JP2005245800A

JP2005245800A - 助長剤入り酸性水、インプラント入り酸性水及び洗口液

Info

Publication number: JP2005245800A
Application number: JP2004061679A
Authority: JP
Inventors: Yuzo Hosoda; 勇蔵細田; Fumio Teraoka; 文雄寺岡
Original assignee: HOSODA DENKI KK; Hosoda Electric Co Ltd
Current assignee: HOSODA DENKI KK; Hosoda Electric Co Ltd
Priority date: 2004-03-05
Filing date: 2004-03-05
Publication date: 2005-09-15

Abstract

【課題】歯肉の落下防止、支持組織の再建や再生の促進、メンブレン３０の殺菌工程とメンブレン３０へのハイドロキシアパタイト５０の付着工程とを一度に行うこと。
【解決手段】容器１００内に、例えば、ｐＨ値が２．６以下、酸化還元電位が４５０ｍＶ塩化物イオンが３１ｍｇ／Ｌ以下の酸性水６０を注入する。酸性水６０には、再建又は再生対象の再建又は再生の助長剤であるハイドロキシアパタイト５０を溶解させてある。容器１００内には、インプラントであるメンブレン３０を浸してある。
【選択図】図１

Description

本発明は、助長剤入り酸性水、インプラント入り酸性水及び洗口液に関し、特に、再建又は再生医療に係る助長剤入り酸性水、インプラント入り酸性水に関する。

従来、本発明者による、ｐＨ値が２．６、酸化還元電位が４５０ｍＶ、塩化物イオンが３１ｍｇ／Ｌの酸性水が、特許文献１に記載されている。この酸性水は、「酸性水生成域に陽極を、アルカリ水生成域に陰極をそれぞれ配して前記酸性水生成域及び前記アルカリ水生成域に満たされた電解液に電圧を印加し、且つイオン交換により前記酸性水生成域において酸性水を、前記アルカリ水生成域においてアルカリ水をそれぞれ生成するようにした酸性水及びアルカリ水の製造方法であって、前記電解液を、原水中に電解剤として非金属鉱物及び珪酸塩鉱物を投入することにより前記原水中に前記非金属鉱物及び前記珪酸塩鉱物からイオン物質を溶出させて生成する」ものである。

上記のような、低ｐＨ値で、低酸化還元電位で、更に、少残留塩素である酸性水は、水素イオン濃度、硫酸イオン濃度を高めることで、酸性水中に塩酸等を混ぜなくても生成することができるということを、種々の研究、実験等から導出した。

そして、上記のような酸性水の用途について研究し、実験等を行った結果、病院、歯科医院をはじめとする、医科歯科薬科などの医療分野に、特に好適に用いることができることを見いだした。

特開２００１−３３４２７１号公報

上記課題を解決するために、本発明の助長剤入り酸性水は、塩化物イオンが３１ｍｇ／Ｌ以下の酸性水に、再建又は再生対象の再建又は再生の助長剤を溶解させている。

すなわち、本発明の助長剤入り酸性水は、人体等に対して悪影響を及ぼさず（例えば残留塩素が少ない）、助長剤が溶けやすいものであればよい。

特に、この酸性水のｐＨ値が２．６以下であれば、殺菌効果も得られるので、インプラントをこの酸性水に浸すことで、インプラントの殺菌工程が不要となる効果がある。

また、本発明の再建又は再生医療用器具は、助長剤入り酸性水と、前記酸性水に浸してあるインプラントとを含む。

さらに、本発明の洗口液は、塩化物イオンが３１ｍｇ／Ｌ以下の酸性水に、フルオロアパタイト又は香味料を溶解させている。

発明の最良の実施形態

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、本実施形態の助長剤入り酸性水の模式的な構成図である。図１に示す容器１００は、ガラス製又はプラスチック製としている。容器１００には、例えば、ｐＨ値が２．６以下、酸化還元電位が３００ｍＶ〜７００ｍＶ、塩化物イオンが３１ｍｇ／Ｌ以下の酸性水６０が注入されている。

酸性水６０内には、助長剤であるところのハイドロキシアパタイト５０が、飽和溶解量以下含まれている。例えば、１Ｌの酸性水６０に対して、８００ｍｇのハイドロキシアパタイト５０が含まれている。この場合の酸性水６０のカルシウム（Ｃａ^＋＋）濃度は、約３２０ｍｇ／Ｌである。このカルシウム濃度は、体液中のカルシウム濃度の約３倍である。

図２は、図１に示す酸性水６０が注入されている容器１００内に、メンブレン３０を浸した状態を示す図である。メンブレン３０は、片面もしくは両面がプラズマ処理されている。なお、メンブレン３０は高分子材料からなり、この場合、プラズマ処理がメンブレン３０へのハイドロキシアパタイト５０の付着に有効となる。

