JP2005292085A - 試料分析方法及び試料分析装置 - Google Patents
試料分析方法及び試料分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005292085A JP2005292085A JP2004111274A JP2004111274A JP2005292085A JP 2005292085 A JP2005292085 A JP 2005292085A JP 2004111274 A JP2004111274 A JP 2004111274A JP 2004111274 A JP2004111274 A JP 2004111274A JP 2005292085 A JP2005292085 A JP 2005292085A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- sample
- fluorescent
- spectrum
- ray absorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】 XAFS分析装置1の電子収量スペクトル検出部25において試料Sから放出された光電子及びオージェ電子に基づいてX線吸収スペクトルを得る。蛍光X線収量スペクトル検出部26において試料Sから放出された蛍光X線に基づいてX線吸収スペクトルを得る。両スペクトルを数値化部27、28で数値化する。処理部29で光電子及びオージェ電子に基づく数値と蛍光X線に基づく数値とを対応させた後、蛍光X線に基づく数値から光電子及びオージェ電子に基づく数値を減じて、試料Sの内部側だけの吸収係数を得る。この吸収係数と照射X線の波長とを示すX線吸収スペクトルを得る。
【選択図】 図1
Description
[数1]
t/(D−t)=γ((γ+1)2+(γ+2)) … (1)
∵γ=a/(R−a) … (2)
ここで、tは酸化層の厚さ、DはシリコンウエハーにおけるX線の進入深さ、aは分析対象の試料表面側における光電子及びオージェ電子の脱出深度、Rは試料を構成するニッケルの一次粒子半径であり、それぞれの単位はnmである。
[数2]
(1−A)B≒C−AF … (3)
ここで、Aは補正係数、Bは、無酸化シリコンウエハーから放出された蛍光X線に基づくX線吸収スペクトルの強度であって表面側と内部側とを合わせた強度、Cは、酸化シリコンウエハーから放出された蛍光X線に基づくX線吸収スペクトルの強度であって同様に表面側と内部側とを合わせた強度、Fは、酸化シリコンウエハーから放出された光電子及びオージェ電子に基づくX線吸収スペクトルの強度であって極表面側のみの強度である。この式(3)の右辺においては、酸化シリコンウエハーの光電子及びオージェ電子に基づくX線吸収スペクトルの強度Fに補正係数Aを乗じて、酸化シリコンウエハーの蛍光X線に基づくX線吸収スペクトルの強度Cと対応するようにしている。そして、この蛍光X線に基づく強度Cから上記補正係数Aを乗じた光電子及びオージェ電子に基づく強度Fを減じることで、酸化シリコンウエハーの内部側だけのX線吸収スペクトルの強度が得られるようになっている。
5 微小電流検出器(電子検出部)
14 X線照射部
20 蛍光X線検出器(蛍光X線検出部)
25 電子収量スペクトル検出部
26 蛍光X線収量スペクトル検出部
27 電子収量スペクトル数値化部
28 蛍光X線収量スペクトル数値化部
29 処理部
30 記憶部
S 試料
Claims (3)
- 試料にX線を照射して該試料のX線吸収係数に関するX線吸収スペクトルを得て、該スペクトルにより試料の分析を行うX線吸収微細構造を利用した試料分析方法であって、
X線を波長の掃引を行いながら試料へ照射するX線照射ステップと、
上記X線照射ステップでX線が照射された試料から放出された電子及び蛍光X線をそれぞれ検出する検出ステップと、
上記検出ステップで検出した電子の放出量に基づいてX線の吸収係数に関するX線吸収スペクトルを得る電子収量スペクトル検出ステップと、
上記検出ステップで検出した蛍光X線の放出量に基づいてX線の吸収係数に関するX線吸収スペクトルを得る蛍光X線収量スペクトル検出ステップと、
上記電子収量スペクトル検出ステップで検出したX線吸収スペクトル及び上記蛍光X線収量スペクトル検出ステップで検出したX線吸収スペクトルに基づいて、試料の極表面側よりも内部側を構成する部分の電子状態を得る処理ステップと経ることを特徴とする試料分析方法。 - 試料にX線を照射して該試料のX線吸収係数に関するX線吸収スペクトルを得て、該スペクトルにより試料の分析を行うX線吸収微細構造を利用した試料分析装置であって、
X線を波長の掃引を行いながら試料へ照射するX線照射部と、
上記X線照射部によりX線が照射された試料から放出された電子及び蛍光X線をそれぞれ検出する電子検出部及び蛍光X線検出部と、
上記電子検出部により検出した電子の放出量に基づいてX線の吸収係数に関するX線吸収スペクトルを得る電子収量スペクトル検出部と、
上記蛍光X線検出部により検出した蛍光X線の放出量に基づいてX線の吸収係数に関するX線吸収スペクトルを得る蛍光X線収量スペクトル検出部と、
上記電子収量スペクトル検出部により検出したX線吸収スペクトル及び上記蛍光X線収量スペクトル検出部により検出したX線吸収スペクトルに基づいて、試料の極表面よりも内部側を構成する部分の電子状態を得る処理部とを備えたことを特徴とする試料分析装置。 - 請求項2に記載の試料分析装置において、
電子収量スペクトル検出部により検出したX線吸収スペクトルを数値化する電子収量スペクトル数値化部と、
蛍光X線収量スペクトル検出部により検出したX線吸収スペクトルを数値化する蛍光X線収量スペクトル数値化部とを備え、
処理部は、上記電子収量スペクトル数値化部で得た電子に基づく数値と上記蛍光X線収量スペクトル数値化部で得た蛍光X線に基づく数値とを対応させる補正係数を記憶する記憶部を有し、上記電子に基づく数値と上記蛍光X線に基づく数値との少なくとも一方を上記記憶部に記憶された補正係数で補正して上記蛍光X線に基づく数値から電子に基づく数値を減じるように構成されていることを特徴とする試料分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004111274A JP4241479B2 (ja) | 2004-04-05 | 2004-04-05 | 試料分析方法及び試料分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004111274A JP4241479B2 (ja) | 2004-04-05 | 2004-04-05 | 試料分析方法及び試料分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005292085A true JP2005292085A (ja) | 2005-10-20 |
JP4241479B2 JP4241479B2 (ja) | 2009-03-18 |
Family
ID=35325159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004111274A Expired - Fee Related JP4241479B2 (ja) | 2004-04-05 | 2004-04-05 | 試料分析方法及び試料分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4241479B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008241313A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Fujitsu Ltd | X線吸収分析用検出器 |
JP2008261674A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 固液界面の評価方法および評価装置 |
JP2013167584A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | Hiroshima Univ | 薄膜試料の比表面積測定方法及び装置 |
WO2013188549A1 (en) * | 2012-06-12 | 2013-12-19 | Kla-Tencor Corporation | Auger elemental identification algorithm |
-
2004
- 2004-04-05 JP JP2004111274A patent/JP4241479B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008241313A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Fujitsu Ltd | X線吸収分析用検出器 |
JP2008261674A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 固液界面の評価方法および評価装置 |
JP2013167584A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | Hiroshima Univ | 薄膜試料の比表面積測定方法及び装置 |
WO2013188549A1 (en) * | 2012-06-12 | 2013-12-19 | Kla-Tencor Corporation | Auger elemental identification algorithm |
US8658973B2 (en) | 2012-06-12 | 2014-02-25 | Kla-Tencor Corporation | Auger elemental identification algorithm |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4241479B2 (ja) | 2009-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU2009211833B2 (en) | Apparatus and method for X-ray fluorescence analysis of a mineral sample | |
WO2008103571A1 (en) | Instrument having x-ray fluorescence and spark emission spectroscopy analysis capabilities | |
JP2011099749A (ja) | 濃度計測方法及び蛍光x線分析装置 | |
Wielopolski et al. | Soil carbon measurements using inelastic neutron scattering | |
EP0523566A2 (en) | Apparatus for solid surface analysis using x-ray spectroscopy | |
KR20060088272A (ko) | X-선 광전자 분광분석장치 | |
KR102009051B1 (ko) | 이물 검출 장치 | |
US12007380B2 (en) | Apparatus and method for x-ray fluorescence analysis | |
Ketenoglu | A general overview and comparative interpretation on element‐specific X‐ray spectroscopy techniques: XPS, XAS, and XRS | |
US20030080291A1 (en) | System and method for characterization of thin films | |
US7449682B2 (en) | System and method for depth profiling and characterization of thin films | |
JP4241479B2 (ja) | 試料分析方法及び試料分析装置 | |
Liu et al. | Best practices for operando depth-resolving battery experiments | |
EP2098891A2 (en) | Methods, a processor, and a system for improving an accuracy of identification of a substance | |
US6212253B1 (en) | Apparatus and method for X-ray absorption spectroscopy | |
JP2015138027A (ja) | コンプトン散乱を用いた元素濃度の決定方法 | |
Procop et al. | X-ray fluorescence as an additional analytical method for a scanning electron microscope | |
JP7208882B2 (ja) | 粉体試料セル、蛍光x線分析装置及び蛍光x線分析方法 | |
US11499927B2 (en) | Analysis method and X-ray fluorescence analyzer | |
CN113218975A (zh) | 一种表面x射线吸收谱测量装置 | |
JP5919024B2 (ja) | 薄膜試料の比表面積測定方法及び装置 | |
Gunawardane et al. | Auger electron spectroscopy | |
WO2015022725A1 (ja) | X線検出装置 | |
JP2006053012A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
Nicholson et al. | X-ray fluorescence microanalysis of thin biological specimens |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061031 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081209 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081222 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |