the coated object via the supply line is started to the time when supply of the chemical liquid to the coated object via the supply line is stopped Furthermore, the chemical | medical solution supply management apparatus of Claim 1 or 2 provided. 前記吐出時間を記録部に記録させる記録制御手段をさらに備える請求項3に記載の薬液供給管理装置。   The chemical supply management apparatus according to claim 3, further comprising a recording control unit that records the ejection time in a recording unit. 前記記憶手段は、前記薬液供給量の設定値に対応付けて、さらに吐出時間の許容範囲を記憶し、
前記薬液供給管理装置は、さらに、
前記タイマ手段により取得された吐出時間と、前記記憶手段に記憶された吐出時間の許容範囲とに基づいて、前記タイマ手段により取得された吐出時間が前記吐出時間の許容範囲内か否かを判断する時間判断手段と、
前記時間判断手段が、前記タイマ手段により取得された吐出時間が前記吐出時間の許容範囲外であると判断した場合に、警告信号を発生させる警告制御手段と、をさらに備える請求項3又は4に記載の薬液供給管理装置。
The storage means stores a permissible range of discharge time in association with the set value of the chemical supply amount,
The chemical solution supply management device further includes:
Based on the discharge time acquired by the timer means and the allowable discharge time range stored in the storage means, it is determined whether or not the discharge time acquired by the timer means is within the allowable discharge time range. Time judgment means to
5. The warning control means for generating a warning signal when the time determination means determines that the discharge time acquired by the timer means is outside the allowable range of the discharge time. The chemical solution supply management device described.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007330935A (en) * 2006-06-19 2007-12-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Treatment liquid supply apparatus
KR20160148464A (en) * 2015-06-16 2016-12-26 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Processing apparatus, processing method, and storage medium

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6552680B2 (en) * 2018-05-30 2019-07-31 東京エレクトロン株式会社 Processing device, processing method and storage medium

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10216605A (en) * 1997-01-31 1998-08-18 Sony Corp Rotary coating device for chemical liquid
JP2000246164A (en) * 1999-03-02 2000-09-12 Sony Corp Resist coating device
JP3630650B2 (en) * 2001-07-31 2005-03-16 株式会社 日立インダストリイズ Paste applicator

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007330935A (en) * 2006-06-19 2007-12-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Treatment liquid supply apparatus
KR20160148464A (en) * 2015-06-16 2016-12-26 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Processing apparatus, processing method, and storage medium
KR20230121027A (en) * 2015-06-16 2023-08-17 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Processing apparatus, processing method, and storage medium
KR102573007B1 (en) * 2015-06-16 2023-08-30 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Processing apparatus, processing method, and storage medium
KR102606005B1 (en) 2015-06-16 2023-11-23 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Processing apparatus, processing method, and storage medium

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