JP2005274724A - Storage container for photomask blank and its supporting method - Google Patents
Storage container for photomask blank and its supporting method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005274724A JP2005274724A JP2004084954A JP2004084954A JP2005274724A JP 2005274724 A JP2005274724 A JP 2005274724A JP 2004084954 A JP2004084954 A JP 2004084954A JP 2004084954 A JP2004084954 A JP 2004084954A JP 2005274724 A JP2005274724 A JP 2005274724A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask blank
- container
- spring member
- photomask
- support member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
Description
本発明は、半導体集積回路等の製造などに用いられるフォトマスクブランクの収納容器及び支持方法、特に、欠陥の発生に影響するパーティクルの発生を低減したフォトマスクブランクの収納容器及び支持方法に関する。 The present invention relates to a photomask blank storage container and support method used for manufacturing semiconductor integrated circuits and the like, and more particularly to a photomask blank storage container and support method in which the generation of particles affecting the occurrence of defects is reduced.
IC及びLSI等の半導体集積回路の製造をはじめとして、広範囲な用途に用いられているフォトマスクは、基本的には透光性基板上にクロムやモリブデンシリコンなどを主成分とする遮光膜を、所定のパターンに形成したものである。近年では半導体集積回路の高集積化などの市場要求に伴ってパターンの微細化が急速に進んできた。このパターンの微細化に伴い、微小な欠陥のないフォトマスクブランクを提供することが求められている。 Photomasks used in a wide range of applications, including the manufacture of semiconductor integrated circuits such as IC and LSI, basically have a light-shielding film mainly composed of chromium, molybdenum silicon, etc. on a translucent substrate. It is formed in a predetermined pattern. In recent years, pattern miniaturization has rapidly progressed with market demands such as higher integration of semiconductor integrated circuits. With the miniaturization of this pattern, it is required to provide a photomask blank without a minute defect.
これまでにも、フォトマスクブランクの製造工程、例えば、石英基板の上に膜を成膜する工程、成膜後の洗浄工程、レジスト塗布工程などにおいて発生する微小な欠陥を与えるパーティクルなどを低減する方法として様々な方法が提案され、欠陥が極めて少ないフォトマスクを製造し得る技術が確立されてきた。 Up to now, the photomask blank manufacturing process, for example, the process of forming a film on a quartz substrate, the cleaning process after the film formation, the particles that give minute defects generated in the resist coating process, etc. are reduced. Various methods have been proposed, and a technique capable of manufacturing a photomask with extremely few defects has been established.
しかしながら、このような方法で厳密に管理して製造された極めて欠陥の少ないフォトマスクブランクであっても、次工程であるフォトマスク製造工程に供する場合、一般的には、フォトマスクブランクを製造する工場からフォトマスクを製造する工場への搬送を伴うため、フォトマスクブランクを所定の容器に収納して搬送するが、この搬送の際に欠陥の増加が発生してしまい、その結果、フォトマスクの欠陥修正が必要になったり、欠陥により露光不良が発生したりしてしまうという問題が起こっていた。 However, even if the photomask blank is manufactured with such a method and is strictly controlled, when the photomask blank is used for the next photomask manufacturing process, the photomask blank is generally manufactured. Since it involves transport from the factory to the factory that manufactures the photomask, the photomask blank is stored in a predetermined container and transported. However, an increase in defects occurs during this transport, and as a result, There has been a problem that a defect needs to be corrected or an exposure failure occurs due to the defect.
特に、パターンの更なる微細化要求に対応するには、従来は問題とならなかった微細なパーティクルであってもその低減が必要となる。 In particular, in order to meet the demand for further miniaturization of patterns, it is necessary to reduce even fine particles that have not been a problem in the past.
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、フォトマスクブランクの搬送による欠陥の増加を防止して、欠陥の少ない極めて高品質のフォトマスクブランクを提供するため、フォトマスクブランクを収納し、欠陥の原因となるパーティクルの発生を可及的に防止してフォトマスクブランクを搬送することができるフォトマスクブランクの収納容器及び支持方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and in order to provide an extremely high-quality photomask blank with few defects by preventing an increase in defects due to conveyance of the photomask blank. It is an object of the present invention to provide a photomask blank storage container and a support method capable of transporting the photomask blank while preventing the generation of particles that cause defects as much as possible.
従来、半導体製造等に用いられるレジストを塗布したフォトマスクブランクを容器に収納して搬送する際に欠陥が増加する原因は、収納容器自体の汚れによるものか、又は容器の蓋開閉時の蓋と容器本体との摩擦により発生するパーティクルによるものと考えられてきた。 Conventionally, the cause of the increase in defects when storing and transporting a photomask blank coated with a resist used in semiconductor manufacturing etc. in a container is due to contamination of the storage container itself, or a lid when opening and closing the lid of the container It has been thought to be due to particles generated by friction with the container body.
しかしながら、容器の汚れや摩擦により発生するパーティクルによる影響を可能な限り取り除いても、搬送の前後において欠陥が増加していることがわかった。このような容器では、通常、フォトマスクブランクが搬送時に動いて塗布したレジスト膜が容器内面等に接触して傷付くことがないようにするために、樹脂等の材料により形成された固定冶具を用いフォトマスクブランクの外周面で固定して、動かないようにする方法が採られる。 However, it was found that defects were increased before and after transport even if the influence of particles generated by dirt and friction of the container was removed as much as possible. In such a container, a fixing jig formed of a material such as a resin is usually used so that the resist film applied by moving the photomask blank during transportation does not come into contact with and damage the inner surface of the container. A method is adopted in which the photomask blank is fixed on the outer peripheral surface so as not to move.
本発明者は、この点に注目して、鋭意検討を重ねた結果、搬送時に、収納されたフォトマスクブランクに与えられる振動等により発生する力によって、フォトマスクブランクと樹脂等の材料により形成された固定冶具との間に擦れが発生し、これによって硬度の高いフォトマスクブランクが、硬度の低い樹脂を削り取ってしまうことによりパーティクルが発生していることを知見した。 As a result of intensive investigations by paying attention to this point, the inventor is formed of a material such as a photomask blank and a resin by a force generated by vibration or the like applied to the stored photomask blank during transportation. It was found that rubbing occurred between the fixing jig and the high-hardness photomask blank, which caused particles to be generated by scraping off the low-hardness resin.
そこで、本発明者は、更に検討を重ねた結果、上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備する容器内部にフォトマスクブランクを収納する際に、容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持することにより、フォトマスクブランクを収納し、この支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が1.96〜117.6Nとなるように上記バネ部材の弾発力を設定すれば、搬送の際に発生する振動等により生ずるフォトマスクブランクと固定冶具、即ちフォトマスクブランクと支持部材及びバネ部材との擦れによるパーティクルの発生を低減して、フォトマスクブランクを搬送することができることを見出し、本発明をなすに至った。 Therefore, as a result of further studies, the inventor has a rectangular box-shaped container body that is open at the top, and a lid that covers the upper opening and is detachably attached to the upper end of the container body. When a photomask blank is stored inside the container, a synthetic resin support member and a synthetic resin spring member are respectively provided on the inner surfaces of a pair of opposing wall portions of the container, and these members press the photomask blank. The photomask blank is accommodated by supporting both sides of the photomask blank opposite to each other by the above-described members by the elastic force to be applied, and the support member and the spring member are respectively applied to the both sides of the photomask blank. If the spring force of the spring member is set so that the pressing force is 1.96 to 117.6 N, a photomask blur generated by vibration or the like generated during conveyance Click the fixture, i.e. to reduce the generation of particles due to rubbing between the photomask blank and the supporting member and the spring member, it found that it is possible to transport the photomask blank, the present invention has been accomplished.
即ち、本発明は、上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備し、内部にフォトマスクブランクを収納する容器であって、該容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持することにより、フォトマスクブランクを収納する容器において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が1.96〜117.6Nとなるように上記バネ部材の弾発力を設定したことを特徴とするフォトマスクブランクの収納容器、及び
上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備し、内部にフォトマスクブランクを収納する容器内部でフォトマスクブランクを支持する方法であって、上記容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持する方法において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が1.96〜117.6Nとなるように上記バネ部材の弾発力を設定して支持することを特徴とするフォトマスクブランクの支持方法を提供する。
That is, the present invention comprises a rectangular box-shaped container body that is open at the top, and a lid that covers the upper opening and is detachably attached to the upper end of the container body. A container to be stored, and a synthetic resin support member and a synthetic resin spring member are provided on the inner surfaces of a pair of opposing wall portions of the container, respectively, and the elastic force by which these members press the photomask blank By supporting the two opposite side surfaces of the photomask blank with the two members, the pressing force that the support member and the spring member respectively apply to the both side surfaces of the photomask blank in the container for storing the photomask blank. The photomask blank container and the upper part are open, wherein the spring force of the spring member is set to be 1.96 to 117.6N A rectangular box-shaped container body, and a lid that covers the upper open portion and is detachably attached to the upper end of the container body, and the photomask blank is stored inside the container that houses the photomask blank. A synthetic resin support member and a synthetic resin spring member are provided on the inner surfaces of a pair of opposing walls of the container, respectively, and the elastic force by which these members press the photomask blank is provided. In the method of supporting one side surfaces of the photomask blank facing each other by the two members, the pressing force applied to the both side surfaces of the photomask blank by the support member and the spring member is 1.96 to 117.6 N, respectively. Thus, there is provided a photomask blank supporting method, characterized in that the spring force of the spring member is set and supported.
本発明によれば、欠陥の原因となるパーティクルの発生を可及的に防止してフォトマスクブランクを搬送することができ、欠陥が極めて少ない高精度のフォトマスクブランクを提供することができる。これにより微細なパターンを有するフォトマスクを高精度に形成することができ、微細なパターン露光が可能となる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, generation | occurrence | production of the particle | grains causing a defect can be prevented as much as possible, a photomask blank can be conveyed, and a highly accurate photomask blank with very few defects can be provided. As a result, a photomask having a fine pattern can be formed with high accuracy, and fine pattern exposure is possible.
以下、本発明につき、図面を参照して更に詳しく説明する。
本発明のフォトマスクブランクの収納容器は、上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備し、内部にフォトマスクブランク、好ましくは6インチ(約152.4mm)角のフォトマスクブランク、例えば、石英基板等の樹脂より高硬度の基板に遮光膜等を形成したフォトマスクブランク、特に、上記遮光膜等の上に更にレジスト膜を形成したフォトマスクブランクを収納する容器であって、該容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持することにより、フォトマスクブランクを収納する容器において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が1.96〜117.6Nとなるように上記バネ部材の弾発力を設定したものである。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
The photomask blank storage container of the present invention comprises a rectangular box-shaped container body that is open at the top, and a lid that covers the upper opening and is detachably attached to the upper end of the container body. A photomask blank, preferably a 6-inch (about 152.4 mm) square photomask blank, for example, a photomask blank in which a light-shielding film or the like is formed on a substrate having a hardness higher than that of a resin such as a quartz substrate, particularly the light-shielding film or the like A container for storing a photomask blank on which a resist film is further formed, and provided with a support member made of a synthetic resin and a spring member made of a synthetic resin on the inner surfaces of a pair of wall portions facing each other, These members support one side surfaces of the photomask blank opposite to each other by the elastic force that presses the photomask blank, thereby allowing the photomask blank to In the container for storing the blank, the elastic force of the spring member is set so that the pressing force that the support member and the spring member respectively apply to both side surfaces of the photomask blank is 1.96 to 117.6N. It is.
このような容器としては、例えば、図1〜4に示されるような容器が挙げられる。この容器は、6インチ角のフォトマスクブランクの収納容器を示すものである。この容器1は、内部に支持部材21を備え、上下方向中央部より上部が中央部及び下部より横方向(前後左右方向)に幅広に形成された上方が開放した高さが約4.25インチ(約108.0mm)程度の四角箱形の容器本体11と、内部に2つのバネ部材22,22を備える高さが3.25インチ(約82.6mm)程度の四角箱形の蓋体12とからなる。そして、容器本体11と蓋体12とは、蓋体12を容器本体11に被着させたときに、容器本体11の上部外側面と蓋体12の下部内側面とが接触する大きさに形成されている。
An example of such a container is a container as shown in FIGS. This container represents a 6-inch square photomask blank storage container. The
容器本体11には、その内部から上方へ突出するように、合成樹脂からなる断面凹形状の支持部材21が、その外側面の非突出部分及び底板212の下面と容器本体11の内面とが各々接触するように配設されている。そして、容器本体11の内底面には、支持部材21の外側面の幅方向にその幅で離間する係止突条111,111が設けられており、この係止突条111,111により、支持部材21がその外側面の幅方向に動かないように固定されている。
The
また、この支持部材21の側壁211,211の内側面211a,211aの間隔は6インチより狭く(16mm程度狭く)形成されると共に、内側面211a,211aには、対向する複数組(図の場合は5組)の断面コ字状の溝211c,211cが、内側面211a,211aの上下端に亘って形成されている。更に、この溝211c,211cは、幅がフォトマスクブランクpの厚さより若干広く、また深さが、対向する各々の溝211c,211cの底面の間隔が6インチよりやや広く(0.6mm程度広く)なるように形成されている。
Further, the interval between the
そして、容器1にフォトマスクブランクpを収納する際、フォトマスクブランクpは、フォトマスクブランクpの4隅のうちの隣接する2隅を溝211c,211cに合わせ、溝211c,211cの上端から溝211c,211cにガイドされて挿入される。これにより、フォトマスクブランクpは、溝211c,212cにガイドされて、溝211c,211cの下端において、フォトマスクブランクpの4つの外周面のうち任意の一組の平行面の一方の面全体が、支持部材21の底板212の上面212bに当接するようになっている。
When the photomask blank p is stored in the
一方、蓋体12は、上記容器本体11の上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着され、蓋体12内部には、蓋体12を容器本体11に被着したときに、支持部材21の側壁211,211の上方となる位置に、合成樹脂からなる2つのバネ部材22,22が各々設けられている。このバネ部材22,22は図5に示されるように、上板221と、この上板221の一端から下方に上板221と直交するように設けられた側板222と、上板221と側板222とが交差する位置から上板221とは反対の方向に設けられたフォトマスクブランクpの厚さよりやや幅広で、長さが1インチ程度の複数の支持片223(図の場合は5つ)とからなり、支持片223は上板221の上面に対して角度θ(図5の場合約15°)下方に傾けて配設されている。この場合、2つのバネ部材22,22は、支持片223,223を向かい合わせて、各々の側板222,222の間隔が6インチより広く(2.5mm程度広く)なるようにして、各々の上板221,221の上面を蓋体12の天板の内面に接着させて、蓋体12の内部に取り付けられている。
On the other hand, the
そして、支持片223,223は、蓋体12を容器本体11に被着させたときに、上述した支持部材21に形成された溝211cの上方に各々が位置するように等間隔に形成され、また、この支持片223,223の先端の幅方向両端部には、係止爪223a,223aがフォトマスクブランクpの厚さとほぼ同じ間隔で離間させて、下方に向けて設けられており、蓋体12を容器本体11に被着させたとき、支持部材21の溝211c,211cに挿入されなかった2隅が、この係止爪223a,223aの間に挿入され、係止爪223a,223aによりフォトマスクブランクpの厚さ方向の動きが規制されるようになっている。
The
更に、蓋体12を容器本体11に被着させたときに、このバネ部材22の支持片223は、その下面223bと、上述したフォトマスクブランクpの平行面の他方の面(支持部材21の底板212の上面212bと当接した一方の面に対する他方の面)と当接するようになっており、下面223bの側板222との接合部から支持部材21の底板212の上面212bへの距離がほぼ6インチになるようになっている。
Further, when the
なお、蓋体12の対向する一組の内側面の下端中央部には、蓋体12の内方に向けて各々係止片121,121が設けられており、この係止片121,121は、蓋体12を容器本体11に被着させたときに、容器本体11の幅広に形成された上部の対向する一組の外側面の下端中央部に設けられた係止溝112,112に係合し、蓋体12が容器本体11にロックされて固定されるようになっている。
In addition, locking
次に、フォトマスクブランクを支持して収納する方法について説明する。
まず、上述した容器本体11の支持部材21に、フォトマスクブランクpを、その4隅のうちの隣接する2隅を溝211c,211cに合わせて、溝211c,211cの上端から溝211c,211cに挿入する。次いで、蓋体12を容器本体11に被着させるが、この際、蓋体12に設けられた係止片121,121の間隔は容器本体11上部の外壁よりも狭くなっているため、容器本体11は、蓋体12の係止片121,121の間隔を若干押し広げるようにして蓋体12内部に押し込まれる。
Next, a method for supporting and storing the photomask blank will be described.
First, the photomask blank p is placed on the
容器本体11が更に押し込まれると、フォトマスクブランクpの支持部材21の溝211c,211cに挿入されなかった2つの隅が、各々支持片223,223の各々の先端に設けられた係止爪223a,223a間に挿入されると共に、支持片223,223の下面223b,223bに当接する。この状態から容器本体11が更に押し込まれると、支持片223,223が上方に撓むと共に、フォトマスクブランクpに対して弾発力が生じ、この弾発力によって、収納されたフォトマスクブランクpは、上記支持部材21とバネ部材22,22の支持片223,223とによって、フォトマスクブランクpの互いに対向する一方の両側面で押圧され、挟持されて支持される。
When the
そして、蓋体12の移動端において、バネ部材22の支持片223は、ほぼ水平となり、支持片223の下面223bのほぼ全面がフォトマスクブランクpと当接するようになると共に、蓋体12に設けられた係止片121,121が容器本体11に設けられた係止溝112,112に係合し、蓋体12が容器本体11にロックされて、支持片223の弾発力が固定され、フォトマスクブランクpの互いに対向する一方の両側面が、支持部材21の底板212の上面212bと、支持片223の下面223bとで押圧され、挟持されて支持される。
At the moving end of the
フォトマスクブランクは、上述したような方法により容器に支持されて収納されるが、本発明においては、上述したような、フォトマスクブランクが支持部材とバネ部材とで挟持されて支持された状態において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力(図1〜4に示される容器にフォトマスクブランクpを収納した場合においては、フォトマスクブランクpの外周面が、支持部材21の底板212の上面212b、及びバネ部材22の支持片223の下面223bに当接した部分における押圧力)が1.96〜117.6N、好ましくは1.96〜85N、より好ましくは2〜58.8Nとなるようにバネ部材の弾発力が設定される。このバネ部材の弾発力は、図1〜4に示される容器においては、上述したバネ部材22の支持片223の厚さ、傾斜角度θ、支持部材21の底板212の上面212bと、バネ部材22の支持片223の下面223bとの距離などを調節することにより設定が可能である。
The photomask blank is supported and stored in the container by the method as described above. However, in the present invention, in the state where the photomask blank is sandwiched and supported by the support member and the spring member as described above. The pressing force that the support member and the spring member respectively apply to both side surfaces of the photomask blank (in the case where the photomask blank p is stored in the container shown in FIGS. 1 to 4, the outer peripheral surface of the photomask blank p is The pressing force at the portion of the
押圧力が117.6Nを超えるように設定すると、蓋体を容器本体に被着する際にフォトマスクブランクとバネ部材とが擦れ合った場合、バネ部材の弾発力が強すぎて、硬度の高いフォトマスクブランクが、硬度の低い樹脂を削り取ってしまってパーティクルが発生してしまう。また、過剰な押圧力を与えると、フォトマスクブランクが破損することもある。一方、押圧力が1.96N未満では、支持が不十分であるため、搬送時に、収納されたフォトマスクブランクに与えられる振動等により発生する力によって、フォトマスクブランクが大きく振動してしまい、これにより発塵してかえって欠陥が増加する。場合によっては、レジスト膜に修正不能な致命的なキズを与えてしまうこともある。 If the pressing force is set to exceed 117.6 N, when the photomask blank and the spring member rub against each other when the lid is attached to the container body, the spring member is too elastic and the hardness A high photomask blank scrapes off the low-hardness resin and generates particles. Further, if an excessive pressing force is applied, the photomask blank may be damaged. On the other hand, if the pressing force is less than 1.96 N, the support is insufficient, and the photomask blank vibrates greatly due to the force generated by the vibration applied to the stored photomask blank during transportation. As a result, dust is generated and defects are increased. In some cases, the resist film may be given fatal scratches that cannot be corrected.
なお、本発明の収納容器及び支持方法を好適に適用し得る容器の一例として、図1〜4に示されるような容器を提示したが、本発明の容器及び支持方法を好適に適用し得る容器は、上記図示されたような容器に限定されるものではなく、その構成は、本発明の要旨を変更しない範囲で適宜変更することが可能である。 In addition, although the container as shown in FIGS. 1-4 was shown as an example of the container which can apply the storage container and support method of this invention suitably, the container which can apply the container and support method of this invention suitably Is not limited to the container as illustrated above, and its configuration can be changed as appropriate without departing from the scope of the present invention.
以下、本発明について、更に具体的な実験例を挙げて説明する。 Hereinafter, the present invention will be described with further specific experimental examples.
[実験例]
6インチ角石英基板に70.0nmのクロム遮光膜をスパッタリングにより形成し、更にその上に400.0nmの露光用レジストを塗布したフォトマスクブランクを、図1〜4に示されるような容器に5枚収納し、バネ部材の弾発力を変えることにより、支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力を表1に示される値となるようにバネ部材の弾発力を設定してフォトマスクブランクを支持したものを7個準備し、これらを搬送した。搬送はトラックによる国内輸送であり、輸送距離は約10kmである。
[Experimental example]
A photomask blank, in which a 70.0 nm chromium light-shielding film is formed on a 6-inch square quartz substrate by sputtering, and a 400.0 nm exposure resist is coated thereon, is placed in a container as shown in FIGS. The elastic force of the spring member is adjusted so that the pressing force that the support member and the spring member respectively apply to both side surfaces of the photomask blank becomes the values shown in Table 1 by storing the sheets and changing the elastic force of the spring member. 7 were prepared to support the photomask blank, and these were conveyed. The transportation is domestic transportation by truck, and the transportation distance is about 10 km.
この場合、フォトマスクブランクと支持部材とが当接した部分の面積は、フォトマスクブランクの外周面の任意の一面に相当し、約9.68×10-4m2である。なお、支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力は、容器本体にフォトマスクブランクを収納し、蓋体を容器本体に被着して容器を閉止する操作を、重量計に積載した状態で実施し、この閉止操作に要した力を上記重量計による測定値から求める方法で測定した。 In this case, the area of the portion where the photomask blank and the support member are in contact corresponds to any one of the outer peripheral surfaces of the photomask blank and is about 9.68 × 10 −4 m 2 . In addition, the pressing force that the support member and the spring member respectively apply to both side surfaces of the photomask blank is an operation of storing the photomask blank in the container body, attaching the lid to the container body, and closing the container. The measurement was carried out in a state of being loaded on a meter, and the force required for this closing operation was measured by a method for obtaining from the measured value by the above-mentioned weigh scale.
各々の容器に収納されていたフォトマスクブランク上の、輸送前後の0.2〜1.0μm径のパーティクル数をArFレーザー光走査型欠陥検査装置により計数し、そのパーティクル(欠陥)増加数を平均した値を表1に、押圧力に対して欠陥増加数の平均値をプロットしたグラフを図6に示す。 The number of particles with a diameter of 0.2 to 1.0 μm before and after transportation on the photomask blank stored in each container was counted by an ArF laser beam scanning defect inspection apparatus, and the number of increase in the number of particles (defects) was averaged. Table 1 shows the measured values, and FIG. 6 shows a graph in which the average number of defect increases is plotted against the pressing force.
押圧力が1.96N未満である押圧力が1Nの場合、輸送後のフォトマスクブランクは、輸送時に、十分に支持されていなかったために、フォトマスクブランクが容器内でがたついて、これにより発塵したため欠陥が増加した。 When the pressing force is less than 1.96 N and the pressing force is 1 N, the photomask blank after transportation is not sufficiently supported at the time of transportation. Increased defects due to dust.
1 容器
11 容器本体
12 蓋体
21 支持部材
22 バネ部材
223 支持片
p フォトマスクブランク
DESCRIPTION OF
Claims (2)
A rectangular box-shaped container body that is open at the top, and a lid that covers the upper opening and is detachably attached to the upper end of the container body. A method for supporting a mask blank, wherein a synthetic resin support member and a synthetic resin spring member are respectively provided on the inner surfaces of a pair of opposing wall portions of the container, and these members press the photomask blank. In the method in which one side surfaces of the photomask blank facing each other are supported by the two members by the generated force, the pressing force that the support member and the spring member respectively apply to both side surfaces of the photomask blank is 1.96 to 117. A method for supporting a photomask blank, comprising setting and supporting the elastic force of the spring member so as to be 6N.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004084954A JP2005274724A (en) | 2004-03-23 | 2004-03-23 | Storage container for photomask blank and its supporting method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004084954A JP2005274724A (en) | 2004-03-23 | 2004-03-23 | Storage container for photomask blank and its supporting method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005274724A true JP2005274724A (en) | 2005-10-06 |
Family
ID=35174500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004084954A Pending JP2005274724A (en) | 2004-03-23 | 2004-03-23 | Storage container for photomask blank and its supporting method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005274724A (en) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0282040U (en) * | 1988-12-15 | 1990-06-25 | ||
JPH0381945U (en) * | 1989-12-12 | 1991-08-21 | ||
JPH09328188A (en) * | 1996-06-12 | 1997-12-22 | Hitachi Ltd | Container case for substrate |
JP2004010110A (en) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Jsp Corp | Box for carrying substrate |
JP2004018021A (en) * | 2002-06-17 | 2004-01-22 | Sano Fuji Koki Co Ltd | Spacer for storing glass dry plate |
-
2004
- 2004-03-23 JP JP2004084954A patent/JP2005274724A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0282040U (en) * | 1988-12-15 | 1990-06-25 | ||
JPH0381945U (en) * | 1989-12-12 | 1991-08-21 | ||
JPH09328188A (en) * | 1996-06-12 | 1997-12-22 | Hitachi Ltd | Container case for substrate |
JP2004010110A (en) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Jsp Corp | Box for carrying substrate |
JP2004018021A (en) * | 2002-06-17 | 2004-01-22 | Sano Fuji Koki Co Ltd | Spacer for storing glass dry plate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4690471B2 (en) | How to use a removable cover to protect the reticle | |
TWI455180B (en) | Mask blank substrate, mask blank, exposure mask, mask blank substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, exposure mask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method | |
TWI313029B (en) | Writing method and writing apparatus of charged particle beam, positional deviation measuring method, and position measuring apparatus | |
TWI440968B (en) | Methods of manufacturing a substrate for a mask blank, a mask blank, a photomask and a semiconductor device | |
TWI758608B (en) | Information processing apparatus, judgement method, program, lithography system, and manufacturing method of article | |
JP5085966B2 (en) | Photomask blank manufacturing method, reflective mask blank manufacturing method, photomask manufacturing method, and reflective mask manufacturing method | |
KR20170114995A (en) | Substrate container with window retention spring | |
CN106933026A (en) | Photomask and photomask base plate and its manufacture method, photomask blank, display device manufacturing method | |
KR101848950B1 (en) | Mask blank storing case and mask blank package | |
TW201600920A (en) | Phase defect evaluation method for EUV mask, method for manufacturing EUV mask, EUV mask blank, and EUV mask | |
TWI686666B (en) | Substrate container | |
JP2005274724A (en) | Storage container for photomask blank and its supporting method | |
JPH09148219A (en) | Wafer adapter | |
JP2010072420A (en) | Photomask case | |
JP5410654B2 (en) | Photomask blank manufacturing method, reflective mask blank manufacturing method, photomask manufacturing method, and reflective mask manufacturing method | |
JP6253269B2 (en) | Lithographic apparatus, lithographic method, and article manufacturing method using the same | |
JP4819191B2 (en) | Mask blank substrate, mask blank, photomask, and semiconductor device manufacturing method | |
Jonckheere et al. | Correlation of actinic blank inspection and experimental phase defect printability on NXE3x00 EUV scanner | |
JP3713497B2 (en) | Attitude control mechanism and exposure method for pellicle structure | |
JP2005321532A (en) | Circuit board case | |
TWI486579B (en) | Detection apparatus, lithography apparatus, method of manufacturing article, and detection method | |
US7251015B2 (en) | Photolithography mask critical dimension metrology system and method | |
JP5818861B2 (en) | Mask blank, method of manufacturing the same, and mask | |
JP4334992B2 (en) | PCB storage case | |
Gallagher et al. | EUV masks: ready or not? |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080813 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090121 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090603 |