JP2005347775A - Electronic component mounting apparatus and mounting method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子部品搭載機及び搭載方法に関する。 The present invention relates to an electronic component mounting machine and a mounting method.
図4に示されるように、電子部品搭載機100は、テープフィーダ等の電子部品供給装置102により供給される電子部品104を基板106上の所定の位置に搭載するために、先端において前記電子部品104を真空吸着、解放可能である電子部品吸着ノズル108と、この電子部品吸着ノズル108をZ軸方向移動自在、且つ、θ軸廻りに回転自在に支持するヘッド部110と、このヘッド部110をX−Y軸方向移動自在に支持するX−Y駆動部112と、電子部品104のバンプ(端子部)104Aにフラックスを転写するためのフラックス保持装置114と、を備えている。
As shown in FIG. 4, the electronic
電子部品104は、図5に示されるように下面側のバンプ104Aと基板106上のパッド106Aとが一致するように基板106上に搭載される。
As shown in FIG. 5, the
電子部品104を基板106上に確実に接合するために、一般的に電子部品104のバンプ104A又は基板106上のパッド106Aのいずれかにペースト状のフラックスが転写される。
In order to securely bond the
フラックスは腐食性を有するため、接合部のみに限定して必要最小限転写され、接合後洗浄、除去される。 Since the flux is corrosive, it is transferred to the minimum necessary only for the joint, and is washed and removed after the joint.
電子部品のバンプの間隔が比較的大きい場合には、基板上のパッドの間隔も同様に大きく、印刷機等によりパッド106A側にフラックスが転写される。 When the distance between the bumps of the electronic component is relatively large, the distance between the pads on the substrate is also large, and the flux is transferred to the pad 106A side by a printing machine or the like.
これに対して例えば、フリップチップのようにバンプの間隔が微小な電子部品の場合、基板上のパッドの間隔も微小で、印刷機等でパッド側にフラックスを塗布することは困難であるため、フラックス保持装置上で薄く延ばされたフラックスに電子部品のバンプを当接させて、該バンプ側にフラックスを転写している。 On the other hand, for example, in the case of an electronic component with a small bump interval such as a flip chip, the pad interval on the substrate is also small, and it is difficult to apply flux to the pad side with a printing machine or the like. The bump of the electronic component is brought into contact with the flux that is thinly extended on the flux holding device, and the flux is transferred to the bump side.
図6に一般的なフラックス保持装置の構造を示す。 FIG. 6 shows a structure of a general flux holding device.
フラックス保持装置114は、ベース部材116上に回転自在に支持された皿状のフラックス貯留部118と、ブレード120と、このブレード120の上端を支持するように水平に配置されるアーム124と、このアーム124を上下位置調整自在に支持する支柱126と、マイクロメータ128と、を有して構成されている。
The
フラックス貯留部118は円板状の底板118Aと、この底板118Aの外周部から上方に突出するリング状の側壁118Bとからなり、内側にフラックスを貯留すると共に、図示しないアクチュエータにより中心軸線廻りに回転駆動されている。
The
ブレード120は略長方形板状体で、下端が前記底板118A上面に近接して配置されると共に、水平方向の両端は各々、前記中心軸線近傍及び前記側壁118B内周部近傍に配置されている。
The
図7に示されるように、ブレード120における回転方向進行側のフラックスは、ブレード120の下端と底板118Aとの間のクリアランスと等しい一定の厚さに均される一方、反対側のフラックスは、該ブレード120に堰き止められて回転方向進行側のフラックスよりも上方に盛り上がっている。
As shown in FIG. 7, the flux on the rotational direction side of the
アーム124の上下位置を調整することにより、ブレード120と底板118Aとの間のクリアランス、即ち、底板118A上のフラックスの厚さを調整することができるようにされている。
By adjusting the vertical position of the
なお、クリアランスの量はマイクロメータ128により確認することができるようにされている。
The clearance amount can be confirmed by the
一定の厚さに均されたフラックスの上方から電子部品104を降下させて、該電子部品104下面側のバンプ104Aを底板118Aに当接させることにより、該バンプ104Aにフラックスが転写されるようにされている。バンプ104Aの高さよりも底板118A上のフラックスが若干薄くなるようにクリアランスを調整することにより、バンプ104Aのみにフラックスが転写されるようにされている。
The
このように、フラックス保持装置114は、バンプの間隔が微小な電子部品であっても、バンプ部のみに確実にフラックスを転写することができるが、バンプ高さが異なる電子部品にフラックスを転写する場合にクリアランスを調整し直す必要があり、この調整のために基板の生産性が低下するという問題があった。
As described above, the
又、1つの基板上にバンプ高さが異なる2種類以上の電子部品を搭載する場合には、異なるクリアランスに調整された2以上のフラックス保持装置を設置しなければならず、設備コストを増加させるという問題があった。 In addition, when two or more types of electronic components having different bump heights are mounted on one substrate, two or more flux holding devices adjusted to different clearances must be installed, which increases equipment cost. There was a problem.
更に、電子部品にフラックスを転写する時は、一時的にフラックス貯留部118の回転が停止されるが、ブレード120の両側でフラックスの厚さが異なるため、重力によりフラックスが同一の厚さとなるように流動する傾向がある。このため、一旦、クリアランスと等しい厚さとされたフラックスが時間の経過と共にクリアランスよりも厚く盛り上がり、電子部品のバンプ以外の部分にまでフラックスが転写される恐れがある。
Further, when the flux is transferred to the electronic component, the rotation of the
又、フラックス貯留部118内のフラックスは加減速によっても流動するので、フラックス貯留部118を急加速又は急減速することができず、電子部品へのフラックスの転写が短い時間間隔で連続して行われる場合には、各電子部品へのフラックスの転写の間にフラックス貯留部を十分な角度回転させることができないことがある。このため、フラックス貯留部におけるフラックスの転写に使用された部分がブレードを通過することなく、再びフラックスの転写に使用されて、フラックスが電子部品に正確に転写されない恐れがある。
Further, since the flux in the
更に、貯留されたフラックスが常に大気に曝されているため、溶剤成分の蒸発等により、成分の経時変化が進行し易いという問題があった。 Furthermore, since the stored flux is always exposed to the atmosphere, there is a problem that the change of the component with time is likely to proceed due to evaporation of the solvent component.
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、バンプの高さが異なる電子部品への正確、且つ、生産効率の良いフラックスの転写を実現することができる、低コストなフラックス保持装置を備えた電子部品搭載機を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is capable of realizing a low-cost flux holding that can realize accurate and efficient transfer of flux to electronic components having different bump heights. An object of the present invention is to provide an electronic component mounting machine equipped with the apparatus.
本発明は、請求項1のように、移載ヘッドによって基板に電子部品を実装する電子部品搭載機であって、前記移載ヘッドを移動させる移動手段と、この移動手段による移載ヘッドの移動経路に配設され複数の膜厚が異なるフラックス膜を供給するフラックス供給部と、前記移動手段を制御することにより移載ヘッドに保持された電子部品を前記フラックス膜のいずれかに対して選択的に昇降させて電子部品にフラックスを転写する転写制御部とを備えたことを特徴とする電子部品搭載機により、上記目的を達成するものである。 The present invention provides an electronic component mounting machine for mounting an electronic component on a substrate by a transfer head as in claim 1, a moving means for moving the transfer head, and a movement of the transfer head by the moving means A flux supply unit that is provided in the path and supplies a plurality of flux films having different film thicknesses, and an electronic component held by the transfer head by controlling the moving means is selectively selected with respect to any of the flux films. The above object is achieved by an electronic component mounting machine comprising a transfer control unit that moves the flux up and down to transfer the flux to the electronic component.
又、請求項2のように、前記フラックス供給部が、上向き略水平面の摺動面に、底面が略水平面とされた1以上の凹部が形成され、該凹部内においてペースト状のフラックスを保持するフラックス保持部材と、略水平に形成された下端部において前記フラックス保持部材の摺動面に当接する掻取り部材と、該掻取り部材及び前記フラックス保持部材の少なくとも一方を水平方向に駆動するアクチュエータとを備えたことを特徴とするものである。 According to a second aspect of the present invention, the flux supply unit has one or more recesses having a substantially horizontal surface on the sliding surface that faces upward in a substantially horizontal plane, and holds the paste-like flux in the recess. A flux holding member, a scraping member that contacts the sliding surface of the flux holding member at a substantially horizontal lower end, and an actuator that drives at least one of the scraping member and the flux holding member in a horizontal direction It is characterized by comprising.
又、請求項3のように、前記凹部が相互に異なる深さで複数形成されたことを特徴とするものである。 According to a third aspect of the present invention, a plurality of the concave portions are formed at different depths.