メンブレン３０に対してプラズマ処理を行うと、メンブレン３０の表面に、酸素を含む官能基を修飾させることができる。これにより、濡れ性向上、表面自由エネルギーの増加が生じる。また、そのエッチング効果により、ナノレベルでメンブレン３０の表面を粗造させることができるため、上記のようにハイドロキシアパタイト５０の付着が有効になる。

純チタン、生分解性高分子（ポリ乳酸）などを材料としたインプラントの場合にも、プラズマ処理は有効である。ただし、純チタンを材料とした場合には、プラズマ処理を行うことでは、ハイドロキシアパタイト５０の付着というよりも、むしろ表面のクリーニング効果が得られることになる。

ここで、本明細書で云う「インプラント」は、「欠損あるいは外傷を受けた部位に埋め込むために、人工的に作製した器官・組織の代替物」であり、メンブレン、人工骨、人工臓器、人工皮膚、人工神経、人工膜、人工関節、又は人工歯根を含む。

図３は、図２に示す容器１００内に例えば３０分間程度浸したメンブレン３０の模式的な断面図である。図３に示すように、メンブレン３０の第一面３１には、第二面３２に対して、相対的に多くのハイドロキシアパタイト５０が付着している。第一面３１は、プラズマ処理を施している面である。

実際に、メンブレン３０の第一面３１の半分をマスクした状態でプラズマ処理を行い、８００ｍｇ／Ｌのハイドロキシアパタイト５０入り酸性水６０に例えば３０分間程度浸した。その後に、酸性水６０から取り出したメンブレン３０の表面を観測したところ、第一面３１のマスクしてない領域には０．５２μｇ／ｃｍ^２程度のハイドロキシアパタイト５０が付着し、第二面３２には０．１５μｇ／ｃｍ^２程度のハイドロキシアパタイト５０が付着していた。

図４は、図２に示すハイドロキシアパタイト５０が付着したメンブレン３０の歯周病治療への適用例の説明図である。まず、歯周病に犯された部位を除去し、歯１０と歯肉２０との領域を清掃した後に、ここに、支持組織４０側がハイドロキシアパタイト５０の付着面となる態様で、メンブレン３０を設置する。こうすると、外部から、ハイドロキシアパタイト５０下に、別の軟組織が入り込むことが防止できる。したがって、メンブレン３０本来の機能によって、歯肉２０の落下が防止できる。

これにより、患部の早期治療が実現でき、患者の治療期間の負担軽減が図れる。また、既述のように、メンブレン３０へのハイドロキシアパタイト５０の付着時間が短くて済むため、メンブレン３０へのハイドロキシアパタイト５０の付着工程を、臨床現場で行うことができるというメリットがある。

さらに、ｐＨ値が２．６以下の酸性水６０は、以下説明するように、殺菌効果を有しているため、酸性水６０から取り出したメンブレン３０の殺菌工程が不要になるというメリットもある。換言すると、ハイドロキシアパタイト５０入り酸性水６０に、メンブレン３０を浸せば、メンブレン３０の殺菌工程と、メンブレン３０へのハイドロキシアパタイト５０の付着工程とを一度に、しかも短時間で行うことができるようになる。この点も、メンブレン３０へのハイドロキシアパタイト５０の付着工程を、臨床現場で行えるようになることに寄与している。

実際に、リン酸カルシウムを沈着させたメンブレン３０を、擬似体液（ＳＢＦ）中に浸漬すると、リン酸カルシウムの沈着量が増加した。このことから、メンブレン３０を生体内に埋入した場合には、骨組織の再生は早くなると推測される。

つぎに、酸性水６０の製造方法の概略について説明する。なお、酸性水６０の製造方法の詳細は、特許文献１に記載してある。まず、化石土類及び珪酸塩鉱物が、それぞれ酸性水生成域内及びアルカリ水生成域内に投入されている電解槽を用意する。酸性水生成域とアルカリ水生成域とは、電解用隔膜で仕切られている。

電解槽内に水道水を注入してから、酸性水生成域内に陽電極棒、アルカリ水生成域内の陰電極棒を位置させ、これらに電圧を印加する。すると、上記のような、例えば、ｐＨ値が２．６以下、酸化還元電位が４５０ｍＶ、塩化物イオンが３１ｍｇ／Ｌ以下の酸性水６０が得られる。なお、得られた酸性水６０を、ろ過して過熱することで、ｐＨ値を更に低下させ、低酸化還元電位にし、塩化物イオンを更に低下させることができる。

表１は、上記プロセスで生成した酸性水の分析結果を示す表である。この酸性水の分析は（社団法人東京都食品協会、東京食品技術研究所）に委託して行った試験検査成績書である。

表１から明らかなように、酸性水６０は、ｐＨ値が２．６であり、酸化還元電位（ＯＲＰ）が４５０ｍＶであり、塩化物イオンが３１ｍｇ／Ｌであった。なお、その後の実験により、ｐＨ値を１．０程度まで低下させることができた。一方、ｐＨ値が５．０程度の酸性水６０へのハイドロキシアパタイト５０の溶解量も多いことがわかった。このような酸性水６０を用いる場合には、ガス滅菌などでメンブレン３０の滅菌処理を行えばよい。

本実施形態では、ハイドロキシアパタイトを助長剤とし、インプラントをメンブレンとした場合を例に、酸性水６０の用途を説明したが、助長剤、インプラント及びこれらの組み合わせはこれに限定されるものではない。助長剤は、例えば再生対象等の構成要素であればよく、助長剤には、コラーゲン、炭酸アパタイトやその他リン酸カルシウム、又はペプチドなどが含まれる。また、インプラントには、人工骨、人工臓器、人工皮膚、人工神経、人工膜、人工関節、又は人工歯根などが含まれる。

また、酸性水６０に、殺菌効果があるため、洗口液にも用いることができる。酸性水６０に、歯の再石灰化を助長するフッ素を含ませ、さらに、爽快感等を実現するために香味料等を含めると良い。酸性水６０とフッ素との組み合わせによると、口内殺菌及び歯の再石灰化が実現され、酸性水６０と香味料との組み合わせによると、口内殺菌及び爽快感が実現され、酸性水６０とフッ素と香味料との組み合わせによると、口内殺菌及び歯の再石灰化及び爽快感が実現される。

酸性水６０に約５分間浸漬した抜去歯のカルシウムの溶解量は、約０．８ｍｇ／ｌで、酸性水６０と同じｐＨ値の塩酸水溶液と比べると約１／３７であった。本洗口液には、約３２０ｍｇ／ℓのカルシウムを溶解させているため、歯からの溶解量はさらに減少することが予測される。

さらに、病院内、歯科院内での各種殺菌に用いることができる。ピンセット、切削・研削ツールなどの金属系器具、印象などの高分子系器具、デンタルチェアー吸水系などの複合系器具のいずれのものであっても、殺菌対象とすることができる。このため、金属系器具しか使用できない、しかも高価なオートクレーブを殺菌のために用いなくてもよい。また、安全性の問題をはらむ紫外線照射装置を殺菌のために用いなくてもよい。さらには、安全性及び廃液の問題をはらむ薬液を殺菌のために用いなくてもよい。

換言すると、酸性水６０は、安全性が高く、安価で、廃液処理も不要であるということになる。さらに、酸性水６０は、加熱しても成分等が変化しないため、オートクレーブとの併用が可能となり、短時間での殺菌処理、高殺菌処理が可能となる。

静電除去用酸性水、殺虫用酸性水、洗浄用酸性水、抗菌用酸性水などに利用できる。

本実施形態の助長剤入り酸性水の模式的な構成図である。図１に示す酸性水６０が注入されている容器１００内に、メンブレン３０を浸した状態を示す図である。図２に示す容器１００内に３０分間程度浸したメンブレン３０の模式的な断面図である。図２に示すハイドロキシアパタイト５０が付着したメンブレン３０の歯周病治療への適用例の説明図である。

符号の説明

Claims

塩化物イオンが３１ｍｇ／Ｌ以下の酸性水に、再建又は再生対象の再建又は再生の助長剤を溶解させていることを特徴とする助長剤入り酸性水。
前記助長剤は、前記対象の構成要素であることを特徴とする請求項１記載の助長剤入り酸性水。
前記助長剤は、リン酸カルシウム、コラーゲン、又はペプチドであることを特徴とする請求項１又は２記載の助長剤入り酸性水。
前記助長剤は、飽和溶解量以下含まれていることを特徴とする請求項１から３のいずれか記載の助長剤入り酸性水。
請求項１から４のいずれか記載の助長剤入り酸性水と、前記酸性水に浸してあるインプラントとを含むことを特徴とするインプラント入り酸性水。
前記インプラントは、メンブレン、人工骨、人工臓器、人工皮膚、人工神経、人工膜、人工関節、又は人工歯根であることを特徴とする請求項５記載のインプラント入り酸性水。
塩素イオンが３１ｍｇ／Ｌ以下の酸性水に、フルオロアパタイト又は香味料を溶解させていることを特徴とする洗口液。