JP2005254098A - Optical film forming method and optical article manufactured thereby - Google Patents

Optical film forming method and optical article manufactured thereby Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film forming method capable of forming an uniform optical film not having appearance failure such as discoloration, streak irregularity and the like, and an optical article manufactured thereby. <P>SOLUTION: In the optical film forming method for discharging the optical film forming composition, which contains a polymerizable organic compound, inorganic fine particles and water and an organic solvent as a solvent, to an object to be coated from an ink jet head group including one or a plurality of ink jet heads forming one or a plurality of nozzle rows to coat the same and the coated optical film forming composition is cured to form the optical film, the dots of the optical film forming compositions applied to the object to be coated are formed in the relation of P<SB>Y</SB><SP>2</SP>≤D<SP>2</SP>-P<SB>X</SB><SP>2</SP>, wherein the dot pitch in a sub-scanning direction is set to P<SB>X</SB>μm, the dot pitch in a main scanning direction is set to P<SB>Y</SB>μm and the diameter of the dot applied to the object to be coated is set to D μm so that the adjacent dots in two directions crossing at a right angle are overlapped without forming a gap. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、被塗布物に光学被膜を形成できる光学被膜の形成方法及びその方法で形成された光学物品に関し、詳細には、重合性有機化合物、無機微粒子、並びに溶媒として水及び有機溶剤を含有する光学被膜形成用組成物をインクジェット方式で被塗布物に吐出して塗布し、塗布した光学被膜形成用組成物を硬化させて光学被膜を形成する光学被膜の形成方法及びその方法で製造された光学物品に関する。   The present invention relates to a method for forming an optical film capable of forming an optical film on an object to be coated and an optical article formed by the method, and in particular, contains a polymerizable organic compound, inorganic fine particles, and water and an organic solvent as a solvent. An optical film forming composition for forming an optical film by discharging and applying an optical film forming composition to an object to be coated by an ink jet method and curing the applied optical film forming composition, and the method The present invention relates to an optical article.

プラスチックレンズや携帯機器の表示装置を保護する有機カバーガラス等のプラスチック製の光学物品では、ガラス製のものと比べて傷が付きやすいため、ハードコート膜を形成し、耐擦傷性を与えることが行われる。このハードコート膜は、耐擦傷性の付与の他、反射防止膜などの蒸着膜との密着性向上、染色性の安定化等多くの機能を付与する加工であるため、プラスチック製の光学物品では極めて有用である。   Plastic optical articles such as organic cover glasses that protect display devices for plastic lenses and portable devices are more likely to be scratched than those made of glass, so a hard coat film can be formed to give scratch resistance. Done. In addition to imparting scratch resistance, this hard coat film is a process that imparts many functions such as improved adhesion to deposited films such as an antireflection film, stabilization of dyeability, etc. Very useful.

ハードコート膜の形成方法としては、液状のハードコーティング用組成物(以下、ハードコート液と略称する場合がある)を光学物品に均一に塗布し、その後硬化させるのが一般的である。ハードコート液を光学物品に均一に塗装できる方法として、スピンコート法とディッピング(浸漬)法が知られている。   As a method for forming a hard coat film, it is common to uniformly apply a liquid hard coating composition (hereinafter sometimes abbreviated as a hard coat liquid) to an optical article, and then cure the composition. As a method for uniformly coating a hard coat liquid on an optical article, a spin coating method and a dipping (immersion) method are known.

スピンコート法では、光学物品を高速回転させつつ表面に液滴を滴下し、遠心力で液膜を塗り広げる。   In the spin coating method, droplets are dropped on the surface while rotating an optical article at a high speed, and a liquid film is spread by centrifugal force.

ディッピング法は、光学物品を治具で保持し、ハードコート液中に浸漬、放置後、引き上げることによりハードコート液膜を形成する。   In the dipping method, a hard coat liquid film is formed by holding an optical article with a jig, immersing it in a hard coat liquid, leaving it, and then pulling it up.

ハードコート液を塗布後、乾燥・焼成工程で液膜の乾燥と硬化を行ってハードコート膜を光学物品表面に形成する。   After the hard coat liquid is applied, the liquid film is dried and cured in a drying / firing process to form a hard coat film on the surface of the optical article.

しかしながら、スピンコート法では、滴下したハードコート液の大部分を高速回転による振り切り工程で廃棄してしまう。この廃棄物の回収、再利用も考えられるが、不純物の混入や回収設備の設置による装置コスト上昇等の問題がある。   However, in the spin coat method, most of the dropped hard coat solution is discarded in the swing-off process by high-speed rotation. Although recovery and reuse of this waste can be considered, there are problems such as contamination of impurities and an increase in equipment cost due to installation of recovery equipment.

一方、ディッピング法では、多数の光学物品とこれを保持する治具の両方を浸漬できうる大型の浸漬槽と駆動設備が必要になる。また、このような大型の浸漬槽に入ったハードコート液を維持管理するためには、攪拌、フィルタリング、冷却、空調等様々な付帯設備が必要となる。よって必然的に装置は大型化し、コンパクト性が失われると同時に、多くの電力エネルギーを必要とする。さらには、揮発成分の補充、ハードコート液の補充等、繁雑な日常の液管理が必要となる。かつ、ハードコート液を長時間使用すると、液が劣化して耐久品質が低下するため、その時点で液を大量に廃棄しなければならない。   On the other hand, the dipping method requires a large immersion tank and driving equipment capable of immersing both a large number of optical articles and a jig for holding the optical article. Further, in order to maintain and manage the hard coat liquid contained in such a large immersion tank, various incidental facilities such as stirring, filtering, cooling, and air conditioning are required. Therefore, the size of the apparatus is inevitably increased, and the compactness is lost. At the same time, a large amount of power energy is required. Furthermore, complicated daily liquid management such as replenishment of volatile components and hard coat liquid is required. In addition, when the hard coat liquid is used for a long time, the liquid deteriorates and the durability quality deteriorates. Therefore, a large amount of liquid must be discarded at that time.

以上のように、スピンコート法及びディッピング法では、ハードコート液の利用効率が低い。その一方で、光学物品の高機能化のためハードコート液自体の価格は上昇しており、表面処理工程におけるハードコート液のコストが占める割合が大きくなっている。そのため、ハードコート液の有効利用が強く求められている。   As described above, in the spin coating method and the dipping method, the utilization efficiency of the hard coating solution is low. On the other hand, the price of the hard coat liquid itself is increasing for higher functionality of the optical article, and the ratio of the cost of the hard coat liquid in the surface treatment process is increasing. Therefore, the effective use of the hard coat liquid is strongly demanded.

そこで、ハードコート液の利用効率を向上させるコーティング技術として、インクジェット方式が提案されている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。インクジェット方式による塗布方法は、処理液体を微小なノズルから液滴として吐出するものである。インクジェット方式では、装置を小型化できる上、少ない電力で塗布でき、さらに、処理液体の利用効率が高いことから、生産コストを低減できるとともに、溶剤使用量の低減、廃棄物の低減等、環境対策の進歩が期待できる。   Therefore, an ink jet method has been proposed as a coating technique for improving the utilization efficiency of the hard coat liquid (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). The application method by the ink jet method is a method in which a treatment liquid is ejected as droplets from a minute nozzle. Inkjet system can be downsized, can be applied with less power, and the use efficiency of processing liquid is high, so it can reduce production cost and environmental measures such as reduction of solvent usage and waste. Can be expected.

特開2003−126770号公報JP 2003-126770 A 国際公開WO00/67051号International publication WO00 / 67051

しかしながら、プラスチックレンズ等の被塗布物に対してインクジェットヘッド方式によりハードコート膜を形成する際、被塗布物に対して着弾したハードコート液のドット同士の重なりがないと、抜けやスジムラ等が発生して均一なハードコート膜を形成できないため、ハードコート膜の外観不良が発生するという問題がある。   However, when a hard coat film is formed on an object to be coated such as a plastic lens by the inkjet head method, if the dots of the hard coat liquid that have landed on the object to be coated do not overlap with each other, omission or unevenness occurs. As a result, a uniform hard coat film cannot be formed, resulting in a problem that the appearance of the hard coat film is poor.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、抜けやスジムラ等のない均一で外観不良のない光学被膜を形成することが可能な光学被膜の形成方法およびその方法で製造された光学物品を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and a method for forming an optical coating capable of forming a uniform optical coating free from defects or unevenness and free from appearance defects, and an optical article manufactured by the method. The purpose is to provide.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、重合性有機化合物、無機微粒子、並びに溶媒として水及び有機溶剤を含有する光学被膜形成用組成物を、1又は複数のノズル列が形成されたインクジェットヘッドを1又は複数含むインクジェットヘッド群から被塗布物に対してドット状に吐出して塗布し、塗布した光学被膜形成用組成物を硬化させて光学被膜を形成する光学被膜の形成方法において、前記被塗布物に塗布される光学被膜形成用組成物のドットは、直交する2方向の隣接ドットが互いに隙間無く重なり合うように、副走査方向のドットピッチをPXμm、主走査方向のドットピッチをPYμm、前記被塗布物に着弾した際のドットの直径をDμmとした場合、PY 2≦D2−PX 2の関係になるように形成されることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present invention provides a composition for forming an optical film containing a polymerizable organic compound, inorganic fine particles, and water and an organic solvent as a solvent. An optical coating for forming an optical coating by ejecting and applying dots in a dot shape from an inkjet head group including one or a plurality of inkjet heads on which the coating is formed to cure the applied optical coating forming composition In the forming method, the dots of the composition for forming an optical film applied to the object to be coated have a dot pitch in the sub-scanning direction of P X μm and main scanning so that adjacent dots in two orthogonal directions overlap each other without any gap. the direction of the dot pitch P Y [mu] m, the case of the Dμm the diameter of the dot when landed on the coating object, to be formed such that the relationship of P Y 2 ≦ D 2 -P X 2 And butterflies.

これにより、前記被塗布物に塗布される光学被膜形成用組成物のドットは、直交する2方向の隣接ドットが互いに隙間無く重なり合うように、光学被膜形成用組成物のドットを被塗布物に塗布しているので、抜けやスジムラ等のない均一な光学被膜の塗膜を形成することができる。この結果、抜けやスジムラ等のない均一で外観不良のない光学被膜の形成方法を提供することが可能となる。   Thereby, the dots of the optical film forming composition applied to the object to be coated are applied to the objects to be coated such that adjacent dots in two orthogonal directions overlap each other without any gap. Therefore, it is possible to form a uniform optical coating film that is free from omission or unevenness. As a result, it is possible to provide a method of forming an optical film that is uniform and free from defects in appearance, such as no omissions or stripes.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記光学被膜形成用組成物は、前記被塗布物に重ね塗りされることが望ましい。これにより、所望の膜厚の光学被膜を形成することが可能となる。   Moreover, according to a preferable aspect of the present invention, it is desirable that the composition for forming an optical film is overcoated on the object to be coated. Thereby, it becomes possible to form an optical film having a desired film thickness.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記インクジェットヘッド群は、主走査方向に対してそのノズル列が直交方向または斜め方向に配置されることが望ましい。これにより、光学被膜形成用組成物を被塗布物に塗布する場合に、効率的かつ高密度の塗布を行うことが可能となる。   According to a preferred aspect of the present invention, it is desirable that the nozzle row of the inkjet head group is arranged in an orthogonal direction or an oblique direction with respect to the main scanning direction. Thereby, when apply | coating the composition for optical film formation to a to-be-coated object, it becomes possible to perform efficient and high-density application | coating.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記光学被膜形成用組成物は、ハードコート膜を形成するためのハードコーティング用組成物であることが望ましい。これにより、ノズルムラや改行ムラ等がなく、外観不良のないハードコート膜を形成することが可能となる。   Moreover, according to a preferable aspect of the present invention, the optical film-forming composition is preferably a hard coating composition for forming a hard coat film. As a result, it is possible to form a hard coat film that is free from nozzle unevenness, line feed unevenness, and the like and has no appearance defects.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記有機溶剤が、水9に対して1の重量比で薄めた水溶液の前記被塗布物の前記ハードコーティング用組成物を塗布する表面に対する接触角θが30°以下である接触角低下溶剤を含有することが望ましい。これにより、ハードコーティング組成物がノズルから微小液滴として吐出されて被塗布物に着弾したときに被塗布物によってはじかれることなく均一な塗膜を形成することが可能となる。   Further, according to a preferred aspect of the present invention, the contact angle θ of the organic solvent with respect to the surface to which the hard coating composition is applied of the coated object in an aqueous solution diluted with a weight ratio of 1 to the water 9 is set. It is desirable to contain a contact angle reducing solvent that is 30 ° or less. As a result, when the hard coating composition is ejected as fine droplets from the nozzle and landed on the coating object, a uniform coating film can be formed without being repelled by the coating object.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記接触角低下溶剤が、水と相溶性があり、沸点が135℃以上の溶剤であることが望ましく、特に、セロソルブ類であることが望ましい。   Further, according to a preferred embodiment of the present invention, the contact angle reducing solvent is preferably a solvent that is compatible with water and has a boiling point of 135 ° C. or higher, and in particular, cellosolves.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記光学被膜形成用組成物は、反射防止膜を形成するための反射防止膜用コーティング組成物であることが望ましい。これにより、ノズルムラや改行ムラ等がなく、外観不良のない反射防止膜を形成することが可能となる。   Moreover, according to a preferable aspect of the present invention, it is desirable that the composition for forming an optical film is a coating composition for an antireflection film for forming an antireflection film. As a result, it is possible to form an antireflection film that is free from nozzle irregularities, line feed irregularities, and the like and has no appearance defects.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記有機溶剤が、水9に対して1の重量比で薄めた水溶液の前記被塗布物の前記低屈折率コーティング用組成物を塗布する表面に対する接触角θが40°以下である接触角低下溶剤を含有することが望ましい。   Further, according to a preferred aspect of the present invention, the contact angle of the organic solvent with respect to the surface on which the low refractive index coating composition is applied to the coated object in an aqueous solution diluted with a weight ratio of 1 to water 9. It is desirable to contain a contact angle reducing solvent having θ of 40 ° or less.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記接触角低下溶剤が、水と相溶性があり、沸点が110℃以上の溶剤であることが望ましい。これにより、反射防止膜用コーティング組成物がノズルから微小液滴として吐出されて被塗布物に着弾したときに被塗布物によってはじかれることなく均一な塗膜を形成することが可能となる。   According to a preferred aspect of the present invention, it is desirable that the contact angle reducing solvent is a solvent having a compatibility with water and a boiling point of 110 ° C. or higher. Thereby, when the coating composition for an antireflection film is ejected as fine droplets from the nozzle and landed on the coating object, a uniform coating film can be formed without being repelled by the coating object.

また、本発明の好ましい態様によれば、前記接触角低下溶剤が、水と相溶性があり、沸点が110℃以上の溶剤であることが望ましく、特に、アルコール類であることが望ましい。   Further, according to a preferred aspect of the present invention, the contact angle reducing solvent is preferably a solvent that is compatible with water and has a boiling point of 110 ° C. or higher, and particularly preferably an alcohol.

また、本発明の好ましい態様によれば、光学物品は本発明の光学被膜の形成方法で製造されることが望ましい。これにより、ノズルムラや改行ムラ等の外観不良のない光学被膜が形成された光学物品を提供することが可能となる。   According to a preferred aspect of the present invention, the optical article is preferably manufactured by the method for forming an optical coating of the present invention. As a result, it is possible to provide an optical article on which an optical coating without appearance defects such as nozzle unevenness and line feed unevenness is formed.

以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの或いは実質的に同一のものが含まれる。本明細書において、光学被膜とは、光学基材上に形成されるハードコート膜、有機AR膜(反射防止膜)、プライマー膜、および防汚膜等の光学用の被膜を言う。また、インクジェットヘッド群とは、1または複数のインクジェットヘッドを纏めたものを言う。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the embodiments. In addition, constituent elements in the following embodiments include those that can be easily assumed by those skilled in the art or those that are substantially the same. In this specification, the optical coating means an optical coating such as a hard coat film, an organic AR film (antireflection film), a primer film, and an antifouling film formed on an optical substrate. The inkjet head group is a group of one or a plurality of inkjet heads.

本発明に係る光学被膜の形成方法およびその方法で製造された光学物品の好適な実施例を、[光学レンズの構造例]、[インクジェットヘッド]、[ハードコーティング組成物]、[ハードコート膜の形成の実験例]、[反射防止膜用コーティング組成物]、[反射防止膜の形成の実施例]の順に詳細に説明する。   Preferred embodiments of the optical film forming method and the optical article produced by the method according to the present invention include [Structural Example of Optical Lens], [Inkjet Head], [Hard Coating Composition], and [Hard Coat Film]. Examples of formation], [Coating composition for antireflection film], [Example of formation of antireflection film] will be described in detail in this order.

[光学レンズの構造例]
図1は、本実施例に係る光学レンズ1の構造例の一例を示す図である。同図において、11はプラスチックレンズ基材、12はプライマー膜、13はハードコート膜、14は反射防止膜(有機AR膜)、15は防汚膜を示している。
[Structure example of optical lens]
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a structure example of the optical lens 1 according to the present embodiment. In the figure, 11 is a plastic lens substrate, 12 is a primer film, 13 is a hard coat film, 14 is an antireflection film (organic AR film), and 15 is an antifouling film.

本発明の光学被膜の形成方法は、被塗布物に光学被膜形成用組成物を塗布し、塗布した光学被膜形成用組成物を硬化させて光学被膜を形成するものである。   In the method for forming an optical coating of the present invention, an optical coating composition is applied to an object to be coated, and the applied optical coating forming composition is cured to form an optical coating.

本発明の光学被膜の形成方法の対象となる被塗布物としては、耐擦傷性が必要なものであれば、全て適用可能であり、例えば、眼鏡レンズ、調光用レンズ、サングラス、カメラレンズ、望遠鏡レンズ、拡大鏡レンズ、プロジェクターレンズ、ピックアップレンズ、マイクロレンズ等の各種光学レンズおよび光学ミラー、光学フィルター、半導体露光用のステッパー、携帯機器の有機カバーガラス等の光学物品に適用することができる。   As an object to be coated in the method for forming an optical coating of the present invention, any material that requires scratch resistance is applicable. For example, a spectacle lens, a light control lens, sunglasses, a camera lens, The present invention can be applied to optical articles such as telescope lenses, magnifier lenses, projector lenses, pickup lenses, microlenses, and other optical lenses and optical mirrors, optical filters, steppers for semiconductor exposure, and organic cover glasses for portable devices.

被塗布物の材質としては、特に制限されず、ABS樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、メタクリル樹脂、チオウレタン系樹脂、チオエポキシ樹脂、アリルカーボネート樹脂等、光学物品に用いられている樹脂を例示することができる。   The material of the object to be coated is not particularly limited, and examples thereof include resins used in optical articles such as ABS resin, polycarbonate, polystyrene, polyethylene terephthalate, methacrylic resin, thiourethane resin, thioepoxy resin, and allyl carbonate resin. be able to.

本発明では、光学被膜を形成するための光学被膜形成用組成物の塗布方法として、必要量を被塗布物の必要な場所にだけ塗布できるインクジェット方式を使用している。以下では、光学被膜の形成方法として、インクジェット方式によるハードコート膜と反射防止膜の形成方法を例示して説明する。   In the present invention, as an application method of the composition for forming an optical film for forming an optical film, an ink jet method capable of applying a necessary amount only to a required place of an object to be coated is used. Hereinafter, as a method for forming an optical coating, a method for forming a hard coat film and an antireflection film by an inkjet method will be described as an example.

[インクジェットヘッド]
インクジェット方式は、10〜100μm径の微小なノズル開口部と圧力発生素子とが設けられた圧力室にインクが充填され、圧力発生素子を電子的に制御することによって圧力室内のインクを加圧し、その圧力で、ノズル開口部からインクを微小な液滴として吐出するものである。
[Inkjet head]
The ink jet system is filled with ink in a pressure chamber provided with a fine nozzle opening with a diameter of 10 to 100 μm and a pressure generating element, and pressurizes the ink in the pressure chamber by electronically controlling the pressure generating element. With that pressure, the ink is ejected as fine droplets from the nozzle opening.

圧力発生素子の種類により、ピエゾ素子による圧電振動子を用いたピエゾ方式や、発熱素子を用い、インクを加熱して気泡を発生させ、その圧力を利用するいわゆるバブルジェット(登録商標)方式など、種々の方式がある。本発明では、いずれのインクジェット方式も用いることができる。   Depending on the type of pressure generating element, a piezo method using a piezoelectric vibrator by a piezo element, a so-called bubble jet (registered trademark) method that uses a heating element to generate bubbles by heating ink and using the pressure, etc. There are various methods. In the present invention, any ink jet method can be used.

図2は、ピエゾ方式のインクジェットヘッド20の部分構造を示す図である。ピエゾ方式のインクジェットヘッド20は、ピエゾ素子によって液室を圧縮し、その圧力で液滴(液状材料)を吐出させるものであり、一列又は複数列に等間隔で配列された複数のノズル(ノズル孔)を有している。図2−1はインクジェットヘッド20の分解斜視図、図2−2は、インクジェットヘッド20の断面図である。   FIG. 2 is a diagram showing a partial structure of the piezo-type inkjet head 20. The piezo-type inkjet head 20 compresses a liquid chamber with a piezo element and discharges liquid droplets (liquid material) with the pressure, and includes a plurality of nozzles (nozzle holes) arranged at equal intervals in one or more rows. )have. FIG. 2A is an exploded perspective view of the inkjet head 20, and FIG. 2B is a cross-sectional view of the inkjet head 20.

図2−1および図2−2に示すように、インクジェットヘッド20は、例えばステンレス製のノズルプレート21と振動板22とを備え、仕切り部材(リザーバプレート)23を介して両者を接合したものである。ノズルプレート23と振動板22との間には、仕切り部材によって複数の空間24と液溜まり25とが形成されている。各空間24と液溜まり25の内部は塗布液30(図示せず)で満たされており、各空間24と液溜まり25とは供給口26を介して連通したものとなっている。塗布液30としては、例えば、光学被膜形成用組成物を使用することができる。また、ノズルプレート21には、各空間24から塗布液30を噴射するための微小孔のノズル27が形成されている。一方、振動板22には、液溜まり25に塗布液30を供給するための孔27aが形成されている。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the inkjet head 20 includes a nozzle plate 21 made of, for example, stainless steel and a vibration plate 22, which are joined together via a partition member (reservoir plate) 23. is there. A plurality of spaces 24 and a liquid reservoir 25 are formed between the nozzle plate 23 and the diaphragm 22 by a partition member. Each space 24 and the liquid reservoir 25 are filled with a coating solution 30 (not shown), and each space 24 and the liquid reservoir 25 communicate with each other through a supply port 26. As the coating liquid 30, for example, a composition for forming an optical film can be used. In addition, the nozzle plate 21 is formed with minute hole nozzles 27 for ejecting the coating liquid 30 from the spaces 24. On the other hand, a hole 27 a for supplying the coating liquid 30 to the liquid reservoir 25 is formed in the vibration plate 22.

振動板22の空間に対向する面と反対側の面上には、図2−1および図2−2に示すように、圧電素子(ピエゾ素子)28が接合されている。この圧電素子28は、図2−2に示すように、一対の電極29,29の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するように撓曲するようになっている。そして、このような構成のもとに圧電素子28が接合されている振動板22は、圧電素子28と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間24の内部容積が増大するようになっている。したがって、空間24内に増大した容積分に相当する塗布液30が液溜まり25から供給口26を介して流入する。また、このような状態から圧電素子28への通電を解除すると、圧電素子28と振動板22とは共に元の形状に戻る。したがって、空間24も元の容積に戻ることから、空間内部の塗布液30の圧力が上昇し、ノズル27から被塗布物に向けて塗布液30のドット状液滴が吐出される。   A piezoelectric element (piezo element) 28 is bonded to the surface of the diaphragm 22 opposite to the surface facing the space, as shown in FIGS. 2-1 and 2-2. As shown in FIG. 2B, the piezoelectric element 28 is positioned between a pair of electrodes 29, 29, and is bent so that when it is energized, it projects outward. The diaphragm 22 to which the piezoelectric element 28 is bonded in such a configuration is integrated with the piezoelectric element 28 and bends outward at the same time, whereby the internal volume of the space 24 is increased. Is increasing. Accordingly, the coating liquid 30 corresponding to the increased volume in the space 24 flows from the liquid reservoir 25 through the supply port 26. Further, when the energization to the piezoelectric element 28 is released from such a state, both the piezoelectric element 28 and the diaphragm 22 return to their original shapes. Therefore, since the space 24 also returns to its original volume, the pressure of the coating liquid 30 inside the space increases, and dot-like droplets of the coating liquid 30 are ejected from the nozzle 27 toward the object to be coated.

かかる構成のインクジェットヘッド20においては、ノズル27で塗布液30(インク)が増粘したり、乾燥すると、ノズル27が目詰まりして安定吐出ができなくなる。吐出される塗布液30として光学被膜形成用組成物を用いる場合、このような安定吐出性に加えて、被塗布物の表面に着弾した微小液滴が集合して均一な塗膜を形成する均一塗布性が必要である。吐出された微小液滴が被塗布物の光学物品の表面で均一な塗膜を形成できないと、光学性能に悪影響があるため、光学被膜として好ましくない。   In the inkjet head 20 having such a configuration, when the coating liquid 30 (ink) is thickened by the nozzle 27 or dried, the nozzle 27 is clogged and stable ejection cannot be performed. When the composition for forming an optical film is used as the coating liquid 30 to be ejected, in addition to such stable ejection properties, a uniform coating film is formed in which fine droplets that have landed on the surface of the object to be coated gather. Applicability is required. If the discharged fine droplets cannot form a uniform coating film on the surface of the optical article to be coated, the optical performance is adversely affected, which is not preferable as an optical coating film.

そのため、インクジェットヘッド用の光学被膜形成用組成物は、ノズルで目詰まりを生じにくい吐出性と被塗布物表面で均一な塗膜を形成できる塗布性を両立させる必要がある。インクジェットヘッド用の光学被膜形成用組成物は、その詳細は後述するが、スピンコート法やディッピング法に用いられている光学被膜形成用組成物と同様に、光学被膜を形成するために、重合性有機化合物、無機微粒子、並びに溶媒として水及び有機溶剤を含有する。   Therefore, the composition for forming an optical film for an ink-jet head needs to satisfy both the discharge property that is less likely to cause clogging with a nozzle and the coating property that can form a uniform coating film on the surface of the coating object. The details of the composition for forming an optical film for an ink jet head will be described later. However, in order to form an optical film as in the case of the composition for forming an optical film used in the spin coating method and the dipping method, the composition is polymerizable. It contains water and an organic solvent as an organic compound, inorganic fine particles, and a solvent.

本発明では、光学被膜形成用組成物をインクジェット方式で被塗布物に塗布する場合に、単一のインクジェットヘッドを使用する場合と、複数のインクジェットヘッドを使用する場合とがあるので、1または複数のインクジェットヘッドを纏めてインクジェットヘッド群と称する。   In the present invention, when the composition for forming an optical film is applied to an object to be coated by an inkjet method, there are a case where a single inkjet head is used and a case where a plurality of inkjet heads are used. These inkjet heads are collectively referred to as an inkjet head group.

図3は、インクジェットヘッド群100の配列パターンの一例を説明するためのその一部を示す底面図である。インクジェットヘッド群100の配置パターンとしては、図3に示すように、(1)1ヘッド水平タイプ(図3−1参照)、(2)2ヘット水平ワイドタイプ(図3−2参照)、(3)2ヘッド水平高密度タイプ(図3−3参照)、(4)1ヘッド回転タイプ(図3−4参照)、(5)2ヘッド回転タイプ(図3−5参照)等がある。ここで、水平タイプとは、インクジェットヘッド20のノズル列が、主走査方向(Y軸方向)に対して直交方向(X軸方向)に配置されるものをいう。回転タイプとは、インクジェットヘッド20のノズル列が、主走査方向(Y軸方向)に対して斜め方向に配置されるものをいう。なお、本発明のインクジェットヘッド群100の配列パターンはこれに限られるものではなく、上記(1)〜(5)のインクジェットヘッド群を複数配置した構成としても良い。   FIG. 3 is a bottom view illustrating a part of the arrangement pattern for explaining the arrangement pattern of the inkjet head group 100. As the arrangement pattern of the inkjet head group 100, as shown in FIG. 3, (1) 1 head horizontal type (see FIG. 3-1), (2) 2 head horizontal wide type (see FIG. 3-2), (3 2 head horizontal high density type (see FIG. 3-3), (4) 1 head rotation type (see FIG. 3-4), (5) 2 head rotation type (see FIG. 3-5), and the like. Here, the horizontal type means that the nozzle row of the inkjet head 20 is arranged in the orthogonal direction (X-axis direction) with respect to the main scanning direction (Y-axis direction). The rotation type means that the nozzle row of the inkjet head 20 is arranged in an oblique direction with respect to the main scanning direction (Y-axis direction). Note that the arrangement pattern of the inkjet head group 100 of the present invention is not limited to this, and a plurality of inkjet head groups (1) to (5) may be arranged.

図3−1〜図3−5において、インクジェットヘッド群100のX軸方向(副走査方向)のノズルピッチNPXは、インクジェットヘッド群100におけるノズルの全てをY軸方向(主走査方向=スキャン方向)に沿ってX軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。インクジェットヘッド群100が単一タイプ(1ヘッド水平タイプ(図3−1参照)、1ヘッド回転タイプ(図3−4参照))の場合には、インクジェットヘッド群100のX軸方向のノズルピッチNPXは、1つのインクジェットヘッド20におけるノズルの全てをY軸方向に沿ってX軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。他方、インクジェットヘッド群100が2ヘッドタイプ(2ヘット水平ワイドタイプ(図3−2参照)、2ヘッド水平高密度タイプ(図3−3参照)、2ヘッド回転タイプ(図3−5参照))の場合には、インクジェットヘッド群100のX軸方向のノズルピッチNPXは、2つのインクジェットヘッド20におけるノズルの全てをY軸方向に沿ってX軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。   3A to 3E, the nozzle pitch NPX in the X-axis direction (sub-scanning direction) of the inkjet head group 100 is the same for all the nozzles in the inkjet head group 100 in the Y-axis direction (main scanning direction = scanning direction). This corresponds to the pitch between the plurality of nozzle images obtained by projecting on the X axis along the line. When the inkjet head group 100 is a single type (one head horizontal type (see FIG. 3-1), one head rotation type (see FIG. 3-4)), the nozzle pitch NPX in the X-axis direction of the inkjet head group 100 Corresponds to a pitch between a plurality of nozzle images obtained by projecting all the nozzles in one inkjet head 20 onto the X axis along the Y axis direction. On the other hand, the inkjet head group 100 is a two-head type (two-head horizontal wide type (see FIG. 3-2), two-head horizontal high-density type (see FIG. 3-3), two-head rotation type (see FIG. 3-5)). In this case, the nozzle pitch NPX in the X-axis direction of the inkjet head group 100 is a plurality of nozzle images obtained by projecting all the nozzles in the two inkjet heads 20 on the X-axis along the Y-axis direction. It corresponds to the pitch between.

1ヘッド水平タイプの場合には、図3−1に示すように、複数のノズルがそれぞれX軸方向に延びるノズル列Aと、ノズル列Bとをなしている。ノズル列Aとノズル列Bとは、Y軸方向に並んでいる。そして、ノズル列Aおよびノズル列Bのそれぞれにおいて、180個のノズルが一定間隔でX軸方向に一列に並んでいる。本実施例では、この一定間隔は約141μmである。ノズル列AのノズルピッチLNPと、ノズル列BのノズルピッチLNPは、ともに約141μmである。   In the case of the one-head horizontal type, as shown in FIG. 3A, a plurality of nozzles form a nozzle row A and a nozzle row B, each extending in the X-axis direction. The nozzle row A and the nozzle row B are arranged in the Y-axis direction. In each of the nozzle row A and the nozzle row B, 180 nozzles are aligned in the X-axis direction at regular intervals. In this embodiment, this regular interval is about 141 μm. The nozzle pitch LNP of the nozzle row A and the nozzle pitch LNP of the nozzle row B are both about 141 μm.

ノズル列Bの位置は、ノズル列Aの位置に対して、ノズルピッチLNPの半分の長さ(70μm)だけX軸方向の正の方向(右方向)にずれている。このため、ヘッドのX軸方向のノズルピッチNPXは、ノズル列A(またはノズル列B)のノズルピッチLNPの半分の長さ(約71μm)である。したがって、インクジェットヘッドのX軸方向のノズル線密度は、ノズル列A(またはノズル列B)のノズル線密度の2倍である。なお、本明細書において、「X軸方向のノズルの線密度」とは、複数のノズルをY軸方向に沿ってX軸上に射像して得られた複数のノズル像の単位長さ当たりの数に相当する。   The position of the nozzle row B is shifted from the position of the nozzle row A by a half length (70 μm) of the nozzle pitch LNP in the positive direction (right direction) in the X-axis direction. For this reason, the nozzle pitch NPX in the X-axis direction of the head is half the length (about 71 μm) of the nozzle pitch LNP of the nozzle row A (or nozzle row B). Therefore, the nozzle line density in the X-axis direction of the inkjet head is twice the nozzle line density of the nozzle array A (or nozzle array B). In the present specification, the “linear density of nozzles in the X-axis direction” means per unit length of a plurality of nozzle images obtained by projecting a plurality of nozzles on the X-axis along the Y-axis direction. It is equivalent to the number of

もちろん、インクジェットヘッドが含むノズル列の数は、2つだけに限定されるものではない。インクジェットヘッドは、M個のノズル列を含んでいても良い。ノズル列Aおよびノズル列Bのそれぞれが180個のノズルからなるため、1つのインクジェットヘッドは360個のノズルを有する。ただし、ノズル列Aの両端のそれぞれは10ノズルは、「休止ノズル」として設定されている。同様に、ノズル列Bの両端のそれぞれ10ノズルも「休止ノズル」として設定されている。「休止ノズル」を設定しているのは、ノズル列の端部においては、他の部分に比べて吐出分布が変化する(吐出量が多い)ためである。そして、これら40個の「休止ノズル」からは液滴の材料が吐出されない。このため、インクジェットヘッドにおける360個のノズルのうち、320個のノズルが液滴の材料を吐出するノズルとして機能する。本明細書においては、これら320個のノズルを「有効ノズル」、ノズル列のうち有効ノズルの列を「有効ノズル列」と表記することもある。   Of course, the number of nozzle rows included in the inkjet head is not limited to two. The inkjet head may include M nozzle rows. Since each of the nozzle row A and the nozzle row B is composed of 180 nozzles, one inkjet head has 360 nozzles. However, 10 nozzles at both ends of the nozzle row A are set as “pause nozzles”. Similarly, 10 nozzles at both ends of the nozzle row B are also set as “pause nozzles”. The “pause nozzle” is set because the discharge distribution changes (the discharge amount is large) at the end of the nozzle row as compared with other portions. Then, no droplet material is ejected from these 40 “pause nozzles”. For this reason, of the 360 nozzles in the inkjet head, 320 nozzles function as nozzles that discharge droplet material. In the present specification, these 320 nozzles may be referred to as “effective nozzles”, and among the nozzle rows, the rows of effective nozzles may be referred to as “effective nozzle rows”.

図3−2に示す2ヘット水平ワイドタイプは、この1ヘッド水平タイプをX軸方向に並べて印字幅を2倍にしたものである。また、図3−3に示す2ヘッド水平高密度タイプは、1ヘッド水平タイプをY軸方向に並べてX軸方向のノズルの線密度を2倍にしたものである。図3−4および図3−5に示す回転タイプは、インクジェットヘッドを回転させることにより、X軸方向のノズルの線密度を高くしたものである。   The 2-head horizontal wide type shown in FIG. 3-2 is obtained by doubling the print width by arranging these 1-head horizontal types in the X-axis direction. Further, the two-head horizontal high-density type shown in FIG. 3C is one in which one-head horizontal type is arranged in the Y-axis direction and the nozzle linear density in the X-axis direction is doubled. The rotation type shown in FIGS. 3-4 and 3-5 increases the linear density of the nozzles in the X-axis direction by rotating the inkjet head.

図3−1〜図3−5のインクジェットヘッド群100では、(1)1ヘッド水平タイプは、ノズルピッチNPX=約70μm(360dpi)、印字幅(有効ノズル列幅)=320ノズル=22.58mm、(2)2ヘッド水平ワイドタイプは、ノズルピッチNPX=約70μm(360dpi)、印字幅(有効ノズル列幅)=640ノズル=45.16mm、(3)2ヘッド水平高密度タイプは、ノズルピッチNPX=約35μm(720dpi)、印字幅(有効ノズル列幅)=640ノズル=22.58mm、(4)1ヘッド回転タイプは、ノズルピッチNPX=約18μm(720/1440dpi(角度により))、印字幅(有効ノズル列幅)=160ノズル=5.64mm(720dpi)/2.84mm(1440dpi)、(5)2ヘッド回転タイプは、ノズルピッチNPX=約18μm(720/1440dpi(角度により))、印字幅(有効ノズル列幅)=320ノズル=11.28mm(720dpi)/5.04mm(1440dpi)となっている。   In the inkjet head group 100 of FIGS. 3-1 to 3-5, (1) 1-head horizontal type has a nozzle pitch NPX = about 70 μm (360 dpi), print width (effective nozzle row width) = 320 nozzles = 22.58 mm. (2) Nozzle pitch NPX = approx. 70 μm (360 dpi), print width (effective nozzle row width) = 640 nozzles = 45.16 mm, (3) Nozzle pitch for 2 head horizontal wide type NPX = about 35 μm (720 dpi), printing width (effective nozzle row width) = 640 nozzles = 22.58 mm, (4) 1 head rotation type, nozzle pitch NPX = about 18 μm (720/1440 dpi (depending on angle)), printing Width (effective nozzle row width) = 160 nozzles = 5.64 mm (720 dpi) /2.84 mm (1440 dpi), (5 In the two-head rotation type, the nozzle pitch NPX = about 18 μm (720/1440 dpi (depending on the angle)), print width (effective nozzle row width) = 320 nozzles = 11.88 mm (720 dpi) /5.04 mm (1440 dpi). Yes.

本発明では、抜けやスジムラ等を防止して均一な光学被膜を形成するために、前記被塗布物に塗布される光学被膜形成用組成物のドットにおいて、その直交する2方向の隣接ドットが互いに隙間無く重なり合うように、インクジェットヘッド群100のノズルの配列並びに液滴の吐出間隔及び吐出量を設定している。具体的には、被塗布物に塗布される光学被膜形成用組成物のドットは、副走査方向(X軸方向)のドットピッチをPXμm、主走査方向(Y軸方向)のドットピッチをPYμm、被塗布物に着弾した際のドットの直径をDμmとした場合に、下記の条件式(A)を満たすように、インクジェットヘッド群100のノズルの配列並びに液滴の吐出間隔及び吐出量を設定している。
Y 2≦D2−PX 2・・・(A)
In the present invention, in order to form a uniform optical film by preventing omissions, streaks, etc., in the dots of the optical film forming composition applied to the coated object, adjacent dots in two orthogonal directions are mutually connected. The nozzle arrangement of the inkjet head group 100, the droplet discharge interval, and the discharge amount are set so as to overlap with no gap. Specifically, the dots of the optical film forming composition applied to the object to be coated have a dot pitch in the sub-scanning direction (X-axis direction) of P X μm and a dot pitch in the main scanning direction (Y-axis direction). In the case where P Y μm and the dot diameter upon landing on the object to be coated are D μm, the arrangement of the nozzles of the inkjet head group 100, the discharge interval and the discharge of the droplets so as to satisfy the following conditional expression (A) The amount is set.
P Y 2 ≦ D 2 −P X 2 (A)

(1ヘッド水平タイプの場合:360DPIの場合)
図4−1は、図3−1で示した1ヘッド水平タイプの場合のドットピッチとドット径の関係を説明するための図である。副走査方向(X軸方向)のドットピッチPXμmは、その副走査方向(X軸方向)のノズルピッチNPXと等しく、71μmである。主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmと、被塗布物に着弾した際のドットの直径Dは、上記条件式(A)を満たす値に設定される。例えば、ドット径Dが71μm以下の場合には、X軸方向では塗膜は形成されない。また、ドット径Dが72μmの場合、主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmは、12.0μm以下である必要がある。同様に、ドット径Dが130μmの場合、主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmは、108.9μm以下である必要がある。
(For 1 head horizontal type: 360 DPI)
FIG. 4A is a diagram for explaining the relationship between the dot pitch and the dot diameter in the case of the one-head horizontal type shown in FIG. The dot pitch P X μm in the sub-scanning direction (X-axis direction) is equal to the nozzle pitch NPX in the sub-scanning direction (X-axis direction) and is 71 μm. The dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) and the dot diameter D when landed on the object are set to values that satisfy the conditional expression (A). For example, when the dot diameter D is 71 μm or less, no coating film is formed in the X-axis direction. When the dot diameter D is 72 μm, the dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) needs to be 12.0 μm or less. Similarly, when the dot diameter D is 130 μm, the dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) needs to be 108.9 μm or less.

(2ヘッド水平高密度タイプの場合:720DPIの場合)
図4−2は、図3−2で示した2ヘッド高密度タイプの場合のドットピッチとドット径の関係を説明するための図である。このタイプは、ドットの線密度を高めると共に、塗布量を確保する意味でも優れている。副走査方向(X軸方向)のドットピッチPXμmは、その副走査方向(X軸方向)のノズルピッチNPXと等しく、35μmである。主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmと、被塗布物に着弾した際のドットの直径Dは、上記条件式(A)を満たす値に設定される。例えば、ドット径Dが35μm以下の場合には、X軸方向では塗膜は形成されない。また、ドット径Dが70μmの場合、主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmは、60.6μm以下である必要がある。同様に、ドット径Dが130μmの場合、主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmは、125.2μm以下である必要がある。
(For 2-head horizontal high-density type: 720 DPI)
FIG. 4B is a diagram for explaining the relationship between the dot pitch and the dot diameter in the case of the two-head high-density type shown in FIG. 3-2. This type is excellent in terms of increasing the dot linear density and securing the coating amount. The dot pitch P X μm in the sub-scanning direction (X-axis direction) is equal to the nozzle pitch NPX in the sub-scanning direction (X-axis direction) and is 35 μm. The dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) and the dot diameter D when landed on the object are set to values that satisfy the conditional expression (A). For example, when the dot diameter D is 35 μm or less, no coating film is formed in the X-axis direction. When the dot diameter D is 70 μm, the dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) needs to be 60.6 μm or less. Similarly, when the dot diameter D is 130 μm, the dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) needs to be 125.2 μm or less.

(1ヘッド回転タイプの場合:1440DPIの場合)
図4−3は、図3−4で示した1ヘッド回転タイプの場合のドットピッチとドット径の関係を説明するための図である。このタイプは、ドットの線密度に優れるが、塗布面積が狭くなっている。副走査方向(X軸方向)のドットピッチPXμmは、その副走査方向(X軸方向)のノズルピッチNPXと等しく18μmである。主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmと、被塗布物に着弾した際のドットの直径Dは、上記条件式(A)を満たす値に設定される。例えば、ドット径Dが18μm以下の場合には、X軸方向では塗膜は形成されない。また、ドット径Dが70μmの場合、主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmは67.6μm以下である必要がある。同様に、ドット径Dが130μmの場合、主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmは、128.7μm以下である必要がある。
(For 1 head rotation type: 1440 DPI)
FIG. 4C is a diagram for explaining the relationship between the dot pitch and the dot diameter in the case of the one-head rotation type illustrated in FIG. This type is excellent in dot linear density but has a small coating area. The dot pitch P X μm in the sub-scanning direction (X-axis direction) is 18 μm, which is equal to the nozzle pitch NPX in the sub-scanning direction (X-axis direction). The dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) and the dot diameter D when landed on the object are set to values that satisfy the conditional expression (A). For example, when the dot diameter D is 18 μm or less, no coating film is formed in the X-axis direction. When the dot diameter D is 70 μm, the dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) needs to be 67.6 μm or less. Similarly, when the dot diameter D is 130 μm, the dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) needs to be 128.7 μm or less.

ノズルピッチNPX=18μm、35μm、71μmのインクジェットヘッド群を使用した場合には、ハードコート液の着弾時のドット径Dは、被塗布物の表面状態により異なるため、70μm〜130μmの範囲が望ましい。また、前記条件式(A)において塗膜が形成できるのは、主走査方向(Y軸方向)のドットピッチPYμmを5〜130μmとした場合である。 When an ink jet head group having a nozzle pitch NPX = 18 μm, 35 μm, and 71 μm is used, the dot diameter D at the time of landing of the hard coat liquid varies depending on the surface state of the coating object, and therefore a range of 70 μm to 130 μm is desirable. In the conditional expression (A), the coating film can be formed when the dot pitch P Y μm in the main scanning direction (Y-axis direction) is 5 to 130 μm.

不図示の制御手段は、インクジェットヘッド群100に充填された塗布液の吐出条件を調整し、形成する薄膜の塗布量を制御している。すなわち、不図示の制御手段は、上記塗布量を制御する機能として、被塗布物に対する塗布液の吐出間隔を調整する機能と、1ドットあたりの塗布液の吐出量を調整する機能と、被塗布物を複数の領域に分けて各領域に吐出条件を設定する機能とを有している。また、不図示の制御手段は、上記吐出間隔を調整する制御機能として、被塗布物とインクジェットヘッド群100との相対的な移動の速度を調整して吐出間隔を調整する制御機能と、被塗布物とインクジェットヘッド群100間の距離を調整して、塗布液30を吐出する場合に両者のギャップを一定にする機能と、複数のノズルのうち同時に塗布液30を吐出させるノズルを任意に設定して吐出間隔を調整する機能とを備えている。   Control means (not shown) adjusts the discharge conditions of the coating liquid filled in the inkjet head group 100 and controls the coating amount of the thin film to be formed. That is, the control means (not shown) has a function of adjusting the discharge amount of the coating liquid with respect to the object to be coated, a function of adjusting the discharge amount of the coating liquid per dot, It has a function of dividing an object into a plurality of areas and setting discharge conditions in each area. The control means (not shown) has a control function for adjusting the discharge interval by adjusting the speed of relative movement between the object to be coated and the inkjet head group 100, and a control function for adjusting the discharge interval. When the distance between the object and the inkjet head group 100 is adjusted and the coating liquid 30 is discharged, the function of making the gap between them constant and the nozzle that simultaneously discharges the coating liquid 30 among a plurality of nozzles are arbitrarily set. And a function of adjusting the discharge interval.

図5および図6は、本発明の光学被膜形成用組成物をインクジェットヘッド群100によって被塗布物に塗布する方法を説明するための模式図である。図5において、プラスチックレンズ基材等の被塗布物200は、保持部材40で保持される。インクジェットヘッド群100は、不図示の駆動機構によりX軸方向(副走査方向)およびY軸方向(主走査方向)に移動可能に構成されている。インクジェットヘッド群100に光学被膜形成用組成物を充填し、インクジェットヘッド群100を被塗布物200の表面と概ね等間隔を保ちながら、被塗布物200との相対位置を制御しつつ、被塗布物の表面をスキャンして、インクジェットヘッド群100のノズルから吐出を制御することによって、被塗布物に光学被膜形成用組成物を均一に塗布することができる。被塗布物に対する光学被膜形成用組成物の塗布性を向上させるために、詳細は後述するが、光学被膜形成用組成物に塗布性を向上させるための有機溶剤を含有させている。   5 and 6 are schematic diagrams for explaining a method of applying the composition for forming an optical film of the present invention to an object to be coated by the inkjet head group 100. FIG. In FIG. 5, an object to be coated 200 such as a plastic lens substrate is held by a holding member 40. The inkjet head group 100 is configured to be movable in the X-axis direction (sub-scanning direction) and the Y-axis direction (main scanning direction) by a driving mechanism (not shown). The composition for forming an optical film is filled in the inkjet head group 100, and the object to be coated is controlled while controlling the relative position of the inkjet head group 100 with the surface of the object to be coated 200 while maintaining a substantially equal distance from the surface of the object to be coated 200. By scanning the surface and controlling the ejection from the nozzles of the inkjet head group 100, it is possible to uniformly apply the composition for forming an optical coating to the object to be coated. In order to improve the applicability of the composition for forming an optical film on an object to be coated, details will be described later, but the composition for forming an optical film contains an organic solvent for improving the applicability.

具体的には、図6に示すように、インクジェットヘッド群100では、被塗布物を複数のエリア1〜エリア5に分割し、各エリア毎に光学被膜形成用組成物の塗布を行う。まず、インクジェットヘッド群100は、初期位置から被塗布物200に対してY軸方向に1回スキャンして光学被膜形成用組成物を塗布する。つぎに、インクジェットヘッド群100を有効ノズル列幅分(印字幅)だけX軸方向に移動させた後、同様に、被塗布物200に対して軸方向に1回スキャンして光学被膜形成用組成物を塗布し、この動作を被塗布物200の全面について行なう。所望の膜厚の光学被膜を得るために、インクジェットヘッド群100で被塗布物200に対して重ね塗りを行うことにしても良い。   Specifically, as shown in FIG. 6, in the inkjet head group 100, the object to be coated is divided into a plurality of areas 1 to 5 and the composition for forming an optical film is applied to each area. First, the inkjet head group 100 applies the optical film forming composition by scanning once in the Y-axis direction with respect to the object 200 from the initial position. Next, after the inkjet head group 100 is moved in the X-axis direction by the effective nozzle row width (printing width), similarly, the coating 200 is scanned once in the axial direction to form an optical coating composition. This operation is performed on the entire surface of the object to be coated 200. In order to obtain an optical coating having a desired film thickness, the ink-jet head group 100 may be overcoated on the object to be coated 200.

本発明の光学被膜形成用組成物を用いてインクジェット方式で被塗布物を塗装した後、40〜200℃、好ましくは80〜130℃の温度で、30分〜8時間乾燥させることにより、光学被膜を被塗布物表面に形成することができる。   After coating an object to be coated by the ink jet method using the composition for forming an optical film of the present invention, the film is dried at a temperature of 40 to 200 ° C., preferably 80 to 130 ° C., for 30 minutes to 8 hours. Can be formed on the surface of the object to be coated.

本実施例によれば、インクジェットヘッド群で被塗布物に塗布される光学被膜形成用組成物のドットは、直交する2方向の隣接ドットが互いに隙間無く重なり合うように、副走査方向のドットピッチをPXμm、主走査方向のドットピッチをPyμm、前記被塗布物に着弾した際のドットの直径をDμmとした場合、PY 2≦D2−PX 2の関係になるように形成しているので、抜けやスジムラ等のない均一な光学被膜の塗膜を形成することができる。 According to this example, the dots of the optical film forming composition applied to the object to be coated by the inkjet head group have a dot pitch in the sub-scanning direction so that adjacent dots in two orthogonal directions overlap each other without a gap. When P X μm, the dot pitch in the main scanning direction is Py μm, and the dot diameter upon landing on the object to be coated is D μm, P Y 2 ≦ D 2 −P X 2 is formed. Therefore, it is possible to form a uniform optical coating film that is free from omission or unevenness.

なお、また、上記実施例では、インクジェットヘッド群100をX軸方向およびY軸方向に移動させる構成としたが、被塗布物200をX軸方向およびY軸方向に移動させる構成としても良く、また、両者を移動させる構成としても良い。   In the above-described embodiment, the inkjet head group 100 is configured to move in the X-axis direction and the Y-axis direction. However, the configuration may be such that the workpiece 200 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction. A configuration may be adopted in which both are moved.

[ハードコーティング用組成物]
ハードコート膜を形成するためのハードコーティング用組成物は、重合性有機化合物、無機微粒子、並びに溶媒として水及び有機溶剤を含有している。本発明では、ハードコーティング組成物をインクジェット方式で被塗布物に塗布する場合に、ハードコーティング用組成物の被塗布物に対する接触角に着目した。被塗布物表面に対する接触角θが、30°以下となるようにハードコーティング用組成物を調製する。あるいはこのような接触角となるように被塗布物表面の濡れ性を改良する。このようなハードコーティング用組成物とするには、具体的には、水9に対して1の重量比で薄めた水溶液の被塗布物表面に対する接触角θが30°以下の有機溶剤を用いる。なお、本明細書における接触角の測定では、有機溶剤の接触角を測定する場合は水9に対して1の重量比で薄めた水溶液の接触角を測定し、ハードコーティング用組成物の接触角を測定する場合はハードコーティング用組成物そのものの接触角を測定する。有機溶剤の接触角の測定方法において水の割合を多くしているのは、接触角が小さすぎると測定が困難になるので、水分量を多くして接触角を大きくし、接触角の測定を容易にするためである。また、接触角を測定する固体試料は、実際にハードコーティング用組成物を塗布する表面を有する平板である。
[Composition for hard coating]
A composition for hard coating for forming a hard coat film contains a polymerizable organic compound, inorganic fine particles, and water and an organic solvent as a solvent. In the present invention, when a hard coating composition is applied to an object to be coated by an inkjet method, attention is paid to a contact angle of the hard coating composition to the object to be coated. A hard coating composition is prepared so that the contact angle θ with respect to the surface of the object to be coated is 30 ° or less. Alternatively, the wettability of the surface of the object to be coated is improved so as to have such a contact angle. In order to make such a composition for hard coating, specifically, an organic solvent having a contact angle θ with respect to the surface of an object to be coated of an aqueous solution diluted with a weight ratio of 1 with respect to water 9 is 30 ° or less. In the measurement of the contact angle in this specification, when measuring the contact angle of an organic solvent, the contact angle of an aqueous solution diluted with a weight ratio of 1 to water 9 is measured, and the contact angle of the hard coating composition is measured. Is measured, the contact angle of the hard coating composition itself is measured. In the method of measuring the contact angle of organic solvents, the proportion of water is increased because the measurement becomes difficult if the contact angle is too small. This is to make it easier. Further, the solid sample for measuring the contact angle is a flat plate having a surface on which the hard coating composition is actually applied.

接触角の測定方法を図7に示す。図示しない注射器状の液滴調整器に測定する水溶液試料を入れる。(a)に示すように、上下左右に位置を変更可能な図示しない試料台に表面を水平に調整した固体試料を載置し、光学鏡でこの固体試料表面を観察する。光学鏡には回転可能な回転クロスが組み込まれている。固体試料の直上に配置された液滴調整器の針先に液滴を作る。   A method for measuring the contact angle is shown in FIG. An aqueous solution sample to be measured is placed in a syringe-like droplet regulator (not shown). As shown in (a), a solid sample whose surface is horizontally adjusted is placed on a sample stage (not shown) whose position can be changed vertically and horizontally, and the surface of the solid sample is observed with an optical mirror. The optical mirror incorporates a rotatable rotating cloth. Droplets are made at the tip of a drop adjuster placed just above the solid sample.

次に、(b)に示すように、固体試料の表面を上昇させ、液滴を固体試料表面に触れさせる。その後、(c)に示すように、元の位置まで固体試料を下降させ、針先より液滴を固定試料表面に移行させ、更に、液滴を回転クロスの中心に合わせる。   Next, as shown in (b), the surface of the solid sample is raised, and the droplet is brought into contact with the surface of the solid sample. Thereafter, as shown in (c), the solid sample is lowered to the original position, the droplet is transferred from the tip of the needle to the surface of the fixed sample, and the droplet is aligned with the center of the rotating cloth.

そして、(d)に示すように、回転クロスを回転させて液滴と固体試料表面の接線を作り、その角度θを読み取る。このθが接触角である。   Then, as shown in (d), the rotary cloth is rotated to create a tangent line between the droplet and the solid sample surface, and the angle θ is read. This θ is the contact angle.

この読み取り方法では個人誤差があるので、液滴が円の一部であるという仮定に基づき、(e)〜(g)に示す接触角の読み取り方法が行われる。   Since there is an individual error in this reading method, the contact angle reading method shown in (e) to (g) is performed based on the assumption that the droplet is a part of a circle.

まず、(e)に示すように、回転クロスを45゜に合わせ、クロスが液滴の両側と左右対称に接するように試料台を調整する。次に、(f)に示すように、試料台を上昇させ、クロスの中心を液滴の頂点に合わせる。そして、(g)に示すように、液滴の頂点と固体試料と液滴の接点を結び、その延長上の角度を測定する。その角度が接触角θの半値θ/2となる。   First, as shown in (e), the rotating cloth is adjusted to 45 °, and the sample stage is adjusted so that the cloth touches both sides of the droplet symmetrically. Next, as shown in (f), the sample stage is raised and the center of the cloth is aligned with the top of the droplet. Then, as shown in (g), the apex of the droplet, the solid sample, and the contact point of the droplet are connected, and the extension angle is measured. The angle becomes the half value θ / 2 of the contact angle θ.

表1に、水に溶解性の有機溶剤の種類とその分子量、沸点及び水9に対して1の重量比で薄めた水溶液の接触角θを示す。接触角測定装置は、協和界面科学株式会社製の接触角計OA−D型を用いた。固体試料は、アセトンで洗浄した厚さ3mm、外径70mmのチオウレタン系のプラスチックレンズ素材からなる平面板を用いた。   Table 1 shows the types of organic solvents soluble in water, their molecular weights, boiling points, and contact angles θ of aqueous solutions diluted with a weight ratio of 1 to water 9. As a contact angle measuring device, a contact angle meter OA-D type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was used. As the solid sample, a flat plate made of a thiourethane plastic lens material having a thickness of 3 mm and an outer diameter of 70 mm washed with acetone was used.

Figure 2005254098
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図8に、表1に示した有機溶剤のそれぞれの接触角θをグラフとして示した。表1および図8において、水分を15重量%含み、固形分が20重量%、残りを上述した有機溶剤を含むハードコーティング用組成物を調製し、実際にインクジェット方式のヘッドから吐出させた結果では、ブチルセロソルブが最も良好な塗布性を示し、均一に塗膜を形成することができた。次に、イソプロピルセロソルブ、その次にエチルセロソルブの塗布性が良好であり、それ以外の有機溶剤はそれほど塗布性が良くないことが認められた。なお、セロソルブは、エチレングリコールモノアルキルエーテルの通称である。従って、実用的には、エチルセロソルブの水9に対して1の重量比で薄めた水溶液の接触角θが30°であるから、前述した測定方法で測定した接触角θが30°以下、好ましくは20°以下、最も好ましくはブチルセロソルブの10.6°以下である有機溶剤を用いることによって、水分量を多くしても均一塗布性を確保できることが確認できた。実際のハードコーティング用組成物においても、被塗布物のハードコーティング用組成物を塗布する実際の表面に対するハードコーティング用組成物そのものの接触角θが30°以下、好ましくは20°以下、最も好ましくは12°以下に調製することにより、良好な塗布性を示すことが認められた。   In FIG. 8, each contact angle (theta) of the organic solvent shown in Table 1 was shown as a graph. In Table 1 and FIG. 8, a hard coating composition containing 15% by weight of water, 20% by weight of solids, and the remaining organic solvent as described above was prepared and actually ejected from an inkjet head. Butyl cellosolve showed the best coatability and was able to form a uniform coating. Next, it was confirmed that the coating properties of isopropyl cellosolve and then ethyl cellosolve were good, and other organic solvents were not so good in coating property. Cellosolve is a common name for ethylene glycol monoalkyl ether. Therefore, practically, since the contact angle θ of the aqueous solution diluted with a weight ratio of 1 with respect to water 9 of ethyl cellosolve is 30 °, the contact angle θ measured by the measurement method described above is preferably 30 ° or less, preferably By using an organic solvent having a temperature of 20 ° or less, most preferably 10.6 ° or less of butyl cellosolve, it was confirmed that uniform coating properties could be ensured even if the amount of water was increased. Also in the actual hard coating composition, the contact angle θ of the hard coating composition itself with respect to the actual surface on which the hard coating composition is applied is 30 ° or less, preferably 20 ° or less, most preferably It was confirmed that a good coating property was exhibited by adjusting to 12 ° or less.

表1より、接触角に対して分子量と沸点とが相関性があり、分子量に関しては90以上、特に100以上、最適には115以上が好ましく、沸点に関しては、135℃以上、特に150℃以上、最適には170℃以上が好ましい。   From Table 1, the molecular weight and the boiling point have a correlation with the contact angle, the molecular weight is 90 or more, particularly 100 or more, optimally 115 or more is preferable, and the boiling point is 135 ° C. or more, particularly 150 ° C. or more, Optimally, 170 ° C. or higher is preferable.

以上の実験結果より、ハードコーティング用組成物においては、被塗布物のハードコーティング用組成物を塗布する表面に対する接触角θを30°以下とすることにより、塗布性を良好にすることができる。このような塗布性を有するハードコーティング用組成物とするには、被塗布物のハードコーティング用組成物を塗布する表面に対する水9に対して1の重量比で薄めた水溶液の接触角θが30°以下の接触角低下溶剤を配合することが有効である。具体的には、沸点が135℃以上、特に150℃以上、最適には170℃以上で水と相溶性のある高沸点有機溶剤である。なお、相溶性とは、同時に配合する水と均一な溶液を形成できることを意味する。   From the above experimental results, in the hard coating composition, the coating property can be improved by setting the contact angle θ of the coated object to the surface on which the hard coating composition is applied to 30 ° or less. In order to obtain a hard coating composition having such a coating property, the contact angle θ of an aqueous solution diluted with a weight ratio of 1 to water 9 with respect to the surface on which the hard coating composition is applied is 30. It is effective to add a contact angle lowering solvent of not more than 0 °. Specifically, it is a high-boiling organic solvent having a boiling point of 135 ° C. or higher, particularly 150 ° C. or higher, and optimally 170 ° C. or higher and compatible with water. The term “compatible” means that a uniform solution can be formed with water to be blended at the same time.

高沸点有機溶剤としては、上述したエチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類以外の溶剤も使用可能である。高沸点有機溶剤の配合量は、組成物全体の40〜70重量%、特に45〜65重量%の範囲とすることが好ましい。   As the high boiling point organic solvent, solvents other than the above-described cellosolves such as ethyl cellosolve, isopropyl cellosolve, and butyl cellosolve can be used. The blending amount of the high-boiling organic solvent is preferably 40 to 70% by weight, particularly 45 to 65% by weight of the entire composition.

このように、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ等の高沸点有機溶剤を用いることによって、塗布性が良好になる理由としては、被塗布物に対する濡れ性が良好なことに加えて、インクジェットヘッドから吐出された微小液滴が、被塗布物の表面に着弾するまでの間の空気中で、微小液滴の表面からの溶媒の蒸発が抑制されることが、良好な塗布性の原因であると考えられる。   Thus, by using a high boiling point organic solvent such as isopropyl cellosolve and butyl cellosolve, the reason why the coating property is good is that the wettability to the coated object is good, and the fine particles discharged from the inkjet head It is considered that the reason why the coating property is good is that the evaporation of the solvent from the surface of the fine droplets is suppressed in the air until the droplets land on the surface of the object to be coated.

本発明のハードコーティング用組成物における有機溶剤としては、高沸点有機溶剤の1種を単独で又は2種以上を混合して高沸点の有機溶剤のみを用いることができるが、ハードコーティング用組成物の接触角θを30°以下となるようにすることができれば、低沸点の有機溶剤を配合することができる。   As the organic solvent in the hard coating composition of the present invention, one high boiling point organic solvent can be used alone or two or more types can be mixed to use only a high boiling point organic solvent. If the contact angle θ can be 30 ° or less, an organic solvent having a low boiling point can be blended.

低沸点溶剤としては、メタノール、エタノール、IPA、ブタノール等のアルコール類、MEK、2−ペンタノン、MIBK、2−ヘプタノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸secブチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸ブチル、3−メトキシブチルアセテート等のエステル類、メチルセロソルブ、1,4−ジオキサン等の低沸点溶剤の1種を単独で又は2種以上を高沸点有機溶剤に適宜混合して用いることができる。これらの低沸点有機溶剤は、後述する無機微粒子を分散する分散媒としてハードコーティング用組成物に配合することが好ましい。また、重合性有機化合物中の加水分解性基の加水分解によってもハードコーティング用組成物に配合される場合がある。   Low boiling solvents include alcohols such as methanol, ethanol, IPA, butanol, ketones such as MEK, 2-pentanone, MIBK, 2-heptanone, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, acetic acid One kind or two or more kinds of low boiling point solvents such as esters such as isobutyl, secbutyl acetate, isopentyl acetate, methyl propionate, butyl propionate, and 3-methoxybutyl acetate, methyl cellosolve, and 1,4-dioxane Can be appropriately mixed with a high-boiling organic solvent. These low-boiling organic solvents are preferably blended in the hard coating composition as a dispersion medium for dispersing inorganic fine particles described later. Moreover, it may be mix | blended with the composition for hard coating also by the hydrolysis of the hydrolysable group in a polymeric organic compound.

また、有機溶剤として、沸点が200℃以上の高沸点の水溶性有機溶剤を目詰まり防止の液状湿潤剤として配合することができる。水溶性有機溶剤としては、例えば、エチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン等の炭素数2〜10の2価〜5価アルコール類、ホルムアミド類、イミダゾリジノン類、ピロリドン、アミノ類等の含窒素炭化水素溶媒、あるいは含硫黄炭化水素溶媒の1種を単独で又は2種以上を混合して添加することができる。このような高沸点の水溶性有機溶剤は、接触角低下溶剤として配合することも可能である。   As the organic solvent, a high-boiling water-soluble organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher can be blended as a liquid wetting agent for preventing clogging. Examples of the water-soluble organic solvent include nitrogen-containing carbonization such as divalent to pentavalent alcohols having 2 to 10 carbon atoms such as ethylene glycol, triethylene glycol, and glycerin, formamides, imidazolidinones, pyrrolidone, and aminos. One kind of hydrogen solvent or sulfur-containing hydrocarbon solvent can be added alone or in admixture of two or more kinds. Such a high boiling water-soluble organic solvent can also be blended as a contact angle reducing solvent.

上記接触角θは固体の液体による濡れを評価する尺度である。そのため、被塗布物の表面の性質によっても接触角は変化する。被塗布物表面に対して表面改質処理を施すことにより、接触角θを低下させることができる。   The contact angle θ is a scale for evaluating wetting by a solid liquid. Therefore, the contact angle also changes depending on the surface properties of the object to be coated. By subjecting the surface of the object to be coated to surface modification treatment, the contact angle θ can be reduced.