本発明は、又、請求項4のように、移載ヘッドによって基板に電子部品を実装する電子部品搭載方法であって、フラックス供給部によって複数の膜厚が異なるフラックス膜を供給する工程と、電子部品を保持した前記移載ヘッドを前記フラックス供給部に移動させて移載ヘッドに保持された電子部品を前記フラックス膜のいずれかに対して選択的に昇降させて電子部品にフラックスを転写する工程と、フラックスが転写された電子部品を移載ヘッドによって基板に移送搭載する工程とを含むことを特徴とする電子部品搭載方法を提供するものである。 According to another aspect of the present invention, there is provided an electronic component mounting method for mounting an electronic component on a substrate by a transfer head as in claim 4, wherein the flux supply unit supplies a plurality of flux films having different film thicknesses; The transfer head holding the electronic component is moved to the flux supply unit, and the electronic component held by the transfer head is selectively raised and lowered with respect to one of the flux films to transfer the flux to the electronic component. The present invention provides an electronic component mounting method comprising a step and a step of transporting and mounting an electronic component onto which a flux has been transferred onto a substrate by a transfer head.
本発明によれば、バンプの高さが異なる電子部品へのフラックスの転写が正確、且つ、生産効率良く、1台のフラックス保持装置により低コストで実現されるという優れた効果がもたらされる。 According to the present invention, it is possible to achieve an excellent effect that the transfer of flux to electronic components having different bump heights can be accurately and efficiently produced by a single flux holding device at a low cost.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1〜3に示されるように、本発明の実施の形態に係る電子部品搭載機のフラックス保持装置10は、上向き略水平面の摺動面12Aに、底面14Aが略水平面とされた凹部14が形成され、該凹部14内においてペースト状のフラックスを保持するフラックス保持部材12と、略水平に形成された下端部16Aにおいて前記フラックス保持部材12の摺動面12Aに当接する掻取り部材16と、前記フラックス保持部材12を回転駆動するアクチュエータ18と、が設けられ、前記掻取り部材16と前記フラックス保持部材12とが水平方向に相対的に摺動することにより、前記摺動面12A上に過剰に貯留される補充用のフラックスが前記掻取り部材16に掻取られると共に、該掻取られたフラックスが非充填状態の前記凹部14内に充填されて、前記凹部14内のフラックスが該凹部14の深さ14Bと等しい厚さに保持されることを特徴としている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the flux holding device 10 of the electronic component mounting machine according to the embodiment of the present invention has a sliding surface 12 </ b> A having an upward substantially horizontal plane, and a
なお、本発明に係る電子部品搭載機のフラックス保持装置は、フラックス保持装置を除く電子部品搭載機の他の部分の構成に特に制約されることなく従来の種々の電子部品搭載機に適用可能であるので、電子部品搭載機におけるフラックス保持装置を除く部分についての説明は省略する。 In addition, the flux holding device of the electronic component mounting machine according to the present invention can be applied to various conventional electronic component mounting machines without any particular restrictions on the configuration of other parts of the electronic component mounting machine excluding the flux holding device. Therefore, the description of the part excluding the flux holding device in the electronic component mounting machine is omitted.
前記フラックス保持部材12は略円板状体で略水平に配置されるとともに、中心軸廻りに回転自在にベース部材20に軸支されている。
The flux holding member 12 is a substantially disk-like body and is disposed substantially horizontally and is pivotally supported by the
又、該フラックス保持部材12の下面側には歯車12Bが同軸的に取付けられ、該フラックス保持部材12と一体で回転するようにされている。
A
前記凹部14は、前記中心軸から離間して円周方向略等間隔で、複数(本実施の形態では4個)形成され、前記フラックス保持部材12の回転と共に円周方向に回転移動するようにされている。又、これら凹部14は前記深さ14Bが相互に異なるように形成されている。
A plurality of (four in the present embodiment) the
前記掻取り部材16は、鉛直方向の円筒状の側壁16Bを有し、該側壁16Bの下端が前記下端部16Aとされ、該下端部16Aにおいて前記凹部14の回転軌跡上の前記摺動面12Aに当接するように、ブラケット22を介して前記ベース部材20に固定設置されて、前記側壁16Bの内側に補充用のフラックスを貯留している。
The
前記フラックス保持部材12の中心軸を挟んで、該掻取り部材16の設置位置と対称の位置がフラックス転写位置とされている。
A position symmetrical to the installation position of the
又、前記掻取り部材16は、上端側が天板16Cにより閉塞されて、内側に貯留する前記補充用のフラックスの上方への外側からの空気の供給が制限されている。
Further, the
なお、天板16Cにはプラグ16Dが着脱自在に取付けられ、このプラグ16Dを取り外すことにより、該プラグ16Dの取付孔から前記掻取り部材16の内側にフラックスを補給可能とされている。
A
更に、前記掻取り部材16の内側には格子状の絞り部材24が設けられ、該掻取り部材16の内側における補充用のフラックスの流動が制限されている。
Further, a lattice-shaped throttle member 24 is provided inside the
前記フラックス保持部材12の前記摺動面12Aにおける、前記掻取り部材16の摺動軌跡(前記フラックス保持部材12から見た前記掻取り部材16の相対的な摺動軌跡)の外側及び内側には、各々該摺動軌跡に沿ってリング状の回収溝25A及び25Bが形成されている。
On the outside and inside of the sliding locus of the scraping member 16 (relative sliding locus of the
前記アクチュエータ18は電動モータで、前記ベース部材20に固定設置されている。該アクチュエータ18の出力軸には歯車18Aが取付けられ、該出力軸と一体で回転するようにされている。
The actuator 18 is an electric motor and is fixedly installed on the
この歯車18Aは前記フラックス保持部材12の前記歯車12Bと噛み合い係合し、これら歯車18A及び12Bを介して前記アクチュエータ18が前記フラックス保持部材12を回転駆動するようにされている。
The
前記アクチュエータ18には第1の制御手段26が結線されている。 A first control means 26 is connected to the actuator 18.
