JP2005274812A - Heat developable photosensitive material and image recording method for the same - Google Patents

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紀生 三浦
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Kiyoshi Fukusaka
潔 福坂
Rie Sakuragi
理枝 櫻木
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material having superior storage stability, high maximum density, little fogging, proper silver tone and high latitude with respect to variations in the environmental humidity condition, and to provide an image recording method for the same. <P>SOLUTION: The heat developable photosensitive material contains on a support an organic silver salt, a photosensitive silver halide and reducing agents for silver ions, wherein at least one of the reducing agents for silver ions is represented by Formula (1). <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、熱現像感光材料及びその画像記録方法に関する。さらに詳しくは、保存性に優れ、最高濃度が高く、カブリが少なく、銀色調が良好でかつ環境湿度条件の変動に対する許容度の大きい熱現像感光材料及びその画像記録方法に関する。   The present invention relates to a photothermographic material and an image recording method thereof. More specifically, the present invention relates to a photothermographic material having excellent storage stability, high maximum density, low fog, good silver tone, and high tolerance for fluctuations in environmental humidity conditions, and an image recording method thereof.

近年、医療や印刷の分野で環境保護や作業性の面から現像処理廃液のない感光材料が強く望まれており、この技術として、よく知られて(例えば、特許文献1、2非特許文献1参照。)いる。これらの感光材料は通常、80℃以上の温度で現像が行われるため、熱現像感光材料と呼ばれている。   In recent years, there has been a strong demand for a photosensitive material free from a developing solution waste in terms of environmental protection and workability in the medical and printing fields, and this technique is well known (for example, Patent Documents 1 and 2). See.) Since these photosensitive materials are usually developed at a temperature of 80 ° C. or higher, they are called photothermographic materials.

熱現像感光材料は、液処理される従来の感光材料と比較して、内蔵される化学物質の種類及び添加量が非常に多いため、それに連動して感光層や非感光性層の膜厚が増大する傾向にある。この結果、感光材料製造時の塗布工程あるいは乾燥工程で多大の時間を要し、生産性が低下するという欠点を有していた。   The photothermographic material has a much larger number of kinds and added amounts of built-in chemical substances than the conventional photosensitive material processed by liquid processing, and accordingly, the film thickness of the photosensitive layer and the non-photosensitive layer is increased. It tends to increase. As a result, the coating process or the drying process at the time of manufacturing the light-sensitive material requires a lot of time and has the disadvantage that the productivity is lowered.

一般に、感光材料において、銀量を低減することが膜厚低減に有効であることは広く知られている。しかしながら、単なる銀量の低減では、画像濃度の低下を招くため好ましくない。低銀量で、かつ画像濃度を低下させないためには、単位面積当たりの現像点数を増やし、カバーリングパワーを増大させることが有効である。従来から、印刷用の感光材料では造核剤による「伝染現像」を利用してカバーリングパワーを増大させ、低銀量で高い画像濃度を得る技術が確立され、その方法が記載されて(例えば、特許文献3、4参照。)いる。しかしながら、これら公報に記載の感光材料は保存性が悪く、カブリが高く、また形成される画像銀の色調が黄色みを帯びるため、医療用途では診断性の低下を引き起こし好ましくない。また最高濃度が低く、特に、環境湿度が低下すると極端に感度、濃度低下を引起し、特に印刷用途では大きな課題であった。特定の環状置換基を有する銀イオン還元剤が開示されて(例えば、特許文献5、6参照。)おり、上記の課題について概ね良好な改善が図られているが、特に環境湿度条件の変動に対する許容度の向上、さらに詳しくは、低湿度下での感度、濃度低下に対して十分な改善が達成できていなかった。
米国特許第3,152,904号明細書 米国特許第3,487,075号明細書 D.Morgan;Dry Silver Photographic Materials:(Handbook of Imaging Materials,Marcel Dekker,Inc.第48頁,1991) 特表平10−512061号公報 特表平11−511571号公報 欧州特許公開第1,357,424号明細書 特開2003−302723号公報
In general, it is widely known that reducing the amount of silver is effective in reducing the film thickness in a photosensitive material. However, mere reduction of the amount of silver is not preferable because it causes a decrease in image density. In order to reduce the silver amount and not reduce the image density, it is effective to increase the number of development points per unit area and increase the covering power. Conventionally, a technology for obtaining high image density with a low silver amount has been established by using “infectious development” with a nucleating agent in a photosensitive material for printing, and a method for obtaining a high image density has been described (for example, Patent Documents 3 and 4). However, the light-sensitive materials described in these publications have poor storage stability, high fog, and the color tone of the formed image silver is yellowish. In addition, the maximum density is low, and particularly when the environmental humidity is lowered, the sensitivity and density are extremely lowered, which is a big problem particularly in printing applications. A silver ion reducing agent having a specific cyclic substituent has been disclosed (see, for example, Patent Documents 5 and 6), and generally good improvement has been achieved with respect to the above problems. Improvement in tolerance, more specifically, sensitivity under low humidity, and sufficient improvement with respect to density reduction have not been achieved.
US Pat. No. 3,152,904 US Pat. No. 3,487,075 D. Mrygan; Dry Silver Photographic Materials: (Handbook of Imaging Materials, Marcel Dekker, Inc., p. 48, 1991). Japanese National Patent Publication No. 10-512061 Japanese National Patent Publication No. 11-511571 European Patent Publication No. 1,357,424 JP 2003-302723 A

本発明は、上記の問題を解決することを課題とし、保存性に優れ、最高濃度が高く、カブリが少なく、銀色調が良好で、かつ環境湿度条件の変動に対する許容度の大きい熱現像感光材料及びその画像記録方法を提供することにある。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, a photothermographic material having excellent storage stability, high maximum density, low fog, good silver tone, and high tolerance for fluctuations in environmental humidity conditions. And an image recording method thereof.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。   The above object of the present invention can be achieved by the following configuration.

(請求項1)
支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、銀イオンの還元剤を含有する熱現像感光材料において、該銀イオン還元剤の少なくとも1種が下記一般式(1)で表されることを特徴とする熱現像感光材料。
(Claim 1)
In a photothermographic material containing an organic silver salt, a photosensitive silver halide, and a silver ion reducing agent on a support, at least one of the silver ion reducing agent is represented by the following general formula (1): A heat-developable photosensitive material.

Figure 2005274812
Figure 2005274812

〔式中、R0′、R0″は水素原子、アルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Q0はベンゼン環上に置換可能な基を表し、n及びmは0〜2の整数を表す。複数のQ0は同じでも異なっていても良い。Rxは水素原子又はアルキル基を表す。R1は水素原子、又はR4と互いに結合して環を形成するのに必要な原子群を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数が0又は1で且つ、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子から選ばれる少なくとも1原子を含む置換基、または炭素数2以上の置換基を表す。R3は水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。R4は水素原子、ハロゲン原子、置換基、又はR1と互いに結合して環を形成するのに必要な原子群を表す。R5は水素原子又はメチル基を表す。〕
(請求項2)
造核剤を含有することを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。
[Wherein, R 0 ′ and R 0 ″ represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, Q 0 represents a substitutable group on the benzene ring, and n and m are 0-2. A plurality of Q 0 s may be the same or different, R x represents a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 is a hydrogen atom, or R 4 is necessary for bonding to each other to form a ring. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituent having 0 or 1 carbon atoms and containing at least one atom selected from an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom, or a substituent having 2 or more carbon atoms R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituent, and R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituent, or an atomic group necessary for bonding to R 1 to form a ring. R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group.]
(Claim 2)
2. The photothermographic material according to claim 1, further comprising a nucleating agent.

(請求項3)
請求項1又は2に記載の熱現像感光材料を、発振波長600nm〜1100nmのレーザ走査露光機を用いて露光することを特徴とする画像記録方法。
(Claim 3)
An image recording method comprising exposing the photothermographic material according to claim 1 or 2 using a laser scanning exposure machine having an oscillation wavelength of 600 nm to 1100 nm.

本発によりは、保存性に優れ、最高濃度が高く、カブリが少なく、銀色調が良好で、かつ環境湿度条件の変動に対する許容度の大きい熱現像感光材料及びその画像記録方法を提供することができた。   According to the present invention, it is possible to provide a photothermographic material having excellent storage stability, high maximum density, low fog, good silver color tone, and high tolerance for fluctuations in environmental humidity conditions, and an image recording method thereof. did it.

本発明を更に詳しく説明する。本発明においては、銀イオン還元剤の少なくとも一種がビスフェノール誘導体である特定の6員環置換基を有する化合物を単独又は他の異なる化学構造を有する還元剤と併せて用いる。本発明に係る熱現像感光材料において、カブリ発生等による性能劣化及び熱現像後の銀画像の色調劣化、及び保存性の劣化等を予想外に抑制することが出来る。また、特に造核剤との併用において最高濃度が高く、かつ環境湿度条件の変動に対する許容度に優れた感光材料が得られる等、医療、印刷両方の用途において驚くべき効果を得ることが出来る。   The present invention will be described in more detail. In the present invention, a compound having a specific 6-membered ring substituent in which at least one of the silver ion reducing agents is a bisphenol derivative is used alone or in combination with other reducing agents having different chemical structures. In the photothermographic material according to the present invention, it is possible to unexpectedly suppress performance deterioration due to fogging and the like, deterioration in color tone of the silver image after heat development, deterioration in storage stability, and the like. In particular, in combination with a nucleating agent, a surprising effect can be obtained in both medical and printing applications, such as a photosensitive material having a high maximum density and excellent tolerance to fluctuations in environmental humidity conditions.

本発明に用いられる還元剤としては、前記一般式(1)で表されるビスフェノール誘導体が好ましい。   The reducing agent used in the present invention is preferably a bisphenol derivative represented by the general formula (1).

次ぎに、本発明に係る一般式(1)で表される化合物について詳述する。   Next, the compound represented by the general formula (1) according to the present invention will be described in detail.

0′、R0″は水素原子、アルキル基、アリール基、又は複素環基を表すが、アルキル基として具体的には炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましい。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、1−メチルシクロヘキシル基、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基、エチニル基、1−プロピニル基等が挙げられる。より好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、t−ブチル基、1−メチルシクロヘキシル基であり、もっとも好ましくはメチル基である。アリール基として具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。複素環基として具体的にはピリジン基、キノリン基、イソキノリン基、イミダゾール基、ピラゾール基、トリアゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、オキサジアゾール基、チアジアゾール基、テトラゾール基等の芳香族ヘテロ環基やピペリジノ基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基等の非芳香族ヘテロ環基が挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していても良く、該置換基としては前述の環上の置換基をあげることができる。複数のR0′、R0″は同じでも異なっていても良いが、最も好ましくはすべてがメチル基の場合である。 R 0 ′ and R 0 ″ represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and the alkyl group is specifically preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, pentyl group, iso-pentyl group, 2-ethyl-hexyl group, octyl group, decyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, 1- Methylcyclohexyl group, ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 1-cycloalkenyl group, 2-cycloalkenyl group Ethynyl group, 1-propynyl group, etc. More preferably, methyl group, ethyl group, isopropyl group, t-butyl group, cyclohexyl 1-methylcyclohexyl group, etc., preferably a methyl group, a t-butyl group, and a 1-methylcyclohexyl group, and most preferably a methyl group.Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, Specific examples of the heterocyclic group include a pyridine group, a quinoline group, an isoquinoline group, an imidazole group, a pyrazole group, a triazole group, an oxazole group, a thiazole group, an oxadiazole group, a thiadiazole group, and a tetrazole group. And non-aromatic heterocyclic groups such as a piperidino group, morpholino group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group, tetrahydropyranyl group, etc. These groups may further have a substituent. Well, examples of the substituent include the above-mentioned substituents on the ring. Kill. Multiple R 0 ', R 0 "may be the same or different, but all most preferably is the case of methyl group.

0はベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、アミド基(アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。n及びmは0〜2の整数を表すが、最もこのましくはn、mともに0の場合である。 Q 0 represents a substitutable group on the benzene ring, specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group). Cyclohexyl group, etc.), halogenated alkyl group (trifluoromethyl group, perfluorooctyl group, etc.), cycloalkyl group (cyclohexyl group, cyclopentyl group etc.), alkynyl group (propargyl group etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate Group, aryl group (phenyl group etc.), heterocyclic group (pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, selenazolyl group, sriphoranyl group, piperidinyl group, Pyrazolyl group, tetrazolyl group, etc.), halogen atom ( Elementary atom, bromine atom, iodine atom, fluorine atom, etc.), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, cyclopentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy) Group), alkoxycarbonyl group (methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl group etc.), sulfonamide group (methanesulfonamide group, ethanesulfonamide group) , Butanesulfonamide group, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), sulfamoyl group (aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butyrate) Ruaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), urethane group (methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, phenylureido group) 2-pyridylureido group), acyl group (acetyl group, propionyl group, butanoyl group, hexanoyl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group, pyridinoyl group, etc.), carbamoyl group (aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethyl group) Aminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), amide group Acetamide group, propionamide group, butanamide group, hexaneamide group, benzamide group, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), Amino group (amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, anilino group, 2-pyridylamino group, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, oxamoyl group, etc. Can be mentioned. These groups may be further substituted with these groups. n and m represent integers of 0 to 2, most preferably n and m are both 0.

xは水素原子、又はアルキル基をあらわすが、アルキル基として具体的には炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましい。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、1−メチルシクロヘキシル基、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基、エチニル基、1−プロピニル基等が挙げられる。より好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基等が挙げられる。好ましくはRxは水素原子である。 R x represents a hydrogen atom or an alkyl group. Specifically, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, pentyl group, iso-pentyl group, 2-ethyl-hexyl group, octyl group, decyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl. Group, 1-methylcyclohexyl group, ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 1-cycloalkenyl group, 2 -A cycloalkenyl group, an ethynyl group, a 1-propynyl group, etc. are mentioned. More preferably, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, etc. are mentioned. Preferably R x is a hydrogen atom.

1は水素原子、又はR4と互いに結合して環を構成するのに必要な原子群を表すが、該環はR1、R4、R5、及びRxが結合する炭素原子を含む5員環を表し、具体的にはシクロペンタン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロチオフェン環をあらわす。R1として好ましくは水素原子、又は、R4と結合してシクロペンタン環を形成する場合であり、より好ましくは水素原子である。 R 1 represents a hydrogen atom or an atomic group necessary for forming a ring by bonding to R 4, and the ring includes a carbon atom to which R 1 , R 4 , R 5 , and R x are bonded. Represents a 5-membered ring, specifically a cyclopentane ring, a tetrahydrofuran ring, or a tetrahydrothiophene ring. R 1 is preferably a hydrogen atom or a case where it is combined with R 4 to form a cyclopentane ring, more preferably a hydrogen atom.

2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数が0又は1で且、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含む置換基、または炭素数2以上の置換基を表すが、炭素数が0又は1で且、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含む置換基として具体的にはアセチル基、アミノカルボニル基、アミノスルホニル基、スルホ基、アミノ基、メチルアミノ基、アミノメチル基、ヒドロキシメチル基、メルカプトメチル基、メトキシル基、メチルチオ基、メタンスルホニル基、メタンスルホニルアミノ等を表す。炭素数2以上の置換基としては、具体的には炭素数2〜25のアルキル基(エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、アルコキシ基(エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スルホンアミド基(エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基等)、アシル基(プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基(メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、アミド基(プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジルアミノ基等)、等を挙げることができる。又これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。R2として好ましくは水素原子、炭素数2〜10のアルキル基であり、最も好ましくは水素原子である。 R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a carbon number of 0 or 1, and a substituent containing an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom, or a substituent having 2 or more carbon atoms, and the carbon number is 0 or 1 Specific examples of the substituent containing an oxygen atom, sulfur atom or nitrogen atom include acetyl group, aminocarbonyl group, aminosulfonyl group, sulfo group, amino group, methylamino group, aminomethyl group, hydroxymethyl group, mercaptomethyl. Group, methoxyl group, methylthio group, methanesulfonyl group, methanesulfonylamino and the like. Specific examples of the substituent having 2 or more carbon atoms include alkyl groups having 2 to 25 carbon atoms (ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc.), cycloalkyl Group (cyclohexyl group, cyclopentyl group, etc.), alkynyl group (propargyl group, etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate group, aryl group (phenyl group, etc.), heterocyclic group (pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group) , Furyl group, pyrrolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, selenazolyl group, sriphoranyl group, piperidinyl group, pyrazolyl group, tetrazolyl group, etc.), alkoxy group (ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, cyclopentyloxy group) Hexyloxy group, cycl (Hexyloxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl group, etc.), sulfonamide Groups (ethanesulfonamide group, butanesulfonamide group, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), sulfamoyl groups (dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group) Group, phenylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), urethane group (methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylurea) Group, phenylureido group, 2-pyridylureido group, etc.), acyl group (propionyl group, butanoyl group, hexanoyl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group, pyridinoyl group, etc.), carbamoyl group (methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl) Group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), amide group (propionamide group, butanamide group, hexaneamide group, benzamide group, etc.), sulfonyl Group (ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, Cyclopentylamino group, anilino group, 2-pyridylamino group, etc.). These groups may be further substituted with these groups. R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, and most preferably a hydrogen atom.

3は水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を表すが、該置換基としてはアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、アルケニル基(例えば、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基等)、シクロアルケニル基(例えば、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1−プロピニル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アルキルカルボニルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、ウレイド基(例えば、メチルアミノカルボニルアミノ基等)、アルキルスルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等)、カルバモイル基(例えば、カルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−モルホリノカルボニル基等)、スルファモイル基(スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モルフォリノスルファモイル基等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基等)、アルキルアミノ基(例えばアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基等)、スルホ基、ホスフォノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルホニルアミノカルボニル基、エタンスルホニルアミノカルボニル基等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(例えば、アセトアミドスルホニル基、メトキシアセトアミドスルホニル基等)、アルキニルアミノカルボニル基(例えば、アセトアミドカルボニル基、メトキシアセトアミドカルボニル基等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル基、エタンスルフィニルアミノカルボニル基等)等が挙げられる。R3として好ましくは水素原子である。 R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an iso-pentyl group, 2-ethyl- Hexyl, octyl, decyl, etc.), cycloalkyl (eg, cyclohexyl, cycloheptyl, etc.), alkenyl (eg, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl) Group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, etc.), cycloalkenyl group (eg, 1-cycloalkenyl group, 2-cycloalkenyl group, etc.), alkynyl group (eg, ethynyl group, 1-propynyl group) Etc.), alkoxy groups (eg methoxy group, ethoxy group, propoxy group etc.), alkylcarbonyloxy groups (eg acetyl) Xy group etc.), alkylthio group (eg methylthio group, trifluoromethylthio group etc.), carboxyl group, alkylcarbonylamino group (eg acetylamino group etc.), ureido group (eg methylaminocarbonylamino group etc.), alkyl A sulfonylamino group (for example, methanesulfonylamino group), an alkylsulfonyl group (for example, methanesulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group, etc.), a carbamoyl group (for example, carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-morpholinocarbonyl) Group), sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkylsulfonamide group (for example, meta Sulfonamide group, butanesulfonamide group, etc.), alkylamino group (for example, amino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, etc.), sulfo group, phosphono group, sulfite group, sulfino group, Alkylsulfonylaminocarbonyl group (eg, methanesulfonylaminocarbonyl group, ethanesulfonylaminocarbonyl group, etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (eg, acetamidosulfonyl group, methoxyacetamidosulfonyl group, etc.), alkynylaminocarbonyl group (eg, acetamidocarbonyl) Group, methoxyacetamidocarbonyl group, etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl group (for example, methanesulfinylaminocarbonyl group, ethanesulfinylaminocarbonyl group, etc.) and the like. R 3 is preferably a hydrogen atom.

4は水素原子、ハロゲン原子、置換基、又はR1と互いに結合して、環を形成するのに必要な原子群を表すが、該値置換基としてはR4で挙げた置換基と同義である。またR1と互いに結合して、環を形成するのに必要な原子群はR1で挙げた原子群と同義である。R4として好ましくは水素原子、アルキル基であり、特に好ましくは水素原子である。 R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituent, or an atomic group necessary for bonding to R 1 to form a ring, and the value substituent has the same meaning as the substituent described for R 4. It is. Further, the atomic group necessary for bonding to R 1 to form a ring is the same as the atomic group listed for R 1 . R 4 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.

5は水素原子又はメチル基を表すが、好ましくはメチル基である。 R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group, preferably a methyl group.

次に一般式(1)で表される化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Next, although the specific example of a compound represented by General formula (1) is enumerated, this invention is not limited to these.

Figure 2005274812
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Figure 2005274812
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本発明の一般式(1)で表される化合物は以下の方法で容易に合成することができる。好ましい合成スキームを化合物例R−1を例にとり以下に図示する。   The compound represented by the general formula (1) of the present invention can be easily synthesized by the following method. A preferred synthesis scheme is illustrated below by taking Compound Example R-1 as an example.

Figure 2005274812
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即ち、好ましくは2当量のフェノール及び1当量のアルデヒドを無溶媒で、もしくは適当な有機溶媒で溶解または懸濁させ、触媒量の酸又はアルカリを加えて、好ましくは−20℃〜180℃の温度下で0.5〜60時間反応させることにより好収率で目的とするR−1を得ることができる。その他の例示化合物についても同様である。   That is, preferably 2 equivalents of phenol and 1 equivalent of aldehyde are dissolved or suspended in the absence of a solvent or in a suitable organic solvent, and a catalytic amount of acid or alkali is added, preferably at a temperature of -20 ° C to 180 ° C. The target R-1 can be obtained at a good yield by reacting for 0.5 to 60 hours. The same applies to other exemplary compounds.

有機溶媒として好ましくは、炭化水素系有機溶媒であり、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。好ましくはトルエン、キシレンである。さらに収率の点からは無溶媒で反応させることが最も好ましい。酸触媒としてあらゆる無機酸、有機酸を使用することができるが、濃塩酸、p−トルエンスルホン酸、及び燐酸が好ましく用いられる。アルカリ触媒としては苛性ソーダ、苛性カリ、トリエチルアミン、DBU、及びソジウムメチラートが好ましく用いられる。触媒量としては対応するアルデヒドに対して0.001当量〜1.5当量使用することが好ましい。反応温度として(15℃〜150℃)が好ましく、反応時間としては3〜20時間が好ましい。   The organic solvent is preferably a hydrocarbon organic solvent, and specific examples include benzene, toluene, xylene, dichloromethane, chloroform and the like. Preferred are toluene and xylene. Furthermore, it is most preferable to make it react without a solvent from the point of a yield. Although any inorganic acid and organic acid can be used as the acid catalyst, concentrated hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid, and phosphoric acid are preferably used. As the alkali catalyst, caustic soda, caustic potash, triethylamine, DBU, and sodium methylate are preferably used. The catalyst amount is preferably 0.001 to 1.5 equivalents relative to the corresponding aldehyde. The reaction temperature is preferably (15 ° C. to 150 ° C.), and the reaction time is preferably 3 to 20 hours.

一般式(1)で表される還元剤は単独で用いてもよいが、2種以上を併用して用いてもよい。また、本発明の還元剤と、それ以外の還元剤とを併用してもよい。   Although the reducing agent represented by General formula (1) may be used independently, you may use it in combination of 2 or more types. Moreover, you may use together the reducing agent of this invention, and other reducing agents.

一般式(1)で表される還元剤と併用できる還元剤は、例えば特開平11−65021号公報の段落番号0043〜0045や、欧州特許公開EP0803764A1号公報の第7ページ第34行〜第18ページ第12行に記載されている。本発明の熱現像感光材料では、特にビスフェノール類還元剤(例えば、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン)の併用が好ましい。一般式(1)で表される還元剤は、有機酸銀塩を含有する画像形成層に含有させることが好ましいが、隣接する非画像形成層に含有させてもよい。以下に具体的合成例を示すが、本発明はこれに限定されない。   Examples of the reducing agent that can be used in combination with the reducing agent represented by the general formula (1) include paragraph numbers 0043 to 0045 of JP-A No. 11-65021 and page 7, lines 34 to 18 of European Patent Publication No. EP0803764A1. It is described in the 12th line of the page. In the photothermographic material of the invention, it is particularly preferable to use a bisphenol reducing agent (for example, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane) in combination. The reducing agent represented by the general formula (1) is preferably contained in an image forming layer containing an organic acid silver salt, but may be contained in an adjacent non-image forming layer. Specific synthesis examples are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2005274812
Figure 2005274812

2,4−キシレノール 24.4g(20mmol)をトルエン50mlに溶解した後、p−トルエンスルホン酸1水和物17.2g(10mmol)を加えた。室温(23℃)でメチルシクロヘキセンカルボアルデヒド12.4g(10mmol)を滴下した。滴下終了後、室温で20時間撹拌を行った。更に60℃で4時間加熱撹拌を行った。水85ml、酢酸エチル200mlを加え、有機層を分取した。分取した有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液85ml、飽和食塩水85mlで順次洗浄した。減圧濃縮を行った。得られた粗結晶をアセトニトリル120mlに加熱溶解した後、室温で4時間撹拌を行った。更に氷水冷却下で3時間撹拌し、析出結晶をろ取した。ろ取した結晶を冷却したアセトニトリル40mlで洗浄した。50℃で送風乾燥(1日)を行った。収量30.7g(収率88%)、融点122℃、構造はNMR及びMassスペクトルにて同定した。   After 24.4 g (20 mmol) of 2,4-xylenol was dissolved in 50 ml of toluene, 17.2 g (10 mmol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added. 12.4 g (10 mmol) of methylcyclohexenecarbaldehyde was added dropwise at room temperature (23 ° C.). After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 20 hours. Further, the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 4 hours. Water (85 ml) and ethyl acetate (200 ml) were added, and the organic layer was separated. The separated organic layer was washed sequentially with 85 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and 85 ml of saturated brine. Concentration under reduced pressure was performed. The obtained crude crystals were dissolved in 120 ml of acetonitrile with heating, and then stirred at room temperature for 4 hours. The mixture was further stirred for 3 hours under cooling with ice water, and the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals collected by filtration were washed with 40 ml of cooled acetonitrile. Blow drying (one day) was performed at 50 ° C. Yield 30.7 g (yield 88%), melting point 122 ° C., structure was identified by NMR and Mass spectrum.

上記還元剤は、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。   The reducing agent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, a solid fine particle dispersion form, or the photosensitive material.

本発明ではさらに米国特許第3,589,903号、同第4,021,249号若しくは英国特許第1,486,148号各明細書及び特開昭51−51933号、同50−36110号、同50−116023号、同52−84727号若しくは特公昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール化合物、例えば、2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル等の米国特許第3,672,904号明細書に記載されたビスナフトール類、更に、例えば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンスルホンアミドナフトール等の米国特許第3,801,321号明細書に記載されているようなスルホンアミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類も銀イオン還元剤として用いることができる。   In the present invention, further, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,021,249 or British Patent 1,486,148 and JP-A-51-51933, 50-36110, The polyphenol compounds described in JP-A-50-116023, JP-A-52-84727 or JP-B-51-35727, such as 2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl, 6,6'-dibromo-2 Bisnaphthols described in US Pat. No. 3,672,904 such as 2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl and the like, and further, for example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol US Patents such as 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol, 4-benzenesulfonamidonaphthol Sulfonamidophenols or sulfonamidonaphthols, such as those described in 3,801,321 Pat also can be used as the silver ion reducing agent.

本発明の銀イオン還元剤の使用量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によって変化するが、一般的には有機銀塩1モル当たり0.05モル乃至10モル好ましくは0.1モル乃至3モルが適当である。本発明においては、前記還元剤を塗布直前に感光性ハロゲン化銀及び有機銀塩粒子及び溶媒からなる感光乳剤溶液に添加混合して塗布した方が、停滞時間による写真性能変動が小さく好ましい場合がある。   The amount of the silver ion reducing agent of the present invention varies depending on the type of organic silver salt, reducing agent, and other additives, but is generally 0.05 mol to 10 mol, preferably 0, per mol of organic silver salt. 1 mol to 3 mol is suitable. In the present invention, it may be preferable that the reducing agent is added to and mixed with a photosensitive emulsion solution composed of photosensitive silver halide and organic silver salt grains and a solvent immediately before coating, because photographic performance fluctuation due to stagnation time is small. is there.

本発明に係る有機銀塩は、還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸である。本発明において用いられる有機酸としては、脂肪族カルボン酸、炭素環式カルボン酸、複素環式カルボン酸、複素環式化合物等があるが、特に長鎖(10〜30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環を有する複素環式カルボン酸等が好ましく用いられる。また、配位子が4.0〜10.0の銀イオンに対する総安定定数を有する有機銀塩錯体も有用である。   The organic silver salt according to the present invention is a reducible silver source and is an organic acid containing a reducible silver ion source. Examples of the organic acid used in the present invention include aliphatic carboxylic acid, carbocyclic carboxylic acid, heterocyclic carboxylic acid, heterocyclic compound and the like, but particularly long chain (10-30, preferably 15-25). The aliphatic carboxylic acid having the number of carbon atoms) and the heterocyclic carboxylic acid having a nitrogen-containing heterocyclic ring are preferably used. An organic silver salt complex having a total stability constant with respect to silver ions having a ligand of 4.0 to 10.0 is also useful.

このような有機酸銀塩の例としては、Research Disclosure(以降、RDと略す)第17029及び第29963に記載されている。中でも、脂肪酸の銀塩が好ましく用いられ、特に好ましく用いられるのは、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀及びステアリン酸銀である。   Examples of such organic acid silver salts are described in Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) 17029 and 29963. Of these, silver salts of fatty acids are preferably used, and silver behenate, silver arachidate, and silver stearate are particularly preferably used.

前述の有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正混合法、逆混合法、同時混合法、等が好ましく用いられる。また、特開平9−127643号に記載されている様なコントロールドダブルジェット法を用いることも可能である。   The organic silver salt compound described above can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound that forms a complex with silver, and a normal mixing method, a back mixing method, a simultaneous mixing method, and the like are preferably used. It is also possible to use a controlled double jet method as described in JP-A-9-127643.

本発明においては、有機銀塩は平均粒径が1μm以下でありかつ単分散であることが好ましい。有機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が、例えば、球状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒径は、好ましくは0.01〜0.8μm、特に0.05〜0.5μmが好ましい。また、単分散とは、後述のハロゲン化銀の場合と同義であり、好ましくは単分散度が1〜30%である。本発明においては、有機銀塩が平均粒径1μm以下の単分散粒子であることがより好ましく、この範囲にすることで濃度の高い画像が得られる。さらに、有機銀塩は、平板状粒子が全有機銀の60個数%以上であることが好ましい。本発明において、平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、いわゆる下記式で表されるアスペクト比(ARと略す)が3以上のものをいう。   In the present invention, the organic silver salt preferably has an average particle size of 1 μm or less and is monodispersed. The average particle diameter of the organic silver salt is, for example, when the organic silver salt particles are spherical, rod-shaped, or tabular, the diameter when considering a sphere equivalent to the volume of the organic silver salt particles. Say. The average particle size is preferably 0.01 to 0.8 μm, particularly preferably 0.05 to 0.5 μm. Moreover, monodispersion is synonymous with the case of the below-mentioned silver halide, Preferably monodispersion degree is 1 to 30%. In the present invention, the organic silver salt is more preferably monodisperse particles having an average particle size of 1 μm or less, and an image having a high density can be obtained by setting the content within this range. Further, the organic silver salt preferably has tabular grains of 60% by number or more of the total organic silver. In the present invention, the tabular grains mean those having an average grain diameter / thickness ratio, that is, an aspect ratio (abbreviated as AR) represented by the following formula of 3 or more.

AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm)
このような有機銀粒子は、必要に応じてバインダーや界面活性剤などと共に予備分散した後、メディア分散機又は高圧ホモジナイザなどで分散粉砕することが好ましい。上記予備分散で用いることのできる分散機としては、例えば、アンカー型、プロペラ型等の一般的攪拌機や高速回転遠心放射型攪拌機(ディゾルバ)、高速回転剪断型撹拌機(ホモミキサ)を使用することができる。また、上記メディア分散機としては、例えば、ボールミル、遊星ボールミル、振動ボールミルなどの転動ミルや、媒体攪拌ミルであるビーズミル、アトライター、その他バスケットミルなどを挙げることができ、また高圧ホモジナイザとしては、例えば、壁、プラグなどに衝突するタイプ、液を複数に分けてから高速で液同士を衝突させるタイプ、細いオリフィスを通過させるタイプなど様々なタイプを用いることができる。
AR = average particle diameter (μm) / thickness (μm)
Such organic silver particles are preferably preliminarily dispersed together with a binder, a surfactant or the like, if necessary, and then dispersed and ground with a media disperser or a high-pressure homogenizer. As the disperser that can be used in the preliminary dispersion, for example, a general stirrer such as an anchor type or a propeller type, a high-speed rotating centrifugal radiation stirrer (dissolver), or a high-speed rotating shear stirrer (homomixer) may be used. it can. Examples of the media disperser include a rolling mill such as a ball mill, a planetary ball mill, and a vibration ball mill, a bead mill that is a medium agitation mill, an attritor, and other basket mills, and a high-pressure homogenizer. For example, various types such as a type that collides with a wall, a plug, etc., a type that allows liquids to collide with each other at high speed after dividing the liquid, and a type that allows a thin orifice to pass through can be used.

本発明に用いられる有機銀粒子を分散する際に用いられる装置類において、該有機銀粒子が接触する部材の材質として、例えば、ジルコニア、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素などのセラミックス類又はダイヤモンドを用いることが好ましく、特にジルコニアを用いることが好ましい。   In the apparatus used when dispersing the organic silver particles used in the present invention, for example, ceramics such as zirconia, alumina, silicon nitride, boron nitride, or diamond is used as the material of the member in contact with the organic silver particles. It is preferable to use zirconia, in particular.

本発明に用いられる有機銀粒子は、銀1gあたり0.01〜0.5mgのZrを含有することが好ましく、特に好ましくは0.01〜0.3mgのZrを含有する場合である。上記分散を行う際、バインダー濃度、予備分散方法、分散機運転条件、分散回数などを最適化することは、本発明に用いられる有機銀塩粒子を得る方法として非常に好ましい。   The organic silver particles used in the present invention preferably contain 0.01 to 0.5 mg of Zr per 1 g of silver, particularly preferably 0.01 to 0.3 mg of Zr. When carrying out the above dispersion, optimizing the binder concentration, the preliminary dispersion method, the dispersing machine operating conditions, the number of times of dispersion, etc. is very preferable as a method for obtaining the organic silver salt particles used in the present invention.

本発明に係る感光性ハロゲン化銀は、画像形成後の白濁を低く抑えるため及び良好な画質を得るために、平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01〜0.1μm、特に0.02〜0.08μmが好ましい。ここでいう粒子サイズとは、電子顕微鏡で観察される個々の粒子像と等しい面積を有する円の直径(円相当径)を指す。又、ハロゲン化銀は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が40%以下をいう。更に好ましくは30%以下であり、特に好ましくは20%以下となる粒子である。   The photosensitive silver halide according to the present invention preferably has a smaller average grain size, and preferably has an average grain size of 0.1 μm or less, more preferably, in order to suppress white turbidity after image formation and to obtain good image quality. 0.01-0.1 micrometer, especially 0.02-0.08 micrometer are preferable. The particle size here refers to the diameter (equivalent circle diameter) of a circle having the same area as each particle image observed with an electron microscope. The silver halide is preferably monodispersed. The monodispersion here means that the monodispersity obtained by the following formula is 40% or less. The particles are more preferably 30% or less, and particularly preferably 20% or less.

単分散度=(粒径の標準偏差)/(平均粒径値)×100
感光性ハロゲン化銀粒子の形状については、特に制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には70%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラー指数〔100〕面の比率は、増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tani,J.Imaging Sci.,29,165(1985)により求めることができる。
Monodispersity = (standard deviation of particle size) / (average particle size value) × 100
The shape of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited, but the ratio occupied by the Miller index [100] plane is preferably high, and this ratio is 50% or more, further 70% or more, particularly 80% or more. Preferably there is. The ratio of the Miller index [100] plane is calculated by using the adsorption dependency between the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani, J .; Imaging Sci. 29, 165 (1985).

また、本発明において、もう一つの好ましい感光性ハロゲン化銀の形状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影面積の平方根を粒径rμmとし、垂直方向の厚みをhμmとした時のアスペクト比(r/h)が3以上のものをいう。その中でも好ましくは、アスペクト比が3〜50である。また、平板粒子の粒径は0.1μm以下であることが好ましく、さらに0.01μm〜0.08μmが好ましい。これらの平板粒子は、米国特許第5,264,337号、同第5,314,798号、同第5,320,958号等に記載されており、容易に目的の平板粒子を得ることができる。   In the present invention, another preferred shape of the photosensitive silver halide is a tabular grain. The term “tabular grain” as used herein refers to those having an aspect ratio (r / h) of 3 or more when the square root of the projected area is the grain size r μm and the thickness in the vertical direction is h μm. Among them, the aspect ratio is preferably 3 to 50. Moreover, it is preferable that the particle size of a tabular grain is 0.1 micrometer or less, Furthermore, 0.01 micrometer-0.08 micrometer are preferable. These tabular grains are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798, 5,320,958, etc., and the desired tabular grains can be easily obtained. it can.

感光性ハロゲン組成としては、特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる乳剤は、P.Glafkides著Chimie et Physique Photographique(Paul Montel社刊、1967年)、G.F.Duffin著 Photographic Emulsion Chemistry(The Focal Press刊、1966年)、V.L.Zelikman et al著Making and Coating Photographic Emulsion(The Focal Press刊、1964年)等に記載された方法に基づいて調製することができる。   The photosensitive halogen composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide. The emulsion used in the present invention is P.I. Chifie et Physique Photographic (published by Paul Montel, 1967) by Glafkides. F. Duffin's Photographic Emission Chemistry (published by The Focal Press, 1966), V.C. L. It can be prepared based on the method described in Making and Coating Photographic Emulsion (published by The Focal Press, 1964) by Zelikman et al.

本発明に係る感光性ハロゲン化銀には、周期表の6族から11族に属する金属イオンを含有することが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt、Auが好ましい。   The photosensitive silver halide according to the present invention preferably contains a metal ion belonging to Groups 6 to 11 of the periodic table. As the metal, W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, Pt, and Au are preferable.

これらの金属イオンは、金属錯体又は金属錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの金属錯体又は金属錯体イオンとしては、下記一般式で表される6配位金属錯体が好ましい。   These metal ions can be introduced into the silver halide in the form of metal complexes or metal complex ions. As these metal complexes or metal complex ions, hexacoordinate metal complexes represented by the following general formula are preferable.

一般式〔ML6n
式中、Mは周期表の6〜11族の元素から選ばれる遷移金属、Lは配位子、mは0、−、2−、3−又は4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、例えば、ハロゲン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていてもよい。
General formula [ML 6 ] n
In the formula, M represents a transition metal selected from Group 6 to 11 elements of the periodic table, L represents a ligand, and m represents 0,-, 2-, 3-, or 4-. Specific examples of the ligand represented by L include, for example, halides (fluorides, chlorides, bromides and iodides), cyanides, cyanates, thiocyanates, selenocyanates, tellurocyanates, azides and acos. Each ligand includes nitrosyl, thionitrosyl, and the like, preferably aco, nitrosyl, thionitrosyl, and the like. When an acoligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.

Mとしては、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、イリジウム(Ir)及びオスミウム(Os)で好ましく、これらを含む遷移金属錯体イオンの具体例としては、〔RhCl6-3、〔RhCl5(H2O)〕-2、〔RhBr5(NO)〕-2、〔RhCl5(NS)〕-2、〔RhCl4(NO)(CN)〕-1、〔RhCl(NO)(CN)4-2、〔ReCl6-3、〔ReBr6-3、〔ReCl5(NO)〕-2、〔Re(NS)Br3-2、〔Re(NO)(CN)5-2、〔RuCl6-3、〔RuCl4(H2O)2-1、〔RuCl5(NO)〕-2、〔RuBr5(NS)〕-2、〔RuCl5(NS)〕-2、〔OsCl6-3、〔OsCl5(NO)〕-2、〔Os(NO)(CN)5-2、〔Os(NO)(CN)〕-1、〔Os(NS)Br5-2、〔IrCl6-3、〔IrCl5(H2O)〕-2、〔IrBr5(NO)〕-2、〔IrCl5(NS)〕-2などが挙げられる。 M is preferably rhodium (Rh), ruthenium (Ru), rhenium (Re), iridium (Ir) and osmium (Os). Specific examples of transition metal complex ions containing these include [RhCl 6 ] -3 [RhCl 5 (H 2 O)] −2 , [RhBr 5 (NO)] −2 , [RhCl 5 (NS)] −2 , [RhCl 4 (NO) (CN)] −1 , [RhCl (NO) ) (CN) 4 ] −2 , [ReCl 6 ] −3 , [ReBr 6 ] −3 , [ReCl 5 (NO)] −2 , [Re (NS) Br 3 ] −2 , [Re (NO) ( CN) 5] -2, [RuCl 6] -3, [RuCl 4 (H 2 O) 2] -1, [RuCl 5 (NO)] -2, [RuBr 5 (NS)] -2, [RuCl 5 (NS)] -2, [OsCl 6] -3, [OsCl 5 (NO)] -2, [Os (NO) (CN) 5] -2, [ Os (NO) (CN)] −1 , [Os (NS) Br 5 ] −2 , [IrCl 6 ] −3 , [IrCl 5 (H 2 O)] −2 , [IrBr 5 (NO)] −2 , [IrCl 5 (NS)] -2 and the like.

前述した金属イオン、金属錯体又は金属錯体イオンは、一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用してもよい。これらの金属イオン、金属錯体又は金属錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲン化銀1モル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当であり、好ましくは1×10-8〜1×10-4モルである。 One kind of metal ion, metal complex or metal complex ion described above may be used, or two or more kinds of the same kind of metal and different kinds of metals may be used in combination. The content of these metal ions, metal complexes or metal complex ions, generally is suitably 1 × 10 -9 ~1 × 10 -2 mol per mol of silver halide, preferably 1 × 10 - 8 to 1 × 10 −4 mol.

これらの金属を提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、即ち、核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後の任意の段階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。   These metal-providing compounds are preferably added at the time of silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening, chemical sensitization It may be added at any stage before or after, but is preferably added at the stage of nucleation, growth and physical ripening, more preferably at the stage of nucleation and growth, most preferably Add at the stage of formation.

添加に際しては、数回に渡って分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭63−29603号、特開平2−306236号、同3−167545号、同4−76534号、同6−110146号、同5−273683号等に記載されている様に、粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。好ましくは、粒子内部に分布をもたせることができる。これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加することができるが、例えば、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。   In addition, it may be divided and added several times, or it can be uniformly contained in the silver halide grains. JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, 3 As described in No. 167545, No. 4-76534, No. 6-110146, No. 5-273683, etc., it can also be contained with distribution in the particles. Preferably, a distribution can be provided inside the particles. These metal compounds can be added by dissolving in water or an appropriate organic solvent (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). A method of adding an aqueous solution or a metal compound and an aqueous solution in which NaCl and KCl are dissolved together to a water-soluble silver salt solution or a water-soluble halide solution during particle formation, or a silver salt solution and a halide solution are simultaneously mixed. When adding a third aqueous solution, a method of preparing silver halide grains by a three-liquid simultaneous mixing method, a method of adding an aqueous solution of a required amount of a metal compound to the reaction vessel during grain formation, or silver halide There is a method of adding another silver halide grain previously doped with a metal ion or complex ion at the time of preparation and dissolving it. In particular, a method of adding an aqueous solution of a metal compound powder or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to the water-soluble halide solution.

粒子表面に添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中、もしくは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。   When added to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during physical ripening, or at the end or chemical ripening.

本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子は、粒子形成後に脱塩してもしなくてもよいが、脱塩を施す場合、例えば、ヌードル法、フロキュレーション法等、当業界で知られている方法により、水洗、脱塩することができる。   In the present invention, the photosensitive silver halide grains may or may not be desalted after grain formation. However, when desalting is performed, for example, the noodle method, the flocculation method, etc. are known in the art. Can be washed with water and desalted.

本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感法としては、当業界でよく知られている硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法等を用いることができる。また、金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができる。   The silver halide grains used in the present invention are preferably chemically sensitized. As a preferable chemical sensitization method, a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method and the like well known in the art can be used. Further, noble metal sensitization methods such as gold compounds, platinum, palladium, iridium compounds, and reduction sensitization methods can be used.

前述の硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては、公知の化合物を用いることができるが、例えば、特開平7−128768号等に記載の化合物を使用することができる。テルル増感剤としては、例えば、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド類、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、テルロスルホナート類、P−Te結合を有する化合物、含Teヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化合物、及びコロイド状テルルなどを用いることができる。   As the compound preferably used in the above-described sulfur sensitization method, selenium sensitization method, and tellurium sensitization method, known compounds can be used. For example, compounds described in JP-A-7-128768 are used. be able to. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Compound having Te bond, tellurocarboxylates, Te-organyl tellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals, tellurosulfonates, compounds having P-Te bond Te-containing heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used.

貴金属増感法に好ましく用いられる化合物としては、例えば、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特許第2,448,060号、英国特許第618,061号などに記載されている化合物を好ましく用いることができる。   Examples of the compound preferably used for the noble metal sensitization include, for example, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide, U.S. Pat. No. 2,448,060 and British Patent 618,061. The compounds described in No. etc. can be preferably used.

還元増感法に用いられる化合物としては、例えば、アスコルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。また、ハロゲン化銀乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより、還元増感することができる。また、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより、還元増感することができる。   As compounds used in the reduction sensitization method, for example, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds, etc. are used. Can do. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the silver halide emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower. Further, reduction sensitization can be performed by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation.

次に、本発明の熱現像感光材料の上記説明した項目を除いた構成要素について説明する。   Next, components of the photothermographic material of the present invention excluding the above-described items will be described.

本発明の熱現像感光材料は、上述の有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、及び本発明の還元剤などを含有する画像形成層及び保護層をこの順に支持体上に積層させたもので、さらに、必要に応じて支持体と上記画像形成層との間に中間層を設置してなるものが好ましい。   The photothermographic material of the present invention is obtained by laminating an image forming layer and a protective layer containing the above-described organic silver salt, photosensitive silver halide, and the reducing agent of the present invention on a support in this order. Further, it is preferable that an intermediate layer is provided between the support and the image forming layer as necessary.

また、画像形成層とは反対の面には搬送性確保や、保護層とのブロッキング防止のためにバッキング層を設置した熱現像感光材料も好適に用いることができる。なお、各層は単一層でも良いし、組成が同一あるいは異なる2層以上の複数の層で構成されていても良い。   Further, a photothermographic material in which a backing layer is provided on the surface opposite to the image forming layer to ensure transportability and prevent blocking with the protective layer can be suitably used. Each layer may be a single layer, or may be composed of two or more layers having the same or different composition.

また、本発明では上述の各層を形成するために、バインダー樹脂が好ましく用いられる。このようなバインダー樹脂としては、従来から用いられている透明又は半透明なバインダー樹脂を適時選択して用いることができ、そのようなバインダー樹脂としては、例えば、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、酢酸酪酸セルロー等のセルロース系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリルゴム共重合体等のスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリポロピレン等の塩化ビニル系樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリアリレート、エポキシ樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられ、これらは単独で用いても良いし、2種以上の樹脂を併用して用いても良い。   In the present invention, a binder resin is preferably used to form each of the above layers. As such a binder resin, a conventionally used transparent or translucent binder resin can be selected and used as appropriate. Examples of such a binder resin include polyvinyl formal, polyvinyl acetoacetal, and polyvinyl butyral. Polyvinyl acetal resins such as ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, cellulose resins such as cellulose acetate butyrate, styrene resins such as polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-acrylonitrile-acrylic rubber copolymers, polyvinyl chloride, chlorine Vinyl chloride-based resins such as modified polypropylene, polyester, polyurethane, polycarbonate, polyarylate, epoxy resin, acrylic resin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. It may be used in combination with fat.

なお、前記バインダー樹脂は、本発明の目的を損なわない限り、保護層、中間層、あるいは必要な場合に設けられるバックコート層の各層に適時選択して用いることができる。尚、中間層やバックコート層には、活性エネルギー線で硬化可能なエポキシ樹脂やアクリルモノマーなどを層形成バインダー樹脂として使用しても良い。本発明では、以下に示す水系バインダー樹脂も好ましく用いられる。   In addition, the said binder resin can be suitably selected and used for each layer of a protective layer, an intermediate | middle layer, or the backcoat layer provided when needed, unless the objective of this invention is impaired. In addition, you may use an epoxy resin, an acrylic monomer, etc. which can be hardened | cured with an active energy ray as a layer formation binder resin for an intermediate | middle layer and a backcoat layer. In the present invention, the following aqueous binder resins are also preferably used.

好ましい樹脂としては、水溶解性ポリマー又は水分散性疎水性ポリマー(ラテックス)を使用することができる。例えば、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−イタコン酸共重合体、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレンオキシド、アクリル酸アミド−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸部ニル共重合体、スチレン−ブタジエン−アクリル酸共重合体等である。これらは、水性の塗布液を構成するが、塗布後乾燥し、塗膜を形成する段階で均一な樹脂膜を形成するものである。これらを使用する場合には、有機銀塩、ハロゲン化銀、還元剤等を水性の分散液として、これらのラテックスと混合して均一な分散液とした後、塗布することで熱現像画像形成層を形成することができる。乾燥により、ラテックスは粒子が融合し均一な膜を形成する。更に、ガラス転位点が−20℃〜80℃のポリマーが好ましく、特に−5℃〜60℃が好ましい。ガラス転位点が高いと、熱現像する温度が高くなり、低いとカブリやすくなり、感度低下や軟調化を招くからである。水分散ポリマーは、平均粒子径が1nmから数μmの範囲の微粒子にして分散されたものが好ましい。水分散疎水性ポリマーはラテックスとよばれ、水系塗布のバインダーとして広く使用されている中で耐水性を向上させるというラテックスが好ましい。バインダーとして耐水性を得る目的のラテックス使用量は、塗布性を勘案して決められるが、耐湿性の観点からは多いほど好ましい。全バインダー質量に対するラテックスの比率は50〜100%が好ましく、特に80%〜100%が好ましい。   As a preferable resin, a water-soluble polymer or a water-dispersible hydrophobic polymer (latex) can be used. For example, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride-acrylic acid copolymer, vinylidene chloride-itaconic acid copolymer, sodium polyacrylate, polyethylene oxide, acrylic acid amide-acrylic acid ester copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer Examples thereof include acrylonitrile-butadiene copolymer, vinyl chloride-acetic acid part nyl copolymer, and styrene-butadiene-acrylic acid copolymer. These constitute an aqueous coating solution, but form a uniform resin film at the stage of drying after coating and forming a coating film. When these are used, an organic silver salt, silver halide, reducing agent, etc. as an aqueous dispersion, mixed with these latexes to form a uniform dispersion, and then applied to form a heat-developable image forming layer Can be formed. By drying, the latex coalesces and forms a uniform film. Further, a polymer having a glass transition point of −20 ° C. to 80 ° C. is preferable, and −5 ° C. to 60 ° C. is particularly preferable. This is because if the glass transition point is high, the temperature at which heat development is carried out becomes high, and if it is low, fogging tends to occur, leading to a reduction in sensitivity and softening. The water-dispersed polymer is preferably dispersed in the form of fine particles having an average particle diameter in the range of 1 nm to several μm. The water-dispersed hydrophobic polymer is called a latex, and is preferably a latex that improves water resistance among widely used binders for aqueous coating. The amount of latex used for the purpose of obtaining water resistance as a binder is determined in consideration of applicability, but is preferably as large as possible from the viewpoint of moisture resistance. The ratio of latex to the total binder mass is preferably 50 to 100%, particularly preferably 80 to 100%.

本発明において、これらのバインダー樹脂としては、固形分量として、銀付量に対して0.25〜10倍の量、例えば、銀付量が2.0g/m2の場合、ポリマーの付き量は0.5〜20g/m2であることが好ましい。また、更に好ましくは銀付量の0.5〜7倍量、例えば、銀付量が2.0g/m2なら、1.0〜14g/m2である。バインダー樹脂量が銀付量の0.25倍以下では、銀色調が大幅に劣化し、使用に耐えない場合があるし、銀付量の10倍以上では、軟調になり使用に耐えなくなる場合がある。 In the present invention, as these binder resins, the amount of solids is 0.25 to 10 times the amount of silver attached, for example, when the amount of silver attached is 2.0 g / m 2 , the amount of polymer attached is It is preferable that it is 0.5-20 g / m < 2 >. Further, more preferably 0.5 to 7 times the grain-weight, for example, the amount with silver, if 2.0 g / m 2, a 1.0~14g / m 2. If the amount of binder resin is less than 0.25 times the amount of silver, the silver color tone may be significantly deteriorated and may not endure use, and if the amount is more than 10 times the amount of silver, it may become soft and endure use. is there.

さらに、本発明に係る画像形成層には、上述した必須成分、バインダー樹脂以外に、必要に応じてカブリ防止剤、調色剤、増感色素、強色増感を示す物質(強色増感剤ともいう)など各種添加剤を添加してもよい。   Further, the image forming layer according to the present invention includes, in addition to the above-described essential components and binder resin, an antifoggant, a toning agent, a sensitizing dye, and a substance that exhibits supersensitization (supersensitization). Various additives may also be added.

本発明において、かぶり防止剤としては、例えば、米国特許第3,874,946号及び同第4,756,999号に開示されているような化合物、−C(X1)(X2)(X3)(ここでX1及びX2はハロゲン原子を表し、X3は水素又はハロゲン原子を表す)で表される置換基を1以上備えたヘテロ環状化合物、特開平9−288328号、同9−90550号、米国特許第5,028,523号及び欧州特許第600,587号、同第605,981号、同第631,176号等に開示されている化合物等を適時選択して用いることができる。 In the present invention, examples of the antifogging agent include compounds disclosed in US Pat. Nos. 3,874,946 and 4,756,999, —C (X 1 ) (X 2 ) ( X 3 ) (wherein X 1 and X 2 represent a halogen atom, and X 3 represents hydrogen or a halogen atom), a heterocyclic compound having one or more substituents, JP-A-9-288328, No. 9-90550, US Pat. No. 5,028,523 and European Patent Nos. 600,587, 605,981, 631,176, etc. be able to.

現像後の銀色調を改良する目的で添加される調色剤としては、例えば、イミド類(例えば、フタルイミド);環状イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミントリフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロックされたピラゾール類、イソチウロニウム(isothiuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カルバモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロシアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリデン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−クロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウム又は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸ナトリウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラジン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズオキサジン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不斉−トリアジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)を挙げることができ、好ましい色調剤としては、フタラゾン、フタラジンである。なお、調色剤は、本発明の目的を阻害しない範囲であれば、後述する保護層に添加しても良い。   Examples of toning agents added for the purpose of improving the silver tone after development include imides (for example, phthalimide); cyclic imides, pyrazolin-5-ones, and quinazolinones (for example, succinimide, 3-phenyl). -2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione); naphthalimides (eg N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg cobalt hexaminetri) Fluoroacetates), mercaptans (eg 3-mercapto-1,2,4-triazole); N- (aminomethyl) aryl dicarboximides (eg N- (dimethylaminomethyl) phthalimide); blocked pyrazoles , Isothiuronium ) Derivatives and certain photobleaching agents (eg, N, N′-hexamethylene (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-dioxaoctane) bis (isothione) A combination of uronium trifluoroacetate) and 2- (tribromomethylsulfonyl) benzothiazole); a merocyanine dye (for example, 3-ethyl-5-((3-ethyl-2-benzothiazolinylidene (benzothiazolidine) Nylidene))-1-methylethylidene) -2-thio-2,4-oxazolidinedione); phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (eg 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthala Dinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedio ); A combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (eg, 6-chlorophthalazinone + sodium benzenesulfinate or 8-methylphthalazinone + sodium p-trisulfonate); a combination of phthalazine + phthalic acid; a phthalazine (phthalazine adduct) And maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid) A combination with at least one compound selected from anhydride); quinazolinediones, benzoxazines, naltoxazine derivatives; benzoxazine-2,4-diones (eg, 1,3-benzoxazine-2,4-dione) Pyrimidines and asymmetric-tria Gins (eg, 2,4-dihydroxypyrimidine) and tetraazapentalene derivatives (eg, 3,6-dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene) And preferred color toning agents are phthalazone and phthalazine. The toning agent may be added to the protective layer described later as long as it does not impair the object of the present invention.

また、増感色素としては、例えば、アルゴンイオンレーザ光源に対しは、特開昭60−162247号、特開平2−48635号、米国特許第2,161,331号、西独特許第936,071号、特開平5−11389号等に記載のシンプルメロシアニン類を、ヘリウムネオンレーザ光源に対しては、特開昭50−62425号、同54−18726号、同59−102229号に示された三核シアニン色素類、特開平7−287338号に記載されたメロシアニン類を、LED光源及び赤外半導体レーザ光源に対しては特公昭48−42172号、同51−9609号、同55−39818号、特開昭62−284343号、特開平2−105135号に記載されたチアカルボシアニン類を、赤外半導体レーザ光源に対しては特開昭59−191032号、同60−80841号に記載されたトリカルボシアニン類、特開昭59−192242号、特開平3−67242号の一般式(IIIa)、(IIIb)に記載された4−キノリン核を含有するジカルボシアニン類等が有利に選択される。更に、赤外レーザ光源の波長が750nm以上、更に好ましくは800nm以上である場合このような波長域のレーザに対応する為には、特開平4−182639号、同5−341432号、特公平6−52387号、同3−10931号、米国特許第5,441,866号、特開平7−13295号等に記載されている増感色素が好ましく用いられる。   As the sensitizing dye, for example, for an argon ion laser light source, JP-A-60-162247, JP-A-2-48635, US Pat. No. 2,161,331, West German Patent 936,071 Simple merocyanines described in JP-A-5-11389, etc., and trinuclear compounds described in JP-A-50-62425, JP-A-54-18726, and JP-A-59-102229 with respect to a helium neon laser light source. Cyanine dyes, merocyanines described in JP-A-7-287338, Japanese Patent Publication Nos. 48-42172, 51-9609, 55-39818, The thiacarbocyanines described in Japanese Utility Model Laid-Open Nos. 62-284343 and 2-105135 are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59. No. 191032, 60-80841, tricarbocyanines, JP-A-59-192242, JP-A-3-67242, general formulas (IIIa) and (IIIb) described in 4-quinoline nuclei. Dicarbocyanines and the like to be contained are advantageously selected. Further, in the case where the wavelength of the infrared laser light source is 750 nm or more, more preferably 800 nm or more, in order to cope with the laser in such a wavelength range, JP-A-4-18239, JP-A-5-341432, JP-B-6 Nos. -52387, 3-10931, U.S. Pat. No. 5,441,866, and JP-A-7-13295 are preferably used.

また、強色増感剤としては、RD第17643、特公平9−25500号、同43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号、特開平5−341432号等に記載されている化合物を適時選択して用いることができ、本発明では、下記一般式(M)で表される複素芳香族メルカプト化合物、実質的に前記のメルカプト化合物を生成する一般式(Ma)で表されるジスルフィド化合物を用いることができる。   Further, examples of supersensitizers include RD 17643, JP-B Nos. 9-25500, 43-4933, JP-A-59-19032, 59-192242, JP-A-5-341432, and the like. In the present invention, a heteroaromatic mercapto compound represented by the following general formula (M), which is a general formula (Ma) that substantially forms the mercapto compound, can be used. The disulfide compounds represented can be used.

一般式(M)
Ar−SM
一般式(Ma)
Ar−S−S−Ar
一般式(M)において、Mは水素原子又はアルカリ金属原子を表し、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウムもしくはテルリウム原子を有する複素芳香環又は縮合複素芳香環を表す。複素芳香環は、好ましくは、ベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン又はキナゾリンである。また、一般式(Ma)において、Arは上記一般式(M)の場合と同義である。
General formula (M)
Ar-SM
General formula (Ma)
Ar-SS-Ar
In the general formula (M), M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar represents a heteroaromatic ring or condensed heteroaromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. The heteroaromatic ring is preferably benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, Pyridine, purine, quinoline or quinazoline. Moreover, in general formula (Ma), Ar is synonymous with the said general formula (M).

上記の複素芳香環は、例えば、ハロゲン原子(例えば、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)及びアルコキシ基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)からなる群から選ばれる置換基を有することができる。   The heteroaromatic ring includes, for example, a halogen atom (for example, Cl, Br, I), a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, and an alkyl group (for example, one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms). And a substituent selected from the group consisting of an alkoxy group (for example, one having 1 or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms).

本発明に用いられる強色増感剤は、有機銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む乳剤層中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルの範囲で用いるのが好ましく、特に銀1モル当たり0.01〜0.5モルの範囲にするのが好ましい。   The supersensitizer used in the present invention is preferably used in the range of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in the emulsion layer containing the organic silver salt and silver halide grains, and particularly 1 mol of silver. The range is preferably 0.01 to 0.5 mol per unit.

本発明に係る画像記録層には、ヘテロ原子を含む大環状化合物を含有させることができる。ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子及びセレン原子の少なくとも1種を含む9員環以上の大環状化合物が好ましく、12〜24員環がより好ましく、更に好ましいのは15〜21員環である。   The image recording layer according to the present invention may contain a macrocyclic compound containing a hetero atom. A 9-membered or larger macrocyclic compound containing at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and a selenium atom as a heteroatom is preferred, a 12-24 membered ring is more preferred, and a 15-21 membered ring is still more preferred. is there.

代表的な化合物としてはクラウンエーテルで、下記のPedersonが1967年に合成し、その特異な報告以来、数多く合成されているものである。これらの化合物は、C.J.Pederson、Journal of American chemical society vol,86(2495)、7017〜7036(1967)、G.W.Gokel、S.H,Korzeniowski、“Macrocyclic polyethr synthesis”、Springer−Vergal(1982)等に記載されている。   A typical compound is crown ether, which was synthesized by Pederson in 1967 and has been synthesized many times since its unique report. These compounds are C.I. J. et al. Pederson, Journal of American chemical society vol, 86 (2495), 7017-7036 (1967), G.P. W. Gokel, S.M. H, Korzenowski, “Macrocyclic polyethr synthesis”, Springer-Vergal (1982) and the like.

本発明に係る画像形成層には上述した添加剤以外に、例えば、界面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良い。これらの添加剤及び上述したその他の添加剤は、RD Item17029(1978年6月p.9〜15)に記載されている化合物が好ましく用いられる。   In addition to the additives described above, for example, surfactants, antioxidants, stabilizers, plasticizers, ultraviolet absorbers, coating aids and the like may be used for the image forming layer according to the present invention. As these additives and the other additives described above, compounds described in RD Item 17029 (June 1978, p. 9-15) are preferably used.

本発明において、画像形成層は単層でも良く、組成が同一あるいは異なる複数の層で構成しても良い。なお、画像形成層の膜厚は通常10〜30μmである。   In the present invention, the image forming layer may be a single layer or a plurality of layers having the same or different compositions. The film thickness of the image forming layer is usually 10 to 30 μm.

次に、本発明の熱現像感光材料の層構成として必須である支持体と保護層について詳述する。   Next, the support and the protective layer, which are essential as the layer structure of the photothermographic material of the invention, are described in detail.

本発明の熱現像感光材料に用いられる支持体としては、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ナイロン、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、トリアセチルセルロース等の各樹脂フィルム、更には前記樹脂を2層以上積層してなる樹脂フィルム等を挙げることができる。   Examples of the support used in the photothermographic material of the invention include acrylic ester, methacrylic ester, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyarylate, polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, polystyrene. , Nylon, aromatic polyamide, polyetheretherketone, polysulfone, polyethersulfone, polyimide, polyetherimide, triacetylcellulose, and other resin films, as well as resin films obtained by laminating two or more layers of the above resins. be able to.

本発明に係る支持体は、後述の画像記録方法において、潜像形成後熱で現像して画像形成することから、フィルム状に延伸しヒートセットしたものが寸法安定性の点で好ましい。なお、本発明の効果を阻害しない範囲で酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等のフィラーを添加してもよい。なお、支持体の厚みは、10〜500μm程度、好ましくは25〜250μmである。   In the image recording method described later, the support according to the present invention is developed with heat after forming a latent image to form an image. Therefore, a support that has been stretched into a film and heat-set is preferable in terms of dimensional stability. In addition, you may add fillers, such as a titanium oxide, a zinc oxide, barium sulfate, a calcium carbonate, in the range which does not inhibit the effect of this invention. In addition, the thickness of a support body is about 10-500 micrometers, Preferably it is 25-250 micrometers.

本発明の熱現像感光材料に用いられる保護層としては、上述の画像形成層で記載したバインダー樹脂を必要に応じて選択して用いることができる。   As the protective layer used in the photothermographic material of the present invention, the binder resin described in the above image forming layer can be selected and used as necessary.

保護層に添加される添加剤としては、熱現像後の画像の傷つき防止や搬送性を確保する目的でフィラーを含有することが好ましく、フィラーを添加する場合の含有量は、層形成組成物中0.05〜30質量%含有することが好ましい。   As an additive to be added to the protective layer, it is preferable to contain a filler for the purpose of ensuring damage prevention and transportability of the image after heat development, and the content when the filler is added is in the layer forming composition. It is preferable to contain 0.05-30 mass%.

さらに、滑り性や帯電性を改良するため、保護層には潤滑剤、帯電防止剤を含有しても良い、このような潤滑剤としては、例えば、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、(変性)シリコーンオイル、(変性)シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ化カーボン、ワックス等を挙げることができ、また、帯電防止剤としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、金属酸化物又は導電性ポリマー等、「11290の化学商品」化学工業日報社、p.875〜876等に記載の化合物、米国特許第5,244,773号カラム14〜20に記載された化合物等を挙げることができる。さらに、本発明の目的を阻害しない範囲で、画像形成層に添加される各種添加剤を保護層に添加しても良く、これら添加剤の添加量は、保護層層形成成分の0.01〜20質量%程度が好ましく、更に好ましくは、0.05〜10質量%である。   Furthermore, in order to improve slipperiness and chargeability, the protective layer may contain a lubricant and an antistatic agent. Examples of such lubricants include fatty acids, fatty acid esters, fatty acid amides, and polyoxyethylene. , Polyoxypropylene, (modified) silicone oil, (modified) silicone resin, fluororesin, carbon fluoride, wax and the like, and antistatic agents include cationic surfactants, anionic surfactants Agents, nonionic surfactants, polymer antistatic agents, metal oxides or conductive polymers, etc., "11290 Chemical Products", Chemical Industry Daily, p. 875-876 etc., the compound described in US Patent No. 5,244,773 columns 14-20, etc. can be mentioned. Furthermore, various additives added to the image forming layer may be added to the protective layer as long as the object of the present invention is not hindered. About 20 mass% is preferable, More preferably, it is 0.05-10 mass%.

本発明において、保護層は単層でも良く、組成が同一あるいは異なるの複数層の層で構成しても良い。なお、保護層の膜厚は通常1.0〜5.0μmである。   In the present invention, the protective layer may be a single layer or may be composed of a plurality of layers having the same or different composition. In addition, the film thickness of a protective layer is 1.0-5.0 micrometers normally.

本発明では、上述の画像形成層、支持体及び保護層以外に、支持体と画像形成層との膜付を改良するための中間層を、また搬送性や帯電防止を目的としてバックコート層を設置しても良く、設置する場合の中間層の厚みは通常0.05〜2.0μmであり、バッキング層の厚みは通常0.1〜10μmである。   In the present invention, in addition to the above-mentioned image forming layer, support and protective layer, an intermediate layer for improving film attachment between the support and the image forming layer is provided, and a back coat layer is provided for the purpose of transportability and antistatic. In the case of installation, the thickness of the intermediate layer is usually 0.05 to 2.0 μm, and the thickness of the backing layer is usually 0.1 to 10 μm.

本発明に係る画像形成層用塗布液、保護層用塗布液及び必要に応じて設置される中間層及びバッキング層用の各塗布液は、上述で述べた成分を、それぞれ溶媒に溶解若しくは分散して調製することができる。   The coating solution for the image forming layer, the coating solution for the protective layer, and the coating solution for the intermediate layer and the backing layer that are installed according to the present invention respectively dissolve or disperse the above-described components in a solvent. Can be prepared.

上記調製で用いることのできる溶媒としては、有機合成化学協会編の「溶剤ポケットブック」等に示されている溶解度パラメーターの値が6.0〜15.0の範囲のものであればよく、本発明に係る各層を形成する塗布液に用いることのできる溶媒としては、ケトン類として、例えば、アセトン、イソフォロン、エチルアミルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。アルコール類として、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等が挙げられる。グリコール類として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等が挙げられる。エーテルアルコール類として、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。エーテル類として、例えば、エチルエーテル、ジオキサン、イソプロピルエーテル等が挙げられる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸イソプロピル等が挙げられる。炭化水素類としてn−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。塩化物類として、例えば、塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロベンゼン等が挙げられるが、但し、本発明の効果を阻害しない範囲であればこれらに限定されない。   Solvents that can be used in the above preparation may be those having a solubility parameter value in the range of 6.0 to 15.0 shown in “Solvent Pocket Book” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry. Examples of the solvent that can be used in the coating solution for forming each layer according to the invention include ketones such as acetone, isophorone, ethyl amyl ketone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Examples of alcohols include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, diacetone alcohol, cyclohexanol, and benzyl alcohol. Examples of glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol and the like. Examples of ether alcohols include ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monoethyl ether. Examples of ethers include ethyl ether, dioxane, isopropyl ether and the like. Examples of the esters include ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, isopropyl acetate and the like. Examples of hydrocarbons include n-pentane, n-hexane, n-heptane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene and the like. Examples of the chlorides include methyl chloride, methylene chloride, chloroform, dichlorobenzene and the like, but are not limited to these as long as the effects of the present invention are not impaired.

また、これらの溶媒は、単独又は数種類組合わせて使用できる。尚、熱現像感光材料中の上記溶媒の残留量は、塗布後の乾燥工程の温度条件等を適宜設定することにより調整でき、残存溶媒量は合計量で5〜1000mg/m2が好ましく、更に好ましくは、10〜300mg/m2である。 These solvents can be used alone or in combination of several kinds. The residual amount of the solvent in the photothermographic material can be adjusted by appropriately setting the temperature conditions of the drying step after coating, and the residual solvent amount is preferably 5 to 1000 mg / m 2 in total. preferably, a 10-300 mg / m 2.

塗布液を調製する際に、分散が必要な場合には、例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、コボルミル、トロンミル、サンドミル、サンドグラインダー、Sqegvariアトライター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、高速ミキサー、ホモジナイザ、超音波分散機、オープンニーダー、連続ニーダー等、従来から公知の分散機を適時選択して用いることができる。   When dispersion is necessary when preparing the coating liquid, for example, a two-roll mill, a three-roll mill, a ball mill, a pebble mill, a cobol mill, a tron mill, a sand mill, a sand grinder, a Sqgvari attritor, a high-speed impeller disperser, a high-speed stone Conventionally known dispersers such as a mill, a high-speed impact mill, a disper, a high-speed mixer, a homogenizer, an ultrasonic disperser, an open kneader, and a continuous kneader can be selected and used as appropriate.

上述のようにして調製した塗布液を塗布するには、例えば、エクストルージョン方式の押し出しコータ、リバースロールコータ、グラビアロールコータ、エアドクターコータ、ブレードコータ、エアナイフコータ、スクイズコータ、含浸コータ、バーコータ、トランスファロールコータ、キスコータ、キャストコータ、スプレーコータ等の、公知の各種コータステーションを適時選択して用いることができる。これらのコータの中で、形成層の厚みムラを無くすためには、エクストルージョン方式の押し出しコータやリバースロールコータ等のロールコータを用いることが好ましい。   To apply the coating solution prepared as described above, for example, extrusion-type extrusion coater, reverse roll coater, gravure roll coater, air doctor coater, blade coater, air knife coater, squeeze coater, impregnation coater, bar coater, Various known coater stations such as transfer roll coaters, kiss coaters, cast coaters, spray coaters and the like can be selected and used as appropriate. Among these coaters, it is preferable to use a roll coater such as an extrusion type extrusion coater or a reverse roll coater in order to eliminate unevenness in the thickness of the formation layer.

又、保護層を塗布する場合、画像形成層がダメージを受けないものであれば特に制限はないが、保護層形成塗布液に用いられる溶媒が、画像形成層を溶解する可能性がある場合には、上述したコータステーションの中で、エクストルージョン方式の押し出しコータ、グラビアロールコータ、バーコータ等を使用することができる。尚、これらの中でグラビアロールコータ、バーコータ等接触する塗布方法を用いる場合には、搬送方向に対して、グラビアロールやバーの回転方向は順転でもリバースでも良く、また順転の場合には等速でも、周速差を設けても良い。   Further, when the protective layer is applied, there is no particular limitation as long as the image forming layer is not damaged, but the solvent used in the protective layer forming coating solution may dissolve the image forming layer. In the above-described coater station, an extrusion-type extrusion coater, a gravure roll coater, a bar coater or the like can be used. Of these, when using a coating method such as a gravure roll coater or bar coater, the rotation direction of the gravure roll or bar may be forward or reverse with respect to the transport direction. A constant speed or a peripheral speed difference may be provided.

更に、各構成層を積層する際には、各層毎に塗布乾燥を繰り返してもよいが、ウェット−オン−ウェット方式で同時重層塗布して乾燥させても良い。その場合、例えば、リバースロールコータ、グラビアロールコータ、エアドクターコータ、ブレードコータ、エアナイフコータ、スクイズコータ、含浸コータ、バーコータ、トランスファロールコータ、キスコータ、キャストコータ、スプレーコータ等とエクストルージョン方式の押し出しコータとの組み合わせにより塗布することができ、この様なウェット−オン−ウェット方式における重層塗布においては、下側の層が湿潤状態になったままで上側の層を塗布するので、上下層間の接着性が向上する。   Furthermore, when laminating each constituent layer, coating and drying may be repeated for each layer, but simultaneous multilayer coating may be performed by a wet-on-wet method and dried. In that case, for example, reverse roll coater, gravure roll coater, air doctor coater, blade coater, air knife coater, squeeze coater, impregnation coater, bar coater, transfer roll coater, kiss coater, cast coater, spray coater, etc. and extrusion type extrusion coater. In such a wet-on-wet multi-layer coating, the upper layer is applied while the lower layer is in a wet state. improves.

さらに、本発明では少なくとも画像形成層用塗布液を塗布した後、本発明の目的を有効に引き出すために、塗膜を乾燥させる温度を65〜100℃の範囲であることが好ましい。乾燥温度が65℃よりも低い場合は、反応が不十分であるため、経時による感度の変動が起こる場合が有り、また、100℃よりも高い場合には、製造直後の熱現像感光材料自身にかぶり(着色)を生じる場合がある為好ましくない。また、乾燥時間は乾燥時の風量により一概に規定できないが、通常2〜30分の範囲で乾燥させることが好ましい。   Furthermore, in the present invention, it is preferable that the temperature at which the coating film is dried is in the range of 65 to 100 ° C. in order to effectively draw out the object of the present invention after at least applying the coating solution for the image forming layer. When the drying temperature is lower than 65 ° C., the reaction is insufficient, and thus the sensitivity may vary with time. When the drying temperature is higher than 100 ° C., the photothermographic material itself immediately after production may be changed. Since fogging (coloring) may occur, it is not preferable. The drying time cannot be generally defined by the air volume at the time of drying, but it is usually preferable to dry in the range of 2 to 30 minutes.

なお、上述の乾燥温度は、塗布後直ぐに前述の温度範囲の乾燥温度で乾燥させても良いし、乾燥の際に生じる塗布液のマランゴニーや、温風の乾燥風によって生じる表面近傍が初期に乾燥することにより生ずるムラ(ユズ肌)を防止する目的からは、初期の乾燥温度を65℃よりも低温で行い、その後前述の温度範囲の乾燥温度で乾燥させても良い。   The above-mentioned drying temperature may be dried immediately after coating at a drying temperature in the above-mentioned temperature range, or the vicinity of the surface caused by the marangony of the coating liquid generated during drying or the drying air of warm air is initially dried. For the purpose of preventing unevenness (scratch skin) caused by this, the initial drying temperature may be lower than 65 ° C., and then drying may be performed at a drying temperature in the above-described temperature range.

以上、本発明の熱現像感光材料及びその好適な製造方法により、本発明の目的を達成することはできるが、さらに、画像記録方法を最適化することにより、干渉縞のない鮮明な画像を得ることができる。   As described above, the object of the present invention can be achieved by the photothermographic material of the present invention and the preferred production method thereof, but further, a clear image without interference fringes can be obtained by optimizing the image recording method. be able to.

次いで、本発明の熱現像感光材料に好適な画像記録方法について詳述する。   Next, an image recording method suitable for the photothermographic material of the present invention will be described in detail.

本発明で用いることのできる画像記録方法としては、露光面とレーザ光のなす角度、レーザの波長、使用するレーザの数により三つの態様に大別され、それらを単独で行っても良いし、二種以上の態様を組み合わせても良く、このような画像形成方法にすることで干渉縞のない鮮明な画像を得ることができる。   The image recording method that can be used in the present invention is roughly divided into three modes depending on the angle formed between the exposure surface and the laser beam, the wavelength of the laser, and the number of lasers used, and they may be performed alone, Two or more types may be combined, and by using such an image forming method, a clear image without interference fringes can be obtained.

本発明において、画像記録方法として好適な態様としては、熱現像感光材料の露光面とレーザ光のなす角が実質的に垂直になることがないレーザ光を用いて、走査露光により画像を形成することが挙げられる。このように、入射角を垂直からずらすことにより、仮に層間界面での反射光が発生した場合においても、画像形成層に達する光路差が大きくなることから、レーザ光の光路での散乱や減衰が生じて干渉縞が発生しにくくなる。なお、ここで、「実質的に垂直になることがない」とはレーザ走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55度以上88度以下、より好ましくは60度以上86度以下、更に好ましくは65度以上84度以下であることをいう。   In the present invention, as a preferred aspect of the image recording method, an image is formed by scanning exposure using a laser beam in which the angle formed by the exposure surface of the photothermographic material and the laser beam is not substantially perpendicular. Can be mentioned. In this way, by shifting the incident angle from the vertical, even if reflected light at the interlayer interface is generated, the optical path difference reaching the image forming layer becomes large, so that the scattering and attenuation of the laser light in the optical path is reduced. It occurs and interference fringes are less likely to occur. Here, “substantially not perpendicular” means that the angle that is closest to the vertical during laser scanning is preferably 55 ° to 88 °, more preferably 60 ° to 86 °, and still more preferably. It means 65 degrees or more and 84 degrees or less.

また、本発明の画像記録方法におけるさらに好適な態様としては、露光波長が単一でない縦マルチレーザを用いて、走査露光により画像を形成することが挙げられる。このような、波長に幅を有する縦マルチレーザ光で走査すると縦単一モードの走査レーザ光に比べ、干渉縞の発生が低減される。なお、ここで言う縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常60nm程度である。   Further, a more preferable aspect of the image recording method of the present invention is to form an image by scanning exposure using a vertical multi-laser having a non-single exposure wavelength. When scanning with such a vertical multi-laser beam having a width in wavelength, the generation of interference fringes is reduced as compared with a scanning laser beam of a vertical single mode. The term “vertical multi” as used herein means that the exposure wavelength is not single, and the normal exposure wavelength distribution is 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

さらに、上述した画像記録方法において、走査露光に用いるレーザとしては、一般によく知られている、ルビーレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザ等の固体レーザ;He−Neレーザ、Arイオンレーザ、Krイオンレーザ、CO2レーザ、COレーザ、He−Cdレーザ、N2レーザ、エキシマーレーザ等の気体レーザ;InGaPレーザ、AlGaAsレーザ、GaAsPレーザ、InGaAsレーザ、InAsPレーザ、CdSnP2レーザ、GaSbレーザ等の半導体レーザ;化学レーザ、色素レーザ等を用途に併せて適時選択して使用できるが、これらの中でもメンテナンスや光源の大きさの問題から、波長が600〜1200nmの半導体レーザを好ましく用いることが特徴である。 Furthermore, in the above-described image recording method, lasers used for scanning exposure are generally well-known solid lasers such as ruby laser, YAG laser, and glass laser; He—Ne laser, Ar ion laser, Kr ion laser, Gas laser such as CO 2 laser, CO laser, He—Cd laser, N 2 laser, excimer laser; semiconductor laser such as InGaP laser, AlGaAs laser, GaAsP laser, InGaAs laser, InAsP laser, CdSnP 2 laser, GaSb laser; chemical laser A dye laser or the like can be selected and used in a timely manner according to the application. Among these, a semiconductor laser having a wavelength of 600 to 1200 nm is preferably used because of the problem of maintenance and the size of the light source.

なお、レーザ・イメージャやレーザ・イメージセッタで使用されるレーザにおいて、熱現像感光材料に走査されるときの熱現像感光材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径として5〜100μmの範囲であり、レーザ光走査速度は熱現像感光材料固有のレーザ発振波長における感度とレーザパワーによって、熱現像感光材料毎に最適な値に設定することができる。   In a laser used in a laser imager or laser image setter, the beam spot diameter on the exposed surface of the photothermographic material when scanned with the photothermographic material is generally from 5 to 75 μm as the minor axis diameter. The shaft diameter is in the range of 5 to 100 μm, and the laser beam scanning speed can be set to an optimum value for each photothermographic material depending on the sensitivity and laser power at the laser oscillation wavelength inherent to the photothermographic material.

以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、本文中の%は特に断りのない限り質量%を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these. In addition,% in a text represents the mass% unless there is particular notice.

実施例1
《熱現像感光材料の作製》
下記に示す方法で、バッキング層塗布液を調製した。
Example 1
<< Preparation of photothermographic material >>
A backing layer coating solution was prepared by the method described below.

〔バッキング層塗布液の調製〕
メチルエチルケトン83gを攪拌しながら、酢酸酪酸セルロース(イーストマンケミカル社製、CAB381−20)8.42g、ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)製、バイロン280)0.45gを添加して溶解した。この溶解した液に1.03gの赤外染料1を添加した。
[Preparation of backing layer coating solution]
While stirring 83 g of methyl ethyl ketone, 8.42 g of cellulose acetate butyrate (manufactured by Eastman Chemical Co., CAB381-20) and 0.45 g of polyester resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Byron 280) were added and dissolved. 1.03 g of infrared dye 1 was added to the dissolved liquid.

別途、メタノール4.32gにフッ素系界面活性剤(旭硝子(株)製、サーフロンS−381、有効成分70%)0.64gとフッ素系界面活性剤(大日本インキ工業(株)製、メガファッグF120K)0.23gとを溶解させ、赤外染料1の入った上記溶液に、フッ素系界面活性剤溶液を添加して、赤外染料1が完全に溶解するまで充分に攪拌を行った。次いで、メチルエチルケトンに1%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散したシリカ(W.R.グレース社製、サイロイド64×6000)を7.5g添加、攪拌してバッキング層塗布液を調製した。   Separately, 4.34 g of methanol and 0.64 g of a fluorosurfactant (Asahi Glass Co., Ltd., Surflon S-381, active ingredient 70%) and a fluorosurfactant (Dainippon Ink Industries, Ltd., MegaFag F120K) ) 0.23 g was dissolved, and the fluorosurfactant solution was added to the above solution containing the infrared dye 1 and sufficiently stirred until the infrared dye 1 was completely dissolved. Next, 7.5 g of silica (manufactured by WR Grace, Psyloid 64 × 6000) dispersed in methyl ethyl ketone with a dissolver type homogenizer at a concentration of 1% was added and stirred to prepare a backing layer coating solution.

Figure 2005274812
Figure 2005274812

〔バッキング層の塗布〕
Visualの透過濃度として0.170(X−Rite社製、カラー透過濃度計310Tで測定)に青色着色した厚さ175μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(以降、PETと略す)フィルムの片面にコロナ放電処理(8W/m2・分)を施した後、上記バッキング層塗布液を、コロナ放電処理面に乾燥膜厚が3.5g/m2になるように押し出しコータにて塗布した後、乾燥させバッキング層を形成した。
[Application of backing layer]
Corona discharge treatment on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) film having a thickness of 175 μm colored blue with a visual transmission density of 0.170 (measured with a color transmission densitometer 310T manufactured by X-Rite). After applying (8 W / m 2 · min), the above-mentioned backing layer coating solution was applied to the corona discharge treated surface by an extrusion coater so that the dry film thickness was 3.5 g / m 2 , and then dried and backing. A layer was formed.

次いで、下記に示す方法で、画像形成層塗布液及び保護層塗布液を各々調製した。   Next, an image forming layer coating solution and a protective layer coating solution were prepared by the methods described below.

〔画像形成層塗布液の調製〕
(感光性ハロゲン化銀乳剤の調製)
水900ml中に平均分子量10万のオセインゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(98/2)のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムを硝酸銀と等モル及び塩化イリジウムを銀1モル当たり1×10-4モル含む水溶液370mlとを、pAg7.7に保ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間かけて添加した。その後、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加して、NaOHでpHを5に調整して平均粒子サイズ0.06μm、粒子サイズの変動係数12%、〔100〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理した後、フェノキシエタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5に調整して、感光性ハロゲン化銀乳剤1を得た。
(Preparation of image forming layer coating solution)
(Preparation of photosensitive silver halide emulsion)
After dissolving 7.5 g of ossein gelatin having an average molecular weight of 100,000 and 10 mg of potassium bromide in 900 ml of water, adjusting the temperature to 35 ° C. and pH to 3.0, 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate (98/2) 10 minutes by a controlled double jet method while maintaining pAg 7.7 in an aqueous solution containing equimolar amounts of potassium bromide and potassium iodide and silver nitrate and 1 × 10 −4 mole of iridium chloride per mole of silver. Added over time. Thereafter, 0.3 g of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added and the pH was adjusted to 5 with NaOH to obtain an average particle size of 0.06 μm and a coefficient of variation of the particle size. Cubic silver iodobromide grains having 12% and a [100] face ratio of 87% were obtained. This emulsion was coagulated and precipitated using a gelatin flocculant and desalted, and 0.1 g of phenoxyethanol was added to adjust the pH to 5.9 and pAg 7.5 to obtain photosensitive silver halide emulsion 1.

(脂肪酸ナトリウム溶液の調製)
4720mlの純水にベヘン酸111.4g、アラキジン酸83.8g、ステアリン酸54.9gを80℃で溶解した。次に、高速で攪拌しながら1.5M/Lの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し、濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。
(Preparation of fatty acid sodium solution)
In 4720 ml of pure water, 111.4 g of behenic acid, 83.8 g of arachidic acid, and 54.9 g of stearic acid were dissolved at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 M / L sodium hydroxide aqueous solution was added while stirring at a high speed, 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, and the mixture was cooled to 55 ° C. to obtain a sodium fatty acid solution.

(粉末有機銀塩の調製)
上記脂肪酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、上記感光性ハロゲン化銀乳剤1(銀0.038モルを含む)と純水450mlとを添加して5分間攪拌した。次に、1Mの硝酸銀溶液760.6mlを2分間かけて添加し、さらに20分攪拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。その後、濾液の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、濾過を繰り返し、遠心脱水を実施した後、37℃にて質量減少がなくなるまで温風乾燥を行い、粉末有機銀塩Aを得た。
(Preparation of powdered organic silver salt)
While maintaining the temperature of the fatty acid sodium solution at 55 ° C., the photosensitive silver halide emulsion 1 (containing 0.038 mol of silver) and 450 ml of pure water were added and stirred for 5 minutes. Next, 760.6 ml of 1M silver nitrate solution was added over 2 minutes, stirred for another 20 minutes, and water-soluble salts were removed by filtration. Thereafter, washing with deionized water and filtration were repeated until the electrical conductivity of the filtrate reached 2 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out, followed by drying with hot air at 37 ° C. until there was no mass loss, and powdered organic silver salt A Got.

(感光性乳剤分散液の調製)
次いで、ポリビニルブチラール樹脂(電気化学工業(株)製、デンカブチラール#3000−K)14.57gをメチルエチルケトン1457gに溶解し、ディゾルバ型ホモジナイザにて攪拌しながら、上記調製した500gの粉末有機銀塩Aを徐々に添加して十分に混合した。その後、粒子径1mm径のジルコニアビーズ(東レ(株)製)を80%充填したメディア分散機(Gettzmann社製)にて周速13m/s、ミル内滞留時間0.5分間にて分散し、感光性乳剤分散液を調製した。
(Preparation of photosensitive emulsion dispersion)
Next, 14.57 g of polyvinyl butyral resin (Denka Butyral # 3000-K, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was dissolved in 1457 g of methyl ethyl ketone, and 500 g of the powdered organic silver salt A prepared above was stirred with a dissolver type homogenizer. Was added gradually and mixed well. Thereafter, the dispersion was performed at a peripheral speed of 13 m / s and a residence time in the mill of 0.5 minutes in a media disperser (manufactured by Gettzmann) filled with 80% of zirconia beads having a particle diameter of 1 mm (manufactured by Toray Industries, Inc.) A photosensitive emulsion dispersion was prepared.

(画像形成層塗布液1〜15の調製)
上記感光性乳剤分散液50g及びメチルエチルケトン10.0gを混合、攪拌しながら25℃に保温した。かぶり防止剤1のメタノール溶液(11.2%)0.320gを加え1時間攪拌した。更に、臭化カルシウムのメタノール溶液(11.2%)0.425gを添加して20分攪拌し、次いで、メタノール10.0gに0.90gのジベンゾ−18−クラウン−6と0.28gの酢酸カリウムを溶解させた溶液を0.343g添加して10分間撹拌した。次に、下記に示す色素溶液1(4.007g)を添加して60分間攪拌した後、温度を13℃まで低下させ更に30分攪拌した。
(Preparation of image forming layer coating solutions 1 to 15)
50 g of the above photosensitive emulsion dispersion and 10.0 g of methyl ethyl ketone were mixed and kept at 25 ° C. with stirring. 0.320 g of a methanol solution (11.2%) of the antifoggant 1 was added and stirred for 1 hour. Further, 0.425 g of a methanol solution of calcium bromide (11.2%) was added and stirred for 20 minutes, and then 0.90 g of dibenzo-18-crown-6 and 0.28 g of acetic acid were added to 10.0 g of methanol. 0.343 g of a solution in which potassium was dissolved was added and stirred for 10 minutes. Next, after adding the following dye solution 1 (4.007 g) and stirring for 60 minutes, the temperature was lowered to 13 ° C. and stirring was continued for 30 minutes.

〈色素溶液1〉
赤外増感色素1 0.0103g
5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾール 0.244g
2−クロロ−安息香酸 0.568g
安息香酸誘導体1 4.245g
メチルエチルケトン 25.00g
この色素溶液を添加した溶液を13℃に保温したまま、ポリビニルブチラール樹脂(電気化学工業(株)製、デンカブチラール#3000−K)を13.29gを添加し、充分撹拌溶解させてから、テトラクロロフタル酸を0.152g添加し、さらに60分間撹拌した。
<Dye solution 1>
Infrared sensitizing dye 1 0.0103 g
0.244 g of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole
2-chloro-benzoic acid 0.568 g
Benzoic acid derivative 1 4.245 g
Methyl ethyl ketone 25.00g
While keeping the solution to which the dye solution was added at 13 ° C., 13.29 g of polyvinyl butyral resin (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., Denkabutyral # 3000-K) was added and dissolved sufficiently. 0.152 g of chlorophthalic acid was added, and the mixture was further stirred for 60 minutes.

この溶液に、メチルエチルケトンにそれぞれ溶解させた下記添加物溶液1(13.543g)、添加物溶液2(5.774g)、添加物溶液3(4.597g)を実施例の表1に示すように順次混合撹拌して画像形成層塗布液1〜15を調製した。   In this solution, the following additive solution 1 (13.543 g), additive solution 2 (5.774 g) and additive solution 3 (4.597 g) dissolved in methyl ethyl ketone were respectively shown in Table 1 of the Examples. Image forming layer coating solutions 1 to 15 were prepared by mixing and stirring sequentially.

〈添加物溶液1〉
銀イオンの還元剤(表1に記載) 1.5×10-2mol
4−メチルフタル酸 0.401g
赤外染料1 0.0262g
メチルエチルケトン 20.00g
〈添加物溶液2〉
トリハロメチル基含有化合物1 1.408g
メチルエチルケトン 20.00g
(添加物溶液3)
フタラジン 1.420g
メチルエチルケトン 20.00g
<Additive solution 1>
Silver ion reducing agent (described in Table 1) 1.5 × 10 −2 mol
4-methylphthalic acid 0.401g
Infrared dye 1 0.0262g
Methyl ethyl ketone 20.00g
<Additive solution 2>
Trihalomethyl group-containing compound 1 1.408 g
Methyl ethyl ketone 20.00g
(Additive solution 3)
Phthalazine 1.420g
Methyl ethyl ketone 20.00g

Figure 2005274812
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Figure 2005274812
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〔保護層塗布液の調製〕
メチルエチルケトン86.5gを攪拌しながら、10.05gの酢酸酪酸セルロース(イーストマンケミカル社製、CAB171−15)、ベンゾトリアゾール0.100g、フッ素系活性剤(旭硝子(株)製、サーフロンKH40)0.10gを添加、溶解した。
(Preparation of protective layer coating solution)
While stirring 86.5 g of methyl ethyl ketone, 10.05 g of cellulose acetate butyrate (manufactured by Eastman Chemical Co., CAB171-15), 0.100 g of benzotriazole, fluorine-based activator (Asahi Glass Co., Ltd., Surflon KH40) 10 g was added and dissolved.

別途、固形分15%でメチルエチルケトンに溶解させた酢酸酪酸セルロース(イーストマンケミカル社製、CAB171−15)55.0gの溶液に、シリカ(富士シリシア化学(株)製、サイリシア320)を5.0g添加して、ジルコニアビーズを充填したメディア分散機で分散し、シリカ分散液を調製した。次いで、上記ベンゾトリアゾールを溶解した樹脂溶液を撹拌しながら、シリカ分散液3.0gを添加した後、超音波分散し保護層塗布液を調製した。   Separately, 5.0 g of silica (Fuji Silysia Chemical Co., Ltd., Silicia 320) is added to a solution of 55.0 g of cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical Co., CAB171-15) dissolved in methyl ethyl ketone at a solid content of 15%. It was added and dispersed with a media disperser filled with zirconia beads to prepare a silica dispersion. Next, while stirring the resin solution in which the benzotriazole was dissolved, 3.0 g of a silica dispersion was added, followed by ultrasonic dispersion to prepare a protective layer coating solution.

〔画像形成層面側の塗布〕
前記バッキング層を形成した厚さ175μmの2軸延伸PETフィルムのバッキング層とは反対面にコロナ放電処理(8W/m2・分)を施し、このコロナ放電処理面上に、上記調製した画像形成層塗布液1〜15と保護層塗布液とを、それぞれ押し出しコータを用いて重層塗布した後、75℃の温風で10分間乾燥させ熱現像感光材料1〜15を作製した。なお、乾燥後の膜厚は画像形成層21.0±1.5g/m2、保護層2.35±0.15g/m2となるように調整した。
(Application on the image forming layer side)
The surface of the biaxially stretched PET film having a thickness of 175 μm on which the backing layer is formed is subjected to corona discharge treatment (8 W / m 2 · min), and the image formation prepared above is formed on the corona discharge treated surface. The layer coating solutions 1 to 15 and the protective layer coating solution were respectively applied in multiple layers using an extrusion coater and then dried with warm air at 75 ° C. for 10 minutes to prepare photothermographic materials 1 to 15. The thickness after drying was adjusted to the image forming layer 21.0 ± 1.5g / m 2, the protective layer 2.35 ± 0.15g / m 2.

《画像記録方法及び画像の評価》
上記作製した熱現像感光材料において、調製後、即日の試料(条件A)と遮光下、温度、湿度がそれぞれ50℃、55%RHの環境の恒温槽内で120時間保存した試料(条件B)とを用いて、それぞれの試料の保護層面側から、高周波重畳にて波長800〜820nmの縦マルチモード化された半導体レーザを露光源とした露光機により、露光量を変化させレーザ走査による露光を行い、次いで、ヒートドラムを有する自動現像機を用いて、熱現像感光材料の保護層とドラム表面が接触するようにして、122℃で16秒で熱現像処理を施して画像形成を行った。なお、レーザ走査露光は、熱現像感光材料の露光面と露光レーザ光の角度を75度、保護層面でのレーザスポット径は主走査方向100μm、副走査方向75μmの楕円形、レーザ走査ピッチは主走査方向100μm、副走査方向75μmとして行い、また熱現像に使用したヒートドラムは、表面にゴム層が積層され、JIS B 0601で規定される中心線平均表面粗さRaが2.0μm、表面粗さSm(凹凸の平均間隔)が200μm、JIS K6253タイプAで規定される表面ゴム硬度が60のものを使用した。
<< Image recording method and image evaluation >>
In the photothermographic material prepared above, after preparation, a sample (condition A) of the same day and a sample stored for 120 hours in a thermostatic chamber at 50 ° C. and 55% RH under light shielding conditions (condition B). The exposure amount is changed by an exposure machine using an exposure source of a semiconductor laser having a longitudinal multimode wavelength of 800 to 820 nm by high frequency superimposition from the protective layer surface side of each sample. Then, using an automatic developing machine having a heat drum, image formation was carried out by applying heat development at 122 ° C. for 16 seconds so that the protective layer of the photothermographic material and the drum surface were in contact with each other. In the laser scanning exposure, the angle between the exposure surface of the photothermographic material and the exposure laser beam is 75 degrees, the laser spot diameter on the protective layer surface is an ellipse of 100 μm in the main scanning direction and 75 μm in the sub scanning direction, and the laser scanning pitch is the main. The heat drum used in the heat development was 100 μm in the scanning direction and 75 μm in the sub-scanning direction, and a rubber layer was laminated on the surface, and the centerline average surface roughness Ra defined by JIS B 0601 was 2.0 μm, and the surface roughness was A material having a thickness Sm (average interval of unevenness) of 200 μm and a surface rubber hardness of 60 defined by JIS K6253 type A was used.

上記のごとく露光及び熱現像処理を施した各熱現像感光材料を下記の基準で評価した。   Each photothermographic material subjected to exposure and heat development as described above was evaluated according to the following criteria.

(感度の測定)
Visualの透過濃度を濃度計(X−Rite社製、カラー透過濃度計310T)で測定し、未露光部分よりも1.0高い濃度を与える露光量の比の逆数を感度と定義し、熱現像感光材料No.1の保存条件A、処理条件1の感度を100とする相対値で評価した。なお、濃度が未露光部+1.0となる露光量は、濃度が未露光部+0.7〜+1.2となる濃度の間を少なくとも3点以上測定し、直線回帰により求めた。
(Measurement of sensitivity)
The transmission density of Visual was measured with a densitometer (manufactured by X-Rite, color transmission densitometer 310T), and the reciprocal of the exposure ratio giving a density 1.0 higher than that of the unexposed area was defined as sensitivity. Photosensitive material No. Evaluation was performed with relative values where the sensitivity of storage condition A of 1 and processing condition 1 was 100. In addition, the exposure amount at which the density becomes an unexposed area +1.0 was determined by linear regression after measuring at least three points between the densities at which the density becomes + unexposed area +0.7 to +1.2.

(かぶりの測定)
未露光部分のVisualの透過濃度を濃度計(X−Rite社製、カラー透過濃度計310T)で5点測定し、その平均値をかぶりとして評価した。
(Measurement of fogging)
The Visual transmission density of the unexposed portion was measured with a densitometer (manufactured by X-Rite, color transmission densitometer 310T), and the average value was evaluated as fogging.

(最高濃度の測定)
最高濃度部分のVisualの透過濃度を濃度計(X−Rite社製、カラー透過濃度計310T)で3点測定し、その平均値を求め、熱現像感光材料1、保存条件A、処理条件1の最高濃度を100とする相対値で評価した。
(Maximum concentration measurement)
The transmission density of Visual at the highest density portion was measured at three points with a densitometer (manufactured by X-Rite, color transmission densitometer 310T), and the average value thereof was obtained. The photothermographic material 1, storage condition A, and processing condition 1 Evaluation was made with a relative value where the maximum concentration was 100.

(銀色調の評価)
透過濃度が1.1±0.05となる濃度部を目視で観察し、下記に記載の判定基準に則り銀色調の評価を行った。なお、品質保証上問題のないランクは4以上である。
(Silver tone evaluation)
The density part where the transmission density was 1.1 ± 0.05 was visually observed, and the silver tone was evaluated according to the criteria described below. The rank that has no problem in quality assurance is 4 or more.

5:純黒調で全く黄色みを感じない
4:純黒ではないが、ほとんど黄色みを感じない
3:部分的にわずかに黄色みを感じる
2:全面にわずかに黄色みを感じる
1:一見して黄色みが感じられる。
5: Pure black tone and no yellowing 4: No blackness, almost no yellowing 3: Partially slightly yellowing 2: Slightly yellowing on the entire surface 1: At first glance And yellowness is felt.

以上、得られた各評価結果を表1に示す。   The obtained evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2005274812
Figure 2005274812

表1から明らかなように、本発明の試料は、比較に対して、最高濃度が高く、カブリが少なく、又、高温環境下で保存した後の感度、最高濃度の低下が少なく、カブリの上昇も少ないため生保存性が良好で、さらに銀色調にも優れていることが判る。   As is clear from Table 1, the sample of the present invention has a higher maximum concentration and less fog, and the sensitivity after storage in a high temperature environment, the decrease in the maximum concentration is small, and the fog rises. Therefore, it can be seen that the raw shelf life is good and the silver tone is also excellent.

実施例2
1.下引済みPET支持体Bの作製
2軸延伸熱固定済みの厚さ125μmのPETフィルムの両面に下記の条件でプラズマ処理1を施し、次いで一方の面に前記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設してから乾燥させて下引層A−1とし、又反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設してから乾燥させて導電層としての下引層B−1とした。次いで、それぞれの下引き層表面に下記の条件でプラズマ処理2を施した。
Example 2
1. Preparation of undercoated PET support B Plasma treatment 1 was performed on both sides of a 125 μm thick PET film that had been biaxially stretched and heat-set under the following conditions, and then the undercoating liquid a-1 was dried on one surface After coating to a film thickness of 0.8 μm, drying is performed to form an undercoat layer A-1, and on the opposite side, an undercoat coating solution b-1 subjected to the following antistatic treatment is applied to a dry film thickness of 0.8 μm. After being coated so as to become an undercoat layer B-1 as a conductive layer. Next, plasma treatment 2 was performed on the surface of each undercoat layer under the following conditions.

《プラズマ処理条件》
バッチ式の大気圧プラズマ処理装置(イーシー化学(株)製、AP−I−H−340)を用いて、高周波出力が4.5kW、周波数が5kHz、処理時間が5秒及びガス条件としてアルゴン、窒素及び水素の体積比をそれぞれ90%、5%及び5%で、プラズマ処理1及びプラズマ処理2を行った。
<< Plasma treatment conditions >>
Using a batch type atmospheric pressure plasma processing apparatus (EC-I-H-340, manufactured by EC Chemical Co., Ltd.), the high frequency output is 4.5 kW, the frequency is 5 kHz, the processing time is 5 seconds, and the gas conditions are argon, Plasma treatment 1 and plasma treatment 2 were performed at a volume ratio of nitrogen and hydrogen of 90%, 5%, and 5%, respectively.

〈下引塗布液a−1〉
ブチルアクリレート(30質量%)
t−ブチルアクリレート(20質量%)
スチレン(25質量%)
2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%)
の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g
ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g
ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g
コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g
水で1リットルに仕上げる
〈下引塗布液b−1〉
酸化錫(インジウムを0.1%ドープした平均粒径36nm)
0.26g/m2になる量
ブチルアクリレート(30質量%)
スチレン(20質量%)
グリシジルアクリレート(40質量%)
の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g
ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g
水で1リットルに仕上げる
〈支持体の熱処理〉
得られた下引済み支持体の下引乾燥工程にて、支持体を140℃で加熱し、その後徐々に冷却した。その際に1×105Paの張力で搬送した。
<Undercoat coating liquid a-1>
Butyl acrylate (30% by mass)
t-Butyl acrylate (20% by mass)
Styrene (25% by mass)
2-Hydroxyethyl acrylate (25% by mass)
270 g of copolymer latex liquid (solid content 30%)
Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8g
Polystyrene fine particles (average particle size 3 μm) 0.05 g
Colloidal silica (average particle size 90μm) 0.1g
Finish to 1 liter with water <Undercoat coating solution b-1>
Tin oxide (average particle size 36nm doped with 0.1% indium)
Amount to be 0.26 g / m 2 Butyl acrylate (30% by mass)
Styrene (20% by mass)
Glycidyl acrylate (40% by mass)
270 g of copolymer latex liquid (solid content 30%)
Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8g
Finish to 1 liter with water <Heat treatment of support>
In the undercoating drying step of the obtained undercoated support, the support was heated at 140 ° C. and then gradually cooled. In that case, it conveyed with the tension | tensile_strength of 1 * 10 < 5 > Pa.

2.バック層面側の塗布
以下の組成のバック層塗布液1とバック保護層塗布液1を、それぞれ塗布前に絶対濾過精度20μmのフィルターを用いて濾過した後、前記作製した支持体の帯電防止加工した下引層B−1面上に、合計ウェット膜厚が30μmになるよう、毎分40mの速度で同時重層塗布し、60℃で4分間乾燥を行った。
2. Coating on the back layer side The back layer coating solution 1 and the back protective layer coating solution 1 having the following compositions were filtered using a filter having an absolute filtration accuracy of 20 μm before coating, respectively, and then the prepared support was antistatic processed. On the surface of the undercoat layer B-1, a simultaneous multilayer coating was applied at a rate of 40 m / min so that the total wet film thickness was 30 μm, and drying was performed at 60 ° C. for 4 minutes.

