JP2005246686A - レーザ光を用いた熱転写装置、レーザ光を用いた熱転写方法、及び、これらに用いられる熱転写シート - Google Patents

Abstract

【課題】形状の異なる隣接パターンを同一走査時に形成でき、境界部分の形状、位置精度が良好なパターンを熱転写することができるレーザ光を用いた熱転写装置及びレーザ光を用いた熱転写方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明のレーザ光を用いた熱転写装置は、レーザ発振手段から発振される複数のレーザ光を誘導するための光学系と、ブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で基板を相直交する第１軸方向と第２軸方向に走査可能な２軸ステージ手段とを備え、２軸ステージ手段を第１軸方向または第２軸方向に走査する際に光学系を介して複数のレーザ光を基板に照射することにより、基板上にブラックマトリクス層を熱転写する。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶等のフラットディスプレイに多く用いられるカラー表示のためのカラーフィルタの製造方法および製造装置に関し、特に、ブラックマトリクスを大面積で高速かつ高精度に熱転写するレーザ光を用いた熱転写装置及び熱転写方法に関する。

液晶ディスプレイ等のカラーフィルタの基板に着色層を形成する方法として、例えば特開平７−１０４１１３号公報や特開平１０−２０６６２５号公報に記載されたレーザ光を用いた熱転写装置がある。
これらのレーザ光を用いた熱転写装置では、フィルム状の基材に予め熱溶融型の着色剤を塗布して転写シートとカラーフィルタ基板とを重ね合わせた状態で、転写シートにレーザ光を当てて着色剤を溶融させることにより、基板に所望のパターンで着色剤を転写する。

従来、このようなレーザ光を用いた熱転写装置に用いるレーザ照射方式としては、下記のようなものがあった。
一つのレーザ発振装置を用い、ここから発振される一つのレーザ光をポリゴンミラーで基板上に誘導し、一つ一つのパターンずつスキャンする方式（例えば、特許文献１参照。）。
また、複数のレーザ光源を用い、これらから発振される複数のレーザ光を複数の光ファイバーで誘導し、集光レンズを通して複数箇所に照射する方式（例えば、特許文献２参照。）。

特開昭６２−２０１４１４号公報 特開平１１−１６０５３０号公報

従来のレーザ光を用いた熱転写装置は、上述のように構成されていたため、下記のような課題があった。
従来のレーザ光を用いた熱転写装置は、主としてカラーフィルタの画素部分であるＲＧＢ部分を転写することを目的として確立されたものが多い。ここで、カラーフィルタのＲＧＢ部分は、数１００μｍ程度の幅であるため、ＲＧＢ部分の転写に用いるレーザ照射装置は、約１００μｍ程度のレーザ光を出力するように構成されていた。

一方、ブラックマトリクスパターンに含まれる画素間の遮光部となる高精度なライン状の転写パターンや、ＴＦＴ部分の遮光部となるドット状の転写パターン、さらには外周部の枠線に相当するような太線状の転写パターン等は、数１０μｍ程度の幅である。このため、ＲＧＢ部分の転写に用いるレーザ照射装置をこれらのより微細なパターンを形成するためにそのまま用いることはできず、ＲＧＢ部分と遮光部間のライン状の転写パターン等とを同時に形成することは困難であった。

また、転写基板サイズの大型化や、同一基板上に含まれる形状の異なる転写パターン数の増大に伴い、転写時間が長時間化し、生産性が低下していた。
この転写時間を短縮するために、レーザ光を数１０〜数１００分岐の多分岐構成として生産性を上げる方法があるが、転写速度を高速にするに従い繰り返しでの位置精度が低下し、繰り返し転写の後半部分で隣接パターンに隙間ができてしまうといった問題があった。また、転写速度を高速にするに従いレーザ光の照射出力を上げていく必要があり、高速での高出力転写においては、形状の異なる隣接パターンを別々に走査して形成する場合には、先にレーザ光を照射した領域の境界部分（エッジ部分）においてブラックマトリクス層が硬化して熱転写シート側に残存してしまい、後からレーザが照射されて接合される部分との接合部分がうまく転写されずに、本来接合したい領域が図９内の矢印Ａで示すようにパターンが分離したり、パターンの位置精度の低下を招いていた。

また、ポリゴンミラーを用いたスキャン方式の場合には、連続性のパターン形成には有効であるが、数１０μｍサイズの矩形パターンの形成に対しては困難であり、形成されたパターン形状および位置精度はフォトマスクを使用して露光現像により形成したフォトリソグラフィ法のパターンに比べるとどうしても劣ってしまっていた。

本発明は、上述のような課題を解決するためになされたものであり、形状の異なる隣接パターンを同一走査時に形成でき、境界部分の形状、位置精度が良好なパターンを熱転写することができるレーザ光を用いた熱転写装置及びレーザ光を用いた熱転写方法を提供することを目的とする。

本発明のレーザ光を用いた熱転写装置は、レーザ発振手段から発振される複数のレーザ光を誘導するための光学系と、ブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で基板を相直交する第１軸方向と第２軸方向に走査可能な２軸ステージ手段とを備え、２軸ステージ手段を第１軸方向または第２軸方向に走査する際に光学系を介して複数のレーザ光を基板に照射することにより、基板上にブラックマトリクス層を熱転写する。

本発明の他の形態に係るレーザ光を用いた熱転写装置は、レーザ発振手段から発振される複数のレーザ光を誘導するための光学系と、ブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で基板を第１軸方向に走査可能な１軸ステージ手段と、レーザ発振手段から基板上に誘導される複数のレーザ光を基板の表面を含む面内において第１軸に直交する第２軸方向に走査可能なレーザ光走査手段とを備え、光学系を介して複数のレーザ光を基板に照射する際に、ステージを第１軸方向に走査することと、レーザ光を第２軸方向に走査することとにより、基板上にブラックマトリクス層を熱転写する。

また、前記光学系は、前記複数のレーザ光の照射領域が隣接するように構成されると共に、ブラックマトリクスを熱転写する複数のパターンの接合部分に同時に複数のレーザ光を照射するように構成される。

