JP2005300744A - Liquid crystal display element and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the simple manufacturing method of a liquid crystal display element having satisfactory display quality. <P>SOLUTION: First and second conductive films are formed on first and second substrates, respectively. First and second electrode pattern data in facing regions including display units and data of mutually relatively aligned first and second slit patterns are superposed on each other respectively to prepare first and second reticles so that the slit patterns formed at respective substrates are alternately disposed in a slit width direction when completed substrates are disposed opposite to each other and viewed from the normal direction of the substrates. The first and the second reticles are transferred to form first and second masks of electrode patterns including the slit patterns on the first and the second conductive films, respectively and etching is performed to form first and second transparent electrodes. First and second alignment layers are formed on the first and second substrates so as to cover the first and the second transparent electrodes. The first and the second substrates are disposed opposite to each other to be nearly parallel and is made to adhere to each other. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、斜め電界により液晶を配向させる液晶表示素子、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display element that aligns liquid crystal with an oblique electric field, and a method for manufacturing the same.

図12は、垂直配向型の液晶表示素子(Liquid Crystal Display)の従来例を示す断面図である。垂直配向型LCD50は、一対の基板(上側基板32及び下側基板31)と、その間に挟持される液晶層39、たとえば負の誘電率異方性(Δε<0)をもつネマティック液晶39aで形成されるネマティック液晶層とを含んで構成される。上側基板32及び下側基板31は、それぞれ、たとえば平板なガラス基板である透明基板34,33、透明基板34,33上に、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電材で形成され、所定のパタンを有する透明電極36,35、透明電極36,35上に形成される垂直配向膜38,37とを含んで構成される。   FIG. 12 is a cross-sectional view showing a conventional example of a vertical alignment type liquid crystal display element (Liquid Crystal Display). The vertical alignment LCD 50 is formed of a pair of substrates (an upper substrate 32 and a lower substrate 31) and a liquid crystal layer 39 sandwiched therebetween, for example, a nematic liquid crystal 39a having a negative dielectric anisotropy (Δε <0). And a nematic liquid crystal layer. Each of the upper substrate 32 and the lower substrate 31 is formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) on the transparent substrates 34 and 33, which are flat glass substrates, for example, and a predetermined glass substrate. It includes transparent electrodes 36 and 35 having patterns, and vertical alignment films 38 and 37 formed on the transparent electrodes 36 and 35.

一対の基板(上側基板32及び下側基板31)は、垂直配向膜38,37が向き合うように平行配置され、両垂直配向膜38,37間に、液晶層39が挟持される。透明電極36,35間には、電圧印加手段43が接続されており、電圧印加手段43により両透明電極36,35間の液晶層39に任意の電圧を印加することができる。垂直配向膜38,37には、プレティルト角の付与等の配向処理が施されている。配向処理により、垂直配向膜38,37に接する液晶層39の液晶分子は基板(上側基板32及び下側基板31)に対してほぼ垂直な、かつプレティルト角だけ傾く方向に配向される。また、液晶層39に電圧が印加されたときには、プレティルト角により液晶分子の倒れる方向が規定される。   The pair of substrates (the upper substrate 32 and the lower substrate 31) are arranged in parallel so that the vertical alignment films 38 and 37 face each other, and a liquid crystal layer 39 is sandwiched between the vertical alignment films 38 and 37. A voltage application unit 43 is connected between the transparent electrodes 36 and 35, and an arbitrary voltage can be applied to the liquid crystal layer 39 between the transparent electrodes 36 and 35 by the voltage application unit 43. The vertical alignment films 38 and 37 are subjected to an alignment process such as provision of a pretilt angle. By the alignment treatment, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 39 in contact with the vertical alignment films 38 and 37 are aligned in a direction substantially perpendicular to the substrates (upper substrate 32 and lower substrate 31) and inclined by a pretilt angle. When a voltage is applied to the liquid crystal layer 39, the pretilt angle defines the direction in which the liquid crystal molecules fall.

一対の基板(上側基板32及び下側基板31)の外側に、一対の偏光板41,42が、たとえば直交ニコル状態に配置される。図示のように互いに直交するX方向、Y方向、Z方向を画定するとき、上側基板32に向き合う偏光板41は、たとえばX方向に偏光する光だけを透過させ、下側基板31に向き合う偏光板42は、たとえばY方向に偏光する光だけを透過させるように配置される。また、液晶層39を挟持する一対の基板(上側基板32及び下側基板31)は、各基板(上側基板32及び下側基板31)の法線方向がZ方向と平行であるように、かつ、上側基板32または下側基板31の法線方向(Z方向)から見たとき、電圧印加時の液晶分子がX方向及びY方向と45°をなす方向に倒れるように配置される。   On the outside of the pair of substrates (the upper substrate 32 and the lower substrate 31), a pair of polarizing plates 41 and 42 are disposed, for example, in a crossed Nicols state. As shown in the figure, when defining the X, Y, and Z directions orthogonal to each other, the polarizing plate 41 facing the upper substrate 32 transmits, for example, only light polarized in the X direction and facing the lower substrate 31. For example, 42 is arranged to transmit only light polarized in the Y direction. Further, the pair of substrates (the upper substrate 32 and the lower substrate 31) sandwiching the liquid crystal layer 39 has the normal direction of each substrate (the upper substrate 32 and the lower substrate 31) parallel to the Z direction, and When viewed from the normal direction (Z direction) of the upper substrate 32 or the lower substrate 31, the liquid crystal molecules at the time of voltage application are arranged so as to fall in a direction that forms 45 ° with the X direction and the Y direction.

垂直配向型LCD50においては、視角依存性を改善するために、上側基板32と偏光板41との間に視角補償フィルム40が挿入されている。視角補償フィルム40として、たとえば光軸がフィルムの法線方向にあり、複屈折率が負の一軸性光学フィルムが用いられる。視角補償フィルム40は、図に示したように一方の基板側にだけ配置することもできるし、両方の基板外側に配置することもできる。視角補償フィルム40のリターデーションは液晶層39のリターデーションの1/3〜1倍程度である。なお、両方の基板側に視角補償フィルム40を配置した場合は、2枚の視角補償フィルム40のリターデーションの和が液晶層39のリターデーションの1/3〜1倍である。   In the vertical alignment LCD 50, a viewing angle compensation film 40 is inserted between the upper substrate 32 and the polarizing plate 41 in order to improve the viewing angle dependency. As the viewing angle compensation film 40, for example, a uniaxial optical film having an optical axis in the normal direction of the film and a negative birefringence is used. The viewing angle compensation film 40 can be disposed only on one substrate side as shown in the figure, or can be disposed outside both substrates. The retardation of the viewing angle compensation film 40 is about 1 to 3 times that of the liquid crystal layer 39. When the viewing angle compensation film 40 is disposed on both the substrate sides, the sum of the retardations of the two viewing angle compensation films 40 is 1 to 3 times that of the liquid crystal layer 39.

図12に示す構造の垂直配向型LCD50は、液晶分子が倒れる方向からの視角特性が極端に悪くなるという欠点を有する。   The vertical alignment type LCD 50 having the structure shown in FIG. 12 has a drawback that the viewing angle characteristics from the direction in which the liquid crystal molecules are tilted are extremely deteriorated.

上下基板に形成される一対の透明電極をスリットを有する形状に形成し、一方の透明電極のスリットと他方の透明電極のスリットが表示領域で交互に配置されることを特徴とするツイストネマチック(Twisted Nematic,TN)液晶表示素子の提案がなされている。(たとえば、特許文献1参照。)
この提案によれば、スリット部に斜め方向の電界が発生するとともに、スリットの両側では斜め電界の傾く方向が逆になる。一対の電極の表示領域で、電圧印加時には液晶分子の立ち上がり方向がそれぞれ逆方向の小領域が同時に形成されるので、互いの小領域の視角依存性が補完されて、表示領域全体として視角依存性が低減し、いずれの方向から見ても視認性が良好となり、表示品質が向上する。
A pair of transparent electrodes formed on the upper and lower substrates is formed in a shape having slits, and the twisted nematic (Twisted), wherein the slits of one transparent electrode and the slits of the other transparent electrode are alternately arranged in the display region (Nematic, TN) liquid crystal display elements have been proposed. (For example, see Patent Document 1.)
According to this proposal, an oblique electric field is generated in the slit portion, and the direction in which the oblique electric field is inclined is reversed on both sides of the slit. In the display area of a pair of electrodes, when a voltage is applied, small areas with the opposite directions of the rising direction of the liquid crystal molecules are formed simultaneously, so that the viewing angle dependence of each small area is complemented, and the viewing area dependence of the entire display area Is reduced, visibility is improved from any direction, and display quality is improved.

特許第3108768号公報Japanese Patent No. 3108768

本発明の目的は、表示品質の良好な液晶表示素子、及びその簡易な製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a liquid crystal display element with good display quality and a simple manufacturing method thereof.

