JP2005538991A - スチリルピラゾール、イソオキサゾール及びイソチアゾール誘導体の新規調製方法 - Google Patents

スチリルピラゾール、イソオキサゾール及びイソチアゾール誘導体の新規調製方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、合成工程の後、塩基性アルコール媒体における再結晶を行う、スチリルイソオキサゾール、スチリルピラゾール及びスチリルイソチアゾール誘導体を合成する方法に関する。

Description

本発明は、スチリルイソオキサゾール、スチリルピラゾール及びスチリルイソチアゾール誘導体を合成するための新規方法に関する。
本発明の主題は、特に、合成工程とそれに続く脱水及び精製としてはたらく、塩基性アルコール媒体(medium)からの再結晶における、スチリルイソオキサゾール、スチリルピラゾール及びスチリルイソチアゾールファミリーの化合物を製造するための方法である。この方法は、特に(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾール(5−[β−(4‘−ヒドロキシ−3’,5‘−ビス−(1,1−ジメチルエチル)フェニル)エテニル]−3−メチルイソオキサゾールとも呼ばれる)の製造に関する。
スチリルイソオキサゾール、スチリルピラゾール及びスチリルイソチアゾール化合物、ならびに特に(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールは、特許EP0 245 825に記載されている。5−リポキシゲナーゼ及びシキクロオキシゲナーゼ阻害剤であるこれらの化合物は、薬学的組成物において使用され得る。また、それらは、日焼け止め特性をも有している。特に、それらは炎症、関節炎、潰瘍、アレルギー、喘息、乾癬、哺乳類における心臓血管状態(cardiovascular states)の処置のための薬学的処方の組成物中に加えることが可能である。また、それらは、紫外線に対する防御のための組成物中にも使用される。
特許EP0 245 825に記載される、スチリルイソオキサゾール誘導体の合成は、3つのアプローチ(approach)に従って行われ得る。特に、(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールの場合、以下の3つの合成スキームが可能である:
I アルデヒド(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒド)及び3,5−ジ−メチルイソオキサゾールトリフェニルホスホニウム間のウィッティッヒ反応
Figure 2005538991
II 以下:
−アルデヒド(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒド)及び3,5−ジメチルイソオキサゾールのリチウム塩間の反応とそれに続くシリカゲルカラム上でのクロマトグラフィー
−シリカゲルカラム上での精製の後、収率49%で所望の化合物を得るために、メタノール中の塩酸との第1工程の結果生じた生成物の処理を含む第2工程
を含む2ステップ法。
Figure 2005538991
III 第3のアプローチは、アルデヒド(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒド)とイソオキサゾールの3−カルボキシレート誘導体との反応を包含する。濃縮の後、脱水及び脱炭酸を行う。
Figure 2005538991
同じ合成スキームは、スチリルピラゾール及びスチリルイソチアゾール誘導体を得ることを可能にする。
従来技術の方法がスチリルイソオキサゾール、スチリルピラゾール及びスチリルイソチアゾール誘導体を得ることを可能にする一方、純粋な生成物を得るために、いくつもの工程及び/又はクロマトグラフィーによる精製の使用を必要とするという不利益を有する。
本出願人は、限られた数の工程を含む、スチリルイソオキサゾール、スチリルピラゾール及びスチリルイソチアゾール誘導体を調製する方法を開発すること、ならびに複雑及び/又は高価な精製工程の使用を要することなく、十分な純度を有する生成物を得ることを可能にすることを目的とする。
本発明による合成方法は、下記式(I)
Figure 2005538991
(式中:
フェニル環の2、3、4、5又は6位のR、R、Rは、同一又は異なって、以下:水素原子;C−Cアルキル;C−Cアルケニル;C−Cアルキニル;ハロゲン、C−Cハロアルキル;−OH;基−OR’、−SH、−SR’、SeH、−SeR’、−C(O)R’、−NHC(O)R’、C(S)R’、−NHC(S)R’、−CN(ここで、R’は、C−Cアルキル、C−Cアルケニル、C−Cアルキニルから選択される基を表す);基−C(O)OR”、−OC(O)R”、−NR”R’’’(ここで、R”及びR’’’は、同一又は異なって、水素原子、C−Cアルキル、C−Cアルケニル、C−Cアルキニルから選択される基を表す);
X及びYは、以下:(NR,N)(ピラゾール環)、(O,N)(イソオキサゾール環)、(S,N)(イソチアゾール環)から選択される一対の原子を表し、Rは以下:水素原子;C−Cアルキル;基CH−OR、基C(O)OR(ここで、Rは水素原子、C−Cアルキル基、ベンジル基から選択される)から選択される;
ヘテロ環は、ピラゾール環の場合その3位又は5位を介して、イソオキサゾール環及びイソチアゾール環の場合その5位を介してフェニル環に結合される;
nは0、1、2、3、4、5及び6から選択される整数を表し;
イソオキサゾール環、ピラゾール環又はイソチアゾール環の3位又は4位のZは、以下:水素原子;C−Cアルキル;C−Cアルケニル;C−Cアルキニル;ハロゲン、C−Cハロアルキル;−OH;基−OR’、−SH、−SR’、−SeH、−SeR’、―C(O)R’、―NHC(O)R’、−C(S)R’、−NHC(S)R’、−CN(ここでR’は、C−Cアルキル、C−Cアルケニル、C−Cアルキニルから選択される基を表す);基−C(O)OR”、−OC(O)R”、NR”R’’’(ここで、R”及びR’’’は、同一又は異なって、水素原子、C−Cアルキル、C−Cアルケニル、C−Cアルキニルから選択される基を表す)から選択される基を表す
に対応する化合物の調製に適用される。
本発明において用いられる用語、アルキル、アルケニル及びアルキニルは、直鎖、分岐鎖又は環状基のいずれかを意味する。
ヘテロ環は、下記式:
Figure 2005538991
によって表され、本発明によれば、以下:
Figure 2005538991
から選択される基を表す。
好ましくは、本発明による方法は、上記式(I)に対応する生成物の調製に適用され、ここで、以下:
、R、Rがフェニル環の3位、4位又は5位にある;
、R、Rが、以下:水素原子;C−Cアルキル;ハロゲン;C−Cハロアルキル;−OH;基−OR’(ここで、R’はC−Cアルキルから選択される基を表す);基−OC(O)R”(ここで、R”は水素原子、C−Cアルキルから選択される基を表す)から選択される;
X=O;Y=N;
n=0;
Zはヘテロ環の3位にある、
Zは、以下:C−Cアルキル;ハロゲン;C−Cハロアルキルから選択される基を表す;
の1以上の条件を満たす。
有利には、以下:
式:
Figure 2005538991
によって表されるヘテロ環が、5−イソオキサゾールのZ置換誘導体である;
3位のRはtert−ブチル基である;
4位のRは水酸基である;
5位のRはtert−ブチル基である;
3位のZはメチル基である;
の少なくとも1つの条件を満たす。
さらにより好ましくは、本発明は、(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールの調製に適用される。
本発明の主題である方法は、式(I)の生成物を得るために塩基の存在下でアルコール中で、下記式(II)(式中、R、R、R、X、Y、Z及びnは、上記式(I)と同じ定義を有する):
Figure 2005538991
A及びBは、AとBの一方がH、もう一方が−OHになるように選択される;
に対応する生成物を処理することを包含する、少なくとも1つの工程を含むことを特徴とする。
式(I)(式中、n=0)の誘導体の場合、該方法は、特許EP0 245 825においてWarnert Lambertによって開発されたものと、共通の中間体を介する経路を含むことにおいて類似するが、工程の数、処理及び精製において、それとは異なる。実際、アルコール(II)は、以下:1)ヒドロキシル(II)の脱水、2)生成物(I)の結晶化及び、それによってカラムクロマトグラフィーを回避することを可能にするマザーリカー(mother liquor)における不純物の除去の二つの目的を有する、塩基性アルコール媒体における処理に供される。アルコール媒体からの再結晶は、必要に応じて、生成物(I)を得るためにこの方法を完了することができる。
従来技術の方法に比べると、本発明による方法は、以下:より良い収率、工程数が少ないこと、より良い工業規模における実現可能性
の有利な点によって区別ができる。
好ましくは、式(II)の化合物は、下記式(IIa)(式中、R、R、R、X、Y及びZは、式(I)と同じ定義を有する):
Figure 2005538991
に対応する。
このバリアント(variant)は、A=OH、B=Hの場合を表す。
有利には、本発明のバリアントによれば、X=O及びY=Nの場合、式(IIa)の化合物は、アルデヒド(III)及びヘテロ環(IVa)のリチウム塩の反応を包含する方法によって調製される:
Figure 2005538991
より詳しくは、n=0の場合、式(II)の化合物は、アルデヒド(IIIa)及び5−メチルイソオキサゾール誘導体(IVa)のリチウム塩の反応を包含する方法によって調製される:
Figure 2005538991