また、前記光学系は、照射エネルギ、照射時間、または、ビーム幅の異なる複数のレーザ光を前記基板に誘導するための光学素子を備える。

本発明のレーザ光を用いた熱転写方法は、相直交する第１軸方向と第２軸方向に走査可能なステージ上にブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で前記基板を走査する工程と、複数のレーザ光を前記基板に誘導する工程とを含み、前記基板上にブラックマトリクス層を熱転写する。

本発明の他の形態に係るレーザ光を用いた熱転写方法は、第１軸方向に走査可能なステージ上にブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で前記基板を第１軸方向に走査する工程と、複数のレーザ光を前記基板に誘導する工程と、前記複数のレーザ光を誘導する際に前記複数のレーザ光を前記基板の表面を含む面内において前記第１軸に直交する第２軸方向に走査する工程とを含み、前記基板上にブラックマトリクス層を熱転写する。

また、照射エネルギ、照射時間、または、ビーム幅の異なる複数のレーザ光を基板に誘導する工程を含む。

また、複数のレーザ光の照射領域が隣接するように構成される光学系を用い、ブラックマトリクスを熱転写する複数のパターンの接合部分に同時に複数のレーザ光を照射する工程を含む。

また、前記複数のレーザ光により、相隣接するライン状のブラックマトリクスパターンとドット状のブラックマトリクスパターンとを同一走査時に形成する工程を含む。

また、前記複数のレーザ光により、線幅の異なるライン状のブラックマトリクスパターンを同一走査時に形成する工程を含む。

また、前記複数のレーザ光の照射領域が、ステージの走査方向に対して同一線上に縦列または並列するように前記複数のレーザ光を照射する工程を含む。

また、前記複数のレーザ光の照射領域が、ステージの走査方向に対して同一線上に隣接して縦列または隣接して並列するように前記複数のレーザ光を照射する工程を含む。

本発明の熱転写シートは、前記いずれか記載のレーザ光を用いた熱転写装置によるカラーフィルタの製造方法、または、前記いずれか記載のカラーフィルタの製造方法に用いられ、５０〜１２０℃の軟化点を有すると共に熱硬化性を有する熱硬化性樹脂と、遮光性材料とで構成されるブラックマトリックス転写層をフィルム基材の片面に形成した。

本発明のレーザ光を用いた熱転写装置は、２軸ステージ手段を第１軸方向または第２軸方向に走査する際に光学系を介して複数のレーザ光を基板に照射することにより、基板上にブラックマトリクス層を熱転写するので、ブラックマトリクスパターンに含まれる画素間の遮光部となる高精度なライン状の転写パターンや、ＴＦＴ部分の遮光部となるドット状の転写パターン等の数１０μｍ程度の幅の微細パターン、さらには外周部の枠線に相当するような太線状の転写パターンを高精度に転写することができる。

本発明の他の形態に係るレーザ光を用いた熱転写装置は、光学系を介して複数のレーザ光を基板に照射する際に、ステージを第１軸方向に走査することと、レーザ光を第２軸方向に走査することとにより、基板上にブラックマトリクス層を熱転写するので、ブラックマトリクスパターンに含まれる画素間の遮光部となる高精度なライン状の転写パターンや、ＴＦＴ部分の遮光部となるドット状の転写パターン等の数１０μｍ程度の幅の微細パターン、さらには外周部の枠線に相当するような太線状の転写パターンを高精度に転写することができる。

また、光学系は、複数のレーザ光の照射領域が隣接するように構成されると共に、ブラックマトリクスを熱転写する複数のパターンの接合部分に同時に複数のレーザ光を照射するように構成されるので、さらに効率よく微細パターンや太線状の転写パターンを高精度に転写することができる。

また、光学系は、照射エネルギ、照射時間、または、ビーム幅の異なる複数のレーザ光を基板に誘導するための光学素子を備えるので、１回の走査で照射エネルギ、照射時間またはビーム幅の異なる複数のレーザ光を照射してブラックマトリクスパターンを形成するので、形状の異なる複数の転写パターンを各転写パターン毎の最適な転写エネルギとなるような照射エネルギのレーザ光で転写でき、複数の転写パターンを高精細で高速で転写できる。これによりブラックマトリクスパターンに含まれる画素間の遮光部となる数１０μ幅の高精度なライン状の転写パターンや、ＴＦＴ部分の遮光部となるドット状の転写パターン、外周部の枠線に相当するような太線状の転写パターン等を同時に複数形成することができる。また形状の異なる隣接パターンも同一走査時に形成することができ、境界部分の形状、位置精度が良好なパターンを熱転写することができる。

本発明のレーザ光を用いた熱転写方法は、基板を走査する際に複数のレーザ光を基板に照射して基板上にブラックマトリクス層を熱転写するので、ブラックマトリクスパターンに含まれる画素間の遮光部となる高精度なライン状の転写パターンや、ＴＦＴ部分の遮光部となるドット状の転写パターン等の数１０μｍ程度の幅の微細パターン、さらには外周部の枠線に相当するような太線状の転写パターンを高精度に転写することができる。

本発明の他の形態に係るレーザ光を用いた熱転写方法は、基板を第１軸方向に走査する際、または、レーザ光を第２軸方向に走査する際に、複数のレーザ光を基板に照射して基板上にブラックマトリクス層を熱転写するので、ブラックマトリクスパターンに含まれる画素間の遮光部となる高精度なライン状の転写パターンや、ＴＦＴ部分の遮光部となるドット状の転写パターン等の数１０μｍ程度の幅の微細パターン、さらには外周部の枠線に相当するような太線状の転写パターンを高精度に転写することができる。

また、照射エネルギ、照射時間、または、ビーム幅の異なる複数のレーザ光を基板に誘導するので、１回の走査で照射エネルギ、照射時間またはビーム幅の異なる複数のレーザ光を照射してブラックマトリクスパターンを形成するので、形状の異なる複数の転写パターンを各転写パターン毎の最適な転写エネルギとなるような照射エネルギのレーザ光で転写でき、複数の転写パターンを高精細で高速で転写できる。これによりブラックマトリクスパターンに含まれる画素間の遮光部となる数１０μ幅の高精度なライン状の転写パターンや、ＴＦＴ部分の遮光部となるドット状の転写パターン、外周部の枠線に相当するような太線状の転写パターン等を同時に複数形成することができる。また形状の異なる隣接パターンも同一走査時に形成することができ、境界部分の形状、位置精度が良好なパターンを熱転写することができる。

また、相隣接する領域同士を同時に転写するので、従来のように接合部分において先に転写された領域の境界部分が硬化して転写されないことによって生じていた残存部分が形成されることなく、確実に接合部分を形成することができる。

また、複数のレーザ光により、相隣接するライン状のブラックマトリクスパターンとドット状のブラックマトリクスパターンとを同一走査時に形成するので、一回の基板の走査で効率良く確実にライン状とドット状のブラックマトリクスパターンを熱転写することができる。

また、前記複数のレーザ光により、線幅の異なるライン状のブラックマトリクスパターンを同一走査時に形成する工程を含むので、一回の基板の走査で効率良く確実に線幅の異なるライン状のブラックマトリクスパターンを熱転写することができる。

また、複数のレーザ光の照射領域が、ステージの走査方向に対して同一線上に縦列または並列するように前記複数のレーザ光を照射する工程を含むので、一回の基板の走査で効率良く確実に同一線上に縦列または並列するブラックマトリクスパターンを熱転写することができる。

また、複数のレーザ光の照射領域が、ステージの走査方向に対して同一線上に隣接して縦列または隣接して並列するように複数のレーザ光を照射する工程を含むので、一回の基板の走査で効率良く確実に同一線上に隣接して縦列または隣接して並列するブラックマトリクスパターンを熱転写することができる。

本発明の熱転写シートは、前記いずれか記載のレーザ光を用いた熱転写装置によるカラーフィルタの製造方法、または、前記いずれか記載のカラーフィルタの製造方法に用いられ、５０〜１２０℃の軟化点を有すると共に熱硬化性を有する熱硬化性樹脂と、遮光性材料とで構成されるブラックマトリックス転写層をフィルム基材の片面に形成したので、ブラックマトリックスパターンを熱転写することができるとともに、転写後に加熱処理を行うことにより、耐熱性、耐溶剤性といったカラーフィルタ適性を有するブラックマトリクスパターンとすることができる。

実施例１
図１は、本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置の構成を示す図である。
図１に示すように、本発明のレーザ光を用いた熱転写装置は、光学系１０、１０’及びＸＹステージ２０を備える。
光学系１０は、レーザ発振手段であるレーザ発振器１１、第１分光器１２、第１マスク１３、第２分光器１４、第２マスク１５Ａと１５Ｂ、レンズ１６Ａと１６Ｂ、及び、シャッタ１７で構成される。ここで、第１分光器１２ないしシャッタ１７は、照射エネルギ、照射時間、または、ビーム幅の異なる複数のレーザ光をガラス基板２１に誘導するための光学素子として機能する。
なお、レーザ発振器１１の照射／非照射の切り替えとシャッタ１７の開／閉の切り替えとは、図示しない制御装置により行われる。

一方、光学系１０’は、光学系１０とレーザ発振器１１を共有するように構成され、ＸＹステージ２０のＸ軸に対して光学系１０とは対称になるように構成された光学系である（光学系１０と１０’との位置関係については後述する）。具体的には、光学系１０’は、第１マスク１３’、第２分光器１４’、第２マスク１５Ａ’と１５Ｂ’、レンズ１６Ａ’と１６Ｂ’、及び、シャッタ１７’を備える。なお、光学系１０’の各素子１２’〜１７’は、光学系１０の各素子１２〜１７と同一の構成である。

次に、レーザ発振器１１から発振されるレーザ光の光路を光学系１０について説明する。
レーザ発振器１１としては、レーザ波長が６３５〜８３０ｎｍの半導体レーザや、レーザ波長が１０６４ｎｍのＹＡＧレーザ等を用いる。
第１分光器１２は、レーザ発振器１１から発振されるレーザ光１１Ａを第１マスク１３と１３’に振り分けるための分光器である。具体的には、第１分光器１２は、ハーフミラーやビームスプリッタキューブ、ケスタープリズム等のビームスピリッタで構成される。

第１マスク１３は、レーザ発振器１１から出射されるレーザ光１１Ａをトップハット型のレーザ光１１Ｂに整形するマスクである。トップハット型のレーザ光とは、レーザ光端部と中央部のエネルギ強度分布差が少ないレーザ光のことをいう。

第２分光器１４は、レーザ光１１Ｂを第２マスク１５Ａと１５Ｂに振り分けるための分光器である。分光された２本のレーザ光１１Ｂは、それぞれ第２マスク１５Ａと１５Ｂに入射される。具体的には、第２分光器１４は、ハーフミラーやビームスプリッタキューブ、ケスタープリズム等のビームスピリッタで構成される。

第２マスク１５Ａと第２マスク１５Ｂは、第１マスク１３で整形されたレーザ光１１Ｂを所望の断面形状を有するレーザ光１１Ｃとレーザ光１１Ｄに整形するマスクである。ここでは、第２マスク１５Ａが正方形の孔部を有するマスクであり、第２マスク１５Ｂが長方形の孔部を有するマスクである場合について説明する。第２マスク１５Ｂは、ＸＹステージ２０のＸ軸と短辺が平行になるように設置される。

なお、第２マスク１５Ａと１５Ｂは、第１マスク１３でトップハット型に整形されたレーザ光１１Ｂの光路の断面における中央部分の光を透過するように設置するものとする。従って、レーザ光１１Ｃと１１Ｄは、断面内における強度分布が均一なレーザ光となる。

レンズ１６Ａとレンズ１６Ｂは、レーザ光１１Ｃとレーザ光１１Ｄを所望の光径を有するレーザ光１１Ｅと１１Ｆに収斂するレンズである。ここで用いるレンズ１６Ａは、レーザ光１１Ｅの結像焦点でのレーザ光径が２０μｍ角（一辺が２０μｍの正方形）になるように曲率が設定されるレンズであり、レンズ１６Ｂは、レーザ光１１Ｆの結像焦点でのレーザ光径が２０μｍ×５０μｍの長方形になるように設定されるレンズである。

