JP2005282712A - Single-acting air cylinder valve and substrate treatment device equipped therewith - Google Patents

Single-acting air cylinder valve and substrate treatment device equipped therewith Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a single-acting air cylinder valve, eliminating the need for a pipe for exhausting air from a cylinder chamber even when installed and used in a clean atmosphere. <P>SOLUTION: The single-acting air cylinder valve comprises a flow-in side passage 20, a flow-out side passage 22, a valve seat 24 formed in a communication portion between the flow-in side passage 20 and the flow-out side passage 22, a piston 32 having a valve element 38 to be moved close to and apart from the valve seat 24, the cylinder chamber 30 partitioned into an air introduction chamber portion 30a and an air exhaust chamber portion 30b with the piston 32, an air passage 50 communicated with the air introduction chamber portion 30a, an air introduction port 52 connected to an air pipe connected via a flow path to an operating air supply source, an exhaust passage 54 communicated with the air exhaust chamber portion 30b, an exhaust port 56 communicated with the exhaust passage 54, and a compression coil spring 48 for energizing the piston 32 from the side of the air exhaust chamber portion 30b to the side of the air introduction chamber portion 30a at all times. Herein, a variable capacity bellows 58 is connected to the exhaust port 56 with air tightness. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、清浄雰囲気内に設置された配管に介挿して設けるのに適した単動空気シリンダ弁、ならびに、その単動空気シリンダ弁を備え、半導体ウエハ、フラットパネルディスプレイ(FPD)用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、プリント基板等の基板の処理を行う基板処理装置に関する。   The present invention includes a single-acting air cylinder valve suitable for being provided in a pipe installed in a clean atmosphere, and the single-acting air cylinder valve, and includes a semiconductor wafer and a glass substrate for a flat panel display (FPD). The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate such as a photomask glass substrate or a printed substrate.

例えば、半導体装置、FPD装置等の製造プロセスにおいては、半導体ウエハ、ガラス基板等の基板に対し各種の処理液を使用して洗浄、塗布、現像、エッチング、剥離等の各種の処理が施される。これらの基板の処理は、クリーンルーム内の清浄雰囲気中において行われる。そして、処理槽等の基板処理部には、その処理部へ処理液を供給するための配管や処理部から使用済みの処理液を排出するための配管が設置され、また、処理槽等の周囲を包囲する処理チャンバ内へ気体を供給するための配管や処理チャンバ内から気体を排出するための配管が設置される。それらの配管には、それぞれ開閉制御弁が介挿して設けられ、開閉制御弁として、例えば空気圧を利用して操作する空気シリンダ弁が使用される。   For example, in a manufacturing process of a semiconductor device, an FPD device, etc., various treatments such as cleaning, coating, developing, etching, and peeling are performed on a substrate such as a semiconductor wafer, a glass substrate, etc. . These substrates are processed in a clean atmosphere in a clean room. A substrate processing unit such as a processing tank is provided with piping for supplying the processing liquid to the processing unit and piping for discharging the used processing liquid from the processing unit. A pipe for supplying gas into the processing chamber surrounding the gas and a pipe for discharging gas from the processing chamber are installed. Each of these pipes is provided with an open / close control valve, and for example, an air cylinder valve operated using air pressure is used as the open / close control valve.

空気シリンダ弁は、処理液供給配管、排液用配管、気体供給配管、排気用配管などの配管に流路接続されるボディ部と、空気圧によってシリンダ機構を駆動させピストンに設けられた弁体を弁座に対し当接および離間させて流路を連通および遮断するアクチュエータ部とから構成されている。ボディ部には、入力ポートおよび出力ポート、ならびに、その各ポートに連通する流入側通路および流出側通路が形成されており、流入側通路と流出側通路とが連通する部分に弁座が形設されている。アクチュエータ部にはシリンダ室が形成され、シリンダ室に、弁体が設けられたピストンが摺動可能に収容されている。シリンダ室内は、ピストンによって2つの室に気密に仕切られ、各室に連通するエアー通路がそれぞれ形設されており、各エアー通路に連通するように形成された各エアー接続ポートにエアー配管がそれぞれ接続される(例えば、特許文献1参照。)。そして、単動空気シリンダ弁では、シリンダ室の一方の室がエアー導入室部となり、そのエアー導入室部にエアー通路を通して連通するエアー接続ポートに、操作用の圧縮空気の供給源に流路接続されたエアー配管が接続される。また、シリンダ室の他方の室が排気室部となり、その排気室部に排気通路を通して連通する排気接続ポートに排気用配管が接続される。シリンダ室から排気用配管を通して排出される空気中には、ピストンの摺動に伴って発生した塵埃が含まれる可能性があるので、半導体製造装置のようにクリーンルーム内の清浄雰囲気中において基板の処理を行う必要がある装置では、排気用配管の空気吐出口は、作業が行われる清浄雰囲気の外部に設置された排気部屋などに配置される。
特開平9−94546号公報(第4−7頁、図1、図3)
The air cylinder valve consists of a body part that is connected to pipes such as processing liquid supply pipe, drainage pipe, gas supply pipe, and exhaust pipe, and a valve element provided on the piston that drives the cylinder mechanism by air pressure. The actuator unit is configured to contact and separate from the valve seat to communicate and block the flow path. The body part is formed with an input port and an output port, and an inflow side passage and an outflow side passage communicating with each port, and a valve seat is formed at a portion where the inflow side passage and the outflow side passage communicate with each other. Has been. A cylinder chamber is formed in the actuator portion, and a piston provided with a valve element is slidably accommodated in the cylinder chamber. The cylinder chamber is hermetically partitioned into two chambers by pistons, and air passages communicating with the respective chambers are formed, and air pipes are respectively connected to the air connection ports formed to communicate with the respective air passages. Connected (for example, refer to Patent Document 1). In the single-acting air cylinder valve, one chamber of the cylinder chamber serves as an air introduction chamber, and is connected to the air connection port that communicates with the air introduction chamber through the air passage to the supply source of compressed air for operation. Connected air pipes are connected. The other chamber of the cylinder chamber serves as an exhaust chamber, and an exhaust pipe is connected to an exhaust connection port communicating with the exhaust chamber through an exhaust passage. Since the air exhausted from the cylinder chamber through the exhaust pipe may contain dust generated as the piston slides, the substrate is treated in a clean atmosphere in a clean room like a semiconductor manufacturing device. In an apparatus that needs to perform the above, the air discharge port of the exhaust pipe is arranged in an exhaust room or the like installed outside the clean atmosphere in which the work is performed.
JP-A-9-94546 (page 4-7, FIG. 1 and FIG. 3)

上記したように、清浄雰囲気内に設置されて使用される単動空気シリンダ弁においては、圧縮空気の導入側となるエアー接続ポートにエアー配管を接続する他に、単にシリンダ室内の空気を排出するためだけに、排気側となる排気接続ポートにも排気用配管、例えばPFA等のフッ素樹脂製のチューブを接続し、そのチューブを清浄雰囲気のエリア外まで取り回して配設していた。このため、配管作業に多くの手間と時間と費用がかかっていた。しかも、基板処理装置などでは多数の弁が使用されるので、エアー配管系が複雑となり、このため、配管作業が非常に面倒なものとなり、また、装置周りも煩雑化し、メンテナンス性も悪い。   As described above, in a single-acting air cylinder valve that is used in a clean atmosphere, in addition to connecting an air pipe to an air connection port on the compressed air introduction side, the air in the cylinder chamber is simply discharged. For this reason, an exhaust pipe, for example, a tube made of fluororesin such as PFA is connected to the exhaust connection port on the exhaust side, and the tube is routed outside the clean atmosphere area. For this reason, a lot of labor, time and cost are required for the piping work. In addition, since a large number of valves are used in a substrate processing apparatus or the like, the air piping system becomes complicated, which makes piping work very troublesome, complicates the surroundings of the apparatus, and poor maintainability.

この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、清浄雰囲気内に設置されて使用される場合でも、シリンダ室内からの排気のための配管を無くすことができる単動空気シリンダ弁を提供すること、ならびに、そのような単動空気シリンダ弁を備えた基板処理装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and even when used in a clean atmosphere, a single-acting air cylinder valve capable of eliminating piping for exhausting from the cylinder chamber And a substrate processing apparatus provided with such a single-acting air cylinder valve.

請求項1に係る発明は、流体が流入する流入側通路と、前記流入側通路に連通し流体が流出する流出側通路と、前記流入側通路と前記流出側通路とが連通する部分に形設された弁座と、前記弁座に対し密接および離間する弁体が設けられ、その弁体を弁座に対し密接および離間させるように往復移動するピストンと、前記ピストンを摺動可能に収容し、ピストンによってエアー導入室部と排気室部とに気密に仕切られるシリンダ室と、前記シリンダ室のエアー導入室部に連通するエアー通路と、前記エアー通路に連通し、操作用エアー供給源に流路接続されたエアー配管が接続されるエアー導入口と、前記シリンダ室の排気室部に連通する排気通路と、前記排気通路に連通する排気口と、前記ピストンを前記シリンダ室の排気室部側からエアー導入室部側へ常時付勢する弾発機構と、を備え、接続口部を有し内部の容積が可変である空気溜め部材を前記排気口に気密に接続したことを特徴とする。   The invention according to claim 1 is formed in an inflow side passage through which a fluid flows in, an outflow side passage through which the fluid flows out, and a portion where the inflow side passage and the outflow side passage communicate with each other. A valve body that is in close contact with and away from the valve seat, a piston that reciprocates to close and separate the valve body from the valve seat, and slidably accommodates the piston. A cylinder chamber that is hermetically partitioned into an air introduction chamber portion and an exhaust chamber portion by a piston, an air passage that communicates with the air introduction chamber portion of the cylinder chamber, a fluid passage that communicates with the air passage, and flows to an air supply source for operation. An air introduction port to which a line-connected air pipe is connected, an exhaust passage communicating with the exhaust chamber portion of the cylinder chamber, an exhaust port communicating with the exhaust passage, and the piston on the exhaust chamber portion side of the cylinder chamber From air It includes a resilient mechanism for constantly urging the introduction chamber side, and is characterized in that the air reservoir member inside the volume is variable has a connection port portion is hermetically connected to the exhaust port.

請求項2に係る発明は、請求項1に記載の単動空気シリンダ弁において、前記空気溜め部材がベローズであることを特徴とする。   The invention according to claim 2 is the single-action air cylinder valve according to claim 1, wherein the air reservoir member is a bellows.

請求項3に係る発明は、請求項1または請求項2に記載の単動空気シリンダ弁において、前記空気溜め部材の接続口部が前記排気口に着脱自在に接続されたことを特徴とする。   The invention according to claim 3 is the single-acting air cylinder valve according to claim 1 or 2, wherein the connection port portion of the air reservoir member is detachably connected to the exhaust port.

請求項4に係る発明は、処理液を使用して基板の処理を行う処理部を備えた基板処理装置において、前記処理部へ処理液を供給するための処理液供給配管に、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の単動空気シリンダ弁を介挿して設けたことを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus including a processing unit for processing a substrate using the processing liquid, wherein the processing liquid supply pipe for supplying the processing liquid to the processing unit is provided in the processing liquid supply pipe. The single-acting air cylinder valve according to claim 3 is provided.

請求項5に係る発明は、処理液を使用して基板の処理を行う処理部を備えた基板処理装置において、前記処理部から使用済みの処理液を排出するための排液用配管に、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の単動空気シリンダ弁を介挿して設けたことを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus including a processing unit for processing a substrate using a processing liquid, wherein the draining pipe for discharging the used processing liquid from the processing unit is provided. The single-acting air cylinder valve according to any one of claims 1 to 3 is provided.

請求項6に係る発明は、処理液を使用して基板の処理を行う処理部と、この処理部の周囲を包囲する処理チャンバと、を備えた基板処理装置において、前記処理チャンバ内へ気体を供給するための気体供給配管に、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の単動空気シリンダ弁を介挿して設けたことを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising: a processing unit that processes a substrate using a processing solution; and a processing chamber that surrounds the periphery of the processing unit. A single-acting air cylinder valve according to any one of claims 1 to 3 is provided in a gas supply pipe for supply.

請求項7に係る発明は、処理液を使用して基板の処理を行う処理部と、この処理部の周囲を包囲する処理チャンバと、を備えた基板処理装置において、前記処理チャンバ内から気体を排出するための排気用配管に、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の単動空気シリンダ弁を介挿して設けたことを特徴とする。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising: a processing unit that processes a substrate using a processing solution; and a processing chamber that surrounds the periphery of the processing unit. A single-acting air cylinder valve according to any one of claims 1 to 3 is provided in an exhaust pipe for discharging.

請求項1に係る発明の単動空気シリンダ弁においては、操作用エアー供給源からエアー配管を通してエアー導入口へ圧縮空気が供給され、エアー通路を通ってシリンダ室のエアー導入室部に圧縮空気が導入されると、シリンダ室内においてピストンがエアー導入室部側から排気室部側へ摺動し、ピストンに設けられた弁体が弁座から離間しまたは弁座に密接する。これにより、流入側通路と流出側通路とが連通しまたは流入側通路と流出側通路との連通が遮断され、流体が流入側通路および流出側通路を通って流動しまたは流体の流通が停止される。このとき、シリンダ室の排気室部内の空気は、排気室部内から排気通路を通って排気口から排出され、排気口から排出された空気は、空気溜め部材内へ流入し、これに伴って空気溜め部材が膨張する。一方、操作用エアー供給源からの圧縮空気の供給が停止されると、弾発機構の付勢力によりシリンダ室内においてピストンが排気室部側からエアー導入室部側へ摺動し、ピストンに設けられた弁体が弁座に密接しまたは弁座から離間する。これにより、流入側通路と流出側通路との連通が遮断されまたは流入側通路と流出側通路とが連通し、流体の流通が停止されまたは流体が流入側通路および流出側通路を通って流動する。このとき、空気溜め部材内の空気は、排気口から排気通路を通してシリンダ室の排気室部内に吸入され、これに伴って空気溜め部材が収縮する。このように、シリンダ室の排気室部内の空気は、空気溜め部材内との間で流動するだけであり、外部へ放出されることがない。このため、清浄雰囲気を汚染することはない。
したがって、請求項1に係る発明の単動空気シリンダ弁を使用すると、清浄雰囲気内に設置される場合でも、シリンダ室内からの排気のための配管を無くすことができ、このため、配管作業に要していた手間と時間と費用を節減することができ、エアー配管系が単純化して、装置周りの煩雑さも解消され、メンテナンス性も良好となる。
In the single acting air cylinder valve of the invention according to claim 1, compressed air is supplied from the operating air supply source to the air introduction port through the air pipe, and the compressed air is supplied to the air introduction chamber portion of the cylinder chamber through the air passage. When introduced, the piston slides from the air introduction chamber side to the exhaust chamber side in the cylinder chamber, and the valve body provided on the piston moves away from the valve seat or comes into close contact with the valve seat. As a result, the inflow side passage and the outflow side passage communicate with each other or the inflow side passage and the outflow side passage communicate with each other, and the fluid flows through the inflow side passage and the outflow side passage, or the flow of the fluid is stopped. The At this time, the air in the exhaust chamber of the cylinder chamber is exhausted from the exhaust chamber through the exhaust passage and exhausted from the exhaust port, and the air exhausted from the exhaust port flows into the air reservoir member. The reservoir member expands. On the other hand, when the supply of compressed air from the operating air supply source is stopped, the piston slides from the exhaust chamber side to the air introduction chamber side by the urging force of the elastic mechanism, and is provided on the piston. The valve body is in close contact with or away from the valve seat. Thereby, the communication between the inflow side passage and the outflow side passage is blocked, or the inflow side passage and the outflow side passage are communicated, and the flow of the fluid is stopped, or the fluid flows through the inflow side passage and the outflow side passage. . At this time, the air in the air reservoir member is sucked into the exhaust chamber portion of the cylinder chamber from the exhaust port through the exhaust passage, and the air reservoir member contracts accordingly. Thus, the air in the exhaust chamber of the cylinder chamber only flows between the air reservoir member and is not released to the outside. For this reason, a clean atmosphere is not polluted.
Therefore, when the single-action air cylinder valve of the invention according to claim 1 is used, piping for exhausting from the cylinder chamber can be eliminated even when installed in a clean atmosphere. This saves labor, time and cost, simplifies the air piping system, eliminates the complexity around the device, and improves the maintenance.

