JP2005276620A - 発光装置、電子機器及びテレビ受像器 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 150
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 722
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 220
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 89
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 21
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 abstract description 19
- 239000010408 film Substances 0.000 description 85
- 239000000463 material Substances 0.000 description 82
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 16
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 14
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 13
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 11
- -1 silicon nitride siloxane Chemical class 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 9
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 8
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 8
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 7
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical group C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 6
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 5
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical compound C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M caesium fluoride Chemical compound [F-].[Cs+] XJHCXCQVJFPJIK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 4
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 4
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 4
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 4
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 4
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 4
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 4
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLYPIBBGWLKELC-UHFFFAOYSA-N 4-(dicyanomethylene)-2-methyl-6-(4-(dimethylamino)styryl)-4H-pyran Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=CC1=CC(=C(C#N)C#N)C=C(C)O1 YLYPIBBGWLKELC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 3
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 238000005499 laser crystallization Methods 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N nile red Chemical compound C1=CC=C2C3=NC4=CC=C(N(CC)CC)C=C4OC3=CC(=O)C2=C1 VOFUROIFQGPCGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 3
- 150000005072 1,3,4-oxadiazoles Chemical class 0.000 description 2
- IYZMXHQDXZKNCY-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n-diphenyl-4-n,4-n-bis[4-(n-phenylanilino)phenyl]benzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 IYZMXHQDXZKNCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001101998 Galium Species 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000282 Poly(3-cyclohexylthiophene) Polymers 0.000 description 2
- 229920000291 Poly(9,9-dioctylfluorene) Polymers 0.000 description 2
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- WZJYKHNJTSNBHV-UHFFFAOYSA-N benzo[h]quinoline Chemical compound C1=CN=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 WZJYKHNJTSNBHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTZWGKCFKSJGPK-VOTSOKGWSA-N (e)-2-(2-methyl-6-(2-(1,1,7,7-tetramethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydropyrido[3,2,1-ij]quinolin-9-yl)vinyl)-4h-pyran-4-ylidene)malononitrile Chemical compound O1C(C)=CC(=C(C#N)C#N)C=C1\C=C\C1=CC(C(CCN2CCC3(C)C)(C)C)=C2C3=C1 DTZWGKCFKSJGPK-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4,4-triphenylbuta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 2-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n,2-n-triphenylbenzene-1,2-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNILPZLJSRHNPD-UHFFFAOYSA-N 3,4-dicyclohexylthiophene Chemical compound C1CCCCC1C1=CSC=C1C1CCCCC1 LNILPZLJSRHNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEWTUGLUENRXFN-UHFFFAOYSA-N 3-(4-octylphenyl)-2-thiophen-2-ylthiophene Chemical compound C1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1C1=C(C=2SC=CC=2)SC=C1 YEWTUGLUENRXFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHMILGIDWWDNMF-UHFFFAOYSA-N 3-(4-octylphenyl)thiophene Chemical compound C1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1C1=CSC=C1 CHMILGIDWWDNMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-[4-[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical group CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCZWJXTUYYSKGF-UHFFFAOYSA-N 5,12-dimethylquinolino[2,3-b]acridine-7,14-dione Chemical compound CN1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3N(C)C1=C2 SCZWJXTUYYSKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIZUPBYFLORCRA-UHFFFAOYSA-N 9,10-dinaphthalen-2-ylanthracene Chemical compound C12=CC=CC=C2C(C2=CC3=CC=CC=C3C=C2)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1 VIZUPBYFLORCRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 9,10-diphenylanthracene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXGIRTCIFPJUEQ-UHFFFAOYSA-N 9-anthracen-9-ylanthracene Chemical group C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C(C=3C4=CC=CC=C4C=C4C=CC=CC4=3)=C21 SXGIRTCIFPJUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSDMPJCOOXURQD-UHFFFAOYSA-N C545T Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC=4C=C5C6=C(C=4OC3=O)C(C)(C)CCN6CCC5(C)C)=NC2=C1 MSDMPJCOOXURQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016978 MnOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 238000001237 Raman spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XODPZXALWLGDCE-UHFFFAOYSA-N acetic acid;acetylene;ethene Chemical compound C=C.C#C.CC(O)=O XODPZXALWLGDCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000109 alkoxy-substituted poly(p-phenylene vinylene) Polymers 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- GQVWHWAWLPCBHB-UHFFFAOYSA-L beryllium;benzo[h]quinolin-10-olate Chemical compound [Be+2].C1=CC=NC2=C3C([O-])=CC=CC3=CC=C21.C1=CC=NC2=C3C([O-])=CC=CC3=CC=C21 GQVWHWAWLPCBHB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- BKMIWBZIQAAZBD-UHFFFAOYSA-N diindenoperylene Chemical compound C12=C3C4=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=CC=C3C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=C4C1=C32 BKMIWBZIQAAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】 上記課題を解決する為の本発明の発光装置は、基板上に形成され、基板に達する開口部が形成されてている第1の絶縁層と、開口部を覆って形成される第2の絶縁層と、第2の絶縁層上において開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有する。第1の電極の屈折率は第2の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、第2の絶縁層の屈折率は基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする。
【選択図】 【図1】
Description
本発明の発光装置について図1を参照しながら説明する。基板50上には絶縁層51a及び絶縁層51bが設けられている。絶縁層51bの上には、半導体層52とゲート絶縁層53とゲート電極54とを有する薄膜トランジスタ70が設けられている。また、薄膜トランジスタ70は絶縁層59と第1の層間絶縁層60に覆われている。絶縁層上には薄膜トランジスタ70のソース電極とドレイン電極も兼ねる接続部61aと配線61bが形成され、その一部が絶縁層59、第1の層間絶縁層60及びゲート絶縁層53を貫通するコンタクトホールを介して半導体層52に電気的に接続している。また、配線(接続部)61a、配線61bと第1の層間絶縁層60を覆って第2の層間絶縁層63が形成されており、第2の層間絶縁層上には発光素子93が形成されている。
図2に本発明の他の実施の形態について示した。図1と同じものには符号を付さず、その説明を省略したものもある。図1及び実施の形態1の記載を参照されたい。
図3に本発明の他の実施の形態について示した。図1と同じものには符号を付さず、その説明を省略したものもある。図1及び実施の形態1の記載を参照されたい。
本実施の形態では、実施の形態1に示した構成を有する本発明の発光装置を作成する方法について図4、図5を参照しながら説明する。
本実施の形態では、本発明の一形態に相当する発光装置のパネルの外観について図9を用いて説明する。図9は基板上に形成されたトランジスタおよび発光素子を対向基板4006との間に形成したシール材によって封止したパネルの上面図であり、図9(B)は図9(A)の断面図に相応する。
実施の形態5にその一例を示したようなモジュールを搭載した本発明の電子機器として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ(ヘッドマウントディスプレイ)、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置)などが挙げられる。それらの電子機器の具体例を図10に示す。
Claims (15)
- 基板上に形成され、前記基板に達する開口部が形成されてている第1の絶縁層と、
前記開口部を覆って形成される第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上において前記開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた開口部と、
前記ゲート電極、前記ゲート絶縁層及び前記開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層上において前記開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と示唆
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記ゲート電極上に形成された第2の絶縁層とを有し、
前記第2の絶縁層と、前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた開口部と、
前記第2の絶縁層及び前記開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層上において前記開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた開口部と、
前記ゲート電極、前記ゲート絶縁層及び前記開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層上に形成された第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層上において前記開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第2の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた開口部と、
前記ゲート電極、前記ゲート絶縁層及び前記開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層を覆って設けられた第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上において前記開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の絶縁層の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた第1の開口部と、
前記ゲート電極、前記ゲート絶縁層及び前記開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層上に形成され前記第1の開口部に少なくとも一部が重なっている第2の開口部を有する第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層上において前記第1及び第2の開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた第1の開口部と、
前記ゲート電極、前記ゲート絶縁層及び前記開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層を覆って設けられ、前記第1の開口部に少なくとも一部が重なっている第2の開口部を有する第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上において前記第1の及び第2の開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた開口部と、
前記ゲート電極、前記ゲート絶縁層及び前記開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層上に形成された第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層を覆って設けられた第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層上において前記開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第3の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第3の絶縁層の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第2の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた第1の開口部と、
前記ゲート電極、前記ゲート絶縁層及び前記第1の開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層上に形成され、前記第1の開口部に少なくとも一部が重なっている第2の開口部を有する第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層を覆って設けられた第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層上において前記第1の及び第2の開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第3の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第3の絶縁層の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた第1の開口部と、
前記ゲート電極、前記ゲート絶縁層及び前記第1の開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層上に形成された第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層を覆って設けられ、前記第1の開口部に少なくとも一部が重なっている第2の開口部を有する第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層上において前記第1の及び第2の開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第2の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 基板と、
前記基板上に形成された第1の絶縁層と
前記第1の絶縁層上に形成された半導体層と、
前記半導体層を覆って形成されたゲート絶縁層と、
前記半導体層及び前記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート絶縁層及び前記第1の絶縁層を貫通し、前記基板まで達して設けられた第1の開口部と、
前記ゲート電極、前記ゲート絶縁層及び前記第1の開口部を覆って形成された第1の層間絶縁層と、
前記第1の層間絶縁層上に形成され前記第1の開口部に少なくとも一部が重なっている第2の開口部を有する第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層を覆って設けられた第2の層間絶縁層と、
前記第2の層間絶縁層を覆って設けられ、前記第1及び第2の開口部に少なくとも一部が重なっている第3の開口部を有する第3の絶縁層と、
前記第3の絶縁層上において前記第1の、第2の及び第3の開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の層間絶縁層の屈折率は前記第1の層間絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第1の層間絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置。 - 請求項1乃至請求項11のいずれか一項において、
前記第1の絶縁層は単層構造であることを特徴とする発光装置。 - 請求項1乃至請求項11のいずれか一項において、
前記第1の絶縁層は多層構造であることを特徴とする発光装置。 - 基板上に形成され、前記基板に達する開口部が形成されてている第1の絶縁層と、
前記開口部を覆って形成される第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上において前記開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置を表示部に搭載したことを特徴とする電子機器。 - 基板上に形成され、前記基板に達する開口部が形成されてている第1の絶縁層と、
前記開口部を覆って形成される第2の絶縁層と、
前記第2の絶縁層上において前記開口部の少なくとも一部に重なって設けられ、第1の電極と第2の電極との間に発光層を挟んでなる発光素子とを有し、
前記第1の電極の屈折率は前記第2の絶縁層の屈折率と同等もしくは大きく、前記第2の絶縁層の屈折率は前記基板の屈折率と同等もしくは大きいことを特徴とする発光装置を表示部に搭載したことを特徴とするテレビ受像器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004088169A JP2005276620A (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 発光装置、電子機器及びテレビ受像器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004088169A JP2005276620A (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 発光装置、電子機器及びテレビ受像器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005276620A true JP2005276620A (ja) | 2005-10-06 |
JP2005276620A5 JP2005276620A5 (ja) | 2007-05-10 |
Family
ID=35176056
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004088169A Withdrawn JP2005276620A (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 発光装置、電子機器及びテレビ受像器 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005276620A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006337713A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Seiko Epson Corp | 発光装置および電子機器 |
JP2007213824A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機elディスプレイ |
JP2008210717A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Toppan Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネセンスデバイス |
JP2011135043A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 有機発光表示装置 |
JP2014081643A (ja) * | 1999-06-02 | 2014-05-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
KR20150014759A (ko) * | 2013-07-30 | 2015-02-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | 플렉서블 유기전계 발광소자 및 그 제조 방법 |
WO2021167180A1 (ko) * | 2020-02-21 | 2021-08-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 |
JP2022089994A (ja) * | 2020-11-18 | 2022-06-16 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
US11943964B2 (en) | 2015-03-25 | 2024-03-26 | Pioneer Corporation | Light-emitting device including a light-transmitting interconnect located over a substrate |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07272857A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Nippondenso Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
JP2004070351A (ja) * | 2002-07-25 | 2004-03-04 | Sanyo Electric Co Ltd | エレクトロルミネッセンス表示装置 |
-
2004
- 2004-03-25 JP JP2004088169A patent/JP2005276620A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07272857A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Nippondenso Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
JP2004070351A (ja) * | 2002-07-25 | 2004-03-04 | Sanyo Electric Co Ltd | エレクトロルミネッセンス表示装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014081643A (ja) * | 1999-06-02 | 2014-05-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
JP2006337713A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Seiko Epson Corp | 発光装置および電子機器 |
JP2007213824A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機elディスプレイ |
JP2008210717A (ja) * | 2007-02-27 | 2008-09-11 | Toppan Printing Co Ltd | 有機エレクトロルミネセンスデバイス |
JP2011135043A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 有機発光表示装置 |
KR20150014759A (ko) * | 2013-07-30 | 2015-02-09 | 엘지디스플레이 주식회사 | 플렉서블 유기전계 발광소자 및 그 제조 방법 |
KR102059167B1 (ko) * | 2013-07-30 | 2020-02-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 플렉서블 유기전계 발광소자 및 그 제조 방법 |
US11943964B2 (en) | 2015-03-25 | 2024-03-26 | Pioneer Corporation | Light-emitting device including a light-transmitting interconnect located over a substrate |
WO2021167180A1 (ko) * | 2020-02-21 | 2021-08-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 |
JP2022089994A (ja) * | 2020-11-18 | 2022-06-16 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
JP7288536B2 (ja) | 2020-11-18 | 2023-06-07 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
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