JP2005301303A - Image recording method and image recording apparatus - Google Patents

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敏和 梅田
Kotaro Kanamori
孝太郎 金森
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image recording method and an image recording apparatus, capable of improving the quality of the image to be formed on a photosensitive material, by reducing the interference fringes of laser beams. <P>SOLUTION: The image recording apparatus constituted so as to form a photosensitive layer containing silver halide grains, of which the average grain size is ≤0.1 μm and a silver salt of an organic acid on a support body and scan and expose a silver halide heat developing photosensitive material, of which the light transmissivity in the average wavelength of laser light is ≥20% and γ is ≥2 with/to laser light to form an image on the photosensitive material comprises: a laser light source for oscillating the laser light; a scanning optical system for scanning the surface of the silver halide heat developing photosensitive material with the laser light oscillated from the laser light source; and a laser light source control means for controlling the laser light source so as to switch the wavelength of the laser light oscillated from the laser light source in each prescribed number of scanning lines. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、画像記録方法及び画像記録装置に関する。   The present invention relates to an image recording method and an image recording apparatus.

従来、画像データに基づいて画像を記録するためにハロゲン化銀写真感光材料をレーザ光により露光していた。そして、近年、液処理が不要で熱現像により画像を顕像化できるハロゲン化銀熱現像感光材料が登場した。しかし、これをレーザ光で露光すると干渉縞が発生し画像ムラが生じてしまうことが判った。この現象をフィルム断面とレーザ光との関係を示す概念図である図12により説明する。   Conventionally, a silver halide photographic light-sensitive material has been exposed with a laser beam in order to record an image based on image data. In recent years, a silver halide photothermographic material that does not require liquid processing and can visualize an image by thermal development has appeared. However, it has been found that when this is exposed with laser light, interference fringes are generated and image unevenness occurs. This phenomenon will be described with reference to FIG. 12, which is a conceptual diagram showing the relationship between the film cross section and the laser beam.

図12(a)に示すように、ハロゲン化銀熱現像感光材料の感光層とPET等の支持体とから構成されたフィルムFにレーザ光が表面F1から入射すると、裏面F2で一部が反射し表面F1に戻ることにより、直接記録層に照射される光B1と、感光層を透過した光のうち、F2面で反射し、さらにF1面で反射された光B2との間で干渉が起こる。このため、感光層に照射される光量がフィルムの厚みにより変化し、その結果ハロゲン化銀熱現像感光材料の感光層への露光量が変動し、濃度ムラが生じてしまう。   As shown in FIG. 12 (a), when laser light is incident from the front surface F1 onto a film F composed of a photosensitive layer of a silver halide photothermographic material and a support such as PET, a part of the light is reflected by the back surface F2. By returning to the front surface F1, interference occurs between the light B1 directly applied to the recording layer and the light B2 reflected by the F2 surface and reflected by the F1 surface among the light transmitted through the photosensitive layer. . For this reason, the amount of light applied to the photosensitive layer varies depending on the thickness of the film. As a result, the exposure amount of the silver halide photothermographic material to the photosensitive layer varies, resulting in density unevenness.

直接感光層に照射される光B1と、F2面、F1面で反射された後、記録層に照射される光B2との光路差δが、レーザ波長の整数倍のとき感光層に照射される光量が最大になり、整数倍から半波長ずれたときに最小になる。屈折率の異なる媒体の境界面における反射率Rは、この境界面を挟む各々の媒体の屈折率をnA,nBとすると、次の式(1)で表すことができる。   The photosensitive layer is irradiated when the optical path difference δ between the light B1 directly irradiated to the photosensitive layer and the light B2 irradiated to the recording layer after being reflected by the F2 and F1 surfaces is an integral multiple of the laser wavelength. The light intensity is maximized, and is minimized when shifted by a half wavelength from an integral multiple. The reflectance R at the boundary surface of media having different refractive indexes can be expressed by the following equation (1), where nA and nB are the refractive indexes of the respective media sandwiching the boundary surface.

R=((nB−nA)/(nB+nA))2 (1)
ここで、例えば感光材料の各層の屈折率が同じで一様であり、nB=1(空気),nA=1.5(感光材料)とすると、空気と感光材料との境界面での反射率Rは4%になる。また、干渉による光量変化(ピークtoピーク)ΔAは、次の式(2)で表すことができ、上述の場合、16%にもなる。
R = ((nB-nA) / (nB + nA)) 2 (1)
Here, for example, if the refractive index of each layer of the photosensitive material is the same and uniform, and nB = 1 (air) and nA = 1.5 (photosensitive material), the reflectance at the interface between the air and the photosensitive material. R becomes 4%. Further, the light amount change (peak-to-peak) ΔA due to interference can be expressed by the following equation (2), which is 16% in the above case.

ΔA=4R (2)
実際には、図12(b)のように、支持体の裏面F2側にはレーザ光の吸収層が設けられており、また、感光層に含まれるハロゲン化銀粒子による散乱光sの発生のため、干渉による光量変化は上記の値より少なくなる。しかし、吸収層と支持体とにわずかでも屈折率の違いがあると、この吸収層と支持体の境界面F2で反射が生じ、吸収層が寄与しなくなる。また、従来の感光材料は、含まれるハロゲン化銀粒子のサイズが大きく、また吸収層を多層に設けることができるので、干渉縞は発生し難いのに対し、熱現像感光材料は、従来の感光材料に比較してハロゲン化銀粒子が細かく、感光層内での散乱が従来のフィルムよりもずっと少なく、特に、γが2以上の硬調な熱現像材料である場合、干渉縞が顕著となる。
ΔA = 4R (2)
Actually, as shown in FIG. 12B, a laser light absorption layer is provided on the back surface F2 side of the support, and the generation of scattered light s by the silver halide grains contained in the photosensitive layer. Therefore, the change in the amount of light due to interference is less than the above value. However, if there is a slight difference in refractive index between the absorption layer and the support, reflection occurs at the boundary surface F2 between the absorption layer and the support, and the absorption layer does not contribute. In addition, the conventional photosensitive material has a large size of silver halide grains contained therein, and an absorption layer can be provided in multiple layers, so that interference fringes are not easily generated, whereas a photothermographic material has a conventional photosensitive material. Compared with the material, the silver halide grains are finer, and the scattering in the photosensitive layer is much less than that of the conventional film. In particular, in the case of a highly heat developable material having γ of 2 or more, the interference fringe becomes conspicuous.

上述のような干渉による光量変動は、次のような対策1)〜3)により防止することが可能である。
1)支持体の裏面(F2)に反射防止膜を設け、支持体と吸収層との間の面F2での反射率を低減させる。
2)支持体の厚みのバラツキを、レーザ光の波長(一般的には0.5μm〜1.5μm)の数分の1以下に抑える。
3)支持体と吸収層との屈折率差を小さくして、支持体と吸収層との間の境界面F2での反射率を小さくする。
The light quantity fluctuation due to the interference as described above can be prevented by the following countermeasures 1) to 3).
1) An antireflection film is provided on the back surface (F2) of the support to reduce the reflectance at the surface F2 between the support and the absorption layer.
2) Limit the thickness variation of the support to a fraction of the wavelength of the laser beam (generally 0.5 μm to 1.5 μm).
3) The refractive index difference between the support and the absorption layer is reduced to reduce the reflectance at the interface F2 between the support and the absorption layer.

しかし、対策1)はコストアップにつながり、好ましくない。また対策2)に関しては、数μmの厚みの媒体のバラツキを抑えることは可能でも、100μm以上の厚みを有する媒体のバラツキを、サブμm以下に抑えることは不可能に近い。更に対策3)に関しても、わずか0.05以下の屈折率差でも干渉縞になるため、両者の屈折率差をこのレべル以下に合わせることは殆ど不可能である。   However, measure 1) leads to cost increase and is not preferable. As for measure 2), although it is possible to suppress variation in a medium having a thickness of several μm, it is almost impossible to suppress variation in a medium having a thickness of 100 μm or more to sub μm or less. Furthermore, with regard to measure 3), even if the difference in refractive index is only 0.05 or less, interference fringes are formed, so that it is almost impossible to make the difference in refractive index between them below this level.

また、特許文献1には、レーザ光の波長域である近赤外線を拡散透過する表面層と、この近赤外線を拡散反射または吸収する裏面層と、支持体と感光層との間に設けられかつこの近赤外線を拡散透過または吸収する層とを有するハロゲン化銀熱現像感光材料が開示されている。従来、このように感光材料そのものの工夫により干渉縞を抑制することが一般的であった。また、特許文献2では、高周波をレーザダイオードへの入力信号に重畳してレーザダイオードを駆動することが開示されている。
米国特許第4,711,838号明細書 特表平10−500229号公報
Further, Patent Document 1 includes a surface layer that diffuses and transmits near-infrared light that is a wavelength region of laser light, a back surface layer that diffusely reflects or absorbs near-infrared light, and a support and a photosensitive layer. A silver halide photothermographic material having a layer that diffusely transmits or absorbs near infrared rays is disclosed. Conventionally, it has been common to suppress interference fringes by devising the photosensitive material itself. Patent Document 2 discloses driving a laser diode by superimposing a high frequency on an input signal to the laser diode.
US Pat. No. 4,711,838 Japanese National Patent Publication No. 10-500229

しかし、感光材料の工夫による干渉縞の抑制は、感光材料の他の特性、例えば、現像後の視認性や、感光材料のコストなどに悪影響があったり、またそれだけでは不十分であったりする。また、高周波をレーザダイオードへの入力信号に重畳するのは、技術的に難しく、コストアップになり、また却って動作が不安定になるおそれがあり、さらには、花の利用効率が基本的には約半分になるという欠点を有している。)また、γ(フィルムコントラスト)が2以上の硬調な感光材料では、干渉縞の抑制は十分なものではなかった。   However, suppression of interference fringes by devising the photosensitive material may adversely affect other characteristics of the photosensitive material, for example, visibility after development, the cost of the photosensitive material, or may not be sufficient. Moreover, it is technically difficult to superimpose the high frequency on the input signal to the laser diode, resulting in an increase in cost, and there is a risk that the operation will become unstable. It has the disadvantage of being about half. In addition, in a high-sensitivity photosensitive material having a γ (film contrast) of 2 or more, interference fringes were not sufficiently suppressed.