請求項2に係る発明の単動空気シリンダ弁では、ベローズが膨張および収縮することにより、シリンダ室の排気室部の容積の変化に伴う空気の流動が許容される。   In the single acting air cylinder valve according to the second aspect of the present invention, the bellows expands and contracts to allow the air to flow with a change in the volume of the exhaust chamber portion of the cylinder chamber.

請求項3に係る発明の単動空気シリンダ弁では、空気溜め部材の接続口部が排気口に着脱自在に接続されることにより、空気溜め部材の交換や保守・点検が容易となる。   In the single-acting air cylinder valve according to the third aspect of the invention, the connection port portion of the air reservoir member is detachably connected to the exhaust port, whereby the replacement, maintenance, and inspection of the air reservoir member are facilitated.

請求項4に係る発明の基板処理装置では、処理液供給配管に設置された単動空気シリンダ弁において、そのシリンダ室内からの排気のための配管を無くすことができるので、配管作業に要していた手間と時間と費用を節減することができ、エアー配管系が単純化して、装置周りの煩雑さも解消され、メンテナンス性も良好となる。   In the substrate processing apparatus according to the fourth aspect of the present invention, piping for exhausting from the cylinder chamber can be eliminated in the single acting air cylinder valve installed in the processing liquid supply piping. The labor, time and cost can be saved, the air piping system is simplified, the trouble around the apparatus is eliminated, and the maintainability is also improved.

請求項5に係る発明の基板処理装置においては、排液用配管に設置された単動空気シリンダ弁において、そのシリンダ室内からの排気のための配管を無くすことができるので、配管作業に要していた手間と時間と費用を節減することができ、エアー配管系が単純化して、装置周りの煩雑さも解消され、メンテナンス性も良好となる。   In the substrate processing apparatus according to the fifth aspect of the present invention, piping for exhausting from the cylinder chamber can be eliminated in the single-acting air cylinder valve installed in the drainage piping. This saves labor, time, and costs, simplifies the air piping system, eliminates the inconveniences around the apparatus, and improves maintainability.

請求項6に係る発明の基板処理装置においては、気体供給配管に設置された単動空気シリンダ弁において、そのシリンダ室内からの排気のための配管を無くすことができるので、配管作業に要していた手間と時間と費用を節減することができ、エアー配管系が単純化して、装置周りの煩雑さも解消され、メンテナンス性も良好となる。   In the substrate processing apparatus according to the sixth aspect of the present invention, in the single-acting air cylinder valve installed in the gas supply pipe, the pipe for exhausting from the cylinder chamber can be eliminated. The labor, time and cost can be saved, the air piping system is simplified, the trouble around the apparatus is eliminated, and the maintainability is also improved.

請求項7に係る発明の基板処理装置においては、排気用配管に設置された単動空気シリンダ弁において、そのシリンダ室内からの排気のための配管を無くすことができるので、配管作業に要していた手間と時間と費用を節減することができ、エアー配管系が単純化して、装置周りの煩雑さも解消され、メンテナンス性も良好となる。   In the substrate processing apparatus according to the seventh aspect of the present invention, in the single-acting air cylinder valve installed in the exhaust pipe, the pipe for exhausting from the cylinder chamber can be eliminated. The labor, time and cost can be saved, the air piping system is simplified, the trouble around the apparatus is eliminated, and the maintainability is also improved.

以下、この発明の最良の実施形態について図1ないし図3を参照しながら説明する。
図1は、この発明の実施形態の1例を示す単動空気シリンダ弁の断面図である。
The best embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a single-action air cylinder valve showing an example of an embodiment of the present invention.

この単動空気シリンダ弁10は、処理液供給配管、排液用配管、気体供給配管、排気用配管などの配管に流路接続される流路形成部12と、流路を連通および遮断するように操作するアクチュエータ部14とから構成されている。流路形成部12には、流体が流入する流入口(入力ポート)16および流体が流出する流出口(出力ポート)18がそれぞれ設けられ、流入口16に連通する流入側通路20および流出口18に連通する流出側通路22がそれぞれ形成されている。流入側通路20と流出側通路22とは、流路形成部12の内部で連通しており、その連通部分に弁座24が形設されている   This single-acting air cylinder valve 10 communicates and blocks the flow path with a flow path forming portion 12 that is flow path connected to piping such as processing liquid supply piping, drainage piping, gas supply piping, and exhaust piping. The actuator unit 14 is operated to The flow path forming part 12 is provided with an inflow port (input port) 16 through which fluid flows and an outflow port (output port) 18 through which fluid flows out, respectively, and an inflow side passage 20 and an outflow port 18 communicating with the inflow port 16. An outflow side passage 22 communicating with each other is formed. The inflow side passage 20 and the outflow side passage 22 communicate with each other inside the flow path forming portion 12, and a valve seat 24 is formed at the communicating portion.

アクチュエータ部14は、シリンダブロック26と上蓋ブロック28とを備えている。シリンダブロック26には、シリンダ室30が形成されており、シリンダ室30にピストン32の円板部34が摺動可能に収容されている。ピストン32の下側ロッド部36は、シリンダブロック26に形成されたガイド孔42に摺動可能にかつ気密に挿通されている。下側ロッド部36の下端部には、流路形成部12の弁座24と対向するように弁体38が設けられている。そして、ピストン32が往復移動することにより弁体38が弁座24に密接しおよび弁座24から離間して、流入側通路20と流出側通路22との連通が遮断されおよび流入側通路20と流出側通路22とが連通するようになっている。ピストン32の上側ロッド部40は、上蓋ブロック28の下面側に形成されたガイド孔44に摺動可能に嵌挿されている。上蓋ブロック28の下面側には、ガイド孔44の周囲に複数個の保持孔46が等配して形成されており、各保持孔46に圧縮コイルばね48がそれぞれ保持され、圧縮コイルばね48が保持孔46とピストン32の円板部34との間に介設されている。そして、圧縮コイルばね48により、ピストン32が流路形成部12の弁座24の方向へ常時付勢されるようになっている。   The actuator unit 14 includes a cylinder block 26 and an upper lid block 28. A cylinder chamber 30 is formed in the cylinder block 26, and a disk portion 34 of a piston 32 is slidably accommodated in the cylinder chamber 30. The lower rod portion 36 of the piston 32 is slidably and airtightly inserted into a guide hole 42 formed in the cylinder block 26. A valve body 38 is provided at the lower end portion of the lower rod portion 36 so as to face the valve seat 24 of the flow path forming portion 12. Then, when the piston 32 reciprocates, the valve body 38 comes into close contact with the valve seat 24 and is separated from the valve seat 24, the communication between the inflow side passage 20 and the outflow side passage 22 is blocked, and the inflow side passage 20 The outflow side passage 22 communicates with the outflow side passage 22. The upper rod portion 40 of the piston 32 is slidably fitted into a guide hole 44 formed on the lower surface side of the upper lid block 28. A plurality of holding holes 46 are equally arranged around the guide hole 44 on the lower surface side of the upper lid block 28, and the compression coil springs 48 are respectively held in the holding holes 46. It is interposed between the holding hole 46 and the disc portion 34 of the piston 32. The piston 32 is constantly urged toward the valve seat 24 of the flow path forming unit 12 by the compression coil spring 48.

シリンダ室30内は、ピストン32の円板部34によってエアー導入室部30aと排気室部30bとに気密に仕切られている。そして、シリンダブロック26に、エアー導入室部30aに連通するエアー通路50が形成され、エアー通路50に連通するエアー導入口(エアー接続ポート)52が形設されて、エアー導入口52に、操作用の圧縮空気の供給源に流路接続されたエアー配管(図示せず)が接続される。一方、上蓋ブロック28には、排気室部30bに連通する排気通路54が形成され、排気通路54に連通する排気口(排気ポート)56が形設されている。そして、排気口56に、膨張および収縮して内部の容積が可変であるベローズ58の接続口部60が気密に接続されている。ベローズ58の接続口部60は、排気口56に着脱自在に螺着されている。   The inside of the cylinder chamber 30 is airtightly partitioned into an air introduction chamber portion 30a and an exhaust chamber portion 30b by a disc portion 34 of the piston 32. An air passage 50 communicating with the air introduction chamber 30a is formed in the cylinder block 26, and an air introduction port (air connection port) 52 communicating with the air passage 50 is formed. An air pipe (not shown) connected to the flow path is connected to a compressed air supply source. On the other hand, the upper lid block 28 is formed with an exhaust passage 54 communicating with the exhaust chamber portion 30b, and an exhaust port (exhaust port) 56 communicating with the exhaust passage 54 is formed. And the connection port part 60 of the bellows 58 which expand | swells and shrink | contracts and the inside volume is variable is connected to the exhaust port 56 airtightly. The connection port 60 of the bellows 58 is detachably screwed to the exhaust port 56.

上記した構成を有する単動空気シリンダ弁10における開閉動作は、以下のようにして行われる。
常時、すなわちアクチュエータ部14に空気圧が作用していないときは、図2の(a)に示すように、圧縮コイルばね48の付勢力によりシリンダ室30内においてピストン32の円板部34がエアー導入室部30aの側に移動しており、ピストン32の下側ロッド部36の下端部に設けられた弁体38が流路形成部12の弁座34に密接している。このため、流路形成部12の流入側通路20と流出側通路22との連通が遮断され、弁が閉じられた状態となって流体の流通が停止される。
The opening / closing operation in the single-acting air cylinder valve 10 having the above-described configuration is performed as follows.
When the air pressure is not applied to the actuator portion 14 at all times, the disk portion 34 of the piston 32 introduces air into the cylinder chamber 30 by the urging force of the compression coil spring 48 as shown in FIG. The valve body 38 is moved to the chamber portion 30 a side, and the valve body 38 provided at the lower end portion of the lower rod portion 36 of the piston 32 is in close contact with the valve seat 34 of the flow path forming portion 12. For this reason, the communication between the inflow side passage 20 and the outflow side passage 22 of the flow path forming unit 12 is blocked, and the valve is closed to stop the fluid flow.

図2の(a)に示した状態において、図示しない操作用エアー供給源からエアー配管を通してエアー導入口52へ圧縮空気が供給され、エアー通路50を通ってシリンダ室30のエアー導入室部30aに圧縮空気が導入されると、図2の(b)に示すように、シリンダ室30内においてピストン32の円板部34が、空気圧により圧縮コイルばね48の弾発力に抗してエアー導入室部30aの側から排気室部30bの側へ摺動し、ピストン32の下側ロッド部36の下端部に設けられた弁体38が流路形成部12の弁座24から離間する。これにより、流路形成部12の流入側通路20と流出側通路22とが連通し、弁が開かれた状態となって流体が流入側通路20および流出側通路22を通って流動する。このとき、シリンダ室30の排気室部30b内の空気は、排気室部30b内から排気通路54を通って排気口56から排出される。そして、排気口56から排出された空気は、ベローズ58内へ流入し、これに伴ってベローズ58が膨張する。   In the state shown in FIG. 2A, compressed air is supplied from an operating air supply source (not shown) through the air pipe to the air introduction port 52 and passes through the air passage 50 to the air introduction chamber portion 30 a of the cylinder chamber 30. When the compressed air is introduced, as shown in FIG. 2B, the disk portion 34 of the piston 32 in the cylinder chamber 30 resists the elastic force of the compression coil spring 48 by air pressure. The valve body 38 provided on the lower end portion of the lower rod portion 36 of the piston 32 is separated from the valve seat 24 of the flow path forming portion 12 by sliding from the portion 30a side to the exhaust chamber portion 30b side. As a result, the inflow side passage 20 and the outflow side passage 22 of the flow path forming unit 12 communicate with each other, and the valve is opened to allow fluid to flow through the inflow side passage 20 and the outflow side passage 22. At this time, the air in the exhaust chamber portion 30b of the cylinder chamber 30 is discharged from the exhaust port 56 through the exhaust passage 54 from within the exhaust chamber portion 30b. And the air discharged | emitted from the exhaust port 56 flows in into the bellows 58, and the bellows 58 expand | swells in connection with this.

一方、操作用エアー供給源からの圧縮空気の供給が停止されると、図2の(b)に示した状態から図2の(a)に示すように、圧縮コイルばね48の復元力によりシリンダ室30内においてピストン32の円板部34が排気室部30bの側からエアー導入室部30aの側へ摺動し、ピストン32の下側ロッド部36下端部の弁体38が流路形成部12の弁座24に密接する。これにより、流路形成部12の流入側通路20と流出側通路22との連通が遮断され、弁が閉じられた状態となって流体の流通が停止される。このとき、ベローズ58内の空気は、排気口56から排気通路54を通してシリンダ室30の排気室部30b内に吸入され、これに伴ってベローズ58が収縮する。このように、シリンダ室30の排気室部30b内の空気は、ベローズ58内との間で流動するだけであり、外部へ放出されることがない。   On the other hand, when the supply of compressed air from the operating air supply source is stopped, the cylinder is moved from the state shown in FIG. 2B by the restoring force of the compression coil spring 48 as shown in FIG. In the chamber 30, the disc portion 34 of the piston 32 slides from the exhaust chamber portion 30 b side to the air introduction chamber portion 30 a side, and the valve body 38 at the lower end of the lower rod portion 36 of the piston 32 forms the flow path forming portion. Close to 12 valve seats 24. As a result, the communication between the inflow side passage 20 and the outflow side passage 22 of the flow path forming unit 12 is blocked, and the valve is closed to stop the fluid flow. At this time, the air in the bellows 58 is sucked into the exhaust chamber portion 30b of the cylinder chamber 30 from the exhaust port 56 through the exhaust passage 54, and the bellows 58 contracts accordingly. Thus, the air in the exhaust chamber portion 30b of the cylinder chamber 30 only flows between the inside of the bellows 58 and is not released to the outside.

なお、上記した実施形態では、常時、すなわちアクチュエータ部に空気圧が作用していないときに弁が閉じられた状態に保持されるノーマルクローズド弁について説明したが、アクチュエータ部に空気圧が作用していないときに弁が開かれた状態に保持されアクチュエータ部に空気圧が作用したときに弁が閉じられるノーマルオープン弁についても、この発明は、当然に適用し得るものである。また、上記実施形態では、空気の出入りに伴って内部の容積が変化する空気溜め部材としてベローズを使用したが、空気溜め部材は、ベローズに限定されず、ダイアフラムや風船などのようなものでもよい。   In the above-described embodiment, the normally closed valve that is kept in a closed state when the air pressure is not acting on the actuator portion has been described. However, when the air pressure is not acting on the actuator portion. Of course, the present invention can also be applied to a normally open valve that is held in a state where the valve is opened and the valve is closed when air pressure acts on the actuator portion. Moreover, in the said embodiment, although the bellows was used as an air reservoir member from which an internal volume changes with the entry / exit of air, an air reservoir member is not limited to a bellows, A thing like a diaphragm, a balloon, etc. may be sufficient. .

次に、図3により、上記構成を有する単動空気シリンダ弁10の使用例について説明する。
図3は、浸漬式基板処理装置の概略構成を示す模式図である。この基板処理装置は、純水、洗浄用薬液等の処理液62が貯留されその処理液62中に基板、例えば半導体ウエハWが浸漬させられてリンス処理や洗浄処理などが行われる処理槽64、および、処理槽64の周囲を取り囲む処理チャンバ66を備えている。
Next, an example of use of the single-acting air cylinder valve 10 having the above configuration will be described with reference to FIG.
FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the immersion type substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus stores a processing liquid 62 such as pure water and a cleaning chemical solution, and a processing tank 64 in which a substrate, for example, a semiconductor wafer W is immersed in the processing liquid 62 to perform a rinsing process, a cleaning process, and the like. A processing chamber 66 surrounding the processing tank 64 is provided.

処理槽64は、下部に処理液供給口68を有し、上部に、溢れ出した処理液が流入する溢流液受け部70を備えている。処理槽64の処理液供給口68には、処理液供給用配管72が連通して接続されており、処理液供給用配管72は処理液供給源に流路接続されている。また、溢流液受け部70の底部には、排液用配管74が連通して接続されている。   The processing tank 64 has a processing liquid supply port 68 in the lower part, and is provided with an overflow liquid receiving part 70 into which the overflowing processing liquid flows in the upper part. A processing liquid supply pipe 72 is connected in communication with the processing liquid supply port 68 of the processing tank 64, and the processing liquid supply pipe 72 is connected to the processing liquid supply source. Further, a drain pipe 74 is connected to the bottom of the overflow liquid receiving part 70 in communication therewith.

