JP2005310590A - Organic el display device and its manufacturing method, and electronic apparatus - Google Patents

Organic el display device and its manufacturing method, and electronic apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the emission efficiency of emitted light of an organic EL display device. <P>SOLUTION: This organic EL display device has organic functional layers 110 comprising at least luminous layers 110b in a plurality of predetermined regions (A) of a substrate 2, and performs display by emitting light L from the luminous layers 110b in a predetermined viewing direction. The device has the organic functional layers 110 in openings formed corresponding to the predetermined regions (A), and is equipped with banks 112a having translucency to the emitted light L, and reflective portions 112c for totally or partially reflecting in the viewing direction the emitted light L conducted through the banks 112a. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、有機EL表示装置とその製造方法、並びに電子機器に関するものである。   The present invention relates to an organic EL display device, a manufacturing method thereof, and an electronic apparatus.

近年、ノートパソコン、携帯電話機、電子手帳等の電子機器において、情報を表示する手段として有機エレクトロルミネッセンス(以下有機ELと称す)素子を画素に対応させて複数備える有機EL表示装置等といった表示装置が提案されている。一般的に、有機EL素子は、対向する一対の電極の間に有機EL層(発光層)を含む有機機能層が配置されている構成を有している。   2. Description of the Related Art In recent years, in electronic devices such as notebook computers, mobile phones, and electronic notebooks, display devices such as an organic EL display device that includes a plurality of organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) elements corresponding to pixels as means for displaying information. Proposed. In general, an organic EL element has a configuration in which an organic functional layer including an organic EL layer (light emitting layer) is disposed between a pair of opposed electrodes.

このような有機EL表示装置では、発光層から射出された発光光の出射効率を向上させるべく、様々な提案がなされている。
例えば、特開平10−189243号公報には、画素すなわち有機EL素子の断面形状をすり鉢状に形状設定することにより発光光の出射効率を向上させる技術が開示されており、また、特開平11−21412号公報や特開平9−171892号公報には、画素断面構造に発光光の集光構造を作りこむことによって、発光光の出射効率を向上させる技術が開示されている。
特開平10−189243号公報 特開平11−214163号公報 特開平9−171892号公報
In such an organic EL display device, various proposals have been made to improve the emission efficiency of emitted light emitted from the light emitting layer.
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-189243 discloses a technique for improving emission efficiency of emitted light by setting a cross-sectional shape of a pixel, that is, an organic EL element in a mortar shape. Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 21412 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-171892 disclose a technique for improving emission efficiency of emitted light by forming a condensing structure of emitted light in a pixel cross-sectional structure.
JP-A-10-189243 Japanese Patent Laid-Open No. 11-214163 Japanese Patent Laid-Open No. 9-171892

しかしながら、特開平10−189243号公報に開示された技術では、発光層が平面部と斜面部とを有しているため、平面部と斜面部とに均一な膜厚の膜部材を成膜することが難しい。このため、例えば、発光層上に形成される陰極等の膜厚が不均一となる場合が懸念される。
また、特開平11−21412号公報や特開平9−171892号公報に開示された技術では、画素断面構造に複雑な集光構造を形成する必要が生じるため、コスト面等から実現が難しい。
However, in the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-189243, the light emitting layer has a flat surface portion and a slope portion, so that a film member having a uniform film thickness is formed on the flat surface portion and the slope portion. It is difficult. For this reason, for example, there is a concern that the film thickness of the cathode or the like formed on the light emitting layer is not uniform.
In addition, the techniques disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 11-21412 and 9-171892 are difficult to realize from the viewpoint of cost and the like because it is necessary to form a complicated light collecting structure in the pixel cross-sectional structure.

本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、発光光の出射効率を向上させることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to improve the emission efficiency of emitted light.

上記目的を達成するために、本発明の有機EL表示装置は、基板の複数の所定領域に発光層を少なくとも含む有機機能層を有し、上記発光層から射出される発光光を所定の視認方向に射出することによって表示を行う有機EL表示装置であって、上記所定領域に対応して形成された開口部内に上記有機機能層を有しかつ上記発光光に対して透光性を有する土手部と、上記土手部内を導波する上記発光光の全部あるいは一部を上記視認方向に反射する反射部とを備えることを特徴とする。   In order to achieve the above object, an organic EL display device of the present invention has an organic functional layer including at least a light emitting layer in a plurality of predetermined regions of a substrate, and emits light emitted from the light emitting layer in a predetermined viewing direction. An organic EL display device that performs display by emitting light to the bank, the bank having the organic functional layer in an opening formed corresponding to the predetermined region and having transparency to the emitted light And a reflecting part that reflects all or part of the emitted light guided in the bank part in the viewing direction.

このような特徴を有する本発明の有機EL表示装置によれば、反射部によって、透光性を有する土手部内を導波する発光光の全部あるいは一部が視認方向に反射される。このため、従来の有機EL表示装置において、発光光から側方に射出されることによっていずれ消失していた発光光が、反射部によって視認方向に反射される。したがって、本発明の有機EL表示装置によれば、発光光の出射効率を向上させることができ、より発光特性に優れた有機EL表示装置となる。   According to the organic EL display device of the present invention having such characteristics, all or a part of the emitted light guided in the translucent bank is reflected in the viewing direction by the reflecting portion. For this reason, in the conventional organic EL display device, the emitted light that has disappeared by being emitted from the emitted light to the side is reflected in the viewing direction by the reflecting portion. Therefore, according to the organic EL display device of the present invention, the emission efficiency of the emitted light can be improved, and the organic EL display device having more excellent emission characteristics can be obtained.

また、本発明の有機EL表示装置は、上記反射部が上記発光光を散乱する散乱部であるという構成を採用することができる。このように、反射部が発光光を散乱する散乱部である場合には、発光層から側方に射出された発光光が散乱部によって散乱され、側方に射出された発光光のうち一部が視認方向に反射される。   In addition, the organic EL display device of the present invention can employ a configuration in which the reflecting portion is a scattering portion that scatters the emitted light. Thus, when the reflection part is a scattering part that scatters the emitted light, the emitted light emitted from the light emitting layer to the side is scattered by the scattering part, and a part of the emitted light emitted to the side Is reflected in the viewing direction.

また、本発明の有機EL表示装置は、上記散乱部が粗面化された上記土手部の上面であるという構成を採用することができる。
従来の有機EL表示装置においては、発光層から側方に射出された発光光は、土手部の上面あるいは下面に対して臨界角度以下の角度で入射しているために、土手部の上面あるいは下面によって全反射され、有機EL表示装置の外に射出されることなく消失していた。そこで、本発明の有機EL表示装置のように、土手部の上面を粗面化することによって、土手部の上面が散乱部として機能する。すなわち、発光層から側方に射出された発光光は、粗面化された土手部の上面によって散乱され、その一部が視認方向に反射される。したがって、発光光の出射効率を向上させることができる。
なお、上記土手部の上面は、表面粗さがRa=10〜100nmであることが好ましい。これによって、より効率的に、発光光を散乱させることができ、より発光光の出射効率を向上させることができる。
また、土手部の下面を粗面化し、この下面を散乱部とすることもできるが、土手部の下面を粗面化することは、製造工程上困難であるため、土手部の上面を粗面化することが好ましい。
In addition, the organic EL display device of the present invention can employ a configuration in which the scattering portion is an upper surface of the roughened bank portion.
In the conventional organic EL display device, the emitted light emitted laterally from the light emitting layer is incident on the upper surface or the lower surface of the bank portion at an angle less than the critical angle, so the upper surface or the lower surface of the bank portion. And disappeared without being emitted outside the organic EL display device. Therefore, as in the organic EL display device of the present invention, by roughening the upper surface of the bank portion, the upper surface of the bank portion functions as a scattering portion. That is, the emitted light emitted laterally from the light emitting layer is scattered by the roughened upper surface of the bank portion, and a part thereof is reflected in the viewing direction. Therefore, the emission efficiency of emitted light can be improved.
In addition, it is preferable that the surface roughness of the upper surface of the bank portion is Ra = 10 to 100 nm. Thereby, the emitted light can be scattered more efficiently, and the emission efficiency of the emitted light can be further improved.
In addition, the bottom surface of the bank can be roughened, and this bottom surface can be used as a scattering portion. However, it is difficult to roughen the bottom surface of the bank in the manufacturing process, so the top surface of the bank is rough. Is preferable.

また、本発明の有機EL表示装置は、上記散乱部が導光板の反射面形状とされた上記土手部の上面であるという構成を採用することもできる。
例えば、土手部の上面を導光板の反射面形状の1つであるフレネル面とすることによって、発光層から側方に射出された発光光を視認方向により多く散乱させることができる。したがって、このような構成を採用する本発明の有機EL表示装置によれば、より発光光の出射効率を向上させることが可能となる。
なお、土手部の下面を導光板の反射面形状とし、この下面を散乱部とすることもできるが、土手部の下面を導光板の反射面形状することは、製造工程上困難であるため、土手部の上面を導光板の反射面形状とすることが好ましい。
In addition, the organic EL display device of the present invention may employ a configuration in which the scattering portion is an upper surface of the bank portion having a reflecting surface shape of the light guide plate.
For example, by making the upper surface of the bank part a Fresnel surface which is one of the reflecting surface shapes of the light guide plate, more emitted light emitted from the light emitting layer to the side can be scattered in the viewing direction. Therefore, according to the organic EL display device of the present invention that employs such a configuration, the emission efficiency of emitted light can be further improved.
In addition, although the lower surface of the bank portion can be a reflecting surface shape of the light guide plate, and this lower surface can be a scattering portion, it is difficult to make the lower surface of the bank portion a reflecting surface shape of the light guide plate because of the manufacturing process. It is preferable that the top surface of the bank portion has a reflecting surface shape of the light guide plate.

また、本発明の有機EL表示装置は、上記土手部の上面と隣接される反射膜を有するという構成を採用することができる。
このような構成を採用することによって、散乱部において視認方向と正反対の方向に散乱した発光光が、反射膜によって反射され、視認方向に射出されるため、より発光光の出射効率を向上させることができる。
なお、土手部上に反射電極を有する有機EL表示装置の場合には、反射電極を本発明の反射膜として機能させることができる。
In addition, the organic EL display device of the present invention can employ a configuration having a reflective film adjacent to the upper surface of the bank portion.
By adopting such a configuration, emitted light scattered in the direction opposite to the viewing direction in the scattering portion is reflected by the reflective film and emitted in the viewing direction, so that the emission efficiency of emitted light is further improved. Can do.
In the case of an organic EL display device having a reflective electrode on the bank, the reflective electrode can function as the reflective film of the present invention.

次に、本発明の有機EL表示装置の製造方法は、基板の複数の所定領域に発光層を少なくとも含む有機機能層を有し、上記発光層から射出される発光光を所定の視認方向に射出することによって表示を行う有機EL表示装置の製造方法であって、上記所定領域に対応して形成された開口部を有する土手部を形成する土手部形成工程と、上記開口部内に上記有機機能層を形成する有機機能層形成工程と、上記土手部内を導波する上記発光光の全部あるいは一部を上記視認方向に反射する反射部を形成する反射部形成工程とを有することを特徴とする。   Next, the organic EL display device manufacturing method of the present invention has an organic functional layer including at least a light emitting layer in a plurality of predetermined regions of the substrate, and emits light emitted from the light emitting layer in a predetermined viewing direction. A method of manufacturing an organic EL display device that performs display by performing a bank portion forming step of forming a bank portion having an opening portion corresponding to the predetermined region, and the organic functional layer in the opening portion An organic functional layer forming step for forming the reflecting portion, and a reflecting portion forming step for forming a reflecting portion for reflecting all or part of the emitted light guided in the bank portion in the viewing direction.

このような特徴を有する本発明の有機EL表示装置の製造方法によれば、反射部形成工程によって、上記土手部内を導波する上記発光光の全部あるいは一部を上記視認方向に反射する反射部が形成された有機EL表示装置を製造することができるため、発光光の出射効率が向上された有機EL表示装置を製造することができる。   According to the method of manufacturing the organic EL display device of the present invention having such characteristics, the reflective portion that reflects all or part of the emitted light guided in the bank portion in the viewing direction by the reflective portion forming step. Thus, an organic EL display device with improved emission efficiency of emitted light can be manufactured.

また、本発明の有機EL表示装置の製造方法は、上記反射部形成工程が上記土手部の上面に対してプラズマ処理を行う工程を含むという構成を採用することができる。
このような構成を採用することによって、土手部の上面を容易に粗面化することができる。したがって、土手部の上面を容易に反射部として形成することが可能となる。
Moreover, the manufacturing method of the organic electroluminescent display device of this invention can employ | adopt the structure that the said reflection part formation process includes the process of performing a plasma process with respect to the upper surface of the said bank part.
By adopting such a configuration, the upper surface of the bank can be easily roughened. Therefore, it is possible to easily form the upper surface of the bank portion as a reflecting portion.

また、本発明の有機EL表示装置の製造方法は、上記反射部形成工程が、上記土手部の上面に対してウエットエッチング工程を含むことができる。このような構成を採用することによって、例えば、土手部の上面に容易に導光板の反射面形状に成形することができる。したがって、土手部の上面を容易に反射部として形成することが可能となる。   In the method for manufacturing an organic EL display device of the present invention, the reflecting portion forming step may include a wet etching step with respect to the upper surface of the bank portion. By adopting such a configuration, for example, the reflecting surface of the light guide plate can be easily formed on the top surface of the bank portion. Therefore, it is possible to easily form the upper surface of the bank portion as a reflecting portion.

また、本発明の有機EL表示装置の製造方法は、上記反射部形成工程は、上記土手部の上面に対して所定の型を押圧することによって上記土手部の上面を導光板の反射面形状に成形する工程を含むという構成を採用することもできる。
このような構成を採用することによって、土手部の上面を容易に導光板の反射面形状に成形することができる。したがって、土手部の上面を容易に反射部として形成することが可能となる。
Further, in the method for manufacturing an organic EL display device of the present invention, in the reflecting portion forming step, the upper surface of the bank portion is formed into a reflecting surface shape of the light guide plate by pressing a predetermined mold against the upper surface of the bank portion. A configuration including a molding step can also be employed.
By adopting such a configuration, the upper surface of the bank portion can be easily formed into the shape of the reflecting surface of the light guide plate. Therefore, it is possible to easily form the upper surface of the bank portion as a reflecting portion.

次に、本発明の電子機器は、本発明の有機EL表示装置を表示部として備えることを特徴とする。
本発明の有機EL表示装置によれば、発光光の出射効率が向上され、発光特性が向上されるため、本発明の有機EL表示装置を表示部として備える電子機器は、表示特性が向上される。したがって、本発明の電子機器によれば、表示特性が向上された電子機器を提供することが可能となる。
Next, an electronic apparatus according to the present invention includes the organic EL display device according to the present invention as a display unit.
According to the organic EL display device of the present invention, since the emission efficiency of emitted light is improved and the light emission characteristics are improved, an electronic apparatus including the organic EL display device of the present invention as a display unit has improved display characteristics. . Therefore, according to the electronic device of the present invention, it is possible to provide an electronic device with improved display characteristics.

以下、図面を参照して、本発明に係る有機EL表示装置とその製造方法、並びに電子機器の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材及び各層の認識を容易とするために、各部材及び各層の縮尺を適宜変更している。   Hereinafter, an embodiment of an organic EL display device according to the present invention, a manufacturing method thereof, and an electronic device will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale of each member and each layer is appropriately changed in order to facilitate the recognition of each member and each layer.

(第1実施形態)
図1は、本発明に係る有機EL表示装置を採用したアクティブマトリクス型の有機EL表示装置の模式図である。また、図示する有機EL表示装置1は、薄膜トランジスタを用いたアクティブ型の駆動方式を採用している。
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic view of an active matrix type organic EL display device employing the organic EL display device according to the present invention. The illustrated organic EL display device 1 employs an active driving method using thin film transistors.

有機EL表示装置1は、基板2の上に回路素子として薄膜トランジスタを含む回路素子部14、画素電極(陽極)111、有機EL層(発光層)を含む有機機能層110、対向電極(陰極)12及び封止部3等を順次積層した構造からなる有機EL素子10をマトリクス状に複数配置したものである。   The organic EL display device 1 includes a circuit element unit 14 including a thin film transistor as a circuit element on a substrate 2, a pixel electrode (anode) 111, an organic functional layer 110 including an organic EL layer (light emitting layer), and a counter electrode (cathode) 12. A plurality of organic EL elements 10 having a structure in which the sealing portions 3 and the like are sequentially stacked are arranged in a matrix.

基板2としては、本実施形態ではガラス基板が用いられている。基板2は、ガラス基板の他にもシリコン基板、石英基板、セラミックス基板、プラスチック基板、プラスチックフィルム基板等、電気光学装置や回路基板に用いられる公知の様々な基板が適用される。この基板2の表面(図1における下面)は、外光の反射を抑制する減反射処理が施してあることが好ましい。基板2の表面に減反射処理を施すことによって外光の反射を抑制できるので本有機EL表示装置1のコントラストを向上させることが可能となる。基板2内には、有機機能層の配置領域としての複数の画素領域Aがマトリクス状に配列されており、カラー表示を行う場合、例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色に対応する画素領域Aが所定の配列で配置されている。各画素領域Aには、画素電極111が配置され、その近傍には信号線132、電源線133、走査線131及び図示しない他の画素電極用の走査線等が配置されている。画素領域Aの平面形状は、図示するような矩形の他に円形、長円形など任意の形状が適用される。   As the substrate 2, a glass substrate is used in the present embodiment. As the substrate 2, various known substrates used for electro-optical devices and circuit substrates such as a silicon substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, a plastic substrate, and a plastic film substrate can be used in addition to a glass substrate. The surface of the substrate 2 (the lower surface in FIG. 1) is preferably subjected to a dereflection treatment that suppresses reflection of external light. Since the reflection of external light can be suppressed by subjecting the surface of the substrate 2 to the antireflection treatment, the contrast of the organic EL display device 1 can be improved. In the substrate 2, a plurality of pixel areas A as arrangement areas of the organic functional layers are arranged in a matrix, and when performing color display, for example, red (R), green (G), blue (B) Pixel areas A corresponding to the respective colors are arranged in a predetermined arrangement. In each pixel region A, a pixel electrode 111 is arranged, and in the vicinity thereof, a signal line 132, a power supply line 133, a scanning line 131, scanning lines for other pixel electrodes (not shown), and the like are arranged. As the planar shape of the pixel region A, an arbitrary shape such as a circle or an oval is applied in addition to a rectangle as illustrated.

また、封止部3は、水や酸素の浸入を防ぐことによって陰極12あるいは有機機能層110の酸化を防止するものであり、基板2に塗布される封止樹脂及び基板2に貼り合わされる封止基板3b(封止缶)等を含む。封止樹脂の材料としては、例えば、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等が用いられ、特に、熱硬化樹脂の一種であるエポシキ樹脂が好ましく用いられる。封止樹脂は、基板2の周縁に環状に塗布されており、例えば、マイクロディスペンサ等によって塗布される。封止基板3bは、ガラスや金属等からなり、基板2と封止基板3bとは封止樹脂を介して貼り合わされる。   The sealing portion 3 prevents oxidation of the cathode 12 or the organic functional layer 110 by preventing water and oxygen from entering. The sealing resin applied to the substrate 2 and the seal bonded to the substrate 2 are used. A stop substrate 3b (sealing can) and the like are included. As the material of the sealing resin, for example, a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin is used, and in particular, an epoxy resin which is a kind of thermosetting resin is preferably used. The sealing resin is annularly applied to the periphery of the substrate 2 and is applied by, for example, a microdispenser. The sealing substrate 3b is made of glass, metal, or the like, and the substrate 2 and the sealing substrate 3b are bonded together via a sealing resin.

図2は、上記有機EL表示装置1の回路構造を示している。この図2において、基板2の支持表面2a上には複数の走査線131と、走査線131に対して交差する方向に延びる複数の信号線132と、信号線に並列に延びる複数の電源線133とが配線されている。また、走査線131及び信号線132の各交点毎に上記画素領域Aが形成されている。信号線132には、例えば、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを含むデータ側駆動回路103が接続されている。また、走査線131にはシフトレジスタ及びレベルシフタを含む走査側駆動回路104が接続されている。   FIG. 2 shows a circuit structure of the organic EL display device 1. In FIG. 2, on the support surface 2a of the substrate 2, a plurality of scanning lines 131, a plurality of signal lines 132 extending in a direction intersecting the scanning lines 131, and a plurality of power supply lines 133 extending in parallel with the signal lines. And are wired. Further, the pixel region A is formed at each intersection of the scanning line 131 and the signal line 132. For example, the data line driving circuit 103 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch is connected to the signal line 132. Further, the scanning line drive circuit 104 including a shift register and a level shifter is connected to the scanning line 131.

画素領域Aには走査線131を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ123と、このスイッチング用の薄膜トランジスタ123を介して信号線132から供給される画像信号を保持する保持容量135と、保持容量135によって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ124と、この駆動用の薄膜トランジスタ124を介して電源線133に電気的に接続したときに電源線133から駆動電流が流れ込む画素電極(陽極)111と、画素電極111と陰極12との間に挟み込まれる有機機能層110とが設けられている。有機機能層110は、有機EL素子としての発光層を含む。   In the pixel region A, a switching thin film transistor 123 in which a scanning signal is supplied to the gate electrode through the scanning line 131 and a storage capacitor for holding an image signal supplied from the signal line 132 through the switching thin film transistor 123. 135, a driving thin film transistor 124 to which an image signal held by the storage capacitor 135 is supplied to the gate electrode, and the power line 133 when electrically connected to the power line 133 through the driving thin film transistor 124 A pixel electrode (anode) 111 into which a driving current flows and an organic functional layer 110 sandwiched between the pixel electrode 111 and the cathode 12 are provided. The organic functional layer 110 includes a light emitting layer as an organic EL element.

画素領域Aでは走査線131が駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ123がオンとなると、そのときの信号線132の電位が保持容量135に保持され、この保持容量135の状態に応じて駆動用の薄膜トランジスタ124の導通状態が決まる。また、駆動用の薄膜トランジスタ124のチャネルを介して電源線133から画素電極111に電流が流れ、さらに有機機能層110を通じて陰極12に電流が流れる。そして、このときの電流量に応じて有機機能層110が発光する。   In the pixel region A, when the scanning line 131 is driven and the switching thin film transistor 123 is turned on, the potential of the signal line 132 at that time is held in the holding capacitor 135, and the driving thin film transistor according to the state of the holding capacitor 135. The conduction state of 124 is determined. In addition, a current flows from the power supply line 133 to the pixel electrode 111 through the channel of the driving thin film transistor 124, and further a current flows to the cathode 12 through the organic functional layer 110. The organic functional layer 110 emits light according to the amount of current at this time.

図3は、上記有機EL表示装置1における表示領域の断面構造を拡大した図である。この図3には赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色に対応する3つの画素領域の断面構造が示されている。上述のように有機EL表示装置1は、基板2の支持表面2a上にTFTなどの回路等が形成された回路素子部14と、画素電極111及び有機機能層110が形成された発光素子部11と、陰極12とが順次積層されて構成されている。この有機EL表示装置1では有機機能層110から基板2側に発した発光光が回路素子部14及び基板2を透過して基板2の下側(視認方向側)に放出されると共に、有機機能層110から基板2の反対側に発した光が陰極12によって反射されて回路素子部14及び基板2を透過して基板2の下側(視認方向側)に放出されるようになっている。   FIG. 3 is an enlarged view of the cross-sectional structure of the display area in the organic EL display device 1. FIG. 3 shows a cross-sectional structure of three pixel regions corresponding to red (R), green (G), and blue (B) colors. As described above, the organic EL display device 1 includes the circuit element unit 14 in which a circuit such as a TFT is formed on the support surface 2 a of the substrate 2, and the light emitting element unit 11 in which the pixel electrode 111 and the organic functional layer 110 are formed. And the cathode 12 are sequentially laminated. In the organic EL display device 1, emitted light emitted from the organic functional layer 110 to the substrate 2 side is transmitted through the circuit element unit 14 and the substrate 2 and emitted to the lower side (viewing direction side) of the substrate 2, and the organic function. Light emitted from the layer 110 to the opposite side of the substrate 2 is reflected by the cathode 12, passes through the circuit element portion 14 and the substrate 2, and is emitted to the lower side (viewing direction side) of the substrate 2.

回路素子部14には基板2上にSiO膜からなる下地保護膜2cが形成され、この下地保護層2c上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜141が形成されている。なお、半導体膜141にはソース領域141a及びドレイン領域141bが高濃度Pイオン打ち込みによって形成されている。なお、Pが導入されなかった部分がチャネル領域141cとなっている。さらに回路素子部14には、下地保護膜2c及び半導体膜141を覆う透明なゲート絶縁膜142が形成され、ゲート絶縁膜142上にはAl、Mo、Ta、Ti、W等からなるゲート電極143(走査線)が形成され、ゲート電極143及びゲート絶縁膜142上には透明な第1層間絶縁膜144aと第2層間絶縁膜144bが形成されている。ゲート電極143は半導体膜141のチャネル領域141cに対応する位置に設けられている。また、第1、第2層間絶縁膜144a,144bを貫通して半導体膜141のソース、ドレイン領域141a,141bにそれぞれ接続されるコンタクトホール145,146が形成されている。 In the circuit element portion 14, a base protective film 2 c made of an SiO 2 film is formed on the substrate 2, and an island-shaped semiconductor film 141 made of polycrystalline silicon is formed on the base protective layer 2 c. Note that a source region 141a and a drain region 141b are formed in the semiconductor film 141 by high concentration P ion implantation. A portion where P is not introduced is a channel region 141c. Further, a transparent gate insulating film 142 covering the base protective film 2c and the semiconductor film 141 is formed in the circuit element portion 14, and a gate electrode 143 made of Al, Mo, Ta, Ti, W, or the like is formed on the gate insulating film 142. (Scanning lines) are formed, and a transparent first interlayer insulating film 144 a and a second interlayer insulating film 144 b are formed on the gate electrode 143 and the gate insulating film 142. The gate electrode 143 is provided at a position corresponding to the channel region 141c of the semiconductor film 141. Also, contact holes 145 and 146 are formed through the first and second interlayer insulating films 144a and 144b and connected to the source and drain regions 141a and 141b of the semiconductor film 141, respectively.

そして、第2層間絶縁膜144b上には、ITO(酸化インジウムスズ)等からなる透明な画素電極111が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール145がこの画素電極111に接続されている。このようにして、回路素子部14には各画素電極111に接続された駆動用のスイッチング用の薄膜トランジスタ123が形成されている。なお、回路素子部14には上述した保持容量135及び駆動用の薄膜トランジスタ124も形成されているが、図3ではこれらの図示を省略している。   A transparent pixel electrode 111 made of ITO (Indium Tin Oxide) or the like is formed on the second interlayer insulating film 144b by patterning into a predetermined shape, and one contact hole 145 is connected to the pixel electrode 111. ing. In this manner, the driving switching thin film transistor 123 connected to each pixel electrode 111 is formed in the circuit element portion 14. The circuit element unit 14 is also formed with the storage capacitor 135 and the driving thin film transistor 124 described above, but these are not shown in FIG.

発光素子部11は、複数の画素電極111上の各々に積層された有機機能層110と、有機機能層110同士の間に配されて各有機機能層110を区画するバンク部112とを主体として構成されている。有機機能層110上には陰極12が配置されている。発光素子である有機EL素子10は、画素電極111、陰極12及び有機機能層110等を含んで構成される。ここで、画素電極111は、ITOにより形成されてなり、平面視略矩形にパターニングされて形成されている。この画素電極111の厚さは、40〜150nmの範囲が好ましい。   The light emitting element unit 11 mainly includes an organic functional layer 110 stacked on each of the plurality of pixel electrodes 111 and a bank unit 112 disposed between the organic functional layers 110 to partition each organic functional layer 110. It is configured. A cathode 12 is disposed on the organic functional layer 110. The organic EL element 10 that is a light emitting element includes a pixel electrode 111, a cathode 12, an organic functional layer 110, and the like. Here, the pixel electrode 111 is made of ITO, and is formed by patterning into a substantially rectangular shape in plan view. The thickness of the pixel electrode 111 is preferably in the range of 40 to 150 nm.

バンク部112は、図3に示すように基板2側に位置する無機物バンク層112a(土手部)と当該無機物バンク層112a上に隣接して形成される有機物バンク層112bとが積層されて構成されている。無機物バンク層112aは、例えば、SiO等の発光光に対して透光性を有する無機絶縁材料からなり、有機機能層110が内部に配置される開口部112a1が形成されている。この有機物バンク層112bには、図示するように、発光領域bに対応した開口部112b1が形成されている。なお、本実施形態においては、有機物バンク層112bは、発光光に対して透光性を有していない。
そして、この無機物バンク層112aの開口部112a1に露出した画素電極111上に有機機能層110が配置されることにより、有機機能層110が開口部112a1内に配置される。
そして、本実施形態の有機EL表示装置1では、有機物バンク層112bの開口部112b1に露出した無機物バンク層112aの上面112c(散乱部,反射部)が粗面化されている。
As shown in FIG. 3, the bank portion 112 is formed by laminating an inorganic bank layer 112a (bank portion) located on the substrate 2 side and an organic bank layer 112b formed adjacent to the inorganic bank layer 112a. ing. Inorganic bank layer 112a, for example, an inorganic insulating material having a light-transmitting property with respect to the luminescent light such as SiO 2, openings 112a1 which the organic functional layer 110 is disposed inside is formed. As shown in the drawing, an opening 112b1 corresponding to the light emitting region b is formed in the organic bank layer 112b. In the present embodiment, the organic bank layer 112b does not transmit light with respect to emitted light.
And the organic functional layer 110 is arrange | positioned in the opening part 112a1 by arrange | positioning the organic functional layer 110 on the pixel electrode 111 exposed to the opening part 112a1 of this inorganic substance bank layer 112a.
In the organic EL display device 1 of the present embodiment, the upper surface 112c (scattering portion, reflecting portion) of the inorganic bank layer 112a exposed to the opening 112b1 of the organic bank layer 112b is roughened.

有機機能層110は、画素電極111上に積層された正孔注入/輸送層110aと、正孔注入/輸送層110a上に隣接して形成された発光層(有機EL層)110bとから構成されている。正孔注入/輸送層110aは、正孔を発光層110bに注入する機能を有すると共に、正孔を正孔注入/輸送層110a内部において輸送する機能を有する。このような正孔注入/輸送層110aを画素電極111と発光層110aの間に設けることによって発光層110bの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。また、発光層110bでは、正孔注入/輸送層110aから注入された正孔と、陰極12から注入される電子が発光層110bで再結合し、発光が得られる。   The organic functional layer 110 includes a hole injection / transport layer 110a stacked on the pixel electrode 111, and a light emitting layer (organic EL layer) 110b formed adjacent to the hole injection / transport layer 110a. ing. The hole injection / transport layer 110a has a function of injecting holes into the light emitting layer 110b and a function of transporting holes inside the hole injection / transport layer 110a. By providing such a hole injecting / transporting layer 110a between the pixel electrode 111 and the light emitting layer 110a, device characteristics such as light emitting efficiency and life of the light emitting layer 110b are improved. Further, in the light emitting layer 110b, holes injected from the hole injection / transport layer 110a and electrons injected from the cathode 12 are recombined in the light emitting layer 110b, and light emission is obtained.

発光層110bは、赤色(R)に発光する赤色発光層110b1、緑色(G)に発光する緑色発光層110b2及び青色(B)に発光する青色発光層110b3の発光する波長帯域が互いに異なる3種類からなり、各発光層110b1〜110b3が所定の配列(例えばストライプ状)で配置されている。   The light emitting layer 110b includes three types of light emission wavelength bands different from each other in the red light emitting layer 110b1 emitting red (R), the green light emitting layer 110b2 emitting green (G), and the blue light emitting layer 110b3 emitting blue (B). Each of the light emitting layers 110b1 to 110b3 is arranged in a predetermined arrangement (for example, a stripe shape).

次に、陰極12は、発光素子部11の全面に形成されており、発光層110bに電子を注入する役割を果たす。この陰極12は、カルシウム層12aとアルミニウム層12bとが積層されて構成されている。カルシウム層の層厚は例えば2〜50nmの範囲が好ましい。また、アルミニウム層12bは、発光層110b1〜110b3から発せられた光を基板2側に反射させるもので、Al膜の他、Ag膜、AlとAgの積層膜等からなることが好ましい。また、その厚さは、例えば100〜1000nmの範囲が好ましい。なお、陰極は12これらに限らず、発光層110bに電子を効率的に注入できるものであれば良い。   Next, the cathode 12 is formed on the entire surface of the light emitting element portion 11, and plays a role of injecting electrons into the light emitting layer 110b. The cathode 12 is configured by laminating a calcium layer 12a and an aluminum layer 12b. The layer thickness of the calcium layer is preferably in the range of 2 to 50 nm, for example. The aluminum layer 12b reflects the light emitted from the light emitting layers 110b1 to 110b3 toward the substrate 2, and is preferably made of an Ag film, an Al / Ag laminated film, or the like in addition to the Al film. The thickness is preferably in the range of 100 to 1000 nm, for example. Note that the number of cathodes is not limited to 12, and any cathode can be used as long as it can efficiently inject electrons into the light emitting layer 110b.

このように構成された本実施形態の有機EL表示装置1によれば、図3に示すように、発光層110bから側方に射出され、無機物バンク層112a内を導波した発光光Lが、無機物バンク層112aの上面112cにおいて散乱され、その一部の光L1が視認方向に反射される。すなわち、従来、発光層110bから側方に射出され、無機物バンク層112aを導波し、いずれ消滅していた発光光が、視認方向に反射されるため、本実施形態の有機EL表示装置1によれば、従来の有機EL表示装置と比較して発光光の出射効率を向上させることができる。   According to the organic EL display device 1 of the present embodiment configured as described above, as shown in FIG. 3, the emitted light L emitted sideways from the light emitting layer 110b and guided in the inorganic bank layer 112a is The light is scattered on the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a, and a part of the light L1 is reflected in the viewing direction. That is, conventionally emitted light that has been emitted laterally from the light emitting layer 110b, guided through the inorganic bank layer 112a, and eventually disappeared is reflected in the viewing direction, so that it is reflected in the organic EL display device 1 of the present embodiment. Accordingly, the emission efficiency of the emitted light can be improved as compared with the conventional organic EL display device.

このような本実施形態の有機EL表示装置1においては、上述のように、無機物バンク層112a内を導波した発光光Lが無機物バンク層112aの上面112cにおいて散乱され、その一部の光L1が視認方向に反射されるため、見かけ上、発光光Lを散乱する無機物バンク層112aの上面112cが発光しているように視認される。このため、本実施形態の有機EL表示装置1では、有機物バンク層112bによって区画された領域、すなわち、有機機能層配置領域である画素領域Aと無機物バンク層112aの上面112cとを含む領域が発光領域bとされている。
したがって、本実施形態の有機EL表示装置1は、発光光の出射効率が向上され、さらに、従来よりも広い領域が発光領域とされているため、従来の有機EL表示装置と比較して優れた表示特性を得ることができる。
また、逆に、従来の有機EL表示装置と同等の表示特性で十分な場合には、無機物バンク層112aの上面112cが含まれる従来よりも広い領域が発光領域とされているため、従来の有機EL表示装置と比較して発光領域に対する電流印加面積を減少させることができる。このため、小さな駆動電流で従来の有機EL表示装置と同等の表示特性を得ることができ、信頼性の優れた有機EL表示装置を実現できる。
また、図3に示すように、本実施形態の有機EL表示装置1では、有機機能層110すなわち画素領域Aが発光領域bの略中央に配置された構成を採用しているが、本実施形態の有機EL表示装置1によれば、無機物バンク層112aの上面112cが発光領域bとして用いることができるため、画素領域Aを発光領域bの略中央から外して配置する構成を採用することができる。
In the organic EL display device 1 of this embodiment, as described above, the emitted light L guided in the inorganic bank layer 112a is scattered on the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a, and a part of the light L1 is emitted. Is reflected in the viewing direction, so that it appears as if the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a that scatters the emitted light L is emitted. Therefore, in the organic EL display device 1 of the present embodiment, the region partitioned by the organic bank layer 112b, that is, the region including the pixel region A that is the organic functional layer arrangement region and the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a emits light. Region b.
Accordingly, the organic EL display device 1 according to the present embodiment has improved emission efficiency of emitted light, and further has a wider area than the conventional one, which is superior to the conventional organic EL display device. Display characteristics can be obtained.
On the contrary, when the display characteristics equivalent to those of the conventional organic EL display device are sufficient, a wider area than the conventional area including the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a is set as the light emitting area. Compared with the EL display device, the current application area to the light emitting region can be reduced. For this reason, display characteristics equivalent to those of a conventional organic EL display device can be obtained with a small drive current, and an organic EL display device with excellent reliability can be realized.
As shown in FIG. 3, the organic EL display device 1 of the present embodiment employs a configuration in which the organic functional layer 110, that is, the pixel region A is disposed at the approximate center of the light emitting region b. According to the organic EL display device 1, since the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a can be used as the light emitting region b, it is possible to adopt a configuration in which the pixel region A is arranged away from the approximate center of the light emitting region b. .

また、図3に示すように、本実施形態の有機EL表示装置1においては、陰極12が発光素子部11の全面に形成されているため、無機物バンク層112aの上面112cと隣接されている。このため、本実施形態の有機EL表示装置1では、陰極12は、発光層110bに電子を注入する役割を果たすと共に、無機物バンク層112aの上面112cにおいて発光光Lが散乱されることにより、上方向(陰極側方向)に反射された光を視認方向に反射する反射膜として機能する。このように、本実施形態の有機EL表示装置1では、陰極12が無機物バンク層112aの上面112cと隣接されていることによって、上方向に反射された発光光の一部も視認方向に射出することができるため、より発光光の出射効率を向上させることができる。   Further, as shown in FIG. 3, in the organic EL display device 1 of the present embodiment, the cathode 12 is formed on the entire surface of the light emitting element portion 11, and therefore is adjacent to the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a. For this reason, in the organic EL display device 1 of the present embodiment, the cathode 12 plays a role of injecting electrons into the light emitting layer 110b, and the emitted light L is scattered on the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a. It functions as a reflective film that reflects light reflected in the direction (cathode side direction) in the viewing direction. As described above, in the organic EL display device 1 of the present embodiment, since the cathode 12 is adjacent to the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a, part of the emitted light reflected upward is also emitted in the viewing direction. Therefore, the emission efficiency of emitted light can be further improved.

また、本実施形態の有機EL表示装置1においては、無機物バンク層112aの上面112cの表面粗さが、Ra=10〜100nmとされていることが好ましい。このように、無機物バンク層112aの上面112cの表面粗さをRa=10〜100nmとすることによって、より発光光を無機物バンク層112aの上面112cで散乱させることができ、より発光光の出射効率を向上させることができる。   In the organic EL display device 1 of the present embodiment, the surface roughness of the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a is preferably Ra = 10 to 100 nm. Thus, by setting the surface roughness of the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a to Ra = 10 to 100 nm, more emitted light can be scattered by the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a, and the emission efficiency of the emitted light can be further increased. Can be improved.

次に、本実施形態の有機EL表示装置1の製造方法を図面を参照して説明する。本実施形態の有機EL表示装置1の製造方法は、例えば、(1)無機物バンク層形成工程、(2)粗面化工程、(3)有機物バンク層形成工程、(4)親液化及び撥液化処理工程、(5)正孔注入/輸送層形成工程、(6)発光層形成工程、(7)陰極形成工程、及び(8)封止工程とを具備して構成されている。なお、製造方法はこれに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。なお、(5)正孔注入/輸送層形成工程、(6)発光層形成工程は、液滴吐出装置を用いた液滴吐出法(インクジェット法)を用いて行った。   Next, a method for manufacturing the organic EL display device 1 of the present embodiment will be described with reference to the drawings. The manufacturing method of the organic EL display device 1 of the present embodiment includes, for example, (1) an inorganic bank layer forming step, (2) a roughening step, (3) an organic bank layer forming step, and (4) lyophilic and lyophobic. A processing step, (5) a hole injection / transport layer forming step, (6) a light emitting layer forming step, (7) a cathode forming step, and (8) a sealing step. In addition, a manufacturing method is not restricted to this, When other processes are removed as needed, it may be added. The (5) hole injection / transport layer forming step and (6) light emitting layer forming step were performed using a droplet discharge method (inkjet method) using a droplet discharge device.

(1)無機物バンク層形成工程
無機物バンク層形成工程は、基板2の支持表面2a上に無機物バンク層112a(土手部)及び基板2の有機物バンク層112aを形成する工程である。以下に形成方法について説明する。
まず、図4(a)に示すように、基板2の支持表面2a上に走査線、信号線、薄膜トランジスタ123等の回路素子部14を有し、層間絶縁膜144a,144bの上に複数の画素電極111が形成された素子基板を準備する。そして、この基板2上に、ポリシラザンを用いた液相法により、上面112cが平坦化された、SiOからなる無機物バンク層112aを図4(b)に示すように形成する。
(1) Inorganic bank layer forming step The inorganic bank layer forming step is a step of forming the inorganic bank layer 112 a (bank portion) and the organic bank layer 112 a of the substrate 2 on the support surface 2 a of the substrate 2. The formation method will be described below.
First, as shown in FIG. 4A, a circuit element portion 14 such as a scanning line, a signal line, and a thin film transistor 123 is provided on a support surface 2a of a substrate 2, and a plurality of pixels are provided on interlayer insulating films 144a and 144b. An element substrate on which the electrode 111 is formed is prepared. Then, an inorganic bank layer 112a made of SiO 2 having a flat upper surface 112c is formed on the substrate 2 by a liquid phase method using polysilazane as shown in FIG. 4B.

(2)粗面化工程(反射部形成工程)
粗面化工程は、無機物バンク層112aの上面112cを粗面化する工程である。この粗面化工程では、図4(c)に示すように無機物バンク層112aの上面112cに対してCFプラズマ処理を行うことによって、無機物バンク層112aの上面112cを粗面化する。なお、この粗面化工程において、無機物バンク112aの上面112cの表面粗さがRa=10〜100nmとなるように、粗面化することが好ましい。このように無機物バンク112aの上面112cの表面粗さをRa=10〜100nmとすることによって、無機物バンク112aの上面112c(散乱部)において発光光をより効率的に散乱することができる。なお、本粗面化工程を行わなくても、上述の無機物バンク層形成工程において、無機物バンク層112aの上面112cが粗面化されている場合には、本粗面化工程を行わなくても良い。
(2) Roughening process (reflection part forming process)
The roughening step is a step of roughening the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a. In the roughening step, as shown in FIG. 4C, the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a is roughened by performing CF 4 plasma treatment on the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a. In this roughening step, it is preferable that the surface roughness of the upper surface 112c of the inorganic bank 112a is roughened so that Ra = 10 to 100 nm. Thus, by setting the surface roughness of the upper surface 112c of the inorganic bank 112a to Ra = 10 to 100 nm, the emitted light can be more efficiently scattered on the upper surface 112c (scattering portion) of the inorganic bank 112a. In addition, even if this roughening process is not performed, in the above-mentioned inorganic bank layer formation process, when the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a is roughened, even if this roughening process is not performed. good.

(3)有機物バンク層形成工程
有機物バンク層形成工程は、発光領域bを区画するための有機物バンク層112bを発光領域b間に形成する工程である。まず、この有機物バンク層形成工程を行う前に、無機物バンク層112aをエッチングすることによって、内部に有機機能層110が配置される開口部112a1と、発光領域b間に位置する開口部112a2を形成する。なお、この開口部112a1によって、有機機能層配置領域である画素領域Aが形成される。
その後、有機物バンク層形成工程を行うが、具体的には、有機物バンク材料を、例えばスピンコート法によって所定の厚みで配置し、この配置された有機物バンク材料を予備焼成した後、周知のフォトリソグラフィ法を用いて有機物バンク材料をパターニングし、さらに本焼成を行うことによって、図4(d)に示すような、無機物バンク112aの開口部112a2上に配置される有機物バンク層112bが形成される。
なお、本発明の土手部形成工程は、本実施形態において無機物バンク層形成工程及び有機物バンク層形成工程とを有して構成されている。
(3) Organic Bank Layer Forming Step The organic bank layer forming step is a step of forming an organic bank layer 112b for partitioning the light emitting region b between the light emitting regions b. First, before performing the organic bank layer forming step, the inorganic bank layer 112a is etched to form an opening 112a1 in which the organic functional layer 110 is disposed and an opening 112a2 located between the light emitting regions b. To do. Note that the pixel region A, which is an organic functional layer arrangement region, is formed by the opening 112a1.
Thereafter, an organic bank layer forming step is performed. Specifically, an organic bank material is arranged with a predetermined thickness by, for example, a spin coating method, and the arranged organic bank material is pre-baked, and then known photolithography is performed. By patterning the organic bank material using the method and further performing the main baking, the organic bank layer 112b disposed on the opening 112a2 of the inorganic bank 112a as shown in FIG. 4D is formed.
In addition, the bank part formation process of this invention has the inorganic substance bank layer formation process and the organic substance bank layer formation process in this embodiment, and is comprised.

(4)親液化及び撥液化処理工程
親液化処理工程は、無機物バンク112aの開口部112a1に露出した画素電極111の表面を活性化することを目的として行われる。
親液化処理工程としては、紫外線を照射することにより画素電極111の表面を親液化する紫外線(UV)照射処理や大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするOプラズマ処理等を選択できるが、ここではOプラズマ処理を実施する。
具体的には、画素電極111の表面に対しプラズマ放電電極からプラズマ状態の酸素を照射することによって、画素電極111上の残渣が処理され、これによって画素電極111に対して親液性を付与する。
そして、さらにこの基板表面にCFプラズマ処理を施すことにより、有機バンク112b表面を選択的に撥水化処理する。
(4) Lipophilic and lyophobic treatment process The lyophilic process is performed for the purpose of activating the surface of the pixel electrode 111 exposed in the opening 112a1 of the inorganic bank 112a.
As the lyophilic treatment step, an ultraviolet (UV) irradiation treatment for lyophilicizing the surface of the pixel electrode 111 by irradiating ultraviolet rays, an O 2 plasma treatment using oxygen as a treatment gas in an atmospheric atmosphere, or the like can be selected. Then, O 2 plasma treatment is performed.
Specifically, the residue on the pixel electrode 111 is treated by irradiating the surface of the pixel electrode 111 with plasma oxygen from the plasma discharge electrode, thereby imparting lyophilicity to the pixel electrode 111. .
Further, the surface of the organic bank 112b is selectively subjected to water repellency by performing CF 4 plasma treatment on the substrate surface.

(5)正孔注入/輸送層形成工程
続いて、画素電極111が形成された基板2上に、正孔注入/輸送層110aを形成する。正孔注入/輸送層形成工程では、ここでは、液滴吐出法を用いることにより、正孔注入/輸送層形成材料を含む極性溶媒を組成物インクBとして画素電極111上に吐出する。その後に乾燥処理及び熱処理を行い、画素電極111上に正孔注入/輸送層110aを形成する。なお、この正孔注入/輸送層形成工程を含め、以降の工程は、例えば窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。
(5) Hole Injection / Transport Layer Formation Step Subsequently, the hole injection / transport layer 110a is formed on the substrate 2 on which the pixel electrode 111 is formed. In the hole injection / transport layer forming step, here, a polar solvent containing a hole injection / transport layer forming material is discharged onto the pixel electrode 111 as the composition ink B by using a droplet discharge method. Thereafter, a drying process and a heat treatment are performed to form the hole injection / transport layer 110 a on the pixel electrode 111. The subsequent steps including the hole injection / transport layer forming step are preferably performed in an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere or an argon atmosphere.

液滴吐出法による正孔注入/輸送層110aの形成手順としては、液滴を吐出するための吐出ヘッド(図示略)に、正孔注入/輸送層110aの材料を含有する組成物インクを充填し、吐出ヘッドの吐出ノズルを、バンク部112の開口部内に位置する画素電極111に対向させ、吐出ヘッドと基板2とを相対移動させながら、吐出ノズルから1滴当たりの液量が制御されたインク滴を吐出し、画素電極111上に配置する。
その後、吐出後のインク滴を乾燥処理して組成物インクに含まれる極性溶媒を蒸発させることにより、図5(e)に示すように、所望の膜厚の正孔注入/輸送層110aが無機物バンク層112aの開口部112a1内に形成される。
As a procedure for forming the hole injection / transport layer 110a by the droplet discharge method, a discharge head (not shown) for discharging droplets is filled with a composition ink containing the material of the hole injection / transport layer 110a. The amount of liquid per droplet was controlled from the discharge nozzle while the discharge nozzle of the discharge head was opposed to the pixel electrode 111 positioned in the opening of the bank unit 112 and the discharge head and the substrate 2 were relatively moved. Ink droplets are ejected and placed on the pixel electrode 111.
Thereafter, the ejected ink droplets are dried to evaporate the polar solvent contained in the composition ink, so that the hole injection / transport layer 110a having a desired film thickness becomes an inorganic substance as shown in FIG. It is formed in the opening 112a1 of the bank layer 112a.

ここで用いる組成物としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることができる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン(NMP)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。より具体的な組成物の組成としては、PEDOT:PSS混合物(PEDOT/PSS=1:20):12.52重量%、PSS:1.44重量%、IPA:10重量%、NMP:27.48重量%、DMI:50重量%のものを例示できる。なお、組成物の粘度は2〜20Ps程度が好ましく、特に4〜15cPs程度が良い。   As the composition used here, for example, a composition obtained by dissolving a mixture of a polythiophene derivative such as polyethylenedioxythiophene (PEDOT) and polystyrenesulfonic acid (PSS) in a polar solvent can be used. Examples of the polar solvent include isopropyl alcohol (IPA), normal butanol, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone (NMP), 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (DMI) and its derivatives, carbitol acetate And glycol ethers such as butyl carbitol acetate. More specifically, the composition of the PEDOT: PSS mixture (PEDOT / PSS = 1: 20): 12.52 wt%, PSS: 1.44 wt%, IPA: 10 wt%, NMP: 27.48 A weight%, DMI: 50 weight% can be illustrated. The viscosity of the composition is preferably about 2 to 20 Ps, particularly about 4 to 15 cPs.

(6)発光層形成工程
次に、正孔注入/輸送層110aが積層された画素電極111上に発光層110bを形成する。ここでは液滴吐出法により、発光層用材料を含む組成物インクを正孔注入/輸送層110a上に吐出し、その後に乾燥処理及び熱処理して、バンク部112に形成された開口部内に各色発光層110b1〜110b3を形成する。
(6) Light-Emitting Layer Formation Step Next, the light-emitting layer 110b is formed on the pixel electrode 111 on which the hole injection / transport layer 110a is stacked. Here, a composition ink containing a light emitting layer material is discharged onto the hole injection / transport layer 110a by a droplet discharge method, and then dried and heat-treated, and each color is formed in the opening formed in the bank portion 112. The light emitting layers 110b1 to 110b3 are formed.

発光層形成工程では、正孔注入/輸送層110aの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる組成物インクの溶媒として、正孔注入/輸送層110aに対して不溶な無極性溶媒を用いる。この場合、無極性溶媒に対する正孔注入/輸送層110aの表面の濡れ性を高めるために、発光層形成の前に表面改質工程を行うのが好ましい。表面改質工程は、例えば上記無極性溶媒と同一溶媒又はこれに類する溶媒を液滴吐出法、スピンコート法又はディップ法等により正孔注入/輸送層110a上に塗布した後に乾燥することにより行う。なお、ここで用いる表面改質用溶媒は、組成物インクの無極性溶媒と同一なものとして例えば、シクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を例示でき、組成物インクの無極性溶媒に類するものとしては、例えばトルエン、キシレン等を例示することができる。   In the light emitting layer forming step, non-polarity that is insoluble in the hole injecting / transporting layer 110a is used as a solvent for the composition ink used in forming the light emitting layer in order to prevent re-dissolution of the hole injecting / transporting layer 110a. Use solvent. In this case, in order to improve the wettability of the surface of the hole injection / transport layer 110a with respect to the nonpolar solvent, it is preferable to perform a surface modification step before forming the light emitting layer. The surface modification step is performed, for example, by applying the same solvent as the nonpolar solvent or a similar solvent on the hole injection / transport layer 110a by a droplet discharge method, a spin coating method, a dip method, or the like and then drying. . Examples of the surface modifying solvent used here are cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran, trimethylbenzene, tetramethylbenzene and the like as the nonpolar solvent of the composition ink. Examples of the solvent are toluene, xylene and the like.

液滴吐出法による発光層の形成手順としては、まず青色発光層の形成に際しては、吐出ヘッド(図示略)に青色発光層110b3を形成する材料を含有する無極性溶媒を組成物インクとして充填し、吐出ヘッドの吐出ノズルを、有機物バンク層112bの開口部112b1内に位置する青色(B)用の正孔注入/輸送層110aに対向させ、吐出ヘッドと基板2とを相対移動させながら、吐出ノズルから1滴当たりの液量が制御されたインク滴を吐出する。吐出されたインク滴は、正孔注入/輸送層110a上に広がって無機物バンク層112aの開口部112a1内に満たされる。続いて、吐出後のインク滴を乾燥処理することによって組成物インクに含まれる無極性溶媒が蒸発し、図5(f)に示すように、所望の膜厚の青色発光層110b3が形成される。   As a procedure for forming a light emitting layer by the droplet discharge method, first, when forming a blue light emitting layer, a nonpolar solvent containing a material for forming the blue light emitting layer 110b3 is filled in the discharge head (not shown) as a composition ink. The discharge head of the discharge head is opposed to the blue (B) hole injection / transport layer 110a located in the opening 112b1 of the organic bank layer 112b, and the discharge head and the substrate 2 are moved relative to each other. Ink droplets having a controlled amount of liquid per droplet are ejected from the nozzle. The ejected ink droplet spreads on the hole injection / transport layer 110a and fills the opening 112a1 of the inorganic bank layer 112a. Subsequently, the non-polar solvent contained in the composition ink is evaporated by drying the ejected ink droplets, and a blue light emitting layer 110b3 having a desired film thickness is formed as shown in FIG. 5 (f). .

青色発光層110b3を形成する発光材料としては、例えばポリジアルキルフルオレンおよびその誘導体、ジスチリルビフェニルおよびその誘導体、テトラフェニルブタジエンおよびその誘導体などの有機EL材料からなるものを用いることができる。一方、無極性溶媒としては、正孔注入/輸送層に対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロヘキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることができる。   As a light emitting material for forming the blue light emitting layer 110b3, for example, a material made of an organic EL material such as polydialkylfluorene and a derivative thereof, distyrylbiphenyl and a derivative thereof, tetraphenylbutadiene and a derivative thereof can be used. On the other hand, as the nonpolar solvent, those insoluble in the hole injection / transport layer are preferable. For example, cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran, trimethylbenzene, tetramethylbenzene, and the like can be used.

続いて、図5(g)に示すように、正孔注入/輸送層110aが配置された赤色(R)及び緑色(G)用の画素電極111の上に、赤色発光層110b1及び緑色発光層110b2をそれぞれ形成する。この赤色及び緑色発光層形成工程は、前述した青色発光層形成工程と同様の手順で行われる。すなわち、液滴吐出法により、緑色発光層110b2を形成する材料を含む組成物インクを緑色(G)用の正孔注入/輸送層110a上に吐出した後に乾燥処理及び熱処理して、有機物バンク層112bに形成された開口部112b1内に所望の膜厚の緑色発光層110b2を形成する。また、液滴吐出法により、赤色発光層110b1を形成する材料を含む組成物インクを赤色(R)用の正孔注入/輸送層110a上に吐出した後に乾燥処理及び熱処理して、有機物バンク層112bに形成された開口部112b1内に所望の膜厚の赤色発光層110b1を形成する。なお、緑色発光層110b2を形成する発光材料としては、例えばポリパラフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリフルオレン誘導体F8BTなどの有機EL材料からなるものを用いることができ、赤色発光層110b1を形成する発光材料としては、例えばローダミンなどの色素をポリパラフェニレンビニレンに添加したもの、あるいはポリフルオレン誘導体などの有機EL材料からなるものを用いることができる。
なお、本発明の有機機能層形成工程は、本実施形態において正孔注入/輸送層形成工程及び発光層形成工程を有して構成されている。
Subsequently, as shown in FIG. 5G, the red light emitting layer 110b1 and the green light emitting layer are formed on the red (R) and green (G) pixel electrodes 111 on which the hole injection / transport layer 110a is disposed. 110b2 is formed. The red and green light emitting layer forming steps are performed in the same procedure as the blue light emitting layer forming step described above. That is, a composition ink containing a material for forming the green light emitting layer 110b2 is ejected onto the green (G) hole injecting / transporting layer 110a by a droplet ejection method, and then dried and heat-treated to form an organic bank layer. A green light emitting layer 110b2 having a desired thickness is formed in the opening 112b1 formed in 112b. In addition, a composition ink containing a material for forming the red light-emitting layer 110b1 is discharged onto the red (R) hole injection / transport layer 110a by a droplet discharge method, and then dried and heat-treated to thereby form an organic bank layer. A red light emitting layer 110b1 having a desired thickness is formed in the opening 112b1 formed in 112b. In addition, as a luminescent material which forms green light emitting layer 110b2, what consists of organic EL materials, such as polyparaphenylene vinylene and its derivative (s), polyfluorene derivative F8BT, can be used, for example, and the luminescent material which forms red light emitting layer 110b1 For example, a material obtained by adding a pigment such as rhodamine to polyparaphenylene vinylene or a material made of an organic EL material such as a polyfluorene derivative can be used.
In addition, the organic functional layer formation process of this invention has a positive hole injection / transport layer formation process and a light emitting layer formation process in this embodiment, and is comprised.

(7)陰極形成工程
次に、図5(h)に示すように、画素電極(陽極)111と対をなす対向電極(陰極)12を形成する。すなわち、各色発光層110b及び有機物バンク層112bを含む基板2上の領域全面に、カルシウム層12aとアルミニウム層12bとを順次積層して陰極12を形成する。これにより、各色発光層110bの形成領域全体に、陰極12が積層され、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の各色に対応する有機EL素子がそれぞれ形成される。陰極12は、例えば蒸着法、スパッタ法、CVD法等で形成することが好ましく、特に蒸着法で形成することが、熱や電子線による発光層110bの損傷を防止できる点で好ましい。また陰極12上に、酸化防止のためにSiO、SiN等の保護層を設けても良い。またCaの他に、仕事関数が3.5eV以下の金属、例えばMg,Sr、Ba、Li、Na、K、Yb、Smなどを用いることができる。またこれらの金属を蒸着する前に、電子注入層または正孔ブロック層としてLiF、Li2Oなど、金属の酸化物や弗化物、金属錯体などを製膜しても良い。補助陰極としてAlの他、銀など反射性の高い金属を用いることができる。
(7) Cathode Formation Step Next, as shown in FIG. 5H, a counter electrode (cathode) 12 that forms a pair with the pixel electrode (anode) 111 is formed. That is, the cathode 12 is formed by sequentially laminating the calcium layer 12a and the aluminum layer 12b on the entire surface of the substrate 2 including each color light emitting layer 110b and the organic bank layer 112b. Thereby, the cathode 12 is laminated | stacked on the whole formation area of each color light emitting layer 110b, and the organic EL element corresponding to each color of red (R), green (G), and blue (B) is formed, respectively. The cathode 12 is preferably formed by, for example, a vapor deposition method, a sputtering method, a CVD method, or the like, and particularly preferably formed by a vapor deposition method in terms of preventing damage to the light emitting layer 110b due to heat or an electron beam. Further, a protective layer such as SiO 2 or SiN may be provided on the cathode 12 to prevent oxidation. In addition to Ca, metals having a work function of 3.5 eV or less, such as Mg, Sr, Ba, Li, Na, K, Yb, and Sm can be used. Further, before depositing these metals, a metal oxide, fluoride, metal complex, or the like such as LiF or Li 2 O may be formed as an electron injection layer or a hole blocking layer. In addition to Al, a highly reflective metal such as silver can be used as the auxiliary cathode.

このような陰極12は、アルミニウム層12bを含んでいるため、発光光を反射する機能を有している。そして、陰極12は基板2上の領域全面に形成されるため、無機物バンク112aの上面112c上にも形成される。このため、本実施形態の有機EL表示装置1においては、陰極12を本発明の反射膜として用いることができる。また、本実施形態の有機EL表示装置の製造方法においては、陰極12を形成するのと同時に本発明の反射膜を形成することができる。   Since such a cathode 12 includes the aluminum layer 12b, it has a function of reflecting emitted light. Since the cathode 12 is formed on the entire surface of the substrate 2, it is also formed on the upper surface 112c of the inorganic bank 112a. For this reason, in the organic EL display device 1 of the present embodiment, the cathode 12 can be used as the reflective film of the present invention. Moreover, in the manufacturing method of the organic EL display device of this embodiment, the reflective film of the present invention can be formed simultaneously with the formation of the cathode 12.

(8)封止工程
最後に、表示素子部10が形成された基板2と封止缶3bとを封止樹脂を介して封止する。例えば、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる封止樹脂を基板2の周縁部に塗布し、封止樹脂上に封止缶3bを配置する。封止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極12にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水や酸素等が陰極12に侵入して陰極12が酸化されるおそれがあるので好ましくない。もちろん封止缶ではなく、ガラス基板を上記効果樹脂で全面に渡り張り合わせても良い。あるいは、ガスバリア性の高い薄膜で封止しても良い。この場合、多層構造化することによりガスバリア性は向上する。
(8) Sealing process Finally, the board | substrate 2 in which the display element part 10 was formed, and the sealing can 3b are sealed via sealing resin. For example, a sealing resin made of a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin is applied to the peripheral portion of the substrate 2, and the sealing can 3b is disposed on the sealing resin. The sealing step is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, argon, or helium. If it is carried out in the air, when a defect such as a pinhole has occurred in the cathode 12, water or oxygen may enter the cathode 12 from the defective portion and the cathode 12 may be oxidized, which is not preferable. Of course, instead of the sealing can, a glass substrate may be bonded over the entire surface with the above-mentioned effect resin. Or you may seal with a thin film with high gas-barrier property. In this case, the gas barrier property is improved by forming a multilayer structure.

この後、基板2の配線に陰極12を接続するとともに、基板2上あるいは外部に設けられる駆動IC(駆動回路)に回路素子部14の配線を接続することにより、本実施形態の有機EL表示装置1が完成する。   Thereafter, the cathode 12 is connected to the wiring of the substrate 2, and the wiring of the circuit element unit 14 is connected to a driving IC (driving circuit) provided on or outside the substrate 2, whereby the organic EL display device of the present embodiment. 1 is completed.

(実施例)
SiOからなる無機物バンク層を形成し、この無機物バンク層の上面をCFプラズマで、表面粗さがRa=50nmとなるように粗面化した上記第1実施形態に示す有機EL表示装置を実際に製造したところ、従来の有機EL表示装置と比較して、出射効率が1.5倍となることが確認された。
(Example)
An organic EL display device according to the first embodiment in which an inorganic bank layer made of SiO 2 is formed, and the upper surface of the inorganic bank layer is roughened with CF 4 plasma so that the surface roughness Ra = 50 nm is provided. When actually manufactured, the emission efficiency was confirmed to be 1.5 times that of the conventional organic EL display device.

(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について図6を参照して説明する。なお、本第2実施形態の説明において、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the description of the second embodiment, the description of the same parts as in the first embodiment will be omitted or simplified.

図6は、本第2実施形態の有機EL表示装置4における表示領域の断面構造を拡大した図である。この図に示す本第2実施形態の有機EL表示装置4は、上記第1実施形態の有機EL表示装置1が備える無機物バンク層112aの代わりに、有機物からなる有機物バンク層112d(土台部)が備えられている。この有機物バンク層112dは、発光領域b間に形成される有機物バンク層112bと異なり、発光光Lに対して透光性を有する材料によって形成されている。そして、本第2実施形態の有機EL表示装置4においては、有機物バンク層112dの上面112eが粗面化されている。   FIG. 6 is an enlarged view of the cross-sectional structure of the display region in the organic EL display device 4 of the second embodiment. The organic EL display device 4 of the second embodiment shown in this figure has an organic bank layer 112d (base portion) made of an organic substance instead of the inorganic bank layer 112a provided in the organic EL display device 1 of the first embodiment. Is provided. Unlike the organic bank layer 112b formed between the light emitting regions b, the organic bank layer 112d is formed of a material that is transparent to the emitted light L. In the organic EL display device 4 of the second embodiment, the upper surface 112e of the organic bank layer 112d is roughened.

このような構成を有する本第2実施形態の有機EL表示装置4においても、発光層110bから射出され、有機物バンク層112dを導波する発光光Lが、有機物バンク層112dの上面112eにおいて散乱され、その一部の光L1が視認方向に反射される。このため、本第2実施形態の有機EL表示装置においても、従来の有機EL表示装置よりも出射効率を向上することができる。   Also in the organic EL display device 4 of the second embodiment having such a configuration, the emitted light L emitted from the light emitting layer 110b and guided through the organic bank layer 112d is scattered on the upper surface 112e of the organic bank layer 112d. , A part of the light L1 is reflected in the viewing direction. For this reason, also in the organic EL display device of the second embodiment, the emission efficiency can be improved as compared with the conventional organic EL display device.

なお、発光層110bから側方に射出された発光光Lが、発光層110bと有機物バンク層112dとの界面において反射されると、この反射された発光光Lは、発光層110b内に閉じ込められ、いずれ消滅してしまう。このため、発光層110bと有機物バンク層112dとの界面における反射率を低減することが、有機EL表示装置の出射効率の向上の一要因となる。したがって、本第2実施形態の有機EL表示装置4においては、発光層110bと有機物バンク層112dとを略同一の屈折率を有する材料によって形成することが好ましい。現在の発光層110bの屈折率は、約1.7であるため、本第2実施形態の有機EL表示装置4では、主骨格がビスフェノール系の材料からなる有機物バンク層112dを採用することが好ましい。これによって、発光層110bの屈折率と有機物バンク層112dの屈折率とを略同一とすることができ、発光層110bと有機物バンク層112dとの界面における反射率を低減することができる。したがって、有機物バンク層112d内を導波する発光光Lの光量が増加し、より有機EL表示装置4の出射効率を向上させることができる。なお、発光層110bの屈折率が1.7から変化された場合には、それに適した材料からなる有機物バンク層112dを形成することが好ましい。   When the emitted light L emitted laterally from the light emitting layer 110b is reflected at the interface between the light emitting layer 110b and the organic bank layer 112d, the reflected emitted light L is confined in the light emitting layer 110b. , Will eventually disappear. For this reason, reducing the reflectance at the interface between the light emitting layer 110b and the organic bank layer 112d is a factor in improving the emission efficiency of the organic EL display device. Therefore, in the organic EL display device 4 of the second embodiment, it is preferable to form the light emitting layer 110b and the organic bank layer 112d with materials having substantially the same refractive index. Since the current refractive index of the light emitting layer 110b is about 1.7, it is preferable to employ the organic bank layer 112d whose main skeleton is made of a bisphenol-based material in the organic EL display device 4 of the second embodiment. . Accordingly, the refractive index of the light emitting layer 110b and the refractive index of the organic bank layer 112d can be made substantially the same, and the reflectance at the interface between the light emitting layer 110b and the organic bank layer 112d can be reduced. Accordingly, the amount of the emitted light L guided in the organic bank layer 112d is increased, and the emission efficiency of the organic EL display device 4 can be further improved. When the refractive index of the light emitting layer 110b is changed from 1.7, it is preferable to form the organic bank layer 112d made of a material suitable for the refractive index.

(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について、図7及び図8を参照して説明する。なお、本第3実施形態の説明において、上記第2実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the description of the third embodiment, the description of the same parts as those of the second embodiment will be omitted or simplified.

図7は、本第3実施形態の有機EL表示装置5における表示領域の断面構造を拡大した図である。この図に示す本第3実施形態の有機EL表示装置4では、有機物バンク層112dの上面112eが、導光板の反射面形状に形状設定されている。このように、有機物バンク層112dの上面112eを導光板の反射面形状とすることによって、より多くの発光光Lを視認方向に反射させることができる。このため、本第3実施形態の有機EL表示装置5によれば、より出射効率を向上させることができる。   FIG. 7 is an enlarged view of the cross-sectional structure of the display region in the organic EL display device 5 of the third embodiment. In the organic EL display device 4 of the third embodiment shown in this figure, the upper surface 112e of the organic bank layer 112d is set to the reflective surface shape of the light guide plate. In this way, by making the upper surface 112e of the organic bank layer 112d into the shape of the reflecting surface of the light guide plate, more emitted light L can be reflected in the viewing direction. For this reason, according to the organic EL display device 5 of the third embodiment, the emission efficiency can be further improved.

なお、このような構成を有する本第3実施形態の有機EL表示装置5の有機物バンク層112dを形成する場合には、図8に示すように、光硬化性の樹脂材料を基板上に塗布し、この樹脂材料に対して、導光板の反射面形状が押圧面K1に形成された型Kを押圧する。その後、樹脂材料を光照射によって硬化させ、型Kを取り除いた後、パターニングすることによって、上面112eが導光板の反射面形状とされた有機物バンク層112dを形成することができる。そして、このような工程を行うことによって、上面112eが導光板の反射面形状とされた有機物バンク層112dを備える有機EL表示装置5を製造することができる。   When forming the organic bank layer 112d of the organic EL display device 5 of the third embodiment having such a configuration, a photocurable resin material is applied on the substrate as shown in FIG. The mold K in which the reflection surface shape of the light guide plate is formed on the pressing surface K1 is pressed against the resin material. Thereafter, the resin material is cured by light irradiation, the mold K is removed, and then patterning is performed, whereby the organic bank layer 112d having the upper surface 112e that is the reflective surface shape of the light guide plate can be formed. And by performing such a process, the organic electroluminescence display 5 provided with the organic substance bank layer 112d by which the upper surface 112e was made into the reflective surface shape of a light-guide plate can be manufactured.

(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態について、図9を参照して説明する。なお、本第4実施形態において、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Note that in the fourth embodiment, the description of the same parts as those in the first embodiment will be omitted or simplified.

図9は、本第4実施形態の有機EL表示装置6における表示領域の断面構造を拡大した図である。この図に示すように、本第4実施形態の有機EL表示装置6は、逆テーパ状に形状設定された無機物バンク層112aの非発光層側の側面112fに反射膜112gが形成されている。   FIG. 9 is an enlarged view of the cross-sectional structure of the display area in the organic EL display device 6 of the fourth embodiment. As shown in this figure, in the organic EL display device 6 of the fourth embodiment, a reflective film 112g is formed on the side surface 112f on the non-light emitting layer side of the inorganic bank layer 112a that is set in a reverse taper shape.

このような構成の本第4実施形態の有機EL表示装置6によれば、発光層110bから側方に射出され、無機物バンク層112a内を導波した発光光Lが、反射膜112gによって視認方向に反射される。このため、本第4実施形態の有機EL表示装置6によれば、さらに出射効率を向上させることができ、また、さらに発光領域bを広げることができる。なお、上記第2及び第3実施形態に示す有機EL表示装置4,5においても、逆テーパ状に形状設定された有機物バンク層112dの非発光層側の側面に反射膜112gを形成することによって、出射効率を向上させ、発光領域bを広げることができる。   According to the organic EL display device 6 of the fourth embodiment having such a configuration, the emitted light L emitted laterally from the light emitting layer 110b and guided in the inorganic bank layer 112a is viewed in the viewing direction by the reflective film 112g. Is reflected. For this reason, according to the organic EL display device 6 of the fourth embodiment, the emission efficiency can be further improved, and the light emitting region b can be further expanded. In the organic EL display devices 4 and 5 shown in the second and third embodiments, the reflective film 112g is formed on the side surface on the non-light emitting layer side of the organic bank layer 112d having a reverse tapered shape. The emission efficiency can be improved and the light emitting region b can be widened.

(第5実施形態)
次に、本有機EL表示装置の第5実施形態について説明する。第1実施形態においては、有機機能層110から発した光が基板2の下側(観測者側)に放出されるようになっているのに対し、本実施形態においては封止基板3bの上側(観測者側)に放出されるようになっている。本実施形態と第1実施形態との相違点は主として材料構成であり、本実施形態においては第1実施形態と異なる部分について説明する。このため、本第5実施形態の説明は、図1〜図3を参照して説明する。
(Fifth embodiment)
Next, a fifth embodiment of the organic EL display device will be described. In the first embodiment, light emitted from the organic functional layer 110 is emitted to the lower side (observer side) of the substrate 2, whereas in the present embodiment, the upper side of the sealing substrate 3 b. (Observer side) is released. The difference between the present embodiment and the first embodiment is mainly the material configuration, and in this embodiment, the parts different from the first embodiment will be described. Therefore, the description of the fifth embodiment will be described with reference to FIGS.

本実施形態は、基板2の対向側である封止基板3b側から発光を取り出す構成であるので、基板2としては透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミック、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。   In the present embodiment, light emission is extracted from the side of the sealing substrate 3 b that is the opposite side of the substrate 2, so that either a transparent substrate or an opaque substrate can be used as the substrate 2. Examples of the opaque substrate include a thermosetting resin and a thermoplastic resin in addition to a ceramic sheet such as alumina and a metal sheet such as stainless steel that has been subjected to an insulation treatment such as surface oxidation.

また、画素電極111としては、必ずしも透明性材料に限る必要がなく、陽極の機能を満たす好適な材料が用いられ、また、光反射性を有する材料が好ましく、Al等が採用される。なお、画素電極111として透明金属のITO等を採用する場合には、その下層にAl薄膜等を形成し、光反射性を有する構成が好ましい。   In addition, the pixel electrode 111 is not necessarily limited to a transparent material, and a suitable material satisfying the function of the anode is used, and a material having light reflectivity is preferable, and Al or the like is employed. In addition, when adopting transparent metal ITO etc. as the pixel electrode 111, the structure which forms Al thin film etc. in the lower layer, and has light reflectivity is preferable.

また、陰極12の材料としては、透明性を有する必要があり、ITO等の透明金属が採用される。また、封止基板3bの材料としては、透明性を有する好適な材料が採用される。なお、封止基板3bの表面には、上述した第1実施形態の基板2の表面と同様に減反射処理を施すことが好ましい。   Moreover, as a material of the cathode 12, it needs to have transparency and transparent metals, such as ITO, are employ | adopted. Further, as the material of the sealing substrate 3b, a suitable material having transparency is adopted. In addition, it is preferable that the surface of the sealing substrate 3b is subjected to a dereflection treatment similarly to the surface of the substrate 2 of the first embodiment described above.