本発明のハードコーティング用組成物を用いれば、濡れ性が良いため、通常の被塗布物表面にインクジェット方式で均一な塗膜を形成することが可能であるが、被塗布物と被膜の密着性及び更に濡れ性を向上させる目的で、被塗布物表面を予めアルカリ処理、酸処理、界面活性剤処理、無機あるいは有機物の微粒子による研磨処理、酸化剤処理、プライマー処理、紫外線照射処理、アルゴン又は酸素雰囲気下で高周波放電によるプラズマ処理、アルゴン、酸素又は窒素などのイオンビーム処理などによって、表面改質処理を行うことが好ましい。また、超純水による洗浄を行うことが好ましい。   If the composition for hard coating of the present invention is used, the wettability is good, so that it is possible to form a uniform coating film on the surface of a normal coating object by an inkjet method. In order to further improve the wettability, the surface of the object to be coated is previously subjected to alkali treatment, acid treatment, surfactant treatment, polishing treatment with inorganic or organic fine particles, oxidizing treatment, primer treatment, ultraviolet irradiation treatment, argon or oxygen. Surface modification treatment is preferably performed by plasma treatment using high-frequency discharge in an atmosphere, ion beam treatment using argon, oxygen, nitrogen, or the like. Further, it is preferable to perform cleaning with ultrapure water.

上述した表面改質処理の中でも、紫外線照射処理が透明な光学物品の表面に対して良好な濡れ性を付与することができる。紫外線照射処理としては、低圧水銀ランプを用いて、主として波長が185nm及び254nmの紫外線を1〜3000mJ/cm2の光量で照射する方法や、エキシマランプを用いて、主として波長が172nmの紫外線を1〜3000mJ/cm2の光量で照射する方法を例示することができる。 Among the surface modification treatments described above, the ultraviolet irradiation treatment can impart good wettability to the surface of a transparent optical article. As the ultraviolet irradiation treatment, a low-pressure mercury lamp is used to irradiate mainly ultraviolet rays having wavelengths of 185 nm and 254 nm with a light amount of 1 to 3000 mJ / cm 2 , or an excimer lamp is used to mainly emit ultraviolet rays having a wavelength of 172 nm. A method of irradiating with a light amount of ˜3000 mJ / cm 2 can be exemplified.

このような紫外線は、活性酸素やオゾンを生成し、被塗布物表面の有機物を分解して清浄化することが可能であり、また、被塗布物表面に直接作用して被塗布物表面にヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボニル基等の親水性基を生成し、濡れ性を向上させることができる。   Such ultraviolet rays can generate active oxygen and ozone, decompose organic substances on the surface of the object to be cleaned, and act directly on the surface of the object to be coated to hydroxyl on the surface of the object to be coated. A hydrophilic group such as a group, a carboxyl group, or a carbonyl group can be generated to improve wettability.

前述したハードコーティング用組成物の溶媒を構成する有機溶剤の種類や組成だけでなく、被塗布物に表面改質処理を施すことによって、接触角θを低下させることが可能である。例えば、アセトンで洗浄したチオウレタン系の平板に対するハードコーティング用組成物の接触角θが23°である場合、紫外線照射を行ったチオウレタン系の平板では、11.8°に下げることができる。従って、ハードコーティング用組成物の被塗布物表面に対する接触角θを30°以下にするためには、被塗布物表面に対する表面改質処理及びハードコーティング用組成物の有機溶剤の種類と組成の選択のいずれか一方又は両方を採用することによって達成することができる。   In addition to the type and composition of the organic solvent constituting the solvent of the hard coating composition described above, the contact angle θ can be reduced by subjecting the coating object to surface modification treatment. For example, when the contact angle θ of the hard coating composition with respect to a thiourethane-based flat plate washed with acetone is 23 °, the thiourethane-based flat plate subjected to ultraviolet irradiation can be lowered to 11.8 °. Therefore, in order to reduce the contact angle θ of the hard coating composition to the surface of the coating object to 30 ° or less, the surface modification treatment for the surface of the coating object and selection of the type and composition of the organic solvent of the hard coating composition This can be achieved by adopting either one or both.

本発明のハードコーティング用組成物の有機溶剤以外の組成成分について説明する。本発明のコーティング用組成物における固形分としては、ハードコート膜として十分な性能を確保するため、重合性有機化合物及び無機微粒子を必須成分として含有する。   The composition components other than the organic solvent of the hard coating composition of the present invention will be described. The solid content in the coating composition of the present invention contains a polymerizable organic compound and inorganic fine particles as essential components in order to ensure sufficient performance as a hard coat film.

重合性有機化合物はハードコート膜における、いわゆるバインダーとして機能するものである。重合性有機化合物としては、例えば、一分子中にビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基等の重合可能な重合性基とアルコキシ基等の加水分解性基とを含む有機けい素化合物を用いることができる。重合性有機化合物としてかかる有機ケイ素化合物を用いることによってシリコン系ハードコート膜を形成することができる。   The polymerizable organic compound functions as a so-called binder in the hard coat film. Examples of the polymerizable organic compound include polymerizable groups such as vinyl group, allyl group, acrylic group, methacryl group, epoxy group, mercapto group, cyano group, isocyano group, amino group and alkoxy group in one molecule. An organosilicon compound containing a hydrolyzable group such as can be used. By using such an organosilicon compound as the polymerizable organic compound, a silicon-based hard coat film can be formed.

一分子中に重合性基と加水分解性基とを含む有機けい素化合物としては、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ(β−メトキシ−エトキシ)シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン等を例示することができる。   Examples of the organosilicon compound containing a polymerizable group and a hydrolyzable group in one molecule include vinyl trialkoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltri (β-methoxy-ethoxy) silane, allyltrialkoxysilane, acryloxypropyltrimethyl. Alkoxysilane, methacryloxypropyltrialkoxysilane, methacryloxypropyl dialkoxymethylsilane, mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyl dialkoxysilane, etc. It can be illustrated.

また、一分子中にエポキシ基と加水分解性基とを含む有機けい素化合物としては、モノエポキシ基含有トリアルコキシシランが好ましい。モノエポキシ基含有トリアルコキシシランとしては、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリプロポキシシラン、グリシドキシメチルトリブトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリプロポキシシラン、α−グリシドキシエチルトリブトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリプロポキシシラン、β−グリシドキシエチルトリブトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリプロポキシシラン、α−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリプロポキシシラン、β−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリプロポキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、β−メチルグリシドキシメチルトリメトキシシラン、β−メチルグリシドキシメチルトリエトキシシラン、β−メチルグリシドキシメチルトリプロポキシシラン、β−メチルグリシドキシメチルトリブトキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシエチルトリプロポキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシエチルトリブトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシエチルトリプロポキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシエチルトリブトキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、β−メチル−γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−メチル−γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−メチル−γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、β−メチル−γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシブチルトリプロポキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシブチルトリプロポキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、β−メチル−γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−メチル−γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−メチル−γ−グリシドキシブチルトリプロポキシシラン、β−メチル−γ−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、β−メチル−δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−メチル−δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−メチル−δ−グリシドキシブチルトリプロポキシシラン、β−メチル−δ−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の脂肪族エポキシ化合物、あるいは、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリプロポキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリブトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリプロポキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリブトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリプロポキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリブトキシシラン等の脂環式エポキシ化合物を例示することができる。   Moreover, as an organosilicon compound containing an epoxy group and a hydrolyzable group in one molecule, a monoepoxy group-containing trialkoxysilane is preferable. Mono-epoxy group-containing trialkoxysilanes include glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, glycidoxymethyltripropoxysilane, glycidoxymethyltributoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxy Silane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltripropoxysilane, α-glycidoxyethyltributoxysilane, β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxy Silane, β-glycidoxyethyl tripropoxysilane, β-glycidoxyethyl tributoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltripropoxy Silane , Α-glycidoxypropyl tributoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltripropoxysilane, β-glycidoxypropyltributoxysilane Γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-glycidoxypropyltributoxysilane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane , Α-glycidoxybutyl triethoxysilane, α-glycidoxybutyl tripropoxysilane, α-glycidoxybutyl tributoxysilane, β-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane , Β-glycidoxybuty Tripropoxysilane, β-glycidoxybutyl tributoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyl Tripropoxysilane, γ-glycidoxybutyl tributoxysilane, δ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-glycidoxybutyltripropoxysilane, δ-glycidoxybutyl Tributoxysilane, β-methylglycidoxymethyltrimethoxysilane, β-methylglycidoxymethyltriethoxysilane, β-methylglycidoxymethyltripropoxysilane, β-methylglycidoxymethyltributoxysilane, β- Methyl-α-glycidoxye Rutrimethoxysilane, β-methyl-α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-methyl-α-glycidoxyethyltripropoxysilane, β-methyl-α-glycidoxyethyltributoxysilane, β-methyl- β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-methyl-β-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-methyl-β-glycidoxyethyltripropoxysilane, β-methyl-β-glycidoxyethyltributoxy Silane, β-methyl-α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-methyl-α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-methyl-α-glycidoxypropyltripropoxysilane, β-methyl-α- Glycidoxypropyl tributoxysilane, β-methyl-β-glycidoxypropyltrimethoxysilane Β-methyl-β-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-methyl-β-glycidoxypropyltripropoxysilane, β-methyl-β-glycidoxypropyltributoxysilane, β-methyl-γ- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-methyl-γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-methyl-γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, β-methyl-γ-glycidoxypropyltributoxysilane, β-methyl-α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-methyl-α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-methyl-α-glycidoxybutyltripropoxysilane, β-methyl-α-glycid Xibutyltributoxysilane, β-methyl-β-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-methyl β-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-methyl-β-glycidoxybutyltripropoxysilane, β-methyl-β-glycidoxybutyltributoxysilane, β-methyl-γ-glycidoxybutyltrimethoxy Silane, β-methyl-γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-methyl-γ-glycidoxybutyltripropoxysilane, β-methyl-γ-glycidoxybutyltributoxysilane, β-methyl-δ- Glycidoxybutyltrimethoxysilane, β-methyl-δ-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-methyl-δ-glycidoxybutyltripropoxysilane, β-methyl-δ-glycidoxybutyltributoxysilane, aliphatic epoxy compounds such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, or (3,4-ethylene (Poxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltripropoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltributoxysilane, (3 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltripropoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltributoxysilane, ( 3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) propyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) propyltripropoxysilane, (3, -Epoxycyclohexyl) propyltributoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) butyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) butyltriethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) butyltripropoxysilane, (3 , 4-epoxycyclohexyl) butyltributoxysilane, and the like.

重合性有機化合物の配合量は、ハードコーティング用組成物の固形分の10〜90重量%、特に20〜80重量%、最適には30〜70重量%の範囲が好ましい。配合量が少なすぎるとプラスチック被塗布物や後に成膜する反射防止膜との密着性が悪くなる場合があり、一方、配合量が多すぎると硬化被膜にクラックが生じる場合がある。   The amount of the polymerizable organic compound is preferably 10 to 90% by weight, particularly 20 to 80% by weight, and most preferably 30 to 70% by weight, based on the solid content of the hard coating composition. If the blending amount is too small, the adhesion with the plastic coating object or the antireflection film to be formed later may be deteriorated. On the other hand, if the blending amount is too large, the cured film may be cracked.

無機微粒子は、ハードコート膜のいわゆるフィラーとして機能するもので、一般に粒径が1〜100mμm程度のものが用いられる。具体的には、Si,A1,Sn,Sb,Ce,La,Fe,Zn,W,Zr,In,Tiから選ばれる1種以上の金属酸化物からなる微粒子及び/又はSi,A1,Sn,Sb,Ta,Ce,La,Fe,Zn,W,Zr,In,Tiから選ばれる2種以上の金属酸化物から構成される複合微粒子を例示することができる。   The inorganic fine particles function as a so-called filler of the hard coat film, and those having a particle size of about 1 to 100 mμm are generally used. Specifically, fine particles composed of one or more metal oxides selected from Si, A1, Sn, Sb, Ce, La, Fe, Zn, W, Zr, In, Ti and / or Si, A1, Sn, Examples thereof include composite fine particles composed of two or more metal oxides selected from Sb, Ta, Ce, La, Fe, Zn, W, Zr, In, and Ti.

無機微粒子の具体例としては、SiO2,SiO,Al23,Fe23,CeO2,SnO2,Sb25,Ta25,CeO2,WO3,ZrO2,TiO,Ti23,Ti25,TiO2等の微粒子が、分散媒たとえば水、アルコール系もしくはセロソルブ類その他の有機溶剤にコロイド状に分散したものである。または、Si,A1,Sn,Sb,Ta,Ce,La,Fe,Zn,W,Zr,In,Tiの無機酸化物の2種以上によって構成される複合微粒子が水、アルコール系もしくはセロソルブ類その他の有機溶剤にコロイド状に分散したものである。 Specific examples of the inorganic fine particles include SiO 2 , SiO, Al 2 O 3 , Fe 2 O 3 , CeO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , CeO 2 , WO 3 , ZrO 2 , TiO, Fine particles such as Ti 2 O 3 , Ti 2 O 5 and TiO 2 are colloidally dispersed in a dispersion medium such as water, alcohol or cellosolves or other organic solvents. Alternatively, composite fine particles composed of two or more inorganic oxides of Si, A1, Sn, Sb, Ta, Ce, La, Fe, Zn, W, Zr, In, and Ti are water, alcohol-based or cellosolves, etc. In an organic solvent in a colloidal form.

また、これらの無機微粒子のハードコート液中での分散安定性を高めるために、これらの微粒子表面を有機珪素化合物又はアミン系化合物で処理したものを使用することも可能である。この表面処理に用いられる有機珪素化合物としては、単官能性シラン、三官能性シラン、四官能性シラン等を例示できる。処理に際しては、加水分解基が微粒子の水酸基と反応した状態が好ましいが、一部残存した状態でも安定性にはなんら問題はない。アミン化合物としては、アンモニウム、エチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、n−プロピルアミン等のアルキルアミン、ベンジルアミン等のアラルキルアミン、ピペリジン等の脂環式アミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン等を例示できる。これらの有機珪素化合物とアミン化合物の添加量は無機微粒子の重量に対して1〜15重量%程度の範囲が好ましい。   In addition, in order to enhance the dispersion stability of these inorganic fine particles in the hard coat liquid, it is also possible to use those obtained by treating the surface of these fine particles with an organosilicon compound or an amine compound. Examples of the organosilicon compound used for the surface treatment include monofunctional silane, trifunctional silane, and tetrafunctional silane. In the treatment, a state in which the hydrolyzable group reacts with the hydroxyl group of the fine particles is preferable, but there is no problem in stability even in a state in which a part remains. Examples of amine compounds include ammonium, ethylamine, triethylamine, isopropylamine, alkylamines such as n-propylamine, aralkylamines such as benzylamine, alicyclic amines such as piperidine, alkanolamines such as monoethanolamine and triethanolamine, etc. Can be illustrated. The addition amount of these organosilicon compounds and amine compounds is preferably in the range of about 1 to 15% by weight with respect to the weight of the inorganic fine particles.

ハードコーティング用組成物の固形分中における無機微粒子の配合量は、20〜80重量%、特に30〜70重量%程度が好ましい。配合量を少なくすると、組成物の粘度が低くなるが、ハードコート膜を形成するために十分な厚さの被膜の膜厚を確保できなくなる場合があり、一方、配合量が多すぎると、被膜にクラックが発生する場合がある。   The blending amount of the inorganic fine particles in the solid content of the hard coating composition is preferably 20 to 80% by weight, particularly preferably about 30 to 70% by weight. If the blending amount is reduced, the viscosity of the composition decreases, but it may not be possible to secure a film thickness sufficient to form a hard coat film. Cracks may occur.

本発明のハードコーティング用組成物の硬化速度を早くする目的でジシランを配合することも可能である。   Disilane can be blended for the purpose of increasing the curing rate of the hard coating composition of the present invention.

このジシランとしては、下記一般式(1)で示される化合物を例示することができる。   As this disilane, the compound shown by following General formula (1) can be illustrated.

Figure 2005254098
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(式中、R1、R2は炭素数1〜6の炭化水素基であり、X1、X2は加水分解性基であり、Yはカーボネート基又はエポキシ基を含有する有機基であり、m及びkは0又は1である。)
1、R2の炭素数1〜6の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基などが挙げられる。X1、X2の加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基などのハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
(In the formula, R 1 and R 2 are hydrocarbon groups having 1 to 6 carbon atoms, X 1 and X 2 are hydrolyzable groups, Y is an organic group containing a carbonate group or an epoxy group, m and k are 0 or 1.)
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms of R 1 and R 2 include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a vinyl group, and a phenyl group. Examples of the hydrolyzable group for X 1 and X 2 include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and methoxyethoxy group, halogen groups such as chloro group and bromo group, and acyloxy groups.

また、Yのカーボネート基又はエポキシ基を含有する有機基としては、下記のものを例示することができる。   Moreover, the following can be illustrated as an organic group containing the carbonate group or epoxy group of Y.

Figure 2005254098
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これらのジシラン化合物は、従来公知の方法で合成することができる。例えば、ジアリルカーボネートとトリクロロシラン等を付加反応させ、その後アルコキシ化させることにより得ることができる。あるいは、両末端に付加可能な置換基を持ち、更にその内部にエポキシ化可能な官能基を含む化合物にトリクロロシランなどを付加反応させ、その後アルコキシ化させることにより得ることができる。   These disilane compounds can be synthesized by a conventionally known method. For example, it can be obtained by subjecting diallyl carbonate to trichlorosilane or the like, followed by alkoxylation. Alternatively, it can be obtained by adding a trichlorosilane or the like to a compound having a substituent that can be added at both ends and further containing a functional group that can be epoxidized therein, followed by alkoxylation.

ジシランの配合により、硬化速度が向上して硬化時間が短くなることは、塗膜形成工程における塗布表面へのゴミや不純物の付着の可能性を少なくして歩留まりを向上させることができる。更に、染色性を向上させる効果や、次に述べる多官能性エポキシ化合物の配合量を少なくする効果、あるいは塗工する対象物の表面に存在する傷などの不良個所の存在を目立たなくする上でも優れた効果を有する。   By adding disilane, the curing speed is improved and the curing time is shortened, thereby reducing the possibility of dust and impurities adhering to the coated surface in the coating film forming process and improving the yield. Furthermore, the effect of improving dyeability, the effect of reducing the blending amount of the polyfunctional epoxy compound described below, or the presence of defective parts such as scratches on the surface of the object to be coated are not noticeable. Has an excellent effect.

このジシランの配合量は、固形分の3〜40重量%、特に5〜20重量%の範囲が好ましい。配合量が少なすぎると反応促進効果が現れない場合があり、一方、配合量が多すぎると塗膜の耐水性が悪くなったり、塗液のポットライフが短くなる場合がある。   The amount of disilane is preferably 3 to 40% by weight, particularly 5 to 20% by weight, based on the solid content. If the blending amount is too small, the reaction promoting effect may not appear. On the other hand, if the blending amount is too large, the water resistance of the coating film may be deteriorated or the pot life of the coating solution may be shortened.

また、本発明のハードコーティング用組成物では、染色成分としての役割や耐水性、耐温水性を向上させるために、多官能性エポキシ化合物を配合することが好ましい。この多官能性エポキシ化合物は、塗料、接着剤、注型用などに広く用いられている。例えば、過酸化法で合成されるポリオレフィン系エポキシ樹脂、シクロペンタジエンオキシドやシクロヘキセンオキシド、更にヘキサヒドロフタル酸とエピクロルヒドリンから得られるポリグリシジルエステル等の脂環式エポキシ樹脂、ビスフェノールAやカテコール、レゾシノール等の多価フェノール、あるいは(ポリ)エチレングリコール、(ポリ)プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ソルビトール等の多価アルコールとエピクロルヒドリンから得られるポリグリシジルエーテル、エポキシ化植物油、ノボラック型フェノール樹脂とエピクロルヒドリンから得られるエポキシノボラック、フェノールフタレインとエピクロルヒドリンから得られるエポキシ樹脂、グリシジルメタクリレートとメチルメタクリレートアクリル系モノマーあるいはスチレンなどの共重合体、更には上記エポキシ化合物とモノカルボン酸含有(メタ)アクリル酸とのグリシジル基開環反応により得られるエポキシアクリレートなどが挙げられる。   Moreover, in the composition for hard coatings of this invention, in order to improve the role as a dyeing | staining component, water resistance, and warm water resistance, it is preferable to mix | blend a polyfunctional epoxy compound. This polyfunctional epoxy compound is widely used for paints, adhesives, casting and the like. For example, polyolefin epoxy resins synthesized by a peroxidation method, cyclopentadiene oxide and cyclohexene oxide, and alicyclic epoxy resins such as polyglycidyl ester obtained from hexahydrophthalic acid and epichlorohydrin, bisphenol A, catechol, resorcinol, etc. Polyphenols or polyglycidyl ethers obtained from (poly) ethylene glycol, (poly) propylene glycol, neopentyl glycol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, diglycerol, sorbitol and other polyhydric alcohols and epichlorohydrin, epoxidation Obtained from vegetable oil, epoxy novolac, phenolphthalein and epichlorohydrin obtained from novolac type phenolic resin and epichlorohydrin Epoxy resins, copolymers of glycidyl methacrylate and methyl methacrylate acrylic monomers or styrene, and epoxy acrylates obtained by glycidyl group ring-opening reaction of the above epoxy compounds with monocarboxylic acid-containing (meth) acrylic acid It is done.

更に多官能性エポキシ化合物として、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ノナエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、テトラプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ノナプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールヒドロキシヒバリン酸エステルのジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ化合物、イソホロンジオールグリシジルエーテル、ビス−2,2−ヒドロキシシクロヘキシルプロパンジグリシジルエーテル等の脂環族エポキシ化合物、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、オルトフタル酸ジグリシジルエーテル、フェノールノボラックポリグリシジルエーテル、クレゾールノボラックポリグリシジルエーテル等の芳香族エポキシ化合物などを例示することができる。   Furthermore, as a multifunctional epoxy compound, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether, nonaethylene glycol diglycidyl ether, Propylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, tetrapropylene glycol diglycidyl ether, nonapropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol hydroxyhybalic acid di ester Glycidyl ether, trimethylolpropane jig Sidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, diglycerol tetraglycidyl ether, pentaerythritol diglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, dipentaerythritol tetraglycidyl ether, dipentaerythritol tetraglycidyl Aliphatic epoxy compounds such as ether, sorbitol tetraglycidyl ether, diglycidyl ether of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, triglycidyl ether of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, isophoronediol glycidyl ether, bis-2, 2-hydroxycyclohexylpropane diglycidyl ether, etc. Aromatics such as alicyclic epoxy compounds, resorcin diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, orthophthalic acid diglycidyl ether, phenol novolac polyglycidyl ether, cresol novolac polyglycidyl ether An epoxy compound etc. can be illustrated.

この中でも、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリグリシジルエーテルなどの脂肪族エポキシ化合物が好ましい。   Among these, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, glycerol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, triglycidyl ether of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, etc. Aliphatic epoxy compounds are preferred.

多官能性エポキシ化合物の配合量は、固形分の5〜40重量%、特に5〜20重量%の範囲が好ましい。配合量が少なすぎると塗膜の耐水性が不十分となる場合があり、一方、配合量が多すぎると、反射防止膜をハードコート膜の上に形成した場合に、無機蒸着膜との密着性が不十分となる場合がある。   The compounding amount of the polyfunctional epoxy compound is preferably in the range of 5 to 40% by weight, particularly 5 to 20% by weight of the solid content. If the blending amount is too small, the water resistance of the coating film may be insufficient. On the other hand, if the blending amount is too large, when the antireflection film is formed on the hard coat film, it adheres to the inorganic vapor deposition film. May be insufficient.

また、一般式がSi(OR)4で表される四官能性シラン化合物を添加することも有用である。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラアリロキシシラン、テトラキス(2−メトキシエトキシ)シラン、テトラキス(2−エチルブトキシ)シラン、テトラキス(2−エチルヘキシロキシ)シラン等を例示できる。これらは単独で用いても、2種以上を混合して用いても良い。また、これらは無溶媒下又はアルコールなどの有機溶剤中で、酸の存在下で加水分解して使用する方が好ましい。 It is also useful to add a tetrafunctional silane compound represented by the general formula Si (OR) 4 . Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, tetraphenoxysilane, tetraacetoxysilane, tetraallyloxysilane, tetrakis (2-methoxyethoxy) silane, tetrakis ( Examples thereof include 2-ethylbutoxy) silane and tetrakis (2-ethylhexyloxy) silane. These may be used alone or in combination of two or more. These are preferably used after being hydrolyzed in the presence of an acid in the absence of a solvent or in an organic solvent such as alcohol.

また、本発明の組成物には硬化触媒を配合することができる。硬化触媒としては、例えば次の(1)〜(4)の群を挙げることができる。
(1)Fe(III)、Al(III)、Sn(IV)又はTi(IV)の金属元素を中心原子とするアセチルアセトネート、(2)過塩素酸マグネシウム又は過塩素酸アンモニウム、(3)脂肪酸の飽和又は不飽和カルボン酸、芳香族カルボン酸、あるいはこれらの酸の無水物、(4)LI(I)、Cu(II)、Mn(II)又はMn(III)の金属原子を中心原子とするアセチルアセトネートから選ばれる1種又は2種以上を併用して用いることができる。特に、(1)〜(3)の群の硬化触媒と(4)の群の硬化触媒との併用触媒が、ポットライフが向上するため、好ましい。
Moreover, a curing catalyst can be mix | blended with the composition of this invention. Examples of the curing catalyst include the following groups (1) to (4).
(1) acetylacetonate having a metal element of Fe (III), Al (III), Sn (IV) or Ti (IV) as a central atom, (2) magnesium perchlorate or ammonium perchlorate, (3) Fatty acid saturated or unsaturated carboxylic acid, aromatic carboxylic acid, or anhydride of these acids, (4) LI (I), Cu (II), Mn (II) or Mn (III) metal atom as the central atom One or two or more selected from acetylacetonate can be used in combination. In particular, a combined catalyst of the curing catalyst of the group (1) to (3) and the curing catalyst of the group (4) is preferable because the pot life is improved.

硬化触媒の配合量は、ハードコーティング用組成物の固形分の0.2〜10重量%、特に0.5〜3重量%の範囲とすることが好ましい。配合量が少なすぎると配合の効果が現れない場合があり、一方、配合量を多くしてもそれ以上硬化速度が向上しないため不経済になる場合がある。   The blending amount of the curing catalyst is preferably in the range of 0.2 to 10% by weight, particularly 0.5 to 3% by weight of the solid content of the hard coating composition. If the blending amount is too small, the blending effect may not appear. On the other hand, even if the blending amount is increased, the curing rate does not improve any more, which may be uneconomical.

本発明のハードコーティング用組成物では、上述した成分以外に、顔料、染料等の着色剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤、粘度調整剤、pH調整剤、フォトクロミック化合物、ヒンダードアミン・ヒンダードフェノール系などの耐光耐熱安定剤、酸化防止剤、耐電防止剤等の成分を含むことができる。これらの成分は、固形分を構成する。   In the hard coating composition of the present invention, in addition to the above-described components, colorants such as pigments and dyes, UV absorbers, leveling agents, surfactants, viscosity modifiers, pH adjusters, photochromic compounds, hindered amine hindered Components such as a light-resistant and heat-resistant stabilizer such as phenol, an antioxidant, and an antistatic agent can be included. These components constitute a solid content.

以上説明した組成物は、熱硬化性であったが、被塗布物が熱可塑性の樹脂である場合は、上述した重合性有機化合物に代えて紫外線硬化型又は電子ビーム硬化型の重合性有機化合物を用いることが好ましい。   The composition described above was thermosetting, but when the object to be coated is a thermoplastic resin, an ultraviolet curable or electron beam curable polymerizable organic compound is used instead of the above-described polymerizable organic compound. Is preferably used.

例えば、紫外線の照射によりシラノール基を生成するシリコーン化合物とシラノール基と縮合反応するハロゲン原子やアミノ基等の反応基を有するオルガノポリシロキサンとを主成分とする光硬化性シリコーン組成物、三菱レイヨン(株)製のUK−6074等のアクリル系紫外線硬化型モノマー組成物を例示することができる。   For example, a photo-curable silicone composition comprising, as a main component, a silicone compound that generates a silanol group by ultraviolet irradiation and an organopolysiloxane having a reactive group such as a halogen atom or an amino group that undergoes a condensation reaction with the silanol group, Mitsubishi Rayon ( Examples thereof include acrylic ultraviolet curable monomer compositions such as UK-6074 manufactured by the same company.

また、本発明のハードコーティング用組成物は、熱硬化、電子線硬化及び光硬化の2つ以上の硬化方法を併用し、例えば熱硬化と光硬化を併用することも可能である。   In addition, the hard coating composition of the present invention can use two or more curing methods of thermosetting, electron beam curing and photocuring, for example, thermosetting and photocuring can be used in combination.

[ハードコート膜形成の実験例]
次に、本発明のハードコーティング用組成物を本発明の光学被膜の形成方法で塗布した実験例を説明する。表2は、スキャン方向(主走査方向)のドットピッチPYμm(10μm、100μm)、着弾時のドットの径Dμm(100μm,70μm)、および主溶剤(ブチルセロソルブ、メタノール)を変更した場合のハードコート膜の外観評価の結果を示している。
[Example of hard coat film formation]
Next, an experimental example in which the hard coating composition of the present invention is applied by the optical film forming method of the present invention will be described. Table 2 shows the hardware when the dot pitch P Y μm (10 μm, 100 μm) in the scanning direction (main scanning direction), the dot diameter D μm (100 μm, 70 μm) upon landing, and the main solvent (butyl cellosolve, methanol) are changed. The result of the appearance evaluation of the coat film is shown.

本実験の塗布パターンは、上記図6で説明した塗布パターンを使用した。インクジェットヘッド群100として、上記図3−3に示した2ヘッド水平高密度タイプ(ノズルピッチNPX=720dpi、印字幅(有効ノズル列幅)=640ノズル=22.58mm)
を使用した。また、主溶剤として、上述の接触角θ=10.54°のブチルセロソルブ、上述の接触角θ=53.6°のメタノールを使用した。
The application pattern described in FIG. 6 was used as the application pattern in this experiment. As the inkjet head group 100, the two-head horizontal high-density type shown in FIG. 3-3 (nozzle pitch NPX = 720 dpi, print width (effective nozzle row width) = 640 nozzles = 22.58 mm)
It was used. As the main solvent, butyl cellosolve having the above contact angle θ = 10.54 ° and methanol having the above contact angle θ = 53.6 ° were used.

外観評価は、ハードコート膜を形成したレンズについて、暗箱で目視評価を行った。「O」:コーティング面にバンディング、凹凸等の不良がない。「×」:コーティング面にバンディング凹凸等の不良がある。   Appearance evaluation performed visual evaluation with the dark box about the lens in which the hard-coat film was formed. “O”: There is no defect such as banding or unevenness on the coating surface. “X”: The coating surface has defects such as banding irregularities.

Figure 2005254098
Figure 2005254098

<実験例(1)>
(ハードコーティング用組成物(主溶剤=ブチルセロソルブ)の調製)
重合性有機ケイ素化合物として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン15.93g及びγ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン7.43gを混合し、5分間攪拌した。これに0.1N塩酸を5.83g添加し、1時間攪拌して加水分解を行った。その後、純水を26.40g添加し、1時間攪拌した。更に、シリコン系界面活性剤(日本ユニカー(株)社製、商品名「L−7001」のブチルセロソルブ5%希釈液を1.20g及びシリコン系界面活性剤(日本ユニカー(株)社製、商品名「L−7604」のブチルセロソルブ5%希釈液)を0.80g添加し、10分間攪拌した。次に、無機微粒子として、ブチルセロソルブ分散酸化ケイ素一酸化ジルコニウム−酸化チタン複合微粒子ゾル(商品名:オプトレイク1920Z−U25A8、触媒化成工業(株)社製、固形分20%)を142.41g添加し、1時間攪拌した。更に、室温で20〜36時間熟成させて、固形分20重量%、水分16重量%、ブチルセロソルブ57重量%のハードコーティング用組成物200gを調製した。
<Experimental example (1)>
(Preparation of hard coating composition (main solvent = butyl cellosolve))
As a polymerizable organosilicon compound, 15.93 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 7.43 g of γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane were mixed and stirred for 5 minutes. To this was added 5.83 g of 0.1N hydrochloric acid, and the mixture was stirred for 1 hour for hydrolysis. Thereafter, 26.40 g of pure water was added and stirred for 1 hour. Furthermore, 1.20 g of butyl cellosolve 5% diluted solution of silicon surfactant (made by Nippon Unicar Co., Ltd., trade name “L-7001”) and silicon surfactant (made by Nippon Unicar Co., Ltd., trade name) 0.80 g of butyl cellosolve 5% diluted solution of “L-7604” was added and stirred for 10 minutes, and butyl cellosolve dispersed silicon monoxide-titanium oxide composite fine particle sol (trade name: OPTRAIQUE) 142.41 g of 1920Z-U25A8, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., solid content 20%) was added and stirred for 1 hour, and then aged for 20 to 36 hours at room temperature, solid content 20% by weight, moisture 16 200 g of a hard coating composition having a weight% of 57% by weight of butyl cellosolve was prepared.

(塗布方法)
アセトンで洗浄した中心厚1.1mm、コバ厚4.7mm、外径80mmのチオウレタン系のプラスチックレンズに対し、主溶剤がブチルセロソルブのハードコーティング用組成物を副走査方向のドットピッチPXを35μm、主走査方向のドットピッチPYを10μmで連続吐出させて塗布した。なお、事前の測定では、主溶剤がブチルセロソルブのハードコーティング用組成物がプラスチックレンズに着弾した際のドット径Dは100μmであった。塗布後、120℃で90分間硬化した。このようにして得られたハ−ドコート被膜の膜厚は2.2μmであり、また、バンディング等の塗りむらがなく、良好な外観であった。
(Application method)
For a thiourethane plastic lens having a center thickness of 1.1 mm, edge thickness of 4.7 mm, and outer diameter of 80 mm washed with acetone, a hard coating composition in which the main solvent is butyl cellosolve has a dot pitch P X in the sub-scanning direction of 35 μm. The dot pitch P Y in the main scanning direction was continuously discharged at 10 μm and applied. In the prior measurement, the dot diameter D was 100 μm when the hard coating composition having the main solvent butyl cellosolve landed on the plastic lens. After application, it was cured at 120 ° C. for 90 minutes. The hard coat film thus obtained had a film thickness of 2.2 μm, and there was no uneven coating such as banding, and it had a good appearance.

<比較例1>
(塗布方法)
アセトンで洗浄した中心厚1.1mm、コバ厚4.7mm、外径80mmのチオウレタン系のプラスチックレンズに対し、主溶剤がブチルセロソルブのハードコーティング用組成物をスキャン方向のドットピッチYを100μmとした以外は実験例1と同様の方法で連続吐出させて塗布し、120℃で90分間硬化した。このようにして得られたハ−ドコート被膜の膜厚は0.2μmであり、狙い膜厚2μmに対して1/10しか得られなかった。また、コーティング面はバンディング等の塗りムラが目立っており、要求された外観品質レベルを満たすものではなかった。
<Comparative Example 1>
(Application method)
For a thiourethane plastic lens having a center thickness of 1.1 mm, edge thickness of 4.7 mm, and outer diameter of 80 mm washed with acetone, a hard coating composition in which the main solvent is butyl cellosolve has a dot pitch Y of 100 μm in the scanning direction. Except for the above, it was continuously discharged and applied in the same manner as in Experimental Example 1, and cured at 120 ° C. for 90 minutes. The hard coat film thus obtained had a film thickness of 0.2 μm, which was only 1/10 of the target film thickness of 2 μm. In addition, the coating surface was conspicuous in coating unevenness such as banding, and did not satisfy the required appearance quality level.

<比較例2>
(ハードコーティング用組成物(主溶剤=メタノール)の調製)
重合性有機ケイ素化合物として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン15.93g及びγ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン7.43gを混合し、5分間攪拌した。これに0.1N塩酸を5.83g添加し、1時間攪拌して加水分解を行った。その後、純水を26.40g添加し、1時間攪拌した。更に、シリコン系界面活性剤(日本ユニカー(株)社製、商品名「L−7001」のメタノール5%希釈液を1.20g及びシリコン系界面活性剤(日本ユニカー(株)社製、商品名「L−7604」のメタノール5%希釈液)を0.80g添加し、10分間攪拌した。次に、無機微粒子として、メタノール分散酸化ケイ素一酸化ジルコニウム−酸化チタン複合微粒子ゾル(商品名:オプトレイク1120Z−U25A8、触媒化成工業(株)社製、固形分20%)を142.41g添加し、1時間攪拌した。更に、室温で20〜36時間熟成させて、固形分20重量%、水分16重量%、メタノール57重量%のハードコーティング用組成物200gを調製した。
<Comparative example 2>
(Preparation of hard coating composition (main solvent = methanol))
As a polymerizable organosilicon compound, 15.93 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 7.43 g of γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane were mixed and stirred for 5 minutes. To this was added 5.83 g of 0.1N hydrochloric acid, and the mixture was stirred for 1 hour for hydrolysis. Thereafter, 26.40 g of pure water was added and stirred for 1 hour. Further, 1.20 g of a 5% methanol diluted solution of a silicon surfactant (manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd., trade name “L-7001”) and a silicon surfactant (manufactured by Nihon Unicar Co., Ltd., trade name) 0.80 g of a methanol 5% diluted solution of “L-7604” was added and stirred for 10 minutes, and then, as inorganic fine particles, methanol-dispersed silicon oxide zirconium monoxide-titanium oxide composite fine particle sol (trade name: OPTRAIQUE) 142.41 g of 1120Z-U25A8 (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., solid content 20%) was added and stirred for 1 hour. 200 g of a composition for hard coating containing 57% by weight of methanol and 57% by weight of methanol was prepared.

(塗布方法)
アセトンで洗浄した中心厚1.1mm、コバ厚4.7mm、外径80mmのチオウレタン系のプラスチックレンズに対し、実験例1と同様の条件で、主溶剤がメタノールのハードコーティング用組成物を連続吐出させ、塗布した。なお、事前の測定において、主溶剤がメタノールのハードコーティング用組成物がプラスチックレンズに着弾した際のドット径Dは70μmであった。塗布後、120℃で90分間硬化し、このようにして得られたハ−ドコート被膜の膜厚は2.2μmであった。しかし、コーティング液の乾燥性が高く、レベリング特性が有効に働かなかったために凹凸が目立っており、要求された外観品質レベルを満たすものではなかった。
(Application method)
For a thiourethane plastic lens having a center thickness of 1.1 mm, edge thickness of 4.7 mm, and outer diameter of 80 mm washed with acetone, a hard coating composition containing methanol as a main solvent was continuously used under the same conditions as in Experimental Example 1. It was discharged and applied. In the prior measurement, the dot diameter D was 70 μm when the hard coating composition whose main solvent was methanol landed on the plastic lens. After coating, it was cured at 120 ° C. for 90 minutes, and the hard coat film thus obtained had a thickness of 2.2 μm. However, the coating liquid was highly dry and the leveling characteristics did not work effectively, so the unevenness was conspicuous, and the required appearance quality level was not satisfied.

[反射防止膜]
ハードコート膜上に、必要によりインクジェット方式で反射防止膜を形成することができる。反射防止被膜を形成するための反射防止膜用コーティング組成物は、重合性有機化合物、無機微粒子、並びに溶媒として水及び有機溶剤等を含有している。本発明における反射防止膜の構成成分は、プラスチックレンズ基材との屈折率差が0.10以上あれば特に制限はされず、公知の物を使用することができる。
[Antireflection film]
If necessary, an antireflection film can be formed on the hard coat film by an inkjet method. A coating composition for an antireflection film for forming an antireflection film contains a polymerizable organic compound, inorganic fine particles, water, an organic solvent, and the like as a solvent. The constituent components of the antireflection film in the present invention are not particularly limited as long as the refractive index difference from the plastic lens substrate is 0.10 or more, and known materials can be used.

反射防止膜を形成する際には、密着性を高めるために、ハードコート膜の表面処理を行うことが望ましい。この表面処理としては、酸処理、アルカリ処理、紫外線照射処理、アルゴン又は酸素雰囲気下で高周波放電によるプラズマ処理、アルゴン、酸素又は窒素などのイオンビーム処理などが例示できる。   When forming the antireflection film, it is desirable to perform a surface treatment of the hard coat film in order to improve adhesion. Examples of the surface treatment include acid treatment, alkali treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma treatment by high-frequency discharge in an argon or oxygen atmosphere, and ion beam treatment such as argon, oxygen or nitrogen.

反射防止膜用コーティング組成物においては、上述したハードコーティング組成物と同様の重合性有機化合物、並びに溶媒として水及び有機溶剤等を使用することができる。反射防止膜用コーティング組成物では、被塗布物に反射防止膜用コーティング組成物を塗布する実際の表面に対する反射防止膜用コーティング組成物そのものの接触角θを40°以下に調製することにより、良好な塗布性を示すことが認められた(表1、図7参照)。   In the coating composition for an antireflection film, water, an organic solvent, and the like can be used as a polymerizable organic compound similar to the hard coating composition described above and a solvent. In the anti-reflection coating composition, the contact angle θ of the anti-reflection coating composition itself with respect to the actual surface on which the anti-reflection coating composition is applied to the object is adjusted to 40 ° or less. It was confirmed that the coating property was excellent (see Table 1 and FIG. 7).

無機微粒子としては、コロイド状に分散したゾルなどが挙げられ、具体的には、シリカゾル、フッ化マグネシウムゾル、フッ化カルシウムゾルなどが挙げられる。実際には、下記(A)および(B)成分を含有する組成物を用いて、反射防止膜を成膜することが好ましい。   Examples of the inorganic fine particles include colloidally dispersed sols, and specific examples include silica sol, magnesium fluoride sol, calcium fluoride sol, and the like. Actually, it is preferable to form an antireflection film using a composition containing the following components (A) and (B).

(A)一般式(2)
12 nSiX1 3n ・・・(2)
で表される有機ケイ素化合物。(式中、R1は重合可能な反応基を有する有機基であり、R2は炭素数1〜6の炭化水素基であり、X1は加水分解基であり、nは0または1である。)
(A) General formula (2)
R 1 R 2 n SiX 1 3n (2)
An organosilicon compound represented by Wherein R 1 is an organic group having a polymerizable reactive group, R 2 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, X 1 is a hydrolytic group, and n is 0 or 1. .)

(B)シリカ系微粒子
ここで、上記(A)成分におけるR1は重合可能な反応基をもつ有機基であり、ここでの重合可能な反応基の具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基、シアノ基、アミノ基等が挙げられる。R2の具体例としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フェニル基等が挙げられる。また、X1は加水分解可能な官能基であり、その具体例は、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。上記(A)のシラン化合物の具体例としては、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ(β−メトキシ−エトシキ)シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)−エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン等が挙げられる。
(B) Silica-based fine particles Here, R 1 in the component (A) is an organic group having a polymerizable reactive group, and specific examples of the polymerizable reactive group herein include a vinyl group, an allyl group, An acrylic group, a methacryl group, an epoxy group, a mercapto group, a cyano group, an amino group, etc. are mentioned. Specific examples of R 2 include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a vinyl group, and a phenyl group. X1 is a hydrolyzable functional group, and specific examples thereof include an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, and a methoxyethoxy group, a halogen group such as a chloro group and a bromo group, and an acyloxy group. Specific examples of the silane compound (A) include vinyltrialkoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltri (β-methoxy-ethoxy) silane, allyltrialkoxysilane, acryloxypropyltrialkoxysilane, methacryloxypropyltrialkoxysilane. , Methacryloxypropyl dialkoxymethylsilane, γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyltrialkoxysilane, mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, N -Β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyl dialkoxysilane and the like.

この成分(A)は2種以上を混合して用いてもかまわない。また、加水分解を行ってから用いた方が、より有効である。   This component (A) may be used as a mixture of two or more. In addition, it is more effective to use after hydrolysis.

上記(B)成分の具体例としては、例えば、粒径10〜1000nmのシリカ系微粒子からなるシリカゾルが挙げられる。シリカゾルは、分散媒たとえば水、アルコール類、セロソルブ類などの有機溶媒にコロイド状に分散させたものが使用されることが多い。   Specific examples of the component (B) include silica sol composed of silica-based fine particles having a particle diameter of 10 to 1000 nm. Silica sol is often used in a colloidal dispersion in an organic solvent such as water, alcohols or cellosolves.

ここで、より反射防止膜の屈折率を下げ、反射防止効果をより高めるために、上記(B)成分として、シリカ系微粒子の内部に、空洞が形成されている中空球状のシリカ系微粒子を用いることがより好ましい。これは、中空球状のシリカ系微粒子の場合、内部に空洞が形成され、その空洞内に気体または溶媒が包含されることによって、屈折率の低減が達成されるためである。   Here, in order to further lower the refractive index of the antireflection film and enhance the antireflection effect, hollow spherical silica-based fine particles in which cavities are formed are used as the component (B). It is more preferable. This is because in the case of hollow spherical silica-based fine particles, a cavity is formed inside, and a gas or a solvent is included in the cavity, so that a reduction in refractive index is achieved.

なお、本発明における反射防止膜用コーティング組成物は、上記成分の他に、必要に応じて、少量の硬化触媒、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、ヒンダートアミン・ヒンダートフェノール等の光安定剤、分散染料・油溶染料・蛍光染料・顔料、等を添加しコーティング液の塗布性の向上や、硬化後の被膜性能を改良することもできる。   In addition to the above-mentioned components, the coating composition for an antireflective film in the present invention contains a small amount of a curing catalyst, a surfactant, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a hindered amine, as necessary. Light stabilizers such as hindered phenol, disperse dyes / oil-soluble dyes / fluorescent dyes / pigments, etc. can be added to improve the coating property of the coating liquid and to improve the film performance after curing.

反射防止膜用コーティング組成物は以下の手順で作成する。まず、上記(A)成分であるシラン化合物を、有機溶剤で希釈し、必要に応じて水または薄い塩酸、酢酸等を添加して加水分解を行う。さらに、上記(B)成分である、シリカ系微粒子が5〜50重量%の分率で有機溶剤中にコロイド状に分散した品を添加する。その後、必要に応じ、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを添加し、十分に撹拌した後にコーティング液として用いる。   The coating composition for an antireflection film is prepared by the following procedure. First, the silane compound as the component (A) is diluted with an organic solvent, and hydrolyzed by adding water or thin hydrochloric acid, acetic acid or the like as necessary. Further, a product in which the silica-based fine particles as the component (B) are colloidally dispersed in an organic solvent at a fraction of 5 to 50% by weight is added. Thereafter, if necessary, a surfactant, an ultraviolet absorber, an antioxidant and the like are added, and after sufficiently stirring, used as a coating liquid.

そして、作成した反射防止膜用コーティング組成物をインクジェット方式で被塗布物に塗布する。塗布後、熱または紫外線によって硬化させることによって得られるが、加熱処理によって硬化させることが好ましい。この際に、加熱温度はコーティング組成物の組成、プラスチックレンズの基材の耐熱性等を考慮して適宜決定されるが、50℃〜250℃が好ましく、より好ましくは80℃〜150℃である。   And the produced coating composition for anti-reflective films is apply | coated to a to-be-coated object with an inkjet system. After application, it is obtained by curing with heat or ultraviolet rays, but it is preferably cured by heat treatment. In this case, the heating temperature is appropriately determined in consideration of the composition of the coating composition, the heat resistance of the plastic lens base material, etc., preferably 50 ° C. to 250 ° C., more preferably 80 ° C. to 150 ° C. .

[反射防止膜の形成の実験例]
次に、本発明の反射防止膜用コーティング組成物を本発明の光学被膜の形成方法で形成した実験例を説明する。表3は、スキャン方向(主走査方向)のドットピッチPYμm(70μm、10μm)、着弾時のドットの径Dμm(70μm,50μm)、および主溶剤(PGMA、メタノール)を変更した場合のハードコート膜の外観評価の結果を示している。
[Experimental example of antireflection film formation]
Next, an experimental example in which the coating composition for an antireflection film of the present invention is formed by the method for forming an optical coating of the present invention will be described. Table 3 shows the hardware when the dot pitch P Y μm (70 μm, 10 μm) in the scanning direction (main scanning direction), the dot diameter D μm (70 μm, 50 μm) at the time of landing, and the main solvent (PGMA, methanol) are changed. The result of the appearance evaluation of the coat film is shown.

本実験の塗布パターンおよび使用したインクジェットヘッド群100は、[ハードコート膜の形成の実験例]と同様である。主溶剤として、上述の接触角θ=33.2°のPGMA、上述の接触角θ=53.6°のメタノールを使用した。   The coating pattern of this experiment and the inkjet head group 100 used are the same as those in [Experimental example of hard coat film formation]. As the main solvent, PGMA having the above contact angle θ = 33.2 ° and methanol having the above contact angle θ = 53.6 ° were used.

外観評価は、ハードコート膜を形成したレンズについて、暗箱で目視評価を行った。「O」:コーティング面にバンディング、凹凸等の不良がない。「×」:コーティング面にバンディング凹凸等の不良がある。   Appearance evaluation performed visual evaluation with the dark box about the lens in which the hard-coat film was formed. “O”: There is no defect such as banding or unevenness on the coating surface. “X”: The coating surface has defects such as banding irregularities.

Figure 2005254098
Figure 2005254098

<実験例2>
(反射防止膜用コーティング組成物(主溶剤=PGME)の調製)
プロピレングリコールモノメチルエーテル(以下PGME)18.8g、γ−グリシドキシトリメトキシシラン8.1gを混合した後、0.1規定塩酸水溶液2.2gを撹拌しながら滴下し、5時間撹拌した。この液にイソプロパノール分散中空シリカゾル(固形分濃度20wt%)20.7gを加えて十分に混合した後、硬化触媒としてAl(C5723を0.04g、シリコン系界面活性剤(日本ユニカー製 L7604)を0.015g添加して撹拌、溶解することにより、固形分濃度が20%のコーティング原液を得た。このコーティング液を希釈するために、300ppm濃度のシリコン系界面活性剤(日本ユニカー製 L7604)入りPGME溶液を準備し、コーティング原液を35.3g、希釈用界面活性剤入りPGME溶液670.7gを混合して十分に撹拌し、固形分濃度が約1%の反射防止膜用コーティング組成物を調製した。
<Experimental example 2>
(Preparation of coating composition for antireflection film (main solvent = PGME))
After mixing 18.8 g of propylene glycol monomethyl ether (hereinafter referred to as PGME) and 8.1 g of γ-glycidoxytrimethoxysilane, 2.2 g of a 0.1 N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise with stirring, followed by stirring for 5 hours. After adding 20.7 g of isopropanol-dispersed hollow silica sol (solid content concentration 20 wt%) to this liquid and mixing well, 0.04 g of Al (C 5 H 7 O 2 ) 3 as a curing catalyst, a silicon surfactant ( A coating stock solution having a solid content concentration of 20% was obtained by adding 0.015 g of Nippon Unicar L7604) and stirring and dissolving. In order to dilute this coating solution, a PGME solution containing a 300 ppm silicon surfactant (Nihon Unicar L7604) was prepared, and 35.3 g of the coating stock solution was mixed with 670.7 g of a PGME solution containing the surfactant for dilution. Then, the mixture was sufficiently stirred to prepare a coating composition for an antireflection film having a solid content concentration of about 1%.

(塗布方法)
予め膜厚2.0μmのハードコート膜を形成した中心厚1.1mm、コバ厚4.7mm、外径80mmのチオウレタン系のプラスチックレンズに対し、主溶剤がPGMEの反射防止膜用コーティング組成物を副走査方向のドットピッチPXを35μm、主走査方向のドットピッチPYを10μmで連続吐出させて塗布した。なお、事前の確認により、主溶剤がPGMEの反射防止膜用コーティング組成物がハードコート膜に着弾した際のドット径Dは70μmであった。塗布後、125℃で180分間硬化した。このようにして得られた低屈折率層の膜厚は0.1μmであり、バンディング等の塗りむらがなく、良好な外観であった。
(Application method)
Anti-reflective coating composition with PGME as the main solvent for a thiourethane plastic lens with a center thickness of 1.1mm, edge thickness of 4.7mm and outer diameter of 80mm. Was applied by continuously discharging the dot pitch P X in the sub-scanning direction at 35 μm and the dot pitch P Y in the main scanning direction at 10 μm. In addition, as a result of prior confirmation, the dot diameter D when the coating composition for an antireflection film whose main solvent was PGME landed on the hard coat film was 70 μm. After application, it was cured at 125 ° C. for 180 minutes. The film thickness of the low refractive index layer thus obtained was 0.1 μm, and there was no uneven coating such as banding, and the appearance was good.

<比較例3>
(塗布方法)
予め膜厚2.0μmのハードコート膜を形成した中心厚1.1mm、コバ厚4.7mm、外径80mmのチオウレタン系のプラスチックレンズに対し、主溶剤がPGMEの反射防止膜用コーティング組成物を主走査方向のドットピッチPYが70μmである以外は実験例2と同様の方法で連続吐出させて塗布した。塗布後、125℃で180分間硬化した。このようにして得られた反射防止膜の膜厚は0.01μmであり、狙い膜厚0.1μmの1/10しか得られなかった。また、コーティング面はバンディング等の塗りムラが目立っており、要求された外観品質レベルを満たすものではなかった。
<Comparative Example 3>
(Application method)
Anti-reflective coating composition with PGME as the main solvent for a thiourethane plastic lens with a center thickness of 1.1mm, edge thickness of 4.7mm and outer diameter of 80mm. Was applied in the same manner as in Experimental Example 2 except that the dot pitch P Y in the main scanning direction was 70 μm. After application, it was cured at 125 ° C. for 180 minutes. The thickness of the antireflection film thus obtained was 0.01 μm, and only 1/10 of the target film thickness of 0.1 μm was obtained. In addition, the coating surface was conspicuous in coating unevenness such as banding, and did not satisfy the required appearance quality level.

<比較例4>
(反射防止膜用コーティング組成物(主溶剤=メタノール)の調製)
メタノール18.8g、γ−グリシドキシトリメトキシシラン8.1gを混合した後、0.1規定塩酸水溶液2.2gを撹拌しながら滴下し、5時間撹拌した。この液にイソプロパノール分散中空シリカゾル(固形分濃度20wt%)20.7gを加えて十分に混合した後、硬化触媒としてAl(C5723を0.04g、シリコン系界面活性剤(日本ユニカー製 L7604)を0.015g添加して撹拌、溶解することにより、固形分濃度が20%のコーティング原液を得た。このコーティング液を希釈するために、300ppm濃度のシリコン系界面活性剤(日本ユニカー製 L7604)入りメタノール溶液を準備し、コーティング原液を35.3g、希釈用界面活性剤入りメタノール溶液670.7gを混合して十分に撹拌し、固形分濃度が約1%の反射防止膜用コーティング組成物を調製した。
<Comparative example 4>
(Preparation of coating composition for antireflection film (main solvent = methanol))
After mixing 18.8 g of methanol and 8.1 g of γ-glycidoxytrimethoxysilane, 2.2 g of a 0.1 N aqueous hydrochloric acid solution was added dropwise with stirring and stirred for 5 hours. After adding 20.7 g of isopropanol-dispersed hollow silica sol (solid content concentration 20 wt%) to this liquid and mixing well, 0.04 g of Al (C 5 H 7 O 2 ) 3 as a curing catalyst, a silicon surfactant ( A coating stock solution having a solid content concentration of 20% was obtained by adding 0.015 g of Nippon Unicar L7604) and stirring and dissolving. In order to dilute the coating solution, a methanol solution containing a 300 ppm silicon surfactant (Nihon Unicar L7604) was prepared, and 35.3 g of the coating stock solution and 670.7 g of a methanol solution containing the surfactant for dilution were mixed. Then, the mixture was sufficiently stirred to prepare a coating composition for an antireflection film having a solid content concentration of about 1%.

(塗布方法)
予め膜厚2.0μmのハードコート膜を形成した中心厚1.1mm、コバ厚4.7mm、外径80mmのチオウレタン系のプラスチックレンズに対し、実験例2と同様の条件で、主溶剤がメタノールの反射防止膜用コーティング組成物を連続吐出させて塗布した。なお、事前の測定において、主溶剤がメタノールの反射防止膜用コーティング組成物がハードコート膜に着弾した際のドット径Dは55μmだった。塗布後、125℃で180分間硬化し、膜厚0.1μmの反射防止膜を得た。しかし、反射防止膜用コーティング組成物の乾燥性が高く、レベリング特性が有効に働かなかったために凹凸が目立っており、要求された外観品質レベルを満たすものではなかった。
(Application method)
For a thiourethane plastic lens having a center thickness of 1.1 mm, an edge thickness of 4.7 mm, and an outer diameter of 80 mm, on which a hard coat film having a thickness of 2.0 μm is formed in advance, the main solvent is used under the same conditions as in Experimental Example 2. The coating composition for the antireflection film of methanol was applied by continuously discharging. In the prior measurement, the dot diameter D was 55 μm when the coating composition for an antireflection film whose main solvent was methanol landed on the hard coat film. After the application, it was cured at 125 ° C. for 180 minutes to obtain an antireflection film having a thickness of 0.1 μm. However, the coating composition for an antireflection film has high drying properties, and the leveling characteristics do not work effectively, so that the unevenness is conspicuous and does not satisfy the required level of appearance quality.

本発明の光学被膜の形成方法は、眼鏡レンズ、調光用レンズ、サングラス、カメラレンズ、望遠鏡レンズ、拡大鏡レンズ、プロジェクターレンズ、ピックアップレンズ、マイクロレンズ等の各種光学レンズおよび光学ミラー、光学フィルター、半導体露光用のステッパー、携帯機器の有機カバーガラス等の光学物品の光学被膜を形成する場合に広く利用することができる。   The optical film forming method of the present invention includes spectacle lenses, dimming lenses, sunglasses, camera lenses, telescope lenses, magnifier lenses, projector lenses, pickup lenses, microlenses, and other various optical lenses and optical mirrors, optical filters, It can be widely used when forming an optical film of an optical article such as a semiconductor exposure stepper or an organic cover glass of a portable device.

本実施例に係る光学レンズの構造例の一例を示す図。The figure which shows an example of the structural example of the optical lens which concerns on a present Example. インクジェットヘッドの分解斜視図。The disassembled perspective view of an inkjet head. インクジェットヘッドの断面図。Sectional drawing of an inkjet head. 1ヘッド水平タイプのインクジェットヘッド群の構造を示す底面図。The bottom view which shows the structure of the inkjet head group of 1 head horizontal type. 2ヘット水平ワイドタイプのインクジェットヘッド群の構造を示す底面図。The bottom view which shows the structure of a 2 head horizontal wide type inkjet head group. 2ヘッド水平高密度タイプのインクジェットヘッド群の構造を示す底面図。The bottom view which shows the structure of a 2 head horizontal high-density type inkjet head group. 1ヘッド回転タイプのインクジェットヘッド群の構造を示す底面図。The bottom view which shows the structure of the inkjet head group of 1 head rotation type. 2ヘッド回転タイプのインクジェットヘッド群の構造を示す底面図。The bottom view which shows the structure of the inkjet head group of 2 head rotation type. 1ヘッド水平タイプの場合のドットピッチとドット径の関係を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the relationship between the dot pitch and dot diameter in the case of 1 head horizontal type. 2ヘッド水平高密度タイプの場合のドットピッチとドット径の関係を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the relationship between the dot pitch and dot diameter in the case of a two-head horizontal high-density type. 1ヘッド回転タイプの場合のドットピッチとドット径の関係を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the relationship between the dot pitch and dot diameter in the case of 1 head rotation type. 光学被膜形成用組成物をインクジェットヘッド群によって被塗布物に塗布する方法を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the method to apply | coat the composition for optical film formation to a to-be-coated object by an inkjet head group. 光学被膜形成用組成物をインクジェットヘッド群によって被塗布物に塗布する方法を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the method to apply | coat the composition for optical film formation to a to-be-coated object by an inkjet head group. 接触角を測定する方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the method of measuring a contact angle. 各有機溶剤の接触角θを示すグラフ。The graph which shows the contact angle (theta) of each organic solvent.

符号の説明Explanation of symbols

1 光学レンズ、11 プラスチックレンズ基材、12 プライマー膜、13 ハードコート膜、14 反射防止膜(有機AR膜)、15 防汚膜、20 インクジェットヘッド、21 ノズルプレート、22 振動板、23 仕切り部材(リザーバプレート)、24 空間、25 液溜まり、26 供給口、27 ノズル、27a 孔、28 圧電素子(ピエゾ素子)、29 電極、30 塗布液、100 インクジェットヘッド群、101 保持部材、200 被塗布物   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical lens, 11 Plastic lens base material, 12 Primer film, 13 Hard coat film, 14 Antireflection film (organic AR film), 15 Antifouling film, 20 Inkjet head, 21 Nozzle plate, 22 Diaphragm, 23 Partition member ( Reservoir plate), 24 spaces, 25 liquid reservoir, 26 supply port, 27 nozzle, 27a hole, 28 piezoelectric element (piezo element), 29 electrode, 30 coating liquid, 100 inkjet head group, 101 holding member, 200 object to be coated

Claims (12)

重合性有機化合物、無機微粒子、並びに溶媒として水及び有機溶剤を含有する光学被膜形成用組成物を、1又は複数のノズル列が形成されたインクジェットヘッドを1又は複数含むインクジェットヘッド群から被塗布物に対してドット状に吐出して塗布し、塗布した光学被膜形成用組成物を硬化させて光学被膜を形成する光学被膜の形成方法において、
前記被塗布物に塗布される光学被膜形成用組成物のドットは、直交する2方向の隣接ドットが互いに隙間無く重なり合うように、
副走査方向のドットピッチをPXμm、主走査方向のドットピッチをPYμm、前記被塗布物に着弾した際のドットの直径をDμmとした場合、PY 2≦D2−PX 2の関係になるように形成されることを特徴とする光学被膜の形成方法。
A composition for forming an optical film containing a polymerizable organic compound, inorganic fine particles, and water and an organic solvent as a solvent from an ink jet head group including one or more ink jet heads having one or more nozzle rows formed thereon. In the method for forming an optical coating, the optical coating is formed by ejecting in the form of dots and applying, curing the applied optical coating forming composition,
The dots of the composition for forming an optical film applied to the object to be coated are such that adjacent dots in two orthogonal directions overlap each other without a gap.
When the dot pitch in the sub-scanning direction is P X μm, the dot pitch in the main scanning direction is P Y μm, and the diameter of the dots upon landing on the coated object is D μm, P Y 2 ≦ D 2 −P X 2 A method for forming an optical film, wherein the optical film is formed so as to satisfy the following relationship.
前記光学被膜形成用組成物は、前記被塗布物に重ね塗りされることを特徴とする請求項1に記載の光学被膜の形成方法。   The method for forming an optical coating according to claim 1, wherein the composition for forming an optical coating is overcoated on the object to be coated. 前記インクジェットヘッド群は、前記主走査方向に対して、そのノズル列が直交方向または斜め方向に配置されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光学被膜の形成方法。   3. The method for forming an optical coating according to claim 1, wherein the nozzle row of the inkjet head group is arranged in an orthogonal direction or an oblique direction with respect to the main scanning direction. 前記光学被膜形成用組成物は、ハードコート膜を形成するためのハードコーティング用組成物であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1つに記載の光学被膜の形成方法。   The said optical film formation composition is a composition for hard coating for forming a hard-coat film, The formation method of the optical film as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記有機溶剤が、水9に対して1の重量比で薄めた水溶液の前記被塗布物の前記ハードコーティング用組成物を塗布する表面に対する接触角θが30°以下である接触角低下溶剤を含有することを特徴とする請求項4に記載の光学被膜の形成方法。   The organic solvent contains a contact angle reducing solvent having a contact angle θ of 30 ° or less with respect to the surface on which the hard coating composition is applied to the coated object in an aqueous solution diluted with a weight ratio of 1 to water 9. The method for forming an optical coating according to claim 4, wherein: 前記接触角低下溶剤が、水と相溶性があり、沸点が135℃以上の溶剤であることを特徴とする請求項5に記載の光学被膜の形成方法。   6. The method for forming an optical coating according to claim 5, wherein the contact angle reducing solvent is a solvent having a compatibility with water and a boiling point of 135 ° C. or higher. 前記接触角低下溶剤が、セロソルブ類であることを特徴とする請求項6に記載の光学被膜の形成方法。   The method for forming an optical coating according to claim 6, wherein the contact angle reducing solvent is a cellosolve. 前記光学被膜形成用組成物は、反射防止膜を形成するための反射防止膜用コーティング組成物であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1つに記載の光学被膜の形成方法。   The said optical film formation composition is a coating composition for anti-reflective films for forming an anti-reflective film, The formation of the optical film as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. Method. 前記有機溶剤が、水9に対して1の重量比で薄めた水溶液の前記被塗布物の前記低屈折率コーティング用組成物を塗布する表面に対する接触角θが40°以下である接触角低下溶剤を含有することを特徴とする請求項8に記載の光学被膜の形成方法。   The contact angle decreasing solvent in which the organic solvent is an aqueous solution diluted with a weight ratio of 1 with respect to water 9 and the contact angle θ of the coating object to the surface on which the low refractive index coating composition is applied is 40 ° or less. The method for forming an optical film according to claim 8, comprising: 前記接触角低下溶剤が、水と相溶性があり、沸点が110℃以上の溶剤であることを特徴とする請求項9に記載の光学被膜の形成方法。   The method for forming an optical coating according to claim 9, wherein the contact angle reducing solvent is a solvent having a compatibility with water and a boiling point of 110 ° C. or more. 前記接触角低下溶剤が、アルコール類であることを特徴とする請求項10に記載の光学被膜の形成方法。   The method for forming an optical coating according to claim 10, wherein the contact angle reducing solvent is an alcohol. 請求項1〜請求項11のいずれか1つに記載の光学被膜の形成方法で製造されたことを特徴とする光学物品。   An optical article manufactured by the method for forming an optical coating according to any one of claims 1 to 11.
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