前記フラックス保持部材12の外周近傍、且つ、前記摺動面12Aの上方近傍にはセンサ28が設けられている。
A
このセンサ28は一対の投光器28Aと受光器28Bとからなる透過型光センサで、前記投光器28Aから前記受光器28Bへの投光が、前記フラックス転写位置に位置する前記凹部14の上方近傍を通るように配置され、ブラケット28Cを介して前記ベース部材20に固定されている。
The
これにより、前記センサ28は前記フラックス転写位置の前記凹部14に接近・離間する電子部品30及びこの電子部品30を真空吸着する電子部品吸着ノズル32の少なくとも一方を検知可能とされている。前記受光器28B及び前記アクチュエータ18には第2の制御手段34が結線されている。
Thereby, the
なお、図中の符号30Aは前記電子部品30の下面側に突出して形成されたバンプを示している。
次に、前記フラックス保持装置10の作用について説明する。 Next, the operation of the flux holding device 10 will be described.
前記アクチュエータ18が前記フラックス保持部材12を回転駆動することにより、前記摺動面12Aと前記掻取り部材16の下端部16Aとが摺動しつつ、前記凹部14が回転移動して前記掻取り部材16の下を通過する。
When the actuator 18 rotationally drives the flux holding member 12, the sliding surface 12 </ b> A and the
前記凹部14が非充填状態(空隙部を有する状態)の場合、前記掻取り部材16内に貯留された補充用のフラックスが重力により前記凹部14内に流動して充填される。
When the
又、前記掻取り部材16の下端部16Aが前記摺動面12Aに当接して摺動しているので、該摺動面12Aよりも上方のフラックスは該下端部16Aに掻取られて、前記掻取り部材16内に残留する。
Further, since the
この際、前記凹部14内へフラックスが十分に充填され、且つ、該凹部14内のフラックスが粘性により、該凹部14よりも上方のフラックスと共に掻取られることがない範囲で、前記フラックス保持部材12と前記掻取り部材16との摺動速度が最速となるように、前記第1の制御手段26が前記アクチュエータ18を駆動・制御する。
At this time, the flux holding member 12 is sufficiently filled with the flux in the
これにより、前記凹部14内のフラックスの厚さは、該凹部14の深さ14Bと等しい厚さに保持される。
Thereby, the thickness of the flux in the
又、前記フラックス保持部材12の回転速度が速いので、後述するフラックス転写作業の作業効率が良い。 Further, since the rotation speed of the flux holding member 12 is high, the work efficiency of the flux transfer work described later is good.
