JP2005313026A - 流体素子 - Google Patents
流体素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005313026A JP2005313026A JP2004131569A JP2004131569A JP2005313026A JP 2005313026 A JP2005313026 A JP 2005313026A JP 2004131569 A JP2004131569 A JP 2004131569A JP 2004131569 A JP2004131569 A JP 2004131569A JP 2005313026 A JP2005313026 A JP 2005313026A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluid
- heating means
- flow path
- heating
- supercritical state
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L3/00—Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
- B01L3/50—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
- B01L3/502—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures
- B01L3/5027—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L2200/00—Solutions for specific problems relating to chemical or physical laboratory apparatus
- B01L2200/08—Ergonomic or safety aspects of handling devices
- B01L2200/082—Handling hazardous material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L2300/00—Additional constructional details
- B01L2300/18—Means for temperature control
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L2300/00—Additional constructional details
- B01L2300/18—Means for temperature control
- B01L2300/1855—Means for temperature control using phase changes in a medium
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T436/00—Chemistry: analytical and immunological testing
- Y10T436/25—Chemistry: analytical and immunological testing including sample preparation
- Y10T436/2575—Volumetric liquid transfer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Hematology (AREA)
- Clinical Laboratory Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
【解決手段】 基板に形成された、流体を搬送するための流路と、前記流路中に設けられ、前記流体を加熱するための加熱手段とを有し、前記加熱手段を用いて前記流体を加熱することにより、前記流体の超臨界状態が形成されることを特徴とする流体素子。
【選択図】 図1
Description
図1は本発明の特徴を示すである。1はSi基板であり、2は加熱手段であるところの抵抗体薄膜、3は流路、6は有害物質の概念図であり、5は超臨界状態の発生領域を示す。また、4は高イナータンス流路、9はSiO2薄膜、8は抵抗薄膜加熱手段に電圧を印加したときの温度分布の概念図である。
t0<((2AShd0)/ΔP)0.5、
より好ましくは、
t0<0.5((2AShd0)/ΔP)0.5、
なるパルス幅t0の電圧パルスを前記抵抗加熱手段に印加することにより、超臨界状態を形成することよって、さらに確実的に加熱時に流体がすぐに動けないようにすることにより、μTAS等で発生する分析廃液等の有害物質の分解処理・無害化を促進できる機能を備えた超小型の流体素子を提供できる効果がある。
Ad2V/dt2+BdV/dt=ΔP、
よって、時刻t=0でdV/dt=0、t<0でΔP=0とすると、流体系のステップ応答は
dV/dt=(ΔP/B)(1−exp(−t/τ)),
で表せる。ただし、次定数τ=A/Bである。t−>0の時、
dV/dt=(ΔP/B)(1/τ)t、
と表せるため、時刻tまでの体積移動量は
V=0.5(ΔP/B)(1/τ)t2=ΔP/(2A)t2
となる。したがって、流路のイナータンスに由来する流体の動き難さを利用して、流体を超臨界状態にするためには、およそ、次の条件の時間間隔で加熱すれば、加熱時に体積膨張する前に超臨界状態に達することができることがわかる。
ΔP/(2A)t2/Sh<d0,
ただし、d0はヒータ表面付近の流体が発泡しない流体移動許容値を示す。
t0<((2ρLd0G)/ΔP)0.5、
より好ましくは、
t0<0.5((2ALd0G)/ΔP)0.5、
なるパルス幅t0の電圧パルスを前記抵抗加熱手段に印加することにより、超臨界状態を形成することにより、加熱時に流体がすぐに動けないようにすることにより、μTAS等で発生する分析廃液等の有害物質の分解処理・無害化を促進できる機能を備えた超小型の流体素子を提供できる効果がある。
ここで、ρ=1000kg/m3,ΔP=22MPa,L=500μm、G=1とすると、
t0<0.213μs、より好ましくはt0<0.1065μsとなる。
t0<0.426μs、より好ましくはt0<0.213μsとなる。