本発明は、これらの従来技術の問題に鑑みなされたもので、従来とは異なる方法でレーザ光の干渉縞を減少させることにより、感光材料に形成される画像の品質を向上させることのできる画像記録方法及び画像記録装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of these problems of the prior art, and an image that can improve the quality of an image formed on a photosensitive material by reducing interference fringes of laser light by a method different from the conventional one. It is an object to provide a recording method and an image recording apparatus.

上記課題を達成するため、本発明による画像記録装置は、平均粒径が0.1μm以下のハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に有し、レーザ光の平均波長での光透過率が20%以上であり、γが2以上のハロゲン化銀熱現像感光材料をレーザ光で走査露光することにより、前記感光材料に画像を形成する画像記録装置において、 レーザ光を発振するレーザ光源と、前記レーザ光源から発振されたレーザ光を前記ハロゲン化銀熱現像感光材料上に走査する走査光学系と、前記走査の所定本数の走査線毎に、前記レーザ光源から発振するレーザ光の波長を切り替えるように制御するレーザ光源制御手段と、を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, an image recording apparatus according to the present invention has a photosensitive layer containing silver halide grains having an average grain size of 0.1 μm or less and organic acid silver on a support, and an average of laser light. In an image recording apparatus for forming an image on a photosensitive material by scanning and exposing a silver halide photothermographic material having a light transmittance at a wavelength of 20% or more and γ of 2 or more with a laser beam, A laser light source that oscillates the laser light, a scanning optical system that scans the silver halide photothermographic material with the laser light oscillated from the laser light source, and the laser light source that oscillates for each predetermined number of scanning lines. And laser light source control means for controlling the wavelength of the laser light to be switched.

本発明によれば、感光材料のγが2以上の硬調なハロゲン化銀熱現像感光材料であっても、干渉縞を効果的に減少させることができる。   According to the present invention, interference fringes can be effectively reduced even if the photosensitive material is a high-contrast silver halide photothermographic material having γ of 2 or more.

また、前記レーザ光源をレーザダイオードとすることができる。   The laser light source may be a laser diode.

また、更に別の本発明による画像記録装置は、平均粒径が0.1μm以下のハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に有し、レーザ光の平均波長での光透過率が20%以上であり、γが2以上のハロゲン化銀熱現像感光材料をレーザ光で走査露光することにより、前記ハロゲン化銀熱現像感光材料に画像を形成する画像記録装置において、 レーザ光を発振するレーザダイオードと、前記レーザダイオードから発振されたレーザ光を前記ハロゲン化銀熱現像感光材料上に走査する走査光学系と、前記ハロゲン化銀熱現像感光材料上に走査して記録される画像の画像信号を入力する手段と、前記走査の所定本数の走査線毎に、前記レーザダイオードへの入力電流を変えることにより、発振する前記レーザ光の波長を切り替えるように制御するレーザ光源制御手段と、を有することを特徴とする
本発明によれば、感光材料のγが2以上の硬調なハロゲン化銀熱現像感光材料であっても、干渉縞を効果的に減少させることができる。
Further, another image recording apparatus according to the present invention has a photosensitive layer containing silver halide grains having an average grain size of 0.1 μm or less and organic acid silver on a support, and has an average wavelength of laser light. In an image recording apparatus for forming an image on a silver halide photothermographic material by scanning and exposing a silver halide photothermographic material having a light transmittance of 20% or more and γ of 2 or more with a laser beam. A laser diode that oscillates laser light, a scanning optical system that scans the laser light emitted from the laser diode onto the silver halide photothermographic material, and a scan that scans onto the silver halide photothermographic material. A means for inputting an image signal of an image to be recorded and a wavelength of the laser light to be oscillated are changed by changing an input current to the laser diode for each predetermined number of scanning lines. According to the present invention, it is possible to effectively prevent interference fringes even if the photosensitive material is a high-sensitivity silver halide photothermographic material having a γ of 2 or more. Can be reduced.

本発明の画像記録方法及び画像記録装置によれば、感光材料の露光時におけるレーザ光の干渉縞を減少させることができ、感光材料に形成される画像の品質を向上させることができる。   According to the image recording method and the image recording apparatus of the present invention, it is possible to reduce interference fringes of laser light during exposure of a photosensitive material, and to improve the quality of an image formed on the photosensitive material.

最初に、異なる波長を有する2つのレーザ光で干渉縞を防止する原理を具体例を挙げながら図1及び図2により説明する。
(1)レーザが単一波長の(干渉による光量変動が生ずる)場合
図1のように、フィルムFにレーザ光が垂直入射する場合を考える。ハロゲン化銀熱現像感光材料であるフィルムFの感光層の厚さD2を20μm、屈折率n2を1.5、支持体1の厚さD1を180μm、屈折率n1を1.5、レーザ光の波長を0.800μmとすると、光路差δ=2(D1×n1+D2×n2)=2×(180×1.5+20×1.5)=600μmは、600/0.8=750と波長の整数倍となる。図1のレーザ光は感光層2側のフィルムFの表面F1の入射点5で図2(a)のような位相となり、また入射光はフィルムの裏面F2で、一部が反射し、その反射光がフィルムFの入射点5で反射し、入射点5では、図2(b)のような位相となり、両位相が一致するため、記録層2に照射される光量は最大となる。これに対して、支持体の厚さを180.13μmとすると、光路差δは波長の750.5倍となり、裏面F2で反射し、さらに表面F1で反射したレーザ光は入射点5で図2(c)のような位相となり、図2(a)の位相と丁度逆になるので、フィルムFに垂直入射するレーザ光の光量が同じ場合、記録層2に照射される光量は最少となる。このように、フィルムFの支持体1の厚みのバラツキにより、記録層2を照射する光量が変化する。
(2)レーザが2つの波長を有する(光量変動が生じない)場合
上述の例で、もし、各々、0.8μm、0.80053μmの波長の2つのレーザ光で露光すれば、上述の光路差600μmは、この2つのレーザ光の波長に対して、それぞれ750倍、749.5倍となり、感光層2に照射される光量は両者の和、つまり最大と最小の中間になる。ここで、例えば、光路差が600.4μmとなっても、この光路差600.4μmは、その2つのレーザ光の波長に対して、それぞれ750.5倍、750倍となり、やはり感光層に照射される光量は、最少と最大の中間になる。つまり、支持体1の厚みが変わっても、感光層に照射される光量は変わらない。
First, the principle of preventing interference fringes with two laser beams having different wavelengths will be described with reference to FIGS.
(1) Case where the laser has a single wavelength (a fluctuation in the amount of light occurs due to interference) As shown in FIG. The thickness D2 of the photosensitive layer of the film F, which is a silver halide photothermographic material, is 20 μm, the refractive index n2 is 1.5, the thickness D1 of the support 1 is 180 μm, the refractive index n1 is 1.5, and the laser beam When the wavelength is 0.800 μm, the optical path difference δ = 2 (D1 × n1 + D2 × n2) = 2 × (180 × 1.5 + 20 × 1.5) = 600 μm is an integral multiple of 600/600 = 750. It becomes. The laser light in FIG. 1 has a phase as shown in FIG. 2A at the incident point 5 on the surface F1 of the film F on the photosensitive layer 2 side, and part of the incident light is reflected on the back surface F2 of the film. The light is reflected at the incident point 5 of the film F, and the incident point 5 has a phase as shown in FIG. 2B and the two phases coincide with each other, so that the amount of light applied to the recording layer 2 is maximized. On the other hand, when the thickness of the support is 180.13 μm, the optical path difference δ is 750.5 times the wavelength, the laser beam reflected by the back surface F2 and further reflected by the front surface F1 is incident at the incident point 5 as shown in FIG. Since the phase is as shown in FIG. 2C and is exactly opposite to the phase in FIG. 2A, the amount of light irradiated onto the recording layer 2 is minimized when the amount of laser light perpendicularly incident on the film F is the same. As described above, the amount of light applied to the recording layer 2 varies depending on the thickness variation of the support 1 of the film F.
(2) When the laser has two wavelengths (no change in the amount of light) In the above example, if exposure is performed with two laser beams having wavelengths of 0.8 μm and 0.80053 μm, respectively, the above optical path difference 600 μm is 750 times and 749.5 times the wavelength of the two laser beams, respectively, and the amount of light applied to the photosensitive layer 2 is the sum of the two, that is, between the maximum and the minimum. Here, for example, even if the optical path difference is 600.4 μm, the optical path difference 600.4 μm is 750.5 times and 750 times the wavelength of the two laser beams, respectively. The amount of light emitted is between the minimum and maximum. That is, even if the thickness of the support 1 is changed, the amount of light applied to the photosensitive layer is not changed.

以上のように、照射されるレーザ光が2つの互いに異なる波長を持つことにより、干渉の影響を低減させることができることがわかるが、本発明者らの検討によれば、平均粒径が0.1μm以下のハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に有し、レーザ光の平均波長での光透過率が20%以上であり、γが2以上であるハロゲン化銀熱現像感光材料のフィルムFにおいて、図1のように、2本のレーザ光の波長(λ1,λ2)と、支持体1の厚さD1と、支持体1の屈折率n1と、感光層2の厚さD2と、感光層2の屈折率n2と、感光材料のγとが、整数Nのいずれかに対して式(3)を満たすことにより、好ましくは式(4)を満たすことにより、上述のような効果が得られることが分かった。
(N+0.5-(0.7/γ))<2(D1・n1+D2・n2)((1/λ1)-(1/λ2))<(N+0.5+(0.7/γ)) (3)
(N+0.5-(0.4/γ))<2(D1・n1+D2・n2)((1/λ1)-(1/λ2))<(N+0.5+(0.4/γ)) (4)
以下、本発明の一例である実施の形態及び実施例を説明する。従って、発明の用語の意義や発明自体を、発明の実施の形態及び実施例の記載により限定して解釈すべきではなく、適宜変更/改良が可能であることは言うまでもない。
As described above, it can be seen that the influence of interference can be reduced when the irradiated laser beams have two different wavelengths. Halogenation having a photosensitive layer containing silver halide grains of 1 μm or less and organic acid silver on the support, light transmittance at an average wavelength of laser light of 20% or more, and γ of 2 or more In the film F of the silver photothermographic material, as shown in FIG. 1, the wavelengths (λ1, λ2) of the two laser beams, the thickness D1 of the support 1, the refractive index n1 of the support 1, and the photosensitive layer When the thickness D2 of 2, the refractive index n2 of the photosensitive layer 2, and γ of the photosensitive material satisfy the formula (3) for any of the integers N, preferably satisfy the formula (4) It was found that the effects as described above can be obtained.
(N + 0.5- (0.7 / γ)) <2 (D1 ・ n1 + D2 ・ n2) ((1 / λ1)-(1 / λ2)) <(N + 0.5 + (0.7 / γ)) (3)
(N + 0.5- (0.4 / γ)) <2 (D1 ・ n1 + D2 ・ n2) ((1 / λ1)-(1 / λ2)) <(N + 0.5 + (0.4 / γ)) (4)
Embodiments and examples which are examples of the present invention will be described below. Accordingly, the meaning of the terms of the invention and the invention itself should not be construed as being limited by the description of the embodiments and examples of the invention, and it goes without saying that changes / improvements can be made as appropriate.

図3は、本実施の形態の画像記録装置の正面図であり、図4は、この画像記録装置の左側面図である。本実施の形態の画像形記録装置100は、シート状の熱現像材料であるフィルムFを1枚ずつ給送する給送部110と、給送されたフィルムFを露光する露光部120と、露光されたフィルムFを現像する熱現像部130とを有している。フィルムFは、平均粒径が0.1μm以下のハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に有し、レーザ光の平均波長での光透過率が20%以上であり、γが2以上であるハロゲン化銀熱現像感光材料である。以下、図面を用いて本実施の形態の画像記録装置を説明する。   FIG. 3 is a front view of the image recording apparatus of the present embodiment, and FIG. 4 is a left side view of the image recording apparatus. The image recording apparatus 100 according to the present embodiment includes a feeding unit 110 that feeds the film F, which is a sheet-like heat developing material, one by one, an exposure unit 120 that exposes the fed film F, and an exposure. And a heat developing section 130 for developing the film F. The film F has a photosensitive layer containing silver halide grains having an average particle diameter of 0.1 μm or less and organic acid silver on a support, and has a light transmittance of 20% or more at an average wavelength of laser light. A silver halide photothermographic material having γ of 2 or more. Hereinafter, the image recording apparatus of the present embodiment will be described with reference to the drawings.

図3、4において、給送部110は堆積された複数枚のフィルムFを収容するトレイTが上下二段に設けられている。各トレイTの前方端部側の上部には、フィルムFの前端部を吸着して上下動する吸着ユニット111が設けられている。また、吸着ユニット111の近傍には、吸着ユニット111により供給されたフィルムFを矢印(1)方向(水平方向)へ給送する給送ローラ対112が設けられている。また、吸着ユニット111は前後にも移動可能で吸着したフイルムFを給送ローラ対112へ運ぶ。そして、給送ローラ対112により給送されたフイルムFを垂直方向に搬送する複数の搬送ローラ対141が設けられいる。これらの搬送ローラ対141により、フィルムFを図4の矢印(2)に示す方向(下方)に搬送する。   3 and 4, the feeding unit 110 is provided with two trays T for storing a plurality of deposited films F. An adsorption unit 111 that adsorbs the front end portion of the film F and moves up and down is provided at the upper portion of each tray T on the front end side. Further, in the vicinity of the suction unit 111, a feed roller pair 112 that feeds the film F supplied by the suction unit 111 in the direction of arrow (1) (horizontal direction) is provided. Further, the suction unit 111 can be moved back and forth to carry the sucked film F to the feed roller pair 112. A plurality of transport roller pairs 141 are provided for transporting the film F fed by the feed roller pair 112 in the vertical direction. The film F is transported in the direction (downward) shown by the arrow (2) in FIG.

画像記録装置100の下部には、搬送方向変換部145が設けられている。この搬送方向変換部145は、図3及び図4に示すように、搬送ローラ対141により図4の矢印(2)に示す鉛直方向下方に搬送されたフィルムFを矢印(3)で示すように水平方向に搬送し、次いで、搬送方向を矢印(3)から矢印(4)へ直角に変換して搬送し次いで、搬送方向を変換され搬送されたフイルムFを図3の矢印(5)に示す鉛直方向上方に搬送方向を変えて搬送する。   A conveyance direction conversion unit 145 is provided at the lower part of the image recording apparatus 100. As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the transport direction conversion unit 145 is configured so that the film F transported downward in the vertical direction indicated by the arrow (2) in FIG. 4 by the transport roller pair 141 is indicated by the arrow (3). The film F transported in the horizontal direction and then transported by changing the transport direction from the arrow (3) to the arrow (4) at a right angle and then transported after the transport direction is changed is shown by an arrow (5) in FIG. It is transported by changing the transport direction upward in the vertical direction.

そして、図3に示すように、搬送方向変換部145から搬送されたフイルムFを図3の矢印(6)で示す鉛直方向上方に搬送する複数の搬送ローラ対142が設けられ、フィルムFを画像記録装置100の左側面から図1の矢印(6)で示す鉛直方向上方に搬送する。   As shown in FIG. 3, a plurality of transport roller pairs 142 are provided for transporting the film F transported from the transport direction converting section 145 upward in the vertical direction indicated by the arrow (6) in FIG. The recording apparatus 100 is conveyed upward in the vertical direction indicated by an arrow (6) in FIG.

この鉛直方向上方への搬送途中で、露光部120は、フィルムFの感光面を赤外域780〜860nmの範囲内の波長を有するレーザ光で走査露光し、露光画像信号に応じた潜像を形成させる。   In the middle of the conveyance upward in the vertical direction, the exposure unit 120 scans and exposes the photosensitive surface of the film F with a laser beam having a wavelength in the infrared range of 780 to 860 nm, and forms a latent image corresponding to the exposure image signal. Let

画像記録装置100の装置の上部には熱現像部130が設けられ、熱現像部130のドラム14の近傍には、搬送ローラ対142で図3の矢印(6)に示す鉛直方向上方に搬送されたフィルムFをドラム14へ供給する供給ローラ対143が設けられている。   A heat developing unit 130 is provided in the upper part of the image recording apparatus 100, and is conveyed upward in the vertical direction indicated by an arrow (6) in FIG. 3 by a conveying roller pair 142 near the drum 14 of the heat developing unit 130. A supply roller pair 143 for supplying the film F to the drum 14 is provided.

ドラム14へフィルムFを供給するタイミングは、成り行きによるランダムなタイミングで供給する。なお、ランダムなタイミングによる供給の代わりに、タイミングを図って供給してもよい。   The timing at which the film F is supplied to the drum 14 is supplied at random timing depending on the event. Instead of supplying at random timing, the timing may be supplied.

熱現像部130のドラム14は、フィルムFとドラム14の外周面とが密着した状態で、図3の矢印(7)に示す方向に共に回転しながら、ドラム14がフィルムFを加熱し熱現像する。すなわち、フイルムFの潜像を可視画像に形成する。その後、図3のドラム14に対し右方まで回転したときに、ドラム14からフィルムFを離す。熱現像部130の右側方には、複数の搬送ローラ対144が設けられており、ドラム14から離れたフイルムFを、図1の矢印(8)に示すように右斜め下方に搬送しつつ、冷却する。そして、搬送ローラ対144が冷却されたフイルムFを搬送しつつ、濃度計118がフイルムFの濃度を測定する。その後、複数の搬送ローラ対144は、ドラム14から離れたフイルムFを図3の矢印(9)に示すように水平方向に搬送し、画像記録装置100の上部から取り出せるように、画像記録装置100の右上方部に設けられた排出トレイ160に排出する。   The drum 14 of the heat developing unit 130 heats and develops the film F while rotating in the direction indicated by the arrow (7) in FIG. 3 while the film F and the outer peripheral surface of the drum 14 are in close contact with each other. To do. That is, the latent image of the film F is formed into a visible image. Thereafter, when the drum 14 shown in FIG. 3 is rotated to the right, the film F is separated from the drum 14. A plurality of conveying roller pairs 144 are provided on the right side of the heat developing unit 130, and the film F separated from the drum 14 is conveyed obliquely downward to the right as indicated by an arrow (8) in FIG. Cooling. The densitometer 118 measures the density of the film F while the transport roller pair 144 transports the cooled film F. Thereafter, the plurality of transport roller pairs 144 transport the film F away from the drum 14 in the horizontal direction as indicated by an arrow (9) in FIG. 3 and take it out from the upper part of the image recording apparatus 100. Are discharged to a discharge tray 160 provided in the upper right part of the.

基本例
図5は、露光部120の構成を示す概念図である。露光部120は、デジタル画像信号Sに基づき強度変調されたレーザ光Lを、回転多面鏡113によって偏向して、フィルムF上を主走査すると共に、フィルムFをレーザ光Lに対して主走査の方向と略直角な方向に相対移動させることにより副走査し、レーザ光Lを用いてフィルムFに潜像を形成するものである。
Basic Example FIG. 5 is a conceptual diagram showing a configuration of the exposure unit 120. The exposure unit 120 deflects the laser light L, which has been intensity-modulated based on the digital image signal S, by the rotary polygon mirror 113 to perform main scanning on the film F, and performs main scanning on the film F with respect to the laser light L. Sub-scanning is performed by relative movement in a direction substantially perpendicular to the direction, and a latent image is formed on the film F using the laser beam L.

画像記録装置100は、放射線CT装置、スキャナ等の画像信号生成装置121から送信された画像信号Sを画像I/F122を介して受信し、変調部123に入力される。変調部123は、画像信号Sをアナログ変換し、アナログ変換された露光画像信号をドライバ124に送り、ドライバ124は送られた露光画像信号に応じてレーザ光源部125、127がレーザ光を照射するように制御する。   The image recording apparatus 100 receives the image signal S transmitted from the image signal generation apparatus 121 such as a radiation CT apparatus or a scanner via the image I / F 122 and inputs the image signal S to the modulation unit 123. The modulation unit 123 analog-converts the image signal S and sends the analog-converted exposure image signal to the driver 124. The driver 124 irradiates the laser light with the laser light source units 125 and 127 according to the sent exposure image signal. To control.

2つのレーザ光源部125,127は、互いに波長の異なるレーザ光を出射するレーザダイオードから構成されており、図5のように、レーザ光源部127から出射したレーザ光L2はミラー128a,ハーフミラー128bにより、レーザ光源部125から出射したレーザ光L1と合波し、この合波したレーザ光Lが集光レンズ126に入射するようになっている。レーザ光源部125から出射するレーザ光の波長(λ1)は、例えば800nmに設定され、レーザ光源部127から出射するレーザ光の波長(λ2)は、例えば800.53nmに設定されている。   The two laser light source units 125 and 127 are configured by laser diodes that emit laser beams having different wavelengths. As shown in FIG. 5, the laser light L2 emitted from the laser light source unit 127 is a mirror 128a and a half mirror 128b. Thus, the laser beam L1 emitted from the laser light source unit 125 is combined, and the combined laser beam L enters the condenser lens 126. The wavelength (λ1) of the laser light emitted from the laser light source unit 125 is set to, for example, 800 nm, and the wavelength (λ2) of the laser light emitted from the laser light source unit 127 is set to, for example, 800.53 nm.

レーザ光源部125、127から出射し合波されたレーザ光Lは、集光レンズ126でビーム径が変換され、シリンドリカルレンズ115で一方向(本実施の形態では、上下方向)にのみ収束され、図5で矢印Aに示す回転方向に回転する回転多面鏡113の鏡面に対し、回転多面鏡の回転軸に垂直な線像として入射するようになっている。回転多面鏡113は、レーザ光Lを主走査方向に反射偏向し、偏向されたレーザ光Lは、4枚のレンズを組み合わせてなるシリンドリカルレンズを含むfθレンズ114を通過した後、光路上に主走査方向に延在して設けられたミラー116で反射されて、搬送装置142により矢印Y方向に搬送されている(副走査されている)フィルムFの被走査面上を、矢印X方向に繰り返し主走査される。このようにして、レーザ光Lは、フィルムF上の被走査面全面にわたって走査する。   The laser light L emitted from the laser light source units 125 and 127 and combined is converted in beam diameter by the condenser lens 126 and converged only in one direction (vertical direction in the present embodiment) by the cylindrical lens 115, In FIG. 5, the mirror surface of the rotating polygon mirror 113 rotating in the rotation direction indicated by the arrow A is incident as a line image perpendicular to the rotation axis of the rotating polygon mirror. The rotary polygon mirror 113 reflects and deflects the laser light L in the main scanning direction, and the deflected laser light L passes through an fθ lens 114 including a cylindrical lens formed by combining four lenses, and then enters the optical path. Reflected by the mirror 116 extending in the scanning direction and repeatedly in the arrow X direction on the surface to be scanned of the film F being conveyed in the arrow Y direction (sub-scanned) by the conveying device 142 Main scan is performed. In this way, the laser beam L scans over the entire surface to be scanned on the film F.

fθレンズ114のシリンドリカルレンズは、入射したレーザ光LをフィルムFの被走査面上に、副走査方向にのみ収束させる。このように、露光部120においては、シリンドリカルレンズを含むfθレンズ114及びミラー116を配設しており、レーザ光Lが回転多面鏡113上で、一旦副走査方向にのみ収束させるようになっているので、回転多面鏡113に面倒れや軸ブレが生じても、フィルムFの被走査面上において、レーザ光Lの走査位置が副走査方向にずれることがなく、走査線を等間隔に形成することができるようになっている。回転多面鏡113は、たとえばガルバノメータミラー等、その他の光偏光器に比べ走査安定性の点で優れているという利点がある。   The cylindrical lens of the fθ lens 114 converges the incident laser light L on the surface to be scanned of the film F only in the sub-scanning direction. As described above, the exposure unit 120 includes the fθ lens 114 including the cylindrical lens and the mirror 116 so that the laser light L is once converged on the rotary polygon mirror 113 only in the sub-scanning direction. Therefore, even if the rotary polygon mirror 113 is tilted or the shaft is shaken, the scanning position of the laser beam L is not shifted in the sub scanning direction on the surface to be scanned of the film F, and the scanning lines are formed at equal intervals. Can be done. The rotary polygon mirror 113 has an advantage that it is superior in scanning stability compared to other optical polarizers such as a galvanometer mirror.

以上のようにして、前述の光路差600μmのフィルムFに画像信号Sに基づく潜像が形成されるが、この場合、整数Nのいずれかに対して前述の式(3)及び式(4)を満足する2つの波長の異なるレーザ光(波長λ1=800nm、波長λ2=800.53nm)により、フィルムFを露光するから、図1,図2により説明したようにフィルムFの厚さに変動があっても干渉縞を効果的に減少させることができ、熱現像後のフィルムFにおいて濃度むらを低減できるので、画像品質が向上する。   As described above, a latent image based on the image signal S is formed on the above-described film F having an optical path difference of 600 μm. In this case, the above-described equations (3) and (4) are applied to any integer N. Since the film F is exposed with two laser beams having different wavelengths (wavelength λ1 = 800 nm, wavelength λ2 = 800.53 nm) that satisfy the above conditions, the thickness of the film F varies as described with reference to FIGS. Even if it exists, since an interference fringe can be reduced effectively and density unevenness can be reduced in the film F after heat development, image quality improves.

変形例1
互いに異なる波長の2つのレーザ光を、互いに異なる波長のレーザ光を発振する複数の発光点を有するレーザダイオードから発振するようにしてもよい。例えば、4本の光束を用いて走査を行う装置に関する変形例を説明する。この変形例は、レーザプリンタに関する。ここでのレーザプリンタは、図14に示されるように、画像情報に応じて出力のレーザ光の強度が変調され、ほぼ平行な4本の光束を出力するレーザビーム出力装置(71)と、このレーザビーム出力装置(71)からの4本のレーザビームを集束させる集束レンズと、この集束レンズ(72)からの4本のレーザビームを被走査面(73)上で走査させるため、レーザビームを振る光偏向素子(74)と、この光偏向素子(74)からのレーザビームの光路を変化させ被走査面(73)上に導く反射鏡(75)とから成る。被走査面は、フィルムFの感光面であり、レーザビームの走査方向と直角方向へ搬送される。レーザビーム出力装置は(71)は、その断面図である図15に示されるように、発振波長が互いに異なる4個の発光点を有する半導体レーザ(76)とコリメートレンズ(77)とを収納したレーザビーム出力部(78)と、このレーザビーム(78)が嵌合した筒状の支持体(79)と、この支持体(79)に嵌合され、光学素子(80)が収納された光学素子収納部(81)とから成る。但し、レーザビーム部(78)及び光学素子収納部(81)とは、貫通孔が設けられており、レーザビームの進行を阻害しないようになっている。
Modification 1
Two laser beams having different wavelengths may be oscillated from a laser diode having a plurality of light emitting points that oscillate laser beams having different wavelengths. For example, a modification regarding an apparatus that performs scanning using four light beams will be described. This modification relates to a laser printer. As shown in FIG. 14, the laser printer here includes a laser beam output device (71) that outputs four substantially parallel light beams, in which the intensity of the output laser light is modulated in accordance with image information, and this A converging lens for converging four laser beams from the laser beam output device (71) and four laser beams from the converging lens (72) are scanned on the surface to be scanned (73). The light deflecting element (74) that swings and the reflecting mirror (75) that changes the optical path of the laser beam from the light deflecting element (74) and guides it onto the surface to be scanned (73). The surface to be scanned is the photosensitive surface of the film F and is conveyed in a direction perpendicular to the scanning direction of the laser beam. As shown in FIG. 15 which is a cross-sectional view of the laser beam output device (71), a semiconductor laser (76) having four emission points having different oscillation wavelengths and a collimator lens (77) are accommodated. A laser beam output section (78), a cylindrical support (79) fitted with the laser beam (78), and an optical fitted with the support (79) and containing the optical element (80). And an element storage portion (81). However, the laser beam part (78) and the optical element storage part (81) are provided with through holes so as not to hinder the progress of the laser beam.

さて、半導体レーザは、良く知られているように、半導体集積回路技術を用いて、ウエハ上に複数個同時に形成後、ここに切断され得られている。この変形例に用いる4個の発光点を有する半導体レーザ(76)は、このウエハを個々に切断することなく4個ずつチップ(91)として切り出して用いる。この時、発光源の間隔は、300μmである。又、それぞれのレーザの電極は電気的に分解されている。このようなチップ(94)を、図16に示されるように、ヒートシンク(92)上に設ける。そして、チップ(94)上の電極にリード線(98)を接続する。このリード線(98)には、図示しない変調器により画像信号に応じて調整された電気信号が供給される。   As is well known, a plurality of semiconductor lasers are simultaneously formed on a wafer using a semiconductor integrated circuit technique and then cut into the semiconductor laser. The semiconductor laser (76) having four light emitting points used in this modification is cut out and used as four chips (91) without cutting the wafer individually. At this time, the interval between the light emitting sources is 300 μm. Also, the electrodes of each laser are electrically decomposed. Such a chip (94) is provided on a heat sink (92) as shown in FIG. Then, the lead wire (98) is connected to the electrode on the chip (94). The lead wire (98) is supplied with an electrical signal adjusted according to an image signal by a modulator (not shown).

このような半導体レーザ(76)からのレーザ光は、広がり、図15に示すコリメートレンズ(77)に入射されるコリメートレンズ(77)は、開口が2.4mm、焦点距離fが8.4mmであり、レーザ半導体(76)の発光面から8.4mmの距離の位置に設けられる。従って、このコリメートレンズ(77)に入射される4個の広がったレーザ光は、4本の平行光束となって出射される。ただし、これら4本の平行光束は、コリメートレンズの直後ではその光路が分離せず、潜在している。そこで、コリメートレンズ(77)の後に光学素子(80)を設ける。   Laser light from such a semiconductor laser (76) spreads, and the collimating lens (77) incident on the collimating lens (77) shown in FIG. 15 has an aperture of 2.4 mm and a focal length f of 8.4 mm. Yes, at a position of 8.4 mm from the light emitting surface of the laser semiconductor (76). Accordingly, the four spread laser beams incident on the collimating lens (77) are emitted as four parallel light beams. However, these four parallel light beams are latent because their optical paths are not separated immediately after the collimating lens. Therefore, an optical element (80) is provided after the collimating lens (77).

光学素子(80)は光学ガラスからできている。この光学素子(80)は、図17に示されるように、平らな入射面(100)と対抗した第1乃至第4の出射面(101)、(102)、(103)、(104)と、これらの入射面(100)及び第1乃至第4の出射面(101)、(102)、(103)、(104)と辺を共有する第5乃至第8の面(105)、(106)、(107)、(1
08)を有する。第1乃至第4の出射面(101)、(102)、(103)、(104)は、対称に形成されている。
The optical element (80) is made of optical glass. As shown in FIG. 17, the optical element (80) includes first to fourth emission surfaces (101), (102), (103), (104) and a flat incident surface (100). The fifth to eighth surfaces (105), (106) sharing sides with the incident surface (100) and the first to fourth emission surfaces (101), (102), (103), (104). ), (107), (1
08). The first to fourth emission surfaces (101), (102), (103), and (104) are formed symmetrically.

図18に示すように、第1又は第4の出射面(101)、(104)と入射面(100)のなす角Aは、6゜前後で、第2又は第3の出射面(102)、(103)と入射面(100)のなす角Bの約3倍である。   As shown in FIG. 18, the angle A formed by the first or fourth exit surface (101), (104) and the entrance surface (100) is about 6 °, and the second or third exit surface (102). , (103) and the incident surface (100) is approximately three times the angle B.

このような光学素子(80)に入射する4本の平行光束は、前述のような配置によって、入射面(100)に於いて、空間的に分離されている。4本の平行光束は、入射面と出射面で屈折される。その結果4本の平行光束は、光学素子(80)によって、それぞれ平行光束のまま、方向が揃えられる。但し、各平行光束は、完全に向きが揃って互いに平行となるのではなく挟まり気味になる。このような光学素子(80)に対して、光学素子収納部(81)は、図19に示されるように、光学素子(80)を挿入固定しうる貫通孔が設けられている。   The four parallel light beams incident on the optical element (80) are spatially separated on the incident surface (100) by the arrangement as described above. The four parallel light beams are refracted at the entrance surface and the exit surface. As a result, the directions of the four parallel light beams are aligned by the optical element (80) while maintaining the respective parallel light beams. However, the parallel light beams are not completely aligned and parallel to each other, but are caught between them. With respect to such an optical element (80), the optical element storage portion (81) is provided with a through hole into which the optical element (80) can be inserted and fixed, as shown in FIG.

さて、光学素子(80)からの4本の平行光束は、図14に示されるように、集束レンズ(72)によって、被走査面(78)上に集束される。前述したように、4本の平行光束は、互に非平行で、集束レンズ(72)に入射するので、被走査面(73)上で4個のスポットが得られ、走査線を形成する。   Now, the four parallel light beams from the optical element (80) are focused on the surface to be scanned (78) by the focusing lens (72) as shown in FIG. As described above, the four parallel light beams are not parallel to each other and enter the focusing lens (72), so that four spots are obtained on the surface to be scanned (73) to form a scanning line.

この変形例1における4個の発光点は、例えばそれぞれ800nm、800.53nm、801.06nm、801.59nmの発振波長であることが好ましい。   It is preferable that the four light emission points in the first modification have oscillation wavelengths of, for example, 800 nm, 800.53 nm, 801.06 nm, and 801.59 nm, respectively.

変形例2
次に、図6により露光部120の基本例及び変形例1についての変形例を説明する。この変形例2は、同一温度では同一波長のレーザ光を発振する2つのレーザダイオード(変形例1の変形では、複数のチップ)に温度差を与えることにより、出射するレーザ光に波長差を生じさせるようにしたものである。レーザ光源部125,127はレーザダイオードから構成され、同一温度では同一波長のレーザ光を発振する。図6に示すように、レーザ光源部125,127には温度制御素子125a,127aと温度検知素子125b,127bとがそれぞれ設けられている。温度制御部128により温度検知素子125b,127bで検知した検知温度に基づいて温度制御素子125a,127aがレーザ光源部125,127の各レーザダイオードに温度差が生じるように制御される。
Modification 2
Next, a modification of the basic example of the exposure unit 120 and the modification 1 will be described with reference to FIG. In the second modification, a temperature difference is given to two laser diodes (a plurality of chips in the modification of the first modification) that oscillate a laser beam having the same wavelength at the same temperature, thereby generating a wavelength difference in the emitted laser light. It is made to let you. The laser light source units 125 and 127 are composed of laser diodes, and oscillate laser beams having the same wavelength at the same temperature. As shown in FIG. 6, the laser light source units 125 and 127 are provided with temperature control elements 125a and 127a and temperature detection elements 125b and 127b, respectively. Based on the detected temperatures detected by the temperature detection elements 125b and 127b by the temperature control unit 128, the temperature control elements 125a and 127a are controlled so that a temperature difference occurs between the laser diodes of the laser light source units 125 and 127.

レーザダイオードはその発振波長に関し、例えば図13に示すように温度依存性があり、例えば発振波長が0.3nm/℃の割合で上昇する特性を有するとすると、発振波長が約800nmで、光路差δが600μmの場合、必要な波長差Δλ(=λ1−λ2)は0.53nmであるから、必要な温度差ΔTは0.53/0.3≒1.8℃となる。従って、温度制御部128でこの温度差になるように温度制御素子125a,127aを制御することにより、図5の場合と同様の効果が得られる。なお、温度制御素子としてペルチェ素子等を使用でき、また温度検知素子として熱電対、サーミスタ等を使用できるが、これらには限定されない。また、2つのレーザ光源部は、必ずしも同一温度で同一波長のレーザ光を発振しなくてもよく、同一温度で同一波長でない場合は、上述と同様にして所定の波長差が得られるようにレーザ光源部に温度差を与えればよい。   The laser diode has a temperature dependency with respect to its oscillation wavelength, for example, as shown in FIG. 13. For example, if the oscillation wavelength has a characteristic of increasing at a rate of 0.3 nm / ° C., the oscillation wavelength is about 800 nm and the optical path difference is When δ is 600 μm, the necessary wavelength difference Δλ (= λ1−λ2) is 0.53 nm, so the necessary temperature difference ΔT is 0.53 / 0.3≈1.8 ° C. Therefore, by controlling the temperature control elements 125a and 127a so that this temperature difference is obtained by the temperature control unit 128, the same effect as in the case of FIG. 5 can be obtained. In addition, although a Peltier element etc. can be used as a temperature control element and a thermocouple, a thermistor, etc. can be used as a temperature detection element, it is not limited to these. In addition, the two laser light source units do not necessarily oscillate laser light having the same wavelength at the same temperature. If the laser light does not have the same wavelength at the same temperature, the laser can be obtained so as to obtain a predetermined wavelength difference as described above. What is necessary is just to give a temperature difference to a light source part.

変形例3
次に、露光部120の別の変形例について図7〜図9により説明する。この変形例3は、レーザ光源部を1つだけ設け、所定本数の走査線毎にレーザの入力電流を変えることによりレーザ光の発振波長を変えるようにしたものである。図7に示すように、レーザダイオードから構成されたレーザ光源部125と集光レンズ126との間に光変調素子129が配置され、この光変調素子129はドライバ124'を介して画像信号Sに応じてレーザ光を変調する。また、レーザ光源制御手段として、レーザ光源部125の発光量を切り換えるタイミングをとるための同期信号を出力する同期信号回路131と、この同期信号に基づいてレーザダイオードへの入力電流値を選択する選択回路132と、この選回路132から送信される入力電流値に基づいてレーザ光源部125のレーザダイオードを入力電流で駆動するドライバ133とを備える。変調部123はドライバ124'を介して同期信号回路131からの同期信号に同期して光変調素子129を駆動する。なお、光変調素子129として音響光学光変調器等を用いることができる。
Modification 3
Next, another modification of the exposure unit 120 will be described with reference to FIGS. In the third modified example, only one laser light source unit is provided, and the oscillation wavelength of the laser beam is changed by changing the laser input current for each predetermined number of scanning lines. As shown in FIG. 7, a light modulation element 129 is arranged between a laser light source unit 125 constituted by a laser diode and a condenser lens 126, and this light modulation element 129 is converted into an image signal S via a driver 124 '. The laser beam is modulated accordingly. Further, as a laser light source control means, a synchronization signal circuit 131 that outputs a synchronization signal for timing to switch the light emission amount of the laser light source unit 125, and a selection for selecting an input current value to the laser diode based on the synchronization signal The circuit 132 includes a driver 133 that drives the laser diode of the laser light source unit 125 with the input current based on the input current value transmitted from the selection circuit 132. The modulation unit 123 drives the light modulation element 129 in synchronization with the synchronization signal from the synchronization signal circuit 131 via the driver 124 ′. An acousto-optic light modulator or the like can be used as the light modulation element 129.

レーザ光源部125から出射し光変調素子129で画像信号Sに応じて変調されたレーザ光Lにより、上述のようにフィルムFの面上でX方向に走査されながら、Y方向に副走査される。このX方向での走査時に、図8に示すように、同期信号回路131の同期信号に同期して発光量選択回路132によりレーザダイオードの発光量を、例えば第1の走査1)の開始から終了までで5mW、同様に第2の走査2)で10mW、同様に第3の走査3)で5mW、・・・のように切り替える。   The laser light L emitted from the laser light source unit 125 and modulated in accordance with the image signal S by the light modulation element 129 is sub-scanned in the Y direction while being scanned in the X direction on the surface of the film F as described above. . At the time of scanning in the X direction, as shown in FIG. 8, the light emission amount of the laser diode is set by the light emission amount selection circuit 132 in synchronization with the synchronization signal of the synchronization signal circuit 131, for example, from the start of the first scan 1). 5 mW up to 10 mW in the second scanning 2), 5 mW in the third scanning 3), and so on.

レーザ光の光出力とその波長との関係は、例えば、図9に示すように、光出力5mWでその波長が800nmとなり、光出力10mWでその波長が800.53nmとなる。図8に示す各走査を、第1〜第3の走査1)〜3)、第4〜第6の走査4)〜6)、第7〜第9の走査7)〜9)、・・・のように、3走査線単位で考えると、レーザ光の発光量と波長との関係が、図8に示すようになっていると、干渉縞を効果的に減少させることができる。また、10mWの光出力時(波長が800.53nm)のエネルギと5mWの光出力時(波長が800nm)のエネルギとを等しくするために、5mWの走査が2回に対して10mWの走査が1回の比率で露光している。   As shown in FIG. 9, for example, as shown in FIG. 9, the wavelength is 800 nm when the optical output is 5 mW, and the wavelength is 800.53 nm when the optical output is 10 mW. Each of the scans shown in FIG. 8 is divided into the first to third scans 1) to 3), the fourth to sixth scans 4) to 6), the seventh to ninth scans 7) to 9),. Thus, when considered in units of three scanning lines, the interference fringes can be effectively reduced when the relationship between the light emission amount of the laser light and the wavelength is as shown in FIG. Also, in order to make the energy at the time of 10 mW light output (wavelength is 80.53 nm) equal to the energy at the time of light output of 5 mW (wavelength is 800 nm), a scan of 10 mW is 1 for a scan of 5 mW twice. The exposure is performed at the rate of times.

なお、例えば図9のようなレーザ光の光出力とその波長との関係は、レーザダイオードの種類により異なるから、レーザダイオードを適宜選択するとよい。また、図9のような関係から所望の波長差を有するようにレーザ光の2つの光出力レベルを選択するようにできる。   For example, the relationship between the light output of the laser beam and its wavelength as shown in FIG. Further, the two light output levels of the laser light can be selected so as to have a desired wavelength difference from the relationship as shown in FIG.

次に、上述のフィルムFについて説明する。図10は、フィルムFの断面図であり、露光時におけるフィルムF内の化学的反応を模式的に示した図である。図11は、加熱時におけるフィルムF内の化学的反応を模式的に示した、図10と同様な断面図である。フィルムFは、PETからなる支持体(基層)上に、ポリビニルブチラールを主材とする感光層が形成され、更に、その上にセルロースブチレートからなる保護層が形成されている。感光層には、ベヘン酸銀(Beh.Ag)と、還元剤及び調色剤とが配合されている。   Next, the above film F will be described. FIG. 10 is a cross-sectional view of the film F, schematically showing a chemical reaction in the film F during exposure. FIG. 11 is a cross-sectional view similar to FIG. 10 schematically showing a chemical reaction in the film F during heating. In the film F, a photosensitive layer mainly composed of polyvinyl butyral is formed on a support (base layer) composed of PET, and a protective layer composed of cellulose butyrate is further formed thereon. In the photosensitive layer, silver behenate (Beh. Ag), a reducing agent and a toning agent are blended.

露光時に、露光部120よりレーザ光LがフィルムFに対して照射されると、図10に示すように、レーザ光Lが照射された領域に、ハロゲン化銀粒子が感光し、潜像が形成される。一方、フィルムFが加熱されて最低熱現像温度以上になると、図11に示すように、ベヘン酸銀から銀イオン(Ag+)が放出され、銀イオンを放出したベヘン酸は調色剤と錯体を形成する。その後銀イオンが拡散して、感光したハロゲン化銀粒子を核として還元剤が作用し、化学的反応により銀画像が形成されると思われる。このようにフィルムFは、感光性ハロゲン化銀粒子と、有機銀塩と、銀イオン還元剤とを含有し、40℃以下の温度では実質的に熱現像されず、80℃以上である最低現像温度以上の温度で熱現像されるようになっている。 When the exposure unit 120 irradiates the film F with the laser beam L during exposure, the silver halide grains are exposed to the area irradiated with the laser beam L as shown in FIG. Is done. On the other hand, when the film F is heated to a temperature equal to or higher than the minimum heat development temperature, silver ions (Ag + ) are released from the silver behenate as shown in FIG. Form. Thereafter, silver ions are diffused, and a reducing agent acts on the exposed silver halide grains as nuclei, and a silver image is formed by a chemical reaction. Thus, the film F contains photosensitive silver halide grains, an organic silver salt, and a silver ion reducing agent, and is not substantially thermally developed at a temperature of 40 ° C. or lower and is the minimum developed at 80 ° C. or higher. Heat development is performed at a temperature higher than the temperature.

