JP2005332900A - 半導体ウエハ保護方法及び該保護方法に用いる半導体ウエハ表面保護用粘着フィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材フィルムの少なくとも片表面に粘着剤層が設けられた半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムであって、基材フィルム層と粘着剤層の間に熱分解性のヒドラジド化合物を含有する膨張層を有することを特徴とする半導体ウエハ表面保護用粘着フィルム。
Description
具体的には、ウエハ表面に半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムをその粘着剤層を介して直接貼着してウエハ表面を保護した後、該ウエハの他の面(以下、ウエハ裏面という)を研削する。研削が完了した後、該粘着フィルムはウエハ表面より剥離される。
このような状況の中で、裏面研削時にはウエハ表面の凹部に良好に密着して水及び研削屑の浸入によるウエハの破損及びウエハ表面の汚染を起こすことがなく、それでいて剥離時には適正な粘着力で剥離できウエハの破損も発生せず、且つ、新たな設備投資をすることなく従来の工程のままで使用することが可能な半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムが求められていた。
本発明は、基材フィルムの片表面に加熱により気体を発生することができるヒドラジド化合物を含有する膨張層を有し、その上に、非熱膨張性の粘着剤層が形成された半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルム、及び該粘着フィルムを使用する半導体ウエハ裏面研削方法である。
ヒドラジド化合物の使用量は、発生する分解ガス量や、接着力の低減性などにより適宜決定してよい。一般には、上記した結合剤が粘着剤の場合には、そのベースポリマー100重量部あたり、1〜100重量部、特に好ましくは、5〜30重量部である。
本発明に用いる基材フィルムとしては、合成樹脂をフィルム状に成型加工したフィルムを用いる。基材フィルムは単層体であっても、また、積層体であってもよい。基材フィルムの厚みは10〜500μmが好ましい。より好ましくは70〜500μmである。原料樹脂としては、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂が挙げられ、上記基材フィルムの融点が200℃以上である場合は、加熱による樹脂の融解が生ぜず、半導体ウエハと基材とを円滑に剥離することができるので好ましい。
本発明に係わる粘着フィルムの粘着剤層を形成する粘着剤は、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤が好ましい。その厚みは3〜100μmであることが好ましい。粘着フィルム剥離時には、半導体ウエハ表面を汚染しないことが好ましい。
前記粘着剤層の粘着剤塗布液を基材フィルムの膨張層表面に塗布して粘着剤層を形成する場合は、環境に起因する汚染等から保護するために、塗布した粘着剤層の表面に剥離フィルムを貼着することが好ましい。他方、剥離フィルムの片表面に粘着剤塗布液を塗布して粘着剤層を形成する場合は、該粘着剤層を基材フィルムの膨張層表面へ転写する方法が採られる。基材フィルム及び剥離フィルムのいずれの片表面に粘着剤塗布液を塗布するかは、基材フィルム及び剥離フィルムの耐熱性、半導体ウエハ表面の汚染性を考慮して決める。例えば、剥離フィルムの耐熱性が基材フィルムのそれより優れている場合は、剥離フィルムの表面に粘着剤層を設けた後、基材フィルムの膨張層表面へ転写することが好ましい。耐熱性が同等または基材フィルムが優れている場合は、基材フィルムの膨張層表面に粘着剤層を設け、更に剥離フィルムを貼着することが好ましい。
基材フィルムの膨張層表面または剥離フィルムの片表面に粘着剤塗布液を塗布する方法としては、従来公知の塗布方法、例えばロールコーター法、リバースロールコーター法、グラビアロール法、バーコート法、コンマコーター法、ダイコーター法等が採用できる。剥離フィルムの片表面に塗布する場合には、塗布された粘着剤の乾燥条件には特に制限はないが、一般的には、80〜200℃の温度範囲において10秒〜10分間乾燥することが好ましい。更に好ましくは、80〜170℃において15秒〜5分間乾燥する。基材フィルムの膨張層表面に塗布する場合には、ヒドラジド化合物の熱分解温度以下の温度で乾燥する。
架橋剤と粘着剤との架橋反応を十分に促進させるために、粘着剤塗布液の乾燥が終了した後に、粘着フィルムを膨張層の熱分解温度以下、一般的には40〜80℃で、5〜300時間程度加熱してもよい。
加熱時間は、発泡開始時間以上であり、発泡終了後速やかに停止するのが好ましい。
最後に、半導体ウエハから粘着フィルムを剥離する。上記加熱操作により、粘着剤層の粘着力が低下しているため、剥離時にウエハを破損することなく、容易に半導体ウエハから粘着フィルムを剥離することができる。
下記に規定した条件以外は、全てJIS Z−0237−1991に準じて測定する。23℃の雰囲気下において、実施例または比較例で得られた粘着フィルムをその粘着剤層を介して、5cm×20cmのSUS304−BA板(JIS G−4305−1991規定)の表面に貼着し、60分放置する。試料の一端を挟持し、剥離角度180度、剥離速度300mm/min.でSUS304−BA板の表面から試料を剥離する際の応力を測定し、g/25mmの粘着力に換算する。
下記に規定した条件以外は、全てJIS Z−0237−1991に準じて測定する。23℃の雰囲気下において、実施例または比較例で得られた粘着フィルムをその粘着剤層を介して、5cm×20cmのSUS304−BA板(JIS G−4305−1991規定)の表面に貼着し、60分放置する。その後、200℃に加熱したプレート上に2分間放置し、室温まで冷却する。試料の一端を挟持し、剥離角度180度、剥離速度300mm/min.でSUS304−BA板の表面から試料を剥離する際の応力を測定し、g/25mmの粘着力に換算する。
23℃の雰囲気下において、実施例または比較例で得られた粘着フィルムをその粘着剤層を介して、鏡面処理した4吋シリコンウエハの表面に貼着し、60分放置後、前記の粘着力測定試験に準じ剥離した場合におけるウエハ上のパーティクル数をレーザー表面検査装置にて調べた。
半導体ウエハ裏面研削工程後、粘着フィルムを貼り付けた状態で、半導体ウエハを180℃、2分加熱し、表面保護用粘着フィルム剥離工程における半導体ウエハの破損枚数を示す。
<膨張層の調製>
アクリル酸2−エチルヘキシル21重量部、アクリル酸エチル48重量部、アクリル酸メチル21重量部、アクリル酸2−ヒドロキシエチル9重量部、及び重合開始剤としてベンゾイルパーオキサイド0.5重量部を混合し、トルエン55重量部、酢酸エチル50重量部が入った窒素置換フラスコ中に攪拌しながら80℃で5時間かけて滴下し、さらに5時間攪拌して反応させ、アクリル酸エステル共重合体溶液を得た。この溶液に、共重合体(固形分)100重量部に対してイソシアネート系架橋剤{三井武田ケミカル(株)製、商品名:オレスターP49−75S}0.2重量部を配合したアクリル系粘着剤AにP―トルエンスルホニルヒドラジドを20部配合し、ロールコーターを用いて、上記粘着剤塗布液をポリプロピレンフィルム(剥離フィルム、厚み:50μm)に塗布し、120℃で2分間乾燥後、厚み40μmの膨張層を形成し、これに片面にコロナ処理を施したPETフィルムにコロナ処理面を貼り合わせ押圧して、膨張層を転写させた。
<粘着剤層の調製>
重合反応機に脱イオン水135重量部、重合開始剤として4,4’−アゾビス−4−シアノバレリックアシッド〔大塚化学(株)製、商品名:ACVA〕を0.5重量部、アクリル酸ブチル74.25重量部、メタクリル酸メチル13重量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル9重量部、メタクリル酸2重量部、アクリルアミド1重量部、水溶性コモノマーとしてポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル(エチレンオキサイドの付加モル数の平均値;約20)の硫酸エステルのアンモニウム塩のベンゼン環に重合性の1−プロペニル基を導入したもの〔第一工業製薬(株)製:商品名:アクラロンHS−20〕0.75重量部を添加し、攪拌下で70℃において9時間乳化重合を実施し、アクリル樹脂系水エマルションを得た。これを14重量%アンモニア水で中和し、固形分40重量%を含有する粘着剤ポリマーエマルション(粘着剤主剤)を得た。得られた粘着剤主剤エマルション100重量部(粘着剤ポリマー濃度:40重量%)を採取し、さらに14重量%アンモニア水を加えてpH9.3に調整した。次いで、アジリジン系架橋剤〔(株)日本触媒製、商品名:ケミタイトPZ−33〕2.5重量部、及びジエチレングリコールモノブチルエーテル5重量部を添加して、粘着剤塗布液を調製し、ロールコーターを用いて、上記粘着剤塗布液をポリプロピレンフィルム(剥離フィルム、厚み:50μm)に塗布し、120℃で2分間乾燥して厚み10μmの粘着剤層を形成し、これに前記膨張層を塗布したPETフィルムに粘着剤層を転写後、60℃において48時間加熱した後、室温まで冷却することにより半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムを製造した。測定結果を〔表1〕に示す。
熱膨張層の上に粘着層を設けないほかは実施例1と同一の方法にて半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムを作製した。得られた粘着フィルムの粘着特性を実施例と同様の手法を用いて評価した。測定および評価結果を〔表1〕に示す。
実施例1と同一のアクリル系粘着剤Aを用い、それに、ヒドラジド化合物を配合せず、単なる粘着剤を形成した以外は、実施例1と同一の方法にて半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムを作製した。得られた粘着フィルムの粘着特性を実施例と同様の手法を用いて評価した。測定および評価結果を〔表1〕に示す。
Claims (2)
- 基材フィルムの少なくとも片表面に粘着剤層が設けられた半導体ウエハ裏面研削用粘着フィルムであって、基材フィルム層と粘着剤層の間に熱分解性のヒドラジド化合物を含有する膨張層を有することを特徴とする半導体ウエハ表面保護用粘着フィルム。
- 半導体ウエハの回路形成面に請求項1に記載の半導体ウエハ表面保護用粘着フィルムを貼着する第一工程、半導体ウエハの回路非形成面を加工する第二工程を順次実施し、次いで、半導体ウエハ表面保護用粘着フィルムを剥離することなしに、該粘着フィルムの粘着剤層を加熱し膨張層を膨張させ粘着力を低下させる第三工程及び、該粘着フィルムを剥離する第四工程を実施することを特徴とする半導体ウエハの製造工程における半導体のウエハ保護方法。
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JP2004148612A JP2005332900A (ja) | 2004-05-19 | 2004-05-19 | 半導体ウエハ保護方法及び該保護方法に用いる半導体ウエハ表面保護用粘着フィルム |
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