JP2005300817A - Polymerizable composition and lithographic printing master plate - Google Patents

Polymerizable composition and lithographic printing master plate Download PDF

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Atsushi Sugazaki
敦司 菅▲崎▼
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymerizable composition excellent in film strength and exhibiting high sensitivity, and a lithographic printing master plate excellent in printing durability and sensitivity and suitable for drawing by laser light. <P>SOLUTION: The polymerizable composition contains a polymerizable compound, a binder polymer, a polymerization initiator and a sensitizing dye, wherein at least one of components constituting the composition is a compound having an unshared electron pair and a hydrogen atom capable of hydrogen bonding and having a substituent capable of forming two or more hydrogen bonds. The lithographic printing master plate has on a support a photosensitive layer comprising the polymerizable composition. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明はネガ型の重合性組成物及び平版印刷版原版に関し、特に、赤外線レーザによる高感度で書き込み可能なネガ型の重合性組成物及び平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a negative polymerizable composition and a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a negative polymerizable composition and a lithographic printing plate precursor that can be written with high sensitivity by an infrared laser.

従来より、光重合性組成物の露光による画像形成方法として、高分子結合材、エチレン性不飽和化合物、及び光重合開始剤、或いは更に増感色素等からなる光重合性組成物の層を支持体表面に形成し、画像露光して露光部のエチレン性不飽和化合物を重合、硬化させた後、非露光部を溶解除去することにより硬化レリーフ画像を形成する方法が汎用されており、又、その光重合性組成物の感度の改良を目的として、各種の、エチレン性不飽和化合物、或いは光重合開始剤、又は増感色素等に関し多くの提案がなされているが、いずれも、耐刷力の面で満足できるものではなかった。   Conventionally, as a method of forming an image by exposure of a photopolymerizable composition, a layer of a photopolymerizable composition comprising a polymer binder, an ethylenically unsaturated compound, a photopolymerization initiator, or further a sensitizing dye is supported. A method of forming a cured relief image by forming an image on the body surface, polymerizing and curing the ethylenically unsaturated compound in the exposed portion by exposing to light, and dissolving and removing the non-exposed portion is widely used. Many proposals have been made on various ethylenically unsaturated compounds, photopolymerization initiators, sensitizing dyes, and the like for the purpose of improving the sensitivity of the photopolymerizable composition. It was not satisfactory in terms of

また、アリル(メタ)アクリレートの共重合体を重合性組成物のバインダーポリマーとして用いることにより、硬化効率が高くなることが知られている(例えば、特許文献1参照。)。また、カルボキシル基含有重合体のカルボキシル基の一部をエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物と反応させて、側鎖に、エチレン性不飽和結合を導入せしめた重合体をバインダーポリマーとして用いた重合性組成物も知られている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、これらの組成物の性能は十分とはいえず、耐刷性をはじめ、感度などの点で、更なる改良が望まれていた。
特公平3−63740号公報 特開平10−10719号公報
Moreover, it is known that the curing efficiency is increased by using a copolymer of allyl (meth) acrylate as a binder polymer of the polymerizable composition (for example, see Patent Document 1). Polymerization using a polymer obtained by reacting a part of the carboxyl group of a carboxyl group-containing polymer with an epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound and introducing an ethylenically unsaturated bond in the side chain as a binder polymer Compositions are also known (see, for example, Patent Document 2). However, the performance of these compositions is not sufficient, and further improvements have been desired in terms of printing durability and sensitivity.
Japanese Examined Patent Publication No. 3-63740 Japanese Patent Laid-Open No. 10-10719

従って、本発明の目的は、膜強度に優れると共に、高感度を示す重合性組成物、及び、耐刷性及び感度に優れ、レーザー光による描画に適した平版印刷版原版を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a polymerizable composition exhibiting excellent film strength and high sensitivity, and a lithographic printing plate precursor excellent in printing durability and sensitivity and suitable for drawing with laser light. .

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、特定の水素結合性の官能基を有する成分を重合性組成物中に含有させることで、上記目的が達成されることを見出し、本発明を成すに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have confirmed that the above object can be achieved by including a component having a specific hydrogen bonding functional group in the polymerizable composition. The headline and the present invention were made.

すなわち、本発明の重合性組成物は、バインダーポリマー、重合性化合物、重合開始剤、及び増感色素を含有する重合性組成物であって、
これを構成する成分のうち少なくとも1つが、非共有電子対と水素結合可能な水素原子とを有し、2以上の水素結合を形成しうる置換基を有する化合物を含むことを特徴とする。
つまり、本発明の重合性組成物は4つの必須成分と任意成分とから構成されるが、これらの成分のうち少なくとも1つが、非共有電子対と水素結合可能な水素原子とを有し、2以上の水素結合を形成しうる置換基を有する化合物であることを要する。
That is, the polymerizable composition of the present invention is a polymerizable composition containing a binder polymer, a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a sensitizing dye,
At least one of the components constituting this includes a compound having a substituent that can form two or more hydrogen bonds, having a lone pair and a hydrogen atom capable of hydrogen bonding.
That is, the polymerizable composition of the present invention is composed of four essential components and an optional component, and at least one of these components has a lone pair and a hydrogen atom capable of hydrogen bonding. It is necessary to be a compound having a substituent capable of forming the above hydrogen bond.

また、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、上記の本発明の重合性組成物を含む感光層を備えてなることを特徴とする。   The lithographic printing plate precursor according to the invention is characterized in that a photosensitive layer containing the polymerizable composition according to the invention is provided on a support.

本発明の作用は明確ではないが以下のように推測される。
本発明における、非共有電子対と水素結合可能な水素原子とを有し、2以上の水素結合を形成しうる置換基を有する化合物は、その分子内に、非共有電子対と水素結合可能な水素原子とを有し、2以上の水素結合を形成しうる置換基(以下、適宜、「多点水素結合性基」と称する。)を有するため、組成物中では、これら多点水素結合性基同士が、後に詳述する特徴的な水素結合により会合体を形成することができる。また、重合性組成物を構成する他の成分における水素結合性基とも水素結合性ネットワークを形成することができる。
そのため、本発明の重合性組成物中では、それを構成する各成分を所望の通りに近接して存在させることが可能となる。つまり、ある2つの必須成分の一方又は両方に上記のような多点水素結合性基を有する化合物を用いることで、多点水素結合性基同士、又は、多点水素結合性基と他の水素結合性基との間で水素結合性ネットワークが形成されることから、組成物中では、その2つの必須成分を近接して存在させることができる。また、任意成分の添加剤として多点水素結合性基を有する化合物を用いる際も、この添加剤と必須成分との間に多点水素結合性基と他の水素結合性基との間で水素結合性ネットワークが形成されることから、添加剤を介して必須成分を近接して存在させることができる。これらのことから、本発明の重合性組成物においては重合反応効率が向上し、その結果、優れた感度及び膜強度が得られるものと推測される。
Although the operation of the present invention is not clear, it is presumed as follows.
In the present invention, the compound having a lone pair and a hydrogen atom capable of hydrogen bonding and having a substituent capable of forming two or more hydrogen bonds is capable of hydrogen bonding with the lone pair in the molecule. Since it has a hydrogen atom and a substituent that can form two or more hydrogen bonds (hereinafter, referred to as “multi-point hydrogen bonding group” as appropriate), these multi-point hydrogen bonding properties are included in the composition. Groups can form an association by a characteristic hydrogen bond described in detail later. Moreover, a hydrogen bond network can be formed also with the hydrogen bond group in the other component which comprises a polymeric composition.
Therefore, in the polymerizable composition of the present invention, it is possible to make each component constituting it close as desired. That is, by using a compound having a multipoint hydrogen-bonding group as described above for one or both of two essential components, the multipoint hydrogen-bonding groups, or the multipoint hydrogen-bonding group and another hydrogen Since a hydrogen bonding network is formed between the bonding groups, the two essential components can be present in the composition in close proximity. In addition, when using a compound having a multipoint hydrogen bonding group as an additive of an optional component, a hydrogen atom between the multipoint hydrogen bonding group and another hydrogen bonding group is present between the additive and the essential component. Since a binding network is formed, essential components can be present in close proximity via the additive. From these facts, it is presumed that in the polymerizable composition of the present invention, the polymerization reaction efficiency is improved, and as a result, excellent sensitivity and film strength can be obtained.

このような重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に適用すると、多点水素結合性基を有する化合物により形成される多点水素結合は感光層(重合性組成物の塗膜)のように水が介在しない状態では強く作用するため、先に述べたような膜物性(感度及び膜強度)に対応して、感度及び耐刷性の向上が可能となる。
なお、このような多点水素結合は非共有結合であり、水(例えば、現像液)のようなプロトン性の媒体が介在する状況では、水分子が官能基間の水素結合形成を阻害するために、一般に、水素結合形成は不可能となる。以上のことから、感光層の露光部では、架橋や重合による膜密度の向上により、膜中への現像液の浸透が少ない状態となるため、強固な水素結合に起因する先述のような効果が発現され、一方、感光層の未露光部では、架橋反応や重合反応が生起せず、現像液の膜中への浸透が抑制されないため、現像液による水素結合形成阻害が生じ、強固な水素結合は形成されず、感光層の未露光部は容易に現像されうるものと推測される。その結果、非画像部に汚れのない良好な印刷物を、多数得ることができると思われる。
When such a polymerizable composition is applied to the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, the multipoint hydrogen bond formed by the compound having a multipoint hydrogen bonding group is like a photosensitive layer (a coating film of the polymerizable composition). In the state where water does not intervene, it acts strongly, so that the sensitivity and printing durability can be improved corresponding to the film properties (sensitivity and film strength) as described above.
Such multi-point hydrogen bonds are non-covalent bonds, and in the situation where a protic medium such as water (for example, developer) is present, water molecules inhibit the formation of hydrogen bonds between functional groups. In general, hydrogen bond formation is impossible. From the above, in the exposed part of the photosensitive layer, the film density is improved by cross-linking and polymerization, so that the penetration of the developer into the film is reduced. On the other hand, in the unexposed part of the photosensitive layer, the crosslinking reaction or polymerization reaction does not occur, and the penetration of the developer into the film is not suppressed. It is presumed that the unexposed part of the photosensitive layer can be easily developed. As a result, it seems that a large number of good printed materials having no stain on the non-image area can be obtained.

本発明によれば、膜強度に優れると共に、高感度を示す重合性組成物、及び、耐刷性及び感度に優れ、レーザー光による描画に適した平版印刷版原版を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a polymerizable composition exhibiting excellent film strength and high sensitivity, and a lithographic printing plate precursor excellent in printing durability and sensitivity and suitable for drawing with a laser beam.

以下、本発明について説明する。
<重合性組成物>
本発明の重合性組成物は、重合性化合物、バインダーポリマー、重合開始剤、及び増感色素を含有する重合性組成物であって、これを構成する成分のうち少なくとも1つが、非共有電子対と水素結合可能な水素原子とを有し、2以上の水素結合を形成しうる置換基(多点水素結合性基)を有する化合物を含むことを特徴とする。
つまり、本発明の重合性組成物は、バインダーポリマー、重合性化合物、重合開始剤、及び増感色素の4つの必須成分と任意成分とから構成されるが、これらの成分のうち少なくとも1つが、多点水素結合性基を有する化合物であることを要する。例えば、上記の4つの必須成分のいずれもが、多点水素結合性基を有する化合物でない場合、任意の成分として、多点水素結合性基を有する添加剤を含有することで本発明の重合性組成物が構成される。
The present invention will be described below.
<Polymerizable composition>
The polymerizable composition of the present invention is a polymerizable composition containing a polymerizable compound, a binder polymer, a polymerization initiator, and a sensitizing dye, and at least one of the components constituting this is a non-shared electron pair. And a hydrogen atom capable of hydrogen bonding, and a compound having a substituent (multi-point hydrogen bonding group) capable of forming two or more hydrogen bonds.
That is, the polymerizable composition of the present invention is composed of four essential components and optional components of a binder polymer, a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a sensitizing dye, and at least one of these components is It is necessary to be a compound having a multipoint hydrogen bonding group. For example, when none of the above four essential components is a compound having a multipoint hydrogen-bonding group, the polymerization property of the present invention can be obtained by containing an additive having a multipoint hydrogen-bonding group as an optional component. A composition is constructed.

このような本発明の重合性組成物は、増感色素を含有しているため、該増感色素が感応し得る波長にて露光すると、その露光部分のみが熱を発生する、又は増感する。そして、その熱により重合開始剤がラジカルを発生させ、この発生したラジカルにより重合性化合物が重合反応を起こすという機構を有する。このような重合機構を有することから、膜強度及び感度を向上させるために、後述する、(1)多点水素結合性基を有するバインダーポリマー、(2)多点水素結合性基を有する重合性化合物、(3)多点水素結合性基を有する重合開始剤、(4)多点水素結合性基を有する増感色素、及び(5)多点水素結合性基を有する添加剤を、適宜、2成分以上で組み合せることができる。   Since such a polymerizable composition of the present invention contains a sensitizing dye, when the sensitizing dye is exposed at a wavelength to which the sensitizing dye can respond, only the exposed part generates heat or sensitizes. . And the polymerization initiator generates radicals by the heat, and the polymerizable compound causes a polymerization reaction by the generated radicals. Since it has such a polymerization mechanism, in order to improve film strength and sensitivity, (1) a binder polymer having a multipoint hydrogen-bonding group, and (2) a polymerizability having a multipoint hydrogen-bonding group, which will be described later. A compound, (3) a polymerization initiator having a multipoint hydrogen bond group, (4) a sensitizing dye having a multipoint hydrogen bond group, and (5) an additive having a multipoint hydrogen bond group, Can be combined with two or more components.

本発明の重合性組成物において、(1)多点水素結合性基を有するバインダーポリマーと、(2)多点水素結合性基を有する重合性化合物、(3)多点水素結合性基を有する重合開始剤、及び(4)多点水素結合性基を有する増感色素の少なくともいずれか1成分と、を併用する態様が好ましい。この態様によれば、組成物中では、バインダーポリマー成分と低分子成分との間で多点水素結合が形成されるため、両成分が近接して存在することになり、その結果、上記の重合機構の効率が向上するためである。
特に、(1)多点水素結合性基を有するバインダーポリマーと、(2)多点水素結合性基を有する重合性化合物と、を併用する態様が最も好ましい。この態様によれば、組成物中では、バインダーポリマー成分と重合性化合物成分との間で多点水素結合が形成され、膜性を向上させるために添加されているバインダーポリマーの周辺で重合性化合物が重合して硬化することになる。また、重合性組成物同士も近接して存在することとなるため、重合効率も向上する。これらのことから、感度及び膜強度はより向上するものである。
In the polymerizable composition of the present invention, (1) a binder polymer having a multipoint hydrogen bonding group, (2) a polymerizable compound having a multipoint hydrogen bonding group, and (3) a multipoint hydrogen bonding group. A mode in which a polymerization initiator and (4) at least one component of a sensitizing dye having a multipoint hydrogen bonding group are used in combination is preferable. According to this aspect, in the composition, since a multipoint hydrogen bond is formed between the binder polymer component and the low molecular component, both components are present in close proximity. As a result, the polymerization described above is performed. This is because the efficiency of the mechanism is improved.
In particular, an embodiment in which (1) a binder polymer having a multipoint hydrogen bonding group and (2) a polymerizable compound having a multipoint hydrogen bonding group is used in combination. According to this aspect, in the composition, a multipoint hydrogen bond is formed between the binder polymer component and the polymerizable compound component, and the polymerizable compound is added around the binder polymer added to improve the film property. Will be polymerized and cured. In addition, since the polymerizable compositions are also close to each other, the polymerization efficiency is also improved. From these, the sensitivity and the film strength are further improved.

このような本発明の重合性組成物は、これらの機構を利用する種々の用途に適用可能であり、例えば、赤外レーザなどにより直接描画することが可能な平版印刷版原版の感光層、画像記録材料、又は、高感度な光造形用材料としても好適であり、重合にともなう屈折率の変化を利用してホログラム材料に、また、フォトレジスト等の電子材料製造などに適用することもできる。中でも、特に、レーザ露光などにより直接描画することが可能な平版印刷版原版の感光層として好適である。   Such a polymerizable composition of the present invention can be applied to various uses utilizing these mechanisms, for example, a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor that can be directly drawn by an infrared laser or the like, an image It is also suitable as a recording material or a high-sensitivity optical modeling material, and can be applied to a hologram material by utilizing a change in refractive index accompanying polymerization, or to an electronic material production such as a photoresist. Among these, it is particularly suitable as a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor that can be directly drawn by laser exposure or the like.

まず、本発明における「非共有電子対と水素結合可能な水素原子とを有し、2以上の水素結合を形成しうる置換基(多点水素結合性基)」について説明する。   First, the “substituent group (multi-point hydrogen bonding group) having an unshared electron pair and a hydrogen atom capable of hydrogen bonding and capable of forming two or more hydrogen bonds” in the present invention will be described.

〔多点水素結合性基〕
本発明における多点水素結合性基とは、非共有電子対と水素結合可能な水素原子とを有し、熱的に可逆な2以上の水素結合を形成しうる置換基であれば特に制限はない。即ち、多点水素結合性基とは、一つの置換基内に、水素原子を受け入れるアクセプター部位(非共有電子対)と、該アクセプター部位に水素原子を供給するドナー部位(水素結合可能な水素原子)と、の双方が存在する置換基を指し、また、熱的に可逆な2以上の水素結合は、一つの置換基内において形成されるのではなく、膜中に存在する別の特定置換基との間に形成される。
ここで、アクセプター部位を「A」、ドナー部位を「D」で表すと、本発明に係る多点水素結合性基は、下記一般式(1)で表される部分構造を少なくとも1つ有するものである。更に、このような部分構造を有する多点水素結合性基は、下記反応式(1)の如き、互い違いに噛合う特徴的な水素結合を形成する。なお、下記反応式(1)は、熱的に可逆な2つの水素結合を形成した例である。
[Multi-point hydrogen bonding group]
The multipoint hydrogen bonding group in the present invention is not particularly limited as long as it has a lone pair and a hydrogen atom capable of hydrogen bonding and can form two or more thermally reversible hydrogen bonds. Absent. That is, the multipoint hydrogen bonding group is an acceptor site (unshared electron pair) that accepts a hydrogen atom in one substituent and a donor site (hydrogen atom capable of hydrogen bonding) that supplies the acceptor site with a hydrogen atom. And two or more hydrogen bonds that are thermally reversible are not formed within one substituent, but are another specific substituent present in the membrane. Formed between.
Here, when the acceptor site is represented by “A” and the donor site is represented by “D”, the multipoint hydrogen bonding group according to the present invention has at least one partial structure represented by the following general formula (1). It is. Furthermore, the multipoint hydrogen-bonding group having such a partial structure forms characteristic hydrogen bonds that are alternately engaged as shown in the following reaction formula (1). The following reaction formula (1) is an example in which two thermally reversible hydrogen bonds are formed.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

該多点水素結合性基は、このような水素結合を2つ以上形成しうることを特徴とするが、膜強度や感度の向上はもちろんのこと、現像性や多の諸性能とのバランスを含めた観点からは、該水素結合を3つ以上形成しうるものが好ましく、4つ以上形成しうるものがより好ましい。
ここで、多点水素結合性基間の相互作用を安定化定数で表せば、1×102-1程度より大きい安定化定数を有することが好ましく、1×103-1程度より大きい安定化定数を有することがより好ましく、1×104-1程度より大きい安定化定数を有することが特に好ましい。
また、同一構造の多点水素結合性基同士が相互作用を形成することが好ましいため、前記アクセプター部位とドナー部位とが完全な対を形成するといった観点からは、2又は4つの水素結合が形成可能な基であることが好ましく、更に相互作用の強さの観点からは、4つの水素結合を形成可能な基であることがより好ましい。
The multipoint hydrogen-bonding group is characterized in that it can form two or more such hydrogen bonds. In addition to improving the film strength and sensitivity, the multipoint hydrogen-bonding group balances developability and various performances. From the viewpoint of inclusion, those capable of forming three or more hydrogen bonds are preferable, and those capable of forming four or more hydrogen bonds are more preferable.
Here, if the interaction between the multipoint hydrogen bonding groups is expressed by a stabilization constant, it preferably has a stabilization constant greater than about 1 × 10 2 M −1 and greater than about 1 × 10 3 M −1. It is more preferable to have a stabilization constant, and it is particularly preferable to have a stabilization constant greater than about 1 × 10 4 M −1 .
In addition, since it is preferable that multipoint hydrogen bonding groups having the same structure form an interaction, from the viewpoint of forming a perfect pair between the acceptor site and the donor site, 2 or 4 hydrogen bonds are formed. A group capable of forming four hydrogen bonds is more preferable from the viewpoint of the strength of interaction.

下記一般式(2−1)は、前記水素結合を4つ形成しうる特定置換基の部分構造を表し、反応式(2−1)は、一般式(2−1)で表される部分構造を有する特定置換基同士が4つの水素結合を形成した例である。
同様に、下記一般式(2−2)は、前記水素結合を4つ形成しうる特定置換基の部分構造を表し、反応式(2−2)は、一般式(2−2)で表される部分構造を有する特定置換基同士が4つの水素結合を形成した例である。
The following general formula (2-1) represents a partial structure of a specific substituent capable of forming four hydrogen bonds, and the reaction formula (2-1) represents a partial structure represented by the general formula (2-1). This is an example in which the specific substituents having a hydrogen atom form four hydrogen bonds.
Similarly, the following general formula (2-2) represents a partial structure of a specific substituent capable of forming four hydrogen bonds, and the reaction formula (2-2) is represented by the general formula (2-2). This is an example in which the specific substituents having the partial structure form four hydrogen bonds.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

ここで、アクセプター部位A(非共有電子対)の具体例としては、カルボニル基(>C=O)の酸素原子、チオカルボニル基(>C=S)の硫黄原子、エナミン又は複素環を形成する=N−、=P−、などが挙げられ、中でも、水素原子とより強い水素結合を形成する観点からは、酸素原子、=N−が好ましい。   Here, as a specific example of the acceptor site A (unshared electron pair), an oxygen atom of a carbonyl group (> C═O), a sulfur atom of a thiocarbonyl group (> C═S), an enamine or a heterocyclic ring is formed. = N-, = P-, etc. are mentioned. Among them, from the viewpoint of forming a stronger hydrogen bond with a hydrogen atom, an oxygen atom and = N- are preferred.

また、ドナー部位D(水素結合可能な水素原子)の具体例としては、窒素原子と共有結合している水素原子、酸素原子と共有結合している水素原子、硫黄原子と共有結合している水素原子、リン原子と共有結合している水素原子、などが挙げられ、中でも、上記アクセプター部位とより強い水素結合を形成する観点からは、窒素原子と共有結合している水素原子、酸素原子と共有結合している水素原子が好ましい。但し、これらは、アルカリ水溶液の作用で水素原子が解離すると、画像部での耐アルカリ性の低下をもたらすので水素原子のpKaは12より大きいことが好ましい。   Specific examples of the donor site D (hydrogen atom capable of hydrogen bonding) include a hydrogen atom covalently bonded to a nitrogen atom, a hydrogen atom covalently bonded to an oxygen atom, and a hydrogen covalently bonded to a sulfur atom. In particular, from the viewpoint of forming a stronger hydrogen bond with the acceptor site, it is shared with a hydrogen atom or an oxygen atom that is covalently bonded to a nitrogen atom. A bonded hydrogen atom is preferred. However, when these hydrogen atoms are dissociated by the action of an aqueous alkali solution, the alkali resistance in the image area is lowered, so the pKa of the hydrogen atoms is preferably larger than 12.

1つの多点水素結合性基中に存在する、アクセプター部位とドナー部位との間、2つのアクセプター部位の間、或いは、2つのドナー部位の間は、それぞれ単結合により直接結合されていてもよいが、他の多点水素結合性基と相互作用を形成したときに、対面する部位間の1次的な相互作用以外の2次的な相互作用の影響を低減するといった観点から、部位と部位の間には1原子以上の2価の有機基が存在することが好ましい。特に、各部位間の距離が長くなりすぎないために1原子を介した2価の有機基による連結であることが好ましい。好ましい連結基の例としては、炭素原子を含む2価の有機基が好ましく、置換基の配座を適度に保つためにsp2炭素からなる連結基(環構造の形成に関与しない−CO−、−CH=等)が好ましい連結基として挙げられる。 A single bond may be directly bonded between the acceptor site and the donor site, between the two acceptor sites, or between the two donor sites, which are present in one multipoint hydrogen bonding group. From the viewpoint of reducing the influence of secondary interactions other than the primary interaction between the facing parts when forming an interaction with other multipoint hydrogen bonding groups, It is preferable that a divalent organic group having 1 atom or more is present between them. In particular, the connection between divalent organic groups via one atom is preferable so that the distance between each part does not become too long. As an example of a preferable linking group, a divalent organic group containing a carbon atom is preferable, and a linking group composed of sp 2 carbons (-CO-, which is not involved in the formation of a ring structure) in order to keep the substituent conformation moderately. -CH = etc.) is mentioned as a preferred linking group.

このような多点水素結合性基の具体例として、下記に記載の文献に記載されているものが挙げられる。例えば、2点水素結合性のユニットによりオリゴマーやポリマーが結合できる2官能性の化合物については、J.Org.Chem.,53,5787−9(1988)に開示されている。また、3点水素結合性のユニットに基づいた超分子ポリマーについては、Macromolecules,28,782−83(1995)に開示されている。
また、2点水素結合性のユニットによりオリゴマーやポリマーが結合してなる代表的な化合物は、例えば、J.Org.Chem.,53,5787−9(1988)に開示されている架橋性ビピリドン誘導体であり、これは、カルボン酸基、スルホン酸、イミド、N−アシルスルホンアミド、フェノール性水酸基などの、少なくとも1つのアルカリ可溶性基を有する系により供給される。
Specific examples of such a multipoint hydrogen bonding group include those described in the following documents. For example, for a bifunctional compound in which an oligomer or polymer can be bonded by a two-point hydrogen bonding unit, J. Org. Org. Chem. 53, 5787-9 (1988). Supramolecular polymers based on 3-point hydrogen bonding units are disclosed in Macromolecules, 28, 782-83 (1995).
Representative compounds formed by bonding oligomers or polymers with a two-point hydrogen bonding unit include, for example, J. Org. Org. Chem. , 53, 5787-9 (1988), which is at least one alkali-soluble, such as a carboxylic acid group, a sulfonic acid, an imide, an N-acylsulfonamide, a phenolic hydroxyl group, and the like. Supplied by the system having a group.

中でも、本発明においては、多点水素結合性基としては、下記一般式(I)で表わされる4点水素結合性基が最も好ましい。   Among these, in the present invention, the multipoint hydrogen bonding group is most preferably a four point hydrogen bonding group represented by the following general formula (I).

Figure 2005300817
Figure 2005300817

上記一般式(I)中、R1及びR2は、各々独立に、水素原子、又は、ヒドロカルビル基等の有機基を表わす。また、R1とR2とが連結して環状構造を形成してもよい。
1及びR2で表わされるヒドロカルビル基としては、直鎖状、分岐状、又は環状で炭素数1〜22の、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。また、これらの基は更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロカルボキシ基、カルボキシ基、エステル基、ケトン基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びニトロ基等が挙げられる。
なお、本発明におけるヒドロカルビル基には、該ヒドロカルビル基内の炭素鎖中に酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を含有しているものも含まれる。
In the general formula (I), R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an organic group such as a hydrocarbyl group. R 1 and R 2 may be linked to form a cyclic structure.
Examples of the hydrocarbyl group represented by R 1 and R 2 include linear, branched, or cyclic alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, and aralkyl groups having 1 to 22 carbon atoms. These groups may further have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, a hydrocarboxy group, a carboxy group, an ester group, a ketone group, a cyano group, an amino group, and an amide group. , And a nitro group.
The hydrocarbyl group in the present invention includes those containing an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom in the carbon chain in the hydrocarbyl group.

1とR2とが連結して環状構造を形成する場合、R1及びR2はヒドロカルビレン基であることが好ましい。このヒドロカルビレン基としては、直鎖状、分岐状、又は環状で炭素数1〜22の、アルキレン基、ビニレン基、アリーレン基、アラルキレン基等が挙げられる。また、これらの基は更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ヒドロカルボキシ基、エステル基、ケトン基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びニトロ基等が挙げられる。
また、本発明におけるヒドロカルビレン基には、該ヒドロカルビレン基内の炭素鎖中に酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を含有しているものも含まれる。
When R 1 and R 2 are linked to form a cyclic structure, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbylene groups. Examples of the hydrocarbylene group include linear, branched, or cyclic alkylene groups having 1 to 22 carbon atoms, vinylene groups, arylene groups, aralkylene groups, and the like. These groups may further have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, a carboxy group, a hydrocarboxy group, an ester group, a ketone group, a cyano group, an amino group, and an amide group. , And a nitro group.
Further, the hydrocarbylene group in the present invention includes those containing an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom in the carbon chain in the hydrocarbylene group.

〔(1)多点水素結合性基を有するバインダーポリマー〕
本発明における多点水素結合性基を有するバインダーポリマーは、後述するバインダーポリマーの側鎖に高分子反応を用いて多点水素結合性基を導入したものや、予め、多点水素結合性基を有するモノマーを用意し、これを他のモノマーと共重合させたものが用いられる。
本発明において、多点水素結合性基を有するバインダーポリマー中の多点水素結合性基の含有量としては、0.01〜10.0mmol/gの範囲が好ましく、より好ましくは、0.1〜8.0mmol/gの範囲であり、最も好ましくは、0.5〜5.0mmol/gの範囲である。
[(1) Binder polymer having multipoint hydrogen bonding group]
In the present invention, the binder polymer having a multipoint hydrogen-bonding group may be one obtained by introducing a multipoint hydrogen-bonding group into the side chain of the binder polymer described later using a polymer reaction or a multipoint hydrogen-bonding group in advance. The monomer which has is prepared and this is copolymerized with another monomer is used.
In the present invention, the content of the multipoint hydrogen bonding group in the binder polymer having a multipoint hydrogen bonding group is preferably in the range of 0.01 to 10.0 mmol / g, more preferably 0.1 to 10.0 mmol / g. It is the range of 8.0 mmol / g, Most preferably, it is the range of 0.5-5.0 mmol / g.

側鎖に、多点水素結合性基が導入可能なバインダーポリマーとしては、特に制限はないが、感度・現像性のバランスの観点から、カルボキシ基などのアルカリ可溶性基を有していることが好ましい。例えば、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12577号公報、特開昭60−159743号公報、及び特開昭60−208748号公報に記載のポリマーが好ましい。また、膜強度の観点から、特開2002−107918号公報や特開2002−251008号公報に記載のポリマーも好ましい。更に、膜強度・感度・現像性のいずれもをバランスよく満足させる観点からは、特願2003−339817号に記載のポリマーや、特開2002−251008号公報に記載のポリマーが特に好ましい。
また、多点水素結合性基を有するモノマーと共重合させる他のモノマーとしては、上記のポリマーを合成する際に用いられるモノマーが挙げられる。
The binder polymer into which a multipoint hydrogen bonding group can be introduced into the side chain is not particularly limited, but preferably has an alkali-soluble group such as a carboxy group from the viewpoint of the balance between sensitivity and developability. . For example, the polymers described in JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-A-60-159743, and JP-A-60-208748 are preferable. From the viewpoint of film strength, the polymers described in JP-A Nos. 2002-107918 and 2002-251008 are also preferable. Furthermore, from the viewpoint of satisfying all of film strength, sensitivity, and developability in a well-balanced manner, the polymer described in Japanese Patent Application No. 2003-339817 and the polymer described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-251008 are particularly preferable.
Moreover, as another monomer copolymerized with the monomer which has a multipoint hydrogen bonding group, the monomer used when synthesize | combining said polymer is mentioned.

以下、本発明における多点水素結合性基を有するバインダーポリマーの具体例を以下に示す。   Specific examples of the binder polymer having a multipoint hydrogen bonding group in the present invention are shown below.

Figure 2005300817
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Figure 2005300817
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Figure 2005300817
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Figure 2005300817
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本発明における多点水素結合性基を有するバインダーポリマーの分子量は、画像形成性や膜強度の観点から、2,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜300,000の範囲である。   The molecular weight of the binder polymer having a multipoint hydrogen-bonding group in the present invention is 2,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, and still more preferably, from the viewpoint of image formability and film strength. Is in the range of 10,000 to 300,000.

また、本発明における多点水素結合性基を有するバインダーポリマーは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよく、更に、多点水素結合性基を有しない他のバインダーポリマーを併用してもよい。この他のバインダーポリマーは、バインダーポリマー成分の総質量に対し1〜60質量%、好ましくは1〜40質量%、更に好ましくは1〜20質量%の範囲で用いられる。併用できるバインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、具体的には、本業界においてよく使用されるアクリル主鎖バインダーや、ウレタンバインダー等が好ましく用いられる。   In addition, the binder polymer having a multipoint hydrogen bonding group in the present invention may be used alone or in combination of two or more, and further has a multipoint hydrogen bonding group. Other binder polymers that are not used may be used in combination. The other binder polymer is used in the range of 1 to 60% by mass, preferably 1 to 40% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass with respect to the total mass of the binder polymer component. As the binder polymer that can be used in combination, a conventionally known binder polymer can be used without limitation, and specifically, an acrylic main chain binder, a urethane binder, or the like often used in the industry is preferably used.

多点水素結合性基を有するバインダーポリマー及び併用してもよい他のバインダーポリマーの合計量は、適宜、決めることができるが、感度や膜強度の観点から、重合性化合物中の不揮発性成分の総質量に対し、通常10〜90質量%、好ましくは20〜80質量%、更に好ましくは30〜70質量%の範囲である。
なお、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に用いる場合も同様の含有量であることが好ましい。
The total amount of the binder polymer having a multipoint hydrogen bonding group and other binder polymer that may be used in combination can be determined as appropriate, but from the viewpoint of sensitivity and film strength, the non-volatile component in the polymerizable compound It is 10-90 mass% normally with respect to total mass, Preferably it is 20-80 mass%, More preferably, it is the range of 30-70 mass%.
In addition, when using the polymerizable composition of this invention for the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, it is preferable that it is the same content.

〔(2)多点水素結合性基を有する重合性化合物〕
本発明における多点水素結合性基を有する重合性化合物は、後述する重合性化合物の末端の不飽和基の一部を水酸基としたものを原料として用い、その水酸基を下記一般式(II)で表わされる化合物にて修飾したものが好ましく用いられる。
[(2) Polymerizable compound having a multipoint hydrogen bonding group]
The polymerizable compound having a multipoint hydrogen-bonding group in the present invention is obtained by using, as a raw material, a part of the unsaturated group at the terminal of the polymerizable compound described later as a hydroxyl group, and the hydroxyl group is represented by the following general formula (II) Those modified with the compounds represented are preferably used.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(II)中、R1及びR2は、各々独立に、水素原子、又は、ヒドロカルビル基等の有機基を表わす。また、R1とR2とが連結して環状構造を形成してもよい。更に、Yは、Y’(NCO)2で表わされるジイソシアネートから誘導されるヒドロカルビレン基である。
一般式(II)におけるR1及びR2は、一般式(I)におけるR1及びR2と同義であり、好ましい例も同様である。
In general formula (II), R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an organic group such as a hydrocarbyl group. R 1 and R 2 may be linked to form a cyclic structure. Y is a hydrocarbylene group derived from a diisocyanate represented by Y ′ (NCO) 2 .
R 1 and R 2 in the general formula (II) has the same meaning as R 1 and R 2 in the general formula (I), and preferred examples are also the same.

また、Y’(NCO)2で表わされるジイソシアネートとしては、如何なるジイソシアネートをも用いることができるが、好ましくは、例えば、イソホロンジイソシアネート、メチレン−ビス−フェニルジイソシアネート、トルエンイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、これらの2量体、これらとジオールとの付加生成物、及び、それらの混合物が挙げられる。 As the diisocyanate represented by Y ′ (NCO) 2 , any diisocyanate can be used, and preferably, for example, isophorone diisocyanate, methylene-bis-phenyl diisocyanate, toluene isocyanate, hexamethylene diisocyanate, tetramethylxylylene. Examples include diisocyanates, dimers thereof, addition products of these with diols, and mixtures thereof.

本発明において、多点水素結合性基を有する重合性化合物の原料となりうる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステルのモノマー、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドのモノマーが用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   In the present invention, the polymerizable compound that can be a raw material for the polymerizable compound having a multipoint hydrogen bondable group is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least an ethylenically unsaturated bond. It is selected from compounds having one, preferably two or more. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester monomer of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide monomer of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926、特公昭51−47334、特開昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240、特開昭59−5241、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(a)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (a) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Etc.

CH2=C(Ra)COOCH2CH(Rb)OH 式(a)
(但し、Ra及びRbは、H又はCH3を示す。)
CH 2 ═C (R a ) COOCH 2 CH (R b ) OH Formula (a)
(However, R a and R b represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

以下、これらの重合性化合物を原料として合成される、多点水素結合性基を有する重合性化合物の具体例を以下に示す。   Hereinafter, specific examples of the polymerizable compound having a multipoint hydrogen bonding group synthesized using these polymerizable compounds as raw materials are shown below.

Figure 2005300817
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これら多点水素結合性基を有する重合性化合物は、単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよく、更に、多点水素結合性基を有しない他の重合性化合物を併用してもよい。この他の重合性化合物は、重合性化合物成分の総質量に対し1〜60質量%、好ましくは1〜40質量%、更に好ましくは1〜20質量%の範囲で用いられる。また、この他の重合性化合物としては、従来公知のものを制限なく使用でき、具体的には、多点水素結合性基を有する重合性化合物の原料として用いられる、上記に挙げた重合性化合物が好ましく用いられる。
多点水素結合性基を有する重合性化合物を含む重合性化合物成分の総含有量としては、感度や膜強度の観点から、重合性組成物中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲である。
These polymerizable compounds having a multipoint hydrogen-bonding group may be used alone or in combination of two or more, and used in combination with other polymerizable compounds that do not have a multipoint hydrogen-bonding group. May be. The other polymerizable compound is used in the range of 1 to 60% by mass, preferably 1 to 40% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass with respect to the total mass of the polymerizable compound component. In addition, as the other polymerizable compounds, conventionally known compounds can be used without limitation, specifically, the polymerizable compounds listed above, which are used as a raw material for the polymerizable compound having a multipoint hydrogen bonding group. Is preferably used.
The total content of the polymerizable compound components including the polymerizable compound having a multipoint hydrogen bonding group is preferably 5 to 80 with respect to the nonvolatile components in the polymerizable composition from the viewpoint of sensitivity and film strength. It is in the range of 25% by mass, more preferably 25% by mass.

なお、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に適用した場合には、多点水素結合性基を有する重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感光性と強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や疎水性の高い化合物は、感光スピードや膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましくない場合がある。また、感光層中の他の成分(例えば、バインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述のオーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   In addition, when the polymerizable composition of the present invention is applied to the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, the structure of the polymerizable compound having a multipoint hydrogen bonding group, whether it is used alone or in combination, how to use it, etc. The details of can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of photosensitive speed, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether). It is also effective to adjust both photosensitivity and strength by using a compound of the type). A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in photosensitive speed and film strength, but is not preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. In addition, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components in the photosensitive layer (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the support or the overcoat layer described later. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging property, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

〔(3)多点水素結合性基を有する重合開始剤〕
本発明における多点水素結合性基を有する重合開始剤は、後述する重合開始剤の構造内に多点水素結合性基を導入したものが用いられる。
多点水素結合性基が導入可能な重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)芳香族オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物等が挙げられる。以下に、上記(a)〜(k)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[(3) Polymerization initiator having a multipoint hydrogen bonding group]
As the polymerization initiator having a multipoint hydrogen bonding group in the present invention, a polymerization initiator having a multipoint hydrogen bonding group introduced into the structure of the polymerization initiator described later is used.
Polymerization initiators capable of introducing a multipoint hydrogen bonding group include (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium salt compounds, (c) organic peroxides, (d) thio compounds, (e) Hexaarylbiimidazole compounds, (f) ketoxime ester compounds, (g) borate compounds, (h) azinium compounds, (i) metallocene compounds, (j) active ester compounds, (k) compounds having a carbon halogen bond, etc. Can be mentioned. Specific examples of the above (a) to (k) are given below, but the present invention is not limited to these.

(a)芳香族ケトン類
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(a)芳香族ケトン類としては、「RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY」J.P.FouassIer,J.F.Rabek(1993),p77−117記載のベンゾフェノン骨格或いはチオキサントン骨格を有する化合物が挙げられる。例えば、下記化合物が挙げられる。
(A) Aromatic ketones (a) Aromatic ketones preferred as the polymerization initiator used in the present invention include "RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY" P. FouassIer, J. et al. F. Examples include compounds having a benzophenone skeleton or a thioxanthone skeleton described in Rabek (1993), p77-117. For example, the following compounds are mentioned.

Figure 2005300817
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中でも、特に好ましい(a)芳香族ケトン類の例としては、特公昭47−6416記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭47−3981記載のベンゾインエーテル化合物、例えば、下記化合物が挙げられる。   Among them, examples of particularly preferred (a) aromatic ketones include α-thiobenzophenone compounds described in JP-B-47-6416, benzoin ether compounds described in JP-B-47-3981, for example, the following compounds.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

特公昭47−22326記載のα−置換ベンゾイン化合物、例えば、下記化合物が挙げられる。   Examples of the α-substituted benzoin compounds described in JP-B-47-22326 include the following compounds.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

特公昭47−23664記載のベンゾイン誘導体、特開昭57−30704記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60−26483記載のジアルコキシベンゾフェノン、例えば、下記化合物が挙げられる。   Examples thereof include benzoin derivatives described in JP-B-47-23664, aroylphosphonic acid esters described in JP-A-57-30704, dialkoxybenzophenones described in JP-B-60-26483, for example, the following compounds.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

特公昭60−26403、特開昭62−81345記載のベンゾインエーテル類、例えば、下記化合物が挙げられる。   Examples of the benzoin ethers described in JP-B-60-26403 and JP-A-62-181345 include the following compounds.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

特公平1−34242、米国特許第4,318,791号、ヨーロッパ特許0284561A1号記載のα−アミノベンゾフェノン類、例えば、下記化合物が挙げられる。   Examples of the α-aminobenzophenones described in JP-B-1-34242, US Pat. No. 4,318,791, and European Patent 0284561A1, such as the following compounds.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

特開平2−211452記載のp−ジ(ジメチルアミノベンゾイル)ベンゼン、例えば、下記化合物が挙げられる。   P-Di (dimethylaminobenzoyl) benzene described in JP-A-2-211452, for example, the following compounds may be mentioned.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

特開昭61−194062記載のチオ置換芳香族ケトン、例えば、下記化合物が挙げられる。   Examples of the thio-substituted aromatic ketone described in JP-A-61-194062 include the following compounds.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

特公平2−9597記載のアシルホスフィンスルフィド、例えば、下記化合物が挙げられる。   The acylphosphine sulfide described in JP-B-2-9597, for example, the following compounds may be mentioned.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

特公平2−9596記載のアシルホスフィン、例えば、下記化合物が挙げられる。   Examples of the acylphosphine described in JP-B-2-9596 include the following compounds.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

また、特公昭63−61950記載のチオキサントン類、特公昭59−42864記載のクマリン類等を挙げることもできる。   Further, thioxanthones described in JP-B-63-61950, coumarins described in JP-B-59-42864, and the like can also be mentioned.

(b)オニウム塩化合物
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(b)オニウム塩化合物としては、下記一般式(1)〜(3)で表される化合物が挙げられる。
(B) Onium Salt Compound As the polymerization initiator (b) preferable as the polymerization initiator used in the present invention, compounds represented by the following general formulas (1) to (3) may be mentioned.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(1)中、Ar1とAr2は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z2-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 In general formula (1), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a carbon atom having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. (Z 2 ) represents a counter ion selected from the group consisting of halogen ion, perchlorate ion, carboxylate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, and sulfonate ion, preferably perchloric acid Ions, hexafluorophosphate ions, and aryl sulfonate ions.

一般式(2)中、Ar3は、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。(Z3-は(Z2-と同義の対イオンを表す。 In General Formula (2), Ar 3 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. (Z 3 ) represents a counter ion having the same meaning as (Z 2 ) .

一般式(3)中、R23、R24及びR25は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z4-は(Z2-と同義の対イオンを表す。 In general formula (3), R 23 , R 24 and R 25 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. (Z 4 ) represents a counter ion having the same meaning as (Z 2 ) .

本発明において、重合開始剤として好適に用いることのできるオニウム塩化合物の具体例としては、特開2001−133696号公報に記載されたもの等を挙げることができる。
以下に、本発明において、好適に用いることのできる一般式(1)で示されるオニウム塩化合物([OI−1]〜[OI−10])、一般式(2)で示されるオニウム塩化合物([ON−1]〜[ON−5])、及び一般式(3)で示されるオニウム塩化合物([OS−1]〜[OS−7])の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
In the present invention, specific examples of the onium salt compound that can be suitably used as the polymerization initiator include those described in JP-A No. 2001-133696.
In the present invention, the onium salt compounds represented by the general formula (1) ([OI-1] to [OI-10]) and the onium salt compounds represented by the general formula (2) (which can be suitably used in the present invention) Specific examples of [ON-1] to [ON-5]) and the onium salt compounds represented by the general formula (3) ([OS-1] to [OS-7]) will be given, but the present invention is not limited thereto. It is not a thing.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

Figure 2005300817
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本発明において用いられるオニウム塩は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、更に360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の記録層に適用した際に、その平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The onium salt used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. Thus, when the polymerizable composition of the present invention is applied to the recording layer of the lithographic printing plate precursor, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light by setting the absorption wavelength in the ultraviolet region. it can.

(c)有機過酸化物
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(c)有機過酸化物としては、分子中に酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス(ターシャリイブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリイブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−キサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリイブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオキシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネート、3,3’4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等がある。
(C) Organic peroxide Preferred as the polymerization initiator used in the present invention (c) Organic peroxide includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. Examples include methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5. -Trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (tertiarybutylperoxy) butane, tertiarybutylhydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzenehydride Loperoxide, parameter hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl Cumyl peroxide, dicumyl peroxide, bis (tertiarybutylperoxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (tertiarybutylperoxy) hexane, 2,5-xanoyl peroxide, peroxy Succinic oxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, meta-toluoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate Nate, dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tertiary butyl peroxyacetate, tertiary butyl peroxypivalate, tertiary butyl peroxyneodecanoate, tarsha Tributyl peroxyoctanoate, tertiary butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tertiary butyl peroxylaurate, tertiary carbonate, 3,3'4,4'-tetra- (t -Butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (T-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone Carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate), and the like.

中でも、3,3’4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。   Among them, 3,3′4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4 4'-tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (cumylper) Peroxyesters such as (oxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t-butyldiperoxyisophthalate are preferred.

(d)チオ化合物
本発明で用いられる重合開始剤として好ましい(d)チオ化合物としては、下記一般式(4)で示される構造を有する化合物が挙げられる。
(D) Thio compound As a preferable (d) thio compound as a polymerization initiator used by this invention, the compound which has a structure shown by following General formula (4) is mentioned.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(4)中、R26はアルキル基、アリール基又は置換アリール基を示し、R27は水素原子又はアルキル基を示す。また、R26とR27は、互いに結合して酸素、硫黄及び窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでもよい5員ないし7員環を形成するのに必要な非金属原子群を示す。 In the general formula (4), R 26 represents an alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, and R 27 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 26 and R 27 represent a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5-membered to 7-membered ring which may be bonded to each other and contain a hetero atom selected from oxygen, sulfur and nitrogen atoms.

上記一般式(4)におけるアルキル基としては炭素原子数1〜4個のものが好ましい。また、アリール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数6〜10個のものが好ましく、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メトシキ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれる。R27は、好ましくは炭素原子数1〜4個のアルキル基である。
一般式(4)で示されるチオ化合物の具体例としては、下記表1に示すような化合物が挙げられる。
As an alkyl group in the said General formula (4), a C1-C4 thing is preferable. The aryl group is preferably one having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl or naphthyl, and the substituted aryl group may be a halogen atom such as a chlorine atom or a methyl group as described above. Those substituted with an alkoxy group such as an alkyl group, a methoxy group, and an ethoxy group are included. R 27 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Specific examples of the thio compound represented by the general formula (4) include compounds as shown in Table 1 below.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、特公昭45−37377号、特公昭44−86516号記載のロフィンダイマー類、例えば2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
(E) Hexaarylbiimidazole compound (e) Hexaarylbiimidazole compounds preferred as the polymerization initiator used in the present invention include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2 , 2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra Phenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (o, o′-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2, 2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra Examples thereof include phenylbiimidazole and 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole.

(f)ケトオキシムエステル化合物
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(f)ケトオキシムエステル化合物としては、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。
(F) Ketooxime ester compound (f) The ketoxime ester compound preferable as a polymerization initiator used in the present invention includes 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutane-2-one, 3 -Propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, Examples include 3-p-toluenesulfonyloxyiminobutan-2-one and 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.

(g)ボレート化合物
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(g)ボレート化合物の例としては、下記一般式(5)で表される化合物を挙げることができる。
(G) Borate Compound As an example of the (g) borate compound preferable as the polymerization initiator used in the present invention, a compound represented by the following general formula (5) can be given.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(5)中、R28、R29、R30及びR31は互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のアルケニル基、置換若しくは非置換のアルキニル基、又は置換若しくは非置換の複素環基を示し、R28、R29、R30及びR31はその2個以上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、R28、R29、R30及びR31のうち、少なくとも1つは置換若しくは非置換のアルキル基である。(Z5+はアルカリ金属カチオン又は第4級アンモニウムカチオンを示す。 In the general formula (5), R 28 , R 29 , R 30 and R 31 may be the same or different from each other, and each is a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted group. An alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, wherein R 28 , R 29 , R 30 and R 31 are bonded to form a cyclic structure. May be. However, at least one of R 28 , R 29 , R 30 and R 31 is a substituted or unsubstituted alkyl group. (Z 5 ) + represents an alkali metal cation or a quaternary ammonium cation.

上記R28〜R31のアルキル基としては、直鎖、分枝、環状のものが含まれ、炭素原子数1〜18のものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子(例えば−Cl、−Brなど)、シアノ基、ニトロ基、アリール基(好ましくはフェニル基)、ヒドロキシ基、−COOR32(ここでR32は水素原子、炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す)、−OCOR33又は−OR34(ここでR33、R34は炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す)、及び下記式で表されるものを置換基として有するものが含まれる。 Examples of the alkyl group for R 28 to R 31 include straight-chain, branched, and cyclic groups, and those having 1 to 18 carbon atoms are preferable. Specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, stearyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like are included. The substituted alkyl group includes an alkyl group as described above, a halogen atom (for example, —Cl, —Br, etc.), a cyano group, a nitro group, an aryl group (preferably a phenyl group), a hydroxy group, —COOR 32 (here R 32 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms, or an aryl group), —OCOR 33 or —OR 34 (where R 33 and R 34 are alkyl groups having 1 to 14 carbon atoms, or aryl. And a group having a substituent represented by the following formula.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

(ここでR35、R36は独立して水素原子、炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す) (Wherein R 35 and R 36 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms, or an aryl group)

上記R28〜R31のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などの1〜3環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基又は、炭素数1〜14のアルキル基を有するものが含まれる。上記R28〜R31のアルケニル基としては、炭素数2〜18の直鎖、分枝、環状のものが含まれ。置換アルケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。上記R28〜R31のアルキニル基としては、炭素数2〜28の直鎖又は分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。また、上記R28〜R31の複素環基としてはN、S及びOの少なくとも1つを含む5員環以上、好ましくは5〜7員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置換アリール基の置換基として挙げたものを有していてもよい。一般式(5)で示される化合物例としては具体的には米国特許3,567,453号、同4,343,891号、ヨーロッパ特許109,772号、同109,773号に記載されている化合物及び以下に示すものが挙げられる。 The aryl group of R 28 to R 31 includes 1 to 3 ring aryl groups such as a phenyl group and a naphthyl group, and the substituted aryl group is a substitution of the above substituted alkyl group with the above aryl group. Those having a group or an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms are included. Examples of the alkenyl group for R 28 to R 31 include linear, branched and cyclic groups having 2 to 18 carbon atoms. Examples of the substituent of the substituted alkenyl group include those listed as the substituents of the substituted alkyl group. Examples of the alkynyl group of R 28 to R 31 include straight chain or branched groups having 2 to 28 carbon atoms, and examples of the substituent of the substituted alkynyl group include those listed as the substituents of the substituted alkyl group. included. In addition, examples of the heterocyclic group of R 28 to R 31 include a 5-membered ring or more, preferably a 5- to 7-membered heterocyclic group containing at least one of N, S, and O. May contain a condensed ring. Furthermore, you may have what was mentioned as a substituent of the above-mentioned substituted aryl group as a substituent. Specific examples of the compound represented by the general formula (5) are described in US Pat. Nos. 3,567,453 and 4,343,891, European Patents 109,772 and 109,773. Compounds and those shown below are mentioned.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

(h)アジニウム化合物
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(h)アジニウム塩化合物としては、特開昭63−138345号、特開昭63−142345号、特開昭63−142346号、特開昭63−143537号ならびに特公昭46−42363号記載のN−O結合を有する化合物群を挙げることができる。
(H) Azinium Compound Preferred examples of the azinium salt compound used as the polymerization initiator used in the present invention include JP-A Nos. 63-138345, 63-142345, 63-142346 and 63-142346. Examples thereof include compounds having an N—O bond described in JP-A-63-143537 and JP-B-46-42363.

(i)メタロセン化合物
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(i)メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号、特開昭63−41484号、特開平2−249号、特開平2−4705号記載のチタノセン化合物ならびに、特開平1−304453号、特開平1−152109号記載の鉄−アレーン錯体を挙げることができる。
(I) Metallocene compound (i) Metallocene compounds preferred as the polymerization initiator used in the present invention include those disclosed in JP-A Nos. 59-152396, 61-151197, 63-41484, and JP-A-2. And titanocene compounds described in JP-A No.-249 and JP-A-2-4705, and iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109.

上記チタノセン化合物の具体例としては、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウムビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(メチルスルホンアミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルビアロイル−アミノ)フェニル〕チタン、   Specific examples of the titanocene compound include di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, and di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3. 4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti- Bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4 -Difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti- -2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyridin-1-yl) phenyl) titanium bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (methylsulfonamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadi Enyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butylbialoyl-amino) phenyl] titanium,

ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ベンジル−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(2−エチルヘキシル)−4−トリル−スルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−オキサヘプチル)ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,6−ジオキサデシル)ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(トリフルオロメチルスルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(トリフルオロアセチルアミノ)フェニル〕チタン、 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(N-benzyl-2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2-ethylhexyl) -4-tolyl-sulfonyl] ) Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-oxaheptyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2 , 6-Difluoro-3- (N- (3,6-dioxadecyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bi [2,6-difluoro-3- (trifluoromethylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (trifluoroacetyl) phenyl] titanium,

ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(2−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,6−ジオキサデシル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,7−ジメチル−7−メトキシオクチル)ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン等を挙げることができる。 Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4-chloro Benzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,6-dioxadecyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,7-dimethyl-7-methoxyoctyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6 -Difluoro-3- (N-cyclohexylbenzoylamino) phenyl] titanium and the like.

(j)活性エステル化合物
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(j)活性エステル化合物としては、特公昭62−6223記載のイミドスルホネート化合物、特公昭63−14340号、特開昭59−174831号記載の活性スルホネート類を挙げることができる。
(J) Active ester compound Preferred as a polymerization initiator used in the present invention (j) As an active ester compound, imide sulfonate compounds described in JP-B-62-2223, JP-B-63-14340, JP-A-59-174831 Mention may be made of the active sulfonates described.

(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物
本発明に用いられる重合開始剤として好ましい(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、下記一般式(6)〜(12)で表わされる化合物を挙げることができる。
(K) Compound Having Carbon Halogen Bond Preferred examples of the compound (k) having a carbon halogen bond as the polymerization initiator used in the present invention include compounds represented by the following general formulas (6) to (12). .

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(6)中、X2はハロゲン原子を表わし、Y1は−C(X23、−NH2、−NHR38、−NR38、−OR38を表わす。ここで、R38はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表わす。また、R37は−C(X23、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を表わす。 In the general formula (6), X 2 represents a halogen atom, and Y 1 represents —C (X 2 ) 3 , —NH 2 , —NHR 38 , —NR 38 , —OR 38 . Here, R 38 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group. R 37 represents —C (X 2 ) 3 , an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or a substituted alkenyl group.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(7)中、R39はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、X3はハロゲン原子であり、nは1〜3の整数である。 In the general formula (7), R 39 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, a substituted alkoxyl group, a nitro group or a cyano group, and X 3 is a halogen atom, and n is an integer of 1 to 3.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(8)中、R40はアリール基又は置換アリール基であり、R41は以下に示す基又はハロゲンであり、Z6は−C(=O)−、−C(=S)−又は−SO2−であり、X3はハロゲン原子であり、mは1又は2である。 In the general formula (8), R 40 is an aryl group or a substituted aryl group, R 41 is a group or halogen shown below, and Z 6 is —C (═O) —, —C (═S) — or —SO 2 —, X 3 is a halogen atom, and m is 1 or 2.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

上記R42、R43はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、R44は一般式(6)中のR38と同じである。 R 42 and R 43 are an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group or a substituted aryl group, and R 44 is the same as R 38 in the general formula (6).

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(9)中、R45は置換されていてもよいアリール基又は複素環式基であり、R46は炭素原子1〜3個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニル基であり、pは1、2又は3である。 In the general formula (9), R 45 is an optionally substituted aryl group or heterocyclic group, R 46 is a trihaloalkyl group or trihaloalkenyl group having 1 to 3 carbon atoms, and p is 1 2 or 3.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(10)で表わされる化合物は、トリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチレン複素環式化合物を表す。
一般式(10)中、L7は水素原子又は式:CO−(R47)q(C(X43)rの置換基であり、Q2はイオウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−1,2−イレン基、1,2−フェニレン基又は−N−R−基であり、M4は置換又は非置換のアルキレン基又はアルケニレン基であるか、又は1,2−アリーレン基であり、R48はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であり、R47は、炭素環式又は複素環式の2価の芳香族基であり、X4は塩素、臭素又はヨウ素原子であり、q=0及びr=1であるか又はq=1及びr=1又は2である。
The compound represented by the general formula (10) represents a carbonylmethylene heterocyclic compound having a trihalogenomethyl group.
In the general formula (10), L 7 is a hydrogen atom or a substituent of the formula: CO— (R 47 ) q (C (X 4 ) 3 ) r, Q 2 is sulfur, selenium or oxygen atom, dialkylmethylene group Alkene-1,2-ylene group, 1,2-phenylene group or —N—R— group, and M 4 is a substituted or unsubstituted alkylene group or alkenylene group, or 1,2-arylene group R 48 is an alkyl group, an aralkyl group or an alkoxyalkyl group, R 47 is a carbocyclic or heterocyclic divalent aromatic group, and X 4 is a chlorine, bromine or iodine atom , Q = 0 and r = 1, or q = 1 and r = 1 or 2.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(11)で表わされる化合物は、4−ハロゲノ−5−(ハロゲノメチル−フェニル)−オキサゾール誘導体を表す。
一般式(11)中、X5はハロゲン原子であり、tは1〜3の整数であり、sは1〜4の整数であり、R49は水素原子又はCH3-t5 t基であり、R50はs価の置換されていてもよい不飽和有機基である。
The compound represented by the general formula (11) represents a 4-halogeno-5- (halogenomethyl-phenyl) -oxazole derivative.
In general formula (11), X 5 is a halogen atom, t is an integer of 1 to 3, s is an integer of 1 to 4, and R 49 is a hydrogen atom or a CH 3−t X 5 t group. And R 50 is an s-valent unsaturated organic group which may be substituted.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(12)で表わされる化合物は、2−(ハロゲノメチル−フェニル)−4−ハロゲノ−オキサゾール誘導体を表す。
一般式(12)中、X6はハロゲン原子であり、vは1〜3の整数であり、uは1〜4の整数であり、R51は水素原子又はCH3-v6 v基であり、R52はu価の置換されていてもよい不飽和有機基である。
The compound represented by the general formula (12) represents a 2- (halogenomethyl-phenyl) -4-halogeno-oxazole derivative.
In the general formula (12), X 6 is a halogen atom, v is an integer of 1 to 3, u is an integer of 1 to 4, and R 51 is a hydrogen atom or a CH 3-v X 6 v group. And R 52 represents an u-valent unsaturated organic group which may be substituted.

このような炭素−ハロゲン結合を有する化合物の具体例としては、例えば、若林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,42、2924(1969)記載の化合物、例えば、2−フェニル4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−クロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(2’,4’−ジクロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特許1388492号明細書記載の化合物、例えば、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等、特開昭53−133428号記載の化合物、例えば、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン)、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン等、独国特許3337024号明細書記載の化合物、例えば、下記化合物等を挙げることができる。   Specific examples of such a compound having a carbon-halogen bond include, for example, Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), for example, 2-phenyl 4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- S-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2 -(2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6 -Bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-n-nonyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6- Scan (trichloromethyl) -S- triazine. In addition, compounds described in British Patent 1388492, for example, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4-amino-6-trichloromethyl-S-triazine, etc. And compounds described in JP-A No. 53-133428, such as 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4-ethoxy-naphtho) 1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloro Til-S-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine), 2- (acenaphtho-5-yl) -4,6- Examples include compounds described in German Patent No. 3333724, such as bis-trichloromethyl-S-triazine, and the like.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

また、F.C.Schaefer等によるJ.Org.Chem.29、1527(1964)記載の化合物、例えば、2−メチル−4,6−ビス(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロムメチル)−S−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−6−トリブロムメチル−S−トリアジン、2−メトキシ−4−メチル−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等を挙げることができる。更に、特開昭62−58241号記載の、例えば、下記化合物等を挙げることができる。   F.F. C. J. Schaefer et al. Org. Chem. 29, 1527 (1964), for example, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -S-triazine, 2, 4,6-tris (dibromomethyl) -S-triazine, 2-amino-4-methyl-6-tribromomethyl-S-triazine, 2-methoxy-4-methyl-6-trichloromethyl-S-triazine, etc. be able to. Furthermore, for example, the following compounds described in JP-A-62-258241 can be exemplified.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

加えて、特開平5−281728号記載の、例えば、下記化合物等を挙げることができる。   In addition, for example, the following compounds described in JP-A-5-281728 can be exemplified.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

或いは更に、M.P.Hutt、E.F.Elslager及びL.M.Herbel著「Journalof HeterocyclIc chemIstry」第7巻(No.3)、第511頁以降(1970年)に記載されている合成方法に準じて、当業者が容易に合成することができる次のような化合物群、例えば、下記化合物等を挙げることができる。   Alternatively, M.M. P. Hutt, E .; F. Elslager and L. M.M. The following compounds that can be easily synthesized by those skilled in the art according to the synthesis method described in “Journalof Heterocyclic Ic chemIstry”, Volume 7 (No. 3), page 511 et seq. (1970) by Herbel. Examples of the group include the following compounds.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

本発明における重合開始剤の更により好ましい例としては、上述の(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(i)メタロセン化合物、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物、を挙げることができ、更に最も好ましい例としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、チタノセン化合物、一般式(6)であらわされるトリハロメチル−S−トリアジン化合物を挙げることができる。   Still more preferred examples of the polymerization initiator in the present invention include the above-mentioned (a) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (c) organic peroxides, (e) hexaarylbiimidazole compounds, (i) ) Metallocene compounds, (k) compounds having a carbon halogen bond, and most preferred examples include aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, titanocene compounds, and trihalomethyls represented by general formula (6). -S-triazine compounds can be mentioned.

また、以下に、本発明における重合開始剤として好適に用い得るオキシムエステル化合物について説明する。好ましいオキシムエステル化合物としては、下記一般式(i)のようなものが挙げられる。   Moreover, the oxime ester compound which can be used suitably as a polymerization initiator in this invention is demonstrated below. Preferred oxime ester compounds include the following general formula (i).

Figure 2005300817
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一般式(i)中、Xはカルボニル基、スルホン基、スルホキシド基を表し、Yは炭素数1〜12の環状又は鎖状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、炭素数6〜18のアリール基、複素環基であり、アリール基とはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン基、ピレン基、トリフェニレン基等の芳香族炭化水素化合物であり、複素環とは窒素原子、硫黄原子、酸素原子を環構造に少なくとも1つ有する芳香族化合物であり、例えば、ピロール基、フラン基、チオフェン基、セレノフェノン基、ピラゾール基、イミダゾール基、トリアゾール基、テトラゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、インドール基、ベンゾフラン基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、キノリン基、カルバゾール基、アクリジン基、フェノキサジン、フェノチアジン等の化合物が挙げられる。これらYで表される置換基は、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルデヒド基、アルキル基、チオール基、アリール基、又はアルケニル基、アルキニル基、エーテル基、エステル基、ウレア基、アミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホキシド基、スルホ基、スルホン基、ヒドラジン基、カルボニル基、イミノ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボニル基、ウレタン基、アルキル基、チオール基、アリール基、ホスホロソ基、ホスホ基、カルボニルエーテル基を含有する化合物により置換可能である。   In general formula (i), X represents a carbonyl group, a sulfone group, or a sulfoxide group, and Y represents a cyclic or chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. An aryl group is an aromatic hydrocarbon compound such as a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene group, pyrene group, triphenylene group, and a heterocyclic ring is a nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom For example, a pyrrole group, a furan group, a thiophene group, a selenophenone group, a pyrazole group, an imidazole group, a triazole group, a tetrazole group, an oxazole group, a thiazole group, an indole group, Benzofuran group, benzimidazole group, benzoxazole group, benzothiazole group, pyridine group, Rimijin group, a pyrazine group, a triazine group, a quinoline group, a carbazole group, an acridine group, a phenoxazine, and a compound such as phenothiazine. These substituents represented by Y are halogen atoms, hydroxyl groups, nitrile groups, nitro groups, carboxyl groups, aldehyde groups, alkyl groups, thiol groups, aryl groups or alkenyl groups, alkynyl groups, ether groups, ester groups, ureas. Group, amino group, amide group, sulfide group, disulfide group, sulfoxide group, sulfo group, sulfone group, hydrazine group, carbonyl group, imino group, halogen atom, hydroxyl group, nitrile group, nitro group, carboxyl group, carbonyl group, urethane It can be substituted by a compound containing a group, an alkyl group, a thiol group, an aryl group, a phosphoroso group, a phospho group, or a carbonyl ether group.

一般式(i)におけるZは、Yと同義又はニトリル基、ハロゲン原子、又は水素原子、アミノ基であり、これらのZの化合物はハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルデヒド基、アルキル基、チオール基、アリール基又はアルケニル基、アルキニル基、エーテル基、エステル基、ウレア基、アミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホキシド基、スルホ基、スルホン基、ヒドラジン基、カルボニル基、イミノ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボニル基、ウレタン基、アルキル基、チオール基、アリール基、ホスホロソ基、ホスホ基、カルボニルエーテル基を含有する化合物により置換可能である。   Z in the general formula (i) is synonymous with Y or is a nitrile group, a halogen atom, a hydrogen atom or an amino group, and these Z compounds are a halogen atom, a hydroxyl group, a nitrile group, a nitro group, a carboxyl group, an aldehyde group. , Alkyl group, thiol group, aryl group or alkenyl group, alkynyl group, ether group, ester group, urea group, amino group, amide group, sulfide group, disulfide group, sulfoxide group, sulfo group, sulfone group, hydrazine group, carbonyl Substitutable with compounds containing groups, imino groups, halogen atoms, hydroxyl groups, nitrile groups, nitro groups, carboxyl groups, carbonyl groups, urethane groups, alkyl groups, thiol groups, aryl groups, phosphoroso groups, phospho groups, carbonyl ether groups It is.

一般式(i)におけるWは、2価の有機基を表し、メチレン基、カルボニル基、スルホキシド基、スルホン基、イミノ基を表し、メチレン基及びイミノ基はアルキル基、アリール基、エステル基、ニトリル基、カルボニルエーテル基、スルホ基、スルホエーテル基、エーテル基等を含有する化合物により置換可能である。nは0又は1の整数を表す。   W in the general formula (i) represents a divalent organic group, and represents a methylene group, a carbonyl group, a sulfoxide group, a sulfone group, or an imino group. The methylene group and imino group are an alkyl group, an aryl group, an ester group, and a nitrile. It can be substituted by a compound containing a group, a carbonyl ether group, a sulfo group, a sulfo ether group, an ether group or the like. n represents an integer of 0 or 1.

一般式(i)におけるVは、炭素数1〜12の環状又は鎖状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、炭素数6〜18のアリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基であり、アリール基とはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン基、ピレン基、トリフェニレン基等の芳香族炭化水素化合物、ピロール基、フラン基、チオフェン基、セレノフェン基、ピラゾール基、イミダゾール基、トリアゾール基、テトラゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、インドール基、ベンゾフラン基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、キノリン基、カルバゾール基、アクリジン基、フェノキサジン、フェノチアジン等のヘテロ原子含有芳香族化合物が挙げられる。これらVの化合物はハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルデヒド基、アルキル基、チオール基、アリール基又はアルケニル基、アルキニル基、エーテル基、エステル基、ウレア基、アミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホキシド基、スルホ基、スルホン基、ヒドラジン基、カルボニル基、イミノ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボニル基、ウレタン基、アルキル基、チオール基、アリール基、ホスホロソ基、ホスホ基、カルボニルエーテル基を含有する化合物により置換可能である。
また、VとZは互いに結合して環を形成してもよい。
V in the general formula (i) is a cyclic or chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkoxy group, or an aryloxy group. Aromatic hydrocarbon compounds such as benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene group, pyrene group, triphenylene group, pyrrole group, furan group, thiophene group, selenophene group, pyrazole group, imidazole group, triazole group, tetrazole group, oxazole Group, thiazole group, indole group, benzofuran group, benzimidazole group, benzoxazole group, benzothiazole group, pyridine group, pyrimidine group, pyrazine group, triazine group, quinoline group, carbazole group, acridine group, phenoxazine, phenothiazine, etc. Heteroatom containing Aromatic compounds and the like. These V compounds are halogen atoms, hydroxyl groups, nitrile groups, nitro groups, carboxyl groups, aldehyde groups, alkyl groups, thiol groups, aryl groups or alkenyl groups, alkynyl groups, ether groups, ester groups, urea groups, amino groups, amides. Group, sulfide group, disulfide group, sulfoxide group, sulfo group, sulfone group, hydrazine group, carbonyl group, imino group, halogen atom, hydroxyl group, nitrile group, nitro group, carboxyl group, carbonyl group, urethane group, alkyl group, thiol It can be substituted by a compound containing a group, an aryl group, a phosphoroso group, a phospho group or a carbonyl ether group.
V and Z may be bonded to each other to form a ring.

上記一般式(i)で表されるオキシムエステル化合物としては、感度の面から、Xはカルボニル、Yはアリール基又はベンゾイル基、Z基はアルキル基又はアリール基、Wはカルボニル基であり、Vはアリール基であることが好ましい。更に好ましくは、Vのアリール基がチオエーテル置換基を有することが好ましい。
なお、上記一般式(i)におけるN−O結合の構造はE体であってもZ体であっても構わない。
As the oxime ester compound represented by the general formula (i), from the viewpoint of sensitivity, X is carbonyl, Y is an aryl group or benzoyl group, Z group is an alkyl group or aryl group, W is a carbonyl group, V Is preferably an aryl group. More preferably, the aryl group of V has a thioether substituent.
Note that the structure of the N—O bond in the general formula (i) may be E-form or Z-form.

その他、本発明に好適に用いることのできるオキシムエステル化合物は、Progress in Organic Coatings、13(1985)123−150;J.C.S Perkin II(1979)1653−1660;Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)205−232;J.C.S Perkin II(1979)156−162;特開2000−66385;特開2000−80068に記載の化合物である。   Other oxime ester compounds that can be suitably used in the present invention include Progress in Organic Coatings, 13 (1985) 123-150; C. S Perkin II (1979) 1653-1660; Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 205-232; C. S Perkin II (1979) 156-162; JP-A 2000-66385; JP-A 2000-80068.

本発明に好適に用いることのできるオキシムエステル化合物の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。   Although the specific example of the oxime ester compound which can be used suitably for this invention is shown below, it is not limited to this.

Figure 2005300817
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以下、これらの重合開始剤に多点水素結合性基を導入してなる、本発明における多点水素結合性基を有する重合開始剤の具体例を以下に示す。   Hereinafter, specific examples of the polymerization initiator having a multipoint hydrogen-bonding group in the present invention obtained by introducing a multipoint hydrogen-bonding group into these polymerization initiators are shown below.

Figure 2005300817
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本発明における多点水素結合性基を有する重合開始剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよく、更に、多点水素結合性基を有しない他の重合開始剤を併用してもよい。この他の重合開始剤は、重合開始剤成分の総質量に対し1〜80質量%、好ましくは1〜60質量%、更に好ましくは1〜40質量%の範囲で用いられる。また、この他の重合開始剤としては、従来公知のものを制限なく使用でき、具体的には、多点水素結合性基が導入される上記に挙げた重合開始剤が好ましく用いられる。   In the present invention, the polymerization initiator having a multipoint hydrogen bonding group may be used alone or in combination of two or more, and further has no multipoint hydrogen bonding group. Other polymerization initiators may be used in combination. The other polymerization initiator is used in the range of 1 to 80% by mass, preferably 1 to 60% by mass, and more preferably 1 to 40% by mass with respect to the total mass of the polymerization initiator component. As the other polymerization initiators, conventionally known polymerization initiators can be used without limitation, and specifically, the polymerization initiators listed above into which a multipoint hydrogen bonding group is introduced are preferably used.

多点水素結合性基を有する重合開始剤は、感度や膜強度の観点から、本発明の重合性組成物を構成する全固形分に対し、0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で添加することができる。   The polymerization initiator having a multipoint hydrogen bonding group is 0.1 to 50% by mass, preferably 0.5%, based on the total solid content constituting the polymerizable composition of the present invention, from the viewpoint of sensitivity and film strength. It can be added at a ratio of ˜30 mass%, particularly preferably 1 to 20 mass%.

なお、多点水素結合性基を有する重合開始剤は重合性組成物中に他の成分とともに直接添加してもよいが、これに隣接する別の層を設けて、そこへ添加しても同様の効果を得ることができる。特に、本発明の重合性組成物を後述する平版印刷版原版の感光層に使用する場合、該画像感光層と同一の層に添加してもよいが、これに隣接する別の層を設けて、そこへ添加しても同様の効果を得ることができる。また、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に用いる場合も同様の含有量であることが好ましい。   The polymerization initiator having a multipoint hydrogen bonding group may be added directly to the polymerizable composition together with other components, but it is the same even if another layer adjacent to this is provided and added thereto. The effect of can be obtained. In particular, when the polymerizable composition of the present invention is used in the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor described later, it may be added to the same layer as the image photosensitive layer, but another layer adjacent to this may be provided. Even if it is added thereto, the same effect can be obtained. Further, when the polymerizable composition of the present invention is used for the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, the same content is preferable.

〔(4)多点水素結合性基を有する増感色素〕
本発明における多点水素結合性基を有する増感色素は、後述する増感色素の構造内に多点水素結合性基を導入したものが用いられる。
多点水素結合性基が導入可能な増感色素としては、公知の分光増感色素、又は光を吸収して重合開始剤と相互作用する染料又は顔料が挙げられる。
[(4) Sensitizing dye having a multipoint hydrogen bonding group]
As the sensitizing dye having a multipoint hydrogen bonding group in the present invention, a sensitizing dye having a multipoint hydrogen bonding group introduced in the structure of the sensitizing dye described later is used.
Examples of the sensitizing dye into which a multipoint hydrogen bonding group can be introduced include known spectral sensitizing dyes, or dyes or pigments that absorb light and interact with a polymerization initiator.

(分光増感色素又は染料)
多点水素結合性基が導入可能な増感色素として用いられる分光増感色素又は染料は、多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン)、ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン)、クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル)、金属錯体(例えば、下記化合物)、アントラキノン類、例えば(アントラキノン)、スクアリウム類、例えば(スクアリウム)、等が挙げられる。
(Spectral sensitizing dye or dye)
Spectral sensitizing dyes or dyes used as sensitizing dyes into which a multipoint hydrogen bonding group can be introduced include polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine). , Rhodamine B, rose bengal), cyanines (eg thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg , Acridine orange, chloroflavin, acriflavine), phthalocyanines (eg, phthalocyanine, metal phthalocyanine), porphyrins (eg, tetraphenylporphyrin, central metal-substituted porphyrin), chlorophylls (eg, Chlorophyll, chlorophyllin, center metal-substituted chlorophyll), metal complexes (for example, the following compound), anthraquinones, such as (anthraquinone), squaryliums, for example (squarylium), and the like.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

より好ましい分光増感色素又は染料の例を以下に例示する。
特公平37−13034号公報に記載のスチリル系色素;特開昭62−143044号公報に記載の陽イオン染料;特公昭59−24147号公報記載のキノキサリニウム塩;特開昭64−33104号公報記載の新メチレンブルー化合物;特開昭64−56767号公報記載のアントラキノン類;特開平2−1714号公報記載のベンゾキサンテン染料;特開平2−226148号公報及び特開平2−226149号公報記載のアクリジン類;特公昭40−28499号公報記載のピリリウム塩類;特公昭46−42363号公報記載のシアニン類;特開平2−63053号記載のベンゾフラン色素;特開平2−85858号公報、特開平2−216154号公報の共役ケトン色素;特開昭57−10605号公報記載の色素;特公平2−30321号公報記載のアゾシンナミリデン誘導体;特開平1−287105号公報記載のシアニン系色素;特開昭62−31844号公報、特開昭62−31848号公報、特開昭62−143043号公報記載のキサンテン系色素;特公昭59−28325号公報記載のアミノスチリルケトン;特開平2−179643号公報記載の色素;特開平2−244050号公報記載のメロシアニン色素;特公昭59−28326号公報記載のメロシアニン色素;特開昭59−89303号公報記載のメロシアニン色素;特願平6−269047号明細書記載のメロシアニン色素;特願平7−164583号明細書記載のベンゾピラン系色素が挙げられる。
The example of a more preferable spectral sensitizing dye or dye is illustrated below.
A styryl dye described in JP-B-37-13034; a cationic dye described in JP-A-62-143044; a quinoxalinium salt described in JP-B-59-24147; described in JP-A-64-33104 A new methylene blue compound; anthraquinones described in JP-A No. 64-56767; benzoxanthene dyes described in JP-A No. 2-1714; acridines described in JP-A Nos. 2-226148 and 2-226149 Pyryllium salts described in JP-B-40-28499; Cyanines described in JP-B-46-42363; Benzofuran dyes described in JP-A-2-63053; JP-A-2-85858, JP-A-2-216154 Conjugated ketone dyes disclosed in Japanese Patent Publication No. 57-10605; Azocinnamylidene derivatives described in Japanese Patent No. 0321; cyanine dyes described in Japanese Patent Laid-Open No. 1-287105; Japanese Patent Laid-Open Nos. 62-31844, 62-31848, 62-1443043 Xanthene dyes described above; aminostyryl ketone described in JP-B-59-28325; dye described in JP-A-2-17943; merocyanine dye described in JP-A-2-244050; described in JP-B-59-28326 Merocyanine dyes described in JP-A-59-89303; merocyanine dyes described in Japanese Patent Application No. 6-269047; and benzopyran dyes described in Japanese Patent Application No. 7-16483.

また、下記一般式(III)で表わされる化合物も増感色素として好適である。   Further, compounds represented by the following general formula (III) are also suitable as sensitizing dyes.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(III)中、R66は置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、A5は酸素原子、硫黄原子、又は−NR67−を表わす。R64、R65及びR67はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表わし、R67とR64、R65とR67はそれぞれ互いに脂肪族性又は芳香族性の環を形成するために結合することができる。
以下、一般式(III)で表わされる化合物の好ましい例を挙げる。
In the general formula (III), R 66 represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent, and A 5 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —NR 67 —. R 64 , R 65 and R 67 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and R 67 and R 64 , R 65 and R 67 each represent an aliphatic or aromatic ring. Can be combined to form.
Hereinafter, preferable examples of the compound represented by the general formula (III) will be given.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

(赤外線吸収剤)
多点水素結合性基が導入可能な増感色素として赤外線吸収剤も用いられる。この赤外線吸収剤としては、下記に示す染料又は顔料が好適である。
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
(Infrared absorber)
An infrared absorber is also used as a sensitizing dye into which a multipoint hydrogen bonding group can be introduced. As the infrared absorber, the following dyes or pigments are suitable.
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明における赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特願2001−6326、特願2001−237840記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. . Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Other preferable examples of the infrared absorbing dye in the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in Japanese Patent Application Nos. 2001-6326 and 2001-237840 as exemplified below.



Figure 2005300817
Figure 2005300817

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se. Xa - the Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。組成物塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the composition coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。但し、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、組成物塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the composition coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638号公報の段落番号[0012]〜[0038]、特開2002−23360号公報の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used in the present invention include paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969 and JP-A No. 2002-40638. Mention may be made of the paragraph numbers [0012] to [0038] of the publication and the paragraph numbers [0012] to [0023] of JP 2002-23360 A.

本発明において増感色素に使用される赤外線吸収顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of infrared absorbing pigments used as sensitizing dyes in the present invention include commercially available pigments and Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “Latest Pigment Application”. The pigments described in “Technology” (CMC Publishing, 1986) and “Printing Ink Technology” CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料等が使用できる。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments and the like can be used.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は、分散液中での安定性や、層を形成した際の均一性の観点から、0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, and preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, from the viewpoint of stability in the dispersion and uniformity when the layer is formed. Is more preferable, and it is particularly preferable to be in the range of 0.1 μm to 1 μm.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

以下、これらの増感色素に多点水素結合性基を導入してなる、本発明における多点水素結合性基を有する増感色素の具体例を以下に示す。   Hereinafter, specific examples of the sensitizing dye having a multipoint hydrogen bonding group in the present invention, in which a multipoint hydrogen bonding group is introduced into these sensitizing dyes, are shown below.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

Figure 2005300817
Figure 2005300817

本発明における多点水素結合性基を有する増感色素は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよく、更に、多点水素結合性基を有しない他の増感色素を併用してもよい。この他の増感色素は、増感色素成分の総質量に対し1〜90質量%、好ましくは1〜70質量%、更に好ましくは1〜50質量%の範囲で用いられる。また、この他の増感色素としては、従来公知のものを制限なく使用でき、具体的には、多点水素結合性基が導入される上記に挙げた増感色素が好ましく用いられる。   The sensitizing dye having a multipoint hydrogen bonding group in the present invention may be used alone or in combination of two or more, and further has no multipoint hydrogen bonding group. Other sensitizing dyes may be used in combination. The other sensitizing dye is used in an amount of 1 to 90% by mass, preferably 1 to 70% by mass, and more preferably 1 to 50% by mass with respect to the total mass of the sensitizing dye component. As other sensitizing dyes, conventionally known sensitizing dyes can be used without limitation, and specifically, the sensitizing dyes listed above into which a multipoint hydrogen bonding group is introduced are preferably used.

本発明における多点水素結合性基を有する増感色素は、感度や膜強度の観点から、重合性組成物を構成する全固形分に対し、0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。   The sensitizing dye having a multipoint hydrogen bonding group in the present invention is 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1%, based on the total solid content constituting the polymerizable composition, from the viewpoint of sensitivity and film strength. In the case of a dye, particularly preferably in the case of a dye, 0.5 to 10% by mass, and particularly in the case of a pigment, it can be added in a proportion of preferably 0.1 to 10% by mass.

なお、多点水素結合性基を有する増感色素は重合性組成物中に他の成分とともに直接添加してもよいが、これに隣接する別の層を設けて、そこへ添加しても同様の効果を得ることができる。
特に、本発明の重合性組成物を後述する平版印刷版原版の感光層に使用する場合、該画像感光層と同一の層に添加してもよいが、これに隣接する別の層を設けて、そこへ添加しても同様の効果を得ることができる。また、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に用いる場合も同様の含有量であることが好ましい。
The sensitizing dye having a multipoint hydrogen bonding group may be added directly to the polymerizable composition together with other components, but it is the same even if another layer adjacent to this is provided and added thereto. The effect of can be obtained.
In particular, when the polymerizable composition of the present invention is used in the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor described later, it may be added to the same layer as the image photosensitive layer, but another layer adjacent to this may be provided. Even if it is added thereto, the same effect can be obtained. Further, when the polymerizable composition of the present invention is used for the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, the same content is preferable.

〔(5)多点水素結合性基を有する添加剤〕
本発明の重合性組成物では、必須成分として多点水素結合性基を有する化合物を用いてもよいし、任意成分の添加剤として、多点水素結合性基を有する化合物を用いてもよい。
以下、多点水素結合性基を有する添加剤について説明する。
本発明における多点水素結合性基を有する添加剤としては、前記一般式(II)で表わされる原料を多価のアルコールと反応させて得られる化合物や、下記一般式(IV)で表わされる原料をモノイソシアネート化合物と反応させて得られる化合物が用いられる。
[(5) Additives having multipoint hydrogen bonding groups]
In the polymerizable composition of the present invention, a compound having a multipoint hydrogen bonding group may be used as an essential component, and a compound having a multipoint hydrogen bonding group may be used as an optional component additive.
Hereinafter, the additive having a multipoint hydrogen bonding group will be described.
Examples of the additive having a multipoint hydrogen bonding group in the present invention include a compound obtained by reacting a raw material represented by the general formula (II) with a polyhydric alcohol, and a raw material represented by the following general formula (IV). A compound obtained by reacting with a monoisocyanate compound is used.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

一般式(IV)中、R1及びR2は、各々独立に、水素原子、又は、ヒドロカルビル基等の有機基を表わす。また、R1とR2とが連結して環状構造を形成してもよい。
一般式(IV)におけるR1及びR2は、一般式(I)におけるR1及びR2と同義であり、好ましい例も同様である。
In general formula (IV), R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or an organic group such as a hydrocarbyl group. R 1 and R 2 may be linked to form a cyclic structure.
R 1 and R 2 in the general formula (IV) has the same meaning as R 1 and R 2 in the general formula (I), and preferred examples are also the same.

以下、多点水素結合性基を有する添加剤の具体例を示す。   Hereinafter, specific examples of the additive having a multipoint hydrogen bonding group are shown.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

Figure 2005300817
Figure 2005300817

Figure 2005300817
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多点水素結合性基を有する添加剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
本発明における多点水素結合性基を有する添加剤は、膜強度や感度の観点から、重合性組成物を構成する全固形分に対し、1〜99質量%の範囲が好ましく、5〜80質量%の範囲がより好ましく、10〜60質量%の範囲が最も好ましい。
As the additive having a multipoint hydrogen bonding group, one kind may be used alone, or two or more kinds may be mixed and used.
From the viewpoint of film strength and sensitivity, the additive having a multipoint hydrogen bonding group in the present invention is preferably in the range of 1 to 99% by mass, and 5 to 80% by mass with respect to the total solid content constituting the polymerizable composition. % Is more preferable, and the range of 10 to 60% by mass is most preferable.

なお、多点水素結合性基を有する添加剤は重合性組成物中に他の成分とともに直接添加してもよいが、これに隣接する別の層を設けて、そこへ添加しても同様の効果を得ることができる。
特に、本発明の重合性組成物を後述する平版印刷版原版の感光層に使用する場合、該画像感光層と同一の層に添加してもよいが、これに隣接する別の層を設けて、そこへ添加しても同様の効果を得ることができる。また、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に用いる場合も同様の含有量であることが好ましい。
In addition, the additive having a multipoint hydrogen bonding group may be added directly to the polymerizable composition together with other components. However, a similar layer may be provided by adding another layer adjacent thereto. An effect can be obtained.
In particular, when the polymerizable composition of the present invention is used in the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor described later, it may be added to the same layer as the image photosensitive layer, but another layer adjacent to this may be provided. Even if it is added thereto, the same effect can be obtained. Further, when the polymerizable composition of the present invention is used for the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, the same content is preferable.

〔その他の添加剤〕
本発明の重合性組成物には、前記必須成分や多点水素結合性基を有する添加剤の他に、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましい他の添加剤について説明する。
[Other additives]
In addition to the essential component and the additive having a multipoint hydrogen bonding group, other components suitable for its use, production method and the like can be appropriately added to the polymerizable composition of the present invention. Hereinafter, other preferable additives will be described.

[重合禁止剤]
本発明の重合性組成物においては、例えば、ネガ型感光層塗布液組成物の製造中或いは保存中において、重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物中の不揮発性成分の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
[Polymerization inhibitor]
In the polymerizable composition of the present invention, for example, to prevent unnecessary thermal polymerization of a compound having a polymerizable ethylenically unsaturated double bond during production or storage of a negative photosensitive layer coating solution composition. It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the nonvolatile components in the entire composition. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and it may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in the course of drying after coating. . The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass with respect to the nonvolatile components in the entire composition.

[着色剤]
本発明の重合性組成物に、その着色を目的として染料若しくは顔料を添加してもよい。これにより、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に適用した場合の、製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といった、いわゆる検版性を向上させることができる。着色剤としては、多くの染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料及び顔料の添加量は全組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約5質量%が好ましい。
[Colorant]
A dye or a pigment may be added to the polymerizable composition of the present invention for the purpose of coloring. Thereby, when the polymerizable composition of the present invention is applied to the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor, so-called plate inspection properties such as visibility after plate making and image density measuring device suitability can be improved. As the colorant, many dyes cause a decrease in the sensitivity of the photopolymerization type photosensitive layer. Therefore, it is particularly preferable to use a pigment as the colorant. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The addition amount of the dye and the pigment is preferably about 0.5% by mass to about 5% by mass with respect to the nonvolatile components in the whole composition.

[その他の添加剤]
更に、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、その他、可塑剤、更には、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に適用した場合の感光層表面のインク着肉性を向上させうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、バインダーポリマーと付加重合性化合物との合計質量に対し一般的に10質量%以下の範囲で添加することができる。また、後述する膜強度(耐刷性)向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するための、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。
[Other additives]
Furthermore, in order to improve the physical properties of the cured film, an inorganic filler, other plasticizers, and ink attachment on the surface of the photosensitive layer when the polymerizable composition of the present invention is applied to the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor are used. You may add well-known additives, such as a fat-sensitizing agent which can improve meat | flesh property. Examples of plasticizers include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and addition polymerization with binder polymer. Generally, it can be added in a range of 10% by mass or less based on the total mass with the compound. Further, for the purpose of improving the film strength (printing durability), which will be described later, a UV initiator, a thermal crosslinking agent, or the like can be added to enhance the effect of heating and exposure after development.

<平版印刷版原版への適用>
本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に適用する場合には、該重合性組成物の構成成分を適当な有機溶剤に溶かして、支持体に塗布するより作製される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。
<Application to lithographic printing plate precursor>
When the polymerizable composition of the present invention is applied to the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, it is prepared by dissolving the constituent components of the polymerizable composition in a suitable organic solvent and applying it to a support.
Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There is ethyl. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by mass.

前記感光層の被覆量は、主に、感光層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響し得るもので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版原版としては、その被覆量は乾燥後の質量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。 The coating amount of the photosensitive layer mainly affects the sensitivity of the photosensitive layer, the developability, and the strength and printing durability of the exposed film, and is preferably selected as appropriate according to the application. When the coating amount is too small, the printing durability is not sufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, it takes time for exposure, and a longer time is required for development processing, which is not preferable. For the lithographic printing plate precursor for scanning exposure which is the main object of the present invention, the coating amount is suitably in the range of about 0.1 g / m 2 to about 10 g / m 2 in terms of the mass after drying. More preferably from 0.5 to 5 g / m 2.

[支持体]
本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の感光層に適用する場合、用いられる支持体としては、従来公知の、平版印刷版原版に使用される親水性支持体を限定無く使用することができる。
使用される支持体は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等が含まれ、これらの表面に対し、必要に応じ親水性の付与や、強度向上等の目的で、適切な公知の物理的、化学的処理を施してもよい。
[Support]
When the polymerizable composition of the present invention is applied to the photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor, a conventionally used hydrophilic support used in the lithographic printing plate precursor can be used without limitation as a support used. it can.
The support used is preferably a dimensionally stable plate, for example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc). , Copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), Paper or plastic film, etc. on which such metals are laminated or vapor-deposited are included. Appropriately known physical and chemical treatments are applied to these surfaces for the purpose of imparting hydrophilicity and improving strength as necessary. You may give it.

特に、好ましい支持体としては、紙、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供できるアルミニウム板は更に好ましい。また、特公昭48−18327号に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。   In particular, preferred supports include paper, polyester film or aluminum plate, among which dimensional stability is good, relatively inexpensive, and a surface with excellent hydrophilicity and strength is provided by surface treatment as required. An aluminum plate that can be formed is more preferable. A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 is also preferable.

アルミニウム板とは、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属板であり、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合金)がラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルム又は紙の中から選ばれる。以下の説明において、上記に挙げたアルミニウム又はアルミニウム合金からなる支持体をアルミニウム支持体と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のもの、例えば、JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することができる。
また、本発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更することができる。アルミニウム支持体には適宜必要に応じて後述の支持体表面処理が施されてもよい。もちろん施されなくてもよい。
An aluminum plate is a metal plate mainly composed of dimensionally stable aluminum. In addition to a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or aluminum (alloy) is laminated. Or it is chosen from the vapor-deposited plastic film or paper. In the following description, the above-mentioned support made of aluminum or an aluminum alloy is generically used as an aluminum support. Examples of the foreign element contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is suitable. However, since pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, it may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and it is a conventionally known material such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, JIS A 3005, etc. Can be used as appropriate.
Moreover, the thickness of the aluminum support body used for this invention is about 0.1 mm-about 0.6 mm. This thickness can be appropriately changed depending on the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's desire. The aluminum support may be subjected to a support surface treatment described later as necessary. Of course, it may not be applied.

(粗面化処理)
粗面化処理方法は、特開昭56−28893号に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。更に塩酸又は硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするポールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシグレイン法のような機械的粗面化法を用いることができ、上記粗面化方法を単独或いは組み合わせて用いることもできる。その中でも粗面化に有用に使用される方法は塩酸又は硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気化学的方法であり、適する陽極時電気量は50C/dm2〜400C/dm2の範囲である。更に具体的には、0.1〜50%の塩酸又は硝酸を含む電解液中、温度20〜80℃、時間1秒〜30分、電流密度100C/dm2〜400C/dm2の条件で交流及び/又は直流電解を行うことが好ましい。
(Roughening treatment)
Examples of the surface roughening method include mechanical surface roughening, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, the electrochemical surface roughening method in which the surface is electrochemically roughened in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte solution, the aluminum surface is scratched with a metal wire, the wire brush grain method, the surface of the aluminum is polished with a polishing ball and an abrasive. A mechanical graining method such as a pole grain method, a brush grain method in which the surface is roughened with a nylon brush and an abrasive, can be used, and the above roughening methods can be used alone or in combination. Among them, a method usefully used for roughening is an electrochemical method in which roughening is performed chemically in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable amount of electricity at the time of anode is 50 C / dm 2 to 400 C / dm 2 . It is a range. More specifically, in the electrolytic solution containing from 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature 20 to 80 ° C., for 1 second to 30 minutes, alternating at a current density of 100C / dm 2 ~400C / dm 2 It is preferable to perform direct current electrolysis.

このように粗面化処理したアルミニウム支持体は、酸又はアルカリにより化学的にエッチングされてもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃である。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。以上のように処理された後、処理面の中心線平均粗さRaが好ましくは0.2〜0.5μmであれば、特に方法条件は限定しない。   The roughened aluminum support may be chemically etched with acid or alkali. Etching agents suitably used are caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like. Preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50% and 20%, respectively. ~ 100 ° C. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used. In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123. After the treatment as described above, the method condition is not particularly limited as long as the center line average roughness Ra of the treatment surface is preferably 0.2 to 0.5 μm.

(陽極酸化処理)
以上のようにして処理されたアルミニウム支持体には、その後に陽極酸化処理がなされることが好ましい。
陽極酸化処理は硫酸、燐酸、シュウ酸若しくは硼酸/硼酸ナトリウムの水溶液が単独若しくは複数種類組み合わせて電解浴の主成分として用いられる。この際、電解液中に少なくともAl合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分はもちろん含まれても構わない。更には第2、第3成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、3成分とは、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては0〜10000ppm程度含まれてもよい。陽極酸化処理の条件に特に限定はないが、好ましくは30〜500g/リットル、処理液温10〜70℃で、電流密度0.1〜40A/m2の範囲で直流又は交流電解によって処理される。形成される陽極酸化皮膜の厚さは0.5〜1.5μmの範囲である。好ましくは0.5〜1.0μmの範囲である。以上の処理によって作製された支持体が、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアのポア径が5〜10nm、ポア密度が8×1015〜2×1016個/m2の範囲に入るように処理条件が選択されることが好ましい。
(Anodizing treatment)
The aluminum support treated as described above is preferably anodized after that.
In the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or an aqueous solution of boric acid / sodium borate is used alone or in combination as a main component of the electrolytic bath. In this case, the electrolyte solution may of course contain at least components normally contained in at least an Al alloy plate, an electrode, tap water, groundwater and the like. Further, the second and third components may be added. Here, the second and third components are, for example, metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn, and ammonium ions. Examples include cations, nitrate ions, carbonate ions, chloride ions, phosphate ions, fluorine ions, sulfite ions, titanate ions, silicate ions, borate ions and the like, and the concentration is 0 to 10,000 ppm. May be included. There are no particular limitations on the conditions of the anodizing treatment, but the treatment is preferably carried out by direct current or alternating current electrolysis at a current density of 0.1 to 40 A / m 2 at 30 to 500 g / liter, a treatment liquid temperature of 10 to 70 ° C. . The thickness of the formed anodic oxide film is in the range of 0.5 to 1.5 μm. Preferably it is the range of 0.5-1.0 micrometer. The support prepared by the above treatment is treated so that the pore diameter of the micropores existing in the anodized film is in the range of 5 to 10 nm and the pore density is in the range of 8 × 10 15 to 2 × 10 16 pieces / m 2. It is preferred that the conditions are selected.

前記支持体表面の親水化処理としては、広く公知の方法が適用できる。特に好ましい処理としては、シリケート又はポリビニルホスホン酸等による親水化処理が施される。皮膜はSi、又はP元素量として2〜40mg/m2、より好ましくは4〜30mg/m2で形成される。塗布量はケイ光X線分析法により測定できる。 A widely known method can be applied as the hydrophilic treatment on the surface of the support. As a particularly preferable treatment, a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid is performed. A film | membrane is formed by 2-40 mg / m < 2 > as Si or P element amount, More preferably, it is 4-30 mg / m < 2 >. The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis.

上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩、又はポリビニルホスホン酸が1〜30質量%、好ましくは2〜15質量%であり、25℃のpHが10〜13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム支持体を、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬することにより実施される。   The hydrophilization treatment is carried out by applying an anodized film to an aqueous solution containing 1 to 30% by mass, preferably 2 to 15% by mass of alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid, and having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. This is carried out by immersing the aluminum support on which is formed, for example, at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

前記親水化処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。   As the alkali metal silicate used for the hydrophilization treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, or the like is used. Examples of the hydroxide used for increasing the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or a group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble substances such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Salt. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium titanium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be mentioned.

アルカリ土類金属塩若しくは、第IVB族金属塩は単独又は2種以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。特公昭46−27481号、特開昭52−58602号、特開昭52−30503号に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び親水化処理を組合せた表面処理も有用である。   Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by mass. Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. Surface obtained by combining a support with electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, JP-A-52-30503, and the above anodizing treatment and hydrophilization treatment Processing is also useful.

[中間層]
本発明の適用例としての平版印刷版原版においては、感光層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層(下塗り層とも呼ばれる。)を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特願平8−225335号、特願平8−270098号、特願平9−195863号、特願平9−195864号、特願平9−89646号、特願平9−106068号、特願平9−183834号、特願平9−264311号、特願平9−127232号、特願平9−245419号、特願平10−127602号、特願平10−170202号、特願平11−36377号、特願平11−165861号、特願平11−284091号、特願2000−14697号等に記載のものを挙げることができる。
[Middle layer]
In the lithographic printing plate precursor as an application example of the present invention, an intermediate layer (also referred to as an undercoat layer) may be provided for the purpose of improving the adhesion and soiling between the photosensitive layer and the support. Specific examples of such an intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-159983, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, Special Kaihei 8-320551, JP 9-34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP-A-10-282682, JP-A-11-84684, Japanese Patent Application No. 8-225335, Japanese Patent Application No. 8-270098, Japanese Patent Application No. 9-195863, Japanese Patent Application No. 9-195864, Japanese Patent Application No. 9-89646, Japanese Patent Application No. 9-106068, Japanese Patent Application No. 9-183834, Japanese Patent Application No. 9-264411, Japanese Patent Application No. 9 -127232, Japanese Patent Application No. 9-245419, Japanese Patent Application No. 10-127602, Japanese Patent Application No. 10-170202, Japanese Patent Application No. 11-36377, Japanese Patent Application No. 11-165661, Japanese Patent Application No. 11-284091 No., Japanese Patent Application No. 2000-14697, and the like.

[保護層]
本発明の重合性組成物を適用した感光層を有する平版印刷版原版には、通常、露光を大気中で行うため、前述の感光層の上に、更に、保護層(オーバーコート層とも呼ばれる。)を設けることが好ましい。保護層は、感光層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の感光層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、このような保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。このような、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第3、458、311号、特公昭55−49729号に詳しく記載されている。
[Protective layer]
Since the lithographic printing plate precursor having a photosensitive layer to which the polymerizable composition of the present invention is applied is usually exposed in the air, it is further called a protective layer (also called an overcoat layer) on the photosensitive layer. ) Is preferably provided. The protective layer prevents exposure of low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that hinder the image formation reaction caused by exposure in the photosensitive layer, and enables exposure in the atmosphere. To do. Therefore, the properties desired for such a protective layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, and further, transmission of light used for exposure is not substantially inhibited, and adhesion to the photosensitive layer is excellent. And it is desirable that it can be easily removed in the development process after exposure. Such a device relating to the protective layer has been conventionally devised and is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

保護層に使用できる材料としては、例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることがよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られているが、これらの中でも、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。ポリビニルアルコールの具体例としては71〜100%加水分解され、分子量が300から2400の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。   As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, Water-soluble polymers such as acrylic acid are known, but among these, the use of polyvinyl alcohol as a main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis rate of 71 to 100% and a molecular weight in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を親油性の感光層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これら2層間の接着性を改善すべく種々の提案がなされている。例えば、米国特許出願番号第292,501号、米国特許出願番号第44,563号には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、感光層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。
本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第3,458,311号、特公昭55−49729号に詳しく記載されている。
Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that unnecessary polymerization reaction occurs during production and raw storage, and unnecessary fogging and image line thickening occur during image exposure. In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on an oleophilic photosensitive layer, film peeling due to insufficient adhesive force is likely to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, U.S. Patent Application No. 292,501 and U.S. Patent Application No. 44,563 disclose an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and the like and laminating on the photosensitive layer.
Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method of the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

本発明の平版印刷版原版を製版するために、少なくとも、露光及び現像のプロセスが行われる。
本発明に係るネガ型平版印刷版原版を露光する光源としては、公知のものを制限なく用いることができる。望ましい光源の波長は300nmから1200nmであり、具体的には各種レーザを光源として用いることが好適であり、中でも、波長780nm〜1200nmの赤外線レーザーが好適に用いられる。
露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
In order to make the lithographic printing plate precursor according to the present invention, at least exposure and development processes are performed.
As a light source for exposing the negative planographic printing plate precursor according to the present invention, a known light source can be used without limitation. The wavelength of a desirable light source is 300 nm to 1200 nm, and specifically, it is preferable to use various lasers as the light source, and among them, an infrared laser having a wavelength of 780 nm to 1200 nm is preferably used.
The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.

また、本発明に係る平版印刷版原版に対するその他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用できる。   In addition, as other exposure light rays for the lithographic printing plate precursor according to the present invention, ultrahigh pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet lasers A lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, sunlight, etc. can also be used.

本発明に係る平版印刷版原版は、露光された後、現像処理される。かかる現像処理に使用される現像液としては、pH14以下のアルカリ水溶液が特に好ましく、より好ましくはアニオン系界面活性剤を含有するpH8〜12のアルカリ水溶液が使用される。例えば、第三リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は、単独若しくは2種以上を組み合わせて用いられる。   The lithographic printing plate precursor according to the invention is developed after being exposed. As the developer used in such development processing, an alkaline aqueous solution having a pH of 14 or less is particularly preferred, and an alkaline aqueous solution having a pH of 8 to 12 containing an anionic surfactant is more preferably used. For example, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, Examples include inorganic alkaline agents such as potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

また本発明に係る平版印刷版原版の現像処理においては、現像液中にアニオン界面活性剤1〜20質量%加えるが、より好ましくは、3〜10質量%で使用される。少なすぎると現像性が悪化し、多すぎると画像の耐摩耗性などの強度が劣化するなどの弊害が出る。アニオン界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェートのアンモニウム塩、オクチルアルコールサルフェートのナトリウム塩、例えば、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、イソブチルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリオキシエチレングリコールモノナフチルエーテル硫酸エステルのナトリウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのようなアルキルアリールスルホン酸塩、第2ナトリウムアルキルサルフェートなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステル類、セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩などの様な脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、例えば、C1733CON(CH3)CH2CH2SO3Naなどのようなアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えば、ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸塩類などが含まれる。 In the development processing of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, 1 to 20% by mass of an anionic surfactant is added to the developer, and more preferably 3 to 10% by mass. If the amount is too small, the developability deteriorates. If the amount is too large, the strength such as the abrasion resistance of the image deteriorates. Anionic surfactants include, for example, sodium salt of lauryl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, such as sodium salt of isopropyl naphthalene sulfonic acid, sodium salt of isobutyl naphthalene sulfonic acid, polyoxy Higher carbon number such as sodium salt of ethylene glycol mononaphthyl ether sulfate ester, sodium salt of dodecylbenzene sulfonic acid, alkylaryl sulfonate such as sodium salt of metanitrobenzene sulfonic acid, secondary sodium alkyl sulfate, etc. Aliphatic alcohol phosphates such as alcohol sulfates, sodium salts of cetyl alcohol phosphates, eg C 17 H 33 CON (CH 3) CH 2 CH 2 SO 3 sulfonates of alkylamides such as Na, for example, sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sulfonate of dibasic aliphatic esters such as sodium sulfosuccinate dihexyl ester Salts are included.

必要に応じてベンジルアルコール等の水と混合するような有機溶媒を現像液に加えてもよい。有機溶媒としては、水に対する溶解度が約10質量%以下のものが適しており、好ましくは5質量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパノール、1,4−フェニルブタノール、2,2−フェニルブタノール、1,2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘクサノール、4−メチルシクロヘクサノール及び3−メチルシクロヘクサノール等を挙げることができる。有機溶媒の含有量は、使用時の現像液の総質量に対して1〜5質量%が好適である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増すにつれ、アニオン界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これはアニオン界面活性剤の量が少ない状態で、有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。   If necessary, an organic solvent such as benzyl alcohol mixed with water may be added to the developer. As the organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by mass or less are suitable, and preferably selected from those having 5% by mass or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpropanol, 1,4-phenylbutanol, 2,2-phenylbutanol, 1,2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m -Methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and the like can be mentioned. The content of the organic solvent is preferably 1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer at the time of use. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of anionic surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because when the amount of the organic solvent is large and the amount of the anionic surfactant is small, the organic solvent is not dissolved, so that it is impossible to expect good developability.

また、更に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水軟化剤としては、例えば、Na227、Na533、Na339、Na24P(NaO3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、アミノポリカルボン酸類(例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩)、他のポリカルボン酸類(例えば、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2一ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)、有機ホスホン酸類(例えば、1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)を挙げることができる。このような硬水軟化剤の最適量は使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させられる。 Furthermore, additives such as an antifoaming agent and a hard water softening agent can be further contained as necessary. Examples of the hard water softener include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 , Calgon (sodium polymetaphosphate) Such as polyphosphates, aminopolycarboxylic acids (eg, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,3-diamino-2 -Propanol tetraacetic acid, its potassium salt, Sodium salt), other polycarboxylic acids (eg 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 2-phosphonobutanone tricarboxylic acid-2,3,4, Potassium salt, sodium salt thereof, etc., organic phosphonic acids (eg, 1-phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, potassium salt, sodium salt thereof; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, Potassium salt, sodium salt thereof; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt thereof, sodium salt thereof and the like. The optimum amount of such a hard water softener varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by weight, more preferably in the developer at the time of use. It is made to contain in 0.01-0.5 mass%.

更に、自動現像機を用いて、該平版印刷版原版を現像する場合には、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特許第4,882,246号に記載されている方法で補充することが好ましい。また、特開昭50−26601号、同58−54341号、特公昭56−39464号、同56−42860号、同57−7427号の各公報に記載されている現像液も好ましい。   Furthermore, when the lithographic printing plate precursor is developed using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the processing amount, so that the processing ability is restored by using a replenishing solution or a fresh developing solution. May be. In this case, it is preferable to replenish by the method described in US Pat. No. 4,882,246. Developers described in JP-A-50-26601, 58-54341, JP-B-56-39464, 56-42860, and 57-7427 are also preferable.

このようにして現像処理された平版印刷版原版は、特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理されてもよい。本発明に係る平版印刷版原版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The lithographic printing plate precursor thus developed is subjected to washing water, surface activity as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-11545, 59-58431, and the like. It may be post-treated with a rinsing liquid containing an agent, a desensitizing liquid containing gum arabic, starch derivatives, and the like. These treatments can be used in various combinations for the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention.

本発明に係る平版印刷版原版の製版プロセスとして、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。このような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上、感度の安定化といった利点が生じ得る。更に、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱若しくは、全面露光を行うことも有効である。
通常、現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が高すぎると、非画像部における所望されない硬化反応を引き起こす等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することができる。通常は加熱温度が200〜500℃の範囲で実施される。現像後の加熱温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じるおそれがある。
As the plate making process of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the entire surface may be heated before exposure, during exposure, and between exposure and development, if necessary. By such heating, the image forming reaction in the photosensitive layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. Further, for the purpose of improving the image strength and printing durability, it is also effective to subject the developed image to full post heating or full exposure.
Usually, heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, problems such as causing an undesired curing reaction in the non-image area are caused. Very strong conditions can be used for heating after development. Usually, the heating temperature is 200 to 500 ° C. If the heating temperature after development is low, sufficient image strengthening action cannot be obtained, and if it is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.

以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとしては、従来より知られているPS版用プレートクリーナーが使用され、例えば、CL−1,CL−2,CP,CN−4,CN,CG−1,PC−1,SR,IC(富士写真フイルム株式会社製)等が挙げられる。
The planographic printing plate obtained by the above processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
As plate cleaners used for removing stains on the plate during printing, conventionally known plate cleaners for PS plates are used. For example, CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG-1, PC-1, SR, IC (made by Fuji Photo Film Co., Ltd.), etc. are mentioned.

以下、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated using an Example, this invention is not limited to these.

〔合成例1:多点水素結合機を有するバインダーポリマーP−6の合成〕
<化合物SM−1の合成>
コンデンサーを備え付けた1LナスフラスコにカレンズMOI(昭和電工(株)製)(45g)(和光純薬(株)製)、6−アミノ−1−メチルウラシル(25g)(東京化成製)、ジラウリン酸ジ−n−ブチルスズ(東京化成製)5滴及びN,N−ジメチルアセトアミド(100g)(和光純薬(株)製)、ピリジン(100g)(和光純薬(株)製)を入れ、120℃で6時間加熱・攪拌した。その後、室温まで放冷し、析出した固体を濾過し、真空乾燥することにより下記構造の化合物SM−1(63g)を得た。同定は1H−NMR及びFT−IRスペクトルにより行った。
[Synthesis Example 1: Synthesis of binder polymer P-6 having a multipoint hydrogen bonder]
<Synthesis of Compound SM-1>
Karenz MOI (manufactured by Showa Denko KK) (45 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 6-amino-1-methyluracil (25 g) (manufactured by Tokyo Chemical Industry), dilauric acid on a 1 L eggplant flask equipped with a condenser Put 5 drops of di-n-butyltin (manufactured by Tokyo Chemical Industry) and N, N-dimethylacetamide (100 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), pyridine (100 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 120 ° C. And stirred for 6 hours. Then, it stood to cool to room temperature, the depositing solid was filtered and vacuum-dried, and compound SM-1 (63g) of the following structure was obtained. Identification was performed by 1 H-NMR and FT-IR spectrum.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

<多点水素結合機を有するバインダーポリマーP−6の合成>
コンデンサーを備え付けた1L三つ口フラスコに上記合成で得た化合物SM−1(42.04g)、下記構造の化合物SM−2(69.78g)、ライトエステルHO−MS(23.04g)(共栄社化学(株)製)、アゾビスイソ酪酸ジメチル(0.69g)(和光純薬(株)製)、及びN,N−ジメチルアセトアミド(314g)(和光純薬(株)製)を入れ、窒素気流下80℃で5時間攪拌した。その後、反応液にN,N−ジメチルアセトアミド(465g)(和光純薬(株)製)と4−ヒドロキシ−2、2、6、6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル(フリーラジカル)(0.52g)と1、8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン(133.21g)(東京化成(株)製)を入れ24時間室温で攪拌した。更に氷浴下、反応液にメタンスルホン酸(84.11g)(和光純薬(株)製)を滴下後、この反応液を水10Lに投入し、白色固体を析出させ、この固体をろ別後、真空乾燥後、白色固体(98g)を得た。同定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー及び滴定により行った。その結果、重量平均分子量10万(ポリスチレン換算)、酸価0.87mmol/gであった。
<Synthesis of Binder Polymer P-6 with Multipoint Hydrogen Bonder>
In a 1 L three-necked flask equipped with a condenser, compound SM-1 (42.04 g) obtained by the above synthesis, compound SM-2 (69.78 g) having the following structure, light ester HO-MS (23.04 g) (Kyoeisha) Chemical Co., Ltd.), dimethyl azobisisobutyrate (0.69 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and N, N-dimethylacetamide (314 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and under nitrogen flow Stir at 80 ° C. for 5 hours. Thereafter, N, N-dimethylacetamide (465 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (free radical) (0. 52 g) and 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene (133.21 g) (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added and stirred at room temperature for 24 hours. Furthermore, methanesulfonic acid (84.11 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise to the reaction solution in an ice bath, and then the reaction solution was poured into 10 L of water to precipitate a white solid, which was filtered off. After vacuum drying, a white solid (98 g) was obtained. Identification was performed by gel permeation chromatography and titration. As a result, the weight average molecular weight was 100,000 (polystyrene conversion) and the acid value was 0.87 mmol / g.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

〔合成例2:多点水素結合機を有するバインダーポリマーP−5の合成〕
<化合物SM−3の合成>
Advanced Materialsの12巻874〜878ページ(2000年)に記載の方法により得られた、下記構造の化合物SM−3−1(40g)、トリメチロールエタン(50g)(東京化成製)、ジラウリン酸ジ−n−ブチルスズ(東京化成製)6滴、及びピリジン(300g)(和光純薬(株)製)を1Lナスフラスコに入れ、6時間還流させた。その後、ピリジンを減圧留去後、カラムクロマトグラフィーにより下記構造の化合物SM−3を得た。同定は、1H−NMR及びFT−IRスペクトルにより行った。
[Synthesis Example 2: Synthesis of binder polymer P-5 having a multipoint hydrogen bonder]
<Synthesis of Compound SM-3>
Compound SM-3-1 (40 g), trimethylolethane (50 g) (manufactured by Tokyo Chemical Industry) having the following structure, obtained by the method described in Advanced Materials, Vol. 12, pages 874 to 878 (2000), dilauric acid di -6 drops of n-butyltin (manufactured by Tokyo Chemical Industry) and pyridine (300 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were placed in a 1 L eggplant flask and refluxed for 6 hours. Thereafter, pyridine was distilled off under reduced pressure, and then compound SM-3 having the following structure was obtained by column chromatography. Identification was performed by 1 H-NMR and FT-IR spectrum.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

<多点水素結合機を有するバインダーポリマーP−5の合成>
コンデンサー、攪拌機を取り付けた500ml三口丸底フラスコに、シフェニルメタンジイソシアネート(11.51g)(和光純薬(株)製)、ヘキサメチレンジイソシアネート(7.74g)(和光純薬(株)製)、平均分子量1000のポリプロピレングリコール(23.00g)(和光純薬(株)製)、シメチロールプロピオン酸(9.25g)(東京化成製)、上記合成で得た化合物SM−3(19.02g)、N,N−ジメチルアセトアミド(58g)(和光純薬(株)製)、及びジウラリン酸ジ−n−ブチルスズ5滴(東京化成製)を入れ、窒素気流下で100℃で8時間加熱・攪拌した。その後、メタノール(100ml)、N,N−ジメチルアセトアミド(200ml)にて希釈後、水4L中に攪拌しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポリマーをろ別し、水で洗浄後、真空乾燥させることによりバインダーポリマーP−5(61g)を得た。同定はゲルパーミエーションクロマトグラフィー及び滴定により行った。その結果、重量平均分子量6万(ポリスチレン換算)、酸価0.98mmol/gであった。
<Synthesis of binder polymer P-5 having a multipoint hydrogen bonder>
In a 500 ml three-necked round bottom flask equipped with a condenser and a stirrer, siphenylmethane diisocyanate (11.51 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), hexamethylene diisocyanate (7.74 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), Polypropylene glycol having an average molecular weight of 1000 (23.00 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), cimethylolpropionic acid (9.25 g) (manufactured by Tokyo Chemical Industry), compound SM-3 (19.02 g) obtained by the above synthesis , N, N-dimethylacetamide (58 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 5 drops of di-n-butyltin diurarate (manufactured by Tokyo Chemical Industry), heated and stirred at 100 ° C. for 8 hours under a nitrogen stream. did. Then, after diluting with methanol (100 ml) and N, N-dimethylacetamide (200 ml), the mixture was poured into 4 L of water with stirring to precipitate a white polymer. The polymer was separated by filtration, washed with water, and vacuum dried to obtain a binder polymer P-5 (61 g). Identification was performed by gel permeation chromatography and titration. As a result, the weight average molecular weight was 60,000 (polystyrene conversion), and the acid value was 0.98 mmol / g.

〔合成例2:多点水素結合機を有する重合性化合物M−3の合成〕
<化合物SM−4の合成>
1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン(120.2g)、2―メトキシプロペン(75.0g)をアセトン(300ml)に懸濁し、0℃にて濃硫酸1滴を加えた後、1時間撹拌した。室温に戻し、更に2時間撹拌した。アセトンを留去した後、減圧下(1.7mmHg)、70℃で得られる留分を採集することにより、下記構造の化合物SM−4、(1,4,4−トリメチル−3,5−ジオキサニル)メタン−1−オール(155.2g)を得た。
[Synthesis Example 2: Synthesis of polymerizable compound M-3 having a multipoint hydrogen bonder]
<Synthesis of Compound SM-4>
1,1,1-tris (hydroxymethyl) ethane (120.2 g), 2-methoxypropene (75.0 g) was suspended in acetone (300 ml), 1 drop of concentrated sulfuric acid was added at 0 ° C., and 1 Stir for hours. It returned to room temperature and stirred for further 2 hours. After distilling off acetone, the fraction obtained at 70 ° C. under reduced pressure (1.7 mmHg) was collected to obtain compound SM-4, (1,4,4-trimethyl-3,5-dioxanyl having the following structure: ) Methane-1-ol (155.2 g) was obtained.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

<化合物SM−5の合成>
上記の化合物SM−4(96g)、ヘキサメチレンジイソシアネート(50g)(和光純薬(株)製)、ジウラリン酸ジ−n−ブチルスズ(5滴)(東京化成製)、及び2−ブタノン(350g)(和光純薬(株)製)をコンデンサー付きの1Lナスフラスコに入れ、攪拌しながら24時間還流させた。2−ブタノンを留去後、水2000mlを加え、1Mの塩酸水溶液でpH1〜2とし室温で2時間攪拌した。更にこの水溶液に塩化ナトリウム300gを加えた後、酢酸エチル2Lを加えて攪拌し、酢酸エチルの層を分取した。分取した酢酸エチル層に無水硫酸マグネシウムを加えた後、ろ別し、得られたろ液から酢酸エチルを留去することにより、下記構造の化合物SM−5(96g)を得た。同定は1H−NMR及びFT−IRスペクトルにより行った。
<Synthesis of Compound SM-5>
Compound SM-4 (96 g), hexamethylene diisocyanate (50 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), di-n-butyltin diurarate (5 drops) (manufactured by Tokyo Chemical Industry), and 2-butanone (350 g) (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was placed in a 1 L eggplant flask with a condenser and refluxed for 24 hours while stirring. After distilling off 2-butanone, 2000 ml of water was added, the pH was adjusted to 1 to 2 with a 1 M aqueous hydrochloric acid solution, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Further, 300 g of sodium chloride was added to this aqueous solution, 2 L of ethyl acetate was added and stirred, and the ethyl acetate layer was separated. Anhydrous magnesium sulfate was added to the fractionated ethyl acetate layer, followed by filtration, and ethyl acetate was distilled off from the obtained filtrate to obtain Compound SM-5 (96 g) having the following structure. Identification was performed by 1 H-NMR and FT-IR spectrum.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

<多点水素結合性基を有する重合性化合物M−3の合成>
上記化合物SM−5(100g)、上記化合物SM−3−1(144g)、アクリル酸クロリド(44g)(東京化成製)、トリエチルアミン(100g)(和光純薬(株)製)、ジウラリン酸ジ−n−ブチルスズ(5滴)、及びクロロホルム(1000g)(和光純薬(株)製)を2Lナスフラスコに入れ、室温で24時間攪拌した。続いてクロロホルムを留去し、得られた残さをカラムクロマトグラフィーにより精製し、重合性化合物M−3(152g)を得た。同定は、1H−NMR及びFT−IRにて行った。
<Synthesis of polymerizable compound M-3 having a multipoint hydrogen bonding group>
Compound SM-5 (100 g), Compound SM-3-1 (144 g), acrylic acid chloride (44 g) (manufactured by Tokyo Chemical Industry), triethylamine (100 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), diuraric acid di- n-Butyltin (5 drops) and chloroform (1000 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were placed in a 2 L eggplant flask and stirred at room temperature for 24 hours. Subsequently, chloroform was distilled off, and the resulting residue was purified by column chromatography to obtain polymerizable compound M-3 (152 g). Identification was performed by 1 H-NMR and FT-IR.

また、下記の実施例及び比較例にて用いたバインダーポリマー、重合性化合物についても上記と同じ方法で合成した。   The binder polymer and polymerizable compound used in the following examples and comparative examples were also synthesized by the same method as described above.

(実施例1〜15、比較例1〜3)
以下の手順で、表2に示す実施例1〜15、比較例1〜3のネガ型平版印刷版原版を作製し、印刷性能を評価した。結果を表2に併記する。
(Examples 1-15, Comparative Examples 1-3)
In the following procedure, negative lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 3 shown in Table 2 were prepared, and printing performance was evaluated. The results are also shown in Table 2.

[支持体の作製]
厚さ0.24mm、幅1030mmのJIS A 1050アルミニウム板を用いて以下のように連続的に処理を行った。
[Production of support]
Using a JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.24 mm and a width of 1030 mm, the treatment was continuously performed as follows.

(a)既存の機械的粗面化装置を使って、比重1.12の研磨剤(パミス)と水の懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラー状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は40〜45μm最大粒径は200μmだった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロンを使用し、毛長50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴を開けて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラー(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラーはブラシを回転させる駆動モーターの負荷が、ブラシローラーをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kwプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じで回転数は200rpmであった。 (A) Roller-type nylon that rotates using an existing mechanical roughening device while supplying a slurry of a specific gravity of 1.12 (pumice) and water as a polishing slurry to the surface of an aluminum plate Mechanical roughening was performed with a brush. The average particle size of the abrasive was 40 to 45 μm, and the maximum particle size was 200 μm. The material of the nylon brush was 6.10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor that rotates the brush was 7 kW plus the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotation direction of the brush was the same as the movement direction of the aluminum plate, and the rotation speed was 200 rpm.

(b)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃でスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を0.3g/m2溶解した。その後スプレーによる水洗を行った。 (B) The aluminum plate was etched by spraying at a caustic soda concentration of 2.6 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate by 0.3 g / m 2 . Thereafter, washing with water was performed by spraying.

(c)温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。 (C) A desmut treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (including 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(d)60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%、アンモニウムイオン0.007質量%含む)、温度40℃であった。交流電源は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが2msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で255C/cm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。 (D) An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (including 0.5% by mass aluminum ions and 0.007% by mass ammonium ions) at a temperature of 40 ° C. The AC power source was subjected to an electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 2 msec until the current value reached a peak from zero and a duty ratio of 1: 1. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the current peak value, and the amount of electricity was 255 C / cm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.2g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。その後スプレーで水洗した。 (E) The aluminum plate was etched by spraying at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass, the aluminum plate was dissolved by 0.2 g / m 2 , and electricity was obtained using the previous AC. The removal of the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during chemical roughening and the edge portion of the generated pit were dissolved to smooth the edge portion. Then, it was washed with water with a spray.

(f)温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーによる水洗を行った。 (F) A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washing with water by spraying.

(g)既存の二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一給電部長3m、第二給電部長3m、第一及び第二給電電極長各2.4m)を使って電解部の硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度38℃で陽極酸化処理を行った。その後スプレーによる水洗を行った。この時、陽極酸化装置においては、電源からの電流は、第一給電部に設けられた第一給電電極に流れ、電解液を介して板状アルミニウムに流れ、第一電解部で板状アルミニウムの表面に酸化皮膜を生成させ、第一給電部に設けられた電解電極を通り、電源に戻る。一方、電源からの電流は、第二給電部に設けられた第二給電電極に流れ、同様に電解液を介して板状アルミニウムに流れ、第二電解部で板状アルミニウムの表面に酸化皮膜を生成させるが、電源から第一給電部に給電される電気量と電源から第二給電部に給電される電気量は同じであり、第二給電部における酸化皮膜面での給電電流密度は、約25A/dm2であった。第二給電部では、1.35g/m2の酸化皮膜面から給電することになった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。ここまでのアルミニウム支持体を[AS−1]とする。 (G) An anodizing apparatus of an existing two-stage feed electrolytic treatment method (first and second electrolysis unit length 6 m, first feed unit length 3 m, second feed unit length 3 m, first and second feed electrode lengths 2.4 m each ) Was used to perform anodization at a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions) at a temperature of 38 ° C. Thereafter, washing with water was performed by spraying. At this time, in the anodizing device, the current from the power source flows to the first power supply electrode provided in the first power supply unit, flows to the plate-like aluminum via the electrolytic solution, An oxide film is formed on the surface, passes through the electrolytic electrode provided in the first power feeding portion, and returns to the power source. On the other hand, the current from the power source flows to the second power feeding electrode provided in the second power feeding portion, similarly flows to the plate-like aluminum via the electrolytic solution, and an oxide film is formed on the surface of the plate-like aluminum by the second electrolysis portion. Although the amount of electricity fed from the power source to the first feeding unit and the amount of electricity fed from the power source to the second feeding unit are the same, the feeding current density on the oxide film surface in the second feeding unit is about It was 25 A / dm 2 . In the 2nd electric power feeding part, it came to feed from the oxide film surface of 1.35 g / m < 2 >. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 . The aluminum support so far is referred to as [AS-1].

[親水化処理]
アルミニウム支持体[AS−1]に、印刷版非画像部としての親水性を高めるため、シリケート処理を行った。処理は3号珪酸ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接触時間が15秒となるよう通搬し、更に水洗した。Siの付着量は10mg/m2であった。この支持体を[AS−2]とする。
[Hydrophilic treatment]
The aluminum support [AS-1] was subjected to a silicate treatment in order to increase hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate. In the treatment, a 1.5% aqueous solution of sodium silicate 3 was kept at 70 ° C. so that the contact time of the aluminum web was 15 seconds, and further washed with water. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . This support is referred to as [AS-2].

[中間層の塗設]
下記の手順によりSG法の液状組成物(ゾル液)を調整した。ビーカーに下記組成物を秤量し、25℃で20分間攪拌した。
・テトラエトキシシラン 38g
・3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 13g
・85%リン酸水溶液 12g
・イオン交換水 15g
・メタノール 100g
[Coating intermediate layer]
The SG method liquid composition (sol solution) was prepared by the following procedure. The following composition was weighed in a beaker and stirred at 25 ° C. for 20 minutes.
・ Tetraethoxysilane 38g
・ 3-Methacryloxypropyltrimethoxysilane 13g
・ 85% phosphoric acid aqueous solution 12g
・ Ion exchange water 15g
・ Methanol 100g

この溶液を三口フラスコに移し、還流冷却器を取り付け三口フラスコを室温のオイルバスに浸した。三口フラスコの内容物をマグネチックスターラーで攪拌しながら、30分間で50℃まで上昇させた。浴温を50℃に保ったまま、更に1時間反応させ液組成物(ゾル液)を得た。このゾル液をメタノール/エチレングリコール=20/1(質量比)で0.5質量%になるように希釈し、前記アルミニウム基板[AS−1]にホイラー塗布し、100℃で1分乾燥させた。その時の塗布量は3.5mg/m2であった。この塗布量はケイ光X線分析法によりSi元素量を求め、それを塗布量とした。このように作製した支持体を[AS−3]とする。 This solution was transferred to a three-necked flask, a reflux condenser was attached, and the three-necked flask was immersed in an oil bath at room temperature. While stirring the contents of the three-necked flask with a magnetic stirrer, the temperature was raised to 50 ° C. over 30 minutes. While maintaining the bath temperature at 50 ° C., the mixture was further reacted for 1 hour to obtain a liquid composition (sol solution). This sol solution was diluted with methanol / ethylene glycol = 20/1 (mass ratio) to 0.5% by mass, coated on the aluminum substrate [AS-1] with a wheeler, and dried at 100 ° C. for 1 minute. . The coating amount at that time was 3.5 mg / m 2 . This coating amount was obtained by obtaining the amount of Si element by fluorescent X-ray analysis and using it as the coating amount. The support thus prepared is referred to as [AS-3].

[感光層の塗設]
以上のように処理されたアルミニウム支持体に、下記組成の感光層塗布液を乾燥塗布量が1.0〜1.2g/m2となるように塗布し、100℃で1分間乾燥させ感光層を形成した。
[Coating of photosensitive layer]
A photosensitive layer coating solution having the following composition is applied to the aluminum support treated as described above so that the dry coating amount is 1.0 to 1.2 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 1 minute. Formed.

(感光層塗布液)
・重合性化合物(表2中に記載の化合物) 1.5g
・バインダーポリマー(表2中に記載の樹脂) 2.0g
・重合開始剤(表2中に記載の化合物) 0.4g
・増感色素(表2中に記載の化合物) 0.2g
・共増感色素(表2中に記載の化合物) 0.4g
・フッ素系ノニオン界面活性剤 0.03g
(大日本インキ化学工業(株)製、メガファックF−177)
・熱重合禁止剤 0.01g
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩)
・下記組成の着色顔料分散物 2.0g
・メチルエチルケトン 20.0g
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 20.0g
(Photosensitive layer coating solution)
-Polymerizable compound (compound described in Table 2) 1.5 g
・ Binder polymer (resin listed in Table 2) 2.0 g
-Polymerization initiator (compound described in Table 2) 0.4 g
Sensitizing dye (compound described in Table 2) 0.2 g
Cosensitizing dye (compound described in Table 2) 0.4 g
・ Fluorine nonionic surfactant 0.03g
(Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd., MegaFuck F-177)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
(N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
・ 2.0 g of colored pigment dispersion having the following composition
・ Methyl ethyl ketone 20.0g
・ Propylene glycol monomethyl ether 20.0g

−着色顔料分散物組成−
・Pigment Blue 15:6 15質量部
・アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 10質量部
(共重合モル比80/20、重量平均分子量4万)
・シクロヘキサノン 15質量部
・メトキシプロピルアセテート 20質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 40質量部
-Colored pigment dispersion composition-
Pigment Blue 15: 6 15 parts by mass Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 10 parts by mass (copolymerization molar ratio 80/20, weight average molecular weight 40,000)
· 15 parts by mass of cyclohexanone · 20 parts by mass of methoxypropyl acetate · 40 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether

[保護層の塗設]
得られた感光層上に、ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度550)の3質量%の水溶液を乾燥塗布質量が2g/m2となるように塗布し、100℃で2分間乾燥した。
[Coating of protective layer]
On the obtained photosensitive layer, a 3% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 550) was applied so that the dry coating mass was 2 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 2 minutes. did.

[平版印刷版原版の露光]
上記のようにして得られた平版印刷版原版に対し、532nm、100mWのFD・YAGレーザー(CSI社製プレートジェット4)を用い、100μJ/cm2の露光パワー(標準露光条件)で、ベタ画像露光と、4000dpi、175線/インチにて、1〜99%(1%刻み)の網点画像露光と、を行った。
[Exposure of planographic printing plate precursor]
Using the lithographic printing plate precursor obtained as described above, a solid image with a 532 nm, 100 mW FD • YAG laser (CSI Co., Ltd., plate jet 4) and an exposure power of 100 μJ / cm 2 (standard exposure conditions). Exposure and dot image exposure at 1 to 99% (in 1% increments) at 4000 dpi and 175 lines / inch were performed.

[現像/製版]
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機FLP−813に、表2に記載の現像液と富士写真フイルム(株)製フィニッシャーFP−2Wをそれぞれ仕込み、現像液温度30℃、現像時間18秒の条件で露光済みの版を現像/製版し、平版印刷版を得た。
[Development / plate making]
After the exposure, the developers listed in Table 2 and the finisher FP-2W manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. were charged into an automatic processor FLP-813 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., respectively, and the developer temperature was 30 ° C. and the development time 18 The exposed plate was developed / engraved under the conditions of seconds to obtain a lithographic printing plate.

[画像部耐刷性試験]
印刷機としてローランド社製R201を使用し、インキとして大日本インキ化学工業社製グラフG(N)を使用した。ベタ画像部の印刷物を観察し、画像がかすれはじめた枚数によって画像部耐刷性を調べた。数字が大きいほど耐刷性が良い。
[Image area printing durability test]
R201 manufactured by Roland was used as a printing machine, and graph G (N) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. was used as ink. The printed matter in the solid image area was observed, and the printing durability of the image area was examined based on the number of images where the image started to fade. The larger the number, the better the printing durability.

[非画像部汚れ性試験]
非画像部汚れ性の評価は、上記画像部耐刷性試験において、印刷物の画像部がかすれ始めるまで、1万枚毎に目視により印刷物を観察することにより行った。画像部耐刷性試験が終了する迄の間、印刷物の非画像部に汚れの発生がなかったものを良好であると評価した。
[Non-image area soiling test]
The evaluation of the non-image area smearing property was performed by observing the printed material visually every 10,000 sheets until the image portion of the printed material began to fade in the image portion printing durability test. Until the end of the image area printing durability test, the non-image area of the printed material was evaluated as good if no stain was generated.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

以下に、表2中に記載された、バインダーポリマー、重合性化合物、重合開始剤、増感色素、赤外線吸収剤、その他の添加剤、使用された現像液について、後述する他の実施例及び比較例に使用したもの(表2〜表4に記載)を含めて以下に示す。
なお、表2〜表4中に記載されたバインダーポリマーP−1〜P−10は前記多点水素結合性基を有するバインダーポリマーの具体例で示したものであり、重合性化合物M−3〜M−7は前記多点水素結合性基を有するバインダーポリマーの具体例で示したものである。
また、下記に示すバインダーポリマーP−11〜P−13、及び重合性化合物M−1及びM−2は、いずれも、多点水素結合性基を有しない化合物である。
The binder polymer, polymerizable compound, polymerization initiator, sensitizing dye, infrared absorber, other additives, and the developer used, described in Table 2 below, will be described later in other examples and comparisons. The examples used in the examples (described in Tables 2 to 4) are shown below.
In addition, the binder polymers P-1 to P-10 described in Tables 2 to 4 are those shown as specific examples of the binder polymer having the multipoint hydrogen bonding group, and the polymerizable compound M-3 to M-7 is a specific example of the binder polymer having a multipoint hydrogen bonding group.
In addition, the binder polymers P-11 to P-13 and the polymerizable compounds M-1 and M-2 shown below are compounds that do not have a multipoint hydrogen bonding group.

<バインダーポリマー>

Figure 2005300817
<Binder polymer>
Figure 2005300817

<重合性化合物>
M−1: ペンタエルスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製;NKエステルA−TMMT)
M−2: グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー(共栄社化学(株)製;UA101H)
<Polymerizable compound>
M-1: Pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .; NK ester A-TMMT)
M-2: Glycerin dimethacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .; UA101H)

<重合開始剤>

Figure 2005300817
<Polymerization initiator>
Figure 2005300817

<増感色素>

Figure 2005300817
<Sensitizing dye>
Figure 2005300817

<その他の添加剤>

Figure 2005300817
<Other additives>
Figure 2005300817

<現像液>
D−1:下記組成からなるpH10の水溶液
・モノエタノールアミン 0.1質量部
・トリエタノールアミン 1.5質量部
・下記(式1)の化合物 4.0質量部
・下記(式2)の化合物 2.5質量部
・下記(式3)の化合物 0.2質量部
・水 91.7質量部
<Developer>
D-1: pH 10 aqueous solution having the following composition: monoethanolamine 0.1 part by mass triethanolamine 1.5 part by mass compound of the following (formula 1) 4.0 part by mass: compound of the following (formula 2) 2.5 parts by mass-Compound of the following (Formula 3) 0.2 parts by mass-Water 91.7 parts by mass

Figure 2005300817
Figure 2005300817

上記(式1)中、R14は水素原子又はブチル基を表す。 In the above (Formula 1), R 14 represents a hydrogen atom or a butyl group.

D−2:下記組成からなる水溶液
・ケイ酸カリウム 3.0質量部
・水酸化カリウム 1.5質量部
・前記式3の化合物 0.2質量部
・水 95.3質量部
D-2: An aqueous solution having the following composition: 3.0 parts by mass of potassium silicate, 1.5 parts by mass of potassium hydroxide, 0.2 part by mass of the compound of the above formula 3 and 95.3 parts by mass of water

D−3:下記組成からなる水溶液
・炭酸ナトリウムの一水和物 10g
・炭酸水素カリウム 10g
・イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム 15g
・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 15g
・エチレングリコールモノナフチルエーテルモノスルフェート
のナトリウム塩 10g
・亜硫酸ナトリウム 1g
・エチレンジアミン4酢酸四ナトリウム 0.1g
・イオン交換水 938.9g
D-3: 10 g of an aqueous solution and sodium carbonate monohydrate having the following composition
・ Potassium bicarbonate 10g
・ Sodium isopropyl naphthalenesulfonate 15g
・ Sodium dibutylnaphthalenesulfonate 15g
-Sodium salt of ethylene glycol mononaphthyl ether monosulfate 10g
・ Sodium sulfite 1g
・ Ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium 0.1 g
・ Ion-exchanged water 938.9g

(実施例16〜30、比較例4〜6)
支持体として表3に記載のものを用い、感光層塗布液の組成を表3に記載のように変更した他は、実施例1〜15、比較例1〜3と同様にして、表3に示す実施例16〜30及び比較例4〜6のネガ型平版印刷版原版を作製した。なお、本実施例及び比較例においては、感光層の乾燥後の塗布量が1.3〜1.5g/m2となるように塗布した。
(Examples 16 to 30, Comparative Examples 4 to 6)
Table 3 was used in the same manner as in Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 3, except that the support described in Table 3 was used and the composition of the photosensitive layer coating solution was changed as shown in Table 3. Negative type lithographic printing plate precursors of Examples 16 to 30 and Comparative Examples 4 to 6 shown were produced. In Examples and Comparative Examples, the photosensitive layer was applied such that the coating amount after drying was 1.3 to 1.5 g / m 2 .

得られた平版印刷版原版について、下記のように露光、及び現像/製版を行い、実施例1〜15、比較例1〜3と同様にして、[画像部耐刷性試験][非画像部汚れ性試験]を行い、印刷性能を評価した。結果を表3に併記する。   The resulting lithographic printing plate precursor was exposed and developed / made as described below, and in the same manner as in Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 3, [Image part printing durability test] [Non-image part] Stainability test] was conducted to evaluate the printing performance. The results are also shown in Table 3.

[平版印刷版原版の露光]
得られた平版印刷版原版に対し、405nm、30mWのvioletLD(内面ドラム型実験機)を用い、100μJ/cm2の露光パワー(標準露光条件)で、ベタ画像露光と、4000dpi、175線/インチにて、1〜99%(1%刻み)の網点画像露光と、を行った。
[Exposure of planographic printing plate precursor]
The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to solid image exposure and 4000 dpi, 175 lines / inch using a 405 nm, 30 mW violet LD (internal drum type experimental machine) with an exposure power of 100 μJ / cm 2 (standard exposure conditions). 1 to 99% (in 1% increments) of halftone dot image exposure.

[現像/製版]
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機FLP−813に、表3に記載の現像液と富士写真フイルム(株)製フィニッシャーFP−2Wをそれぞれ仕込み、現像液温度30℃、現像時間18秒の条件で露光済みの版を現像/製版し、平版印刷版を得た。
[Development / plate making]
After the exposure, the developers listed in Table 3 and the finisher FP-2W manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. were respectively charged in an automatic developing machine FLP-813 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The exposed plate was developed / engraved under the conditions of seconds to obtain a lithographic printing plate.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

(実施例31〜45、比較例7〜9)
[感光層の塗設]
下記組成の感光層塗布液を調製し、アルミニウム支持体[AS−1]にワイヤーバーを用いて乾燥後の塗布量が1.4〜1.6g/m2となるように塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して感光層を形成した。
(Examples 31-45, Comparative Examples 7-9)
[Coating of photosensitive layer]
A photosensitive layer coating solution having the following composition was prepared and applied to an aluminum support [AS-1] using a wire bar so that the coating amount after drying was 1.4 to 1.6 g / m 2. A photosensitive layer was formed by drying at 115 ° C. for 45 seconds in a dry dryer.

(感光層塗布液)
・重合性化合物(表4中に記載の化合物) 1.0g
・バインダーポリマー(表4中に記載の化合物) 1.0g
・重合開始剤(表4中に記載の化合物) 0.3g
・赤外線吸収剤(S−4) 0.08g
・フッ素系ノニオン界面活性剤 0.01g
(大日本インキ化学工業(株)製、メガファックF−176)
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g
・メチルエチルケトン 9.0g
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 8.0g
・メタノール 10.0g
(Photosensitive layer coating solution)
-Polymerizable compound (compound described in Table 4) 1.0 g
-Binder polymer (compound described in Table 4) 1.0 g
-Polymerization initiator (compound described in Table 4) 0.3 g
・ Infrared absorber (S-4) 0.08g
・ Fluorine nonionic surfactant 0.01g
(Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd., MegaFuck F-176)
・ Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonate 0.04g
・ Methyl ethyl ketone 9.0g
・ Propylene glycol monomethyl ether 8.0g
・ Methanol 10.0g

[保護層の塗設]
得られた感光層上に、必要に応じてポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度550)の3質量%の水溶液を乾燥塗布質量が2g/m2となるように塗布し、100℃で2分間乾燥した。
[Coating of protective layer]
If necessary, a 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (saponification degree 98 mol%, polymerization degree 550) is applied on the obtained photosensitive layer so that the dry application weight is 2 g / m 2, and 100 ° C. For 2 minutes.

[平版印刷版原版の露光]
上記のように得られた実施例平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザー(830nm)を搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した。
[Exposure of planographic printing plate precursor]
The Example lithographic printing plate precursor obtained as described above was output by a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser (830 nm), output 9 W, outer drum rotation speed 210 rpm, plate surface energy 100 mJ / cm 2 , The exposure was performed under the condition of a resolution of 2400 dpi.

[現像/製版]
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900Nに、表4記載の現像液とフィニッシャー富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液現像をそれぞれ仕込み、30℃で現像/製版し、平版印刷版を得た。
[Development / plate making]
After the exposure, the developer described in Table 4 and the 1: 1 water dilute solution development of finisher Fuji Photo Film FN-6 were charged into an automatic processor Stablon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. at 30 ° C. Development / plate making was performed to obtain a lithographic printing plate.

[画像部耐刷性試験]
印刷機として小森コーポレーション(株)製リスロンを使用し、インキとして大日本インキ化学工業社製グラフG(N)を使用した。ベタ画像部の印刷物を観察し、画像がかすれはじめた枚数によって画像部耐刷性を調べた。数字が大きいほど耐刷性が良いことを示す。
[Image area printing durability test]
A Lislon manufactured by Komori Corporation was used as a printing machine, and a graph G (N) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. was used as an ink. The printed matter in the solid image area was observed, and the printing durability of the image area was examined based on the number of images where the image started to fade. Larger numbers indicate better printing durability.

[非画像部汚れ性試験]
非画像部汚れ性の評価は、上記画像部耐刷性試験において、印刷物の画像部がかすれ始めるまで、1万枚毎に目視により印刷物を観察することにより行った。画像部耐刷性試験が終了する迄の間、印刷物の非画像部に汚れの発生がなかったものを良好であると評価した。
[Non-image area soiling test]
The evaluation of the non-image area smearing property was performed by observing the printed material visually every 10,000 sheets until the image portion of the printed material began to fade in the image portion printing durability test. Until the end of the image area printing durability test, the non-image area of the printed material was evaluated as good if no stain was generated.

Figure 2005300817
Figure 2005300817

表2〜表4から明らかなように、多点水素結合性基を有するバインダーポリマー及び/又は多点水素結合性基を有する重合性化合物を含有する重合性組成物(本発明の重合性組成物)からなる感光層を備える平版印刷版原版は、いずれも優れた耐刷性有し、また、非画像部における汚れも発生していないことから、本実施例で行ったようなレーザー露光による高速での書き込みに適した平版印刷版原版であることわかる。特に、多点水素結合性基を有するバインダーポリマーと、多点水素結合性基を有する重合性化合物と、共に含有する重合性組成物からなる感光層を備える平版印刷版原版は耐刷性に非常に優れることが分かった。
一方、比較例の平版印刷版原版は、多点水素結合性基を有しないバインダーポリマーや重合性組成物を含有した重合性組成物を用いた以外は実施例の平版印刷版原版と全く同様に作製されたものであっても、いずれも実施例の平版印刷版原版より耐刷性に劣り、また、適用される平版印刷版原版によっては非画像部の汚れ性にも劣るものであった。
As is clear from Tables 2 to 4, a polymerizable composition containing a binder polymer having a multipoint hydrogen bonding group and / or a polymerizable compound having a multipoint hydrogen bonding group (the polymerizable composition of the present invention) The lithographic printing plate precursor provided with the photosensitive layer is excellent in printing durability and is free from contamination in the non-image area. It can be seen that this is a lithographic printing plate precursor suitable for writing in. In particular, a lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer composed of a polymerizable composition containing a binder polymer having a multipoint hydrogen bond group, a polymerizable compound having a multipoint hydrogen bond group, and the printing composition has a very high printing durability. It turned out to be excellent.
On the other hand, the lithographic printing plate precursor of the comparative example is exactly the same as the lithographic printing plate precursor of the example except that a polymerizable composition containing a binder polymer or a polymerizable composition having no multipoint hydrogen bonding group was used. Even those prepared were inferior in printing durability to the lithographic printing plate precursors of the examples, and were also inferior in soiling of non-image areas depending on the applied lithographic printing plate precursor.

Claims (2)

バインダーポリマー、重合性化合物、重合開始剤、及び増感色素を含有する重合性組成物であって、
これを構成する成分のうち少なくとも1つが、非共有電子対と水素結合可能な水素原子とを有し、2以上の水素結合を形成しうる置換基を有する化合物を含むことを特徴とする重合性組成物。
A polymerizable composition containing a binder polymer, a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a sensitizing dye,
At least one of the components constituting this comprises a compound having a lone pair and a hydrogen atom capable of hydrogen bonding, and a compound having a substituent capable of forming two or more hydrogen bonds. Composition.
支持体上に、請求項1に記載の重合性組成物を含む感光層を備えてなることを特徴とする平版印刷版原版。   A lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer containing the polymerizable composition according to claim 1 on a support.
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