JP2005305537A - レーザ加工副次物の集塵方法及びその装置、レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工副次物の集塵方法及びその装置、レーザ加工装置 Download PDF

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Abstract

【課題】ワーク加工時に生じる副次物を効率的かつ確実に除去することができ、加工室内の温度変化が位置決め機構等に影響を及ぼすことのない副次物の集塵方法及び集塵装置を提供する。
【解決手段】加工台305近傍に開口する給気口309を有し、前記給気口と略閉鎖した室303の外部と連通し外気を導入できる第1給気手段307と、所定の隙間を介して前記第1給気手段と対向して配置され、前記第1給気手段の給気口309を介して外気を吸引し第1気流を加工空間領域302に供給するための吸引手段311,315と、前記第1給気手段の給気口の内部に配置され、前記ワークの加工面に所定の角度で衝突させるように前記第1気流より高圧の第2気流を高圧気流供給源326より供給する第2給気手段321,325と、を備え、前記第1気流は、前記ワークの加工空間領域302を覆い、前記第2気流の周囲を取り囲むような流れである。
【選択図】 図2

Description

本発明は、電子部品のレーザ加工の際に生じる副次物を捕集する集塵方法及びその装置、集塵装置を備えるレーザ加工装置に関する。
従来より、マスクの開口径を任意縮小倍率で加工面に投影する、いわゆる縮小投影加工光学系を有するレーザ加工機を用いて電子部品、例えばセラミックグリーンシートや回路基板の穴開け加工が行われている。レーザ加工機を用いてセラミックグリーンシートを加工する場合には、セラミックグリーンシートから塵、切り欠き等の副次物が生じる。このような副次物を捕集するために種々の集塵装置が使用されている。
図8は、レーザ加工機に適用された従来の集塵装置の模式図である。レーザ加工機の加工室カバー601内には、レーザ源からレーザビームを導入するためのfθレンズ661と、集塵装置600と、加工室カバー601内へ搬送され加工されるシート状ワーク609と、シート状ワーク609を載置するための加工台614と、加工台614を移動するためのボールねじ615,617が配置されている。
集塵装置600は、シート状ワーク609の表面の一定領域を囲む筒体603を備える。筒体603は、側面604(606)と、レーザビームが通過する開口部を備える上面608と、シート状ワーク609の進行方向に関する上流側側面610と、下流側側面612とを有し、筒体603の内部にほぼ閉じた空間である加工空間領域602を画成する。
上流側側面610には不図示の給気源に連通する給気口631a〜dが設けられ、下流側側面612には吸引口611が設けられている。
筒体603は、シート状ワーク609の上に配置され、ワーク609は加工台614に載置されている。加工台614は、ボールねじ機構615、617等によりx軸方向、y軸方向に移動可能であり、ワーク609の位置決めをすることができる。
上記構成において集塵装置600は以下のように作動する。給気口613a〜dの内、主給気口613b、613cからは高流量の気流がワーク609の加工面(fθレンズ661に対面している面)に対して平行に加工室カバー601内に導入され、副給気口613a、613dからは低流量の気流が同様に導入される。そして、レーザ加工機の不図示のレーザ源からレーザビームを照射する。そしてfθレンズ661を経由したレーザビームによりワーク609の加工がなされる。低流量の外側気流は内側の高流量の内側気流に巻き込まれる。よって、ワークの加工において加工空間領域602に生じる粉塵等の副次物は、低流量の気流に乗り、高流量の気流に巻き込まれ吸引口611から加工602外へ排出する(特許文献1参照。)。
別の従来の集塵装置700について説明する。図9は、レーザ加工機に適用された従来の集塵装置の断面図である。レーザ加工機の加工室カバー701には、不図示のレーザ源からレーザビームをシート状ワークに導くfθレンズ761と、集塵装置700と、シート状ワーク709を載置するための加工台719と、加工台719を移動するためのボールねじ721、723とを備える。
集塵装置700は、内部に加工空間領域702を構成する筒体703を備える。筒体703は、側面704(706)と、気流を導入するための第1給気口713a及び第2給気口713bを備える上流側側面715と、上流側側面715に対向する吸引口711を備える下流側側面717と、を有する。さらに、筒体703の上方に上下方向移動可能なレンズ台763が設けられ、筒体703の側面704(706)、708、710と、レンズ台763の底面765により加工空間領域702が画成される。また、レンズ台763上には集光レンズ761が配置されている。
ワーク709が載置される加工台719は、ボールねじ機構721、723によりx軸方向、y軸方向へ移動可能である。ワーク709は上記ボールねじ機構721,723を用いて位置決めされる。
上記構成において、気流供給源に連通する給気口713a、bから加工空間領域702内に気流を供給する。その気流は吸引口711を介して加工空間領域702外へ排出され、加工空間領域702内にワークの加工表面(fθレンズに対向する面)に平行な気流の流れを形成する。そして、レーザ源からfθレンズ761へ導かれたレーザビームをワーク709の加工表面に照射する。レーザ加工によりワーク709から生じる粉塵等の副次物は、上記気流の流れに乗り加工空間領域702外へ排出される(特許文献2参照。)。
特開2000−317670号公報(段落番号〔0003〕〜段落番号〔0007〕、第1図〜第2図) 特開2001−321979号公報(段落番号〔0007〕〜段落番号〔0017〕、第1図)
図8及び図9に示す集塵装置は、その加工空間領域においてワークの加工表面に対して平行な気流の流れを形成し、ワークを加工する際に生じる粉塵等の副次物をその気流の流れに乗せ排出する。従って、ワークから舞い上がった粉塵を捕集することは可能である。しかしながら、ワークの表面上に付着している副次物を除去することは困難である。
また、従来の集塵装置では、加工空間領域内の気流の流れをスムーズにするため、加工空間領域を側面等を用いて規制している。しかし、加工室カバーの対向する2つの側面は、リール状のワークが加工室カバー内を出入りするための開口部(図8の631、図9の731参照。)を備える。そうすると、加工空間領域内で形成された流体流れにより当該開口部等を介して外気が加工室カバー内に流入する虞がある。結果として、外気により加工室カバー内の温度が変化し、ワークを移動するための駆動手段であるボールねじ機構等が膨張若しくは収縮し、ワークの位置決め精度が低下することがある。また、加工室カバー内にレーザビーム発生手段が配置されている場合には、加工機内の温度変化によりレーザ発生装置等のレーザ照射の安定性が図れない場合が生じる。結果として加工精度が低下するという問題がある。
そこで本発明は、ワーク加工時に生じる副次物を効率的かつ確実に除去することができ、加工室内の温度変化が位置決め機構等に影響を及ぼすことのない副次物の集塵方法及び集塵装置、レーザ加工装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するための本発明の集塵装置の第1の態様は、レーザ光源から放射されたレーザビームを集光するための集光レンズと、集光レンズにより集光されたレーザビームを用いて加工されるワークを載置するための加工台と、を略閉鎖した室内に有するレーザ加工機に使用され、前記ワークを加工する際に前記ワークから生じる副次物を捕集するための集塵装置であって、加工台近傍に開口する給気口を有し、前記給気口と前記略閉鎖した室の外部と連通し外気を導入できる第1給気手段と、所定の隙間を介して前記第1給気手段と対向して配置され、前記第1給気手段の給気口を介して外気を吸引し第1気流を加工空間領域に供給するための吸引手段と、前記第1給気手段の給気口の内部に配置され、前記ワークの加工面に所定の角度で衝突させるように前記第1気流より高圧の第2気流を高圧気流供給源より供給する第2給気手段と、を備え、前記第1気流は、前記ワークの加工空間領域を覆い、前記第2気流の周囲を取り囲むような流れである。
上記態様によれば、ワークの加工表面を覆うようにエアカーテンを形成し、ワーク上のレーザビームの照射位置には、直接高圧気流を衝突させワークに付着している副次物を除去する。高圧気流により吹き飛ばされた副次物を、エアカーテンにより囲まれた領域外に拡散するのを防止できるとともに、吹き飛ばされた副次物は、エアカーテンを構成する気流流れに乗せ捕集することができる。
また、第1給気手段は、略閉鎖した室の外部と給気口とを連通する構成であればよいので、強制的に外気を導入する機構が不必要となり集塵装置の構成を簡易にできる。
本発明の集塵装置の第2の態様は、前記第1気流の流れを邪魔するための邪魔板を前記第1給気手段の給気口近傍に設け、第2給気手段が邪魔板を貫通して配置されるエアノズルである。
第1気流の流速を、第1給気手段の給気口に設けられた邪魔板を回り込ませることにより速くでき、外気の混入防止を目的とするエアカーテンとしての機能を高めることができる。また、第2給気手段からの第2気流と、第2気流の周囲を取り囲む第1気流との間の領域では、圧力の低い第2気流側への流れが形成される。よって、第2気流により巻き上げれた副次物を第1気流に乗せ、吸引手段へと導くことができる。
本発明の集塵装置の第3の態様は、前記副次物若しくは前記ワークに生じた静電気を除去するための除電手段を備える。
上記態様によれば、加工空間領域において、従来の集塵装置において必要であった筒体等を設ける必要がないため、加工空間領域近傍にイオン発生装置等の除電手段を配置することが可能となる。よって、副次物やワークに帯びた静電気を除去することにより、静電気により固着した副次物を容易に取り除くことが可能となる。
本発明のレーザ加工装置は、上述した集塵装置の態様の何れか一を備える。
本発明の集塵方法の一の態様は、レーザビームによりワークをレーザ加工する際に生じる副次物を集塵装置を用いて捕集する集塵方法であって、集塵装置は、前記ワークを載置するための加工台が配置された略閉鎖した室と、前記室の加工台近傍に開口する給気口を有し、前記給気口と前記略閉鎖した室の外部とを連通する第1給気手段と、所定の隙間を介して前記第1給気手段と対向して配置される吸引手段と、前記第1給気手段の給気口の内部に配置され、前記ワークの加工面に衝突し前記第1気流より高圧の第2気流を高圧気流供給源より供給する第2給気手段と、を備え、前記集塵方法は、ワークの加工空間領域を覆うような第1給気口から吸引口への第1気流の流れを形成する工程と、前記吸引工程を開始した後、前記ワークの加工表面に前記第1気流より圧力の高い第2気流を噴射し所定の角度で衝突させる工程と、を備え、前記第2気流が衝突する前記ワークの加工表面では、前記第1気流が第2気流の周囲を囲み、前記副次物が前記第1気流若しくは第2気流に乗り捕集される。
上記方法によれば、ワークの加工表面を覆うようにエアカーテンを形成し、レーザビームの照射位置では、直接高圧気流を衝突させワークに付着している副次物を除去する方法である。よって、高圧気流により吹き飛ばされ副次物はエアカーテンにより加工室内に拡散するのを防止できるとともに、吹き飛ばされた副次物は、エアカーテンを形成する気流流れに乗せ捕集することができる。
本発明において粉塵とは、ワークをレーザ加工する際に生じる、ワークの切断片、ワークへの付着物、ワークの粒子、煙、蒸気等を意味する。
加工空間領域とは、ワークとfθレンズとの間の上下空間を意味する。ワーク加工面とは、レーザビームが照射される側のワーク表面をいう。
ワークに付着している副次物に高圧気流を直接衝突させることにより副次物を確実に吹き飛ばすことができる。さらに、高圧気流の周囲には低圧気流が流れているので、吹き飛ばされた副次物がその低圧気流に乗り、副次物を確実に吸引口へと導くことが可能である。
また、加工室内の温度変化を低圧気流により形成されるエアカーテンで囲まれた領域内に制限できるため、温度変化に伴いガルバノボックス及び加工台の移動を行うボールねじ機構の収縮及び膨張が生じることを防止できる。また、レーザビームを照射するビーム発生部を加工室内に設ける場合でも、集塵に伴う温度変化がレーザビームの照射部に影響を与え、照射が不安定となることを防止できる。結果としてワークの位置決め精度を高くでき、安定したレーザ照射が可能となり、加工精度を高く維持できる。
さらに、吸引流量を調節することにより加工空間領域内への給気流量を調節することが可能となり、給気量と吸引量を等しくするための機構を設ける必要が無くなり集塵装置の構成を簡素化できる。
以下、図面を参照して本発明の集塵装置を適用したレーザ加工機の実施の形態について詳細に説明する。
図1は、レーザ加工の際に用いるレーザ加工機の基本構成の斜視図を示す。レーザ加工機101は、レーザ発振器103及びガイドレーザ発振器105を有するビーム発生部107と、レーザビームを被加工物であるリール状のセラミックグリーンシート109すなわちワークに導く光学系201と、xガルバノスキャン251、yガルバノスキャン253等を載置するための支持架台255と、集塵装置が配置されセラミックグリーンシート109のレーザ加工を行うための加工室の加工室カバー(略閉鎖した室)303と、セラミックグリーンシート109を搬送するための搬送系(搬送ローラ270、272等)と、を備える。なお、加工室カバー303は、レーザ加工機101の全体を明瞭に示すため破線で示し、加工室カバー303内に配置された集塵装置については後述する。
まず、光学系201について説明する。光学系201は、複数の全反射ミラー203、205、207、209、211、コンバイナ213、マスク215、コリメータレンズ217、xガルバノスキャナ251、yガルバノスキャナ253の各々が有するガルバノスキャンミラー257,259、集光レンズ261からなる。
xガルバノスキャナ251、yガルバノスキャナ253は、ガルバノボックス255内に配置されている。各スキャナに設けられたガルバノスキャンミラー257、259は、その反射角度を変えることによりレーザビームの照射位置を規定する。
次に、支持架台263について説明する。支持架台263は逆U字形状であり、鉛直方向に延びる一対の脚部265、267と、両脚部265、267の上端部間を連結しほぼ水平に延在する一対の横断部材269、271からなる。横断部材269、271は、平行でかつ互いに離間している。横断部材269、271間には、ボールねじ機構343により矢印273方向(y軸方向)に移動可能なガルバノボックス255が装着されている。ガルバノボックス255の側面には、鉛直方向下方に向けられセラミックグリーンシート109の位置を認識するための画像処理用カメラ279が配置されている。
さらに、搬送系について説明する。搬送系は、X軸ステージ275及び連続リール状セラミックグリーンシート109を支持する一対のローラ270、272とからなる。連続リール状セラミックグリーンシート109は、支持架台263の横断部材269、271と交差する方向(すなわち、図1において左から右方向)に搬送される。また、X軸ステージ275は、セラミックグリーンシート109の延在する方向、すなわちx軸方向(矢印277)に移動可能である。
次に、本発明の集塵装置301について説明する。図2は、レーザ加工機101の加工室カバー303内を示す側面図である。
断面ほぼ矩形状のレーザ加工室カバー303内部にはガルバノボックス255とX軸ステージ275とが上下方向に対向して配置されている。ガルバノボックス255は、矢印方向273(図中左右方向)に移動可能である。ガルバノボックス255の下面にはfθレンズ261が配置され、X軸ステージ275方向に対面している。X軸ステージ275は、ボールねじ機構341により矢印277方向(図1参照。)、すなわち図面の厚み方向に移動可能である。X軸ステージ275の上面にはセラミックグリーンシート109を吸引固定するための吸着ステージ305が設けられている。吸着ステージ305の表面には不図示の吸引孔が設けられて、吸引孔は吸引用バキューム(不図示)に連通している。セラミックグリーンシート109は、吸引孔に生じる吸引力により吸着ステージ305に固定される。
レーザ加工室カバー303を横断する方向に延在するのは、給気手段すなわち外気導入チューブ307である。外気導入チューブ307の一端部は加工室カバー303外部に連通し、外気導入チューブ307の他端部すなわち、外気導入口(給気口)309は吸着ステージ305まで延在する。外気導入チューブ307には、開閉バルブ317が設けられ、バルブ駆動手段319により外気導入チューブ307の開閉を行うことで外気の導入のオン・オフを行う。
吸引チューブ311は、その吸引口313が外気導入口309に対向し、吸着ステージ305の近傍に位置するように配置されている。吸引チューブ311は、吸引機315に連通する。
外気導入口327の形状及び寸法は、吸引口313の形状及び寸法とほぼ同じである。外気導入口327と吸引口313は、加工空間領域302を挟んで対向配置されているので、外気導入口327を介して加工空間領域302に流入した気流は、吸引口313内に吸い込まれる。
さらに、吸引チューブ307の内部であって、外気導入口309の近傍には、エアノズル321が加工台275に対して傾斜配置されている。エアノズル321には、ノズルチューブ325を介してコンプレッサ等のエア源326から高圧エアが供給される。エアノズルから吐出されるエアは、加工台275の上部にある吸着ステージ305の上面に直接衝突する。さらに、外気導入チューブ307内には、後述する邪魔板327が配置される。
また、加工室カバー303内には、レーザ加工の際に発生する副次物の除電を行うため、フォトイオナイザ333が設けられている。
図3は、加工室カバー内部を示す正面図である。加工室カバー303を横断する方向にセラミックグリーンシート109が延在する。そして、加工室カバー303の側壁の貫通孔329、331を介して加工室カバー303との行き来を行う。加工室カバー303外部には、ローラ270、272が配置され、セラミックグリーンシート109を加工室カバー303外部において支持している。
次に邪魔板327の構成について説明する。図4は、図2の部分拡大図である。
外気導入口309の近傍であって外気導入チューブ307の内部には、気流の流れを遮断するように、導入チューブの長手方向軸線に対して直交する方向に延在する板部材である邪魔板327が配置されている。
また、外気導入チューブ307内に設けられたエアノズル321は、邪魔板327を貫通する。さらに、エアノズル321からエアを斜め下方に噴射できるようなにエアノズル321が傾斜配置されている。
また、加工空間領域302近傍には、図4に示されるように、対向する外気導入チューブ307と吸引チューブ311とが配置されるのみで、従来例で見られる集塵装置の筒体等の他の要素は存在しない。このことにより、集塵装置の構成が簡易となるとともに、前述したフォトイオナイザ(図2の333参照。)を配置することが可能となる。
図5は、図4の矢印V方向から外気導入口309を見た図である。図に明瞭に示されているように、外気導入チューブの断面は、外気導入チューブに対向配置された吸引チューブとほぼ同じ断面形状を呈している。また、外気導入チューブ内に配置されている邪魔板327は、外気導入チューブの断面と相補的な形状を有し、外気導入チューブの内周面と、邪魔板327の外周面とが所定寸法離間するように寸法付けされている。よって、外気導入チューブ内の流れは、邪魔板327を回避してその隙間を通り抜けることとなる(図4の矢印335、337参照。)。また邪魔板327の下方には、エアノズルが貫通するための切り欠き329を有する。
次に上記構成のレーザ加工機101によるレーザビーム204の照射について図1を参照して説明する。被加工物を加工するための加工用レーザビーム(波長355nm)は、ビーム発生部107のレーザ発振器103から放射される。レーザ発振器103としては、従来から知られるエキシマレーザ、YAGレーザ、COレーザ等を用いる。
レーザ発振器103から照射された加工用レーザビームは全反射ミラー203により所定の方向に反射されコンバイナ213に入射する。他方、ガイドレーザ発振器105から照射された可視光領域のガイドレーザビームも同じくコンバイナ213に入射する。加工用レーザビームとガイドレーザビームは、コンバイナ213により光軸が互いに一致する。
さらに、コンバイナ213で同軸になった加工用レーザビームとガイドレーザビームは、反射ミラー205を介してマスク215の開口部を通過する。マスク215を通過したレーザビーム204は、加工形状と同一の形状に成形される。成形されたレーザビーム204は、反射ミラー207、209、211を介してコリメータレンズ217に入射する。コリメータレンズ217によりレーザビームは、拡大されると共に平行光束に成形される。さらに、レーザビームは、xガルバノスキャナー251、yガルバノスキャナー253のxガルバノスキャンミラー257、yガルバノスキャンミラー259に到達する。
ガルバノスキャンミラー257、259を反射したレーザビームは集光レンズであるfθレンズ261に入射する。fθレンズ261に入射したレーザビームは集光され、セラミックグリーンシート109を照射する。
一方、レーザ加工機を稼動しセラミックグリーンシートのレーザ加工を行う際の集塵装置301の作動工程を図6を参照して説明する。図6は、集塵装置の集塵工程の工程図である。まず、開閉バルブ317を開く(ステップ401)。次に吸引機315を作動する(ステップ403)。すると、吸引口313を介して加工空間領域302の吸引が行われ、さらに、吸引口313に対向する外気導入チューブ307を介して外気を吸引する。そうすると、外気が外気導入チューブ307と、外気導入口327と、吸引口313への気流の流れが生じ、セラミックグリーンシート109の加工面に対して平行な流体流れ(エアカーテン)が形成される。さらに、エアノズル321を駆動して(ステップ405)高圧気流(図7の423参照。)をセラミックグリーンシート109に衝突させる。さらに、フォトイオナイザ333を稼動して、副次物の除電を行う(ステップ407)。
上記のように、外気導入バルブ317を開き、エアノズル321を駆動した場合、加工空間領域302には図7に示すような気流が形成される。図7は、加工空間領域302を吸引口313から外気導入口309を見た流れを示す。すなわち、レーザビームの照射位置におけるセラミックグリーンシート109上には、2層流れが形成される。内側にはエアノズルから吐出された高圧気流423、その外側には低圧気流421が存在する。
また、外気導入チューブ307は、加工室303の外部と連通し、外気導入口309と吸引口313とを対向させることにより、吸引口313からの吸引量に応じて外気が導入される。よって、外気を強制的に供給することなく外気を導入することができるとともに、吸引流量とほぼ等しい給気流量を加工室内に導入することができる。ここで、従来の装置で見られた外気導入口及びエアノズルからの給気流量が吸引流量より多い場合には、加工室内の吸引されない量の気流が拡散し、加工室内の温度変化を生じさせてしまう。また、吸引流量が、給気流量より多い場合には、加工室とその外部とを連通する開口部等から外気を加工室内に導入し加工室内の温度変化を生じさせてしまう。
上記のような流体流れを加工空間領域302に形成した後、セラミックグリーンシートのレーザ加工を行う。
エアノズル321から吐出される高圧流がセラミックグリーンシートに吹き付けられる。レーザ加工によりセラミックグリーンシート表面に付着した粉塵は、高圧気流により吹き飛ばされたり、舞い上がったりする。セラミックグリーンシート表面から除去された粉塵等は、外気導入口309からの外側の気流(低圧気流)に乗り、吸入口313内へと導かれる。
レーザ加工の終了後は、レーザ加工機101を不作動とする。そして、フォトイオナイザ333の電源を切る(ステップ411)。エアノズル321の電源を切る(ステップ413)。最後に吸引機315を停止し(ステップ415)、開閉バルブ317を閉める(ステップ417)。
上記実施形態では、フォトイオナイザを採用したが、ワークから発生した副次物を除電できる装置であれば適宜変更できることは言うまでもない。
また、筒状の外気導入チューブ内にエアノズルを配置する構成としているが、エアノズルの代わりに管状のチューブ等を配置し、外気導入チューブ内に別のチューブを配置する2重構造のチューブとしてもよい。すなわち、高圧気流の周囲に低圧気流の流れを形成できる構成であれば適宜変更できることは言うまでもない。
また、上記実施形態は、吸引チューブからの吸引力のみで外気導入口を介して外気の導入を行う構成であるが、外気導入チューブへ強制的に外気を送り込む構成を適宜設けることもできる。
さらに、実施形態では、リール状のセラミックグリーンシートをレーザ加工する際に生じる副次物の集塵方法、集塵装置について説明したが、異なる形状や材質からなる部材のレーザ加工にも適用できることは言うまでもない。
この発明は、その本質的特性から逸脱することなく数多くの形式のものとして具体化することができる。よって、上述した実施形態は専ら説明上のものであり、本発明を制限するものではないことは言うまでもない。
本発明の集塵装置を適用したレーザ加工機の模式図である。 レーザ加工機の加工室カバー内を示す側面図である。 レーザ加工機の加工室カバー内を示す正面図である。 図2の部分拡大図である。 図4のV矢視図である。 集塵装置の集塵工程の工程図である。 加工空間領域を吸引口から外気導入口から見た流れを示す。 レーザ加工機に適用された従来の集塵装置の模式図である。 レーザ加工機に適用された別の従来の集塵装置の模式図である。
符号の説明
101 レーザ加工機
109 セラミックグリーンシート
301 集塵装置
302 加工空間領域
303 加工室カバー
307 外気導入チューブ
311 吸引チューブ
313 吸引口
317 開閉バルブ
319 バルブ駆動手段

Claims (5)

  1. レーザ光源から放射されたレーザビームを集光するための集光レンズと、集光レンズにより集光されたレーザビームを用いて加工されるワークを載置するための加工台と、を略閉鎖した室内に有するレーザ加工機に使用され、前記ワークを加工する際に前記ワークから生じる副次物を捕集するための集塵装置であって、
    加工台近傍に開口する給気口を有し、前記給気口と前記略閉鎖した室の外部と連通し外気を導入できる第1給気手段と、
    所定の隙間を介して前記第1給気手段と対向して配置され、前記第1給気手段の給気口を介して外気を吸引し第1気流を加工空間領域に供給するための吸引手段と、
    前記第1給気手段の給気口の内部に配置され、前記ワークの加工面に所定の角度で衝突させるように前記第1気流より高圧の第2気流を高圧気流供給源より供給する第2給気手段と、を備え、
    前記第1気流は、前記ワークの加工空間領域を覆い、前記第2気流の周囲を取り囲むような流れであることを特徴とする集塵装置。
  2. 前記第1気流の流れを邪魔するための邪魔板を前記第1給気手段の給気口近傍に設け、第2給気手段が邪魔板を貫通して配置されるエアノズルであることを特徴とする請求項1に記載の集塵装置。
  3. 前記副次物若しくは前記ワークに生じた静電気を除去するための除電手段を備えることを特徴とする請求項1に記載の集塵装置。
  4. 請求項1〜3の何れか一項に記載の集塵装置を備えるレーザ加工装置。
  5. レーザビームによりワークをレーザ加工する際に生じる副次物を集塵装置を用いて捕集する集塵方法であって、集塵装置は、前記ワークを載置するための加工台が配置された略閉鎖した室と、前記室の加工台近傍に開口する給気口を有し、前記給気口と前記略閉鎖した室の外部とを連通する第1給気手段と、所定の隙間を介して前記第1給気手段と対向して配置される吸引手段と、前記第1給気手段の給気口の内部に配置され、前記ワークの加工面に衝突し前記第1気流より高圧の第2気流を高圧気流供給源より供給する第2給気手段と、を備え、前記集塵方法は、
    ワークの加工空間領域を覆うような第1給気口から吸引口への第1気流の流れを形成する工程と、
    前記吸引工程を開始した後、前記ワークの加工表面に前記第1気流より圧力の高い第2気流を噴射し所定の角度で衝突させる工程と、を備え、
    前記第2気流が衝突する前記ワークの加工表面では、前記第1気流が第2気流の周囲を囲み、前記副次物が前記第1気流若しくは第2気流に乗り捕集されることを特徴とする集塵方法。
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