JP2005289432A - Substrate storage case - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体デバイスの製造で用いられる、マスク、フォトマスクブランクス等の基板を収納する基板収納ケースに関する。 The present invention relates to a substrate storage case for storing substrates such as masks and photomask blanks used in the manufacture of semiconductor devices.
シリコンウェーハなどの半導体ウェーハ上に形成される集積回路(IC)は、近年、ますます高集積化が進み、大規模集積回路(LSI)の実現に至っている。このため、LSI製造におけるリソグラフィー工程では、露光に用いられるマスクのマスクパターンの微細化が進んでいる。ここで、フォトマスクブランクスは、石英ガラス体に、Cr、MoSi等の遮光膜、位相シフト膜をスパッタリングなどの方法により成膜した基板である。そして、このフォトマスクブランクスにスピン塗布法などによりレジスト材料を塗布してレジストを形成し、パターン露光、現像などの手段を経てマスクパターンを形成したものをマスクと称する。 In recent years, integrated circuits (ICs) formed on a semiconductor wafer such as a silicon wafer have been increasingly highly integrated, and large-scale integrated circuits (LSIs) have been realized. For this reason, in the lithography process in the LSI manufacturing, the mask pattern of the mask used for exposure has been miniaturized. Here, the photomask blank is a substrate in which a light shielding film such as Cr or MoSi and a phase shift film are formed on a quartz glass body by a method such as sputtering. Then, a resist material is applied to this photomask blank by a spin coating method or the like to form a resist, and a mask pattern is formed through means such as pattern exposure and development, which is called a mask.
このような露光用マスクのマスクパターンに塵埃等が付着していると、これが半導体ウェーハに投影されて欠陥となり、製造するLSIの製品不良となるという問題がある。また、フォトマスクブランクス上に塵埃等が付着していると、マスク製造の際にフォトマスクブランクスに所望のマスクパターンが刻めなくなるという問題がある。そのため、このようなマスクを用いて露光を行うと、同様に、製造するLSIの製品不良となる。 If dust or the like adheres to the mask pattern of such an exposure mask, it is projected onto a semiconductor wafer to become a defect, resulting in a defective product of an LSI to be manufactured. In addition, if dust or the like adheres to the photomask blank, there is a problem that a desired mask pattern cannot be engraved on the photomask blank during mask manufacture. For this reason, if exposure is performed using such a mask, similarly, an LSI product to be manufactured is defective.
これら、マスク、フォトマスクブランクスなどの基板は、通常、基板収納ケースに収納して、保存、保管、搬送などを行う。しかし、この際、基板収納ケースのケース本体とケース蓋の隙間などからケース内に塵埃等が侵入することがある。そして、このことが、基板に塵埃等が付着する原因の一つとなっている。 These substrates such as masks and photomask blanks are usually stored in a substrate storage case and stored, stored, transported, and the like. However, at this time, dust or the like may enter the case from the gap between the case main body and the case lid of the substrate storage case. This is one of the causes of dust and the like adhering to the substrate.
そこで、ケース内に塵埃等が侵入するのを防ぐためにケースを隙間なく密封でき、かつケース本体及びケース蓋の取り外しが容易な基板収納ケースが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかし、この基板収納ケースを用いた場合、ケースの密閉性が向上するので密封中は塵埃等の侵入が防げるが、開封の際、ケース内が一時負圧となるため塵埃等がケース内に侵入し、結局はケース内のマスクやフォトマスクブランクスなどの基板に塵埃等が付着するという問題が生じる。 Therefore, a substrate storage case has been proposed in which the case can be sealed without gaps and the case main body and the case lid can be easily removed in order to prevent dust and the like from entering the case (see, for example, Patent Document 1). However, when this board storage case is used, the case sealability is improved, so that dust and the like can be prevented from entering during sealing. As a result, there arises a problem that dust or the like adheres to a substrate such as a mask or a photomask blank in the case.
また、ケース内に塵埃等が侵入しても、マスクやフォトマスクブランクスに付着しないようにケース内側部分に粘着性を持たせた基板収納ケースが提案されている。しかし、この基板収納ケースを用いた場合、ケース内に侵入し、浮遊している塵埃等が、全てケース内側部分に付着するわけではなく、マスクやフォトマスクブランクスにも付着することが多かったため、塵埃等の対策としては充分とは言えなかった。 In addition, there has been proposed a substrate storage case in which the case inner portion is made sticky so that it does not adhere to the mask or photomask blanks even if dust or the like enters the case. However, when this substrate storage case was used, dust that entered the case and floated did not all adhere to the inner part of the case, but often adhered to the mask and photomask blanks. It was not enough as a countermeasure against dust.
本発明はこのような問題に鑑みてなされたもので、例えば、マスク、フォトマスクブランクス等の基板を収納する基板収納ケースであって、収納した基板に塵埃等が付着することを有効に防止できる基板収納ケースを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such problems. For example, the present invention is a substrate storage case for storing substrates such as masks and photomask blanks, and can effectively prevent dust and the like from adhering to the stored substrates. An object is to provide a substrate storage case.
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、基板を収納する基板収納ケースであって、少なくとも、ケース本体及びケース蓋を有し、該ケース蓋およびケース本体は、収納する基板に面する内側部分が非導電性であり、外に面する外側部分が導電性である2重構造であることを特徴とする基板収納ケースを提供する(請求項1)。 The present invention has been made to solve the above problems, and is a substrate storage case for storing a substrate, which has at least a case main body and a case lid, and the case cover and the case main body are arranged on the substrate to be stored. Provided is a substrate storage case having a double structure in which an inner portion facing is non-conductive and an outer portion facing outward is conductive.
本発明の基板収納ケースでは、ケース本体及びケース蓋の外側部分が、導電性であるため、該外側部分では静電気の発生が防止され、周囲の塵埃等を吸引し難い。したがって、ケースの外側に付着したり、ケース内に侵入する塵埃等の量を減らすことができる。さらに、ケース蓋およびケース本体の内側部分が、非導電性であるため、該内側部分では静電気が発生し、ケース内で浮遊する塵埃等をケース本体及びケース蓋の内側に吸引し易い。このように、本発明の基板収納ケースでは、ケース内に侵入する塵埃等の量が非常に少ないし、塵埃等がケース内に侵入しても、ケース本体及びケース蓋の内側に付着するため、ほとんど基板に付着することがない。これらのことから、本発明の2重構造の基板収納ケースを用いることで、収納した基板に塵埃等が付着することを有効に防止することができ、基板を非常に清浄な状態に保つことができる。 In the substrate storage case of the present invention, since the outer portions of the case main body and the case lid are conductive, the generation of static electricity is prevented in the outer portions, and it is difficult to suck surrounding dust and the like. Therefore, it is possible to reduce the amount of dust or the like that adheres to the outside of the case or enters the case. Further, since the case lid and the inner portion of the case body are non-conductive, static electricity is generated in the inner portion, and dust or the like floating in the case is easily sucked inside the case body and the case lid. Thus, in the substrate storage case of the present invention, the amount of dust and the like entering the case is very small, and even if dust or the like enters the case, it adheres to the inside of the case body and the case lid. Almost no adhesion to the substrate. Therefore, by using the double-layer substrate storage case of the present invention, it is possible to effectively prevent dust and the like from adhering to the stored substrate, and to keep the substrate in a very clean state. it can.
この場合、前記導電性の外側部分は、表面比抵抗が10MΩ・cm以下であるのが好ましい(請求項2)。 In this case, the conductive outer portion preferably has a surface specific resistance of 10 MΩ · cm or less.
このように、基板収納ケースの外側部分の表面比抵抗が、10MΩ・cm以下であれば、静電気の発生をより確実に防ぐことができる。したがって、ケースの外側に付着したり、ケース内に侵入する塵埃等の量を、大幅に減らすことができる。 Thus, if the surface specific resistance of the outer portion of the substrate storage case is 10 MΩ · cm or less, the generation of static electricity can be prevented more reliably. Accordingly, the amount of dust or the like that adheres to the outside of the case or enters the case can be greatly reduced.
また、前記非導電性の内側部分は、表面比抵抗が20MΩ・cm以上であるのが好ましい(請求項3)。 Further, the non-conductive inner portion preferably has a surface specific resistance of 20 MΩ · cm or more.
このように、基板収納ケースの内側部分の表面比抵抗が20MΩ・cm以上であれば、静電気が非常に発生し易くなる。したがって、ケース内で浮遊する塵埃等をケース本体及びケース蓋の内側部分に充分に吸引することができる。 Thus, if the surface specific resistance of the inner part of the substrate storage case is 20 MΩ · cm or more, static electricity is very likely to occur. Therefore, dust or the like floating in the case can be sufficiently sucked into the inner portion of the case body and the case lid.
また、本発明の基板収納ケースでは、前記収納する基板が、マスク又はフォトマスクブランクスであるのが好ましい(請求項4)。 In the substrate storage case of the present invention, it is preferable that the substrate to be stored is a mask or a photomask blank.
近年、マスクやフォトマスクブランクスに塵埃等が付着すると、これが半導体ウェーハに投影されて欠陥となり、製造する半導体デバイスの製品不良が生じることが大きな問題となっている。しかし、本発明の基板収納ケースを用いることで、ケースに収納中のマスクやフォトマスクブランクスに、塵埃等が付着するのを有効に防止することができる。 In recent years, when dust or the like adheres to a mask or a photomask blank, it is projected onto a semiconductor wafer to become a defect, resulting in a product defect of a semiconductor device to be manufactured. However, by using the substrate storage case of the present invention, it is possible to effectively prevent dust and the like from adhering to the mask and photomask blanks being stored in the case.
以上説明したように、本発明によれば、ケース蓋およびケース本体の内側部分が非導電性であり、外側部分が導電性である2重構造の基板収納ケースとしたことで、収納した基板に塵埃等が付着することを有効に防止できる。 As described above, according to the present invention, since the inner portion of the case lid and the case main body is non-conductive and the outer portion is conductive, a double-layered substrate storage case is provided. It is possible to effectively prevent dust and the like from adhering.
以下、本発明の実施の形態を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
図1は、本発明の基板収納ケースを示す概略断面図である。この基板収納ケース1は、ケース本体2と、ケース蓋3と、基板押さえ部を具備するインナーケース5とで構成されている。さらに、基板収納ケース1のケース蓋3およびケース本体2は、2重構造を有している。すなわち、収納する基板4に面する内側部分(破線部)6が非導電性であり、外に面する外側部分(実線部)7が導電性である。
尚、この基板収納ケース1は、5枚の基板4を均等な間隔で収納できるようになっている。そして、基板4が、保存、保管、搬送等のために基板収納ケース1に収納されると、通常、基板収納ケース1は、外部環境の影響を受けないように、開閉部にテープを巻き付けることによって密封される。
Hereinafter, although embodiment of this invention is described, this invention is not limited to these.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a substrate storage case of the present invention. The substrate storage case 1 includes a case
The substrate storage case 1 can store five substrates 4 at equal intervals. And when the board | substrate 4 is accommodated in the board | substrate storage case 1 for preservation | save, storage, conveyance, etc., the board | substrate storage case 1 usually winds a tape around an opening-and-closing part so that it may not be influenced by an external environment. Sealed by.
本発明の基板収納ケース1のように、外側部分7が、導電性であると、外側部分7では静電気の発生を有効に防止できる。したがって、外側部分7は、周囲の塵埃等を吸引し難くなり、外側部分7の表面に付着したり、ケース蓋3とケース本体2の隙間から基板収納ケース1内に侵入する塵埃等の量を減らすことができる。さらに、ケース蓋3とケース本体2の内側部分6が、非導電性であるので、内側部分6では静電気の発生を促すことができる。したがって、基板収納ケース1内で浮遊する塵埃等をケース本体2及びケース蓋3の内側部分6に吸引し易くなる。このように、本発明の基板収納ケース1は、ケース1内に侵入する塵埃等の量を大幅に減らすことができるし、塵埃等がケース1内に侵入しても、ケース本体2及びケース蓋3の内側部分6に付着するため、ほとんど基板4に付着することがない。これらのことから、本発明の2重構造の基板収納ケースを用いることで、収納した基板に塵埃等が付着することを有効に防止することができ、基板を非常に清浄な状態に保つことができる。
If the
このような内側部分6の非導電性材料としては、例えば、ABS(アクリルニトリル−ブタジエン−スチレン)樹脂、PP(ポリプロピレン)、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)、PE(ポリエチレン)などが挙げられる。また、外側部分7の導電性材料としては、例えば、ABS樹脂、PP、PMMA、PEなどにカーボン等の導電材を練り込ませた材料などが挙げられる。
Examples of the non-conductive material of the
また、ケース本体2とケース蓋3の導電性の外側部分7は、表面比抵抗が10MΩ・cm以下であるのが好ましい。このように、外側部分7の表面比抵抗を、10MΩ・cm以下とすることで、周囲から塵埃等を吸引する静電気の発生を充分に抑制することができる。
In addition, the conductive
また、ケース本体2とケース蓋3の非導電性の内側部分は、表面比抵抗が20MΩ・cm以上であるのが好ましい。このように、内側部分6の表面比抵抗を20MΩ・cm以上とすることで、ケース内の塵埃等を吸引できる静電気をより発生し易くすることができる。
The non-conductive inner portions of the
本発明において、導電性の外側部分と非導電性の内側部分とを2重構造とするのは、導電性材料と非導電性材料とを積層したいわゆる複合材料を用いても良いし、導電性の外側部材と非導電性の内側部材とを別個独立に形成して重ね合わせることによって2重構造としても良い。 In the present invention, the conductive outer portion and the non-conductive inner portion may have a double structure by using a so-called composite material obtained by laminating a conductive material and a non-conductive material. The outer member and the non-conductive inner member may be formed separately and overlapped to form a double structure.
また、本発明の基板収納ケースは、マスク、フォトマスクブランクスなどの基板を収納するのに最適である。近年、マスクやフォトマスクブランクスに塵埃等が付着すると、これが半導体ウェーハに投影されて欠陥となり、製造する半導体デバイスの製品不良が生じることが大きな問題となっている。しかし、本発明の基板収納ケースを用いることで、ケースに収納中のマスクやフォトマスクブランクスに、塵埃等が付着するのを有効に防止することができる。 The substrate storage case of the present invention is optimal for storing substrates such as masks and photomask blanks. In recent years, when dust or the like adheres to a mask or a photomask blank, it is projected onto a semiconductor wafer to become a defect, resulting in a product defect of a semiconductor device to be manufactured. However, by using the substrate storage case of the present invention, it is possible to effectively prevent dust and the like from adhering to the mask and photomask blanks being stored in the case.
以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(実施例1)
図1に示すような2重構造の基板収納ケースを準備した。この基板収納ケース1は、ケース蓋3およびケース本体2の外側部分7を、カーボン粉を練りこませて導電性をもたせたABS樹脂(8MΩ・cm)とし、内側部分6を非導電性のABS樹脂(20MΩ・cm以上)とした。そして、この基板収納ケースにフォトマスクブランクス(152mm(6インチ)×152mm(6インチ)×6.35mm(0.25インチ)t)を5枚入れ、蓋をした後、外気が混入しないように密封した。さらに、密封した基板収納ケースをナイロン製の袋に入れて、クッション材と共にダンボール箱に入れた。そして、その後、これを700km陸送した。
この陸送前後で、フォトマスクブランクスに付着している塵埃等の量を日立デコ社製欠陥測定装置(GM−1000)で欠陥数として測定した。そして、陸送前後の欠陥増加数を求めた。尚、測定したフォトマスクブランクスは全部で35枚であり、測定した領域は142mm□内である。その結果を図2に示す。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to these.
(Example 1)
A double-layered substrate storage case as shown in FIG. 1 was prepared. In this substrate storage case 1, the
Before and after this land transport, the amount of dust and the like adhering to the photomask blanks was measured as the number of defects with a Hitachi Deco defect measuring device (GM-1000). The number of defects increased before and after land transportation was obtained. The total number of photomask blanks measured was 35, and the measured area was within 142 mm □. The result is shown in FIG.
