JP2005303330A - プラズマエッチング装置用のガス導入手段及びガスシャワープレート - Google Patents
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Abstract
従来のプラズマ処理装置では、被処理体周辺部からのみ排気を行っているため、プラズマ処理に寄与する活性種や副生成ガスの面内分布が必ずしも均一にはならない。
【解決手段】
被処理体8に対する対向面に複数のガス噴出口18を備えるガス噴出手段を備え、前記被処理体8に処理を施すプラズマ処理装置において、2種類以上の互いに異なる流量比からなる混合ガスを、互いに異なる前記ガス噴出口から噴出させることで、被処理体に均一なプラズマ処理を施すことが可能となる。また、被処理体対向面にガス吸入口を設けることでも、処理体に均一なプラズマ処理を施すことが可能となる。
【選択図】図1
Description
図1に、本発明の基本構成図を示す。図1は、UHFを用いた平行平板型ECRプラズマエッチング装置の断面図である。接地され、導電性材料、たとえばアルミニウムなどから成る円筒形のエッチング処理室1は、内部に、平面アンテナ2、絶縁体3、フォーカスリング7、被処理体8、処理台9、シャワープレート10が設置されている。
設定条件としては、ガス圧力:2Pa、450MHz電力:800W、13.56MHz電力:800W、800kHz電力:1800Wであり、ガス流量(sccm:standard cc / minute)は、以下の通りである。
ケース1)
ガス導入口5a: Ar/C5F8/O2 = 400/15/12sccm
ガス導入口5b: Ar/C5F8/O2 = 400/15/10sccm
ケース2) Ar/C5F8/O2 = 400/15/12sccm
図3からわかるように、本発明を用いることで均一性が改善できることがわかる。
本実施例では、実施例1の平面アンテナ2に施されたガス導入路を変更し、ガス導入路とガス吸入路を設けた。図4に、平面アンテナに設けたガス導入路及びガス吸入路を示す。
Claims (1)
- 被処理体に対する対向面に複数のガス噴出口を備えるガス噴出手段を有し、該ガス噴出手段により供給されるガスをプラズマ化して、前記被処理体に処理を施すプラズマ処理装置において、前記被処理体を前記被処理体の中心を中心とする同心円を境界とした2つ以上の領域に区分けし、該領域それぞれに対向する対向面から互いに異なる流量比の混合ガスが噴出するように、前記ガス噴出手段を構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
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2005
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