t0<0.852μs、より好ましくはt0<0.426μsとなる。
(νt0)0.5<d<4(νt0)0.5
なる条件の膜厚dを有することにより、加熱しやすく冷却しやすい状態を実現でき、急速加熱と放熱を高い周波数で実施できる効果がある。
0.584μm<d<2.336μmとなる。
図4は第2の実施の形態を表す図であり、V1,V2,V3は電源、41−43は電極、44は厚さ0.3μmのSiN絶縁薄膜である。
図5は第3の実施の形態の特徴を表す図である。第3の実施の形態は、流路50a−50bが特定方向に流れやすい流抵抗を有することを除いて、第1の実施の形態とほぼ同様である。51は前記特定方向を示す。流路が特定方向51に流れやすい流抵抗を有すると、電圧印加時に発生する圧力によって、特定方向に正味の流れが発生するためにポンプ機能を発揮できる効果がある。
図6は第4の実施の形態を表す図である。第4の実施の形態は、複数の抵抗薄膜加熱手段2a−2bで液体を挟持して、前記抵抗加熱手段2a−2bにパルス電圧を印加することにより、超臨界状態領域61を形成することを除いて、第1の実施の形態とほぼ同様である。複数の抵抗薄膜加熱手段2a−2bで液体を挟持して超臨界状態を形成するため、超臨界状態の領域の体積を大きくとれ、効率よく分解処理を行える効果がある。
図7は第5の実施の形態を表す図である。第5の実施の形態は、網目構造を有する抵抗加熱体加熱手段71にパルス電圧を印加することにより、超臨界状態を形成することを除いて第1の実施の形態、第4の実施の形態とほぼ同様である。網目構造を有する抵抗加熱体加熱手段71では、液体に接する表面が増大するため、超臨界状態を形成する表面が増加し、効率よく分解処理を行える効果がある。
図8は第6の実施の形態を表す図である。第6の実施の形態は、抵抗薄膜加熱手段2を備えた液室32を有し、該液室に接続された流路4a−4bに対して、前記液室内側から閉まるアクティブ弁81−82を有し、該アクティブ弁81−82を閉じた状態で、前記抵抗加熱手段2にパルス電圧を印加することにより、超臨界状態を形成することを除いて第1の実施の形態,第4の実施の形態とほぼ同様である。アクティブ弁によってより確実に体積膨張を抑制できる効果がある。
図9は第7の実施の形態の特徴を表す図であり、91はμTAS素子等同一基板上に形成された廃液を発生させる素子であり、92は追加注入用の貯水室、93は乳化剤の貯蔵室、94は廃液、水、乳化剤を混合し、エマルジョンを形成する液室であり、95は超臨界水により廃液を処理する素子、96は処理液保存室、97はガス保存室を示す。第7の実施の形態は、廃液を発生する素子と流路内で超臨界状態を発生する流体素子が同一基板上に配置され、流路で接続されていることを特徴とする。廃液を発生する素子と超臨界状態を発生し廃液を処理できる素子が同一基板上に一体形成されているため、微小な廃液の処理が可能になる効果がある。
2 加熱手段
3 流路
4 高イナータンス流路
5 超臨界状態発生領域
8 温度分布概念図
9 SiO2絶縁層
12 流路構成材
31 流路構成部材
4a−4b 高イナータンス流路
32 液室
41−43 電極
44 絶縁膜
50a−50b 方向性流路
51 流れやすい方向
1a−1b 基板
2a−2b 加熱手段
9a−9b SiO2絶縁層
61 超臨界状態発生領域
71 網目状ヒータ
81−82 弁
91 廃液発生源
92 貯水室
93 乳化剤室
94 混合室
95 超臨界反応室
96 処理液保存室
97 ガス室
Claims (8)
- 基板に形成された、流体を搬送するための流路と、
前記流路中に設けられ、前記流体を加熱するための加熱手段とを有し、
前記加熱手段を用いて前記流体を加熱することにより、前記流体の超臨界状態が形成されることを特徴とする流体素子。 - 前記流路は、前記加熱手段に対して高いイナータンスを有することを特徴とする請求項1記載の流体素子。
- 下記一般式(1)で表されるパルス幅t0の電圧パルスを、前記加熱手段に印加することにより、前記超臨界状態が形成されることを特徴とする請求項1または2記載の流体素子。
一般式(1)
t0<((2AShd0)/ΔP)0.5
(Shは加熱手段の面積、Aは流路の加熱手段に対するイナータンスを表わす。また、圧力差ΔP=22MPa、流体移動許容d0=1μmとする。) - 前記流路に接続され、前記加熱手段を備えた液室を更に有し、
下記一般式(2)で表されるパルス幅t0の電圧パルスを、前記加熱手段に印加することにより、前記超臨界状態が形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の流体素子。
一般式(2)
t0<((2ρLd0G)/ΔP)0.5
(ρは流体の密度、Shは加熱手段の面積表す。また、流路の断面積をS及び長さをLとしたときにG=Sh/S>1なる条件を満たす。また、圧力差ΔP=22MPa、流体移動許容d0=1μmとする。) - 前記加熱手段に接続された蓄熱及び放熱するための手段を更に有し、
蓄熱と放熱を繰り返し行うことによって、超臨界状態が繰り返し形成されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の流体素子。 - 前記加熱手段が抵抗体薄膜であり、
前記抵抗体薄膜に印加する電圧パルスのパルス幅をt0、前記抵抗体薄膜に接する絶縁薄膜の熱拡散率をνとしたときに、一般式(3)を満たす膜厚dを有すること特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の流体素子。
一般式(3)
(νt0)0.5<d<4(νt0)0.5 - 前記流路内に第一の電極と第二の電極とを更に有し、
前記第一及び第二の電極間に電圧を印加することにより、前記流路内に電界を形成することにより、加熱を行うことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の流体素子。 - 前記流体が複数の加熱手段で挟持され、前記加熱手段にパルス電圧を印加することにより、前記超臨界状態が形成されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の流体素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004131569A JP4865195B2 (ja) | 2004-04-27 | 2004-04-27 | 流体素子 |
US11/113,139 US7879301B2 (en) | 2004-04-27 | 2005-04-25 | Microfluidic element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004131569A JP4865195B2 (ja) | 2004-04-27 | 2004-04-27 | 流体素子 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005313026A true JP2005313026A (ja) | 2005-11-10 |
JP2005313026A5 JP2005313026A5 (ja) | 2007-02-08 |
JP4865195B2 JP4865195B2 (ja) | 2012-02-01 |
Family
ID=35239621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004131569A Expired - Fee Related JP4865195B2 (ja) | 2004-04-27 | 2004-04-27 | 流体素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7879301B2 (ja) |
JP (1) | JP4865195B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE60144142D1 (de) * | 2000-03-02 | 2011-04-14 | Microchips Inc | Mikromechanische geräte und verfahren zur speicherung und zur selektiven exposition von chemikalien |
US7642644B2 (en) * | 2004-12-03 | 2010-01-05 | Mayo Foundation For Medical Education And Research | Packaging for high power integrated circuits |
EP1999272B1 (en) * | 2006-03-21 | 2017-11-01 | Koninklijke Philips N.V. | Microelectronic sensor device with sensor array |
JP5943455B2 (ja) | 2011-08-19 | 2016-07-05 | 国立研究開発法人海洋研究開発機構 | 乳化物の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07159388A (ja) * | 1993-12-02 | 1995-06-23 | Jeol Ltd | 超臨界流体クロマトグラフィ用混合器 |
JP2002113475A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 有機化合物の分解方法 |
JP2004053545A (ja) * | 2002-07-24 | 2004-02-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロリアクタと反応分析システム及びその製造方法 |
JP2004053370A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Canon Inc | 化学分析方法および装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03113858A (ja) | 1989-09-26 | 1991-05-15 | Mitsubishi Electric Corp | 記録信号再生装置 |
JPH06201898A (ja) | 1992-12-25 | 1994-07-22 | Mitsubishi Kakoki Kaisha Ltd | 化学除染廃液の処理方法 |
JP3654481B2 (ja) | 1997-06-05 | 2005-06-02 | 独立行政法人理化学研究所 | 生化学反応用マイクロリアクタ |
JP3495904B2 (ja) | 1998-02-09 | 2004-02-09 | オルガノ株式会社 | Tmah廃液の超臨界水酸化処理方法 |
JP2003164750A (ja) | 2001-11-30 | 2003-06-10 | Japan Organo Co Ltd | 分析廃液の処理方法及び分析廃液処理装置 |
-
2004
- 2004-04-27 JP JP2004131569A patent/JP4865195B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-04-25 US US11/113,139 patent/US7879301B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07159388A (ja) * | 1993-12-02 | 1995-06-23 | Jeol Ltd | 超臨界流体クロマトグラフィ用混合器 |
JP2002113475A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 有機化合物の分解方法 |
JP2004053370A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Canon Inc | 化学分析方法および装置 |
JP2004053545A (ja) * | 2002-07-24 | 2004-02-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロリアクタと反応分析システム及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7879301B2 (en) | 2011-02-01 |
US20050249639A1 (en) | 2005-11-10 |
JP4865195B2 (ja) | 2012-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Snyder et al. | High-performance, low-voltage electroosmotic pumps with molecularly thin silicon nanomembranes | |