更に、補充用のフラックスは、前記掻取り部材16内に封止・貯留されているので、溶剤等の蒸発が微量に制限され、成分の経時変化が少ない。
Furthermore, since the replenishing flux is sealed and stored in the scraping
又、前記掻取り部材16は上端側が閉塞されて、内側に貯留する補充用のフラックスの上方への外側からの空気の供給が制限されているので、補充用のフラックスが減少すると、該補充用のフラックスの上方に負圧が発生する。
Further, the upper end side of the scraping
これにより、補充用のフラックスの下方への流動が制限されるので、前記掻取り部材16の下端部16Aと前記フラックス保持部材12の摺動面12Aとの間からの補充用のフラックスの流出も制限されている。
As a result, the downward flow of the replenishing flux is restricted, so that the replenishing flux flows out from between the
更に、前記絞り部材24も、該掻取り部材16の内側における補充用のフラックスの流動を制限しているので、この絞り部材24によっても、補充用のフラックスの流出は制限されている。
Further, since the throttle member 24 also restricts the flow of the supplementary flux inside the scraping
即ち、前記フラックス保持装置10は、必要十分な量のフラックスを前記凹部14内に充填して該凹部14内のフラックスの厚さを一定に保持することができると共に、補充用のフラックスを前記掻取り部材16内に封止して経時変化を制限しているので、フラックスの消費効率が良い。
That is, the flux holding device 10 can fill the
一方、微量の補充用のフラックスが、前記フラックス保持部材12の(前記凹部14を除く)前記摺動面12A上に流出した場合には、この流出したフラックスを前記掻取り部材16が下端部16Aの外周面において掻取りつつ前記回収溝25A及び25Bに案内する。
On the other hand, when a small amount of replenishing flux flows out on the sliding
これら回収溝25A及び25Bが流出したフラックスを回収・貯留するので、流出したフラックスが該凹部14上に流動することがない。
Since the fluxes that have flowed out of these
即ち、前記凹部14内のフラックスは該凹部14の深さ14Bと等しい厚さに保持されたまま、前記フラックス転写位置まで回転移動する。
That is, the flux in the
次に前記フラックス保持装置10により、前記電子部品30にフラックスを転写する作用について説明する。
Next, the action of transferring the flux to the
前記電子部品30にフラックスを転写するときは、該電子部品30に適した前記深さ14Bの前記凹部14を選択し、前記アクチュエータ18により該凹部14を前記フラックス転写位置まで回転移動させて停止させる。
When transferring the flux to the
ここで、前記電子部品30に適した前記深さ14Bとは、前記電子部品30の下面側のバンプ(端子)30Aの高さよりも若干浅い深さをいうものである。
Here, the
この状態で、前記フラックス転写位置の上方から前記電子部品30及び前記電子部品吸着ノズル32を下降させて、前記バンプ30Aの下端を前記凹部14の底面に当接させる。
In this state, the
これにより、図3に示されるように前記バンプ30Aが前記凹部14内のフラックス内に入り込むが、該凹部14内のフラックスは該凹部14の深さ14Bと等しい厚さとされているので、前記バンプ30Aの上端近傍はフラックス内に入り込むことはない。
As a result, as shown in FIG. 3, the
又、この際前記投光器28Aから投光された光は前記電子部品30及び前記電子部品吸着ノズル32の少なくとも一方に遮断されて、前記受光器28Bに到達しない。
At this time, the light projected from the
これにより、前記第2の制御手段34は、前記電子部品30が前記フラックス転写位置の前記凹部14に接近していることを検知し、前記アクチュエータ18を停止状態に保持する。
Accordingly, the second control unit 34 detects that the
次に、前記電子部品30及び前記電子部品吸着ノズル32を上昇させると、フラックスが粘性により前記電子部品30のバンプ30Aに転写される。
Next, when the
前記凹部14内のフラックスは、該凹部14の深さ14Bと等しい厚さで安定しているので、前記電子部品30のバンプ30Aのみに正確にフラックスが転写される。
Since the flux in the
即ち、フラックスが前記電子部品30のバンプ30Aの間等に誤って転写されて、前記電子部品30における前記バンプ30A以外の部分及び前記電子部品30が搭載される基板上のパッド以外の部分の腐食等の不具合を生じさせることがない。
That is, the flux is erroneously transferred between the
なお、以上のフラックス転写作業が行われている間、前記フラックス転写位置と反対側に位置する前記凹部14は、前記掻取り部材16の下に位置しているため、該掻取り部材16により該凹部14内のフラックスは空気に曝されることなく封止され、成分の経時変化が制限されている。
During the above-described flux transfer operation, the
前記電子部品30及び前記電子部品吸着ノズル32の上昇により、前記投光器28Aからの投光が再び前記受光器28Bに到達する。
As the
これにより前記フラックス転写位置の前記凹部14から前記電子部品30及び前記電子部品吸着ノズル32が離間したことを前記第2の制御手段34が検知し、次のフラックス転写のために前記アクチュエータ18を駆動して前記フラックス保持部材12を回転駆動させる。
As a result, the second control means 34 detects that the
例えば、前記電子部品30のバンプ30Aと同等の高さのバンプを有する電子部品にフラックスを転写する場合には、前記フラックス保持部材12を1回転させる。