なお、レーザ光１１Ｃのレーザ出力は、３６０ｍＷ／４００μｍ^２（２０μｍ角）となるように設定し、１周期が２５μｓｅｃ．のパルスレーザとした。また、レーザ光１１Ｄのレーザ出力は、９００ｍＷ／１０００μｍ^２（２０μｍ×５０μｍ角）となるように設定し、１周期が２５μｓｅｃ．のパルスレーザとした。

シャッタ１７は、レーザ光１１Ｄの光路に配設され、図示しない制御装置により開閉制御が行われる。
ここで、第２マスク１５Ａと１５Ｂ、レンズ１６Ａと１６Ｂは、レーザ光１１Ｅと１１Ｆの照射領域が結像焦点において隣接するように構成される。すなわち、本発明のレーザ光を用いた熱転写装置は、実際には図１には示さないミラー等の光学系素子を備えることにより、レーザ光１１Ｅと１１Ｆの照射領域を結像焦点において隣接させるように構成されている。

また、光学系１０’は、ＸＹステージ２０のＸ軸に対して光学系１０とは対称になるように構成された光学系であるため、誘導されるレーザ光１１Ａ’〜１１Ｆ’は、光学系１０によって誘導されるレーザ光１１Ａ〜１１ＦとはＸＹステージ２０のＸ軸に対して光学系１０とは対称に誘導される（図１参照）。このため、レーザ光１１Ｅ’と１１Ｆ’の照射領域が結像焦点において隣接する。
なお、レーザ光１１Ｅと１１Ｅ’とが所定間隔を隔てるように光学系１０、１０’が配設される。

また、２軸ステージ手段としてのＸＹステージ２０は、カラーフィルタ用のガラス基板２１を載置するためのステージ２０Ａをガラス基板２１の表面を含む面内相直交する第１軸であるＸ軸、及び、第２軸であるＹ軸方向に走査することのできる装置である。また、ＸＹステージ２０は、ガラス基板２１を設置した状態で熱転写シートを重ね合わせて両者を真空密着するための真空密着機能を備える。
このステージ２０ＡをＸ軸方向及びＹ軸方向に走査しながらレーザ光を照射することにより、ガラス基板２１に所定のパターンを転写する。

ブラックマトリクスのパターンを転写させるための熱転写シートを、転写層がガラス基板２１側に向くようにしてガラス基板に真空密着させる。
熱転写シートとしては、例えば下記のものを用いる。

熱転写シートとしては、透明なフィルム基材の片面に光熱変換層とブラックマトリックス転写層を設けたものが用いられる。また、転写性を調整する目的で光熱変換層とブラックマトリックス転写層の間に離型層や剥離層を設けても良いし、ブラックマトリクス転写層上に接着層を設けても良い。またブラックマトリックス転写層がレーザ光を吸収し光熱変換層の働きを兼ね備える場合は光熱変換層を省略しても良い。この場合はフィルム基材とブラックマトリックス転写層の間に離型層や剥離層を設けても良い。

フィルム基材としては、用いるレーザ光のレーザ波長における光線透過率が６０％以上、より好ましくは８０％以上である透明なフィルム基材が好ましく用いられる。例えば、ポリエステルフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられる。基材の厚みとしては３〜２００μｍで、特に好ましくは５０〜１２５μｍである。基材厚みが薄くなるほど真空密着性が悪くなり、転写感度が低下する。厚すぎるとフィルムの搬送性が悪くなってくる。

光熱変換層は、用いるレーザ光の光を吸収し熱変換させる層であり、レーザ波長における光線吸収材料と結着材により構成される。かかるレーザ光線吸収材料としては、赤外線吸収剤等が挙げられ、特にカーボンブラックやチタンブラック等の無機粒子が好ましい。結着材としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアリレート樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース樹脂等やこれらの共重合樹脂、変性樹脂、電離照射線架橋樹脂、熱硬化樹脂等が用いられる。

これらの樹脂のなかでも特に熱分解温度が２００℃以上の耐熱性が高い樹脂はアブレーション耐性が高く好ましく用いられる。光熱変換層のレーザ波長における光線吸収率としては、５０％以上が好ましく、より好ましくは６０〜９０％である。低すぎると光熱変換の効率が低くなり、エネルギのロスが大きくなる。高すぎると目標とするブラックマトリックスの線幅となる最適な転写エネルギのマージンが狭くなり描画精度が悪くなってくる。

光熱変換層の厚みとしては０．５〜５．０μｍで、好ましくは２．０〜３．０μｍである。厚みが薄すぎると熱変換効率が低くなりエネルギのロスが大きくなる。また薄膜で熱変換効率を上げるためにレーザ光線吸収材料の比率を上げると塗膜強度が低下してくるためアブレーションが発生しやすくなり、光熱変換層ごと転写してしまい転写時にヨゴレが発生する。厚すぎると熱伝導性が低くなり転写感度が低下したり、線幅の精度が低下してくる。光熱変換層における、レーザ光線吸収材料と結着材の比率は１／２０〜２／１で、特に１／１０〜１／１の範囲とすることで、上記のごとき、熱変換効率と膜厚とすることが好ましい。

ブラックマトリックス転写層は、レーザ熱転写性とブラックマトリクス適性を有する層であり遮光性材料と結着材（熱硬化性樹脂）とにより構成される。遮光性材料としてはカーボンブラック、チタンブラック等の無機粒子が好ましく用いられる。またカーボンブラック、チタンブラックは遮光性材料であると共に、赤外線吸収材料でもあるため、光熱変換層を設けない構成とすることも可能となる。結着材としてはレーザ熱転写性とブラックマトリクス適性を付与するために熱可塑性と熱硬化性を有する樹脂組成とすることが好ましく、熱硬化性官能基を有し、なおかつ軟化点が５０〜１２０℃である樹脂材料及び硬化剤等により構成される。例えば、エポキシ樹脂と硬化剤の組合せなどが挙げられる。