(X,Y)が(S,N)又は(NR,N)(Rは上記と同じ定義を有する)を表す場合、下記スキームによれば、フェニルオキシラン誘導体(V)と5−イソオキサゾール誘導体(X=S及びY=Nを有する化合物(IV))のリチウム塩及び5−ピラゾール誘導体((X,Y)=(NR,N)の化合物(IV))のリチウム塩との反応によって、標的分子(IIa)を得ることが可能である。そのような合成は、特に、Ramacciotti,Alessio;Fiaschi,Rita;Napolitano,Elio;Tetrahedron asymmetry;1996;1101−1104に記載される:
Figure 2005538991
式(II)の化合物が下記式(IIb)(式中、R、R、R、X、Y及びZは、上記式(I)と同じ定義を有する)に対応する場合:
Figure 2005538991
生成物(IIb)は、以下に特徴付けられる方法によって有利に調製される:
X=O及びY=Nの場合、アルデヒド(VI)をヘテロ環(VII)のリチウム塩と反応させる:
Figure 2005538991
(X,Y)が1対の原子(NR,N)(Rは上記に定義される通りである)を表す場合、この手順は、Katritzky et al.: Alan R. Katritzky, Ping Lue 及びKunihiko Akutagawa, Tetrahedron 45,13(1989),4253−4262によって記載される保護方法を用いて、本質的には上記のスキームに従って行われる。ピラゾール環のNH官能基を、N−アルキル化を回避するためにホルムアルデヒドで保護する。結果として生じたN−保護ピラゾールを、リチウム塩を得るためにn−ブチルリチウムで処理する(これは、アルデヒド(VI)の存在下で、式(IIb)の生成物を得ることを可能にする)。
X=S及びY=Nの場合、生成物(IIb)は、以下の論文に記載された方法によって得られる:A.J. Layton及びE. Lunt J. Chem. Soc. C 1968, 611−614ならびにAshton, Michael J 及びal. J. Med. Chem.,27,10,1984, 1245−1253。イソチアゾール(VIII)を、リチウム塩を得るために、n−ブチルリチウムと反応させる(これは、アルデヒド(VI)の存在下で、式(IIb)の生成物に対応するように、5−アルキル化を可能にする)。
Figure 2005538991
有利には、本発明によれば、上記方法は、n=0の場合に適用される。
有利には、本発明によれば、塩基性アルコール媒体における生成物(II)の処理は、脱水及び結晶化が起きるアルコールが、エタノール、メタノール又はイソプロピルアルコールであることを特徴とする。さらに有利には、アルコールに添加される塩基は、水溶液の形態である水酸化ナトリウムである。好ましくは、この水酸化ナトリウム水溶液は、0.1M〜5M、有利には0.5M〜4M、より有利には1M〜3Mの濃度を有する溶液である。
好ましくは、以下の工程:還流下におけるアルコール中に生成物(II)を溶解する工程、化合物(I)が沈殿するまで塩基を添加する工程;還流下のままで、該沈殿が溶解するまでアルコールを添加する工程;(I)の結晶を引き起こす、溶液の冷却工程;結晶を濾過及び洗浄する工程
を含む。
実施例
I (E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールの合成
1.1 反応スキーム
Figure 2005538991
1.2試薬
試薬の量は、下記第1表に示される。
Figure 2005538991
1.3手順
n−ブチルリチウム(100ml)を、−78℃まで冷却されたTHF(200ml)中の3,5−ジメチル−イソオキサゾール(25g)溶液に(45分間にわたって)滴下する。−78℃で1時間攪拌した後、THF(250ml)中の溶液の中の3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒド(27.724g)を、3時間にわたって滴下する。添加の最後に、反応混合物を、−78℃で攪拌しながら、2時間30分放置する。
反応の進行は、薄層クロマトグラフィーによってモニターする。
Figure 2005538991
アルデヒドが消費された時、以下の処理を行う:
−真空下での蒸発による溶媒(THF/ヘキサン)の濃縮
−200mlの酢酸エチル中の媒体の溶解
−100ml HOでの2度の洗浄(水相pH7)
−真空下での濃縮
本発明の方法の第2部は、以下の工程:
a)再結晶/脱水 EtOH/NaOH 2M
−エタノール100mlの添加、混合溶液を攪拌しながら加熱する工程
−生成物(I)が沈殿するまで2M NaOH(およそ100ml)を添加する工程
−(I)の溶解が得られるまでエタノールを添加する工程
−100mlのHO及び100mlのヘキサンで結晶を濾過及び洗浄する工程
を含む。
出発材料に対して50%〜86%の間で変動する全収率で、(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールを得る。
b)必要に応じて、その後EtOH(8ml/g)を用いた再結晶を行う
得られた質量:23.2g/全収率:58%
II − (E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールの解析
2.1構造研究
(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールの構造式:
Figure 2005538991
2.1.1赤外スペクトル
およそ1%の(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールを含むKBrペレットに対して、4000〜400cm−1で赤外スペクトルを行う。
観察された主要なピークは、以下:
3500cm−1:νO−H
2850−2950cm−1:νC−H (tBu,CH,CH)
1640,1570及び1440cm−1:νC=C及びνC=N
1230及び1100cm−1:ν=C−O
960cm−1:νN−O
IRスペクトルは、予想された構造と一致する。
2.1.2 NMRスペクトル
重水素化クロロホルム中の溶液に対して、200MHzのスペクトロメーターを用いてH NMRスペクトルを行う。
溶媒ピーク(solvent peak):TMS:0ppm;HO:1.55ppm;CHCl:7.24ppm
この化合物に対するピークを、下記第2表において解析する。
Figure 2005538991
NMRスペクトルは、予想された構造と一致する。
2.1.3 質量スペクトル
マトリクスとしてNBA(3―ニトロベンジルアルコール)を用いた“FABポジティブ”イオン化において、質量スペクトルを行う。
以下のイオンが観察される(第3表)。
Figure 2005538991
質量スペクトルは、予想された構造と一致する。
2.1 同定
2.2.1 融点
様々なバッチに対して、融点を計測し、結果を下記第4表にまとめる:
Figure 2005538991
(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールの融点は、185−193℃の範囲にあることが観察される。
バッチDG01V20.2は別として、全てのバッチは、粉末の存在にかかわらず、95%より高い純度を有する。
2.2.2 TLC
TLC解析を、以下の条件下で行う:
−F254 シリカプレート
−試料:MeOH中において0.4mg/mlでの100μlの溶液
−1%でのコントロール:0.02mg/mlでの20μlの溶液
−5%でのコントロール:0.02 mg/mlでの100μlの溶液
−フォーカシング:MeOH
−溶出:ヘキサン90/10酢酸エチル
−移動:およそ5cm
−発色(development):UV 254nm及び0.5M HCl(95%のEtOH)中の5%FeClの溶液
−結果:
X 254nm:(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールは、Rf:0.30にて、強度の高いスポットを有する。分解生成物も、同様にRf:0.34にてスポットを有する。
X 発色剤FeCl:プレートのオレンジ色のバックグラウンド上に、同じRfにて(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールに対して、橙褐色スポットを得る。
2.2 アッセイ
2.3.1 乾燥減量
乾燥減量は、水及び有機溶媒の含有量を測定することを可能にする。可能であれば、オーブンにおいて100〜105℃にて3時間又は一定重量が得られるまで、1gに対して測定される。
1gのオーダーで計量された試料を、前もって乾燥させた結晶化ディッシュに導入し、その後、後者を自動温度調節されたオーブンに、100〜105℃にて3時間置く。結晶化ディッシュを、デシケーター内で室温まで冷却する。この結晶化ディッシュを計量し、下記式によって損失を%として計算する:
Figure 2005538991
ここで、W:計量され、導入された量
m:オーブン中で加熱した後の質量
2.3.2HPLCアッセイ
原理
アイソクラティック(isocratic)HPLC技術は、2つの合成前駆物質、未知の合成不純物及びUV照射による生成物の分解との関係において、特異的な条件のもとで、(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールのアッセイを可能にする。
方法
(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールの純度を、外部の検量線による、アイソクラティックHPLCによって測定し、乾燥物質と比較して表す。
手順
材料:
カラム:Lichrosphere C18,5μm,100A°,125×4mm+プレカラム(4×4mm)
移動相:250 H2O+750MeOH(HPLC溶媒)
流速:1ml/min
室温
検出器:240nm
注入量:25μl
インテグレーター(integrator):ST=25分,CS=2.5,SP=400,Noise=2,Sense=40,Att=4
Merck chain: L−6200A型ポンプ
注入器 AS−2000A型
検出器 L−4250型
インテグレーター(integrator) D−2500型
(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールコントロールを合成し、実験室において精製及び乾燥した。
結果
HPLC解析は、本発明の方法によって得られた生成物の純度が、98%より高いということの確認を可能にする。

Claims (11)

  1. 式(I):
    Figure 2005538991
    (式中:
    フェニル環の第2、3、4、5又は6位のR、R、Rは、同一又は異なって、以下:水素原子;C−Cアルキル;C−Cアルケニル;C−Cアルキニル;ハロゲン;C−Cハロアルキル;−OH;基−OR’、−SH、−SR’、−SeH、−SeR’、−C(O)R’、−NHC(O)R’、−C(S)R’、−NHC(S)R’、−CN(ここで、R’はC−Cアルキル、C−Cアルケニル、C−Cアルキニルから選択される基を表す);基−C(O)OR”、−OC(O)R”、−NR”R’’’(ここで、R”及びR’’’は、同一又は異なって、水素原子、C−Cアルキル、C−Cアルケニル、C−Cアルキニルから選択される基を表す)から選択され;
    X及びYは、以下:(NR,N)(ピラゾール環)、(O,N)(イソオキサゾール環)、(S,N)(イソチアゾール環)から選択される一対の原子を表し、Rは以下:水素原子;C−Cアルキル;基CH−OR、基C(O)OR(ここで、Rは、水素原子、C−Cアルキル基、ベンジル基から選択される)から選択され;
    ヘテロ環は、ピラゾール環の場合にはその3位又は5位を介して、イソオキサゾール環及びイソチアゾール環の場合にはその5位を介してフェニル環に結合される;
    nは、0、1、2、3、4、5及び6から選択される整数を表す;
    イソオキサゾール環、ピラゾール環又はチオキサゾール環(thioxazole ring)の3位又は4位のZは、以下:水素原子;C−Cアルキル;C−Cアルケニル;C−Cアルキニル;ハロゲン、C−Cハロアルキル;−OH;基−OR’、−SH、−SR’、−SeH、−SeR’、−C(O)R’、−NHC(O)R’、−C(S)R’、−NHC(S)R’、−CN(ここで、R’は、C−Cアルキル、C−Cアルケニル、C−Cアルキニルから選択される基を表す);基−C(O)OR”、−OC(O)R”、−NR”R’’’(ここで、R”及びR’’’は同一又は異なって、水素原子、C−Cアルキル、C−Cアルケニル、C−Cアルキニルから選択される基を表す)から選択される基を表す)
    に対応する誘導体を合成する方法であって、該方法は下記式(II)(式中、R、R、R、X、Y、Z及びnは、上記式(I)と同じ定義を有する):
    Figure 2005538991
    (A及びBは、AとBの一方がHであり、もう一方が−OHになるように選択される)に対応する生成物を、式(I)の生成物を得るために塩基の存在下にてアルコール中で処理することを包含する、少なくとも1つの工程を含むことを特徴とする。
  2. 下記の条件:
    、R、Rがフェニル環の3位、4位又は5位にある;
    、R、Rが、以下:水素原子;C−Cアルキル;ハロゲン;C−Cハロアルキル;−OH;基−OR’(ここで、R’がC−Cアルキルから選択される基を表す);基−OC(O)R”(ここで、R”が水素原子、C−Cアルキルから選択される基を表す)から選択される;
    -X=O;Y=N;
    n=0;
    Zが、ヘテロ環の3位にある;
    Zは、C−Cアルキル;ハロゲン;C−Cハロアルキルから選択される基を表す;の少なくとも1つを満たすことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 下記の条件:
    A=OH、B=H
    を満たすことを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載の方法。
  4. 下記の条件:
    式:
    Figure 2005538991
    によって表されるヘテロ環が5−イソオキサゾールのZ置換誘導体である;
    3位のRがtert−ブチル基である;
    4位のRが水酸基である;
    5位のRがtert−ブチル基である;
    3位のZがメチル基である;
    の少なくとも1つを満たすこと特徴とする請求項2又は請求項3に記載の方法。
  5. 生成物(I)が、(E)−5−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ビニル]−3−メチルイソオキサゾールであることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
  6. 脱水及び結晶化が行われるアルコールが、エタノール、メタノール又はイソプロピルアルコールであることを特徴とする、前記いずれかの請求項に記載の方法。
  7. アルコールに添加される塩基が、水溶液の形態である水酸化ナトリウムであることを特徴とする、前記いずれかの請求項に記載の方法。