Marre et al. | Design and packaging of microreactors for high pressure and high temperature applications | |
Günther et al. | Micromixing of miscible liquids in segmented gas− liquid flow | |
Choban et al. | Microfluidic fuel cell based on laminar flow | |
US20080193961A1 (en) | Localized Control of Thermal Properties on Microdevices and Applications Thereof | |
BR112016016770B1 (pt) | Processo para o tratamento de um líquido aquoso contendo um poluente orgânico | |
JP2006220606A (ja) | 送液装置 | |
Vasista et al. | Electroosmotic mixing in a microchannel with heterogeneous slip dependent zeta potential | |
JP2004053370A (ja) | 化学分析方法および装置 | |
Chen et al. | Geometric effect on gas–liquid bubbly flow in capillary-embedded T-junction microchannels | |
Abolhasani et al. | Cruise control for segmented flow | |
Wang et al. | Fast fabrication of microfluidic devices using a low-cost prototyping method | |
Yang et al. | On the peculiar bubble formation, growth, and collapse behaviors in catalytic micro-motor systems | |
Xie et al. | Microbubble generation in organic solvents by porous membranes with different membrane wettabilities | |
JP4865195B2 (ja) | 流体素子 | |
Sabbagh et al. | Tunable nanochannels connected in series for dynamic control of multiple concentration-polarization layers and preconcentrated molecule plugs | |
Mehta et al. | Reaction characteristics of non-Newtonian species in a microreactor: The role of electroosmotic vortices | |
Doh et al. | Trapping and collection of uniform size droplets for nanoparticle synthesis | |
JP2004053545A (ja) | マイクロリアクタと反応分析システム及びその製造方法 | |
JP2005300333A (ja) | マイクロ液流制御方法及び制御装置 | |
Suzuki et al. | Flow characteristics in a micro-cavity swept by a visco-elastic fluid | |
MacDonald et al. | Two‐phase flow electrosynthesis: Comparing N‐octyl‐2‐pyrrolidone–aqueous and acetonitrile–aqueous three‐phase boundary reactions | |
US20080152509A1 (en) | Integrated micro-pump and electro-spray | |
Wang et al. | Magic microfluidic T-junctions: Valving and bubbling | |
Nakatani et al. | A simplified PDMS microfluidic device with a built‐in suction actuator for rapid production of monodisperse water‐in‐oil droplets |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061214 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091117 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100118 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100201 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110407 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110510 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110711 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111108 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111110 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |