JP2005122013A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

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JP2005122013A
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photothermographic material
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silver
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Kenji Goto
賢治 後藤
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Konica Minolta Medical and Graphic Inc
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Konica Minolta Medical and Graphic Inc
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material superior in preservation and improving the humidity dependance of processing. <P>SOLUTION: The heat development photosensitive material, having an image forming layer, contains organic silver particles, halide silver particles and a reducing agent on a support. The heat developable sensitive material has an acrylic hydrophobic resin layer containing at least one kind selected from among microcrystalline wax and paraffin wax at the side of the image forming layer. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、熱現像感光材料に関する。   The present invention relates to a photothermographic material.

従来から広範囲に用いられているハロゲン化銀感光材料は、その優れた写真特性により、より広範囲且つ高品質な素材として画像形成分野に利用されているが、画像を形成するために現像、定着、水洗、乾燥というプロセスが必要であり、しかも処理工程が湿式であるため、作業が煩雑であるという欠点があった。その為、現像工程を熱処理で行う熱現像感光材料が開発、実用化され、近年、印刷業界或いは医用業界を中心に急速に普及してきている。   Silver halide photosensitive materials that have been widely used in the past are used in the field of image formation as a broader and higher quality material due to their excellent photographic properties, but development, fixing, The process of washing with water and drying is necessary, and the processing steps are wet, so that the work is complicated. For this reason, a photothermographic material in which the development process is performed by heat treatment has been developed and put into practical use, and in recent years, it has been rapidly spread mainly in the printing industry or the medical industry.

かかる技術として、支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子及び還元剤を有する熱現像感光材料が知られている。この熱現像感光材料は溶液系処理薬品を一切使用しないため、より簡便なシステムをユーザーに提供することができる。   As such a technique, a photothermographic material having an organic silver salt, photosensitive silver halide grains and a reducing agent on a support is known. Since this photothermographic material does not use any solution processing chemicals, a simpler system can be provided to the user.

特に印刷製版分野において、画像形成感光材料の湿式処理に伴う廃液が、作業上の問題になっており、近年では環境保全、省スペースの観点からも処理廃液の減量が強く望まれている。   In particular, in the field of printing plate making, waste liquids resulting from wet processing of image-forming photosensitive materials have become operational problems. In recent years, reduction of processing waste liquids is strongly desired from the viewpoint of environmental protection and space saving.

熱現像感光材料(感光材料ともいう)は極端に湿度の影響を受けやすく、湿度により写真性能が著しく変化する。特に冬場の低湿期には、保存されている間に感光材料中の水分量が少なくなり現像反応が進みにくく、濃度が出なくなるという問題があった。   Photothermographic materials (also referred to as photosensitive materials) are extremely susceptible to humidity, and photographic performance varies significantly with humidity. Particularly in the low humidity period in winter, there is a problem that the amount of water in the photosensitive material is reduced during storage and the development reaction is difficult to proceed, and the density does not come out.

従来の技術としては塩化ビニリデンの下引きを行い、湿度の影響を少なくする技術は知られているが環境上問題がある。また保護層を厚くしたり、乾燥温度を変えたりする技術も知られているが不十分である。   As a conventional technique, a technique for subtracting vinylidene chloride to reduce the influence of humidity is known, but there is an environmental problem. In addition, techniques for increasing the thickness of the protective layer and changing the drying temperature are known but insufficient.

また、特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用熱現像感光材料において、文字線幅の現像湿度依存性が小さく、画像保存性の良好な、還元剤及び分子量500以上の有機硬調化剤を含有する超硬調熱現像感光材料を提供する技術(例えば、特許文献1参照。)、高活性な還元剤を使いつつ環境温湿度依存性を改良した熱現像感光材料を提供する技術(例えば、特許文献2参照。)、高感度で、未現像時の保存性に優れ、文字線幅の現像時の温度および湿度依存性の小さい写真製版用途に最適な写真特性を示す熱現像感光材料を提供する技術(例えば、特許文献3参照。)、更には高感度で、低カブリ、高Dmax(最高濃度)で、保存時のカブリの上昇が少なく、現像時の温湿度依存性が小さい熱現像感光材料を提供する技術(例えば、特許文献4参照。)が公開されている。しかしながら、いずれの技術も湿度に対する依存性を改善するには到っていない。   In particular, photothermographic materials for photoengraving, especially scanners and image setters, contain reducing agents and organic contrast agents with a molecular weight of 500 or more that have a low dependency on the development humidity of the character line width and good image storage stability. A technology for providing a super high contrast photothermographic material (for example, see Patent Document 1), and a technology for providing a photothermographic material having improved environmental temperature and humidity dependency while using a highly active reducing agent (for example, Patent Literature 1). 2), a technology for providing a photothermographic material having high photographic properties, excellent storability when not developed, and exhibiting optimum photographic characteristics for photoengraving applications having low temperature and humidity dependence during character line width development. (See, for example, Patent Document 3.) Further, a photothermographic material having high sensitivity, low fog, high Dmax (maximum density), little increase in fog during storage, and low temperature-humidity dependency during development. Provided technology For example, refer to Patent Document 4.) Have been published. However, none of the techniques has improved the dependency on humidity.

更に、有機硬調化剤の添加は、カブリ、感度及び保存性等の劣化の原因となるが、有機硬調化剤を添加せずに硬調画像を満足に得る技術はまだ確立されていない。
特開2002−55409号公報 (第25〜33頁) 特開2002−90935号公報 (第4〜8頁) 特開2002−229153号公報 (第7〜11頁) 特開2002−258436号公報 (第7〜17頁)
Furthermore, the addition of an organic contrast agent causes deterioration of fog, sensitivity, storage stability, and the like, but a technique for satisfactorily obtaining a high contrast image without adding an organic contrast enhancer has not yet been established.
JP 2002-55409 A (pages 25-33) JP 2002-90935 A (pages 4-8) JP 2002-229153 A (pages 7 to 11) JP 2002-258436 A (7th to 17th pages)

本発明の目的は、保存性に優れ、処理湿度依存性の改良された熱現像感光材料を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a photothermographic material having excellent storage stability and improved processing humidity dependency.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
(請求項1)
支持体上に有機銀粒子、ハロゲン化銀粒子及び還元剤を含有する画像形成層を有する熱現像感光材料において、該画像形成層側にマイクロクリスタリンワックス及びパラフィンワックスから選ばれる少なくとも1種を含有するアクリル系疎水性樹脂層を有することを特徴とする熱現像感光材料。
(請求項2)
銀イオン還元剤の少なくとも1種が下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする熱現像感光材料。
The above object of the present invention can be achieved by the following configuration.
(Claim 1)
In a photothermographic material having an image forming layer containing organic silver particles, silver halide particles and a reducing agent on a support, the image forming layer side contains at least one selected from microcrystalline wax and paraffin wax. A photothermographic material having an acrylic hydrophobic resin layer.
(Claim 2)
A photothermographic material, wherein at least one silver ion reducing agent is a compound represented by the following general formula (1).

Figure 2005122013
Figure 2005122013

〔式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立にアルキル基を表すが、少なくとも1つの基は水酸基又は脱保護されることにより水酸基を形成しうる基を置換基として有するアルキル基を表す。L1は−S−基又は−CR5(R6)−基を表し、R5及びR6は水素原子、アルキル基、3〜10員の非芳香族環基、アリール基、又はヘテロアリール基を表す。X1及びX2はベンゼン環に置換可能な基を表し、n及びmは0〜2の整数を表す。〕
(請求項3)
前記一般式(1)のR2及びR3が水酸基又は脱保護されることにより水酸基を形成しうる基を置換基として有するアルキル基であることを特徴とする請求項2に記載の熱現像感光材料。
(請求項4)
一般式(1)で表される還元剤が下記一般式(2)で表される還元剤であることを特徴とする請求項2又は3に記載の熱現像感光材料。
[In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group, but at least one group is a hydroxyl group or an alkyl having a substituent that can form a hydroxyl group by deprotection. Represents a group. L 1 represents an —S— group or a —CR 5 (R 6 ) — group, and R 5 and R 6 are a hydrogen atom, an alkyl group, a 3- to 10-membered non-aromatic ring group, an aryl group, or a heteroaryl group. Represents. X 1 and X 2 represent groups that can be substituted on the benzene ring, and n and m each represents an integer of 0 to 2. ]
(Claim 3)
3. The photothermographic sensor according to claim 2, wherein R 2 and R 3 in the general formula (1) are a hydroxyl group or an alkyl group having a group capable of forming a hydroxyl group by deprotection as a substituent. material.
(Claim 4)
4. The photothermographic material according to claim 2, wherein the reducing agent represented by the general formula (1) is a reducing agent represented by the following general formula (2).

Figure 2005122013
Figure 2005122013

〔式中、R1、R4、L1、X1、X2、n及びmは一般式(1)に於けるものと同義である。R5及びR6は水素原子又はアルキル基を表す。p及びqは0〜5の整数を表す。〕
(請求項5)
前記一般式(2)のR5及びR6が水素原子であり、p及びqが2であることを特徴とする請求項4に記載の熱現像感光材料。
(請求項6)
前記一般式(1)及び(2)のR1及びR2が2級又は3級のアルキル基であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
(請求項7)
前記一般式(1)及び(2)のL1が−CR55(R66)−基であり、且つ、R55が5〜6員の非芳香族環状基であり、R66が水素原子であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
(請求項8)
造核剤を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。
[Wherein, R 1 , R 4 , L 1 , X 1 , X 2 , n and m are the same as those in the general formula (1). R 5 and R 6 represent a hydrogen atom or an alkyl group. p and q represent the integer of 0-5. ]
(Claim 5)
5. The photothermographic material according to claim 4, wherein R 5 and R 6 in the general formula (2) are hydrogen atoms, and p and q are 2.
(Claim 6)
6. The photothermographic material according to claim 1, wherein R 1 and R 2 in the general formulas (1) and (2) are secondary or tertiary alkyl groups.
(Claim 7)
L 1 in the general formulas (1) and (2) is a —CR 55 (R 66 ) — group, R 55 is a 5- to 6-membered non-aromatic cyclic group, and R 66 is a hydrogen atom. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material is provided.
(Claim 8)
The photothermographic material according to claim 1, further comprising a nucleating agent.

本発明により、保存性に優れ、処理湿度依存性の改良された熱現像感光材料を得た。   According to the present invention, a photothermographic material having excellent storage stability and improved processing humidity dependency was obtained.

本発明を更に詳しく説明する。本発明に好ましく用いられるアクリル系疎水性樹脂としては、例えば、アクリル酸エステルモノマーの炭素数が7以上で、かつ、該アクリル酸エステルモノマーを得るときのアルコールのアルキル基の炭素数が3以上のアクリル酸エステルのポリマー、または、前記アクリル酸エステルとスチレンとの共重合物等が挙げられる。   The present invention will be described in more detail. As the acrylic hydrophobic resin preferably used in the present invention, for example, the acrylic ester monomer has 7 or more carbon atoms, and the alkyl group of the alcohol used to obtain the acrylic ester monomer has 3 or more carbon atoms. Examples thereof include an acrylic ester polymer, and a copolymer of the acrylic ester and styrene.

本発明に好ましく用いられるマイクロクリスタリンワックス及びパラフィンワックスとしては、日本精蝋(株)製のEMUSTAR−0001、EMUSTAR−0135等を挙げることが出来る。   Examples of the microcrystalline wax and paraffin wax preferably used in the present invention include EMUSTAR-0001 and EMUSTAR-0135 manufactured by Nippon Seiwa Co., Ltd.

本発明においては、銀イオン還元剤の少なくとも一種がビスフェノール誘導体である特定の化合物を単独又は他の異なる化学構造を有する還元剤と併せて用いる。本発明に係る熱現像感光材料において、保存中のカブリ発生等による性能劣化及び熱現像後の銀画像の保存における色調劣化等を予想外に抑制することが出来る。   In the present invention, a specific compound in which at least one silver ion reducing agent is a bisphenol derivative is used alone or in combination with other reducing agents having different chemical structures. In the photothermographic material according to the present invention, it is possible to unexpectedly suppress performance deterioration due to fogging during storage, color tone deterioration during storage of a silver image after heat development, and the like.

本発明に用いられる還元剤としては、前記一般式(1)、及び(2)で表されるビスフェノール誘導体が好ましい。   The reducing agent used in the present invention is preferably a bisphenol derivative represented by the general formulas (1) and (2).

まず、本発明に係る一般式(1)で表される化合物について詳述する。一般式(1)において、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立にアルキル基を表すが、例としては、炭素数1から15のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基等)、ハロゲン化アルキル基(例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基等)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基)等を挙げることができる。またこれらの基はさらに置換されていても良く、該置換基の例としては、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、ハロゲン化アルキル基(例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(例えば、フェニル基)、複素環基(例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、ウレタン基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、アミド基(例えば、アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、水酸基、オキザモイル基等を挙げることができる。 First, the compound represented by the general formula (1) according to the present invention will be described in detail. In the general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group. Examples thereof include an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group). Group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, decyl group, dodecyl group, pentadecyl group, etc.), halogenated alkyl group (for example, trifluoromethyl group, perfluorooctyl group, etc.), cycloalkyl group ( For example, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 1-methylcyclohexyl group, etc.), an alkynyl group (for example, a propargyl group), etc. can be mentioned. These groups may be further substituted, and examples of the substituent include alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.) , Halogenated alkyl groups (eg, trifluoromethyl group, perfluorooctyl group, etc.), cycloalkyl groups (eg, cyclohexyl group, cyclopentyl group, etc.), alkynyl groups (eg, propargyl group), glycidyl groups, acrylate groups, methacrylates Group, aryl group (for example, phenyl group), heterocyclic group (for example, pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, selenazolyl group, sriphoranyl group, Piperidinyl group, pyrazolyl group, tetrazoli group Group), halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, fluorine atom, etc.), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, cyclopentyloxy group, hexyloxy group, Cyclohexyloxy group etc.), aryloxy group (eg phenoxy group), alkoxycarbonyl group (eg methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group etc.), aryloxycarbonyl group (eg phenyloxycarbonyl group) ), Sulfonamide groups (for example, methanesulfonamide groups, ethanesulfonamide groups, butanesulfonamide groups, hexanesulfonamide groups, cyclohexanesulfonamide groups, benzenesulfonamide groups, etc.), sulfamoyl groups (for example, Minosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), urethane group (for example, methylureido group) , Ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, phenylureido group, 2-pyridylureido group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, propionyl group, butanoyl group, hexanoyl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group, Pyridinoyl group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclo Hexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), amide group (eg, acetamido group, propionamide group, butanamide group, hexaneamide group, benzamide group etc.), sulfonyl group (eg, methylsulfonyl group) , Ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, anilino) Group, 2-pyridylamino group and the like), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, oxamoyl group and the like.

1〜R4のうち少なくとも1つは水酸基、または脱保護されて水酸基を形成しうる基を置換基として有するアルキル基であるが、好ましくは水酸基を有するアルキル基である。脱保護されて水酸基を形成しうる基として好ましくは酸および/または熱の作用により脱保護して水酸基を形成する基が挙げられる。具体的には、エーテル基(メトキシ基、tert−ブトキシ基、アリルオキシ基、ベンジルオキシ基、トリフェニルメトキシ基、トリメチルシリルオキシ基等)、ヘミアセタール基(テトラヒドロピラニルオキシ基等)、エステル基(アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−ニトロベンゾイルオキシ基、ホルミルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基等)、カルボナート基(エトキシカルボニルオキシ基、フェノキシカルボニルオキシ基、tert−ブチルオキシカルボニルオキシ基等)、スルホナート基(p−トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基等)、カルバモイルオキシ基(フェニルカルバモイルオキシ基等)、チオカルボニルオキシ基(ベンジルチオカルボニルオキシ基等)、硝酸エステル基、スルフェナート基(2,4−ジニトロベンゼンスルフェニルオキシ基等)が挙げられる。 At least one of R 1 to R 4 is a hydroxyl group or an alkyl group having a substituent that can be deprotected to form a hydroxyl group, and is preferably an alkyl group having a hydroxyl group. The group that can be deprotected to form a hydroxyl group is preferably a group that forms a hydroxyl group by deprotection by the action of an acid and / or heat. Specifically, ether groups (methoxy groups, tert-butoxy groups, allyloxy groups, benzyloxy groups, triphenylmethoxy groups, trimethylsilyloxy groups, etc.), hemiacetal groups (tetrahydropyranyloxy groups, etc.), ester groups (acetyl) Oxy group, benzoyloxy group, p-nitrobenzoyloxy group, formyloxy group, trifluoroacetyloxy group, pivaloyloxy group, etc.), carbonate group (ethoxycarbonyloxy group, phenoxycarbonyloxy group, tert-butyloxycarbonyloxy group, etc.) ), Sulfonate groups (p-toluenesulfonyloxy group, benzenesulfonyloxy group etc.), carbamoyloxy groups (phenylcarbamoyloxy group etc.), thiocarbonyloxy groups (benzylthiocarbonyloxy group etc.), Ester group, sulfenates group (2,4-dinitrobenzene sulfenyl group and the like).

1及びR4として、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、さらに好ましくは2級又は3級のアルキル基であり特に好ましくは3級のアルキル基である。具体的に3級アルキル基としてtert−ブチル基、1−メチルシクロヘキシル基が好ましい。R2、及びR3として好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、さらに好ましくは水酸基、又は脱保護されることにより水酸基を形成しうる基で置換されたアルキル基である。最も好ましくはヒドロキシメチル基、または2−ヒドロキシエチル基である。 R 1 and R 4 are preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a secondary or tertiary alkyl group, and particularly preferably a tertiary alkyl group. Specifically, a tertiary alkyl group is preferably a tert-butyl group or a 1-methylcyclohexyl group. R 2 and R 3 are preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydroxyl group or an alkyl group substituted with a group capable of forming a hydroxyl group by deprotection. Most preferred is a hydroxymethyl group or a 2-hydroxyethyl group.

1は−S−基又は−CHR5(R6)−基を表すが、好ましくは−CHR5(R6)−基である。R5及びR6は水素原子、アルキル基、3〜10員の非芳香族環基、アリール基、またはヘテロアリール基を表すが、アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ウンデシル基、イソプロピル基、1−エチルペンチル基、2,4,4−トリメチルペンチル基等が挙げられる。3〜10員の非芳香族環基として具体的に3員環としてはシクロプロピル、アジリジル、オキシラニル、4員環としてはシクロブチル、シクロブテニル、オキセタニル、アゼチジニル、5員環としてはシクロペンチル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、テトラヒドロフラニル、ピロリジニル、テトラヒドロチエニル、6員環としてはシクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、テトラヒドロピラニル、ピラニル、ピペリジニル、ジオキサニル、テトラヒドロチオピラニル、ノルカラニル、ノルピナニル、ノルボルニル、7員環としてはシクロヘプチル、シクロヘプチニル、シクロヘプタジエニル、8員環としてはシクロオクタニル、シクロオクテニル、シクロオクタジエニル、シクロオクタトリエニル、9員環としてはシクロノナニル、シクロノネニル、シクロノナジエニル、シクロノナトリエニル、10員環としてはシクロデカニル、シクロデケニル、シクロデカジエニル、シクロデカトリエニル等の各基が挙げられる。 L 1 represents an —S— group or a —CHR 5 (R 6 ) — group, preferably a —CHR 5 (R 6 ) — group. R 5 and R 6 each represents a hydrogen atom, an alkyl group, a 3- to 10-membered non-aromatic ring group, an aryl group, or a heteroaryl group. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group. Butyl group, heptyl group, undecyl group, isopropyl group, 1-ethylpentyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group and the like. Specific examples of 3 to 10-membered non-aromatic ring groups include cyclopropyl, aziridyl, oxiranyl as 3-membered rings, cyclobutyl, cyclobutenyl, oxetanyl, azetidinyl as 4-membered rings, and cyclopentyl, cyclopentenyl, cyclohexane as 5-membered rings Pentadienyl, tetrahydrofuranyl, pyrrolidinyl, tetrahydrothienyl, 6-membered ring is cyclohexyl, cyclohexenyl, cyclohexadienyl, tetrahydropyranyl, pyranyl, piperidinyl, dioxanyl, tetrahydrothiopyranyl, norcaranyl, norpinanyl, norbornyl, 7-membered ring As cycloheptyl, cycloheptynyl, cycloheptadienyl, 8-membered ring as cyclooctanyl, cyclooctenyl, cyclooctadienyl, cyclooctatrienyl, 9-membered ring Te is cyclononanyl, cyclononenyl, shea chrono Nagy enyl, cyclononatrienyl enyl, as the 10-membered ring cyclooctyl, Shikurodekeniru, cycloalkyl decadienyl include the group such as cyclopropyl tetradecatrienyl.

好ましくは3〜6員環であり、より好ましくは5〜6員環であり、最も好ましくは6員環であり、その中でもヘテロ原子を含まない炭化水素環が好ましい。該環はスピロ原子を通じて他の環とスピロ結合を形成してもよいし、芳香族環を含む他の環と如何様にも縮環してよい。アリール基として具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基として具体的にはイミダゾール基、ピラゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、ピリダジン基、トリアゾール基、トリアジン基、インドール基、インダゾール基、プリン基、チアジアゾール基、オキサジアゾール基、キノリン基、フタラジン基、ナフチリジン基、キノキサリン基、キナゾリン基、シンノリン基、プテリジン基、アクリジン基、フェナントロリン基、フェナジン基、テトラゾール基、チアゾール基、オキサゾール基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンズチアゾール基、インドレニン基、テトラザインデン基が挙げられる。これらの基はさらに任意の置換基を有することができる。該置換基として具体的には、R1〜R4で表される基の置換基と同義である。 Preferably it is a 3-6 membered ring, More preferably, it is a 5-6 membered ring, Most preferably, it is a 6 membered ring, Among these, the hydrocarbon ring which does not contain a hetero atom is preferable. The ring may form a spiro bond with another ring through a spiro atom, or may be condensed in any way with another ring including an aromatic ring. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group. Specific examples of heteroaryl groups include imidazole, pyrazole, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazole, triazine, indole, indazole, purine, thiadiazole, oxadiazole, and quinoline. Group, phthalazine group, naphthyridine group, quinoxaline group, quinazoline group, cinnoline group, pteridine group, acridine group, phenanthroline group, phenazine group, tetrazole group, thiazole group, oxazole group, benzimidazole group, benzoxazole group, benzthiazole group, Indolenine group and tetrazaindene group can be mentioned. These groups can further have an optional substituent. Specifically as this substituent, it is synonymous with the substituent of the group represented by R < 1 > -R < 4 >.

5は、好ましくは、水素原子、イソプロピル基、2,4,4−トリメチルペンチル基、5〜6員の非芳香族環基(シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基等)である。R6として好ましくは水素原子である。 R 5 is preferably a hydrogen atom, an isopropyl group, a 2,4,4-trimethylpentyl group, or a 5- to 6-membered non-aromatic ring group (a cyclohexyl group, a cyclohexenyl group, or the like). R 6 is preferably a hydrogen atom.

1及びX2はベンゼン環に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、アミド基(アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。n及びmは0〜2の整数を表すが、最もこのましくはn、mともに0の場合である。 X 1 and X 2 each represents a group capable of substituting on the benzene ring, specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, (Hexyl group, cyclohexyl group, etc.), halogenated alkyl group (trifluoromethyl group, perfluorooctyl group, etc.), cycloalkyl group (cyclohexyl group, cyclopentyl group, etc.), alkynyl group (propargyl group, etc.), glycidyl group, acrylate group , Methacrylate group, aryl group (phenyl group, etc.), heterocyclic group (pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, selenazolyl group, sriphoranyl group, piperidinyl group Group, pyrazolyl group, tetrazolyl group, etc.), halogen source Child (chlorine atom, bromine atom, iodine atom, fluorine atom, etc.), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, cyclopentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (Phenoxy group etc.), alkoxycarbonyl group (methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl group etc.), sulfonamide group (methanesulfonamide group, ethanesulfone) Amide group, butanesulfonamide group, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), sulfamoyl group (aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group) Butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc., urethane group (methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, phenylureido group) 2-pyridylureido group), acyl group (acetyl group, propionyl group, butanoyl group, hexanoyl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group, pyridinoyl group, etc.), carbamoyl group (aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethyl group) Aminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), Group (acetamide group, propionamide group, butanamide group, hexaneamide group, benzamide group, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group) Etc.), amino group (amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, anilino group, 2-pyridylamino group, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, An oxamoyl group can be exemplified. These groups may be further substituted with these groups. n and m represent integers of 0 to 2, most preferably n and m are both 0.

次に、一般式(2)においてR5及びR6は水素原子又はアルキル基をあらわすがアルキル基として具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。好ましくはR5及びR6共に水素原子の場合である。p及びqは0〜5の整数を表すが好ましくは1〜3の整数であり最も好ましくはp=q=2の場合である。 Next, in the general formula (2), R 5 and R 6 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, A hexyl group etc. are mentioned. Preferably, both R 5 and R 6 are hydrogen atoms. p and q represent an integer of 0 to 5, preferably an integer of 1 to 3, and most preferably p = q = 2.

次に一般式(1)または(2)で表される化合物の具体例を列挙するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Next, although the specific example of a compound represented by General formula (1) or (2) is enumerated, this invention is not limited to these.

Figure 2005122013
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本発明の一般式(1)及び(2)で表される化合物は従来公知の方法で容易に合成することができる。好ましい合成スキームを化合物例R−15を例にとり以下に図示する。   The compounds represented by the general formulas (1) and (2) of the present invention can be easily synthesized by a conventionally known method. A preferred synthetic scheme is illustrated below by taking Compound Example R-15 as an example.

Figure 2005122013
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即ち、好ましくは2当量のフェノール及び1当量のアルデヒドを無溶媒で、もしくは適当な有機溶媒で溶解または懸濁させ、触媒量の酸又はアルカリを加えて、好ましくは−20℃〜180℃の温度下で0.5〜60時間反応させることにより好収率で目的とするR−15を得ることができる。その他の例示化合物についても同様である。   That is, preferably 2 equivalents of phenol and 1 equivalent of aldehyde are dissolved or suspended in the absence of a solvent or in a suitable organic solvent, and a catalytic amount of acid or alkali is added, preferably at a temperature of −20 ° C. to 180 ° C. The target R-15 can be obtained in good yield by reacting for 0.5 to 60 hours. The same applies to other exemplary compounds.

有機溶媒として好ましくは、炭化水素系有機溶媒であり、具体的にはベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム等が挙げられる。好ましくはトルエン、キシレンである。さらに収率の点からは無溶媒で反応させることが最も好ましい。酸触媒としてあらゆる無機酸、有機酸を使用することができるが、濃塩酸、p−トルエンスルホン酸、及び燐酸が好ましく用いられる。アルカリ触媒としては苛性ソーダ、苛性カリ、トリエチルアミン、DBU、及びソジウムメチラートが好ましく用いられる。触媒量としては対応するアルデヒドに対して0.001当量〜1.5当量使用することが好ましい。反応温度として(15℃〜150℃)が好ましく、反応時間としては3〜20時間が好ましい。   The organic solvent is preferably a hydrocarbon organic solvent, and specific examples include benzene, toluene, xylene, dichloromethane, chloroform and the like. Preferred are toluene and xylene. Furthermore, it is most preferable to make it react without a solvent from the point of a yield. Although any inorganic acid and organic acid can be used as the acid catalyst, concentrated hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid, and phosphoric acid are preferably used. As the alkali catalyst, caustic soda, caustic potash, triethylamine, DBU, and sodium methylate are preferably used. The catalyst amount is preferably 0.001 to 1.5 equivalents relative to the corresponding aldehyde. The reaction temperature is preferably (15 ° C. to 150 ° C.), and the reaction time is preferably 3 to 20 hours.

一般式(1)又は(2)で表される還元剤は単独で用いてもよいが、2種以上を併用して用いてもよい。また、本発明の還元剤と、それ以外の還元剤とを併用してもよい。   Although the reducing agent represented by General formula (1) or (2) may be used independently, you may use it in combination of 2 or more types. Moreover, you may use together the reducing agent of this invention, and other reducing agents.

一般式(1)又は(2)で表される還元剤と併用できる還元剤は、例えば特開平11−65021号公報の段落番号0043〜0045や、欧州特許公開EP0803764A1号公報の第7ページ第34行〜第18ページ第12行に記載されている。本発明の熱現像感光材料では、特にビスフェノール類還元剤(例えば、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン)の併用が好ましい。一般式(1)及び(2)で表される還元剤は、有機酸銀塩を含有する画像形成層に含有させることが好ましいが、隣接する非画像形成層に含有させてもよい。   Examples of the reducing agent that can be used in combination with the reducing agent represented by the general formula (1) or (2) include paragraph numbers 0043 to 0045 of JP-A No. 11-65021, and page 7, page 34 of European Patent Publication No. EP0803764A1. Lines to 18th page, 12th line. In the photothermographic material of the invention, it is particularly preferable to use a bisphenol reducing agent (for example, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane) in combination. The reducing agent represented by the general formulas (1) and (2) is preferably contained in an image forming layer containing an organic acid silver salt, but may be contained in an adjacent non-image forming layer.

上記還元剤は、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてもよい。   The reducing agent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, a solid fine particle dispersion form, or the photosensitive material.

本発明ではさらに米国特許第3,589,903号、同第4,021,249号若しくは英国特許第1,486,148号各明細書及び特開昭51−51933号、同50−36110号、同50−116023号、同52−84727号若しくは特公昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール化合物、例えば、2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル等の米国特許第3,672,904号明細書に記載されたビスナフトール類、更に、例えば、4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンスルホンアミドナフトール等の米国特許第3,801,321号明細書に記載されているようなスルホンアミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類も銀イオン還元剤として用いることができる。   In the present invention, further, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,021,249 or British Patent 1,486,148 and JP-A-51-51933, 50-36110, The polyphenol compounds described in JP-A-50-116023, JP-A-52-84727 or JP-B-51-35727, such as 2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl, 6,6'-dibromo-2 Bisnaphthols described in US Pat. No. 3,672,904 such as 2,2'-dihydroxy-1,1'-binaphthyl and the like, and further, for example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol US Patents such as 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol, 4-benzenesulfonamidonaphthol Sulfonamidophenols or sulfonamidonaphthols, such as those described in 3,801,321 Pat also can be used as the silver ion reducing agent.

本発明の還元剤の使用量は、有機銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によって変化するが、一般的には有機銀塩1モル当たり0.05モル乃至10モル好ましくは0.1モル乃至3モルが適当である。本発明においては、前記還元剤を塗布直前に感光性ハロゲン化銀及び有機銀塩粒子及び溶媒からなる感光乳剤溶液に添加混合して塗布した方が、停滞時間による写真性能変動が小さく好ましい場合がある。   The amount of the reducing agent used in the present invention varies depending on the type of organic silver salt, reducing agent, and other additives, but generally 0.05 mol to 10 mol, preferably 0.1 mol, per mol of organic silver salt. Molar to 3 molar is suitable. In the present invention, it may be preferable that the reducing agent is added to and mixed with a photosensitive emulsion solution composed of photosensitive silver halide and organic silver salt grains and a solvent immediately before coating, because photographic performance fluctuation due to stagnation time is small. is there.

次に、本発明に用いられる造核剤(硬調化剤ともいう)について説明する。   Next, the nucleating agent (also referred to as a high contrast agent) used in the present invention will be described.

本発明においては、下記一般式(C1)、一般式(C2)及び一般式(C3)で表されるビニール系化合物が造核剤として好ましく用いられる。   In the present invention, vinyl compounds represented by the following general formula (C1), general formula (C2) and general formula (C3) are preferably used as the nucleating agent.

Figure 2005122013
Figure 2005122013

一般式(C1)において、R11、R12及びR13は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Zは電子吸引基又はシリル基を表し、R11とZ、R12とR13、及びR13とZとはそれぞれ互いに結合して環状構造を形成してもよい。 In the general formula (C1), R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, Z represents an electron withdrawing group or a silyl group, R 11 and Z, R 12 and R 13 , R 13 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure.

又、一般式(C2)において、R14は置換基を表す。又、一般式(C3)において、X及びYはそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、A及びBはそれぞれ独立にアルコオキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基又はヘテロ環アミノ基を表す。一般式(C3)において、XとY及びAとBは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成してもよい。 In the general formula (C2), R 14 represents a substituent. In the general formula (C3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic oxy group. Represents a group, a heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. In the general formula (C3), X and Y and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure.

上記一般式(C1)、一般式(C2)及び一般式(C3)の具体的化合物としては、下記化合物が挙げられる。   Specific examples of the general formula (C1), general formula (C2), and general formula (C3) include the following compounds.

Figure 2005122013
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Figure 2005122013
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本発明に係る有機銀塩は、還元可能な銀源であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸である。本発明において用いられる有機酸としては、脂肪族カルボン酸、炭素環式カルボン酸、複素環式カルボン酸、複素環式化合物等があるが、特に長鎖(10〜30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の脂肪族カルボン酸及び含窒素複素環を有する複素環式カルボン酸等が好ましく用いられる。また、配位子が4.0〜10.0の銀イオンに対する総安定定数を有する有機銀塩錯体も有用である。   The organic silver salt according to the present invention is a reducible silver source and is an organic acid containing a reducible silver ion source. Examples of the organic acid used in the present invention include aliphatic carboxylic acid, carbocyclic carboxylic acid, heterocyclic carboxylic acid, heterocyclic compound and the like, but particularly long chain (10-30, preferably 15-25). The aliphatic carboxylic acid having the number of carbon atoms) and the heterocyclic carboxylic acid having a nitrogen-containing heterocyclic ring are preferably used. An organic silver salt complex having a total stability constant with respect to silver ions having a ligand of 4.0 to 10.0 is also useful.

このような有機酸銀塩の例としては、Research Disclosure(以降、RDと略す)第17029及び第29963に記載されている。中でも、脂肪酸の銀塩が好ましく用いられ、特に好ましく用いられるのは、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀及びステアリン酸銀である。   Examples of such organic acid silver salts are described in Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) 17029 and 29963. Of these, silver salts of fatty acids are preferably used, and silver behenate, silver arachidate, and silver stearate are particularly preferably used.

前述の有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正混合法、逆混合法、同時混合法、等が好ましく用いられる。また、特開平9−127643号に記載されている様なコントロールドダブルジェット法を用いることも可能である。   The organic silver salt compound described above can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound that forms a complex with silver, and a normal mixing method, a back mixing method, a simultaneous mixing method, and the like are preferably used. It is also possible to use a controlled double jet method as described in JP-A-9-127643.

本発明においては、有機銀塩は平均粒径が1μm以下でありかつ単分散であることが好ましい。有機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が、例えば、球状、棒状、或いは平板状の粒子の場合には、有機銀塩粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。平均粒径は、好ましくは0.01〜0.8μm、特に0.05〜0.5μmが好ましい。また、単分散とは、後述のハロゲン化銀の場合と同義であり、好ましくは単分散度が1〜30%である。本発明においては、有機銀塩が平均粒径1μm以下の単分散粒子であることがより好ましく、この範囲にすることで濃度の高い画像が得られる。さらに、有機銀塩は、平板状粒子が全有機銀の60個数%以上であることが好ましい。本発明において、平板状粒子とは平均粒径と厚さの比、いわゆる下記式で表されるアスペクト比(ARと略す)が3以上のものをいう。   In the present invention, the organic silver salt preferably has an average particle size of 1 μm or less and is monodispersed. The average particle diameter of the organic silver salt is, for example, when the organic silver salt particles are spherical, rod-shaped, or tabular, the diameter when considering a sphere equivalent to the volume of the organic silver salt particles. Say. The average particle size is preferably 0.01 to 0.8 μm, particularly preferably 0.05 to 0.5 μm. Moreover, monodispersion is synonymous with the case of the below-mentioned silver halide, Preferably monodispersion degree is 1 to 30%. In the present invention, the organic silver salt is more preferably monodisperse particles having an average particle size of 1 μm or less, and an image having a high density can be obtained by setting the content within this range. Further, the organic silver salt preferably has tabular grains of 60% by number or more of the total organic silver. In the present invention, the tabular grains mean those having an average grain diameter / thickness ratio, that is, an aspect ratio (abbreviated as AR) represented by the following formula of 3 or more.

AR=平均粒径(μm)/厚さ(μm)
このような有機銀粒子は、必要に応じてバインダーや界面活性剤などと共に予備分散した後、メディア分散機又は高圧ホモジナイザなどで分散粉砕することが好ましい。上記予備分散で用いることのできる分散機としては、例えば、アンカー型、プロペラ型等の一般的攪拌機や高速回転遠心放射型攪拌機(ディゾルバ)、高速回転剪断型撹拌機(ホモミキサ)を使用することができる。また、上記メディア分散機としては、例えば、ボールミル、遊星ボールミル、振動ボールミルなどの転動ミルや、媒体攪拌ミルであるビーズミル、アトライター、その他バスケットミルなどを挙げることができ、また高圧ホモジナイザとしては、例えば、壁、プラグなどに衝突するタイプ、液を複数に分けてから高速で液同士を衝突させるタイプ、細いオリフィスを通過させるタイプなど様々なタイプを用いることができる。
AR = average particle diameter (μm) / thickness (μm)
Such organic silver particles are preferably preliminarily dispersed together with a binder, a surfactant or the like, if necessary, and then dispersed and ground with a media disperser or a high-pressure homogenizer. As the disperser that can be used in the preliminary dispersion, for example, a general stirrer such as an anchor type or a propeller type, a high-speed rotating centrifugal radiation stirrer (dissolver), or a high-speed rotating shear stirrer (homomixer) may be used. it can. Examples of the media disperser include a rolling mill such as a ball mill, a planetary ball mill, and a vibration ball mill, a bead mill that is a medium agitation mill, an attritor, and other basket mills, and a high-pressure homogenizer. For example, various types such as a type that collides with a wall, a plug, etc., a type that allows liquids to collide with each other at high speed after dividing the liquid, and a type that allows a thin orifice to pass through can be used.

本発明に用いられる有機銀粒子を分散する際に用いられる装置類において、該有機銀粒子が接触する部材の材質として、例えば、ジルコニア、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素などのセラミックス類又はダイヤモンドを用いることが好ましく、特にジルコニアを用いることが好ましい。   In the apparatus used when dispersing the organic silver particles used in the present invention, for example, ceramics such as zirconia, alumina, silicon nitride, boron nitride, or diamond is used as the material of the member in contact with the organic silver particles. It is preferable to use zirconia, in particular.

本発明に用いられる有機銀粒子は、銀1gあたり0.01〜0.5mgのZrを含有することが好ましく、特に好ましくは0.01〜0.3mgのZrを含有する場合である。上記分散を行う際、バインダー濃度、予備分散方法、分散機運転条件、分散回数などを最適化することは、本発明に用いられる有機銀塩粒子を得る方法として非常に好ましい。   The organic silver particles used in the present invention preferably contain 0.01 to 0.5 mg of Zr per 1 g of silver, particularly preferably 0.01 to 0.3 mg of Zr. When carrying out the above dispersion, optimizing the binder concentration, the preliminary dispersion method, the dispersing machine operating conditions, the number of times of dispersion, etc. is very preferable as a method for obtaining the organic silver salt particles used in the present invention.

本発明に係る感光性ハロゲン化銀は、画像形成後の白濁を低く抑えるため及び良好な画質を得るために、平均粒子サイズが小さい方が好ましく、平均粒子サイズが0.1μm以下、より好ましくは0.01〜0.1μm、特に0.02〜0.08μmが好ましい。ここでいう粒子サイズとは、電子顕微鏡で観察される個々の粒子像と等しい面積を有する円の直径(円相当径)を指す。又、ハロゲン化銀は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が40%以下をいう。更に好ましくは30%以下であり、特に好ましくは20%以下となる粒子である。   The photosensitive silver halide according to the present invention preferably has a smaller average grain size, and preferably has an average grain size of 0.1 μm or less, more preferably, in order to suppress white turbidity after image formation and to obtain good image quality. 0.01-0.1 micrometer, especially 0.02-0.08 micrometer are preferable. The particle size here refers to the diameter (equivalent circle diameter) of a circle having the same area as each particle image observed with an electron microscope. The silver halide is preferably monodispersed. The monodispersion here means that the monodispersity obtained by the following formula is 40% or less. The particles are more preferably 30% or less, and particularly preferably 20% or less.

単分散度=(粒径の標準偏差)/(平均粒径値)×100
感光性ハロゲン化銀粒子の形状については、特に制限はないが、ミラー指数〔100〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が50%以上、更には70%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラー指数〔100〕面の比率は、増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tani,J.Imaging Sci.,29,165(1985)により求めることができる。
Monodispersity = (standard deviation of particle size) / (average particle size value) × 100
The shape of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited, but the ratio occupied by the Miller index [100] plane is preferably high, and this ratio is 50% or more, further 70% or more, particularly 80% or more. Preferably there is. The ratio of the Miller index [100] plane is calculated by using the adsorption dependency between the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani, J .; Imaging Sci. 29, 165 (1985).

また、本発明において、もう一つの好ましい感光性ハロゲン化銀の形状は、平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、投影面積の平方根を粒径rμmとし、垂直方向の厚みをhμmとした時のアスペクト比(r/h)が3以上のものをいう。その中でも好ましくは、アスペクト比が3〜50である。また、平板粒子の粒径は0.1μm以下であることが好ましく、さらに0.01μm〜0.08μmが好ましい。これらの平板粒子は、米国特許第5,264,337号、同第5,314,798号、同第5,320,958号等に記載されており、容易に目的の平板粒子を得ることができる。   In the present invention, another preferred shape of the photosensitive silver halide is a tabular grain. The term “tabular grain” as used herein refers to those having an aspect ratio (r / h) of 3 or more when the square root of the projected area is the grain size r μm and the thickness in the vertical direction is h μm. Among them, the aspect ratio is preferably 3 to 50. Moreover, it is preferable that the particle size of a tabular grain is 0.1 micrometer or less, Furthermore, 0.01 micrometer-0.08 micrometer are preferable. These tabular grains are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798, 5,320,958, etc., and the desired tabular grains can be easily obtained. it can.

感光性ハロゲン組成としては、特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。本発明に用いられる乳剤は、P.Glafkides著Chimie et Physique Photographique(Paul Montel社刊、1967年)、G.F.Duffin著 Photographic Emulsion Chemistry(The Focal Press刊、1966年)、V.L.Zelikman et al著Making and Coating Photographic Emulsion(The Focal Press刊、1964年)等に記載された方法に基づいて調製することができる。   The photosensitive halogen composition is not particularly limited, and may be any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodide. The emulsion used in the present invention is P.I. Chifie et Physique Photographic (published by Paul Montel, 1967) by Glafkides. F. Duffin's Photographic Emission Chemistry (published by The Focal Press, 1966), V.C. L. It can be prepared based on the method described in Making and Coating Photographic Emulsion (published by The Focal Press, 1964) by Zelikman et al.

本発明に係る感光性ハロゲン化銀には、周期表の6族から11族に属する金属イオンを含有することが好ましい。上記の金属としては、W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Pt、Auが好ましい。   The photosensitive silver halide according to the present invention preferably contains a metal ion belonging to Groups 6 to 11 of the periodic table. As the metal, W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, Ir, Pt, and Au are preferable.

これらの金属イオンは、金属錯体又は金属錯体イオンの形でハロゲン化銀に導入できる。これらの金属錯体又は金属錯体イオンとしては、下記一般式で表される6配位金属錯体が好ましい。   These metal ions can be introduced into the silver halide in the form of metal complexes or metal complex ions. As these metal complexes or metal complex ions, hexacoordinate metal complexes represented by the following general formula are preferable.

一般式〔ML6m
式中、Mは元素周期表の6〜10族の元素から選ばれる遷移金属、Lは配位子を表し、mは0、−、2−、3−又は4−を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナート、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニトロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはアコ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占めることが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていてもよい。
General formula [ML 6 ] m
In the formula, M represents a transition metal selected from Group 6 to 10 elements of the periodic table, L represents a ligand, and m represents 0,-, 2-, 3-, or 4-. Specific examples of the ligand represented by L include halides (fluoride, chloride, bromide and iodide), cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide and aco. A ligand, nitrosyl, thionitrosyl and the like can be mentioned, and ako, nitrosyl, thionitrosyl and the like are preferable. When an acoligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.

Mとしては、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、イリジウム(Ir)及びオスミウム(Os)で好ましく、これらを含む遷移金属錯体イオンの具体例としては、〔RhCl63-、〔RuCl63-、〔ReCl63-、〔RuBr63-、〔OsCl63-、〔IrCl64-、〔Ru(NO)Cl52-、〔RuBr4(H2O)〕2-、〔Ru(NO)(H2O)Cl4-、〔RhCl5(H2O)〕2-、〔Re(NO)Cl52-、〔Re(NO)(CN)52-、〔Re(NO)Cl(CN)4〕、〔Rh(NO)2Cl4-、〔Rh(NO)(H2O)Cl4-、〔Ru(NO)(CN)52-、〔Fe(CN)63-、〔Rh(NS)Cl52-、〔Os(NO)Cl52-、〔Cr(NO)Cl52-、〔Re(NO)Cl5-、〔Os(NS)Cl4(TeCN)〕2-、〔Ru(NS)Cl52-、〔Re(NS)Cl4(SeCN)〕2-、〔Os(NS)Cl(SCN)42-、〔Ir(NO)Cl52-、〔Ir(NS)Cl52-等が挙げられる。 M is preferably rhodium (Rh), ruthenium (Ru), rhenium (Re), iridium (Ir) and osmium (Os). Specific examples of transition metal complex ions containing these include [RhCl 6 ] 3− [RuCl 6 ] 3− , [ReCl 6 ] 3− , [RuBr 6 ] 3− , [OsCl 6 ] 3− , [IrCl 6 ] 4− , [Ru (NO) Cl 5 ] 2− , [RuBr 4 ] (H 2 O)] 2− , [Ru (NO) (H 2 O) Cl 4 ] , [RhCl 5 (H 2 O)] 2− , [Re (NO) Cl 5 ] 2− , [Re ( NO) (CN) 5 ] 2− , [Re (NO) Cl (CN) 4 ], [Rh (NO) 2 Cl 4 ] , [Rh (NO) (H 2 O) Cl 4 ] , [Ru (NO) (CN) 5] 2-, [Fe (CN) 6] 3-, [Rh (NS) Cl 5] 2-, [Os (NO) Cl 5] 2-, [Cr NO) Cl 5] 2-, [Re (NO) Cl 5] -, [Os (NS) Cl 4 (TeCN ) ] 2-, [Ru (NS) Cl 5] 2-, [Re (NS) Cl 4 (SeCN)] 2− , [Os (NS) Cl (SCN) 4 ] 2− , [Ir (NO) Cl 5 ] 2− , [Ir (NS) Cl 5 ] 2− and the like.

前述した金属イオン、金属錯体又は金属錯体イオンは、一種類でもよいし、同種の金属及び異種の金属を二種以上併用してもよい。これらの金属イオン、金属錯体又は金属錯体イオンの含有量としては、一般的にはハロゲン化銀1モル当たり1×10-9〜1×10-2モルが適当であり、好ましくは1×10-8〜1×10-4モルである。 One kind of metal ion, metal complex or metal complex ion described above may be used, or two or more kinds of the same kind of metal and different kinds of metals may be used in combination. The content of these metal ions, metal complexes or metal complex ions, generally is suitably 1 × 10 -9 ~1 × 10 -2 mol per mol of silver halide, preferably 1 × 10 - 8 to 1 × 10 −4 mol.

これらの金属を提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましく、ハロゲン化銀粒子の調製、即ち、核形成、成長、物理熟成、化学増感の前後の任意の段階で添加してもよいが、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。   These metal-providing compounds are preferably added at the time of silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, physical ripening, chemical sensitization It may be added at any stage before or after, but is preferably added at the stage of nucleation, growth and physical ripening, more preferably at the stage of nucleation and growth, most preferably Add at the stage of formation.

添加に際しては、数回に渡って分割して添加してもよく、ハロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭63−29603号、特開平2−306236号、同3−167545号、同4−76534号、同6−110146号、同5−273683号等に記載されている様に、粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。好ましくは、粒子内部に分布をもたせることができる。これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加することができるが、例えば、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハライド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハライド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特に、金属化合物の粉末の水溶液もしくは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加する方法が好ましい。   In addition, it may be divided and added several times, or it can be uniformly contained in the silver halide grains. JP-A-63-29603, JP-A-2-306236, 3 As described in No. 167545, No. 4-76534, No. 6-110146, No. 5-273683, etc., it can also be contained with distribution in the particles. Preferably, a distribution can be provided inside the particles. These metal compounds can be added by dissolving in water or an appropriate organic solvent (for example, alcohols, ethers, glycols, ketones, esters, amides). A method of adding an aqueous solution or a metal compound and an aqueous solution in which NaCl and KCl are dissolved together to a water-soluble silver salt solution or a water-soluble halide solution during particle formation, or a silver salt solution and a halide solution are simultaneously mixed. When adding a third aqueous solution, a method of preparing silver halide grains by a three-liquid simultaneous mixing method, a method of adding an aqueous solution of a required amount of a metal compound to the reaction vessel during grain formation, or silver halide There is a method of adding another silver halide grain previously doped with a metal ion or complex ion at the time of preparation and dissolving it. In particular, a method of adding an aqueous solution of a metal compound powder or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl, KCl are dissolved together is added to the water-soluble halide solution.

粒子表面に添加する時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中、もしくは終了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反応容器に投入することもできる。   When added to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during physical ripening, or at the end or chemical ripening.

本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子は、粒子形成後に脱塩してもしなくてもよいが、脱塩を施す場合、例えば、ヌードル法、フロキュレーション法等、当業界で知られている方法により、水洗、脱塩することができる。   In the present invention, the photosensitive silver halide grains may or may not be desalted after grain formation. However, when desalting is performed, for example, the noodle method, the flocculation method, etc. are known in the art. Can be washed with water and desalted.

本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感法としては、当業界でよく知られている硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法等を用いることができる。また、金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができる。   The silver halide grains used in the present invention are preferably chemically sensitized. As a preferable chemical sensitization method, a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method and the like well known in the art can be used. Further, noble metal sensitization methods such as gold compounds, platinum, palladium, iridium compounds, and reduction sensitization methods can be used.

前述の硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては、公知の化合物を用いることができるが、例えば、特開平7−128768号等に記載の化合物を使用することができる。テルル増感剤としては、例えば、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド類、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、テルロスルホナート類、P−Te結合を有する化合物、含Teヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化合物、及びコロイド状テルルなどを用いることができる。   As the compound preferably used in the above-described sulfur sensitization method, selenium sensitization method, and tellurium sensitization method, known compounds can be used. For example, compounds described in JP-A-7-128768 are used. be able to. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Compound having Te bond, tellurocarboxylates, Te-organyl tellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals, tellurosulfonates, compounds having P-Te bond Te-containing heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used.

貴金属増感法に好ましく用いられる化合物としては、例えば、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特許第2,448,060号、英国特許第618,061号などに記載されている化合物を好ましく用いることができる。   Examples of the compound preferably used for the noble metal sensitization include, for example, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide, U.S. Pat. No. 2,448,060 and British Patent 618,061. The compounds described in No. etc. can be preferably used.

還元増感法に用いられる化合物としては、例えば、アスコルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。また、ハロゲン化銀乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより、還元増感することができる。また、粒子形成中に銀イオンのシングルアディション部分を導入することにより、還元増感することができる。   As compounds used in the reduction sensitization method, for example, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds, etc. are used. Can do. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the silver halide emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower. Further, reduction sensitization can be performed by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation.

次に、本発明の熱現像感光材料の上記説明した項目を除いた構成要素について説明する。   Next, components of the photothermographic material of the present invention excluding the above-described items will be described.

本発明の熱現像感光材料は、上述の有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、及び本発明の還元剤などを含有する画像形成層及びアクリル系疎水性樹脂層をこの順に支持体上に積層させたもので、さらに、必要に応じて中間層或いは保護層を設置してなるものが好ましい。   The photothermographic material of the present invention comprises an image forming layer containing the above-mentioned organic silver salt, photosensitive silver halide, and the reducing agent of the present invention and an acrylic hydrophobic resin layer laminated in this order on a support. Further, it is preferable that an intermediate layer or a protective layer is provided as necessary.

また、画像形成層とは反対の面には搬送性確保や、保護層とのブロッキング防止のためにバッキング層を設置した熱現像感光材料も好適に用いることができる。なお、各層は単一層でも良いし、組成が同一あるいは異なる2層以上の複数の層で構成されていても良い。   Further, a photothermographic material in which a backing layer is provided on the surface opposite to the image forming layer to ensure transportability and prevent blocking with the protective layer can be suitably used. Each layer may be a single layer, or may be composed of two or more layers having the same or different composition.

また、本発明では上述の各層を形成するために、バインダー樹脂が好ましく用いられる。このようなバインダー樹脂としては、従来から用いられている透明又は半透明なバインダー樹脂を適時選択して用いることができ、そのようなバインダー樹脂としては、例えば、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、酢酸酪酸セルロー等のセルロース系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリルゴム共重合体等のスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリポロピレン等の塩化ビニル系樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリアリレート、エポキシ樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられ、これらは単独で用いても良いし、2種以上の樹脂を併用して用いても良い。   In the present invention, a binder resin is preferably used to form each of the above layers. As such a binder resin, a conventionally used transparent or translucent binder resin can be selected and used as appropriate. Examples of such a binder resin include polyvinyl formal, polyvinyl acetoacetal, and polyvinyl butyral. Polyvinyl acetal resins such as ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, cellulose resins such as cellulose acetate butyrate, styrene resins such as polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-acrylonitrile-acrylic rubber copolymers, polyvinyl chloride, chlorine Vinyl chloride-based resins such as modified polypropylene, polyester, polyurethane, polycarbonate, polyarylate, epoxy resin, acrylic resin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. It may be used in combination with fat.

なお、前記バインダー樹脂は、本発明の目的を損なわない限り、保護層、中間層、あるいは必要な場合に設けられるバックコート層の各層に適時選択して用いることができる。尚、中間層やバックコート層には、活性エネルギー線で硬化可能なエポキシ樹脂やアクリルモノマーなどを層形成バインダー樹脂として使用しても良い。本発明では、以下に示す水系バインダー樹脂も好ましく用いられる。   In addition, the said binder resin can be suitably selected and used for each layer of a protective layer, an intermediate | middle layer, or the backcoat layer provided when needed, unless the objective of this invention is impaired. In addition, you may use an epoxy resin, an acrylic monomer, etc. which can be hardened | cured with an active energy ray as a layer formation binder resin for an intermediate | middle layer and a backcoat layer. In the present invention, the following aqueous binder resins are also preferably used.

更に、水溶解性ポリマー又は水分散性疎水性ポリマー(ラテックス)を使用することができる。例えば、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−イタコン酸共重合体、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレンオキシド、アクリル酸アミド−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸部ニル共重合体、スチレン−ブタジエン−アクリル酸共重合体等である。これらは、水性の塗布液を構成するが、塗布後乾燥し、塗膜を形成する段階で均一な樹脂膜を形成するものである。これらを使用する場合には、有機銀塩、ハロゲン化銀、還元剤等を水性の分散液として、これらのラテックスと混合して均一な分散液とした後、塗布することで熱現像画像形成層を形成することができる。乾燥により、ラテックスは粒子が融合し均一な膜を形成する。更に、ガラス転位点が−20℃〜80℃のポリマーが好ましく、特に−5℃〜60℃が好ましい。ガラス転位点が高いと、熱現像する温度が高くなり、低いとカブリやすくなり、感度低下や軟調化を招くからである。水分散ポリマーは、平均粒子径が1nmから数μmの範囲の微粒子にして分散されたものが好ましい。水分散疎水性ポリマーはラテックスとよばれ、水系塗布のバインダーとして広く使用されている中で耐水性を向上させるというラテックスが好ましい。バインダーとして耐水性を得る目的のラテックス使用量は、塗布性を勘案して決められるが、耐湿性の観点からは多いほど好ましい。全バインダー質量に対するラテックスの比率は50〜100%が好ましく、特に80%〜100%が好ましい。   Furthermore, a water-soluble polymer or a water-dispersible hydrophobic polymer (latex) can be used. For example, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride-acrylic acid copolymer, vinylidene chloride-itaconic acid copolymer, sodium polyacrylate, polyethylene oxide, acrylic acid amide-acrylic acid ester copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer Examples thereof include acrylonitrile-butadiene copolymer, vinyl chloride-acetic acid part nyl copolymer, and styrene-butadiene-acrylic acid copolymer. These constitute an aqueous coating solution, but form a uniform resin film at the stage of drying after coating and forming a coating film. When these are used, an organic silver salt, silver halide, reducing agent, etc. as an aqueous dispersion, mixed with these latexes to form a uniform dispersion, and then applied to form a heat-developable image forming layer Can be formed. By drying, the latex coalesces and forms a uniform film. Further, a polymer having a glass transition point of −20 ° C. to 80 ° C. is preferable, and −5 ° C. to 60 ° C. is particularly preferable. This is because if the glass transition point is high, the temperature at which heat development is carried out becomes high, and if it is low, fogging tends to occur, leading to a reduction in sensitivity and softening. The water-dispersed polymer is preferably dispersed in the form of fine particles having an average particle diameter in the range of 1 nm to several μm. The water-dispersed hydrophobic polymer is called a latex, and is preferably a latex that improves water resistance among widely used binders for aqueous coating. The amount of latex used for the purpose of obtaining water resistance as a binder is determined in consideration of applicability, but is preferably as large as possible from the viewpoint of moisture resistance. The ratio of latex to the total binder mass is preferably 50 to 100%, particularly preferably 80 to 100%.

本発明において、これらのバインダー樹脂としては、固形分量として、銀付量に対して0.25〜10倍の量、例えば、銀付量が2.0g/m2の場合、ポリマーの付き量は0.5〜20g/m2であることが好ましい。また、更に好ましくは銀付量の0.5〜7倍量、例えば、銀付量が2.0g/m2なら、1.0〜14g/m2である。バインダー樹脂量が銀付量の0.25倍以下では、銀色調が大幅に劣化し、使用に耐えない場合があるし、銀付量の10倍以上では、軟調になり使用に耐えなくなる場合がある。 In the present invention, as these binder resins, the amount of solids is 0.25 to 10 times the amount of silver attached, for example, when the amount of silver attached is 2.0 g / m 2 , the amount of polymer attached is It is preferable that it is 0.5-20 g / m < 2 >. Further, more preferably 0.5 to 7 times the grain-weight, for example, the amount with silver, if 2.0 g / m 2, a 1.0~14g / m 2. If the amount of binder resin is less than 0.25 times the amount of silver, the silver color tone may be significantly deteriorated and may not endure use, and if the amount is more than 10 times the amount of silver, it may become soft and endure use. is there.

さらに、本発明に係る画像形成層には、上述した必須成分、バインダー樹脂以外に、必要に応じてカブリ防止剤、調色剤、増感色素、強色増感を示す物質(強色増感剤ともいう)など各種添加剤を添加してもよい。   Further, the image forming layer according to the present invention includes, in addition to the above-described essential components and binder resin, an antifoggant, a toning agent, a sensitizing dye, and a substance that exhibits supersensitization (supersensitization). Various additives may also be added.

本発明において、かぶり防止剤としては、例えば、米国特許第3,874,946号及び同第4,756,999号に開示されているような化合物、−C(X1)(X2)(X3)(ここでX1及びX2はハロゲン原子を表し、X3は水素又はハロゲン原子を表す)で表される置換基を1以上備えたヘテロ環状化合物、特開平9−288328号、同9−90550号、米国特許第5,028,523号及び欧州特許第600,587号、同第605,981号、同第631,176号等に開示されている化合物等を適時選択して用いることができる。 In the present invention, examples of the antifogging agent include compounds disclosed in US Pat. Nos. 3,874,946 and 4,756,999, —C (X 1 ) (X 2 ) ( X 3 ) (wherein X 1 and X 2 represent a halogen atom, and X 3 represents hydrogen or a halogen atom), a heterocyclic compound having one or more substituents, JP-A-9-288328, No. 9-90550, US Pat. No. 5,028,523 and European Patent Nos. 600,587, 605,981, 631,176, etc. be able to.

現像後の銀色調を改良する目的で添加される色調剤としては、例えば、イミド類(例えば、フタルイミド);環状イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾリン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイミド類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミントリフルオロアセテート)、メルカプタン類(例えば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);ブロックされたピラゾール類、イソチウロニウム(isothiuronium)誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ(例えば、N,N′−ヘキサメチレン(1−カルバモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−(3,6−ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセテート)、及び2−(トリブロモメチルスルホニル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロシアニン染料(例えば、3−エチル−5−((3−エチル−2−ベンゾチアゾリニリデン(ベンゾチアゾリニリデン))−1−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン);フタラジノン、フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、6−クロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリウム又は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸ナトリウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フタラジン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズオキサジン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不斉−トリアジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリミジン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、3,6−ジメルカプト−1,4−ジフェニル−1H,4H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン)を挙げることができ、好ましい色調剤としては、フタラゾン、フタラジンである。なお、色調剤は、本発明の目的を阻害しない範囲であれば、後述する保護層に添加しても良い。   Examples of toning agents added for the purpose of improving the silver tone after development include imides (for example, phthalimide); cyclic imides, pyrazolin-5-ones, and quinazolinones (for example, succinimide, 3-phenyl- 2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione); naphthalimides (eg N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg cobalt hexamine trifluoro) Acetate), mercaptans (eg, 3-mercapto-1,2,4-triazole); N- (aminomethyl) aryl dicarboximides (eg, N- (dimethylaminomethyl) phthalimide); blocked pyrazoles , Isothiuronium ) Derivatives and certain photobleaching agents (eg, N, N′-hexamethylene (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-dioxaoctane) bis (isothione) A combination of uronium trifluoroacetate) and 2- (tribromomethylsulfonyl) benzothiazole); a merocyanine dye (for example, 3-ethyl-5-((3-ethyl-2-benzothiazolinylidene (benzothiazolidine) Nylidene))-1-methylethylidene) -2-thio-2,4-oxazolidinedione); phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (eg 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthala Dinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedio ); A combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (eg, 6-chlorophthalazinone + sodium benzenesulfinate or 8-methylphthalazinone + sodium p-trisulfonate); a combination of phthalazine + phthalic acid; a phthalazine (phthalazine adduct) And maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid) A combination with at least one compound selected from anhydride); quinazolinediones, benzoxazines, naltoxazine derivatives; benzoxazine-2,4-diones (eg, 1,3-benzoxazine-2,4-dione) Pyrimidines and asymmetric-tria Gins (eg, 2,4-dihydroxypyrimidine) and tetraazapentalene derivatives (eg, 3,6-dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene) And preferred color toning agents are phthalazone and phthalazine. In addition, as long as it is a range which does not inhibit the objective of this invention, you may add a toning agent to the protective layer mentioned later.

また、強色増感剤としては、RD第17643、特公平9−25500号、同43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号、特開平5−341432号等に記載されている化合物を適時選択して用いることができ、本発明では、下記一般式(M)で表される複素芳香族メルカプト化合物、実質的に前記のメルカプト化合物を生成する一般式(Ma)で表されるジスルフィド化合物を用いることができる。   Further, examples of supersensitizers include RD 17643, JP-B Nos. 9-25500, 43-4933, JP-A-59-19032, 59-192242, JP-A-5-341432, and the like. In the present invention, a heteroaromatic mercapto compound represented by the following general formula (M), which is a general formula (Ma) that substantially forms the mercapto compound, can be used. The disulfide compounds represented can be used.

一般式(M)
Ar−SM
一般式(Ma)
Ar−S−S−Ar
一般式(M)において、Mは水素原子又はアルカリ金属原子を表し、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウムもしくはテルリウム原子を有する複素芳香環又は縮合複素芳香環を表す。複素芳香環は、好ましくは、ベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン又はキナゾリンである。また、一般式(Ma)において、Arは上記一般式(M)の場合と同義である。
General formula (M)
Ar-SM
General formula (Ma)
Ar-SS-Ar
In the general formula (M), M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar represents a heteroaromatic ring or condensed heteroaromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. The heteroaromatic ring is preferably benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, Pyridine, purine, quinoline or quinazoline. Moreover, in general formula (Ma), Ar is synonymous with the said general formula (M).

上記の複素芳香環は、例えば、ハロゲン原子(例えば、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)及びアルコキシ基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)からなる群から選ばれる置換基を有することができる。   The heteroaromatic ring includes, for example, a halogen atom (for example, Cl, Br, I), a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, and an alkyl group (for example, one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms). And a substituent selected from the group consisting of an alkoxy group (for example, one having 1 or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms).

本発明に用いられる強色増感剤は、有機銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む乳剤層中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルの範囲で用いるのが好ましく、特に銀1モル当たり0.01〜0.5モルの範囲にするのが好ましい。   The supersensitizer used in the present invention is preferably used in the range of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in the emulsion layer containing the organic silver salt and silver halide grains, and particularly 1 mol of silver. The range is preferably 0.01 to 0.5 mol per unit.

本発明に係る画像記録層には、ヘテロ原子を含む大環状化合物を含有させることができる。ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子及びセレン原子の少なくとも1種を含む9員環以上の大環状化合物が好ましく、12〜24員環がより好ましく、更に好ましいのは15〜21員環である。   The image recording layer according to the present invention may contain a macrocyclic compound containing a hetero atom. A 9-membered or larger macrocyclic compound containing at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and a selenium atom as a heteroatom is preferred, a 12-24 membered ring is more preferred, and a 15-21 membered ring is still more preferred. is there.

代表的な化合物としてはクラウンエーテルで、下記のPedersonが1967年に合成し、その特異な報告以来、数多く合成されているものである。これらの化合物は、C.J.Pederson、Journal of American chemical society vol,86(2495)、7017〜7036(1967)、G.W.Gokel、S.H,Korzeniowski、“Macrocyclic polyethr synthesis”、Springer−Vergal(1982)等に記載されている。   A typical compound is crown ether, which was synthesized by Pederson in 1967 and has been synthesized many times since its unique report. These compounds are C.I. J. et al. Pederson, Journal of American chemical society vol, 86 (2495), 7017-7036 (1967), G.P. W. Gokel, S.M. H, Korzenowski, “Macrocyclic polyethr synthesis”, Springer-Vergal (1982) and the like.

本発明に係る画像形成層には上述した添加剤以外に、例えば、界面活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等を用いても良い。これらの添加剤及び上述したその他の添加剤は、RD Item17029(1978年6月p.9〜15)に記載されている化合物が好ましく用いられる。   In addition to the additives described above, for example, surfactants, antioxidants, stabilizers, plasticizers, ultraviolet absorbers, coating aids and the like may be used for the image forming layer according to the present invention. As these additives and the other additives described above, compounds described in RD Item 17029 (June 1978, p. 9-15) are preferably used.

本発明において、画像形成層は単層でも良く、組成が同一あるいは異なる複数の層で構成しても良い。なお、画像形成層の膜厚は通常10〜30μmである。   In the present invention, the image forming layer may be a single layer or a plurality of layers having the same or different compositions. The film thickness of the image forming layer is usually 10 to 30 μm.

本発明の熱現像感光材料に用いられる支持体としては、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ナイロン、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、トリアセチルセルロース等の各樹脂フィルム、更には前記樹脂を2層以上積層してなる樹脂フィルム等を挙げることができる。   Examples of the support used in the photothermographic material of the invention include acrylic ester, methacrylic ester, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyarylate, polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, polystyrene. , Nylon, aromatic polyamide, polyetheretherketone, polysulfone, polyethersulfone, polyimide, polyetherimide, triacetylcellulose, and other resin films, as well as resin films obtained by laminating two or more layers of the above resins. be able to.

本発明に係る支持体は、後述の画像記録方法において、潜像形成後熱で現像して画像形成することから、フィルム状に延伸しヒートセットしたものが寸法安定性の点で好ましい。なお、本発明の効果を阻害しない範囲で酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等のフィラーを添加してもよい。なお、支持体の厚みは、10〜500μm程度、好ましくは25〜250μmである。   In the image recording method described later, the support according to the present invention is developed with heat after forming a latent image to form an image. Therefore, a support that has been stretched into a film and heat-set is preferable in terms of dimensional stability. In addition, you may add fillers, such as a titanium oxide, a zinc oxide, barium sulfate, a calcium carbonate, in the range which does not inhibit the effect of this invention. In addition, the thickness of a support body is about 10-500 micrometers, Preferably it is 25-250 micrometers.

本発明の熱現像感光材料に用いられる保護層としては、上述の画像形成層で記載したバインダー樹脂を必要に応じて選択して用いることができる。   As the protective layer used in the photothermographic material of the present invention, the binder resin described in the above image forming layer can be selected and used as necessary.

保護層に添加される添加剤としては、熱現像後の画像の傷つき防止や搬送性を確保する目的でフィラーを含有することが好ましく、フィラーを添加する場合の含有量は、層形成組成物中0.05〜30質量%含有することが好ましい。   As an additive to be added to the protective layer, it is preferable to contain a filler for the purpose of ensuring damage prevention and transportability of the image after heat development, and the content when the filler is added is in the layer forming composition. It is preferable to contain 0.05-30 mass%.

さらに、滑り性や帯電性を改良するため、保護層には潤滑剤、帯電防止剤を含有しても良い、このような潤滑剤としては、例えば、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、(変性)シリコーンオイル、(変性)シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ化カーボン、ワックス等を挙げることができ、また、帯電防止剤としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、金属酸化物又は導電性ポリマー等、「11290の化学商品」化学工業日報社、p.875〜876等に記載の化合物、米国特許第5,244,773号カラム14〜20に記載された化合物等を挙げることができる。さらに、本発明の目的を阻害しない範囲で、画像形成層に添加される各種添加剤を保護層に添加しても良く、これら添加剤の添加量は、保護層層形成成分の0.01〜20質量%程度が好ましく、更に好ましくは、0.05〜10質量%である。   Furthermore, in order to improve slipperiness and chargeability, the protective layer may contain a lubricant and an antistatic agent. Examples of such lubricants include fatty acids, fatty acid esters, fatty acid amides, and polyoxyethylene. , Polyoxypropylene, (modified) silicone oil, (modified) silicone resin, fluororesin, carbon fluoride, wax and the like, and antistatic agents include cationic surfactants, anionic surfactants Agents, nonionic surfactants, polymer antistatic agents, metal oxides or conductive polymers, etc., "11290 Chemical Products", Chemical Industry Daily, p. 875-876 etc., the compound described in US Patent No. 5,244,773 columns 14-20, etc. can be mentioned. Furthermore, various additives added to the image forming layer may be added to the protective layer as long as the object of the present invention is not hindered. About 20 mass% is preferable, More preferably, it is 0.05-10 mass%.

本発明において、保護層は単層でも良く、組成が同一あるいは異なるの複数層の層で構成しても良い。なお、保護層の膜厚は通常1.0〜5.0μmである。   In the present invention, the protective layer may be a single layer or may be composed of a plurality of layers having the same or different composition. In addition, the film thickness of a protective layer is 1.0-5.0 micrometers normally.

本発明では、上述の画像形成層、支持体及び保護層以外に、支持体と画像形成層との膜付を改良するための中間層を、また搬送性や帯電防止を目的としてバックコート層を設置しても良く、設置する場合の中間層の厚みは通常0.05〜2.0μmであり、バッキング層の厚みは通常0.1〜10μmである。   In the present invention, in addition to the above-mentioned image forming layer, support and protective layer, an intermediate layer for improving film attachment between the support and the image forming layer is provided, and a back coat layer is provided for the purpose of transportability and antistatic. In the case of installation, the thickness of the intermediate layer is usually 0.05 to 2.0 μm, and the thickness of the backing layer is usually 0.1 to 10 μm.

本発明に係る画像形成層用塗布液、保護層用塗布液及び必要に応じて設置される中間層及びバッキング層用の各塗布液は、上述で述べた成分を、それぞれ溶媒に溶解若しくは分散して調製することができる。   The coating solution for the image forming layer, the coating solution for the protective layer, and the coating solution for the intermediate layer and the backing layer that are installed according to the present invention respectively dissolve or disperse the above-described components in a solvent. Can be prepared.

上記調製で用いることのできる溶媒としては、有機合成化学協会編の「溶剤ポケットブック」等に示されている溶解度パラメーターの値が6.0〜15.0の範囲のものであればよく、本発明に係る各層を形成する塗布液に用いることのできる溶媒としては、ケトン類として、例えば、アセトン、イソフォロン、エチルアミルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。アルコール類として、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等が挙げられる。グリコール類として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等が挙げられる。エーテルアルコール類として、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。エーテル類として、例えば、エチルエーテル、ジオキサン、イソプロピルエーテル等が挙げられる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸イソプロピル等が挙げられる。炭化水素類としてn−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。塩化物類として、例えば、塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロベンゼン等が挙げられるが、但し、本発明の効果を阻害しない範囲であればこれらに限定されない。   Solvents that can be used in the above preparation may be those having a solubility parameter value in the range of 6.0 to 15.0 shown in “Solvent Pocket Book” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry. Examples of the solvent that can be used in the coating solution for forming each layer according to the invention include ketones such as acetone, isophorone, ethyl amyl ketone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Examples of alcohols include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, diacetone alcohol, cyclohexanol, and benzyl alcohol. Examples of glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, hexylene glycol and the like. Examples of ether alcohols include ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monoethyl ether. Examples of ethers include ethyl ether, dioxane, isopropyl ether and the like. Examples of the esters include ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, isopropyl acetate and the like. Examples of hydrocarbons include n-pentane, n-hexane, n-heptane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene and the like. Examples of the chlorides include methyl chloride, methylene chloride, chloroform, dichlorobenzene and the like, but are not limited to these as long as the effects of the present invention are not impaired.

また、これらの溶媒は、単独又は数種類組合わせて使用できる。尚、熱現像感光材料中の上記溶媒の残留量は、塗布後の乾燥工程の温度条件等を適宜設定することにより調整でき、残存溶媒量は合計量で5〜1000mg/m2が好ましく、更に好ましくは、10〜300mg/m2である。 These solvents can be used alone or in combination of several kinds. The residual amount of the solvent in the photothermographic material can be adjusted by appropriately setting the temperature conditions of the drying step after coating, and the residual solvent amount is preferably 5 to 1000 mg / m 2 in total. preferably, a 10-300 mg / m 2.

塗布液を調製する際に、分散が必要な場合には、例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、コボルミル、トロンミル、サンドミル、サンドグラインダー、Sqegvariアトライター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、高速ミキサー、ホモジナイザ、超音波分散機、オープンニーダー、連続ニーダー等、従来から公知の分散機を適時選択して用いることができる。   When dispersion is necessary when preparing the coating liquid, for example, a two-roll mill, a three-roll mill, a ball mill, a pebble mill, a cobol mill, a tron mill, a sand mill, a sand grinder, a Sqgvari attritor, a high-speed impeller disperser, a high-speed stone Conventionally known dispersers such as a mill, a high-speed impact mill, a disper, a high-speed mixer, a homogenizer, an ultrasonic disperser, an open kneader, and a continuous kneader can be selected and used as appropriate.

上述のようにして調製した塗布液を塗布するには、例えば、エクストルージョン方式の押し出しコータ、リバースロールコータ、グラビアロールコータ、エアドクターコータ、ブレードコータ、エアナイフコータ、スクイズコータ、含浸コータ、バーコータ、トランスファロールコータ、キスコータ、キャストコータ、スプレーコータ等の、公知の各種コータステーションを適時選択して用いることができる。これらのコータの中で、形成層の厚みムラを無くすためには、エクストルージョン方式の押し出しコータやリバースロールコータ等のロールコータを用いることが好ましい。   To apply the coating solution prepared as described above, for example, extrusion-type extrusion coater, reverse roll coater, gravure roll coater, air doctor coater, blade coater, air knife coater, squeeze coater, impregnation coater, bar coater, Various known coater stations such as transfer roll coaters, kiss coaters, cast coaters, spray coaters and the like can be selected and used as appropriate. Among these coaters, it is preferable to use a roll coater such as an extrusion type extrusion coater or a reverse roll coater in order to eliminate unevenness in the thickness of the formation layer.

又、保護層を塗布する場合、画像形成層がダメージを受けないものであれば特に制限はないが、保護層形成塗布液に用いられる溶媒が、画像形成層を溶解する可能性がある場合には、上述したコータステーションの中で、エクストルージョン方式の押し出しコータ、グラビアロールコータ、バーコータ等を使用することができる。尚、これらの中でグラビアロールコータ、バーコータ等接触する塗布方法を用いる場合には、搬送方向に対して、グラビアロールやバーの回転方向は順転でもリバースでも良く、また順転の場合には等速でも、周速差を設けても良い。   Further, when the protective layer is applied, there is no particular limitation as long as the image forming layer is not damaged, but the solvent used in the protective layer forming coating solution may dissolve the image forming layer. In the above-described coater station, an extrusion-type extrusion coater, a gravure roll coater, a bar coater or the like can be used. Of these, when using a coating method such as a gravure roll coater or bar coater, the rotation direction of the gravure roll or bar may be forward or reverse with respect to the transport direction. A constant speed or a peripheral speed difference may be provided.

更に、各構成層を積層する際には、各層毎に塗布乾燥を繰り返してもよいが、ウェット−オン−ウェット方式で同時重層塗布して乾燥させても良い。その場合、例えば、リバースロールコータ、グラビアロールコータ、エアドクターコータ、ブレードコータ、エアナイフコータ、スクイズコータ、含浸コータ、バーコータ、トランスファロールコータ、キスコータ、キャストコータ、スプレーコータ等とエクストルージョン方式の押し出しコータとの組み合わせにより塗布することができ、この様なウェット−オン−ウェット方式における重層塗布においては、下側の層が湿潤状態になったままで上側の層を塗布するので、上下層間の接着性が向上する。   Furthermore, when laminating each constituent layer, coating and drying may be repeated for each layer, but simultaneous multilayer coating may be performed by a wet-on-wet method and dried. In that case, for example, reverse roll coater, gravure roll coater, air doctor coater, blade coater, air knife coater, squeeze coater, impregnation coater, bar coater, transfer roll coater, kiss coater, cast coater, spray coater, etc. and extrusion type extrusion coater. In such a wet-on-wet multi-layer coating, the upper layer is applied while the lower layer is in a wet state. improves.

さらに、本発明では少なくとも画像形成層用塗布液を塗布した後、本発明の目的を有効に引き出すために、塗膜を乾燥させる温度を65〜100℃の範囲であることが好ましい。乾燥温度が65℃よりも低い場合は、反応が不十分であるため、経時による感度の変動が起こる場合が有り、また、100℃よりも高い場合には、製造直後の熱現像感光材料自身にかぶり(着色)を生じる場合がある為好ましくない。また、乾燥時間は乾燥時の風量により一概に規定できないが、通常2〜30分の範囲で乾燥させることが好ましい。   Furthermore, in the present invention, it is preferable that the temperature at which the coating film is dried is in the range of 65 to 100 ° C. in order to effectively draw out the object of the present invention after at least applying the coating solution for the image forming layer. When the drying temperature is lower than 65 ° C., the reaction is insufficient, and thus the sensitivity may vary with time. When the drying temperature is higher than 100 ° C., the photothermographic material itself immediately after production may be changed. Since fogging (coloring) may occur, it is not preferable. The drying time cannot be generally defined by the air volume at the time of drying, but it is usually preferable to dry in the range of 2 to 30 minutes.

なお、上述の乾燥温度は、塗布後直ぐに前述の温度範囲の乾燥温度で乾燥させても良いし、乾燥の際に生じる塗布液のマランゴニーや、温風の乾燥風によって生じる表面近傍が初期に乾燥することにより生ずるムラ(ユズ肌)を防止する目的からは、初期の乾燥温度を65℃よりも低温で行い、その後前述の温度範囲の乾燥温度で乾燥させても良い。   The above-mentioned drying temperature may be dried immediately after coating at a drying temperature in the above-mentioned temperature range, or the vicinity of the surface caused by the marangony of the coating liquid generated during drying or the drying air of warm air is initially dried. For the purpose of preventing unevenness (scratch skin) caused by this, the initial drying temperature may be lower than 65 ° C., and then drying may be performed at a drying temperature in the above-described temperature range.

以上、本発明の熱現像感光材料及びその好適な製造方法により、本発明の目的を達成することはできるが、さらに、画像記録方法を最適化することにより、干渉縞のない鮮明な画像を得ることができる。   As described above, the object of the present invention can be achieved by the photothermographic material of the present invention and the preferred production method thereof, but further, a clear image without interference fringes can be obtained by optimizing the image recording method. be able to.

次いで、本発明の熱現像感光材料に好適な画像記録方法について詳述する。本発明において、画像記録方法として好適な態様としては、熱現像感光材料の露光面とレーザ光のなす角が実質的に垂直になることがないレーザ光を用いて、走査露光により画像を形成することが挙げられる。このように、入射角を垂直からずらすことにより、仮に層間界面での反射光が発生した場合においても、画像形成層に達する光路差が大きくなることから、レーザ光の光路での散乱や減衰が生じて干渉縞が発生しにくくなる。なお、ここで、「実質的に垂直になることがない」とはレーザ走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55度以上88度以下、より好ましくは60度以上86度以下、更に好ましくは65度以上84度以下であることをいう。   Next, an image recording method suitable for the photothermographic material of the present invention will be described in detail. In the present invention, as a preferred aspect of the image recording method, an image is formed by scanning exposure using a laser beam in which the angle formed by the exposure surface of the photothermographic material and the laser beam is not substantially perpendicular. Can be mentioned. In this way, by shifting the incident angle from the vertical, even if reflected light at the interlayer interface is generated, the optical path difference reaching the image forming layer becomes large, so that the scattering and attenuation of the laser light in the optical path is reduced. It occurs and interference fringes are less likely to occur. Here, “substantially not perpendicular” means that the angle that is closest to the vertical during laser scanning is preferably 55 ° to 88 °, more preferably 60 ° to 86 °, and still more preferably. It means 65 degrees or more and 84 degrees or less.

なお、レーザ・イメージャやレーザ・イメージセッタで使用されるレーザにおいて、熱現像感光材料に走査されるときの熱現像感光材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径として5〜100μmの範囲であり、レーザ光走査速度は熱現像感光材料固有のレーザ発振波長における感度とレーザパワーによって、熱現像感光材料毎に最適な値に設定することができる。   In a laser used in a laser imager or laser image setter, the beam spot diameter on the exposed surface of the photothermographic material when scanned with the photothermographic material is generally from 5 to 75 μm as the minor axis diameter. The shaft diameter is in the range of 5 to 100 μm, and the laser beam scanning speed can be set to an optimum value for each photothermographic material depending on the sensitivity and laser power at the laser oscillation wavelength inherent to the photothermographic material.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれに限定されない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, the embodiment of this invention is not limited to this.

1.下引済みPET支持体1の作製
2軸延伸熱固定済みの厚さ125μmのPETフィルムの両面に下記の条件でプラズマ処理1を施し、次いで一方の面に前記下引塗布液a−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設してから乾燥させて下引層A−1とし、又反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗布液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設してから乾燥させて導電層としての下引層B−1とした。次いで、それぞれの下引き層表面に下記の条件でプラズマ処理2を施した。
1. Preparation of undercoated PET support 1 Plasma treatment 1 is performed on both surfaces of a 125 μm thick PET film that has been biaxially stretched and heat-set under the following conditions, and then the undercoating liquid a-1 is dried on one surface. After coating to a film thickness of 0.8 μm, drying is performed to form an undercoat layer A-1, and on the opposite side, an undercoat coating solution b-1 subjected to the following antistatic treatment is applied to a dry film thickness of 0.8 μm. After being coated so as to become an undercoat layer B-1 as a conductive layer. Next, plasma treatment 2 was performed on the surface of each undercoat layer under the following conditions.

《プラズマ処理条件》
バッチ式の大気圧プラズマ処理装置(イーシー化学(株)製、AP−I−H−340)を用いて、高周波出力が4.5kW、周波数が5kHz、処理時間が5秒及びガス条件としてアルゴン、窒素及び水素の体積比をそれぞれ90%、5%及び5%で、プラズマ処理1及びプラズマ処理2を行った。
<< Plasma treatment conditions >>
Using a batch type atmospheric pressure plasma processing apparatus (EC-I-H-340, manufactured by EC Chemical Co., Ltd.), the high frequency output is 4.5 kW, the frequency is 5 kHz, the processing time is 5 seconds, and the gas conditions are argon, Plasma treatment 1 and plasma treatment 2 were performed at a volume ratio of nitrogen and hydrogen of 90%, 5%, and 5%, respectively.

〈下引塗布液a−1〉
ブチルアクリレート(30質量%)
t−ブチルアクリレート(20質量%)
スチレン(25質量%)
2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%)
の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g
ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g
ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g
コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g
水で1リットルに仕上げる
〈下引塗布液b−1〉
酸化錫(インジウムを0.1%ドープした平均粒径36nm)
0.26g/m2になる量
ブチルアクリレート(30質量%)
スチレン(20質量%)
グリシジルアクリレート(40質量%)
の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g
ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g
水で1リットルに仕上げる
〈支持体の熱処理〉
得られた下引済み支持体の下引乾燥工程にて、支持体を140℃で加熱し、その後徐々に冷却した。その際に1×105Paの張力で搬送した。
<Undercoat coating liquid a-1>
Butyl acrylate (30% by mass)
t-Butyl acrylate (20% by mass)
Styrene (25% by mass)
2-Hydroxyethyl acrylate (25% by mass)
270 g of copolymer latex liquid (solid content 30%)
Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8g
Polystyrene fine particles (average particle size 3 μm) 0.05 g
Colloidal silica (average particle size 90μm) 0.1g
Finish to 1 liter with water <Undercoat coating solution b-1>
Tin oxide (average particle size 36nm doped with 0.1% indium)
Amount to be 0.26 g / m 2 Butyl acrylate (30% by mass)
Styrene (20% by mass)
Glycidyl acrylate (40% by mass)
270 g of copolymer latex liquid (solid content 30%)
Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8g
Finish to 1 liter with water <Heat treatment of support>
In the undercoating drying step of the obtained undercoated support, the support was heated at 140 ° C. and then gradually cooled. In that case, it conveyed with the tension | tensile_strength of 1 * 10 < 5 > Pa.

2.バック層面側の塗布
以下の組成のバック層塗布液1とバック保護層塗布液1を、それぞれ塗布前に絶対濾過精度20μmのフィルターを用いて濾過した後、押し出しコーターで前記作製した支持体の帯電防止加工した下引層B−1面上に、合計ウェット膜厚が30μmになるよう、毎分120mの速度で同時重層塗布し、60℃で4分間乾燥を行った。
2. Coating on the back layer side The back layer coating solution 1 and the back protective layer coating solution 1 having the following compositions were filtered using a filter having an absolute filtration accuracy of 20 μm before coating, respectively, and then charged on the prepared support by an extrusion coater. On the surface of the undercoat layer B-1 subjected to the prevention processing, simultaneous multilayer coating was performed at a speed of 120 m / min so that the total wet film thickness was 30 μm, and drying was performed at 60 ° C. for 4 minutes.

〈バック層塗布液1〉
メチルエチルケトン 16.4g/m2
赤外染料−A 17mg/m2
安定化剤B−1(住友化学社スミライザーBPA) 20mg/m2
安定化剤B−2(吉富製薬トミソーブ77) 50mg/m2
セルロースアセテートプロピレート(Eastman Chemical社
CAP504−0.2) 0.5g/m2
セルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社
CAP482−20) 1.5g/m2
<Back layer coating solution 1>
Methyl ethyl ketone 16.4 g / m 2
Infrared dye-A 17 mg / m 2
Stabilizer B-1 (Sumitomo Chemical Company Sumitizer BPA) 20 mg / m 2
Stabilizer B-2 (Yoshitomi Pharmaceutical Tomissorb 77) 50 mg / m 2
Cellulose acetate propylate (Eastman Chemical CAP504-0.2) 0.5 g / m 2
Cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical CAP482-20) 1.5 g / m 2

Figure 2005122013
Figure 2005122013

〈バック保護層塗布液1〉
メチルエチルケトン 22g/m2
帯電防止剤;(CH33SiO−〔(CH32SiO〕2O−〔CH3SiO{CH2CH2CH2O(CH2CH2O)10(CH2CH2CH2O)15CH3}〕3O−Si(CH33
22mg/m2
フッ素系界面活性剤F−1:C817SO3Li 10mg/m2
セルロースアセテートプロピレート(Eastman Chemical社
CAP504−0.2) 0.5g/m2
セルロースアセテートブチレート(Eastman Chemical社
CAP482−20) 1.5g/m2
マット剤(富士デビソン社サイロイド74;平均粒径7μmのシリカ)12mg/m2
(ハロゲン化銀粒子の調製)
純水900ml中にゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解して温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74gを含む水溶液370mlと(96/4)のモル比の臭化カリウムと沃化カリウムと(NH42RhCl5(H2O)を5×10-6モル/リットルを含む水溶液とをpAg7.7に保ちながらコントロールドダブルジェット法で10分間かけて添加した。その後、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン0.3gを添加し、水酸化ナトリウムでpHを5に調整して、平均粒子サイズ0.06μm、投影直径面積の変動係数8%、{100}面比率86%の立方体沃臭化銀からなるハロゲン化銀粒子を得た。この乳剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後フェノキシエタノール0.1gを加え、pH5.9、pAg7.5に調整した。
<Back protective layer coating solution 1>
Methyl ethyl ketone 22g / m 2
Antistatic agent; (CH 3 ) 3 SiO — [(CH 3 ) 2 SiO] 2 O— [CH 3 SiO {CH 2 CH 2 CH 2 O (CH 2 CH 2 O) 10 (CH 2 CH 2 CH 2 O ) 15 CH 3 }] 3 O—Si (CH 3 ) 3
22 mg / m 2
Fluorine-based surfactant F-1: C 8 F 17 SO 3 Li 10 mg / m 2
Cellulose acetate propyleneate (Eastman Chemical CAP504-0.2) 0.5 g / m 2
Cellulose acetate butyrate (Eastman Chemical CAP482-20) 1.5 g / m 2
Matting agent (Fuji Devison Psyroid 74; silica having an average particle size of 7 μm) 12 mg / m 2
(Preparation of silver halide grains)
In 900 ml of pure water, 7.5 g of gelatin and 10 mg of potassium bromide were dissolved, adjusted to a temperature of 35 ° C. and a pH of 3.0, and then brominated at a molar ratio of (96/4) with 370 ml of an aqueous solution containing 74 g of silver nitrate. Potassium, potassium iodide, and an aqueous solution containing 5 × 10 −6 mol / liter of (NH 4 ) 2 RhCl 5 (H 2 O) were added over 10 minutes by the controlled double jet method while maintaining pAg 7.7. . Thereafter, 0.3 g of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added, the pH was adjusted to 5 with sodium hydroxide, the average particle size was 0.06 μm, and the projected diameter area Silver halide grains made of cubic silver iodobromide having a coefficient of variation of 8% and a {100} face ratio of 86% were obtained. This emulsion was coagulated and precipitated using a gelatin flocculant, desalted and then 0.1 g phenoxyethanol was added to adjust the pH to 5.9 and pAg 7.5.

(有機脂肪酸銀乳剤の調製)
水300ml中にベヘン酸10.6gを入れ90℃に加熱溶解し、十分攪拌した状態で1M/Lの水酸化ナトリウム31.1mlを添加し、そのままの状態で1時間放置した。その後30℃に冷却し、1M/Lのリン酸7.0mlを添加して十分攪拌した状態でN−ブロモこはく酸イミド0.01gを添加した。その後、あらかじめ調製したハロゲン化銀粒子をベヘン酸に対して銀量として10モル%となるように40℃に加温した状態で攪拌しながら添加した。さらに1M硝酸銀水溶液25mlを2分間かけて連続添加し、そのまま攪拌した状態で1時間放置した。
(Preparation of organic fatty acid silver emulsion)
10.6 g of behenic acid was placed in 300 ml of water, dissolved by heating at 90 ° C., 31.1 ml of 1 M / L sodium hydroxide was added with sufficient stirring, and the mixture was left as it was for 1 hour. Thereafter, the mixture was cooled to 30 ° C., 7.0 ml of 1 M / L phosphoric acid was added, and 0.01 g of N-bromosuccinimide was added with sufficient stirring. Thereafter, silver halide grains prepared in advance were added with stirring in a state heated to 40 ° C. so that the amount of silver was 10 mol% with respect to behenic acid. Further, 25 ml of 1M silver nitrate aqueous solution was continuously added over 2 minutes, and the mixture was left for 1 hour with stirring.

この乳剤に酢酸エチルに溶解したポリビニルブチラールを添加して十分攪拌した後に静置し、ベヘン酸銀粒子とハロゲン化銀粒子を含有する酢酸エチル相と水相に分離した。水相を除去した後、遠心分離にてベヘン酸銀粒子とハロゲン化銀粒子を採取した。その後東ソー(株)社製合成ゼオライトA−3(球状)20gとイソプロピルアルコール22mlを添加し1時間放置した後濾過した。更にポリビニルブチラール3.4gとイソプロピルアルコール23mlを添加し35℃にて高速で十分攪拌して分散し有機脂肪酸銀乳剤の調製を終了した。   To this emulsion, polyvinyl butyral dissolved in ethyl acetate was added and stirred sufficiently, and then allowed to stand to separate into an ethyl acetate phase containing silver behenate grains and silver halide grains and an aqueous phase. After removing the aqueous phase, silver behenate particles and silver halide particles were collected by centrifugation. Thereafter, 20 g of synthetic zeolite A-3 (spherical) manufactured by Tosoh Corp. and 22 ml of isopropyl alcohol were added and left for 1 hour, followed by filtration. Further, 3.4 g of polyvinyl butyral and 23 ml of isopropyl alcohol were added, and the mixture was sufficiently stirred at 35 ° C. and dispersed at a high speed to complete the preparation of the organic fatty acid silver emulsion.

(感光層塗布液組成)
有機脂肪酸銀乳剤 1.4g(銀で)/m2
ピリジニウムヒドロブロミドペルブロミド 1.5×10-4mol/m2
臭化カルシウム 1.8×10-4mol/m2
2−(4−クロロベンゾイル)安息香酸 1.5×10-3mol/m2
赤外増感色素 4.2×10-6mol/m2
2−メルカプトベンズイミダゾール 3.2×10-3mol/m2
2−トリブロモメチルスルホニルキノリン 6.0×10-4mol/m2
4−メチルフタル酸 1.6×10-3mol/m2
テトラクロロフタル酸 7.9×10-4mol/m2
還元剤:表1記載 4.8×10-3mol/m2
赤外染料−A 3.0×10-5mol/m2
比較還元剤:1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン
(Photosensitive layer coating solution composition)
Organic fatty acid silver emulsion 1.4g (in silver) / m 2
Pyridinium hydrobromide perbromide 1.5 × 10 −4 mol / m 2
Calcium bromide 1.8 × 10 −4 mol / m 2
2- (4-Chlorobenzoyl) benzoic acid 1.5 × 10 −3 mol / m 2
Infrared sensitizing dye 4.2 × 10 −6 mol / m 2
2-mercaptobenzimidazole 3.2 × 10 −3 mol / m 2
2-Tribromomethylsulfonylquinoline 6.0 × 10 −4 mol / m 2
4-methylphthalic acid 1.6 × 10 −3 mol / m 2
Tetrachlorophthalic acid 7.9 × 10 −4 mol / m 2
Reducing agent: listed in Table 1 4.8 × 10 −3 mol / m 2
Infrared dye-A 3.0 × 10 −5 mol / m 2
Comparative reducing agent: 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane

Figure 2005122013
Figure 2005122013

(保護層組成)
保護層塗布液を下記のように調製した。
(Protective layer composition)
A protective layer coating solution was prepared as follows.

セルロースアセテートブチレート 4g/m2
フタラジン 3.2×10-3mol/m2
溶媒には、メチルエチルケトン、アセトン、メタノールを適宜用いた。
Cellulose acetate butyrate 4g / m 2
Phthalazine 3.2 × 10 −3 mol / m 2
As the solvent, methyl ethyl ketone, acetone, and methanol were appropriately used.

(アクリル系疎水性樹脂層塗布液)
アクリル系疎水性樹脂 2g/m2
マイクロクリスタリンワックス 0.3g/m2
マット剤(粒径2μm) 50mg/m2
(アクリル系樹脂固形成分:40質量%)
(感光層側の塗布)
上記バック層側を塗布した支持体に、上記の感光層塗布液、保護層塗布液、アクリル系疎水性樹脂層塗布液を順次塗布して感光層、表面保護層、アクリル系疎水性樹脂層を塗設し、熱現像写真感光材料1〜10を作製した。
(Acrylic hydrophobic resin layer coating solution)
Acrylic hydrophobic resin 2g / m 2
Microcrystalline wax 0.3g / m 2
Matting agent (particle size 2 μm) 50 mg / m 2
(Acrylic resin solid component: 40% by mass)
(Coating on the photosensitive layer side)
The photosensitive layer coating solution, the protective layer coating solution, and the acrylic hydrophobic resin layer coating solution are sequentially applied to the support coated with the back layer side to form the photosensitive layer, the surface protective layer, and the acrylic hydrophobic resin layer. After coating, heat-developable photographic light-sensitive materials 1 to 10 were produced.

写真性能の評価
(露光)
得られた試料をビーム径(ビーム強度の1/2のFWHM)12.56μm、レーザー出力50mW、出力波長783nmの半導体レーザーを搭載した単チャンネル円筒内面方式のレーザー露光装置を使用し、ミラー回転数60000rpm、露光時間1.2×10-8秒の露光を実施した。このときのオーバーラップ係数は0.449にし、熱現像画像記録材料面上のレーザーエネルギー密度は75μJ/cm2とした。
Evaluation of photographic performance (exposure)
The obtained sample was used in a single channel cylindrical inner surface type laser exposure apparatus equipped with a semiconductor laser having a beam diameter (FWHM of ½ of the beam intensity) of 12.56 μm, a laser output of 50 mW, and an output wavelength of 783 nm, and the rotational speed of the mirror. Exposure was performed at 60000 rpm and an exposure time of 1.2 × 10 −8 seconds. The overlap coefficient at this time was 0.449, and the laser energy density on the surface of the heat-developable image recording material was 75 μJ / cm 2 .

(熱現像処理)
熱現像処理は120℃17.2秒で行なった。
(Heat development)
The heat development processing was performed at 120 ° C. for 17.2 seconds.

(写真性能の評価)
熱現像感光材料を23℃80%12時間調湿の試料と23℃20%12時間調湿の試料を作製し、同一環境下で50μmの線幅露光を行なって熱現像処理を行なった。それぞれの処理後の線幅の差を測定することにより、現像湿度依存性を評価した。またそれぞれの環境下でのDmin(カブリ)についても評価した。結果を表1に示す。
(Evaluation of photographic performance)
A photothermographic material was prepared at 23 ° C. and 80% humidity for 12 hours and at 23 ° C. and 20% humidity for 12 hours, and was subjected to heat development processing by exposure to a line width of 50 μm in the same environment. The development humidity dependency was evaluated by measuring the difference in line width after each treatment. In addition, Dmin (fogging) in each environment was also evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 2005122013
Figure 2005122013

表1から、本発明の試料は、現像湿度依存性に優れていることがわかる。   From Table 1, it can be seen that the sample of the present invention is excellent in development humidity dependency.

実施例2
造核剤を下記のように様に加える以外は実施例1と同様に行った。
Example 2
The same procedure as in Example 1 was performed except that the nucleating agent was added as described below.

(感光層塗布液組成)
有機脂肪酸銀乳剤 1.4g(銀で)/m2
ピリジニウムヒドロブロミドペルブロミド 1.5×10-4mol/m2
臭化カルシウム 1.8×10-4mol/m2
2−(4−クロロベンゾイル)安息香酸 1.5×10-3mol/m2
赤外増感色素 4.2×10-6mol/m2
2−メルカプトベンズイミダゾール 3.2×10-3mol/m2
2−トリブロモメチルスルホニルキノリン 6.0×10-4mol/m2
4−メチルフタル酸 1.6×10-3mol/m2
テトラクロロフタル酸 7.9×10-4mol/m2
還元剤:表2記載 4.8×10-3mol/m2
赤外染料−A 3.0×10-5mol/m2
造核剤:表2記載の種と量
比較還元剤:1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチルヘキサン
(保護層組成)
保護層塗布液を下記のように調製した。
(Photosensitive layer coating solution composition)
Organic fatty acid silver emulsion 1.4g (in silver) / m 2
Pyridinium hydrobromide perbromide 1.5 × 10 −4 mol / m 2
Calcium bromide 1.8 × 10 −4 mol / m 2
2- (4-Chlorobenzoyl) benzoic acid 1.5 × 10 −3 mol / m 2
Infrared sensitizing dye 4.2 × 10 −6 mol / m 2
2-mercaptobenzimidazole 3.2 × 10 −3 mol / m 2
2-Tribromomethylsulfonylquinoline 6.0 × 10 −4 mol / m 2
4-methylphthalic acid 1.6 × 10 −3 mol / m 2
Tetrachlorophthalic acid 7.9 × 10 −4 mol / m 2
Reducing agent: listed in Table 2 4.8 × 10 −3 mol / m 2
Infrared dye-A 3.0 × 10 −5 mol / m 2
Nucleator: Species and amounts listed in Table 2 Comparative reducing agent: 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (protective layer composition)
A protective layer coating solution was prepared as follows.

セルロースアセテートブチレート 4g/m2
フタラジン 3.2×10-3mol/m2
造核剤:表2記載の種と量
溶媒には、メチルエチルケトン、アセトン、メタノールを適宜用いた。
Cellulose acetate butyrate 4g / m 2
Phthalazine 3.2 × 10 −3 mol / m 2
Nucleator: Species and amounts listed in Table 2 Methyl ethyl ketone, acetone, and methanol were appropriately used as the solvent.

(アクリル系疎水性樹脂層塗布液)
アクリル系疎水性樹脂 2g/m2
マイクロクリスタリンワックス 0.3g/m2
マット剤(粒径2μm) 50mg/m2
(アクリル系樹脂固形成分:40質量%)
(感光層側の塗布)
上記バック層側を塗布した支持体に、上記の感光層塗布液、保護層塗布液、アクリル系疎水性樹脂層塗布液を順次塗布して感光層、表面保護層、アクリル系疎水性樹脂層を塗設し、熱現像写真感光材料21〜30を作製した。
(Acrylic hydrophobic resin layer coating solution)
Acrylic hydrophobic resin 2g / m 2
Microcrystalline wax 0.3g / m 2
Matting agent (particle size 2 μm) 50 mg / m 2
(Acrylic resin solid component: 40% by mass)
(Coating on the photosensitive layer side)
The photosensitive layer coating solution, the protective layer coating solution, and the acrylic hydrophobic resin layer coating solution are sequentially applied to the support coated with the back layer side to form the photosensitive layer, the surface protective layer, and the acrylic hydrophobic resin layer. After coating, heat-developable photographic light-sensitive materials 21 to 30 were produced.

(生保存性)
塗布した試料の一部を55℃で3日強制劣化試験を行い、他の一部を室温で放置しそれぞれ得られた試料について、実施例1の方法で感度とカブリを評価した。結果を表2に示す。
(Raw preservation)
A part of the coated sample was subjected to a forced deterioration test at 55 ° C. for 3 days, and the other part was left at room temperature to evaluate the sensitivity and fog by the method of Example 1. The results are shown in Table 2.

Figure 2005122013
Figure 2005122013

表2から、本発明の試料は、強制劣化に対して安定であることがわかる。   From Table 2, it can be seen that the sample of the present invention is stable against forced deterioration.

Claims (8)

支持体上に有機銀粒子、ハロゲン化銀粒子及び還元剤を含有する画像形成層を有する熱現像感光材料において、該画像形成層側にマイクロクリスタリンワックス及びパラフィンワックスから選ばれる少なくとも1種を含有するアクリル系疎水性樹脂層を有することを特徴とする熱現像感光材料。 In a photothermographic material having an image forming layer containing organic silver particles, silver halide particles and a reducing agent on a support, the image forming layer side contains at least one selected from microcrystalline wax and paraffin wax. A photothermographic material having an acrylic hydrophobic resin layer. 銀イオン還元剤の少なくとも1種が下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする熱現像感光材料。
Figure 2005122013
〔式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立にアルキル基を表すが、少なくとも1つの基は水酸基又は脱保護されることにより水酸基を形成しうる基を置換基として有するアルキル基を表す。L1は−S−基又は−CR5(R6)−基を表し、R5及びR6は水素原子、アルキル基、3〜10員の非芳香族環基、アリール基、又はヘテロアリール基を表す。X1及びX2はベンゼン環に置換可能な基を表し、n及びmは0〜2の整数を表す。〕
A photothermographic material, wherein at least one silver ion reducing agent is a compound represented by the following general formula (1).
Figure 2005122013
[In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group, but at least one group is a hydroxyl group or an alkyl having a substituent that can form a hydroxyl group by deprotection. Represents a group. L 1 represents an —S— group or a —CR 5 (R 6 ) — group, and R 5 and R 6 are a hydrogen atom, an alkyl group, a 3- to 10-membered non-aromatic ring group, an aryl group, or a heteroaryl group. Represents. X 1 and X 2 represent groups that can be substituted on the benzene ring, and n and m each represents an integer of 0 to 2. ]
前記一般式(1)のR2及びR3が水酸基又は脱保護されることにより水酸基を形成しうる基を置換基として有するアルキル基であることを特徴とする請求項2に記載の熱現像感光材料。 3. The photothermographic sensor according to claim 2, wherein R 2 and R 3 in the general formula (1) are a hydroxyl group or an alkyl group having a group capable of forming a hydroxyl group by deprotection as a substituent. material. 一般式(1)で表される還元剤が下記一般式(2)で表される還元剤であることを特徴とする請求項2又は3に記載の熱現像感光材料。
Figure 2005122013
〔式中、R1、R4、L1、X1、X2、n及びmは一般式(1)に於けるものと同義である。R5及びR6は水素原子又はアルキル基を表す。p及びqは0〜5の整数を表す。〕
4. The photothermographic material according to claim 2, wherein the reducing agent represented by the general formula (1) is a reducing agent represented by the following general formula (2).
Figure 2005122013
[Wherein, R 1 , R 4 , L 1 , X 1 , X 2 , n and m are the same as those in the general formula (1). R 5 and R 6 represent a hydrogen atom or an alkyl group. p and q represent the integer of 0-5. ]
前記一般式(2)のR5及びR6が水素原子であり、p及びqが2であることを特徴とする請求項4に記載の熱現像感光材料。 5. The photothermographic material according to claim 4, wherein R 5 and R 6 in the general formula (2) are hydrogen atoms, and p and q are 2. 前記一般式(1)及び(2)のR1及びR2が2級又は3級のアルキル基であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 6. The photothermographic material according to claim 1, wherein R 1 and R 2 in the general formulas (1) and (2) are secondary or tertiary alkyl groups. 前記一般式(1)及び(2)のL1が−CR55(R66)−基であり、且つ、R55が5〜6員の非芳香族環状基であり、R66が水素原子であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 L 1 in the general formulas (1) and (2) is a —CR 55 (R 66 ) — group, R 55 is a 5- to 6-membered non-aromatic cyclic group, and R 66 is a hydrogen atom. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material is provided. 造核剤を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 The photothermographic material according to claim 1, further comprising a nucleating agent.
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