処理チャンバ66は、蓋(図示せず)を開閉させることによりウエハWの搬入および搬出を行うことができるともに密閉することが可能である。処理チャンバ66の内部には、図示していないが、処理チャンバ66内へ搬入されたウエハWを受け取って処理槽64の内部へ挿入し、処理槽64内でウエハWを支持し、処理が終わったウエハWを処理槽64内から取り出すためのリフタが配設されている。また、処理チャンバ66には、気体供給口76が設けられており、気体供給口76に気体供給用配管78が連通して接続されている。気体供給用配管78は、気体、例えば窒素ガスの供給源に流路接続されており、窒素ガス供給源から気体供給用配管78を通って処理チャンバ66内へ窒素ガスが供給されるようになっている。また、処理チャンバ66には、排気口80が設けられており、排気口80に排気用配管82が連通して接続されている。図3において、一点鎖線で囲んでいる部分が、清浄雰囲気に保たれる処理エリア84を示している。   The processing chamber 66 can carry in and out the wafer W by opening and closing a lid (not shown), and can be sealed. Although not shown in the drawing, the wafer W carried into the processing chamber 66 is received and inserted into the processing tank 64, and the wafer W is supported in the processing tank 64, and the processing is completed. A lifter for taking out the wafer W from the processing tank 64 is provided. The processing chamber 66 is provided with a gas supply port 76, and a gas supply pipe 78 is connected to and connected to the gas supply port 76. The gas supply pipe 78 is connected to a gas, for example, a nitrogen gas supply source, so that the nitrogen gas is supplied from the nitrogen gas supply source through the gas supply pipe 78 into the processing chamber 66. ing. Further, the processing chamber 66 is provided with an exhaust port 80, and an exhaust pipe 82 is connected to and connected to the exhaust port 80. In FIG. 3, a portion surrounded by a one-dot chain line indicates a processing area 84 that is maintained in a clean atmosphere.

図3に示したような基板処理装置において、処理エリア84内に配設された処理液供給用配管72、排液用配管74、気体供給用配管78および排気用配管82に、上記した単動空気シリンダ弁10をそれぞれ介挿して設置する。このようにしたときは、単動空気シリンダ弁10のシリンダ室30内からの排気のために処理エリア84の外部までPFA等のチューブを取り回して配設する必要が無くなる。このため、配管作業に要していた手間と時間と費用を節減することができ、エアー配管系が単純化し、装置周りの煩雑さが解消され、メンテナンス性が良好となる。そして、単動空気シリンダ弁10のシリンダ室30内からの排気によって処理エリア84内の清浄雰囲気が汚染されることもない。   In the substrate processing apparatus as shown in FIG. 3, the above-mentioned single action is added to the processing liquid supply pipe 72, the drainage pipe 74, the gas supply pipe 78 and the exhaust pipe 82 arranged in the processing area 84. The air cylinder valve 10 is inserted and installed. In this case, it is not necessary to arrange a tube such as PFA around the outside of the processing area 84 for exhausting the air from the cylinder chamber 30 of the single-acting air cylinder valve 10. For this reason, the labor, time and cost required for the piping work can be saved, the air piping system is simplified, the trouble around the apparatus is eliminated, and the maintainability is improved. And the clean atmosphere in the processing area 84 is not polluted by the exhaust from the cylinder chamber 30 of the single acting air cylinder valve 10.

なお、図3には浸漬式基板処理装置を示したが、上記した単動空気シリンダ弁10は、浸漬式基板処理装置に限らず枚葉式基板処理装置などの処理液供給用配管や排液用配管、気体供給用配管などにも、当然に設置して使用することができる。   Although FIG. 3 shows an immersion type substrate processing apparatus, the single-acting air cylinder valve 10 described above is not limited to an immersion type substrate processing apparatus, and a processing liquid supply pipe or drainage liquid such as a single wafer type substrate processing apparatus. Naturally, it can also be installed and used for piping for gas, piping for gas supply, and the like.

この発明の実施形態の1例を示す単動空気シリンダ弁の断面図である。It is sectional drawing of the single acting air cylinder valve which shows one example of embodiment of this invention. 図1に示した単動空気シリンダ弁の動作を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating operation | movement of the single acting air cylinder valve shown in FIG. 図1に示した単動空気シリンダ弁が使用される基板処理装置の概略構成の1例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one example of schematic structure of the substrate processing apparatus in which the single acting air cylinder valve shown in FIG. 1 is used.

符号の説明Explanation of symbols

10 単動空気シリンダ弁
12 流路形成部
14 アクチュエータ部
16 流入口(入力ポート)
18 流出口(出力ポート)
20 流入側通路
22 流出側通路
24 弁座
26 シリンダブロック
28 上蓋ブロック
30 シリンダ室
30a エアー導入室部
30b 排気室部
32 ピストン
38 弁体
42、44 ガイド孔
46 保持孔
48 圧縮コイルばね
50 エアー通路
52 エアー導入口(エアー接続ポート)
54 排気通路
56 排気口(排気ポート)
58 ベローズ
60 ベローズの接続口部
62 処理液
64 処理槽
66 処理チャンバ
68 処理液供給口
70 溢流液受け部
72 処理液供給用配管
74 排液用配管
76 気体供給口
78 気体供給用配管
80 排気口
82 排気用配管
84 処理エリア
W 基板
10 Single-acting air cylinder valve 12 Flow path forming part 14 Actuator part 16 Inlet (input port)
18 Outlet (output port)
20 Inflow side passage 22 Outflow side passage 24 Valve seat 26 Cylinder block 28 Upper lid block 30 Cylinder chamber 30a Air introduction chamber portion 30b Exhaust chamber portion 32 Piston 38 Valve body 42, 44 Guide hole 46 Holding hole 48 Compression coil spring 50 Air passage 52 Air inlet (air connection port)
54 Exhaust passage 56 Exhaust port (exhaust port)
58 Bellows 60 Bellows Connection Port 62 Processing Solution 64 Processing Tank 66 Processing Chamber 68 Processing Solution Supply Port 70 Overflow Solution Receiving Port 72 Processing Solution Supply Pipe 74 Drainage Pipe 76 Gas Supply Port 78 Gas Supply Pipe 80 Exhaust Port 82 Exhaust piping 84 Processing area W Substrate

