JP2005530333A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 遠紫外線光を用いて画像を形成する光学的画像形成装置であって、
   共通光軸に沿って整列され、かつビーム光線の前記光軸に対する傾斜および前記ビーム光線の前記光軸のまわりの角度配向の両方に伴って変化する固有複屈折を遠紫外線光のビームに対して示す、光学素子の配列を有し、
   前記光学素子が、前記遠紫外線光のビームに対して、前記光軸を中心とした前記ビーム光線の角度配向に対する累積複屈折の感度が低くなるように配置され、
   前記累積複屈折と逆の放射対称複屈折を示す補償光学部品をさらに有し、それによって前記光学素子の配列とともに、前記遠紫外線光のビームの累積複屈折が前記ビーム光線の前記光軸に対する傾斜および前記ビーム光線の前記光軸を中心とする角度配向の両方に関して低減されることを特徴とする、光学的画像形成装置。
2. 前記補償光学部品が、前記光軸に対する前記ビーム光線傾斜に対して特に敏感であるが、前記ビーム光線の前記光軸からのオフセットに対しては比較的鈍感である複屈折効果を示す、角度依存型の補償光学部品であることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
3. 前記オフセット依存型の補償光学部品がテレセントリックスペース内に配置され、前記テレセントリックスペース内において、物点／像点の主光線が前記光軸に対してさまざまにずらされた位置で、前記光軸とほぼ平行に延びることを特徴とする請求項２記載の画像形成装置。
4. 前記角度依存型の補償光学部品の厚さが、前記光軸からの放射方向距離に応じて変更され、前記角度依存型の補償光学部品の厚さ変更によって、前記主光線の前記光軸と平行な方位からのわずかなずれを補償することを特徴とする請求項３記載の画像形成装置。
5. 前記補償光学部品が、前記ビーム光線の前記光軸からの放射方向オフセットに対して特に敏感であるが、前記ビーム光線の前記光軸に対する傾斜に対しては比較的鈍感である複屈折効果を示す、オフセット依存型の補償光学部品であることを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
6. 前記オフセット依存型の補償光学部品が、応力を与えたアモルファス材料から作られることを特徴とする請求項５記載の画像形成装置
7. 前記オフセット依存型の補償光学部品が瞳孔スペース内に配置され、前記瞳孔スペース内において、物点／像点の主光線が前記光軸に対してさまざまに傾けられた方位を通って前記光軸に近づくことを特徴とする請求項５記載の画像形成装置。
8. 前記オフセット依存型の補償光学部品の厚さが、前記光軸からの放射方向の距離に応じて変更されて、前記複屈折補正量を前記瞳孔スペース内の放射方向位置によって変更させることを特徴とする請求項７記載の画像形成装置
9. 前記オフセット依存型の補償光学部品の厚さが、前記光軸を中心とする角度配向に応じて変更されて、前記複屈折補正量を前記瞳孔スペース内の角位置によって変更させることを特徴とする請求項７記載の画像形成装置
10. 前記光学素子が、共通光軸に対する直角からわずかに傾けられた結晶面を有する単結晶から形成され、前記直角からのわずかな傾斜に起因して複屈折の不均衡を生じる少なくとも１つの光学素子を含み、前記補償素子が、前記共通光軸に対する直角からわずかに傾けられた結晶面を有する単結晶から形成され、少なくとも１つの光学素子において生じる複屈折の不均衡を低減することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。