ブラックマトリクス転写層の遮光性としては、透過濃度で２．５以上、特に３．０以上とすることがディスプレイとしたときの光漏れを防止する上で好ましい。低すぎると光漏れが生じディスプレイとしての性能が低下してくる。ブラックマトリクス転写層の厚みとしては０．５〜１０．０μｍで、好ましくは０．８〜５．０μｍである。厚みが薄すぎると遮光性が低くなる。また薄膜で遮光性を上げるために遮光性材料の比率を上げると熱転写性が低下して転写感度が低くなったり、ブラックマトリクスとしたときの耐薬品性が低下してくる。厚すぎると転写感度が低下したり、転写時のエッジの切れが悪くなってくる。ブラックマトリクス層の遮光性材料と結着材の比率としては３／７〜２／１が好ましく、上記のごとき、遮光性と膜厚とすることが好ましい。
このような熱転写シートの好ましい実例は、下記の通りである。

熱転写シートの光熱変換層は、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムフィルム（ＰＥＴ）を基材として、その基材の片面に、光熱変換層塗工液をバーコート法により塗布した後、１１０℃２分間乾燥して厚さ３μｍの光熱変換層を形成した。次いで光熱変換層上に離型層塗工液をバーコート法により塗布した後、紫外線硬化して厚さ１μｍの離型層を形成した。次いでブラックマトリックス転写層塗工液をバーコート法により塗布した後、１１０℃２分間乾燥して厚さ１．２μｍのブラックマトリックス転写層を形成した。

なお、ここで用いる光熱変換層塗工液の組成は、カーボンブラック、２重量部、ポリアミドイミド樹脂、１７重量部（東洋紡績（株）製：ＭＴ−５０５０）、ポリエステル樹脂：１重量部（東洋紡績（株）製：パイロン）、エタノール／トルエン（１／１）：８０重量部である。
また、ここで用いる離型層塗工液の組成は、トリメチロールプロパントリアクリレート：２０重量部（日本化薬（株）製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ）、重合開始剤：１重量部（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製：ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０４）、メチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（１／１）：７９．９重量部である。
また、ここで用いるブラックマトリックス転写層塗工液の組成は、カーボンブラック：１０重量部、エポキシ樹脂：１０重量部（ジャパンエポキシレジン（株）製：エピコート１００４ＡＦ（軟化点：９７℃））、エポキシ樹脂：５重量部（ジャパンエポキシレジン（株）製：エピコート１５７Ｓ７（軟化点：７０℃））、硬化剤：３重量部、メチルエチルケトン／トルエン（１／１）：７２重量部である。
なお、基材上に、光熱変換層を設けた構成で、７８０ｎｍの波長における透過率は１０％であった。

本発明のレーザ光を用いた熱転写装置は、様々なブラックマトリクスパターンを形成することができるが、ここでは、アライメントマークを形成する場合を例として説明する。
図２は、本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置による熱転写工程で用いるアライメントマークのパターンの一例を転写工程と共に示す図である。なお、時系列的には図２（ａ）、図２（ｂ）、図２（ｃ）の順で転写工程が進行する。

図２（ｃ）に示すパターンのアライメントマーク３０は、ブラックマトリクスの転写工程と同一の工程で転写されるものであり、ステージ２０上に載置されるガラス基板２１上に転写されて位置決め用に用いられるパターンである。アライメントマーク３０は、ステージ２０の走査方向のＸ軸方向に平行に伸びる第１領域３１Ａ、３１Ｂと、第１領域３１Ａ、３１Ｂの長手方向中央からＹ軸方向外側にそれぞれ伸びる第２領域３２Ａ、３２Ｂとから構成される。

なお、レーザ光１１Ｅと１１Ｅ’のＹ軸方向の幅（２０μｍ）は、第１領域３１Ａ、３１Ｂの幅に相当し、レーザ光１１Ｆと１１Ｆ’の照射範囲（２０μｍ（Ｘ軸方向）×５０μｍ（Ｙ軸方向））は、第２領域３２Ａと３２Ｂの領域の大きさに相当するように設定されている。

次に、このアライメントマーク３０の転写方法について説明する。
まず、図１に示す本発明のレーザ光を用いた熱転写装置のＸＹステージ２０上に熱転写シートを重ねたガラス基板２１を載置した状態において、シャッタ１７と１７’を閉じた状態でレーザ発振器１１からレーザ光１１Ａを発振させると共に、ＸＹステージ２０をＸ方向に８００ｍｍ／ｓの速度で走査し、レーザ光１１Ｅ、１１Ｅ’により平行な第１領域３１Ａと３１Ｂを転写し始める。これにより、Ｘ軸に沿って幅２０μｍのブラックマトリクスが転写されて行く（図２（ａ）参照）。

図２（ｂ）に示すように、第１領域３１Ａ、３１Ｂの転写が第２領域３２Ａ、３２Ｂとの合流点に差し掛かるところで、シャッタ１７と１７’を開くことによりレーザ光１１Ｆ、１１Ｆ’によって第２領域３２Ａと３２Ｂを転写する。シャッタ１７、１７’が開いた状態で熱転写シートに照射されるレーザ光１１Ｆと１１Ｆ’の照射領域は、上述のように、第２領域３２Ａと３２Ｂの大きさに合わせてあるので所定時間（例えば、２５μｓｅｃ程度）照射することにより、５０μｍ×２０μｍの第２領域３２Ａと３２Ｂが転写される。

所定時間経過後にシャッタ１７を閉じ、第１領域３１Ａと３１Ｂの残りの部分を転写する。図２（ｃ）は、転写し終えた状態を示す。このような作業により、アライメントマーク３０を得ることができる。

このように、本発明のレーザ光を用いた熱転写装置によれば、上述した第１領域３１Ａ、３１Ｂと第２領域３２Ａ、３２Ｂとのそれぞれにおける接合部分３０ａ、３０ｂにおいて、相隣接する領域同士を同時に転写するので、従来のように接合部分において先に転写された領域の境界部分が硬化して転写されずに熱転写シート側に残存することがなくなり、接合部分３０ａ、３０ｂを形成することができる。

また、本発明のレーザ光を用いた熱転写装置によれば、ステージの１回の走査で照射エネルギ、照射時間またはビーム幅の異なる複数のレーザ光を照射してブラックマトリクスパターンを形成するので、形状の異なる複数の転写パターンを各転写パターン毎の最適な転写エネルギとなるような照射エネルギのレーザ光で転写でき、複数の転写パターンを高精細で高速で転写できる。これによりブラックマトリクスパターンに含まれる画素間の遮光部となる数１０μ幅の高精度なライン状の転写パターンや、ＴＦＴ部分の遮光部となるドット状の転写パターン、外周部の枠線に相当するような太線状の転写パターン等を同時に複数形成することができる。また形状の異なる隣接パターンも同一走査時に形成することができ、隣接パターンにおける境界部分の形状、位置精度が良好なパターンを熱転写することができる。