Claims (7)

流体が流入する流入側通路と、
前記流入側通路に連通し流体が流出する流出側通路と、
前記流入側通路と前記流出側通路とが連通する部分に形設された弁座と、
前記弁座に対し密接および離間する弁体が設けられ、その弁体を弁座に対し密接および離間させるように往復移動するピストンと、
前記ピストンを摺動可能に収容し、ピストンによってエアー導入室部と排気室部とに気密に仕切られるシリンダ室と、
前記シリンダ室のエアー導入室部に連通するエアー通路と、
前記エアー通路に連通し、操作用エアー供給源に流路接続されたエアー配管が接続されるエアー導入口と、
前記シリンダ室の排気室部に連通する排気通路と、
前記排気通路に連通する排気口と、
前記ピストンを前記シリンダ室の排気室部側からエアー導入室部側へ常時付勢する弾発機構と、を備え、
接続口部を有し内部の容積が可変である空気溜め部材を前記排気口に気密に接続したことを特徴とする単動空気シリンダ弁。
An inflow side passage through which fluid flows,
An outflow side passage through which fluid flows out to communicate with the inflow side passage;
A valve seat formed in a portion where the inflow side passage and the outflow side passage communicate with each other;
A piston that is provided in close contact with and away from the valve seat; and a piston that reciprocates to close and separate the valve body from the valve seat;
A cylinder chamber that slidably accommodates the piston and is hermetically partitioned into an air introduction chamber portion and an exhaust chamber portion by the piston;
An air passage communicating with the air introduction chamber of the cylinder chamber;
An air inlet port connected to an air pipe connected to the air passage and connected to a flow path to an air supply source for operation;
An exhaust passage communicating with the exhaust chamber of the cylinder chamber;
An exhaust port communicating with the exhaust passage;
A resilient mechanism that constantly urges the piston from the exhaust chamber side of the cylinder chamber to the air introduction chamber side; and
A single-acting air cylinder valve characterized in that an air reservoir member having a connection port portion and having an internal volume variable is hermetically connected to the exhaust port.
請求項1に記載の単動空気シリンダ弁において、
前記空気溜め部材がベローズであることを特徴とする単動空気シリンダ弁。
The single acting air cylinder valve according to claim 1,
The single acting air cylinder valve, wherein the air reservoir member is a bellows.
請求項1または請求項2に記載の単動空気シリンダ弁において、
前記空気溜め部材の接続口部が前記排気口に着脱自在に接続されたことを特徴とする単動空気シリンダ弁。
In the single acting air cylinder valve according to claim 1 or 2,
A single-acting air cylinder valve, wherein a connection port portion of the air reservoir member is detachably connected to the exhaust port.
処理液を使用して基板の処理を行う処理部を備えた基板処理装置において、
前記処理部へ処理液を供給するための処理液供給配管に、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の単動空気シリンダ弁を介挿して設けたことを特徴とする基板処理装置。
In a substrate processing apparatus including a processing unit that processes a substrate using a processing liquid,
4. A substrate processing apparatus, wherein the processing liquid supply pipe for supplying a processing liquid to the processing unit is provided with the single-acting air cylinder valve according to any one of claims 1 to 3.
処理液を使用して基板の処理を行う処理部を備えた基板処理装置において、
前記処理部から使用済みの処理液を排出するための排液用配管に、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の単動空気シリンダ弁を介挿して設けたことを特徴とする基板処理装置。
In a substrate processing apparatus including a processing unit that processes a substrate using a processing liquid,
4. A substrate, wherein the single-action air cylinder valve according to any one of claims 1 to 3 is interposed in a drain pipe for discharging a used processing liquid from the processing section. Processing equipment.
処理液を使用して基板の処理を行う処理部と、
この処理部の周囲を包囲する処理チャンバと、
を備えた基板処理装置において、
前記処理チャンバ内へ気体を供給するための気体供給配管に、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の単動空気シリンダ弁を介挿して設けたことを特徴とする基板処理装置。
A processing unit for processing a substrate using a processing solution;
A processing chamber surrounding the periphery of the processing unit;
In a substrate processing apparatus comprising:
4. A substrate processing apparatus, wherein the single supply air cylinder valve according to claim 1 is interposed in a gas supply pipe for supplying gas into the processing chamber.
処理液を使用して基板の処理を行う処理部と、
この処理部の周囲を包囲する処理チャンバと、
を備えた基板処理装置において、
前記処理チャンバ内から気体を排出するための排気用配管に、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の単動空気シリンダ弁を介挿して設けたことを特徴とする基板処理装置。
A processing unit for processing a substrate using a processing solution;
A processing chamber surrounding the periphery of the processing unit;
In a substrate processing apparatus comprising:
4. A substrate processing apparatus, wherein the single-acting air cylinder valve according to claim 1 is provided in an exhaust pipe for exhausting gas from the processing chamber.
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