本発明の一観点によれば、少なくとも1つの表示単位を含む表示領域において表示を行う液晶表示素子の製造方法であって、(a)第1の基板上に、第1の透明導電材料膜を形成する工程と、(b)第2の基板上に、第2の透明導電材料膜を形成する工程と、(c)表示領域の少なくとも一部の領域を含む領域のデータであって、その領域内に少なくとも1つの表示単位を含む対向領域の第1及び第2の電極パタンデータと、相互に相対的に位置合わせされた第1及び第2のスリットパタンのデータとをそれぞれ重ね合わせて、完成した基板を対向配置し基板の法線方向から見たときに、各基板に形成されたスリットパタンがスリットの幅方向に交互に配置するものとされた第1及び第2のレチクルを作製する工程と、(d)前記第1及び第2のレチクルをそれぞれ転写して、スリットパタンを含む電極パタンの第1及び第2のマスクを、それぞれ前記第1及び第2の透明導電材料膜上に形成する工程と、(e)前記第1のマスクが形成された前記第1の透明導電材料膜をエッチングして、前記第1の基板上に前記第1のスリットパタンを含む第1の透明電極を形成する工程と、(f)前記第2のマスクが形成された前記第2の透明導電材料膜をエッチングして、前記第2の基板上に前記第2のスリットパタンを含む第2の透明電極を形成する工程と、(g)前記第1及び第2の透明電極を覆うように、前記第1及び第2の基板上にそれぞれ第1及び第2の配向膜を形成する工程と、(h)前記第1及び第2の基板を、前記第1及び第2の配向膜を向き合わせ、略平行に対向配置し接着する工程とを有する液晶表示素子の製造方法が提供される。   According to one aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a liquid crystal display element that performs display in a display region including at least one display unit, wherein (a) a first transparent conductive material film is formed on a first substrate. (B) forming a second transparent conductive material film on the second substrate; and (c) data of a region including at least a part of the display region, the region The first and second electrode pattern data of the opposing region including at least one display unit inside and the data of the first and second slit patterns that are relatively aligned with each other are overlaid and completed. The first and second reticles in which the slit patterns formed on each substrate are alternately arranged in the width direction of the slit when the substrates are arranged facing each other and viewed from the normal direction of the substrate And (d) the first and first And (e) forming the first and second masks of the electrode pattern including the slit pattern on the first and second transparent conductive material films, respectively. Etching the first transparent conductive material film on which the mask is formed to form a first transparent electrode including the first slit pattern on the first substrate; and (f) the second. Etching the second transparent conductive material film on which the mask is formed to form a second transparent electrode including the second slit pattern on the second substrate; and (g) the first Forming first and second alignment films on the first and second substrates, respectively, so as to cover the first and second transparent electrodes; and (h) the first and second substrates, The first and second alignment films face each other and are arranged substantially parallel to each other. Method of manufacturing a liquid crystal display device and a step of wearing is provided.

この液晶表示素子の製造方法によれば、マルチドメイン構造を示す、表示品質の良好な液晶表示素子を簡易に製造することができる。   According to this method for manufacturing a liquid crystal display element, a liquid crystal display element having a multi-domain structure and good display quality can be easily manufactured.

また、本発明の他の観点によれば、第1の基板と、前記第1の基板の一方の面上に形成され、2次元状に分布された複数の第1のスリット状開口部を有する第1の透明電極と、前記第1の基板の一方の面上に、前記第1の透明電極を覆うように形成される第1の配向膜と、前記第1の基板に略平行配置される第2の基板と、前記第2の基板の前記第1の基板に対向する面上に形成され、前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、前記第1の透明電極と重なり合って表示単位を含む領域を画定し、かつ前記第1のスリット状開口部と幅方向に交互に配置される2次元状に分布された複数の第2のスリット状開口部を有する第2の透明電極と、前記第2の基板の前記第1の基板に対向する面上に、前記第2の透明電極を覆うように形成される第2の配向膜とを有し、前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、前記表示単位の外周と、前記第1及び第2のスリット状開口部またはその延長との交差部に関して、スリットと外周との交差部の数が、スリットの延長と外周の交差部の数より多い液晶表示素子が提供される。   According to another aspect of the present invention, a first substrate and a plurality of first slit-shaped openings formed on one surface of the first substrate and distributed two-dimensionally are provided. A first transparent electrode, a first alignment film formed on one surface of the first substrate so as to cover the first transparent electrode, and a substantially parallel arrangement with the first substrate. A second substrate and a second transparent electrode formed on a surface of the second substrate facing the first substrate and viewed from a normal direction of the first and second substrates; A second region having a plurality of second slit-like openings distributed in a two-dimensional manner that overlap with each other to define a region including a display unit and are alternately arranged in the width direction with the first slit-like openings. A transparent electrode and a surface of the second substrate facing the first substrate are formed so as to cover the second transparent electrode. A second alignment film, and when viewed from the normal direction of the first and second substrates, an outer periphery of the display unit, and the first and second slit-shaped openings or their extensions, Thus, a liquid crystal display element is provided in which the number of intersections between the slit and the outer periphery is greater than the number of extensions of the slit and the outer intersection.

この液晶表示素子は、マルチドメイン構造を示す、良好な表示品質を有する液晶表示素子である。   This liquid crystal display element is a liquid crystal display element having a good display quality and having a multi-domain structure.

本発明によれば、表示品質の良好な液晶表示素子、及びその簡易な製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a liquid crystal display element with favorable display quality and its simple manufacturing method can be provided.

図1(A)は、液晶表示素子の表示領域を示す概略的な平面図であり、図1(B)及び(C)は、それぞれコモン電極(上側基板32の透明電極36)及びセグメント電極(下側基板31の透明電極35)の概略的な平面図である。   FIG. 1A is a schematic plan view showing a display area of a liquid crystal display element. FIGS. 1B and 1C are respectively a common electrode (transparent electrode 36 of the upper substrate 32) and a segment electrode ( It is a schematic plan view of the transparent electrode 35) of the lower substrate 31.

図1(A)を参照する。表示領域とは、液晶表示素子のうち、文字、図形等の表示を行う領域をいう。図1(A)においては、点線内の矩形状の領域が表示領域70である。表示領域70は、閉じた曲線(輪郭線、外周線)によりその内部に画定され、液晶の配向状態の変化により実際に表示が行われる部分である表示単位71と、表示の際に地の部分としても機能する、それ以外の部分とからなる。本明細書においては、表示領域70及び表示単位71を、上記のように定義する。   Reference is made to FIG. The display area refers to an area in the liquid crystal display element that displays characters, figures, and the like. In FIG. 1A, the rectangular area within the dotted line is the display area 70. The display area 70 is demarcated inside by a closed curve (contour line, outer peripheral line), and a display unit 71 which is a part that is actually displayed by a change in the alignment state of the liquid crystal, and a ground part at the time of display. And other parts that function as well. In this specification, the display area 70 and the display unit 71 are defined as described above.

図1(B)及び(C)を参照する。上側基板32及び下側基板31の法線方向から見たとき、一対の透明電極35、36は重なり合って、表示単位71を含む領域を画定する。   Reference is made to FIGS. 1B and 1C. When viewed from the normal direction of the upper substrate 32 and the lower substrate 31, the pair of transparent electrodes 35 and 36 overlap to define a region including the display unit 71.

図2〜図6を用いて、出願人が行った先の提案(特願2003−044262号)の一部概要を説明する。   A partial outline of the previous proposal made by the applicant (Japanese Patent Application No. 2003-044662) will be described with reference to FIGS.

図2は、先の提案による垂直配向型の液晶表示素子の概略を示す断面図である。図12に示した従来例による液晶表示素子とは、透明電極35、36の構造において相違し、またそれらの配置に工夫がなされている点が異なる。また、垂直配向膜37、38が、ラビング等の特別な配向処理が施されていない、塗布、キュアされただけの垂直配向膜である点も異なっている。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a vertical alignment type liquid crystal display device according to the previous proposal. 12 is different from the liquid crystal display element according to the conventional example shown in FIG. 12 in the structure of the transparent electrodes 35 and 36 and in that the arrangement thereof is devised. Another difference is that the vertical alignment films 37 and 38 are applied and cured vertical alignment films that are not subjected to special alignment processing such as rubbing.

後に詳述するが、透明電極35、36には、たとえば表示単位71内の領域において、略長方形状の複数のスリット35a、36aが2次元面内に規則的に形成されている。そして上側基板32及び下側基板31の法線方向から見たとき、2つの透明電極35、36は、一方の透明電極35に設けられたスリット35aと他方の透明電極36に設けられたスリット36aとが、たとえばスリット35a、36aの長さ方向(長手方向、図2の紙面に垂直な方向)と直交する方向(幅方向、短手方向、図2においては左右方向)に交互に配置されている。   As will be described in detail later, in the transparent electrodes 35 and 36, a plurality of substantially rectangular slits 35a and 36a are regularly formed in a two-dimensional plane, for example, in a region within the display unit 71. When viewed from the normal direction of the upper substrate 32 and the lower substrate 31, the two transparent electrodes 35 and 36 include a slit 35 a provided in one transparent electrode 35 and a slit 36 a provided in the other transparent electrode 36. Are alternately arranged in a direction (width direction, short direction, left-right direction in FIG. 2) orthogonal to the length direction (longitudinal direction, direction perpendicular to the paper surface of FIG. 2) of the slits 35a, 36a. Yes.

図3(A)〜(D)は、液晶表示素子の表示単位71におけるスリット35a、36aの配置を説明するための図である。図3(A)は平面図、図3(B)は断面図、図3(C)は斜視図、そして図3(D)は部分的な平面図である。   3A to 3D are views for explaining the arrangement of the slits 35a and 36a in the display unit 71 of the liquid crystal display element. 3A is a plan view, FIG. 3B is a cross-sectional view, FIG. 3C is a perspective view, and FIG. 3D is a partial plan view.

図3(A)を参照する。図3(A)には、単純セグメント型の垂直配向型液晶表示素子の表示単位71の一例を示した。図示したのは、数字の「1」を表す表示単位71である。前述したように、たとえばこの「1」の文字の輪郭線で囲まれた内側の領域(表示単位71)における透明電極35、36にスリット35a、36aが形成されている。   Reference is made to FIG. FIG. 3A shows an example of the display unit 71 of the vertical alignment type liquid crystal display element of a simple segment type. Shown is a display unit 71 representing the number “1”. As described above, for example, the slits 35a and 36a are formed in the transparent electrodes 35 and 36 in the inner region (display unit 71) surrounded by the outline of the character “1”.

基板の法線方向から見たとき、上側基板32の透明電極36には略長方形状のスリット36a(36a1、36a2、36a3、・・・、36an)が形成され、下側基板31の透明電極35にはスリット35a(35a1、35a2、35a3、・・・、35an)が形成される。たとえば両透明電極35、36の1つ1つのスリット状開口部(スリット35a、及びスリット36a)は合同である。また、両電極35、36のスリット35a、36aは、等しい同一ピッチで2次元面内方向(長さ方向及び幅方向)に形成されている。   When viewed from the normal direction of the substrate, the transparent electrode 36 of the upper substrate 32 is formed with a substantially rectangular slit 36a (36a1, 36a2, 36a3,..., 36an), and the transparent electrode 35 of the lower substrate 31 is formed. Are formed with slits 35a (35a1, 35a2, 35a3,..., 35an). For example, each slit-like opening (slit 35a and slit 36a) of both transparent electrodes 35 and 36 is congruent. The slits 35a, 36a of both electrodes 35, 36 are formed in the same two-dimensional in-plane direction (length direction and width direction) with the same pitch.

スリット35a(35a1、35a2、35a3、・・・、35an)と、スリット36a(36a1、36a2、36a3、・・・、36an)とは、スリットの幅方向(図3(A)においては縦方向)に交互に並ぶように形成、配置される。また、2つの透明電極35、36のスリット35a、36aは、長さ方向のスリットエッジ(開口部の縁)がスリットの幅方向(図3(A)の縦方向)に沿って揃うように形成、配置される。   The slit 35a (35a1, 35a2, 35a3,..., 35an) and the slit 36a (36a1, 36a2, 36a3,..., 36an) are the width direction of the slit (the vertical direction in FIG. 3A). Are arranged and arranged alternately. In addition, the slits 35a and 36a of the two transparent electrodes 35 and 36 are formed so that the slit edge in the length direction (edge of the opening) is aligned along the width direction of the slit (vertical direction in FIG. 3A). Placed.

なお、表示特性を均一に近づけるために、交互に配置される両スリット35a、36a間の幅方向間隔はほぼ一定とするのが望ましい。   In order to bring the display characteristics closer to each other, it is desirable that the interval in the width direction between the slits 35a and 36a arranged alternately is substantially constant.

図3(B)は、図3(A)の3B−3B線に沿った断面図である。2つの透明電極35、36に設けられた略長方形状のスリット35a、36aが、長さ方向(図3(A)における左右方向)と直交する方向(幅方向)に交互に配置されている。   FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line 3B-3B in FIG. The substantially rectangular slits 35a, 36a provided in the two transparent electrodes 35, 36 are alternately arranged in a direction (width direction) orthogonal to the length direction (left-right direction in FIG. 3A).

図3(C)は、図3(A)に示した表示単位71の斜視図である。スリット35a,36aは透明電極35、36の表示単位71内に位置する部分に形成される。   FIG. 3C is a perspective view of the display unit 71 shown in FIG. The slits 35a and 36a are formed in portions of the transparent electrodes 35 and 36 located within the display unit 71.

図3(D)は、図3(A)に示した表示単位71の一部を示した平面図である。スリット35a、36aは、たとえば長さ方向40μm、幅方向20μmの略長方形状に形成される。一つの透明電極上における長さ方向のスリット間隔は20μm、幅方向のスリット間隔は100μmである。この場合、スリット35a、36aは、長さ方向に60μm、幅方向に120μmの一定ピッチで形成されているということになる。なお、基板の法線方向から見たとき、異なる基板の透明電極35a、36aの幅方向のスリット間隔は40μmである。   FIG. 3D is a plan view showing a part of the display unit 71 shown in FIG. The slits 35a and 36a are formed in a substantially rectangular shape having a length direction of 40 μm and a width direction of 20 μm, for example. The slit interval in the length direction on one transparent electrode is 20 μm, and the slit interval in the width direction is 100 μm. In this case, the slits 35a and 36a are formed at a constant pitch of 60 μm in the length direction and 120 μm in the width direction. When viewed from the normal direction of the substrate, the slit interval in the width direction of the transparent electrodes 35a and 36a of different substrates is 40 μm.

図4(A)及び(B)は、先の提案による液晶表示素子の作用及び効果を説明するための断面図である。   4A and 4B are cross-sectional views for explaining the operation and effect of the previously proposed liquid crystal display element.

図4(A)を参照する。図4(A)には、スリット35a、36aの長さ方向(図2の紙面垂直方向)に直交する断面を示した。   Reference is made to FIG. FIG. 4A shows a cross section orthogonal to the length direction of the slits 35a and 36a (the direction perpendicular to the paper surface of FIG. 2).

2つの透明電極35,36間に電圧を印加すると、スリット35a、36aのエッジ付近に斜め電界4(電界の方向が基板の法線方向から傾いた電界)が発生する。基板の法線方向(図4(A)においては上下方向)から見たとき、スリット35a、36aが液晶層39を挟んで幅方向(図4(A)の左右方向)に交互に配置されているため、一方の透明電極に形成される各スリットの縁に生じる斜め電界4の方向は、スリットの一定側では同じ方向(互いに平行な方向)となる。たとえば、図4(A)においては、透明電極35のスリット35aの右側端部に生じる斜め電界4の向きは互いに同じ方向(略平行な方向)であり、左側端部に生じる斜め電界4の向きも互いに同じ方向(略平行な方向)である。そして、1つのスリット35aの両端部に生じる斜め電界4の方向は相互に異なっている(逆向きである)。   When a voltage is applied between the two transparent electrodes 35 and 36, an oblique electric field 4 (an electric field in which the direction of the electric field is tilted from the normal direction of the substrate) is generated near the edges of the slits 35a and 36a. When viewed from the normal direction of the substrate (vertical direction in FIG. 4A), the slits 35a and 36a are alternately arranged in the width direction (horizontal direction of FIG. 4A) with the liquid crystal layer 39 interposed therebetween. Therefore, the direction of the oblique electric field 4 generated at the edge of each slit formed in one transparent electrode is the same direction (direction parallel to each other) on a certain side of the slit. For example, in FIG. 4A, the direction of the oblique electric field 4 generated at the right end of the slit 35a of the transparent electrode 35 is the same direction (substantially parallel direction), and the direction of the oblique electric field 4 generated at the left end. Are also in the same direction (substantially parallel directions). The directions of the oblique electric fields 4 generated at both ends of one slit 35a are different from each other (reverse directions).

この結果、透明電極36のうち、隣り合うスリット36aに挟まれた部分には発生する電界の方向の異なる2つの小領域α、βが画定される。また、1つのスリット36aを挟んで小領域α、βと隣り合う透明電極36の部分にも、電界の方向の相互に異なる2つの小領域γ、δが画定される。小領域αと小領域γにおける電界の方向は同じ向きであり、小領域βと小領域δにおける電界の方向は同じ向きである。   As a result, two small regions α and β having different directions of the generated electric field are defined in the transparent electrode 36 between the adjacent slits 36a. In addition, two small regions γ and δ having different electric field directions are also defined in a portion of the transparent electrode 36 adjacent to the small regions α and β across one slit 36a. The direction of the electric field in the small region α and the small region γ is the same direction, and the direction of the electric field in the small region β and the small region δ is the same direction.

このように電界を発生させることで、液晶分子の倒れこむ方向を制御することができる。   By generating the electric field in this way, the direction in which the liquid crystal molecules fall can be controlled.

図4(B)を参照する。図4(B)は、斜め電界4によって液晶分子39aが倒れる方向を示す概略的な断面図である。1つのスリット36aの両端部に発生する異なる方向の斜め電界4によって、液晶分子39aが異なる方向(逆方向)に倒れている。   Reference is made to FIG. FIG. 4B is a schematic cross-sectional view showing the direction in which the liquid crystal molecules 39 a are tilted by the oblique electric field 4. The liquid crystal molecules 39a are tilted in different directions (reverse directions) by the oblique electric fields 4 in different directions generated at both ends of one slit 36a.

このため図4(A)における小領域αと小領域βにおいては、液晶分子39aの倒れる方向が異なり、小領域γと小領域δにおいてもまた同様である。小領域αと小領域γ、及び小領域βと小領域δにおいては、液晶分子39aの倒れる方向は同じである。したがって2ドメインの配向構造を実現することができる。   Therefore, in the small region α and the small region β in FIG. 4A, the direction in which the liquid crystal molecules 39a are tilted is different, and the same applies to the small region γ and the small region δ. In the small region α and the small region γ, and in the small region β and the small region δ, the liquid crystal molecules 39a are tilted in the same direction. Therefore, a two-domain alignment structure can be realized.

図5は、単純マトリクス型ドットマトリクスタイプの液晶表示素子の表示領域70の一部を示す平面図である。上側基板32の透明電極36(コモン電極)及び下側基板31の透明電極35(セグメント電極)は、たとえばともに棒状に形成され、棒状の両電極は、基板(上側基板32及び下側基板31)の法線方向から見たとき互いに交差、たとえば直交するように配置される。棒状の両電極が交差している領域が表示単位71に相当する。透明電極35(セグメント電極)のスリット状開口部(スリット35a)と透明電極36(コモン電極)のスリット状開口部(スリット36a)とはたとえば合同な略長方形状に形成されている。また、両電極のスリット状開口部は、等しい同一ピッチで長さ方向及び幅方向に形成されている。また、棒状の透明電極36(コモン電極)には、その延在方向とスリット36aの幅方向とが平行となるように、スリット36aが形成されている。棒状の透明電極35(セグメント電極)には、その延在方向とスリット35aの長さ方向とが平行となるように、スリット35aが形成されている。両電極35、36のスリット35a、36aは基板の法線方向から見たとき、たとえば棒状の透明電極36(コモン電極)の延在方向に交互に並ぶように形成、配置される。また、たとえば2つの透明電極35、36のスリット35a、36aが、長さ方向のスリットエッジ(開口部の縁)がスリットの幅方向に沿って揃うように配置される。   FIG. 5 is a plan view showing a part of the display area 70 of the simple matrix type dot matrix type liquid crystal display element. The transparent electrode 36 (common electrode) of the upper substrate 32 and the transparent electrode 35 (segment electrode) of the lower substrate 31 are both formed in a rod shape, for example, and both rod-shaped electrodes are substrates (upper substrate 32 and lower substrate 31). When viewed from the normal line direction, they are arranged to cross each other, for example, to be orthogonal to each other. A region where the rod-shaped electrodes intersect corresponds to the display unit 71. The slit-shaped opening (slit 35a) of the transparent electrode 35 (segment electrode) and the slit-shaped opening (slit 36a) of the transparent electrode 36 (common electrode) are formed in, for example, a congruent substantially rectangular shape. In addition, the slit-shaped openings of both electrodes are formed in the length direction and the width direction at the same pitch. The rod-shaped transparent electrode 36 (common electrode) is formed with slits 36a so that the extending direction thereof is parallel to the width direction of the slits 36a. In the rod-shaped transparent electrode 35 (segment electrode), a slit 35a is formed so that the extending direction thereof is parallel to the length direction of the slit 35a. The slits 35a, 36a of both the electrodes 35, 36 are formed and arranged so as to be alternately arranged in the extending direction of, for example, the rod-like transparent electrode 36 (common electrode) when viewed from the normal direction of the substrate. Further, for example, the slits 35a and 36a of the two transparent electrodes 35 and 36 are arranged so that the slit edges (edges of the opening) in the length direction are aligned along the width direction of the slits.

表示領域70内において、このように透明電極35、36が形成、配置されるドットマトリクスタイプの液晶表示素子の場合も、図4(A)及び(B)を参照して説明した効果と同様の効果を得ることができる。   In the case of the dot matrix type liquid crystal display element in which the transparent electrodes 35 and 36 are formed and arranged in this manner in the display region 70, the same effect as described with reference to FIGS. An effect can be obtained.

図6は、ドットマトリクスタイプの他の例であるTFTアクティブマトリクス液晶表示素子の数個の画素を示す概略的な平面図である。たとえば一方の透明なガラス基板上にアモルファスシリコンでつくられた複数のTFT素子20と、ITOでつくられた透明電極35(画素電極)とが形成されている。更に、TFT素子20のソース電極Sとゲート電極Gにそれぞれ接続されるソースライン(信号線)22とゲートライン(走査線)23とが形成され、TFT素子20によりドレイン電極Dを介して透明電極35(画素電極)に駆動信号が伝えられる。対向する他方の透明なガラス基板上には、ITOでつくられた全面共通の透明電極36(コモン電極)が形成されている。   FIG. 6 is a schematic plan view showing several pixels of a TFT active matrix liquid crystal display element which is another example of the dot matrix type. For example, a plurality of TFT elements 20 made of amorphous silicon and a transparent electrode 35 (pixel electrode) made of ITO are formed on one transparent glass substrate. Further, a source line (signal line) 22 and a gate line (scanning line) 23 respectively connected to the source electrode S and the gate electrode G of the TFT element 20 are formed, and a transparent electrode is formed by the TFT element 20 via the drain electrode D. A drive signal is transmitted to 35 (pixel electrode). A common transparent electrode 36 (common electrode) made of ITO is formed on the other opposing transparent glass substrate.

図3(A)に示した表示単位71のスリットと同様に、対向する透明電極35、36には、基板の法線方向から見たとき、略長方形状のスリット35a、36aがスリットの幅方向に交互に並ぶように形成、配置される。なお、この点以外についてもスリット35a、36aの形成、配置は、図3(A)を参照して行った説明と同様である。   Similar to the slits of the display unit 71 shown in FIG. 3A, the opposing transparent electrodes 35 and 36 have substantially rectangular slits 35a and 36a in the width direction of the slit when viewed from the normal direction of the substrate. Are arranged and arranged alternately. Except for this point, the formation and arrangement of the slits 35a and 36a are the same as those described with reference to FIG.

このようにスリット35a、36aが形成、配置されるTFTアクティブマトリクス液晶表示素子の場合も、図4(A)及び(B)を参照して説明した効果と同様の効果を得ることができる。   In the case of the TFT active matrix liquid crystal display element in which the slits 35a and 36a are formed and arranged as described above, the same effects as those described with reference to FIGS. 4A and 4B can be obtained.

出願人は先の出願(特願2003−044262号)において、以上のような液晶表示素子の提案を行った。   The applicant has proposed the liquid crystal display element as described above in the previous application (Japanese Patent Application No. 2003-044262).

以下、本発明の実施例として、先の提案に係る液晶表示素子の製造方法について説明する。なお、先の提案においては、上記液晶表示素子の製造方法について十分な開示を行わなかったため、本発明の実施例とともに説明する。   Hereinafter, as an embodiment of the present invention, a method for manufacturing a liquid crystal display element according to the above proposal will be described. In the previous proposal, the manufacturing method of the liquid crystal display element has not been sufficiently disclosed, and therefore will be described together with examples of the present invention.

図7(A)〜(E)は、図3(A)〜(D)に表示単位71を示したような単純セグメント型の垂直配向液晶表示素子の製造方法の一例を説明するための概略図である。   7A to 7E are schematic diagrams for explaining an example of a method for manufacturing a simple segment type vertically aligned liquid crystal display element having the display unit 71 shown in FIGS. 3A to 3D. It is.

図7(A)を参照する。たとえば透明なガラス基板である透明基板33上に、たとえばITOである透明導電材料膜を、たとえばスパッタリングで製膜する。   Reference is made to FIG. For example, a transparent conductive material film made of ITO, for example, is formed on the transparent substrate 33 which is a transparent glass substrate, for example, by sputtering.

図7(B)を参照する。ITO膜上に所定のパタンを有するマスク90を形成し、エッチングを行う。マスク90は、その一部にスリットパタンを有する。マスク90とその作製方法については後に詳述する。   Reference is made to FIG. A mask 90 having a predetermined pattern is formed on the ITO film, and etching is performed. The mask 90 has a slit pattern in a part thereof. The mask 90 and a manufacturing method thereof will be described in detail later.

図7(C)を参照する。エッチングにより所定の形状にパターニングすることで、透明基板33上に、マスク90を転写したスリット35aを備える透明電極35が形成される。スリット35aは、たとえば液晶表示素子の表示単位71の内部にのみ形成される。透明基板33上に透明電極35を覆うように垂直配向膜37、たとえば日産化学工業製SE−1211を、厚さ500Åに塗布、キュアし、下側基板31を得る。垂直配向膜37は、液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直に配向させる。垂直配向膜は、35N/m〜39N/mの表面自由エネルギを有することが望ましい。   Reference is made to FIG. By patterning into a predetermined shape by etching, the transparent electrode 35 including the slit 35a to which the mask 90 is transferred is formed on the transparent substrate 33. The slit 35a is formed only inside the display unit 71 of the liquid crystal display element, for example. A vertical alignment film 37, for example, SE-1211 manufactured by Nissan Chemical Industries, is applied and cured to a thickness of 500 mm so as to cover the transparent electrode 35 on the transparent substrate 33, whereby the lower substrate 31 is obtained. The vertical alignment film 37 aligns liquid crystal molecules on average approximately perpendicular to the surface. The vertical alignment film desirably has a surface free energy of 35 N / m to 39 N / m.

図7(D)を参照する。図7(A)〜(C)を参照して説明した工程と同様の工程によって、上側基板32を得る。上側基板32は、透明基板34、透明基板34上に形成されたスリット36aを有する透明電極36、及び透明基板34、透明電極36上に塗布、キュアされた垂直配向膜38を含む。垂直配向膜38も、たとえば厚さが500Åで、液晶分子を平均的に表面に対してほぼ垂直に配向させる。上側基板32の透明電極36の形成時に用いるマスクも、その一部にスリットパタンを有する。この点についても後に詳述する。   Reference is made to FIG. The upper substrate 32 is obtained by a process similar to the process described with reference to FIGS. The upper substrate 32 includes a transparent substrate 34, a transparent electrode 36 having a slit 36 a formed on the transparent substrate 34, and a vertical alignment film 38 coated and cured on the transparent substrate 34 and the transparent electrode 36. The vertical alignment film 38 also has a thickness of 500 mm, for example, and aligns liquid crystal molecules substantially perpendicularly to the surface on average. The mask used when forming the transparent electrode 36 of the upper substrate 32 also has a slit pattern in a part thereof. This point will also be described in detail later.

図7(E)を参照する。上側基板32と下側基板31とを、垂直配向膜37、38が形成された面を向き合わせ略平行に対向配置し接着する。   Reference is made to FIG. The upper substrate 32 and the lower substrate 31 are bonded to each other with the surfaces on which the vertical alignment films 37 and 38 are formed facing each other substantially in parallel.

上側基板32及び下側基板31の法線方向から見たとき、透明電極35の複数のスリット35aと透明電極36の複数のスリット36aとが、スリットの幅方向に交互に配置される。その他の点についても、スリット35a、36aが図3(A)〜(D)を用いて説明した配置となる。略長方形状のスリット35a、36aの長さ方向のスリットエッジがスリットの幅方向に沿って揃うようにするだけでなく、後述するように、幅方向に隣り合うスリット35a、36aが、長さ方向に半ピッチだけずれるようにしてもよい。なお、上記の配置が実現されるように、レチクルが作製される。レチクルの作製については後述する。   When viewed from the normal direction of the upper substrate 32 and the lower substrate 31, the plurality of slits 35 a of the transparent electrode 35 and the plurality of slits 36 a of the transparent electrode 36 are alternately arranged in the slit width direction. In other respects, the slits 35a and 36a are arranged as described with reference to FIGS. Not only the slit edges in the length direction of the substantially rectangular slits 35a and 36a are aligned along the width direction of the slit, but also the slits 35a and 36a adjacent in the width direction are arranged in the length direction as described later. Alternatively, it may be shifted by a half pitch. The reticle is manufactured so that the above arrangement is realized. The fabrication of the reticle will be described later.

接着はたとえばセル周辺に紫外線硬化型のメインシール剤を塗布し、直径4μmのギャップコントロール剤(たとえば触媒化成工業製シリカビーズ)を散布した後、重ね合わせ、紫外線を照射してメインシール剤を硬化させることにより行う。こうして空セルを作製する。   For adhesion, for example, a UV curable main sealant is applied to the periphery of the cell, a 4 μm diameter gap control agent (for example, silica beads manufactured by Catalyst Chemical Industries, Ltd.) is sprayed, and then superimposed and irradiated with UV to cure the main sealant. To do. An empty cell is thus produced.

空セルをセル単位で切断し、真空注入法でたとえばメルク社製の複屈折率0.15の液晶39aを注入し、液晶層39を形成する。注入口を封止して、液晶セルを完成させる。液晶セルの上側基板32に視角補償フィルム40、たとえば住友化学工業製VAC−C180フィルムを略平行配置し、視角補償フィルム40に偏光板41を略平行配置する。また、下側基板31に偏光板42を略平行配置する。たとえば両偏光板41、42は、直交ニコル状態に配置する。   The empty cells are cut in units of cells, and a liquid crystal layer 39 is formed by injecting, for example, a liquid crystal 39a having a birefringence of 0.15 manufactured by Merck by a vacuum injection method. The inlet is sealed to complete the liquid crystal cell. A viewing angle compensation film 40, for example, a VAC-C180 film manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., is arranged substantially in parallel on the upper substrate 32 of the liquid crystal cell, and a polarizing plate 41 is arranged substantially in parallel on the viewing angle compensation film 40. Further, the polarizing plate 42 is arranged substantially in parallel on the lower substrate 31. For example, both polarizing plates 41 and 42 are arranged in a crossed Nicols state.

上記のような工程を経て、図2に示したような液晶表示素子が作製される。   Through the steps as described above, the liquid crystal display device as shown in FIG. 2 is manufactured.

透明電極35,36にスリット35a、36aを形成するためのマスクについて説明する。   A mask for forming the slits 35a and 36a in the transparent electrodes 35 and 36 will be described.

マスクは、CADを用いて設計することができる。表示単位71ごとにその内部でスリット35a、36aが、高い対称性で配置されるように、マスクを設計する。図3(A)には、「1」という表示単位71の斜めになっていない輪郭部分(たとえば「1」の縦棒部分)については、輪郭線と、それに隣接したスリット35a、36aの端部との距離が左右で等しくなるようにスリット35a、36aが形成されている場合を示してある。CAD上では、このスリット配置に対応したマスクの設計を行う。なお、高対称性でスリットを配置するために、異なる表示単位71ごとにスリットの設計を行う。また、異なる表示単位71では、異なるサイズのスリットを形成することもありうる。   The mask can be designed using CAD. The mask is designed so that the slits 35a and 36a are arranged with high symmetry in each display unit 71. In FIG. 3A, for the contour portion (for example, a vertical bar portion of “1”) of the display unit 71 “1”, the contour line and the end portions of the slits 35a and 36a adjacent to the contour line. The slits 35a and 36a are formed so that the distance between them is equal on the left and right. On CAD, a mask corresponding to this slit arrangement is designed. In addition, in order to arrange the slits with high symmetry, the slits are designed for each different display unit 71. Further, in different display units 71, slits having different sizes may be formed.

表示単位71内で、スリット35a、36aを高い対称性で形成することは、ある種の表示品質の低下(たとえば表示単位71の輪郭線が強調されて見えるなど)の抑制に貢献する。   Forming the slits 35a and 36a with high symmetry in the display unit 71 contributes to suppression of a certain kind of deterioration in display quality (for example, the outline of the display unit 71 appears to be emphasized).

しかし、7セグメント表示以外のセグメント表示を行う場合に、異なった形状の表示単位71(たとえば「1」、「2」等)ごとに、高い対称性でスリットが形成されるように、CAD上でマスクの設計を行う方法は、作業効率が高いとはいえない。   However, when performing a segment display other than the 7-segment display, on the CAD, a slit is formed with high symmetry for each display unit 71 having a different shape (for example, “1”, “2”, etc.). The method of designing a mask cannot be said to have high work efficiency.

なお、7セグメント表示電極、図5に示したようなドットマトリクス表示電極、図6に示したようなアクティブマトリクス表示電極を作製する場合は、上記の方法によっても、7セグメント表示電極以外のセグメント表示電極を作製する場合ほど作業効率は悪くない。これは、7セグメント表示電極は定まった電極パタンの繰り返しで形成されているためである。また、ドットマトリクス表示電極やアクティブマトリクス表示電極の場合は、決まった形の画素を多数一画面上に並べているため、スリットを表示電極に高い対称性で配置する場合であっても、一つの画素に対して設計を行い、それをすべての画素について繰り返せばよいためである。   In the case where a 7-segment display electrode, a dot matrix display electrode as shown in FIG. 5 and an active matrix display electrode as shown in FIG. 6 are produced, the segment display other than the 7-segment display electrode is also performed by the above method. The working efficiency is not as bad as when an electrode is produced. This is because the 7-segment display electrode is formed by repeating a predetermined electrode pattern. In the case of a dot matrix display electrode or an active matrix display electrode, a large number of pixels having a predetermined shape are arranged on one screen, so even if the slits are arranged with high symmetry on the display electrode, This is because the design is performed on the pixels and it is repeated for all the pixels.

作業効率を高めるため、以下に記すようなマスクの作製方法が有効である。   In order to increase the working efficiency, a mask manufacturing method as described below is effective.

図8(A)及び(B)は、マスクを作製する際に用いるスリットパタンの概略を示す図である。図8(A)には、下側基板31の透明電極35(セグメント電極)にスリット35aを形成するためのマスク作製時に使用するスリットパタンを示し、図8(B)には、上側基板32の透明電極36(コモン電極)にスリット36aを形成するためのマスク作製時に使用するスリットパタンを示した。   FIGS. 8A and 8B are diagrams showing an outline of a slit pattern used when manufacturing a mask. FIG. 8A shows a slit pattern used at the time of manufacturing a mask for forming the slit 35a in the transparent electrode 35 (segment electrode) of the lower substrate 31, and FIG. The slit pattern used at the time of mask production for forming the slit 36a in the transparent electrode 36 (common electrode) is shown.

両図に示すスリットパタンとも、長さ方向100μm、幅方向20μmの略長方形状のスリットが、長さ方向及び幅方向に一定間隔(長さ方向に20μm間隔、幅方向に100μm間隔)で形成されている。このため、これらのスリットパタンは、長さ方向に120μm、幅方向に120μmの一定ピッチで、略長方形状のスリットが形成されているスリットパタンということになる。なお、図8(A)及び(B)に示すスリットパタンにおけるスリットのサイズ及びスリット間の間隔は、マスクに形成されるスリットにおけるそれらと同一とした。   In both of the slit patterns shown in the drawings, substantially rectangular slits having a length direction of 100 μm and a width direction of 20 μm are formed at regular intervals in the length direction and the width direction (20 μm intervals in the length direction and 100 μm intervals in the width direction). ing. For this reason, these slit patterns are slit patterns in which substantially rectangular slits are formed at a constant pitch of 120 μm in the length direction and 120 μm in the width direction. In addition, the size of the slit and the space | interval between slits in the slit pattern shown to FIG. 8 (A) and (B) were made the same as those in the slit formed in a mask.

両図において、センターラインは直交する2直線である。図8(A)及び(B)のセンターラインを重ねたとき、両図のスリットがたとえば略長方形状のスリットの幅方向に等間隔で交互に並ぶように、かつ長さ方向のスリットエッジ(開口部の縁)がスリットの幅方向に沿って揃うように、両図のセンターラインは画定されている。   In both figures, the center line is two orthogonal straight lines. When the center lines in FIGS. 8A and 8B are overlapped, the slit edges (openings) in the length direction are arranged so that the slits in both figures are alternately arranged at equal intervals in the width direction of the substantially rectangular slit, for example. The center lines in both figures are defined so that the edges of the portions are aligned along the width direction of the slit.

図9(A)及び(B)は、マスクを作製する工程の一部を説明するための概略的な図であり、(C)及び(D)は、作製されたマスクを示す概略的な平面図である。   FIGS. 9A and 9B are schematic views for explaining a part of a process for manufacturing a mask, and FIGS. 9C and 9D are schematic plan views showing the manufactured mask. FIG.

図9(A)を参照する。液晶表示素子の表示領域70の少なくとも一部の領域を含む領域のデータであって、その領域内に少なくとも1つの表示単位71を含む対向領域のデータ(セグメント電極及びコモン電極の電極パタンのデータ)に対して、たとえばある決まった繰り返しパタンでスリット配置を仮定する。たとえば、図8(A)及び(B)に示したスリットパタンをセンターラインに関して位置合わせをして重ねたスリット配置を考える。   Reference is made to FIG. Data of an area including at least a part of the display area 70 of the liquid crystal display element, and data of an opposing area including at least one display unit 71 in the area (data of electrode patterns of segment electrodes and common electrodes) On the other hand, for example, a slit arrangement is assumed with a certain repetitive pattern. For example, consider a slit arrangement in which the slit patterns shown in FIGS. 8A and 8B are aligned with respect to the center line and overlapped.

図9(B)を参照する。たとえば、仮配置されたスリットパタンと表示単位71とが重なり合う部分のみにスリットパタンを設けて、スリットパタンを含む電極パタンのレチクルを、たとえば石英基板上に作製する。実線で記したスリットパタン(図8(B)に示したスリットパタン)と点線で記したスリットパタン(図8(A)に示したスリットパタン)をそれぞれ用いて、それぞれのスリットパタンに対応したスリットを有する2枚の石英基板上のレチクルが作製される。次に、透明基板33、34上のITO膜上にたとえばフォトレジスト層を積層し、2枚の石英基板上のレチクルを、それぞれ各フォトレジスト層に縮小転写して各透明基板33、34上のITO膜上に、石英基板上のレチクルに対応するマスクを形成する。これらマスクによってスリット35a、36aを有する透明電極35、36が形成される。   Reference is made to FIG. For example, a slit pattern is provided only in a portion where the temporarily arranged slit pattern and the display unit 71 overlap, and an electrode pattern reticle including the slit pattern is produced on, for example, a quartz substrate. A slit corresponding to each slit pattern using a slit pattern indicated by a solid line (slit pattern shown in FIG. 8B) and a slit pattern indicated by a dotted line (slit pattern shown in FIG. 8A), respectively. A reticle on two quartz substrates having Next, for example, a photoresist layer is laminated on the ITO film on the transparent substrates 33 and 34, and the reticles on the two quartz substrates are reduced and transferred to the photoresist layers, respectively. A mask corresponding to the reticle on the quartz substrate is formed on the ITO film. Transparent electrodes 35 and 36 having slits 35a and 36a are formed by these masks.

なお、図9(A)及び(B)においては、説明の便宜のため、セグメント電極及びコモン電極の電極パタンのうち、表示単位71部分のデータのみを示してある。   9A and 9B, for the convenience of explanation, only the data of the display unit 71 portion of the electrode patterns of the segment electrode and the common electrode is shown.

レチクルの作製にあっては、CAD上で上記の工程に対応した操作を行うのではなく、レチクルを作製する段階で、表示領域70内の表示単位71を含む領域の電極パタンデータとスリットパタンのデータの重ね合わせを行い、描画を行う。   In the production of the reticle, the operation corresponding to the above steps is not performed on the CAD, but the electrode pattern data and the slit pattern of the area including the display unit 71 in the display area 70 are produced at the stage of producing the reticle. Overlay data and draw.

上述のようにマスクを作製した場合、たとえばセグメント表示単位71の1つ1つに対して個別にスリットの設計を行う必要がなく、簡易に、高い作業効率で液晶表示素子を製造することができる。   When the mask is manufactured as described above, for example, it is not necessary to individually design a slit for each of the segment display units 71, and a liquid crystal display element can be manufactured easily and with high work efficiency. .

図9(C)は、コモン電極を作製するためのマスクを示し、図9(D)は、セグメント電極を作製するためのマスクを示す。電極パタンデータとスリットパタンデータを重ね合わせてスリット状開口部を形成することで、電極パタンデータに従った輪郭と、スリットパタンデータに従ったスリット状開口部を有するマスクを作製することができる。コモン電極及びセグメント電極は、これらのマスクを転写して作製するため、これらマスクとほぼ同形状を有する。なお、図9(C)においては、参照の便に供するため、表示単位71に相当する部分を一点鎖線で記した。   FIG. 9C shows a mask for manufacturing a common electrode, and FIG. 9D shows a mask for manufacturing a segment electrode. By superimposing the electrode pattern data and the slit pattern data to form a slit-shaped opening, a mask having an outline according to the electrode pattern data and a slit-shaped opening according to the slit pattern data can be produced. Since the common electrode and the segment electrode are produced by transferring these masks, they have substantially the same shape as these masks. In FIG. 9C, a portion corresponding to the display unit 71 is indicated by a one-dot chain line for use as a reference convenience.

図10は、上記のような工程を採用してマスクを作製し、そのマスクを用いて透明電極35、36を形成した固体撮像素子の表示単位71を基板の法線方向から撮影した顕微鏡写真である。「T」の文字を表す表示単位71について、その縦棒部分の一部を撮影した。   FIG. 10 is a photomicrograph obtained by photographing the display unit 71 of the solid-state imaging device in which the transparent electrodes 35 and 36 are formed using the mask by using the above-described steps and from the normal direction of the substrate. is there. A part of the vertical bar portion of the display unit 71 representing the character “T” was photographed.

白っぽく写っているのが透明電極35、36であり、黒い横長の(図の左右方向に長い)長方形状に写っているのがスリット35a、36aである。縦棒部分の中央線を縦方向に画定するとした場合、当該中央線に関して、表示単位71内に配置されるスリット35a、36aの対称性が崩れているのがわかる。また、たとえば図3(A)に示した「1」の文字を表す表示単位71の縦棒部分においては、その輪郭線と透明電極35、36の開口部(スリット35a、36a)の縁が交差していないのに対し、図10に示した写真においては両者が交差している。   The transparent electrodes 35 and 36 appear whitish, and the slits 35a and 36a appear in a black horizontally long (long in the left-right direction in the figure) rectangle. When the center line of the vertical bar portion is defined in the vertical direction, it can be seen that the symmetry of the slits 35a and 36a arranged in the display unit 71 is broken with respect to the center line. Further, for example, in the vertical bar portion of the display unit 71 representing the character “1” shown in FIG. 3A, the contour line and the edges of the openings (slits 35a, 36a) of the transparent electrodes 35, 36 intersect. In contrast, in the photograph shown in FIG. 10, the two intersect.

上述のように作製したマスクを用いて表示単位71内の透明電極35、36にスリット35a、36aを設けた場合、稀なケースを除いて、表示単位71内の透明電極35、36のスリット35a、36aの対称性は崩れることになるであろう。また、表示単位71の外周線とスリット35a、36aの縁とは交差するであろう。更に、基板の法線方向から見たとき、多くの場合、ある表示単位71の外周線と透明電極35、36のスリット状開口部(スリット35a、36a)との交差部、及び外周線とスリット状開口部を長さ方向に延長したときのその延長との交差部に関して、前者の数が後者の数よりも多いであろう。   When the slits 35a and 36a are provided in the transparent electrodes 35 and 36 in the display unit 71 using the mask manufactured as described above, the slits 35a of the transparent electrodes 35 and 36 in the display unit 71 are excluded except in rare cases. , 36a will be broken. Further, the outer peripheral line of the display unit 71 and the edges of the slits 35a and 36a will intersect. Further, when viewed from the normal direction of the substrate, in many cases, the outer peripheral line of a certain display unit 71 and the intersection of the slit-like openings (slits 35a and 36a) of the transparent electrodes 35 and 36, and the outer peripheral line and the slit. The number of the former will be greater than the number of the latter with respect to the intersection with the extension when the elongated opening is extended in the longitudinal direction.

なお、スリット35a、36aが黒いラインで図の左右方向に繋がっているように見えるが、スリット間に見えるこの黒いラインは、配向の不整合面が現れたディスクリネーションラインである。ディスクリネーションラインは、たとえば液晶の応答のチルト方向が切り替わる境界に発生する。   Although the slits 35a and 36a appear to be connected in the horizontal direction in the figure with black lines, the black lines that are visible between the slits are disclination lines in which an alignment mismatch surface appears. The disclination line is generated at the boundary where the tilt direction of the response of the liquid crystal is switched, for example.

図10に表示単位71の一部を示した液晶表示素子の表示を観察したところ、エッジ部の偏った輪郭の強調等の不具合は発生せず、良好な表示特性の表示が得られることが確認された。すなわち、図9(A)及び(B)を用いて説明したマスクの作製方法を用いて作製したマスクでスリット35a、36aを形成した透明電極35、36を使用した液晶表示素子も、良好な表示特性を有することがわかった。   When the display of the liquid crystal display element showing a part of the display unit 71 in FIG. 10 is observed, it is confirmed that there is no defect such as emphasis on the contour with a biased edge portion and a display with good display characteristics can be obtained. It was done. That is, the liquid crystal display element using the transparent electrodes 35 and 36 in which the slits 35a and 36a are formed with the mask manufactured using the mask manufacturing method described with reference to FIGS. It was found to have characteristics.

図9(A)及び(B)においては、7セグメント表示タイプ以外のセグメント表示タイプの液晶表示素子を例にとって説明したが、7セグメント表示タイプの液晶表示素子、ドットマトリクス表示タイプの液晶表示素子、及びアクティブマトリクスタイプの液晶表示素子の製造についても適用可能である。   9A and 9B, the segment display type liquid crystal display element other than the 7 segment display type has been described as an example, but the 7 segment display type liquid crystal display element, the dot matrix display type liquid crystal display element, The present invention can also be applied to the production of an active matrix type liquid crystal display element.

図11は、液晶表示素子の表示単位71の一部を示した概略的な平面図である。基板の法線方向から見た透明電極のスリットの他の配置例を示した。図3(D)においては、スリットの長さ方向のエッジが幅方向に沿って揃っている液晶表示素子を示したが、図11に示す液晶表示素子においては、上下基板間で透明電極35、36のスリット35a、36aのエッジは揃っていない。幅方向に隣り合うスリットが、長手方向に半ピッチずれている。このようにスリットを配置した場合も斜め電界を発生させることができ、マルチドメインによる良好な表示品質を実現することができる。   FIG. 11 is a schematic plan view showing a part of the display unit 71 of the liquid crystal display element. The other example of arrangement | positioning of the slit of the transparent electrode seen from the normal line direction of the board | substrate was shown. 3D shows the liquid crystal display element in which the edges in the length direction of the slit are aligned along the width direction. In the liquid crystal display element shown in FIG. The edges of the 36 slits 35a, 36a are not aligned. Slits adjacent in the width direction are shifted by a half pitch in the longitudinal direction. Even when the slits are arranged in this manner, an oblique electric field can be generated, and good display quality by multi-domain can be realized.

図11に示したようなスリット配置の液晶表示素子は、たとえば図8(A)及び(B)に示したスリットパタンを、センターラインを重ねる位置から相対的にスリットの長さ方向に1/2ピッチだけずらして作製したマスクを用いて製造することができる。   In the liquid crystal display element having the slit arrangement as shown in FIG. 11, for example, the slit pattern shown in FIGS. 8A and 8B is ½ in the slit length direction relative to the position where the center lines are overlapped. It can be manufactured using a mask manufactured by shifting the pitch.

なお、実施例を説明する図においては、たとえば「1」という文字の横方向とスリットの長さ方向とが平行な方向となるように、透明電極が形成、配置されるように図示してあるが、たとえば文字の横方向とスリットの長さ方向とが交差するように(たとえばスリットの長さ方向が文字の横方向に対して斜めとなるように)透明電極を形成、配置することもできる。   In the drawings for explaining the embodiments, for example, the transparent electrodes are formed and arranged so that the horizontal direction of the character “1” and the length direction of the slit are parallel to each other. However, for example, the transparent electrode can be formed and arranged so that the horizontal direction of the character and the length direction of the slit intersect (for example, the length direction of the slit is oblique to the horizontal direction of the character). .

また、実施例においては、垂直配向型の液晶表示素子を取り上げたが、TN型液晶表示素子やSTN型液晶表示素子等に適用することも可能である。   In the embodiments, the vertical alignment type liquid crystal display element is taken up, but the present invention can also be applied to a TN type liquid crystal display element, an STN type liquid crystal display element, or the like.

以上、実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。   As mentioned above, although this invention was demonstrated along the Example, this invention is not limited to these. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

スリットを備える透明電極を有する液晶表示素子、及びその製造に利用可能である。   The present invention can be used for a liquid crystal display element having a transparent electrode provided with a slit and its manufacture.

液晶表示素子の表示領域を示す概略的な平面図であり、(B)及び(C)は、それぞれコモン電極(上側基板32の透明電極36)及びセグメント電極(下側基板31の透明電極35)の概略的な平面図である。It is a schematic plan view which shows the display area of a liquid crystal display element, (B) and (C) are a common electrode (transparent electrode 36 of the upper side substrate 32) and a segment electrode (transparent electrode 35 of the lower side substrate 31), respectively. FIG. 先の提案による垂直配向型の液晶表示素子の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of the vertical alignment type liquid crystal display element by a previous proposal. (A)〜(D)は、液晶表示素子の表示単位71におけるスリット35a、36aの配置を説明するための図である。(A)-(D) are the figures for demonstrating arrangement | positioning of the slits 35a and 36a in the display unit 71 of a liquid crystal display element. (A)及び(B)は、先の提案による液晶表示素子の作用及び効果を説明するための断面図である。(A) And (B) is sectional drawing for demonstrating the effect | action and effect of the liquid crystal display element by a previous proposal. 単純マトリクス型ドットマトリクスタイプの液晶表示素子の表示領域70の一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of display area 70 of a liquid crystal display element of a simple matrix type dot matrix type. ドットマトリクスタイプの他の例であるTFTアクティブマトリクス液晶表示素子の数個の画素を示す概略的な平面図である。It is a schematic top view which shows several pixels of the TFT active matrix liquid crystal display element which is another example of a dot matrix type. (A)〜(E)は、図3(A)〜(D)に表示単位71を示したような単純セグメント型の垂直配向液晶表示素子の製造方法の一例を説明するための概略図である。FIGS. 3A to 3E are schematic views for explaining an example of a method for manufacturing a simple segment type vertically aligned liquid crystal display element having the display unit 71 shown in FIGS. . (A)及び(B)は、マスクを作製する際に用いるスリットパタンの概略を示す図である。(A) And (B) is a figure which shows the outline of the slit pattern used when producing a mask. (A)及び(B)は、マスクを作製する工程の一部を説明するための概略的な図であり、(C)及び(D)は、作製されたマスクを示す概略的な平面図である。(A) And (B) is a schematic diagram for demonstrating a part of process of producing a mask, (C) And (D) is a schematic plan view which shows the produced mask. is there. 作製したマスクを用いて透明電極35、36を形成した固体撮像素子の表示単位71を基板の法線方向から撮影した顕微鏡写真である。It is the microscope picture which image | photographed the display unit 71 of the solid-state image sensor which formed the transparent electrodes 35 and 36 using the produced mask from the normal line direction of the board | substrate. 液晶表示素子の表示単位71の一部を示した概略的な平面図である。It is the schematic plan view which showed a part of display unit 71 of a liquid crystal display element. 垂直配向型の液晶表示素子(Liquid Crystal Display)の従来例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the prior art example of a liquid crystal display element (Liquid Crystal Display) of a vertical alignment type.

符号の説明Explanation of symbols

4 斜め電界
20 TFT素子
22 ソースライン
23 ゲートライン
31 下側基板
32 上側基板
33、34 透明基板
35、36 透明電極
35a、35a1、・・、35an スリット
36a、36a1、・・、36an スリット
37、38 垂直配向膜
39 液晶層
39a 液晶
40 視角補償フィルム
41、42 偏光板
43 電圧印加手段
50 垂直配向型LCD
70 表示領域
71 表示単位
90 マスク
D ドレイン電極
G ゲート電極
S ソース電極
α、β、γ、δ 小領域
4 oblique electric field 20 TFT element 22 source line 23 gate line 31 lower substrate 32 upper substrate 33, 34 transparent substrate 35, 36 transparent electrode 35a, 35a1,..., 35an slit 36a, 36a1, ... 36an slit 37, 38 Vertical alignment film 39 Liquid crystal layer 39a Liquid crystal 40 Viewing angle compensation films 41, 42 Polarizing plate 43 Voltage applying means 50 Vertical alignment type LCD
70 Display region 71 Display unit 90 Mask D Drain electrode G Gate electrode S Source electrode α, β, γ, δ Small region

Claims (11)

少なくとも1つの表示単位を含む表示領域において表示を行う液晶表示素子の製造方法であって、
(a)第1の基板上に、第1の透明導電材料膜を形成する工程と、
(b)第2の基板上に、第2の透明導電材料膜を形成する工程と、
(c)表示領域の少なくとも一部の領域を含む領域のデータであって、その領域内に少なくとも1つの表示単位を含む対向領域の第1及び第2の電極パタンデータと、相互に相対的に位置合わせされた第1及び第2のスリットパタンのデータとをそれぞれ重ね合わせて、完成した基板を対向配置し基板の法線方向から見たときに、各基板に形成されたスリットパタンがスリットの幅方向に交互に配置するものとされた第1及び第2のレチクルを作製する工程と、
(d)前記第1及び第2のレチクルをそれぞれ転写して、スリットパタンを含む電極パタンの第1及び第2のマスクを、それぞれ前記第1及び第2の透明導電材料膜上に形成する工程と、
(e)前記第1のマスクが形成された前記第1の透明導電材料膜をエッチングして、前記第1の基板上に前記第1のスリットパタンを含む第1の透明電極を形成する工程と、
(f)前記第2のマスクが形成された前記第2の透明導電材料膜をエッチングして、前記第2の基板上に前記第2のスリットパタンを含む第2の透明電極を形成する工程と、
(g)前記第1及び第2の透明電極を覆うように、前記第1及び第2の基板上にそれぞれ第1及び第2の配向膜を形成する工程と、
(h)前記第1及び第2の基板を、前記第1及び第2の配向膜を向き合わせ、略平行に対向配置し接着する工程と
を有する液晶表示素子の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal display element that performs display in a display region including at least one display unit,
(A) forming a first transparent conductive material film on the first substrate;
(B) forming a second transparent conductive material film on the second substrate;
(C) data of an area including at least a part of the display area, and the first and second electrode pattern data of the opposing area including at least one display unit in the area are relatively relative to each other Each of the aligned first and second slit pattern data is overlaid, and when the completed substrate is placed oppositely and viewed from the normal direction of the substrate, the slit pattern formed on each substrate is the slit pattern. Producing first and second reticles arranged alternately in the width direction;
(D) transferring the first and second reticles, respectively, and forming first and second masks of electrode patterns including slit patterns on the first and second transparent conductive material films, respectively. When,
(E) etching the first transparent conductive material film on which the first mask is formed to form a first transparent electrode including the first slit pattern on the first substrate; ,
(F) etching the second transparent conductive material film on which the second mask is formed to form a second transparent electrode including the second slit pattern on the second substrate; ,
(G) forming first and second alignment films on the first and second substrates, respectively, so as to cover the first and second transparent electrodes;
(H) A method of manufacturing a liquid crystal display element, comprising: a step of facing and bonding the first and second substrates to the first and second alignment films so as to face each other substantially in parallel.
前記第1及び第2のスリットパタンは、略長方形状のスリットが長さ方向及び幅方向に一定ピッチで繰り返し配置されている請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。 2. The method of manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1, wherein the first and second slit patterns have substantially rectangular slits repeatedly arranged at a constant pitch in a length direction and a width direction. 前記工程(c)において、表示単位内のみにスリットを有するように前記第1及び第2のレチクルを作製する請求項1または2に記載の液晶表示素子の製造方法。 3. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1, wherein in the step (c), the first and second reticles are manufactured so as to have a slit only in a display unit. 更に、前記工程(c)において、スリットの縁が幅方向に沿って揃うように前記第1及び第2のレチクルを作成する請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。 Furthermore, in the said process (c), the said 1st and 2nd reticle is produced so that the edge of a slit may align along the width direction, The manufacture of the liquid crystal display element of any one of Claims 1-3 Method. 更に、前記工程(c)において、幅方向に隣り合うスリットが長さ方向に半ピッチだけずれるように前記第1及び第2のレチクルを作成する請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示素子の製造方法。 Furthermore, in the said process (c), the said 1st and 2nd reticle is created so that the slit adjacent to the width direction may shift | deviate by a half pitch in the length direction. A method for manufacturing a liquid crystal display element. 第1の基板と、
前記第1の基板の一方の面上に形成され、2次元状に分布された複数の第1のスリット状開口部を有する第1の透明電極と、
前記第1の基板の一方の面上に、前記第1の透明電極を覆うように形成される第1の配向膜と、
前記第1の基板に略平行配置される第2の基板と、
前記第2の基板の前記第1の基板に対向する面上に形成され、前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、前記第1の透明電極と重なり合って表示単位を含む領域を画定し、かつ前記第1のスリット状開口部と幅方向に交互に配置される2次元状に分布された複数の第2のスリット状開口部を有する第2の透明電極と、
前記第2の基板の前記第1の基板に対向する面上に、前記第2の透明電極を覆うように形成される第2の配向膜と
を有し、
前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、前記表示単位の外周と、前記第1及び第2のスリット状開口部またはその延長との交差部に関して、スリットと外周との交差部の数が、スリットの延長と外周の交差部の数より多い液晶表示素子。
A first substrate;
A first transparent electrode formed on one surface of the first substrate and having a plurality of first slit-like openings distributed two-dimensionally;
A first alignment film formed on one surface of the first substrate so as to cover the first transparent electrode;
A second substrate disposed substantially parallel to the first substrate;
The second substrate includes a display unit that is formed on a surface of the second substrate facing the first substrate and overlaps with the first transparent electrode when viewed from the normal direction of the first and second substrates. A second transparent electrode defining a region and having a plurality of second slit-shaped openings distributed in a two-dimensional manner alternately arranged in the width direction with the first slit-shaped openings;
A second alignment film formed on the surface of the second substrate facing the first substrate so as to cover the second transparent electrode;
When viewed from the normal direction of the first and second substrates, the intersection of the slit and the outer periphery with respect to the outer periphery of the display unit and the intersection of the first and second slit-shaped openings or their extensions. A liquid crystal display element in which the number of parts is greater than the number of slits extending and the outer intersections.
前記第1及び第2のスリット状開口部が、ともに略長方形状に形成されている請求項6に記載の液晶表示素子。 The liquid crystal display element according to claim 6, wherein the first and second slit-shaped openings are both formed in a substantially rectangular shape. 前記第1及び第2のスリット状開口部が、開口部の長さ方向及び幅方向に一定ピッチで形成されている請求項7に記載の液晶表示素子。 The liquid crystal display element according to claim 7, wherein the first and second slit-shaped openings are formed at a constant pitch in a length direction and a width direction of the openings. 前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、前記第1及び第2のスリット状開口部の縁が幅方向に沿って揃って配置されている請求項8に記載の液晶表示素子。 The liquid crystal display according to claim 8, wherein when viewed from the normal direction of the first and second substrates, edges of the first and second slit-like openings are aligned along the width direction. element. 前記第1及び第2の基板の法線方向から見たとき、隣り合う前記第1及び第2のスリット状開口部が長さ方向に半ピッチだけずれて配置されている請求項8に記載の液晶表示素子。 The first and second slit-like openings adjacent to each other when viewed from the normal line direction of the first and second substrates are shifted by a half pitch in the length direction. Liquid crystal display element. 前記第1及び第2のスリット状開口部が、前記表示単位の内部にのみ形成されている請求項6〜10のいずれか1項に記載の液晶表示素子。 The liquid crystal display element according to claim 6, wherein the first and second slit-shaped openings are formed only inside the display unit.
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