熱現像材料に用いられる感光性のハロゲン化銀は、典型的に、有機銀塩に関して、0.75〜25mol%の範囲で用いられることができ、好ましくは、2〜20mol%の範囲で用いられることができる。また、フィルムFは、有機酸銀を感光層中のハロゲン化銀粒子に対して銀量で4倍以上の含有していることが好ましい。また、ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.1μm以下である。   The photosensitive silver halide used in the heat-developable material can typically be used in the range of 0.75 to 25 mol%, preferably in the range of 2 to 20 mol%, with respect to the organic silver salt. be able to. Moreover, it is preferable that the film F contains 4 times or more of silver in the amount of silver with respect to the silver halide grains in the photosensitive layer. The average grain size of the silver halide grains is 0.1 μm or less.

このハロゲン化銀は、臭化銀や、ヨウ化銀や、塩化銀や、臭化ヨウ化銀や、塩化臭化ヨウ化銀や、塩化臭化銀等のあらゆる感光性ハロゲン化銀であっても良い。このハロゲン化銀は、これらに限定されるものではないが、立方体や、斜方晶系状や、平板状や、4面体等を含む、感光性であるところのあらゆる形態であっても良い。   This silver halide is any photosensitive silver halide such as silver bromide, silver iodide, silver chloride, silver bromoiodide, silver chlorobromoiodide and silver chlorobromide. Also good. The silver halide may be in any form that is photosensitive, including, but not limited to, cubic, orthorhombic, flat, tetrahedral and the like.

有機銀塩は、銀にオンの還元源を含むあらゆる有機材料である。有機酸の、特に長鎖脂肪酸(10〜30の炭素原子、好ましくは15〜28の炭素原子)の銀塩が好ましい。配位子が全体的に4.0〜10.0の間で一定の安定性を有する有機又は無機の銀塩錯体であることが好ましい。そして、画像記録層の重量の約5〜30%であることが好ましい。   An organic silver salt is any organic material that contains an on-reduce source of silver. Silver salts of organic acids, particularly long chain fatty acids (10-30 carbon atoms, preferably 15-28 carbon atoms) are preferred. It is preferable that the ligand is an organic or inorganic silver salt complex having a certain stability between 4.0 and 10.0 as a whole. Further, it is preferably about 5 to 30% of the weight of the image recording layer.

この熱現像材料に用いられることができる有機銀塩は、光に対して比較的安定な銀塩であって、露光された光触媒(たとえば写真用ハロゲン化銀等)と還元剤の存在において、80℃以上の温度に加熱されたときに銀画像を形成する銀塩である。   The organic silver salt that can be used in the heat-developable material is a silver salt that is relatively stable to light, and in the presence of an exposed photocatalyst (eg, photographic silver halide) and a reducing agent, 80 It is a silver salt that forms a silver image when heated to a temperature of ℃ or higher.

好ましい有機銀塩には、カルボキシル基を有する有機化合物の銀塩が含まれる。それらには、脂肪族カルボン酸の銀塩及び芳香族カルボン酸の銀塩が含まれる。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例には、ベヘン酸銀、ステアリン酸銀等が含まれる。脂肪族カルボン酸におけるハロゲン原子又はヒドロキシルとの銀塩も効果的に用いうる。メルカプト又はチオン基を有する化合物及びそれらの誘導体の銀塩も用いうる。更に、イミノ基を有する化合物の銀塩を用いうる。   Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. They include silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the aliphatic carboxylic acid silver salt include silver behenate and silver stearate. Silver salts with halogen atoms or hydroxyls in aliphatic carboxylic acids can also be used effectively. Silver salts of compounds having a mercapto or thione group and derivatives thereof may also be used. Furthermore, a silver salt of a compound having an imino group can be used.

有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金属銀に還元できるいずれの材料でも良く、好ましくは有機材料である。フェニドン、ヒドロキノン及びカテコールのような従来の写真現像剤が有用である。しかし、フェノール還元剤が好ましい。還元剤は画像記録層の1〜10重量%存在するべきである。多層構成においては、還元剤が乳剤層以外の相に添加される場合は、わずかに高い割合である約2〜15重量%がより望ましい。   The reducing agent for the organic silver salt may be any material that can reduce silver ions to metallic silver, and is preferably an organic material. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful. However, phenol reducing agents are preferred. The reducing agent should be present at 1-10% by weight of the image recording layer. In multi-layer configurations, a slightly higher proportion of about 2 to 15% by weight is more desirable when the reducing agent is added to a phase other than the emulsion layer.

上述の本実施の形態による基本例及び変形例1〜3の装置により下記のフィルムFを露光し熱現像したところ、干渉縞の発生が原因と考えられる濃度むらは発見されなかった。以下、フィルムFの製造について説明する。   When the following film F was exposed and heat-developed by the apparatus of the basic example and the first to third modifications according to the above-described embodiment, density unevenness considered to be caused by generation of interference fringes was not found. Hereinafter, the production of the film F will be described.

ハロゲン化銀−ベヘン酸銀ドライソープを、米国特許第3,839,049号に記載の方法によって調製した。上記ハロゲン化銀は総銀量の9モル%を有し、一方べへン酸銀は総銀量の91モル%を有した。上記ハロゲン化銀は、ヨウ化物2%を有する0.055μm臭化ヨウ化銀エマルジョンであった。   Silver halide-silver behenate dry soap was prepared by the method described in US Pat. No. 3,839,049. The silver halide had 9 mol% of total silver, while silver behenate had 91 mol% of total silver. The silver halide was a 0.055 μm silver bromoiodide emulsion with 2% iodide.

熱現像乳剤を、上記ハロゲン化銀−ベヘン酸銀ドライソープ455g、トルエン27g、2−ブタノン1918g、およびポリビニルブチラール(モンサント製のB−79)と均質化した。上記均質化熱現像乳剤(698g)および2−ブタノン60gを撹拌しながら12.8℃まで冷却した。ピリジニウムヒドロブロミドペルブロミド(0.92g)を加えて、2時間撹絆した。   The thermally developed emulsion was homogenized with 455 g of the above silver halide-silver behenate dry soap, 27 g of toluene, 1918 g of 2-butanone, and polyvinyl butyral (B-79 manufactured by Monsanto). The homogenized heat developed emulsion (698 g) and 2-butanone 60 g were cooled to 12.8 ° C. with stirring. Pyridinium hydrobromide perbromide (0.92 g) was added and stirred for 2 hours.

臭化カルシウム溶液(CaBr(1g)とメタノール10ミリリットル)3.25ミリリットルを加え、続いて30分間撹拌した。更にポリビニルブチラール(158g;モンサント製B−79)を加え、20分間撹拌した。温度を21.1℃まで上昇し、以下のものを撹絆しながら15分間かけて加えた。
2−(トリブロモメチルスルホン)キノリン 3.42g、
1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5 −トリメチルヘキサン 28.1g、
5−メチルメルカプトべンズイミダゾール0.545gを含有する溶液
41.1g、
2−(4−クロロべンゾイル)安息香酸 6.12g
S−1(増感染料) 0.104g
メタノール 34.3g
イソシアネート(デスモダーN3300、モべイ製) 2.14g
テトラクロロフタル酸無水物 0.97g
フタラジン 2.88g
尚、染料S−1は以下の構造を有する。
3.25 ml of calcium bromide solution (CaBr (1 g) and 10 ml of methanol) was added followed by stirring for 30 minutes. Further, polyvinyl butyral (158 g; B-79 manufactured by Monsanto) was added and stirred for 20 minutes. The temperature was raised to 21.1 ° C. and the following were added over 15 minutes with stirring.
2- (tribromomethylsulfone) quinoline 3.42 g,
28.1 g of 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane,
A solution containing 0.545 g of 5-methylmercaptobenzimidazole
41.1g,
2- (4-Chlorobenzoyl) benzoic acid 6.12 g
S-1 (Infectious infection charge) 0.104g
34.3g of methanol
Isocyanate (Desmoder N3300, manufactured by Movey) 2.14 g
Tetrachlorophthalic anhydride 0.97g
Phthalazine 2.88g
The dye S-1 has the following structure.

Figure 2005301303
活性保護トップコート溶液を以下の成分を用いて調製した,
2−ブタノン 80.0g
メタノール 10.7g
酢酪酸セルロース(CAB−171−155、イーストマン・ケミカルズ製)
8.0g
4−メチルフタル酸 0.52g
MRA−1、モトル還元剤、N−エチルペルフルオロオクタンスルホニルアミドエチルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸の重量比70:20:10の3級ポリマー 0.80g
この熱現像乳剤とトッブコートとは、同時に、0.18mmの青色ポリエステル・フィルム・べースにコーティングされた。ナイフ・コーターは、同時にコーティングする2つのバーやナイフを15.2cmの距離を置いた状態で設定された。銀トリップ層と、トップ・コートとは、銀乳剤をリアー・ナイフに先立ってフィルムに注ぎ、トップ・コートをフロント・バーに先立ってフィルムに注ぐことにより、多層コーティングされた。
Figure 2005301303
An active protective topcoat solution was prepared using the following ingredients:
2-butanone 80.0g
Methanol 10.7g
Cellulose butyrate (CAB-171-155, manufactured by Eastman Chemicals)
8.0g
4-methylphthalic acid 0.52g
MRA-1, mottle reducing agent, N-ethylperfluorooctanesulfonylamidoethyl methacrylate / hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid weight ratio 70:20:10 tertiary polymer 0.80 g
This thermally developed emulsion and topcoat were simultaneously coated on a 0.18 mm blue polyester film base. The knife coater was set with two bars and knives to be coated at a distance of 15.2 cm. The silver trip layer and the top coat were multilayer coated by pouring silver emulsion onto the film prior to the rear knife and pouring the top coat onto the film prior to the front bar.

このフィルムは、次いで、両方の層が同時にコーティングされるように、前方へ引き出された。これは、多層コーティング方法を1回行って得られた。コーティングされたポリエステル・べースは、79.4℃で4分間乾燥せしめられた。そのナイフは、その銀層に対して1m2当たりの乾燥被膜重量が23gとなるように、そして、そのトップ・コートに対して1m2当たりの乾燥被膜重量が2.4gとなるように調整された。また、これらの層の乾燥膜厚および屈折率と支持体であるフィルムベースの膜厚及び屈折率から求まる光路長は600μmであった。 This film was then drawn forward so that both layers were coated simultaneously. This was obtained by performing the multilayer coating method once. The coated polyester base was dried at 79.4 ° C. for 4 minutes. As the knife, as dry coating weight per 1 m 2 for the silver layer is 23g, then dry coating weight per 1 m 2 is adjusted so as to be 2.4g for the top coat It was. Further, the optical path length obtained from the dry film thickness and refractive index of these layers and the film thickness and refractive index of the film base as a support was 600 μm.

本発明の画像記録方法及び画像記録装置によれば、感光材料の露光時におけるレーザ光の干渉縞を減少させることができ、感光材料に形成される画像の品質を向上させることができる。   According to the image recording method and the image recording apparatus of the present invention, it is possible to reduce interference fringes of laser light during exposure of a photosensitive material, and to improve the quality of an image formed on the photosensitive material.

本発明の原理を説明するためのフィルムの断面図である。It is sectional drawing of the film for demonstrating the principle of this invention. 図1の入射光の入射点5におけるレーザ光の波長(λ1)と位相を示す図(a)、反射光の入射点6におけるレーザ光の波長(λ2)と位相(図1(a)と同一位相)を示す図(b)、及び反射光の入射点6におけるレーザ光の波長(λ2)と位相(図1(a)と逆の位相)を示す図(c)である。FIG. 1A shows the wavelength (λ1) and phase of the laser beam at the incident point 5 of incident light in FIG. 1, and the wavelength (λ2) and phase of the laser beam at the incident point 6 of reflected light (same as FIG. 1A). FIG. 5B is a diagram showing the phase), and FIG. 5C is a diagram showing the wavelength (λ2) and phase (opposite phase of FIG. 本発明の実施の形態にかかる熱現像装置の正面図である。1 is a front view of a heat development apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態にかかる熱現像装置の左側面図である。1 is a left side view of a heat development apparatus according to an embodiment of the present invention. 図3の熱現像装置の露光部120の構成を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a configuration of an exposure unit 120 of the heat development apparatus of FIG. 3. 露光部の変形例を示す概略図である。It is the schematic which shows the modification of an exposure part. 露光部の別の変形例を示す概略図である。It is the schematic which shows another modification of an exposure part. 図7の露光部によるレーザ光の走査状態を説明するための模式的な図である。It is a schematic diagram for demonstrating the scanning state of the laser beam by the exposure part of FIG. 図7のレーザダイオードの光出力とその波長との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the optical output of the laser diode of FIG. 7, and its wavelength. 本実施の形態にけるフィルムFの断面図であり、露光時におけるフィルムF内の化学的反応を模式的に示した図である。It is sectional drawing of the film F in this Embodiment, and is the figure which showed typically the chemical reaction in the film F at the time of exposure. 加熱時におけるフィルムF内の化学的反応を模式的に示した、図10と同様な断面図である。It is sectional drawing similar to FIG. 10 which showed typically the chemical reaction in the film F at the time of a heating. 従来技術の問題を説明するためのフィルムの断面とレーザ光との関係を示す概念図(a),(b)である。It is a conceptual diagram (a), (b) which shows the relationship between the cross section of the film for demonstrating the problem of a prior art, and a laser beam. レーザダイオードの温度による波長変化を概念的に示す図である。It is a figure which shows notionally the wavelength change by the temperature of a laser diode. 複数の発光点を有するレーザダイオードに関する変形例を説明するための光学系の斜視図である。It is a perspective view of the optical system for demonstrating the modification regarding the laser diode which has a several light emitting point. 図14のレーザビーム出力部(78)の断面図である。It is sectional drawing of the laser beam output part (78) of FIG. 図15の半導体レーザ(76)の斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor laser (76) of FIG. 図15の光学素子(80)の斜視図である。It is a perspective view of the optical element (80) of FIG. 図15の光学素子(80)の形状を説明するための側面図である。It is a side view for demonstrating the shape of the optical element (80) of FIG. 図15の光学素子収納部(81)の斜視図である。It is a perspective view of the optical element storage part (81) of FIG. 図16の半導体レーザの発光点を示す図(a),(b)である。FIGS. 17A and 17B are diagrams showing light emission points of the semiconductor laser of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 フィルムの支持体
2 フィルムの感光層
100 熱現像装置
110 格納部
120 露光部
130 現像部
125,127 レーザ光源部
125a,127a 温度制御素子
125b,127b 温度検知素子
128 温度制御部
129 光変調素子
113 回転多面鏡
142 搬送装置
F フィルム
D1 フィルムの支持体の厚さ
n1 支持体の屈折率
D2 フィルムの感光層の厚さ
n2 感光層の屈折率
λ1 レーザ光の波長
λ2 別のレーザ光の波長

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film support body 2 Photosensitive layer of film 100 Thermal development apparatus 110 Storage part 120 Exposure part 130 Development part 125,127 Laser light source part 125a, 127a Temperature control element 125b, 127b Temperature detection element 128 Temperature control part 129 Light modulation element 113 Rotating polygon mirror 142 Conveying device F Film D1 Film support thickness n1 Support refractive index D2 Film photosensitive layer thickness n2 Photosensitive layer refractive index λ1 Laser light wavelength λ2 Different laser light wavelength

Claims (3)

平均粒径が0.1μm以下のハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に有し、レーザ光の平均波長での光透過率が20%以上であり、γが2以上のハロゲン化銀熱現像感光材料をレーザ光で走査露光することにより、前記感光材料に画像を形成する画像記録装置において、
レーザ光を発振するレーザ光源と、
前記レーザ光源から発振されたレーザ光を前記ハロゲン化銀熱現像感光材料上に走査する走査光学系と、
前記走査の所定本数の走査線毎に、前記レーザ光源から発振するレーザ光の波長を切り替えるように制御するレーザ光源制御手段と、を有することを特徴とする画像記録装置。
The support has a photosensitive layer containing silver halide grains having an average particle diameter of 0.1 μm or less and organic acid silver, the light transmittance at an average wavelength of laser light is 20% or more, and γ is In an image recording apparatus for forming an image on the photosensitive material by scanning and exposing two or more silver halide photothermographic materials with a laser beam,
A laser light source for emitting laser light;
A scanning optical system for scanning the silver halide photothermographic material with laser light oscillated from the laser light source;
An image recording apparatus comprising: laser light source control means for controlling the wavelength of laser light oscillated from the laser light source for each predetermined number of scanning lines.
前記レーザ光源がレーザダイオードであることを特徴とする請求項15に記載の画像記録装置。 The image recording apparatus according to claim 15, wherein the laser light source is a laser diode. 平均粒径が0.1μm以下のハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体上に有し、レーザ光の平均波長での光透過率が20%以上であり、γが2以上のハロゲン化銀熱現像感光材料をレーザ光で走査露光することにより、前記ハロゲン化銀熱現像感光材料に画像を形成する画像記録装置において、
レーザ光を発振するレーザダイオードと、
前記レーザダイオードから発振されたレーザ光を前記ハロゲン化銀熱現像感光材料上に走査する走査光学系と、
前記ハロゲン化銀熱現像感光材料上に走査して記録される画像の画像信号を入力する手段と、
前記走査の所定本数の走査線毎に、前記レーザダイオードへの入力電流を変えることにより、発振する前記レーザ光の波長を切り替えるように制御するレーザ光源制御手段と、
を有することを特徴とする画像記録装置。
The support has a photosensitive layer containing silver halide grains having an average particle diameter of 0.1 μm or less and organic acid silver, the light transmittance at an average wavelength of laser light is 20% or more, and γ is In an image recording apparatus for forming an image on the silver halide photothermographic material by scanning and exposing two or more silver halide photothermographic materials with a laser beam,
A laser diode that oscillates laser light;
A scanning optical system that scans the silver halide photothermographic material with laser light oscillated from the laser diode;
Means for inputting an image signal of an image to be scanned and recorded on the silver halide photothermographic material;
Laser light source control means for controlling the wavelength of the laser light to be oscillated by changing an input current to the laser diode for each predetermined number of scanning lines;
An image recording apparatus comprising:
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