また、以上の説明では一つのレーザ発振器から４本のレーザ光を誘導して熱転写を行う場合について説明したが、レーザ発振器から誘導するレーザ光の数は幾つでもよく、さらに、レーザ発振器を複数用いることにより任意の数のレーザ光を誘導して熱転写を行うようにしてもよい。

また、以上の説明では、ビームエキスパンダで構成される第１マスク１３を用いてレーザ発振器１１から出射されるレーザ光１１Ａをトップハット型のレーザ光１１Ｂに整形する場合について説明したが、必ずしもレーザ光１１Ａをトップハット型に整形する必要はなく、レーザ光の断面内における強度分布がガウス分布のレーザ光であっても、接合部分において先に転写された領域の境界部分が硬化して転写されずに熱転写シート側に残存させることなく、接合部分３０ａ、３０ｂを形成することができる。

また、以上の説明では、カラーフィルタの製造工程で位置決め用に用いられるアライメントマーク３０を熱転写する場合について説明したが、本発明のレーザ光を用いた熱転写装置では複数のレーザ光を同時に照射して熱転写を行うので、レーザ光のサイズを変えることにより、サイズや形状を問わずに上述したような接合部分を有する様々なパターンを熱転写することができる。特に、上述の説明ではパターン同士が接合部分を有する場合について説明したが、接合部分を有しない場合でも、複数のブラックマトリクスのパターンを同時に効率よく転写できるものである。

従って、例えば、照射範囲の相隣接する２本のレーザ光を用い、相隣接するライン状のブラックマトリクスパターンとドット状のブラックマトリクスパターンとを同一走査時に形成することができる。

図３ないし図７は、本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置で作製することのできるブラックマトリクスのパターンを例示的に示す図である。
本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置によれば、例えば、図３ないし図７に示すような様々なブラックマトリクスのパターンを熱転写できる。
なお、図３ないし図７中に示すレーザ光Ａ〜Ｋは、図１に示すレーザ光を用いた熱転写装置の光学系１０を適宜変更することにより、出射するレーザ光の数を（２本、４本、あるいは６本等と）変更すると共に、レーザ光の断面形状をブラックマトリクスパターンに併せて変更することによって得られるものである。

図３は、線幅の異なる２本のレーザ光（レーザ光Ａ、Ｂ）を同時に用い、線幅の異なるライン状のブラックマトリクスパターンを形成する場合のレーザ光の断面形状、工程及び最終的に形成されるパターンを示す図である。
すなわち、図３（ａ）に示すような断面形状を有するレーザ光Ａ、Ｂを照射しながらＸ軸方向にステージ２０Ａを走査することにより、図３（ｂ）に示すブラックマトリクスパターンＡ、Ｂを形成する。

図４は、断面形状の異なる２本のレーザ光Ｃ、Ｄの照射領域が、ステージの走査方向（Ｘ軸方向）に対して縦列するように配置し、それぞれの照射タイミングを変えてブラックマトリックスパターンを形成する場合のレーザ光の断面形状、工程及び最終的に形成されるパターンを示す図である。

すなわち、図４（ａ）に示すような断面形状を有するレーザ光Ｃ、Ｄを用い、まず、レーザ光Ｄのみを照射した状態で、ステージ２０ＡをＸ軸方向に走査することにより、図４（ｂ）に示すパターンＤ１を形成する。
次に、ステージ２０Ａを引き続き走査しながら、レーザ光をレーザ光Ｃに切り替え、図４（ｃ）に示すパターンＤ１に続くパターンＣを形成する。
さらに、ステージ２０Ａを引き続き走査しながら、レーザ光をレーザ光Ｄに再び切り替え、図４（ｄ）に示すパターンＤ２を形成する。
こうして、図４（ｄ）に示すパターンＤ１、Ｃ及びＤ２が一体となったブラックマトリクスパターンを形成することができる。

図５は、ステージの走査方向に対して照射領域が並列する２本のレーザ光Ｅ、Ｆを用い、それぞれの照射タイミングを変えてブラックマトリックスパターンを形成する場合のレーザ光の断面形状、工程及び最終的に形成されるパターンを示す図である。

すなわち、図５（ａ）に示すような断面形状を有するレーザ光Ｅ、Ｆを用い、まず、レーザ光Ｅ、Ｆを共に照射した状態で、ステージ２０ＡをＸ軸方向に走査することにより、図５（ｂ）に示すパターンＥ１、Ｆ１を形成する。
次に、ステージ２０Ａを引き続き走査しながら、レーザ光Ｅのみを照射し、図５（ｃ）に示すパターンＥ２を形成する。
これに続いて、ステージ２０Ａを引き続き走査しながら、レーザ光Ｅ、Ｆを共に照射し、図５（ｄ）に示すパターンＥ３、Ｆ２を形成する。
さらに続けて、ステージ２０Ａを引き続き走査しながら、レーザ光Ｅのみを照射し、図５（ｅ）に示すパターンＥ２を形成する。
こうして、パターンＥ４、Ｆ１及びＦ２からなるブラックマトリクスパターンをステージ２０Ａの連続的な走査に併せて形成することができる。
なお、パターンＥ２は、Ｅ１に接続することによって伸びたものであり、さらに、Ｅ３は、Ｅ２に接続することによって伸びたものである。

図６は、線幅の異なる照射領域がステージの走査方向に対して並列的に隣接する２本のレーザ光Ｇ、Ｈを用い、それぞれの照射タイミングを変えてブラックマトリックスパターンを形成する場合のレーザ光の断面形状、工程及び最終的に形成されるパターンを示す図である。
なお、ここで、ドット状のブラックマトリクスパターンとは、図３（ａ）〜（ｃ）に示すようにレーザ光を照射した状態で走査して転写するパターンではなく、レーザ光をスポット状に（その照射範囲だけで走査せずに）転写するパターンをいう。

すなわち、図６（ａ）に示すような断面形状を有するレーザ光Ｇ、Ｈを用い、まず、レーザ光Ｇ、Ｈを共に照射した状態で、図６（ｂ）に示すパターンＧ１、Ｈ１を形成する。
次に、ステージ２０Ａを走査しながら、レーザ光Ｇのみを照射し、図６（ｃ）に示すパターンＧ２を形成する。
これに続いて、ステージ２０Ａを引き続き走査しながら、レーザ光Ｇ、Ｈを共に照射し、図６（ｄ）に示すパターンＧ３、Ｈ２を形成する。
さらに続けて、ステージ２０Ａを引き続き走査しながら、レーザ光Ｇのみを照射し、図６（ｅ）に示すパターンＧ４を形成する。
こうして、パターンＧ４、Ｈ１及びＨ２からなるブラックマトリクスパターンをステージ２０Ａの連続的な走査に併せて形成することができる。

図７は、照射領域が隣接するレーザ光Ｉ、Ｊ及びＫを用い、それぞれの照射タイミングを変えてブラックマトリックスパターンを形成する場合のレーザ光の断面形状、工程及び最終的に形成されるパターンを示す図である。
なお、レーザ光Ｊの照射エネルギーは４００μｍ^２とし、レーザ光Ｉ及びＫ（３６０ｍＷ／４００μｍ^２）よりも低出力に設定してある。

まず、ステージ２０ＡをＹ軸方向に走査しながら、レーザ光Ｊを用い、低速・低照射出力（例えば１００ｍｍ／ｓ、４００μｍ^２）で図７（ｂ）に示すようにＸ軸に平行な３本のライン状のブラックマトリックスパターンＪ１、Ｊ２、Ｊ３を形成する。
次に、レーザ光Ｉ、Ｋを照射し、図７（ｃ）に示すパターンＩ１、Ｉ２、Ｉ３、Ｋ１、Ｋ２及びＫ３を形成する。
続いて、ステージ２０Ａを走査しながら、レーザ光Ｉのみを照射し、図７（ｄ）に示すパターンＩ４、Ｉ５及びＩ６を形成する。
これに続けて、レーザ光Ｉ、Ｋを照射し、図７（ｅ）に示すパターンＩ７、Ｉ８、Ｉ９、Ｋ５、Ｋ６及びＫ７を形成する。
さらに、ステージ２０Ａを走査しながら、レーザ光Ｉのみを照射し、図７（ｆ）に示すパターンＩ１０、Ｉ１１及びＩ１２を形成する。

こうして、パターンＪ１、Ｊ２、Ｊ３、Ｉ１０、Ｉ１１、Ｉ１２、Ｋ１、Ｋ２、Ｋ３、Ｋ５、Ｋ６及びＫ７からなるブラックマトリクスパターンをステージ２０Ａの連続的な走査に併せて形成することができる。
なお、パターンＩ１０、Ｉ１１、Ｉ１２は、それぞれ、パターンＩ１、Ｉ２及びＩ３から、パターンＩ４、Ｉ５及びＩ６に伸び、続いてパターンＩ７、Ｉ８及びＩ９に伸び、最終的にパターンＩ１０、Ｉ１１、Ｉ１２の長さにまで伸びたものである。

また、以上の説明では、２軸ステージ手段としてのＸＹステージ２０を用い、カラーフィルタ用のガラス基板２１を載置するためのステージ２０Ａをガラス基板２１の表面を含む面内相直交する第１軸であるＸ軸、及び、第２軸であるＹ軸方向に走査する場合について説明したが、ブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で基板を第１軸方向であるＸ軸方向に走査可能な１軸ステージ手段をＸＹステージ２０の代わりに用い、これと共に、レーザ発振器１１から基板上に誘導される複数のレーザ光を基板の表面を含む面内においてＸ軸に直交する第２軸であるＹ軸方向に走査可能なレーザ光走査手段（図示せず）を備えるように構成してもよい。

レーザ光走査手段としては、具体的には、可動ステージ等を用いることができ、この可動ステージは、図１における光学系を搭載するように配置すればよい。

また、以上の説明では、レーザ光を数本（図１では最終的に４本）に分光する場合について説明したが、光学系内の分光器により、レーザ光を数１０〜数１００本に分岐してもよく、生産性をさらに向上させることができる。
従来、このような多分岐型は、繰り返しでの位置精度が低下により、繰り返し転写の後半部分で隣接パターンに隙間ができてしまうといった問題があったが、本発明の場合は隣接パターンにおける境界部分の形状、位置精度が良好なパターンを熱転写することができるので、多分岐型にすることにより、生産性を向上させることができる。

実施例２
図８は、本発明の実施例２に係るレーザ光を用いた熱転写装置の構成を示す図である。
図８に示すレーザ光を用いた熱転写装置は、複数のレーザ発振器から発振されるレーザ光を用いてブラックマトリクスを転写する装置である。
図１に示す実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置における構成要素と同一物には同一の符号を付し、その説明を省略する。

図８において、レンズＡ１−レンズＡ２及びレンズＢ１−レンズＢ２は、レーザ発振器からのビームサイズを広げる為のビームエキスパンダーである。
レンズ４３は結像光学系で、レンズＡ３−レンズ４（レンズＢ３−レンズ４）で、テレセントリック光学系とするのが好ましい。ミラー４０により、レーザ光Ａとレーザ光Ｂを隣接する。

マスク４１は、レーザ発振器から発振されるレーザ光を整形するマスクであり、このマスク形状をレーザ光Ａとレーザ光Ｂの照射エリアで変えることにより、照射エネルギ、照射時間、ビーム幅の異なる複数のレーザ光を加工面に誘導するための光学素子として機能することが可能となる。
なお、アパーチャ４２は必ずしも備える必要はない。

この他に、図示していないシャッタを発振器からミラー４０までの光路上に設けることにより、照射エネルギ、照射時間の異なる複数のレーザ光を加工面に誘導するための光学素子として機能する。

このように複数のレーザ発振器を用いたレーザ光を用いた熱転写装置においても、実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置と同様にブラックマトリクスを熱転写することができる。
なお、レーザ発振器の数は、３つ以上であってもよい。

本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置の構成を示す図である。 本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置による熱転写工程で用いるアライメントマークのパターンの一例を転写工程と共に示す図である。 本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置で作製することのできるブラックマトリクスのパターンを例示的に示す図である。 本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置で作製することのできるブラックマトリクスのパターンを例示的に示す図である。 本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置で作製することのできるブラックマトリクスのパターンを例示的に示す図である。 本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置で作製することのできるブラックマトリクスのパターンを例示的に示す図である。 本発明の実施例１に係るレーザ光を用いた熱転写装置で作製することのできるブラックマトリクスのパターンを例示的に示す図である。 本発明の実施例２に係るレーザ光を用いた熱転写装置の構成を示す図である。 従来のレーザ光を用いた熱転写方法において、本来接合したいパターン同士が分離した場合のパターンを示す図である。

符号の説明

１０、１０’ 光学系、１１ レーザ発振器、１１Ａ、１１Ｂ、１１Ｃ、１１Ｄ、１１Ｅ、１１Ｆ、１１Ａ’、１１Ｂ’、１１Ｃ’、１１Ｄ’、１１Ｅ’、１１Ｆ’ レーザ光、１２ 第１分光器、１３、１３’ マスク、１４、１４’ 第２分光器、１５Ａ、１５Ｂ、１５Ａ’、１５Ｂ’ マスク、１６Ａ、１６Ｂ、１６Ａ’、１６Ｂ’ レンズ、１７、１７’ シャッタ、２０ ＸＹステージ、２０Ａ ステージ、２１ ガラス基板、３０ アライメントマーク、３０ａ、３０ｂ 接合部分、３１Ａ、３１Ｂ 第１領域、３２Ａ、３２Ｂ 第２領域。

Claims (13)

1. レーザ発振手段から発振される複数のレーザ光を誘導するための光学系と、
   ブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で前記基板を相直交する第１軸方向と第２軸方向に走査可能な２軸ステージ手段と
   を備え、前記２軸ステージ手段を第１軸方向または第２軸方向に走査する際に前記光学系を介して複数のレーザ光を前記基板に照射することにより、前記基板上にブラックマトリクス層を熱転写することを特徴とするレーザ光を用いた熱転写装置。
2. レーザ発振手段から発振される複数のレーザ光を誘導するための光学系と、
   ブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で前記基板を第１軸方向に走査可能な１軸ステージ手段と、
   レーザ発振手段から前記基板上に誘導される複数のレーザ光を前記基板の表面を含む面内において前記第１軸に直交する第２軸方向に走査可能なレーザ光走査手段と
   を備え、前記光学系を介して複数のレーザ光を前記基板に照射する際に、前記ステージを第１軸方向に走査することと、前記レーザ光を第２軸方向に走査することとにより、前記基板上にブラックマトリクス層を熱転写することを特徴とするレーザ光を用いた熱転写装置。
3. 前記光学系は、前記複数のレーザ光の照射領域が隣接するように構成されると共に、ブラックマトリクスを熱転写する複数のパターンの接合部分に同時に複数のレーザ光を照射するように構成されることを特徴とする請求項１または２記載のレーザ光を用いた熱転写装置。
4. 前記光学系は、照射エネルギ、照射時間、または、ビーム幅の異なる複数のレーザ光を前記基板に誘導するための光学素子を備えることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項記載のレーザ光を用いた熱転写装置。
5. 相直交する第１軸方向と第２軸方向に走査可能なステージ上にブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で前記基板を走査する工程と、
   複数のレーザ光を前記基板に誘導する工程と
   を含み、前記基板上にブラックマトリクス層を熱転写するレーザ光を用いた熱転写方法。
6. 第１軸方向に走査可能なステージ上にブラックマトリクス転写層を含む熱転写シートが重ねられた基板を載置し、この基板の表面を含む面内で前記基板を第１軸方向に走査する工程と、
   複数のレーザ光を前記基板に誘導する工程と、
   前記複数のレーザ光を誘導する際に前記複数のレーザ光を前記基板の表面を含む面内において前記第１軸に直交する第２軸方向に走査する工程と
   を含み、前記基板上にブラックマトリクス層を熱転写するレーザ光を用いた熱転写方法。
7. 照射エネルギ、照射時間、または、ビーム幅の異なる複数のレーザ光を基板に誘導する工程を含むことを特徴とする請求項５または６記載のレーザ光を用いた熱転写方法。
8. 複数のレーザ光の照射領域が隣接するように構成される光学系を用い、ブラックマトリクスを熱転写する複数のパターンの接合部分に同時に複数のレーザ光を照射する工程を含むことを特徴とする請求項５ないし７のいずれか一項記載のレーザ光を用いた熱転写方法。
9. 前記複数のレーザ光により、相隣接するライン状のブラックマトリクスパターンとドット状のブラックマトリクスパターンとを同一走査時に形成する工程を含むことを特徴とする請求項８記載のカラーフィルタの製造方法。
10. 前記複数のレーザ光により、線幅の異なるライン状のブラックマトリクスパターンを同一走査時に形成する工程を含むことを特徴とする請求項８または９記載のカラーフィルタの製造方法。
11. 前記複数のレーザ光の照射領域が、ステージの走査方向に対して同一線上に縦列または並列するように前記複数のレーザ光を照射する工程を含むことを特徴とする請求項５ないし７のいずれか一項記載のカラーフィルタの製造方法。
12. 前記複数のレーザ光の照射領域が、ステージの走査方向に対して同一線上に隣接して縦列または隣接して並列するように前記複数のレーザ光を照射する工程を含むことを特徴とする請求項５ないし７のいずれか一項記載のカラーフィルタの製造方法。
13. 請求項１ないし５のいずれか一項記載のレーザ光を用いた熱転写装置によるカラーフィルタの製造方法、または、請求項５ないし１２のいずれか一項記載のカラーフィルタの製造方法に用いられ、
    ５０〜１２０℃の軟化点を有すると共に熱硬化性を有する熱硬化性樹脂と、遮光性材料とで構成されるブラックマトリックス転写層をフィルム基材の片面に形成したことを特徴とする熱転写シート。

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