〈バック層塗布液B〉
メチルエチルケトン 22.2g/m2
赤外染料A 22mg/m2
安定化剤B−1 100mg/m2
安定化剤B−2(吉富製薬トミソーブ77) 50mg/m2
セルロースアセテートプロピレート(Eastman Chemical社
CAP504−0.2) 0.5g/m2
セルロースアセテートプロピレート(Eastman Chemical社
CAP482−20) 1.5g/m2
〈バック保護層塗布液1〉
メチルエチルケトン 22g/m2
界面活性剤; C917O(CH2CH2O)22917 22mg/m2
LiO3S(CF23SO3Li 10mg/m2
セルロースアセテートプロピレート(Eastman Chemical社
CAP482−20) 2.5g/m2
マット剤(富士デビソン社サイロイド74;平均粒径7μmのシリカ)
12mg/m2
<Back layer coating solution B>
Methyl ethyl ketone 22.2 g / m 2
Infrared dye A 22mg / m 2
Stabilizer B-1 100 mg / m 2
Stabilizer B-2 (Yoshitomi Pharmaceutical Tomissorb 77) 50 mg / m 2
Cellulose acetate propylate (Eastman Chemical CAP504-0.2) 0.5 g / m 2
Cellulose acetate propylate (Eastman Chemical CAP482-20) 1.5 g / m 2
<Back protective layer coating solution 1>
Methyl ethyl ketone 22g / m 2
Surfactant; C 9 F 17 O (CH 2 CH 2 O) 22 C 9 F 17 22 mg / m 2
LiO 3 S (CF 2 ) 3 SO 3 Li 10 mg / m 2
Cellulose acetate propyleneate (Eastman Chemical CAP482-20) 2.5 g / m 2
Matting agent (Fuji Devison Psyroid 74; silica with an average particle size of 7 μm)
12mg / m 2

Figure 2005274812
Figure 2005274812

(ハロゲン化銀乳剤Bの調製)
純水900ml中にゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(96/4)のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムと塩化イリジウムを5×10-6モル/リットルを含む水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間かけて添加した。その後4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加しNaOHでpHを5に調整して平均粒子サイズ0.06μm、投影直径面積の変動係数8%、〔100〕面比率86%の立方体沃臭化銀からなるハロゲン化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5に調整しハロゲン化銀乳剤Bを得た。
(Preparation of silver halide emulsion B)
In 900 ml of pure water, 7.5 g of gelatin and 10 mg of potassium bromide were dissolved, adjusted to a temperature of 35 ° C. and a pH of 3.0, and then brominated at a molar ratio of (96/4) with 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate. An aqueous solution containing 5 × 10 −6 mol / liter of potassium, potassium iodide and iridium chloride was added over 10 minutes by the controlled double jet method while maintaining pAg 7.7. Thereafter, 0.3 g of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added, the pH was adjusted to 5 with NaOH, the average particle size was 0.06 μm, and the variation coefficient of the projected diameter area was 8%. , [100] silver halide grains made of cubic silver iodobromide having a face ratio of 86% were obtained. This emulsion was coagulated and precipitated using a gelatin flocculant, desalted, and 0.1 g phenoxyethanol was added to adjust the pH to 5.9 and pAg 7.5 to obtain a silver halide emulsion B.

《有機酸分散物Bの調製》
4720mlの純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6gを80℃で溶解した。次に1.5M/Lの水酸化ナトリウム水溶液540.2mlを添加し、濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸ナトリウム溶液を得た。該脂肪酸ナトリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、45.3gの上記のハロゲン化銀乳剤Bと純水450mlを添加し5分間攪拌した。
<< Preparation of organic acid dispersion B >>
130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, and 43.6 g of stearic acid were dissolved in 4720 ml of pure water at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 M / L sodium hydroxide aqueous solution was added, 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, and the mixture was cooled to 55 ° C. to obtain a fatty acid sodium solution. While maintaining the temperature of the fatty acid sodium solution at 55 ° C., 45.3 g of the above silver halide emulsion B and 450 ml of pure water were added and stirred for 5 minutes.

次に1M/Lの硝酸銀溶液702.6mlを2分間かけて添加し、10分間攪拌し脂肪族カルボン酸銀塩分散物を得た。その後、得られた脂肪族カルボン酸銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて攪拌後、静置させて脂肪族カルボン酸銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が50μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の脂肪族カルボン酸銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー(株式会社セイシン企業製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機入り口熱風温度の運転条件により、含水率が0.1%になるまで乾燥して粉末脂肪族カルボン酸銀塩Bを得た。脂肪族カルボン酸銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。   Next, 702.6 ml of 1 M / L silver nitrate solution was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion. Thereafter, the obtained aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion was transferred to a water-washing vessel, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion. Was removed. Thereafter, washing with deionized water and drainage were repeated until the electrical conductivity of the drainage reached 50 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out. Then, the cake-like aliphatic carboxylic acid silver salt thus obtained was added to the airflow dryer flash jet. Using a dryer (manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.), the powdered aliphatic carboxylic acid silver salt B was obtained by drying until the water content became 0.1% under the operating conditions of nitrogen gas atmosphere and dryer inlet hot air temperature. . An infrared moisture meter was used to measure the water content of the aliphatic carboxylic acid silver salt composition.

(予備分散液Bの調製)
ポリビニルブチラール樹脂P−9の14.57gをメチルエチルケトン1457gに溶解し、VMA−GETZMANN社製ディゾルバDISPERMATCA−40M型にて攪拌しながら、粉末脂肪族カルボン酸銀塩Bの500gを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液Bを調製した。
(Preparation of preliminary dispersion B)
14.57 g of polyvinyl butyral resin P-9 was dissolved in 1457 g of methyl ethyl ketone, and 500 g of powdered aliphatic carboxylic acid silver salt B was gradually added while stirring with a dissolver DISPERMATCA-40M manufactured by VMA-GETZMANN. A pre-dispersion B was prepared by mixing.

(感光性乳剤分散液Bの調製)
予備分散液Bをポンプを用いてミル内滞留時間が1.5分間となるように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ製トレセラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機DISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GETZMANN社製)に供給し、ミル周速8m/sにて分散を行なうことにより感光性乳剤分散液Bを調製した。
(Preparation of photosensitive emulsion dispersion B)
Media-type disperser DISPERMAT SL- filled with 80% of the internal volume of 0.5 mm diameter zirconia beads (Torayserum manufactured by Toray) so that the residence time in the mill is 1.5 minutes using a pump. A photosensitive emulsion dispersion B was prepared by supplying to a C12EX type (manufactured by VMA-GETZMANN) and dispersing at a mill peripheral speed of 8 m / s.

《安定剤液Bの調製》
1.0gの安定剤1、0.31gの酢酸カリウムをメタノール4.97gに溶解し安定剤液Bを調製した。
<< Preparation of Stabilizer Solution B >>
Stabilizer solution B was prepared by dissolving 1.0 g of Stabilizer 1 and 0.31 g of potassium acetate in 4.97 g of methanol.

《赤外増感色素液Bの調製》
19.2mgの赤外増感色素2の1.488gの2−クロロ−安息香酸、2.779gの安定剤2及び365mgの5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾールを、31.3mlのMEKに暗所にて溶解し、赤外増感色素液Bを調製した。
<< Preparation of infrared sensitizing dye liquid B >>
19.2 mg of infrared sensitizing dye 2 1.488 g 2-chloro-benzoic acid, 2.7779 g stabilizer 2 and 365 mg 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole in 31.3 ml MEK. The solution was dissolved at a place to prepare an infrared sensitizing dye solution B.

(画像形成層塗布液B組成)
感光性乳剤分散液B 1.4g(銀で)/m2
カブリ防止剤1 1.5×10-4mol/m2
臭化カルシウム 1.8×10-4mol/m2
安定剤液B 0.3g/m2
赤外増感色素液B 2.7g/m2
テトラクロロフタル酸 7.9×10-4mol/m2
銀イオン還元剤(表2に示す。) 4.8×10-3mol/m2
赤外染料B 3×10-5mol/m2
4−メチルフタル酸 5×10-4mol/m2
造核剤(PMP) 0.02mol/molAg
2−トリブロモメチルスルホニルピリジン 6.0×10-4mol/m2
o−フタル酸 4.0×10-4mol/m2
溶媒には、メチルエチルケトン、アセトン、メタノールを適宜用いた。
(Image forming layer coating solution B composition)
Photosensitive emulsion dispersion B 1.4 g (in silver) / m 2
Antifoggant 1 1.5 × 10 −4 mol / m 2
Calcium bromide 1.8 × 10 −4 mol / m 2
Stabilizer liquid B 0.3 g / m 2
Infrared sensitizing dye solution B 2.7 g / m 2
Tetrachlorophthalic acid 7.9 × 10 −4 mol / m 2
Silver ion reducing agent (shown in Table 2) 4.8 × 10 −3 mol / m 2
Infrared dye B 3 × 10 −5 mol / m 2
4-methylphthalic acid 5 × 10 −4 mol / m 2
Nucleating agent (PMP) 0.02 mol / mol Ag
2-Tribromomethylsulfonylpyridine 6.0 × 10 −4 mol / m 2
o-phthalic acid 4.0 × 10 −4 mol / m 2
As the solvent, methyl ethyl ketone, acetone, and methanol were appropriately used.

Figure 2005274812
Figure 2005274812

(保護層塗布液B組成)
表面保護層塗布液を下記のように調製した。
(Protective layer coating solution B composition)
A surface protective layer coating solution was prepared as follows.

セルロースアセテートブチレート 4g/m2
フタラジン 3.2×10-3mol/m2
溶媒には、メチルエチルケトン、アセトン、メタノールを適宜用いた。
Cellulose acetate butyrate 4g / m 2
Phthalazine 3.2 × 10 −3 mol / m 2
As the solvent, methyl ethyl ketone, acetone, and methanol were appropriately used.

(中間層塗布液B組成)
ポリビニルブチラール 0.5g/m2
ポリメチルメタアクリレート 0.04g/m2
溶媒には、メチルエチルケトン、アセトン、メタノールを適宜用いた。
(Interlayer coating solution B composition)
Polyvinyl butyral 0.5g / m 2
Polymethyl methacrylate 0.04g / m 2
As the solvent, methyl ethyl ketone, acetone, and methanol were appropriately used.

〔画像形成層面側の塗布〕
画像形成層塗布液B、中間層塗布液B及び保護層塗布液Bとを、それぞれ押し出しコータを用いて前記バック層面とは反対面側にこの順番で重層塗布した後、75℃の温風で10分間乾燥させ熱現像感光材料21〜31を作製した。なお、乾燥後の膜厚は画像形成層21.0±1.5g/m2、中間層1.50±0.08g/m2、及び保護層2.35±0.15g/m2となるように調整した。
(Application on the image forming layer side)
The image forming layer coating solution B, the intermediate layer coating solution B, and the protective layer coating solution B were respectively applied in this order on the side opposite to the back layer surface using an extrusion coater, and then heated with 75 ° C. hot air. Photothermographic materials 21 to 31 were prepared by drying for 10 minutes. Incidentally, it thickness after drying the image-forming layer 21.0 ± 1.5g / m 2, an intermediate layer 1.50 ± 0.08g / m 2, and the protective layer 2.35 ± 0.15g / m 2 Adjusted as follows.

《写真性能の評価》
(露光処理)
得られた熱現像感光材料を、ビーム径(ビーム強度の1/2のFWHM)12.56μm、レーザー出力50mW、出力波長783nmの半導体レーザーを搭載した単チャンネル円筒内面方式のレーザー露光装置を使用し、ミラー回転数60000rpm、露光時間1.2×10-8秒の露光を実施した。この時のオーバーラップ係数は0.449にし、熱現像感光材料面上のレーザーエネルギー密度は75μJ/cm2とした。121℃で20秒、熱現像処理を行った。濃度測定はマクベスTD904濃度計(可視濃度)により行った。結果を表2に示した。感度は濃度1.5を与える露光量の対数をもって表し、S1.5とし感光材料No.21を基準として相対値で示した。値が大きいほど高感度である。
<Evaluation of photographic performance>
(Exposure processing)
The obtained photothermographic material was subjected to a single channel cylindrical inner surface type laser exposure apparatus equipped with a semiconductor laser having a beam diameter (FWHM ½ of the beam intensity) of 12.56 μm, a laser output of 50 mW, and an output wavelength of 783 nm. Then, exposure was performed at a mirror rotational speed of 60000 rpm and an exposure time of 1.2 × 10 −8 seconds. The overlap coefficient at this time was 0.449, and the laser energy density on the surface of the photothermographic material was 75 μJ / cm 2 . Thermal development was performed at 121 ° C. for 20 seconds. Density measurement was performed with a Macbeth TD904 densitometer (visible density). The results are shown in Table 2. Sensitivity is expressed as a logarithm of exposure amount giving a density of 1.5. Relative values are shown with 21 as a reference. The higher the value, the higher the sensitivity.

(現像処理湿度依存性の評価)
熱現像感光材料を23℃80%12時間調湿の試料と23℃20%12時間調湿の試料を作製し、同一環境下で50μmの線幅露光を行なって熱現像処理を行なった。
それぞれの処理後の線幅の差を測定することにより、現像処理湿度依存性を評価した。またそれぞれの環境下でのDmin(カブリ)の差についても評価した。結果を表2に示す。
(Evaluation of development processing humidity dependency)
A photothermographic material was prepared at 23 ° C. and 80% humidity for 12 hours and at 23 ° C. and 20% humidity for 12 hours, and was subjected to heat development processing by exposure to a line width of 50 μm in the same environment.
The dependency of development processing humidity was evaluated by measuring the difference in line width after each processing. Further, the difference in Dmin (fogging) under each environment was also evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 2005274812
Figure 2005274812

表2から、本発明の試料は、感度が高く、環境湿度条件の変動に対する許容度の大きいことがわかる。   From Table 2, it can be seen that the sample of the present invention has high sensitivity and high tolerance for fluctuations in environmental humidity conditions.

Claims (3)

支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、銀イオンの還元剤を含有する熱現像感光材料において、該銀イオン還元剤の少なくとも1種が下記一般式(1)で表されることを特徴とする熱現像感光材料。
Figure 2005274812
〔式中、R0′、R0″は水素原子、アルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Q0はベンゼン環上に置換可能な基を表し、n及びmは0〜2の整数を表す。複数のQ0は同じでも異なっていても良い。Rxは水素原子又はアルキル基を表す。R1は水素原子、又はR4と互いに結合して環を形成するのに必要な原子群を表す。R2は水素原子、ハロゲン原子、炭素数が0又は1で且つ、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子から選ばれる少なくとも1原子を含む置換基、または炭素数2以上の置換基を表す。R3は水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。R4は水素原子、ハロゲン原子、置換基、又はR1と互いに結合して環を形成するのに必要な原子群を表す。R5は水素原子又はメチル基を表す。〕
In a photothermographic material containing an organic silver salt, a photosensitive silver halide, and a silver ion reducing agent on a support, at least one of the silver ion reducing agent is represented by the following general formula (1): A heat-developable photosensitive material.
Figure 2005274812
[Wherein, R 0 ′ and R 0 ″ represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, Q 0 represents a substitutable group on the benzene ring, and n and m are 0-2. A plurality of Q 0 s may be the same or different, R x represents a hydrogen atom or an alkyl group, R 1 is a hydrogen atom, or R 4 is necessary for bonding to each other to form a ring. R 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituent having 0 or 1 carbon atoms and containing at least one atom selected from an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom, or a substituent having 2 or more carbon atoms R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituent, and R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituent, or an atomic group necessary for bonding to R 1 to form a ring. R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group.]
造核剤を含有することを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。 2. The photothermographic material according to claim 1, further comprising a nucleating agent. 請求項1又は2に記載の熱現像感光材料を、発振波長600nm〜1100nmのレーザ走査露光機を用いて露光することを特徴とする画像記録方法。 An image recording method comprising exposing the photothermographic material according to claim 1 or 2 using a laser scanning exposure machine having an oscillation wavelength of 600 nm to 1100 nm.
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