  8. 水酸化ナトリウム水溶液が、0.1M〜5M、有利には0.5M〜4M、より有利には1M〜3Mの濃度を有する溶液であることを特徴とする、前記いずれかの請求急行に記載の方法。
  9. 以下の工程:
    還流下のアルコール中での生成物(II)の溶解;化合物(I)の沈殿までの塩基の添加;沈殿物が溶解するまで、還流下のままでのアルコールの添加;(I)の結晶化を生じる溶液の冷却;結晶の濾過および洗浄;
    を含むことを特徴とする、前記いずれかの請求項に記載の方法。
  10. X=O及びY=Nである、請求項3に定義される式(II)の化合物の調製工程を含み、アルデヒド(III)及びヘテロ環(IVa)のリチウム塩を誘導体(IIa)を得るために反応させる:
    Figure 2005538991
    (R、R、R及びZは、式(II)と同じ定義を有する)
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  11. (X,Y)が(S,N)又は(NR,N)を表し、Rが式(II)と同じ定義を有する、請求項3に定義される式(II)の化合物を調製する工程を含み、フェニルオキシラン(V)誘導体を以下のスキーム:
    Figure 2005538991
    に従い、5−イソチアゾール誘導体のリチウム塩(X=S及びY=Nである化合物(IV))又は5−ピラゾール誘導体のリチウム塩((X,Y)=(NR,N)である化合物(IV))と反応させることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104304244B (zh) * 2014-09-11 2016-08-24 广西田园生化股份有限公司 一种用于农药制剂中的抗紫外线吸收剂

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6322079A (ja) * 1986-05-09 1988-01-29 ワ−ナ−−ランバ−ト・コンパニ− 新規なスチリルピラゾ−ル、イソキサゾ−ルおよびその類似体

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4445066A (en) * 1982-06-30 1984-04-24 Murata Manufacturing Co., Ltd. Electrode structure for a zinc oxide thin film transducer
US6087198A (en) * 1998-02-12 2000-07-11 Texas Instruments Incorporated Low cost packaging for thin-film resonators and thin-film resonator-based filters
JP4122564B2 (ja) * 1998-04-24 2008-07-23 セイコーエプソン株式会社 圧電体素子、インクジェット式記録ヘッドおよびそれらの製造方法
US6906451B2 (en) * 2002-01-08 2005-06-14 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric resonator, piezoelectric filter, duplexer, communication apparatus, and method for manufacturing piezoelectric resonator
US7148610B2 (en) * 2002-02-01 2006-12-12 Oc Oerlikon Balzers Ag Surface acoustic wave device having improved performance and method of making the device
JP3957528B2 (ja) * 2002-03-05 2007-08-15 日本碍子株式会社 圧電/電歪膜型素子
US7323805B2 (en) * 2004-01-28 2008-01-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Piezoelectric thin film device and method for manufacturing the same
JP4016983B2 (ja) * 2004-12-07 2007-12-05 株式会社村田製作所 圧電薄膜共振子およびその製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6322079A (ja) * 1986-05-09 1988-01-29 ワ−ナ−−ランバ−ト・コンパニ− 新規なスチリルピラゾ−ル、イソキサゾ−ルおよびその類似体

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