(比較例1)
ケース蓋およびケース本体の全体を、カーボン粉を練りこませ導電性をもたせたABS樹脂(8MΩ・cm)とした基板収納ケースを用いたことを除いて、実施例1と同様に、基板収納ケースにフォトマスクブランクスを収納し、陸送した。そして、陸送前後の欠陥増加数を求めた。その結果を図2に示す。
(Comparative Example 1)
Substrate storage case as in Example 1, except that the entire case lid and case body were made of a substrate storage case made of ABS resin (8 MΩ · cm) kneaded with carbon powder. The photomask blanks were stored and transported to land. The number of defects increased before and after land transportation was obtained. The result is shown in FIG.
(比較例2)
ケース蓋およびケース本体の全体を、非導電性のABS樹脂(20MΩ・cm以上)とした基板収納ケースを用いたことを除いて、実施例1と同様に、基板収納ケースにフォトマスクブランクスを収納し、陸送した。そして、陸送前後の欠陥増加数を求めた。その結果を図2に示す。
(Comparative Example 2)
Photomask blanks are stored in the substrate storage case in the same manner as in Example 1 except that a substrate storage case made of non-conductive ABS resin (20 MΩ · cm or more) is used for the entire case lid and case body. And landed. The number of defects increased before and after land transportation was obtained. The result is shown in FIG.
図2から判るように、本発明の2重構造の基板収納ケースを用いた場合、陸送中にフォトマスクブランクスに付着する塵埃等の量が極めて少ない。一方、比較例2のように、基板収納ケースのケース本体とケース蓋が、非導電性材料のみからなる場合、陸送中にフォトマスクブランクスに付着する塵埃等の量が極めて多いことが判る。これは、陸送中にケースが静電気を発生して周囲の塵埃等を大量に引き寄せ、これがケース内に侵入してフォトマスクブランクスに付着したためであると考えられる。また、比較例1のように、基板収納ケースのケース本体及びケース蓋が導電性材料のみからなる場合、陸送中にフォトマスクブランクスに付着する塵埃等の量が、比較例2と比較して、若干減っているが、まだ多いことが判る。これは、陸送中にケースが静電気を発生するのを抑制することができるため、引き寄せられてケース内に侵入する塵埃等の量を少なくできるものの、ケース内に侵入した塵埃等が、ケースではなくフォトマスクブランクスに多く付着してしまったためであると考えられる。 As can be seen from FIG. 2, when the double-layered substrate storage case of the present invention is used, the amount of dust and the like adhering to the photomask blank during land transportation is extremely small. On the other hand, as in Comparative Example 2, when the case main body and the case lid of the substrate storage case are made of only a non-conductive material, it can be seen that the amount of dust and the like adhering to the photomask blank during land transportation is extremely large. This is presumably because the case generated static electricity during land transportation, attracted a large amount of surrounding dust, etc., and entered the case and adhered to the photomask blanks. Further, as in Comparative Example 1, when the case main body and the case lid of the substrate storage case are made of only a conductive material, the amount of dust and the like attached to the photomask blank during land transportation is compared with Comparative Example 2, Although it is decreasing slightly, it turns out that it is still many. This is because the case can be prevented from generating static electricity during land transportation, so that the amount of dust and the like that is attracted and enters the case can be reduced, but the dust that has entered the case is not the case. This is thought to be because a large amount of the photomask blanks adhered.
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.
1…基板収納ケース、 2…ケース本体、 3…ケース蓋、 4…基板、
5…インナーケース、 6…内側部分、 7…外側部分。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate storage case, 2 ... Case main body, 3 ... Case lid, 4 ... Substrate,
5 ... inner case, 6 ... inner part, 7 ... outer part.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004106084A JP2005289432A (en) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | Substrate storage case |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004106084A JP2005289432A (en) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | Substrate storage case |
Publications (1)
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JP2004106084A Pending JP2005289432A (en) | 2004-03-31 | 2004-03-31 | Substrate storage case |
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JP (1) | JP2005289432A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007173265A (en) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Dainippon Printing Co Ltd | Shock resistant clean vessel |
JP2007201311A (en) * | 2006-01-30 | 2007-08-09 | Hoya Corp | Method for conveying substrate |
-
2004
- 2004-03-31 JP JP2004106084A patent/JP2005289432A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007173265A (en) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Dainippon Printing Co Ltd | Shock resistant clean vessel |
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