For example, when the flux is transferred to an electronic component having a bump having the same height as the
前記フラックス転写位置の前記凹部14は、内部に保持したフラックスの一部が前記電子部品30に転写されて非充填状態となっているが、前記フラックス保持部材12の回転により、前記掻取り部材16の下を通過し、フラックスを充填されて再び前記フラックス転写位置に戻る。これにより、上記と同様に電子部品のバンプに正確にフラックスを転写することができる。
The
又、前記電子部品30のバンプ30Aと異なる高さのバンプを有する電子部品にフラックスを転写する場合には、該バンプの高さに適した前記深さ14Bの前記凹部14を選択し、前記フラックス保持部材12を1/4回転又は1/2回転させ、前記フラックス転写位置まで回転移動させて、上記と同様にフラックスの転写作業を行う。
When transferring the flux to an electronic component having a bump having a height different from that of the
なお、前記フラックス保持部材12の回転数は、前記アクチュエータ18、前記歯車12B及び18Aのいずれかにロータリエンコーダを装着する等して容易に検知することができる。この検知した回転数に基づいて前記アクチュエータ18を駆動・制御することにより、任意の前記凹部14を前記フラックス転写位置に停止させることができる。
The rotation speed of the flux holding member 12 can be easily detected by attaching a rotary encoder to any one of the actuator 18 and the
このように、前記フラックス保持装置10は、バンプの高さが異なる複数の種類の電子部品へのフラックスの転写を1台の装置で容易、且つ、迅速に実現することができ、低コストで生産効率が良い。 As described above, the flux holding device 10 can easily and quickly realize transfer of flux to a plurality of types of electronic components having different bump heights, and can be produced at low cost. Efficiency is good.
更に、前記凹部14が前記掻取り部材16の下を通過することにより、該凹部14内のフラックスは該凹部14の深さ14Bと等しい厚さにされ、該凹部14内のフラックスの上面は前記摺動面12Aと同じ高さに均されるので、重力により該凹部14内のフラックスが流動することがない。
Further, when the
即ち、前記凹部14内のフラックスは、該凹部14の深さ14Bと等しい厚さに正確に保持されて、常に正確なフラックスの転写を実現することができ、前記フラックス保持装置10は信頼性が高い。
That is, the flux in the
更に、フラックスが比較的小さな容積の前記凹部14内に保持されているため、該凹部14を比較的急激に加減速回転しても、該凹部14内のフラックスは流動し難い。
Further, since the flux is held in the
このため、前記凹部14内のフラックスの厚さを一定に保持しつつ、前記フラックス保持部材12を短い時間間隔で回転・停止させることができる。これにより、短い時間間隔で電子部品に連続してフラックスを転写する場合であっても、前記凹部14を前記掻取り部材16と前記フラックス転写位置との間で連続して回転移動させて、正確なフラックスの転写を実現することができる。即ち、バンプ高さが異なる電子部品のみならず、バンプ高さが等しい電子部品にフラックスを転写する場合も、前記フラックス保持装置10の生産効率は良い。
For this reason, the flux holding member 12 can be rotated and stopped at short time intervals while keeping the thickness of the flux in the
又、前記センサ28により前記フラックス転写位置の前記凹部14への電子部品の接近・離間を検知して、前記第2の制御手段34が迅速に前記アクチュエータ18を駆動することができるので、前記凹部に電子部品が接近しているときに限定して前記フラックス保持部材16の回転を停止させて該フラックス保持部材16の停止時間を最小限に抑えることができる。すなわち、これらセンサ28、第2の制御手段34も前記フラックス保持装置10の生産効率を高めている。
Further, the
又、前記フラックス保持部材12は略円板形状とされ、このフラックス保持部材12の回転と共に前記凹部14が回転移動するようにされているので、該凹部14の移動とともに前記フラックス保持部材12が水平方向に突出することがなく、前記フラックス保持装置10はコンパクトであるとともに簡単な構造で低コストである。
Further, the flux holding member 12 has a substantially disc shape, and the
なお、本実施の形態の例において前記フラックス保持装置10は、前記フラックス保持部材12が回転駆動され、前記掻取り部材16が固定設置されて両者が摺動する構成であるが、本発明はこれに限定されるものではなく、フラックス保持部材が固定設置され、掻取り部材が回転移動して両者が摺動するフラックス保持装置としてもよく、両者が回転移動して相互に摺動するフラックス保持装置としてもよい。
In the example of the present embodiment, the flux holding device 10 has a configuration in which the flux holding member 12 is rotationally driven and the scraping
更に、フラックス保持部材と掻取り部材とが水平方向に相対的に直線運動して両者が摺動するフラックス保持装置としてもよい。 Further, a flux holding device in which the flux holding member and the scraping member relatively move linearly in the horizontal direction and slide both may be used.
更に又、本実施の形態の例において前記フラックス転写位置は定位置とされているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、凹部の位置を固定し、各凹部に電子部品を移動させてフラックスの転写を行うようにしてもよい。 Furthermore, in the example of the present embodiment, the flux transfer position is a fixed position, but the present invention is not limited to this. For example, the position of the recess is fixed, and an electronic component is placed in each recess. It may be moved to transfer the flux.
又、本実施の形態の例において、前記掻取り部材16は円筒状形の側壁16Bを備えているが、本発明はこれに限定されるものではなく、中空角形の側壁又は中空半球状の側壁を備えて、補充用のフラックスを水平方向から取囲む掻取り部材としてもよい。
In the example of the present embodiment, the scraping
更に、本実施の形態の例において、前記掻取り部材16の内側には格子状の前記絞り部材24が設けられているが、本発明はこれに限定されるものではなく、網目状又はスポンジ状の絞り部材としてもよい。
Furthermore, in the example of the present embodiment, the lattice-shaped diaphragm member 24 is provided inside the scraping
更に又、フラックスの粘性が強く、補充用のフラックス外部へ流出し難い場合には、絞り部材を設けることなく側壁のみでフラックスの流出を制限する掻取り部材としてもよい。 Furthermore, when the flux is highly viscous and difficult to flow out of the replenishing flux, a scraping member that limits the flux outflow only by the side wall without providing a throttle member may be used.
又、本実施の形態の例において、前記掻取り部材16の上端側は天板16Cで閉塞されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、補充用のフラックスが外部へ流出し難く、且つ、フラックスの成分の経時変化が問題とされない場合には、上端側が閉塞されることなく内側が大気に解放された掻取り部材としてもよい。
In the example of the present embodiment, the upper end side of the scraping
更に、フラックスの成分の経時変化が問題とされない場合には、例えば一枚の板状体からなり、補充用のフラックスを貯留することなく該補充用のフラックスを掻取ると共に、凹部に充填する掻取り部材としてもよい。 Further, when the change of the flux component with time is not a problem, it is made of, for example, a single plate, scrapes the replenishing flux without storing the replenishing flux, and fills the recess. It may be a take-up member.
一方、フラックスの成分の経時変化が特に問題とされる場合には、補充用のフラックスを封止・貯留する掻取り部材を複数設け、例えば一の前記凹部14が前記フラックス転写位置に停止しているときに、他の全ての凹部14の上にこれら該掻取り部材が配置されるようにしてもよい。
On the other hand, when the change of the flux component with time is particularly problematic, a plurality of scraping members for sealing and storing the supplementary flux are provided, for example, one of the
又、本実施の形態の例において、前記フラックス保持部材12に前記凹部14が相互に異なる深さで複数形成されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、底面が複数段の階段状とされた穴形状及び溝形状のいずれかの一の凹部をフラックス保持部材に形成してもよい。
In the example of the present embodiment, a plurality of the
一方、バンプの高さが等しい電子部品に連続してフラックスを転写する場合には、等しい深さの凹部をフラックス保持部材に複数形成してもよい。 On the other hand, when the flux is continuously transferred to electronic parts having the same bump height, a plurality of recesses having the same depth may be formed on the flux holding member.
このようにすることで、フラックス保持部材を1回転よりも小さな回転角で繰り返し回転・停止させて、連続してフラックス転写作業を行うことができるので生産効率がよい。 By doing so, the flux holding member can be repeatedly rotated and stopped at a rotation angle smaller than one rotation, and the flux transfer operation can be continuously performed, so that the production efficiency is good.
更に、深さが一定とされた溝形状の一の凹部をフラックス保持部材に形成してもよい。 Further, a groove-shaped recess having a constant depth may be formed in the flux holding member.
又、フラックス転写作業が比較的長い時間間隔で行われる場合には、深さが一定とされた穴形状の一の凹部のみを形成してもよい。 Further, when the flux transfer operation is performed at a relatively long time interval, only one concave portion having a constant hole shape may be formed.
又、本実施の形態の側において前記凹部14は前記電子部品30よりも若干大きく図1等に図示されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、該凹部14を円周方向に更に拡張してもよい。
Further, in the present embodiment, the
このようにすることで、該凹部14が前記フラックス転写位置から若干ずれて停止した場合であっても該凹部14内に前記電子部品30のバンプ30Aを確実に降下させて、フラックスを転写することができる。
By doing so, even when the
なお、発明において前記凹部の底面は略水平面とされているが、ここでいう略水平面とは、上記のように正確なフラックスの転写が行われる範囲内の、微少な匂配及び凹凸を有する平面を含むことを意味するものである。 In the present invention, the bottom surface of the concave portion is a substantially horizontal plane, but the substantially horizontal plane here is a plane having minute odor distribution and unevenness within a range where accurate flux transfer is performed as described above. It is meant to include.
すなわち、このような匂配及び凹凸によりフラックスの転写の際、電子部品のバンプが前記凹部の底面に当接すると、該電子部品が微少量傾き得るが、一部のバンプにフラックスが転写されなかったり、一部のバンプの最上端にまでフラックスが転写されることがなく、正確なフラックスの転写が行われる範囲内であれば、かかる微少量の電子部品の傾きを生じさせるような匂配及び凹凸の存在を許容することを意味するものである。 That is, when flux is transferred due to such an odor and unevenness, if the bump of the electronic component comes into contact with the bottom surface of the recess, the electronic component may be slightly inclined, but the flux is not transferred to some of the bumps. If the flux is not transferred to the top end of some of the bumps and is within the range where accurate flux transfer is performed, an odor distribution that causes such a slight amount of electronic component inclination and This means that the presence of irregularities is allowed.
又、本実施の形態の例において、前記フラックス保持部材12には2つの回収溝25A及び25Bが形成されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、前記掻取り部材16から補充用のフラックスが流出する方向が、いずれか一方の回収溝の方とに片寄っている場合には、該一方の回収溝のみを形成してもよい。
In the example of the present embodiment, the flux holding member 12 has two
この場合、一般的には遠心力により流出したフラックスは径方向外側に流動しやすいため、外側の回収溝25Aを形成することが好ましい。
In this case, since the flux that has flowed out due to centrifugal force tends to flow radially outward, it is preferable to form the
更に、前記掻取り部材から補充用のフラックスが流出しない場合、又は流出量が極めて微量である場合には、回収溝が形成されることなく、凹部のみが形成されたフラックス保持部材としてもよい。 Furthermore, when the supplementary flux does not flow out from the scraping member, or when the amount of outflow is very small, a flux holding member in which only a recess is formed without forming a recovery groove may be used.
又、本実施の形態の例において、前記センサ28は透過型光センサとされているが、本発明はこれに限定されるものではなく、反射型の光センサとしてもよい。
In the example of the present embodiment, the
10…フラックス保持装置
12…フラックス保持部材
12A…摺動面
14…凹部
14A…底面
14B…深さ
16…掻取り部材
16A…下端部
18…アクチュエータ
26…第1の制御手段
28…センサ
30…電子部品
32…電子部品吸着ノズル(移載ヘッド)
34…第2の制御手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Flux holding device 12 ...
34 ... Second control means
Claims (4)
前記フラックス供給部が、上向き略水平面の摺動面に、底面が略水平面とされた1以上の凹部が形成され、該凹部内においてペースト状のフラックスを保持するフラックス保持部材と、略水平に形成された下端部において前記フラックス保持部材の摺動面に当接する掻取り部材と、該掻取り部材及び前記フラックス保持部材の少なくとも一方を水平方向に駆動するアクチュエータとを備えたことを特徴とする電子部品搭載機。 In claim 1,
The flux supply part is formed substantially horizontally with a flux holding member for holding a paste-like flux in the recess, in which one or more recesses having a bottom surface in a substantially horizontal plane are formed on a sliding surface in an approximately horizontal plane upward. An electronic device comprising: a scraping member that contacts a sliding surface of the flux holding member at a lower end portion; and an actuator that drives at least one of the scraping member and the flux holding member in a horizontal direction. Parts mounting machine.
前記凹部が相互に異なる深さで複数形成されたことを特徴とする電子部品搭載機。 In claim 2,
An electronic component mounting machine, wherein a plurality of the recesses are formed at different depths.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005241222A JP2005347775A (en) | 2005-08-23 | 2005-08-23 | Electronic component mounting apparatus and mounting method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005241222A JP2005347775A (en) | 2005-08-23 | 2005-08-23 | Electronic component mounting apparatus and mounting method |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001016157A Division JP4636700B2 (en) | 2001-01-24 | 2001-01-24 | Flux holding device for electronic component mounting machine |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005347775A true JP2005347775A (en) | 2005-12-15 |
Family
ID=35499801
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005241222A Pending JP2005347775A (en) | 2005-08-23 | 2005-08-23 | Electronic component mounting apparatus and mounting method |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005347775A (en) |
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