このように構成された有機EL表示装置においては、封止基板3b側から有機機能層110の発光を放出させることが可能になる。   In the organic EL display device configured as described above, it is possible to emit light emitted from the organic functional layer 110 from the sealing substrate 3b side.

このような構成を有する本第5実施形態の有機EL表示装置においても、無機物バンク層112aの上面112cにおいて、無機物バンク層112a内を導波した発光光Lが散乱され、その一部が上方(視認方向)に出射される。このため、本第5実施形態の有機EL表示装置においても、従来の有機EL表示装置と比較して、出射効率を向上させ、かつ、表示領域bを広げることができる。   Also in the organic EL display device of the fifth embodiment having such a configuration, the emitted light L guided in the inorganic bank layer 112a is scattered on the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a, and a part thereof is upward ( (Viewing direction). For this reason, also in the organic EL display device of the fifth embodiment, the emission efficiency can be improved and the display area b can be expanded as compared with the conventional organic EL display device.

なお、本実施形態においては、第1実施形態と変形例として説明したが、上記第2及び第3実施形態においても、基板2の対向側である封止基板3b側から発光を取り出す構成を採用することができる。   In the present embodiment, the first embodiment and the modified example have been described. However, the second and third embodiments also adopt a configuration in which light emission is extracted from the sealing substrate 3b side that is the opposite side of the substrate 2. can do.

<電子機器>
図10(a)〜(c)は、本発明の電子機器の実施の形態例を示している。本例の電子機器は、上述したエレクトロルミネッセンス装置等の本発明の有機EL表示装置を表示手段として備えている。
図10(a)は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図10(a)において、符号1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記の表示装置を用いた表示部を示している。
図10(b)は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図10(b)において、符号1100は時計本体を示し、符号1101は上記の表示装置を用いた表示部を示している。
図10(c)は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図10(c)において、符号1200は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は上記の表示装置を用いた表示部を示している。
図10(a)〜(c)に示すそれぞれの電子機器は、表示部に本発明の有機EL表示装置を備えているので、良好な発光特性を得ることができる。
<Electronic equipment>
10A to 10C show an embodiment of an electronic apparatus according to the present invention. The electronic apparatus of this example includes the organic EL display device of the present invention such as the above-described electroluminescence device as a display unit.
FIG. 10A is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 10A, reference numeral 1000 denotes a mobile phone body, and reference numeral 1001 denotes a display unit using the above display device.
FIG. 10B is a perspective view illustrating an example of a wristwatch type electronic device. In FIG. 10B, reference numeral 1100 denotes a watch body, and reference numeral 1101 denotes a display unit using the above display device.
FIG. 10C is a perspective view showing an example of a portable information processing apparatus such as a word processor or a personal computer. In FIG. 10C, reference numeral 1200 denotes an information processing apparatus, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 denotes an information processing apparatus body, and reference numeral 1206 denotes a display unit using the above display device.
Since each of the electronic devices shown in FIGS. 10A to 10C includes the organic EL display device of the present invention in the display portion, good light emission characteristics can be obtained.

なお、上述した例に加えて、他の例として、液晶テレビ、ビューファインダ型やモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、テレビ電話、POS端末、電子ペーパー、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。本発明の電気光学装置は、こうした電子機器の表示部としても適用できる。   In addition to the above-described examples, other examples include a liquid crystal television, a viewfinder type and a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a video phone, a POS terminal, electronic paper, and a touch panel. And the like. The electro-optical device of the present invention can also be applied as a display unit of such an electronic apparatus.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る有機EL表示装置とその製造方法、並びに電子機器の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   The preferred embodiments of the organic EL display device, the manufacturing method thereof, and the electronic apparatus according to the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings. Needless to say, the present invention is not limited to the above-described embodiments. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described embodiments are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

例えば、上記第1実施形態において、無機物バンク層112aを液相法を用いて形成した。しかしながら、本発明は、これに限定されるものではなく、例えば、蒸着法を用いて無機物バンク層112aを形成することができる。このような場合には、蒸着法の特性上、無機物バンク層112aの上面112cに、下地に応じた凹凸が形成されるが、このような場合であっても、無機物バンク層112aの上面112cを粗面化することによって、無機物バンク層112a内を導波した発光光Lを散乱させることができる。   For example, in the first embodiment, the inorganic bank layer 112a is formed using the liquid phase method. However, the present invention is not limited to this, and for example, the inorganic bank layer 112a can be formed using a vapor deposition method. In such a case, due to the characteristics of the vapor deposition method, unevenness corresponding to the base is formed on the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a. Even in such a case, the upper surface 112c of the inorganic bank layer 112a is not formed. By roughening the surface, the emitted light L guided through the inorganic bank layer 112a can be scattered.

本発明の第1実施形態の有機EL表示装置の構成を模式的に示す説明図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Explanatory drawing which shows typically the structure of the organic electroluminescence display of 1st Embodiment of this invention. アクティブマトリクス型有機EL表示装置の回路を示す回路図。The circuit diagram which shows the circuit of an active matrix type organic electroluminescence display. 第1実施形態の有機EL表示装置の表示領域の断面構造を示す拡大図。The enlarged view which shows the cross-section of the display area of the organic electroluminescence display of 1st Embodiment. 第1実施形態の有機EL表示装置の製造方法を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescence display of 1st Embodiment. 第1実施形態の有機EL表示装置の製造方法を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescence display of 1st Embodiment. 本発明の第2実施形態の有機EL表示装置の表示領域の断面構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the cross-section of the display area of the organic electroluminescence display of 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態の有機EL表示装置の表示領域の断面構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the cross-section of the display area | region of the organic electroluminescence display of 3rd Embodiment of this invention. 第3実施形態の有機EL表示装置の製造方法を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescence display of 3rd Embodiment. 本発明の第4実施形態の有機EL表示装置の表示領域の断面構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the cross-section of the display area of the organic electroluminescence display of 4th Embodiment of this invention. 本発明の電子機器の実施形態を示す斜視図。FIG. 14 is a perspective view showing an embodiment of an electronic apparatus according to the invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,4,5……有機EL表示装置、2……基板、110……有機機能層、110b……発光層、112a……無機物バンク層(土手部)、112c,112e……上面(散乱部,反射部)、112d……有機物バンク層(土手部)、A……画素領域(所定領域)、L……発光光、b……発光領域

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 4, 5 ... Organic EL display device, 2 ... Substrate, 110 ... Organic functional layer, 110b ... Light emitting layer, 112a ... Inorganic bank layer (bank part), 112c, 112e ... Upper surface (scattering part) , Reflective portion), 112d .... organic bank layer (bank portion), A .... pixel region (predetermined region), L..emission light, b..emission region

Claims (11)

基板の複数の所定領域に発光層を少なくとも含む有機機能層を有し、前記発光層から射出される発光光を所定の視認方向に射出することによって表示を行う有機EL表示装置であって、
前記所定領域に対応して形成された開口部内に前記有機機能層を有しかつ前記発光光に対して透光性を有する土手部と、
前記土手部内を導波する前記発光光の全部あるいは一部を前記視認方向に反射する反射部と
を備えることを特徴とする有機EL表示装置。
An organic EL display device having an organic functional layer including at least a light emitting layer in a plurality of predetermined regions of a substrate, and performing display by emitting light emitted from the light emitting layer in a predetermined viewing direction,
A bank portion having the organic functional layer in an opening formed corresponding to the predetermined region and having translucency with respect to the emitted light;
An organic EL display device comprising: a reflecting portion that reflects all or part of the emitted light guided in the bank portion in the viewing direction.
前記反射部は、前記発光光を散乱する散乱部であることを特徴とする請求項1記載の有機EL表示装置。 The organic EL display device according to claim 1, wherein the reflection unit is a scattering unit that scatters the emitted light. 前記散乱部は、粗面化された前記土手部の上面であることを特徴とする請求項2記載の有機EL表示装置。 3. The organic EL display device according to claim 2, wherein the scattering portion is a roughened upper surface of the bank portion. 前記土手部の上面は、表面粗さがRa=10〜100nmとされていることを特徴とする請求項3記載の有機EL表示装置。 The organic EL display device according to claim 3, wherein the top surface of the bank portion has a surface roughness Ra = 10 to 100 nm. 前記散乱部は、導光板の反射面形状とされた前記土手部の上面であることを特徴とする請求項2記載の有機EL表示装置。 3. The organic EL display device according to claim 2, wherein the scattering portion is an upper surface of the bank portion having a reflecting surface shape of a light guide plate. 前記土手部の上面と隣接される反射膜を有することを特徴とする請求項3〜5いずれかに記載の有機EL表示装置。 6. The organic EL display device according to claim 3, further comprising a reflective film adjacent to an upper surface of the bank portion. 基板の複数の所定領域に発光層を少なくとも含む有機機能層を有し、前記発光層から射出される発光光を所定の視認方向に射出することによって表示を行う有機EL表示装置の製造方法であって、
前記所定領域に対応して形成された開口部を有する土手部を形成する土手部形成工程と、
前記開口部内に前記有機機能層を形成する有機機能層形成工程と、
前記土手部内を導波する前記発光光の全部あるいは一部を前記視認方向に反射する反射部を形成する反射部形成工程と
を有することを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
A method of manufacturing an organic EL display device having an organic functional layer including at least a light emitting layer in a plurality of predetermined regions of a substrate and performing display by emitting light emitted from the light emitting layer in a predetermined viewing direction. And
A bank portion forming step for forming a bank portion having an opening formed corresponding to the predetermined region;
An organic functional layer forming step of forming the organic functional layer in the opening;
And a reflecting portion forming step of forming a reflecting portion that reflects all or part of the emitted light guided in the bank portion in the viewing direction.
前記反射部形成工程は、前記土手部の上面に対してプラズマ処理を行う工程を含むことを特徴とする請求項7記載の有機EL表示装置の製造方法。 The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 7, wherein the reflecting portion forming step includes a step of performing a plasma treatment on an upper surface of the bank portion. 前記反射部形成工程は、前記土手部の上面に対してウエットエッチング処理を行う工程を含むことを特徴とする請求項7記載の有機EL表示装置の製造方法。 8. The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 7, wherein the reflecting portion forming step includes a step of performing a wet etching process on an upper surface of the bank portion. 前記反射部形成工程は、前記土手部の上面に対して所定の型を押圧することによって前記土手部の上面を導光板の反射面形状に成形する工程を含むことを特徴とする請求項7記載の有機EL表示装置の製造方法。 The said reflecting part formation process includes the process of shape | molding the upper surface of the said bank part in the reflective surface shape of a light-guide plate by pressing a predetermined type | mold with respect to the upper surface of the said bank part. Manufacturing method of organic EL display device. 請求項1〜6いずれかに記載の有機EL表示装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the organic EL display device according to claim 1 as a display unit.
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