JP2005242096A - Photosensitive ceramic composition - Google Patents

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武則 上岡
Hironobu Sadakuni
広宣 定国
Tomoya Yamaho
智也 山舖
Takao Kitagawa
隆夫 北川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive ceramic composition capable of forming a high-definition via hole having a high aspect ratio by a photolithographic method, and being used for a circuit material such as a ceramic multilayer substrate for high-frequency radio transmission. <P>SOLUTION: The photosensitive ceramic composition has an inorganic powder and a photosensitive organic component as essential components. The inorganic powder includes alumina powder whose average particle diameter is ≤500 nm, and the photosensitive organic component includes a polymer containing an ester of a polyhydric alcohol and an ethylenically unsaturated carboxylic acid as a copolymerized component and having an ethylenically unsaturated group in a side chain. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、感光性セラミックス組成物に関する。本発明の感光性セラミックス組成物は、高周波無線用セラミックス多層基板などの回路材料などに用いられる。   The present invention relates to a photosensitive ceramic composition. The photosensitive ceramic composition of the present invention is used for circuit materials such as a ceramic multilayer substrate for high frequency radio.

携帯電話をはじめとする無線通信技術の普及が著しい。従来の携帯電話は800MHz〜1.5GHzの準マイクロ波帯を用いたものであったが、情報量の増大に伴い、搬送周波数をより高周波であるマイクロ波帯からミリ波帯とした無線技術が提案され、実現される状況にある。こうした高周波無線回路は、移動体通信やネットワーク機器としての応用が期待されており、中でもブルートゥース(Bluetooth)やITS(Intelligent Transport System,高度交通情報システム)での利用によってますます重要な技術となりつつある。   The spread of wireless communication technology including mobile phones is remarkable. A conventional mobile phone uses a quasi-microwave band of 800 MHz to 1.5 GHz. However, as the amount of information increases, there is a wireless technology that changes a carrier frequency from a microwave band having a higher frequency to a millimeter wave band. Proposed and realized. These high-frequency radio circuits are expected to be used as mobile communications and network devices, and are becoming increasingly important technologies especially when used in Bluetooth and ITS (Intelligent Transport System). .

これらの高周波回路を実現するためには、そこで使用される基板材料も、使用波長帯、すなわち、1〜100GHzで優れた高周波伝送特性をもつ必要がある。優れた高周波伝送特性を実現するためには、低誘電率でかつ誘電損失が低いこと、加工精度が高いこと、寸法安定性がよいといった要件が必要であり、なかでもセラミックス基板が有望視されてきた。   In order to realize these high-frequency circuits, the substrate material used there must also have excellent high-frequency transmission characteristics in the wavelength band used, that is, 1 to 100 GHz. In order to realize excellent high-frequency transmission characteristics, it is necessary to have low dielectric constant and low dielectric loss, high processing accuracy, and good dimensional stability, and ceramic substrates are especially promising. It was.

しかしながら、これまでのセラミックス基板材料は、寸法安定性に優れているものの、微細加工度が低かったため、特に高周波領域において十分な特性を得ることができなかった。このような微細加工精度の問題を改良する方法として、感光性セラミックス組成物から形成したグリーンシートを用いたフォトリソグラフィー技術によるビアホール形成方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、この方法では高アスペクト比のビアホール形成に限界があった。その理由はフォトリソ加工時の紫外線が乱反射し深部まで届かないことであった。   However, although the conventional ceramic substrate materials are excellent in dimensional stability, the fine processing degree is low, so that sufficient characteristics cannot be obtained particularly in a high frequency region. As a method for improving such a problem of fine processing accuracy, a via hole forming method using a photolithography technique using a green sheet formed from a photosensitive ceramic composition has been proposed (for example, see Patent Document 1). However, this method has a limit in forming a high aspect ratio via hole. The reason was that ultraviolet rays during photolithographic processing were diffusely reflected and did not reach the deep part.

そこでこれらの課題を解決する方法として、シートに含有されるセラミックス粒子の平均粒子径を紫外線の波長より小さくすることが提案されている(例えば、特許文献2参照。)。この方法により紫外線透過率を向上させ、シートの深部まで紫外線を到達させることで高アスペクト比のビアホール形成が可能になるものである。   Therefore, as a method for solving these problems, it has been proposed to make the average particle diameter of ceramic particles contained in the sheet smaller than the wavelength of ultraviolet rays (see, for example, Patent Document 2). By this method, the ultraviolet transmittance is improved, and the ultraviolet rays reach the deep part of the sheet, whereby a high aspect ratio via hole can be formed.

さらに焼成特性を改善するために、感光性セラミックス組成物のなかにポリグリセリンなどのポリエーテル或いはポリエステルから選ばれたバインダー樹脂をブレンドする手法が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。この手法によって積層焼成での変形や剥離が減少して収率向上に繋がる。しかしながら、このようなバインダー樹脂のブレンド法では、現像工程でバインダー樹脂が現像液に溶出し、パターン加工後のシートが剛直で脆くなる。そしてパターン加工後の工程(導体ペースト穴埋めや導体パターン加工やシートを多層積層するなどのシートハンドリング工程)において、割れや欠けが発生するという課題があった。
特開平6−202323号公報 特開2002−162735号公報 特開2002−311583号公報
In order to further improve the firing characteristics, there has been proposed a method of blending a binder resin selected from polyethers such as polyglycerin or polyester in the photosensitive ceramic composition (see, for example, Patent Document 3). By this method, deformation and peeling during lamination firing are reduced, leading to an improvement in yield. However, in such a blending method of the binder resin, the binder resin is eluted into the developer in the development process, and the sheet after pattern processing becomes rigid and brittle. Then, there is a problem that cracking and chipping occur in a process after pattern processing (sheet handling process such as conductor paste hole filling, conductor pattern processing, and multilayer lamination of sheets).
JP-A-6-202323 JP 2002-162735 A JP 2002-311583 A

フォトリソグラフィー法を用いた高アスペクト比かつ高精細のビアホール形成を可能にするためには、微細なセラミックス粒子が均一に分散されていることが必要である。さらにビアホール形成後の加工工程に適した状態であるためには、現像後のシート柔軟性が保持されていることが必要である。本発明は、それらに対応した感光性セラミックス組成物を提供することを課題とする。   In order to enable high-aspect-ratio and high-definition via-hole formation using a photolithography method, it is necessary that fine ceramic particles are uniformly dispersed. Further, in order to be in a state suitable for the processing step after the via hole is formed, it is necessary to maintain the sheet flexibility after development. This invention makes it a subject to provide the photosensitive ceramic composition corresponding to them.

すなわち本発明は、無機粉末と感光性有機成分を必須成分とする感光性セラミックス組成物において、無機粉末が平均粒子径500nm以下のアルミナ粉末を含有し、感光性有機成分が、共重合成分として多価アルコールとエチレン性不飽和カルボン酸とのエステルを含み、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマを含有することを特徴とする感光性セラミックス組成物により課題を解決するものである。   That is, the present invention relates to a photosensitive ceramic composition comprising an inorganic powder and a photosensitive organic component as essential components, the inorganic powder containing an alumina powder having an average particle size of 500 nm or less, and the photosensitive organic component being a copolymer component. The problem is solved by a photosensitive ceramic composition comprising an ester of a monohydric alcohol and an ethylenically unsaturated carboxylic acid and containing a polymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain.

本発明の感光性セラミックス組成物によりフォトリソ加工性に優れ、現像後のシート柔軟性が保持され、後工程での割れや欠けの防止に有効なシートを得ることができる。   The photosensitive ceramic composition of the present invention can provide a sheet that is excellent in photolithography processability, retains sheet flexibility after development, and is effective in preventing cracks and chipping in subsequent processes.

本発明の感光性セラミックス組成物は、無機粉末と感光性有機成分を必須成分とするものであり、無機粉末が平均粒子径500nm以下のアルミナ粉末を含有し、感光性有機成分が、共重合成分として多価アルコールとエチレン性不飽和カルボン酸とのエステルを含み、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマを含有することを特徴とする感光性セラミックス組成物である。    The photosensitive ceramic composition of the present invention comprises an inorganic powder and a photosensitive organic component as essential components, the inorganic powder contains an alumina powder having an average particle size of 500 nm or less, and the photosensitive organic component is a copolymer component. A photosensitive ceramic composition comprising a polymer containing an ester of a polyhydric alcohol and an ethylenically unsaturated carboxylic acid and having an ethylenically unsaturated group in the side chain.

本発明において、感光性セラミックス組成物は無機粉末と感光性有機成分からなる。無機粉末はアルミナ粉末を必須成分とし、ガラス粉末、その他無機粉末を含有してもよい。アルミナ粉末の平均粒子径は500nm以下であり、300nm以下が好ましく、さらに150nm以下がより好ましい。このような大きさのアルミナ粉末を用いることによって、低温焼成を可能にし、焼結性を高めて緻密で機械的強度の高い焼結体を得ることができ、また、露光時の光を散乱して露光特性に障害を与えることがない。平均粒子径が500nmを超えると、紫外線が深部まで届かないため、高精細のパターンを形成することができない。アルミナ粉末の含有量は感光性セラミックス組成物に対して5重量%〜90重量%が好ましく、さらに20重量%〜80重量%がより好ましい。アルミナ粉末の添加量をこの範囲にすることで、焼成後のシート誘電率特性を低下させることなく、シートの光透過率を高くすることができるため、フォトリソ加工性が良好となる。   In the present invention, the photosensitive ceramic composition comprises an inorganic powder and a photosensitive organic component. The inorganic powder contains alumina powder as an essential component, and may contain glass powder and other inorganic powders. The average particle size of the alumina powder is 500 nm or less, preferably 300 nm or less, and more preferably 150 nm or less. By using alumina powder of such a size, low-temperature firing is possible, a sintered body with high sinterability and high density and high mechanical strength can be obtained, and light during exposure is scattered. Therefore, the exposure characteristics are not impaired. When the average particle diameter exceeds 500 nm, ultraviolet rays do not reach the deep part, and thus a high-definition pattern cannot be formed. The content of the alumina powder is preferably 5% by weight to 90% by weight, and more preferably 20% by weight to 80% by weight with respect to the photosensitive ceramic composition. By making the addition amount of the alumina powder within this range, the light transmittance of the sheet can be increased without deteriorating the sheet dielectric constant characteristics after firing, so that the photolithography processability is improved.

本発明の感光性セラミックス組成物は、シリカ、ジルコニア、チタニア、イットリア、セリアおよびマグネシアの群から選ばれた少なくとも1種の無機粉末を含有してもよい。特に好ましいのはシリカ、チタニアなどであるが、複数種の成分を混合して用いることもできる。上記以外の無機成分としてガラス粉を含有することができるが、これらは超高圧水銀灯などの光を透過する為、平均粒子径が規制されるものではない。また本発明のセラミックス組成物に含有される無機粉末は焼成工程において焼結するものであり、本発明の目的とする基板形成では、1000℃以下、特に600〜950℃の温度での焼成が好ましいので、いわゆる低温焼成無機粉末が好ましい。もちろん、これらの無機粉末が基板の電気的特性、強度、熱膨張係数などの基本物性を決めるものであるため、目的とする特性に応じて選択されるものである。   The photosensitive ceramic composition of the present invention may contain at least one inorganic powder selected from the group consisting of silica, zirconia, titania, yttria, ceria and magnesia. Particularly preferred are silica, titania and the like, but a plurality of kinds of components can be mixed and used. Although glass powder can be contained as an inorganic component other than the above, since these transmit light such as an ultra-high pressure mercury lamp, the average particle diameter is not restricted. In addition, the inorganic powder contained in the ceramic composition of the present invention is sintered in the firing step, and firing at a temperature of 1000 ° C. or less, particularly 600 to 950 ° C. is preferable in the formation of the substrate intended by the present invention. Therefore, so-called low-temperature fired inorganic powder is preferable. Of course, since these inorganic powders determine basic physical properties such as electrical characteristics, strength, and thermal expansion coefficient of the substrate, they are selected according to the intended characteristics.

本発明で用いられる無機粉末として有用な成分には4つの態様が挙げられる。   The component useful as the inorganic powder used in the present invention includes four embodiments.

前記の第1の態様は、一般式RxO−Al23−SiO2(Rはアルカリ金属(x=2)あるいはアルカリ土類金属(x=1)を示す)で表されるアルミノケイ酸塩系化合物である。特に限定されるものではないが、アノーサイト(CaO−Al23−2SiO2)、セルジアン(BaO−Al23−2SiO2)などであり、低温焼結セラミックス材料として用いられる無機粉末である。 The first aspect of the the general formula R x O-Al 2 O 3 -SiO 2 aluminosilicate which (R is an alkali metal (x = 2) or alkaline earth metal (x = 1) shows a) represented by It is a salt compound. Although not particularly limited, inorganic powders used as a low-temperature sintered ceramic material, such as anorthite (CaO—Al 2 O 3 -2SiO 2 ), Celsian (BaO—Al 2 O 3 -2SiO 2 ), etc. is there.

前記の第2の態様の無機粉末としては、ガラス粉末50〜90重量%と、石英粉末および/またはアモルファスシリカ粉末10〜50重量%からなるものである。ガラス粉末はホウ珪酸ガラスである。この時高純度シリカ(石英)は、ほう珪酸ガラスやコーディエライトと溶解しないことが好ましい。また、球状シリカである方が、スラリーの充填性が上がり好ましい。   The inorganic powder of the second aspect is composed of 50 to 90% by weight of glass powder and 10 to 50% by weight of quartz powder and / or amorphous silica powder. The glass powder is borosilicate glass. At this time, it is preferable that high-purity silica (quartz) does not dissolve in borosilicate glass or cordierite. Further, spherical silica is preferable because the slurry can be filled more easily.

前記の第3の態様は、ホウ珪酸ガラス粉末30〜60重量%、石英粉末および/またはアモルファスシリカ粉末20〜50重量%およびコーディエライト、スピネル、フォルステライト、アノーサイトおよびセルジアンの群から選ばれた少なくとも1種類のセラミックス粉末20〜50重量%との混合物である。   Said third embodiment is selected from the group of borosilicate glass powder 30-60% by weight, quartz powder and / or amorphous silica powder 20-50% by weight and cordierite, spinel, forsterite, anorthite and serdian. And a mixture of 20 to 50% by weight of at least one ceramic powder.

前記の第4の態様は、酸化物換算表記でSiO2:30〜70重量%、Al23:5〜40重量%、CaO:3〜25重量%、B23:3〜50重量%の組成範囲で、総量が85重量%以上となるガラス粉末を30〜60重量%と、アルミナ、ジルコニア、マグネシア、ベリリア、ムライト、コーディエライト、スピネル、フォルステライト、アノーサイト、セルジアン、シリカおよび窒化アルミの群から選ばれた少なくとも1種類のセラミックス粉末70〜40重量%との混合物である。 A fourth aspect of the above, SiO on an oxide basis notation 2: 30-70 wt%, Al 2 O 3: 5~40 wt%, CaO: 3 to 25 wt%, B 2 O 3: 3~50 wt 30 to 60% by weight of a glass powder having a total amount of 85% by weight or more in a composition range of 50% by weight, alumina, zirconia, magnesia, beryllia, mullite, cordierite, spinel, forsterite, anorthite, serzian, silica and It is a mixture with at least one ceramic powder 70 to 40% by weight selected from the group of aluminum nitride.

無機粉末はフィラー成分を含むことが可能であり、フィラー成分として前記の通りセラミックス粉末が用いられることが多く、基板の機械的強度の向上や熱膨張係数を制御するのに有効である。特に、アルミナ、ジルコニア、ムライト、コーディエライト、アノーサイトはその効果が優れている。これらのセラミックス粉末の混合により、焼成温度を800〜900℃とし、強度、誘電率、熱膨張係数、焼結密度、体積固有抵抗、収縮率を所望の特性とすることができる。   The inorganic powder can contain a filler component, and the ceramic powder is often used as the filler component as described above, which is effective in improving the mechanical strength of the substrate and controlling the thermal expansion coefficient. In particular, alumina, zirconia, mullite, cordierite, and anorthite have excellent effects. By mixing these ceramic powders, the firing temperature can be set to 800 to 900 ° C., and the strength, dielectric constant, thermal expansion coefficient, sintered density, volume resistivity, and shrinkage rate can be set as desired characteristics.

ガラス粉末のSiO2、Al23、CaOおよびB23などの成分は、ガラス粉末中で総量85重量%以上であることが好ましい。残りの15重量%以下はNa2O、K2O、BaO、PbO、Fe23、Mn酸化物、Cr酸化物、NiO、Co酸化物などを含有することができる。ガラス粉末30〜60重量%と組み合わされるセラミックス粉末70〜40重量%はフィラー成分となる。ガラス粉末中のSiO2は30〜70重量%の範囲であることが好ましい。Al23は5〜40重量%の範囲で配合することが好ましい。CaOは3〜25重量%の範囲で配合することが好ましい。このような範囲とすることで、ガラス層の強度や安定性、機械および熱的特性を損なうことなく、1000℃以下での焼成に適したシートを得ることができる。B23はガラスフリットを1300〜1450℃付近の温度で溶解するため、およびAl23が多い場合でも誘電率、強度、熱膨張係数、焼結温度などを電気、機械および熱的特性を損なうことのないように焼成温度を800〜900℃の範囲に制御するために配合することが望ましく、配合量として3〜50重量%の範囲が好ましい。 Components such as SiO 2 , Al 2 O 3 , CaO and B 2 O 3 in the glass powder are preferably 85% by weight or more in the glass powder. The remaining 15% by weight or less can contain Na 2 O, K 2 O, BaO, PbO, Fe 2 O 3 , Mn oxide, Cr oxide, NiO, Co oxide and the like. 70 to 40% by weight of ceramic powder combined with 30 to 60% by weight of glass powder becomes a filler component. The SiO 2 in the glass powder is preferably in the range of 30 to 70% by weight. Al 2 O 3 is preferably blended in the range of 5 to 40% by weight. CaO is preferably blended in the range of 3 to 25% by weight. By setting it as such a range, the sheet | seat suitable for baking at 1000 degrees C or less can be obtained, without impairing the intensity | strength and stability of a glass layer, a mechanical, and a thermal characteristic. B 2 O 3 melts the glass frit at a temperature around 1300 to 1450 ° C., and even when Al 2 O 3 is large, the dielectric constant, strength, thermal expansion coefficient, sintering temperature, etc. It is desirable to blend in order to control the firing temperature in the range of 800 to 900 ° C. so as not to impair the heat treatment, and the blending amount is preferably in the range of 3 to 50% by weight.

感光性セラミックス組成物においてパターン形成性を高いレベルに保持するためには、無機粉末と感光性有機成分との屈折率を整合させることが重要である。無機粉末の屈折率は組成の配合比で制御することが可能であり、配合する感光性有機成分の平均屈折率との整合をとるように配慮することが好ましい。場合によっては、感光性有機成分の屈折率を高める手段を用いることもあり、その場合には、硫黄原子、臭素原子、沃素原子、ナフタレン環、ビフェニル環、アントラセン環、カルバゾール環の群から選ばれた基を有する化合物を20重量%以上含有させるなどの方法を適用することができる。   In order to maintain the pattern forming property at a high level in the photosensitive ceramic composition, it is important to match the refractive indexes of the inorganic powder and the photosensitive organic component. The refractive index of the inorganic powder can be controlled by the blending ratio of the composition, and it is preferable to consider so as to match the average refractive index of the photosensitive organic component to be blended. In some cases, a means for increasing the refractive index of the photosensitive organic component may be used, in which case it is selected from the group consisting of a sulfur atom, a bromine atom, an iodine atom, a naphthalene ring, a biphenyl ring, an anthracene ring, and a carbazole ring. For example, a method of adding 20% by weight or more of a compound having a group may be applied.

本発明の無機粉末は、Cu、Ag、Auなどを配線導体として多層化が可能な600〜950℃での焼成が可能であるとともに、GaAsなどのチップ部品やプリント基板の熱膨張係数と近似した熱膨張係数を有し、高周波領域においても低誘電率でかつ誘電損失が低い基板を与えるものであることが好ましい。   The inorganic powder of the present invention can be fired at 600 to 950 ° C. which can be multilayered using Cu, Ag, Au or the like as a wiring conductor, and approximates the thermal expansion coefficient of chip parts such as GaAs or printed circuit boards. It is preferable to provide a substrate having a thermal expansion coefficient, a low dielectric constant and a low dielectric loss even in a high frequency region.

感光性セラミックス組成物に含有される感光性有機成分とは、感光性ポリマ、モノマ、光開始剤の混合物であり、紫外線吸光剤、増感剤、重合禁止剤、非感光性ポリマ、溶媒などを添加することもできる。感光性ポリマは光硬化性を主体としているが、光可溶性のポリマ組成でも良い。   The photosensitive organic component contained in the photosensitive ceramic composition is a mixture of a photosensitive polymer, a monomer, and a photoinitiator, and includes an ultraviolet light absorber, a sensitizer, a polymerization inhibitor, a non-photosensitive polymer, a solvent, and the like. It can also be added. The photosensitive polymer is mainly photocurable, but may be a photosoluble polymer composition.

本発明において、感光性有機成分は、共重合成分として多価アルコールとエチレン性不飽和カルボン酸とのエステルを含み、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマを含有する。ここで、多価アルコールとは、例えば、グリセリン、ポリグリセリン、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、ネオペンチルグリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、メチルカルビトール、ブチルカルビトールなどを挙げることができる。エチレン性不飽和カルボン酸とは、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などを挙げることができる。これらの多価アルコールと不飽和カルボン酸とのエステルを含む共重合成分とは、例えば、グリセロールアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、および、上記化合物のアクリレートの一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたものなどを挙げることができる。また、本発明ではこれらを1種または2種以上使用することができる。   In the present invention, the photosensitive organic component contains an ester of a polyhydric alcohol and an ethylenically unsaturated carboxylic acid as a copolymer component, and contains a polymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain. Here, the polyhydric alcohol is, for example, glycerin, polyglycerin, 1,4-butanediol, 1,3-butylene glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, pentaerythritol, triglyceride. Mention may be made of methylolpropane, neopentyl glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, hexylene glycol, methyl carbitol, butyl carbitol and the like. Examples of the ethylenically unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof. Examples of copolymer components containing esters of these polyhydric alcohols and unsaturated carboxylic acids include glycerol acrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, and diethylene glycol. Diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, glycerol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, polypropylene Glycol diacrylate, triglycerol diacrylate, trimethylol group Bread triacrylate, and the like can be given those changed to methacrylates part or all of the acrylate of the above compounds. In the present invention, one or more of these can be used.

本発明においては、ポリマの側鎖にエチレン性不飽和基を導入するために、これらの共重合成分に不飽和カルボン酸などの不飽和酸を加える。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などを挙げることができる。これらの成分を重合することによって得られるアクリル系共重合ポリマの酸価は100〜200(mgKOH/g)であることが好ましい。得られたアクリル系共重合ポリマにエチレン性不飽和基を有するモノマを付加させることによって、共重合成分として多価アルコールと不飽和カルボン酸とのエステルを含み、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマが得られる。ここでは、エチレン性不飽和基を有するモノマの付加量によってポリマの酸価が決まる。その酸価は50〜150(mgKOH/g)が好ましい。さらに好ましくは80〜130(mgKOH/g)である。酸価をこの範囲とすることで、現像許容幅が広く安定した現像ができる。ここで言うエチレン性不飽和基を有するモノマとはエポキシ系アクリレートであり、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。   In the present invention, an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid is added to these copolymer components in order to introduce an ethylenically unsaturated group into the side chain of the polymer. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof. The acid value of the acrylic copolymer obtained by polymerizing these components is preferably 100 to 200 (mgKOH / g). By adding a monomer having an ethylenically unsaturated group to the resulting acrylic copolymer, an ester of a polyhydric alcohol and an unsaturated carboxylic acid is included as a copolymer component, and the ethylenically unsaturated group is present in the side chain. Is obtained. Here, the acid value of the polymer is determined by the amount of monomer having an ethylenically unsaturated group. The acid value is preferably 50 to 150 (mgKOH / g). More preferably, it is 80-130 (mgKOH / g). By setting the acid value within this range, stable development with a wide development allowable range can be achieved. The monomer having an ethylenically unsaturated group referred to here is an epoxy acrylate, and examples thereof include glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate.

その他の共重合成分として、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、1−ナフチルアクリレート、2−ナフチルアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち、1〜5個を塩素または臭素原子に置換したモノマ、もしくは、スチレン、p−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物のアクリレートの一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2−ピロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを1種または2種以上使用することができる。   Examples of other copolymer components include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl acrylate, iso-butyl acrylate, tert-butyl acrylate, n- Pentyl acrylate, allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxyethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycidyl acrylate, heptadecafluorodecyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, isobornyl acrylate , 2-hydroxypropyl acrylate, isodexyl acrylate, iso Cutyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, trifluoroethyl acrylate, allylated cyclohexyl diacrylate, methoxylated cyclohexyl diacrylate, acrylamide, aminoethyl acrylate, phenyl acrylate, Phenoxyethyl acrylate, benzyl acrylate, 1-naphthyl acrylate, 2-naphthyl acrylate, thiophenol acrylate, benzyl mercaptan acrylate, and monomers in which 1 to 5 hydrogen atoms of these aromatic rings are substituted with chlorine or bromine atoms Or styrene, p-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, Iodinated styrene, brominated styrene, α-methyl styrene, chlorinated α-methyl styrene, brominated α-methyl styrene, chloromethyl styrene, hydroxymethyl styrene, carboxymethyl styrene, vinyl naphthalene, vinyl anthracene, vinyl carbazole, and , Those obtained by changing some or all of the acrylates of the above compounds to methacrylates, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone, and the like. In the present invention, one or more of these can be used.

感光性有機成分が光硬化性を有する組成としては、上記ポリマに加えてエチレン性不飽和基を有するモノマ、光開始剤、その他添加剤が挙げられる。エチレン性不飽和基を有するモノマの例として、1個以上の光重合可能な不飽和基、例えば(メタ)アクリレート基またはアリル基などを有するモノマなどが挙げられる。これらの具体例としては、アルコール類(例えばエタノール、プロパノール、ヘキサノール、オクタノール、シクロヘキサノール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなど)とアクリル酸(またはメタクリル酸)とのエステル、カルボン酸(例えば酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、コハク酸、マレイン酸、フタル酸、酒石酸、クエン酸など)とアクリル酸グリシジル(あるいは、メタクリル酸グリシジル、アリルグリシジル、またはテトラグリシジルメタキシリレンジアミン)との反応生成物、アミド誘導体(例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、メチレンビスアクリルアミドなど)、エポキシ化合物とアクリル酸(またはメタクリル酸)との反応物などを挙げることができる。また、これらのモノマは、多官能モノマであっても良く、その場合において、不飽和基は、アクリル、メタクリル、ビニル、アリル基が混合して存在してもよい。これらは単独で用いてもよく、また組み合わせて用いてもよい。モノマ含有量は、感光性セラミックス組成物に対して、2〜40重量%の範囲で、好ましくは5〜20重量%である。モノマ含有量をこの範囲とすることで、適当な架橋密度となりシート柔軟性を保持することができる。   Examples of the composition in which the photosensitive organic component has photocurability include a monomer having an ethylenically unsaturated group, a photoinitiator, and other additives in addition to the polymer. Examples of monomers having an ethylenically unsaturated group include monomers having one or more photopolymerizable unsaturated groups such as a (meth) acrylate group or an allyl group. Specific examples thereof include esters of alcohols (for example, ethanol, propanol, hexanol, octanol, cyclohexanol, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, etc.) with acrylic acid (or methacrylic acid), carboxylic acids (for example, acetic acid, Propionic acid, benzoic acid, acrylic acid, methacrylic acid, succinic acid, maleic acid, phthalic acid, tartaric acid, citric acid, etc.) and glycidyl acrylate (or glycidyl methacrylate, allyl glycidyl, or tetraglycidyl metaxylylenediamine) Reaction products, amide derivatives (eg, acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, methylenebisacrylamide, etc.), reaction products of epoxy compounds and acrylic acid (or methacrylic acid). It can be mentioned. These monomers may be polyfunctional monomers. In that case, the unsaturated group may be a mixture of acrylic, methacrylic, vinyl, and allyl groups. These may be used alone or in combination. The monomer content is in the range of 2 to 40% by weight, preferably 5 to 20% by weight, based on the photosensitive ceramic composition. By setting the monomer content within this range, an appropriate crosslinking density can be obtained and sheet flexibility can be maintained.

光開始剤は1種類または複数種混合して使用され、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニル−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンザルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、N−フェニルチオアクリドン、4、4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどが挙げられる。光開始剤の添加量は、感光性ポリマ、モノマなどの反応性成分に対し、0.05〜10重量%の範囲で添加され、より好ましくは、0.1〜5重量%である。光開始剤の添加量をこの範囲にすることで、深部まで光硬化が可能となる。   The photoinitiator is used alone or as a mixture of several kinds. Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4-dichloro Benzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropio Phenone, pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyl, benzyldimethylketanol, benzylmethoxyethyl acetal, Nzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzalacetophenone, 2,6 -Bis (p-azidobenzylidene) cyclohexanone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl -Propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-be Nzoyl) oxime, Michler's ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride, quinolinesulfonyl chloride, N-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobuty Photoreductive dyes such as nitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, carbon tetrabromide, tribromophenylsulfone, benzoin peroxide and eosin, methylene blue and ascorbic acid, triethanolamine, etc. A combination of reducing agents is exemplified. The addition amount of the photoinitiator is added in the range of 0.05 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight, with respect to the reactive components such as the photosensitive polymer and the monomer. By setting the addition amount of the photoinitiator within this range, photocuring can be performed up to a deep portion.

その他添加剤として、有機染料からなる紫外線吸光剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い吸光剤を添加することによって高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸光剤としては有機系染料からなるものが用いられ、中でも300〜450nmの波長範囲で高いUV吸収係数を有する有機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、p−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残存しないため吸光剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は、感光性セラミックス組成物に対し0.01〜5重量%が好ましい。より好ましくは0.05〜2重量%である。有機染料の添加量をこの範囲にすることで、太りの無いパターン形成が可能となる。有機染料からなる紫外線吸光剤の添加方法の一例を挙げると、有機染料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、次に該有機溶媒中に無機粉末を混合後、乾燥することによってできる。この方法によって無機粉末の個々の粉末表面に有機の膜をコートしたいわゆるカプセル状の粉末が作製できる。   As other additives, it is also effective to add an ultraviolet light absorber composed of an organic dye. A high aspect ratio, high definition, and high resolution can be obtained by adding a light-absorbing agent having a high ultraviolet absorption effect. As the ultraviolet light absorber, an organic dye is used, and among them, an organic dye having a high UV absorption coefficient in a wavelength range of 300 to 450 nm is preferably used. Specifically, azo dyes, amino ketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, amino ketone dyes, anthraquinone dyes, benzophenone dyes, diphenyl cyanoacrylate dyes, triazine dyes, p-aminobenzoic acid dyes, and the like can be used. . Even when an organic dye is added as a light-absorbing agent, since it does not remain in the insulating film after baking, the deterioration of the insulating film characteristics due to the light-absorbing agent can be reduced. Of these, azo dyes and benzophenone dyes are preferable. The addition amount of the organic dye is preferably 0.01 to 5% by weight with respect to the photosensitive ceramic composition. More preferably, it is 0.05 to 2% by weight. By making the addition amount of the organic dye within this range, it is possible to form a pattern with no fat. An example of a method for adding an ultraviolet light absorber composed of an organic dye is to prepare a solution in which an organic dye is dissolved in an organic solvent in advance, and then mix and dry the inorganic powder in the organic solvent. By this method, a so-called capsule-shaped powder in which an organic film is coated on the surface of each individual powder of inorganic powder can be produced.

本発明において、無機粉末にPb、Fe、Cd、Mn、Co、Mgなどの金属およびその酸化物が含まれる場合、有機成分中に含有する反応性成分と反応するために、無機粉末と有機成分の混合物(シートスラリー)が短時間でゲル化し、シート成形できなくなる場合がある。このような反応を防止するために安定化剤を添加してゲル化を防止することが好ましい。安定化剤としては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。トリアゾール化合物の中でも特にベンゾトリアゾールが有効に作用する。本発明において使用されるベンゾトリアゾールによるガラス粉末の表面処理の一例を挙げると、ガラス粉末に対して所定の量のベンゾトリアゾールを酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、メチルアルコールなどの有機溶媒に溶解した後、ガラス粉末を十分に浸すことができるように溶液中に1〜24時間浸漬する。浸漬後、好ましくは20〜30℃で自然乾燥して溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行った粉末を調製する。使用される安定化剤の割合(安定化剤/無機粉末)は0.05〜5重量%が好ましい。   In the present invention, when the inorganic powder contains a metal such as Pb, Fe, Cd, Mn, Co, Mg and its oxide, the inorganic powder and the organic component react with the reactive component contained in the organic component. The mixture (sheet slurry) may gel in a short time, making it impossible to form a sheet. In order to prevent such a reaction, it is preferable to add a stabilizer to prevent gelation. As a stabilizer, a triazole compound is preferably used. Among the triazole compounds, benzotriazole works particularly effectively. As an example of the surface treatment of glass powder with benzotriazole used in the present invention, a predetermined amount of benzotriazole was dissolved in an organic solvent such as methyl acetate, ethyl acetate, ethyl alcohol, and methyl alcohol with respect to the glass powder. Then, it is immersed in the solution for 1 to 24 hours so that the glass powder can be sufficiently immersed. After soaking, it is preferably air-dried at 20 to 30 ° C. to evaporate the solvent and prepare a triazole-treated powder. The proportion of the stabilizer used (stabilizer / inorganic powder) is preferably 0.05 to 5% by weight.

増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感剤の具体例としては、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,3−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン、2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザル)シクロヘキサノン、2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザル)−4−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)−ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジメチルアミノ)カルコン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)カルコン、p−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、p−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、2−(p−ジメチルアミノフェニルビニレン)−イソナフトチアゾール、1,3−ビス(4−ジメチルアミノベンザル)アセトン、1,3−カルボニル−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)アセトン、3,3−カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリン)、N−フェニル−N−エチルエタノールアミン、N−フェニルエタノールアミン、N−トリルジエタノールアミン、N−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、3−フェニル−5−ベンゾイルチオ−テトラゾール、1−フェニル−5−エトキシカルボニルチオ−テトラゾールなどが挙げられる。本発明ではこれらを1種または2種以上使用することができる。なお、増感剤の中には光開始剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の感光性セラミックス組成物に添加する場合、その添加量は感光性ポリマ、モノマなどの反応性成分に対して通常0.05〜5重量%、より好ましくは0.1〜2重量%である。増感剤の量をこの範囲にすることで最適形状のパターンを得ることができる。   A sensitizer is added in order to improve sensitivity. Specific examples of the sensitizer include 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,3-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) -4-methylcyclohexanone, Michler's ketone, 4,4-bis (diethylamino) -benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) chalcone, 4,4-bis (diethylamino) ) Chalcone, p-dimethylaminocinnamylidene indanone, p-dimethylaminobenzylidene indanone, 2- (p-dimethylaminophenylvinylene) -isonaphthothiazole, 1,3-bis (4-dimethylaminobenzal) acetone 1,3-carbonyl-bis (4-diethylamino) Benzal) acetone, 3,3-carbonyl-bis (7-diethylaminocoumarin), N-phenyl-N-ethylethanolamine, N-phenylethanolamine, N-tolyldiethanolamine, N-phenylethanolamine, isoamyl dimethylaminobenzoate , Isoamyl diethylaminobenzoate, 3-phenyl-5-benzoylthio-tetrazole, 1-phenyl-5-ethoxycarbonylthio-tetrazole and the like. In the present invention, one or more of these can be used. Some sensitizers can also be used as photoinitiators. When a sensitizer is added to the photosensitive ceramic composition of the present invention, the addition amount is usually 0.05 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 0.1% by weight with respect to reactive components such as photosensitive polymer and monomer. 2% by weight. By setting the amount of the sensitizer within this range, a pattern having an optimum shape can be obtained.

重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上させるために添加される。重合禁止剤の具体的な例としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、N−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、p−t−ブチルカテコール、N−フェニルナフチルアミン、2,6−ジ−t−ブチル−p−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤を添加する場合、その添加量は、感光性セラミックス組成物中に、通常、0.001〜1重量%である。   A polymerization inhibitor is added to improve the thermal stability during storage. Specific examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, monoester of hydroquinone, N-nitrosodiphenylamine, phenothiazine, pt-butylcatechol, N-phenylnaphthylamine, 2,6-di-tert-butyl-p- Examples include methylphenol, chloranil, and pyrogallol. When adding a polymerization inhibitor, the addition amount is 0.001 to 1 weight% normally in the photosensitive ceramic composition.

酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の具体的な例として2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−4−エチルフェノール、2,2−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4−ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス−(2−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−t−ブチルフェニル)ブタン、ビス[3,3−ビス−(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコ−ルエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添加する場合、その添加量は通常、感光性セラミックス組成物中に0.001〜1重量%である。   The antioxidant is added to prevent oxidation of the acrylic copolymer during storage. Specific examples of antioxidants include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-4-ethylphenol, 2,2-methylene-bis- ( 4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2-methylene-bis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 4,4-bis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1 , 1,3-Tris- (2-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris- (2-methyl-4-hydroxy-tert-butylphenyl) butane, bis [3,3-bis -(4-Hydroxy-3-t-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, dilauryl thiodipropionate, triphenyl phosphite and the like. When adding antioxidant, the addition amount is 0.001-1 weight% normally in the photosensitive ceramic composition.

本発明の感光性セラミックス組成物には、シートスラリーの粘度を調整したい場合、溶媒を加えてもよい。このとき使用される有機溶媒としては、メチルセルソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの1種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。   When adjusting the viscosity of the sheet slurry, a solvent may be added to the photosensitive ceramic composition of the present invention. The organic solvent used at this time is methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, bromobenzene. , Chlorobenzene, dibromobenzene, dichlorobenzene, bromobenzoic acid, chlorobenzoic acid and the like, and organic solvent mixtures containing one or more of these.

本発明の感光性セラミックス組成物は次のようにして調製およびシート化することができる。まず感光性有機成分である共重合成分として多価アルコールと不飽和カルボン酸とのエステルを含み、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマ、モノマおよび光開始剤に、必要に応じて溶媒や各種添加剤を混合した後、濾過し、有機ビヒクルを調製する。これに、必要に応じて前処理された無機粉末を添加し、ボールミルなどの混練機で均質に混合・分散して感光性セラミックス組成物のスラリーまたはペーストを作製する。このスラリーまたはペーストの粘度は無機粉末と感光性有機成分の配合比、溶媒の量、その他添加剤の添加割合によって適宜調整されるが、その範囲は1〜5Pa・sが好ましい。得られたペーストをドクターブレード法、押し出し成形法などの一般的な方法でポリエステルなどのフィルム上に厚さ0.05〜0.5mmに連続的に成形し、溶媒を乾燥除去することにより、感光性セラミックス組成物であるグリーンシートが得られる。ビアホールは、この感光性セラミックス組成物であるグリーンシートに対して、ビアホール形成用パターンを有するフォトマスクを通したパターン露光を行い、アルカリ水溶液で現像することによって形成される。露光に用いる光源は超高圧水銀灯が最も好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。露光条件はグリーンシートの厚みによって異なり、5〜100mW/cm2の出力の超高圧水銀灯を用いて2〜100秒間露光を行う。なおビアホール形成と同じ手法でシート積層時のアライメント用ガイド孔を形成しておくことができる。アルカリ水溶液とは、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機アルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機アルカリ水溶液などを挙げることができる。一般的にアルカリ水溶液の濃度は通常0.05〜5重量%、より好ましくは0.1〜3重量%である。アルカリ水溶液の濃度をこの範囲とすることで現像許容範囲が広くなり、最適な現像が可能となる。現像時の温度は、20〜50℃で行うことが工程管理上好ましい。現像方法としては、一般的な浸漬法、スプレー法が用いられる。また、超音波を併用して現像時間の短縮や現像ムラの減少化を図る方法もある。 The photosensitive ceramic composition of the present invention can be prepared and sheeted as follows. First, a polymer, monomer, and photoinitiator containing an ester of a polyhydric alcohol and an unsaturated carboxylic acid as a copolymerization component, which is a photosensitive organic component, and having an ethylenically unsaturated group in the side chain, and optionally a solvent. And various additives are mixed and then filtered to prepare an organic vehicle. To this, a pretreated inorganic powder is added if necessary, and homogeneously mixed and dispersed by a kneader such as a ball mill to produce a slurry or paste of the photosensitive ceramic composition. The viscosity of the slurry or paste is appropriately adjusted depending on the blending ratio of the inorganic powder and the photosensitive organic component, the amount of the solvent, and the addition ratio of other additives, but the range is preferably 1 to 5 Pa · s. The obtained paste is continuously formed to a thickness of 0.05 to 0.5 mm on a film of polyester or the like by a general method such as a doctor blade method or an extrusion molding method, and the solvent is removed by drying. A green sheet that is a functional ceramic composition is obtained. The via hole is formed by performing pattern exposure through a photomask having a via hole forming pattern on the green sheet, which is the photosensitive ceramic composition, and developing with an alkaline aqueous solution. The light source used for exposure is most preferably an ultra-high pressure mercury lamp, but is not necessarily limited thereto. Exposure conditions vary depending on the thickness of the green sheet, and exposure is performed for 2 to 100 seconds using an ultrahigh pressure mercury lamp having an output of 5 to 100 mW / cm 2 . In addition, the alignment guide hole at the time of sheet | seat lamination | stacking can be formed with the same method as the via hole formation. Examples of the alkaline aqueous solution include inorganic alkaline aqueous solutions such as sodium carbonate, sodium hydroxide, and potassium hydroxide, and organic alkaline aqueous solutions such as tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, and diethanolamine. Generally, the concentration of the alkaline aqueous solution is usually 0.05 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 3% by weight. By setting the concentration of the alkaline aqueous solution within this range, the allowable development range is widened, and optimal development is possible. The temperature during development is preferably 20 to 50 ° C. for process control. As a developing method, a general dipping method or spray method is used. There is also a method for shortening development time and reducing development unevenness by using ultrasonic waves together.

このようにして、焼成前の厚みが10〜500μm、最密なビアホールパターン部分がビアホール直径20〜200μm、ビアホールピッチ30〜250μmのシートを作製することができる。本発明では、アルミナ粉末の分散状態が良好なため光透過率が高く、高精細なパターンの形成が可能となる。また、現像後のシートの柔軟性が良好で後工程での割れや欠けが防止できることを特徴とする。   In this manner, a sheet having a thickness before firing of 10 to 500 μm, a close-packed via hole pattern portion having a via hole diameter of 20 to 200 μm, and a via hole pitch of 30 to 250 μm can be produced. In the present invention, since the dispersed state of the alumina powder is good, the light transmittance is high, and a high-definition pattern can be formed. Further, the sheet after development is excellent in flexibility and can be prevented from being cracked or chipped in the subsequent process.

感光性セラミックス組成物から形成されたグリーンシートの焼成を行う場合、グリーンシートの上面および下面に難焼結性のセラミックスシートを積層して焼成してもよい。それによって、厚み方向のみ収縮させ、X−Y平面にはほぼ無収縮となるようにできるが、X−Y平面方向の焼成収縮率が1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.5%以下、さらに好ましくは0.1%以下である。   When firing a green sheet formed from a photosensitive ceramic composition, a non-sinterable ceramic sheet may be laminated and fired on the upper and lower surfaces of the green sheet. Thereby, it is possible to shrink only in the thickness direction and almost no shrinkage in the XY plane, but the firing shrinkage rate in the XY plane direction is preferably 1% or less, more preferably 0.5. % Or less, more preferably 0.1% or less.

難焼結性のセラミックスとは、基板焼結温度では焼結しないセラミックス粉末で、アモルファスシリカ、石英、アルミナ、マグネシア、ヘマタイト、チタン酸バリウムおよび窒化硼素などから選択して用いることができる。これらの材料から得られるシートは、ダミー用グリーンシートまたは拘束シートなどと称せられる。このシートに、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムなどの酸化剤やガラス・セラミックスグリーンシートとの密着性改良材となる酸化物粉末を1〜5重量%添加することが好ましい。このような難焼結性のセラミックスシートの例としては、アルミナ粉末にポリビニルブチラール、ジオクチルフタレート、適当な酸化物、溶媒などを加えて、ドクターブレード法によってシート状に形成したものを挙げることができる。   The hardly sinterable ceramic is a ceramic powder that does not sinter at the substrate sintering temperature, and can be selected from amorphous silica, quartz, alumina, magnesia, hematite, barium titanate, boron nitride, and the like. Sheets obtained from these materials are referred to as dummy green sheets or restraint sheets. 1 to 5 weights of an oxide powder serving as an adhesion improver with an oxidizing agent such as lead oxide, bismuth oxide, zinc oxide, manganese oxide, barium oxide, calcium oxide, strontium oxide, or glass / ceramic green sheet. % Addition is preferable. As an example of such a hardly sinterable ceramic sheet, there can be mentioned a sheet formed by a doctor blade method by adding polyvinyl butyral, dioctyl phthalate, an appropriate oxide, a solvent or the like to alumina powder. .

グリーンシートの上下の面に拘束シートを配置した状態での焼成工程によりX−Y平面方向の収縮は制限されるが、組成物の成分や配合組成、焼成時の諸条件により不可避の収縮が存在する。このため収縮率を1%以下に抑制できるならば、ほぼ無収縮を達成したものと考えることができるが、より好ましくは0.5%以下、さらに好ましくは0.1%以下に抑制する。このような条件はスクリーン印刷などで形成した塗布膜(セラミックスなどからなる基板に感光性セラミックス組成物のペーストを塗布する手法であり、一般的には、前記基板はそのまま残り完成品の一部を構成する)にも適用することが可能であり、塗布膜の場合には、膜の下面には既に基板が存在しているので、膜の上面に拘束シートを配した状態で実施することができる。   The shrinkage in the XY plane direction is limited by the firing process with the constraining sheets placed on the upper and lower surfaces of the green sheet, but there is inevitable shrinkage depending on the components of the composition, the composition of the composition, and various conditions during firing. To do. For this reason, if the shrinkage rate can be suppressed to 1% or less, it can be considered that almost no shrinkage has been achieved, but more preferably 0.5% or less, and even more preferably 0.1% or less. Such conditions are a coating film formed by screen printing or the like (a method of applying a paste of a photosensitive ceramic composition to a substrate made of ceramics, etc., and in general, the substrate remains as it is and a part of the finished product is left as it is. In the case of a coating film, since the substrate already exists on the lower surface of the film, it can be carried out with a restraint sheet disposed on the upper surface of the film. .

次に必要な枚数の配線パターンが形成されたシートをガイド孔を用いて積み重ね、80〜150℃の温度で5〜25MPaの圧力で接着し、多層シートを作製する。このグリーンシート積層体の両面に、このグリーンシートの焼結温度では実質的に焼結収縮を示さない無機組成物(例:アルミナやジルコニア)を主成分とする拘束シートを積層配置し、作製したグリーンシート多層体を焼成処理し、その後、この拘束シートを取り除く無収縮焼成を行って目的とする多層基板を作製することができる。焼成は焼成炉において行う。焼成雰囲気や温度は感光性セラミックス組成物中の無機粉末や有機成分の種類によって異なるが、空気中、窒素雰囲気中、または水素還元雰囲気中で焼成する。本発明の感光性セラミックス組成物の焼成は600〜950℃の温度で行う。このようにして得られたセラミックス多層基板は高周波回路用基板として用いられる。   Next, the sheets on which the necessary number of wiring patterns are formed are stacked using the guide holes, and bonded at a temperature of 80 to 150 ° C. and a pressure of 5 to 25 MPa, thereby producing a multilayer sheet. A constraining sheet composed mainly of an inorganic composition (eg, alumina or zirconia) that does not substantially exhibit sintering shrinkage at the sintering temperature of the green sheet is laminated on both sides of the green sheet laminate. The target multilayer board can be produced by firing the green sheet multilayer body and then performing non-shrink firing to remove the constraining sheet. Firing is performed in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of inorganic powder and organic component in the photosensitive ceramic composition, but firing is performed in air, in a nitrogen atmosphere, or in a hydrogen reduction atmosphere. Firing of the photosensitive ceramic composition of the present invention is performed at a temperature of 600 to 950 ° C. The ceramic multilayer substrate thus obtained is used as a high-frequency circuit substrate.

以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明する。なお、濃度(%)は特に断らない限り重量%である。実施例に用いた無機粉末および感光性有機成分は次の通りである。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. The concentration (%) is% by weight unless otherwise specified. The inorganic powder and photosensitive organic component used in the examples are as follows.

A.無機粉末
無機粉末I:
アルミナ粉末50%+ガラス粉末50%の複合セラミックス
アルミナ:平均粒子径40nm
ガラス粉末の組成:Al23(10.8%)、SiO2(51.5%)、PbO(15.6%)、CaO(7.1%)、MgO(2.86%)、Na2O(3%)、K2O(2%)、B23(5.3%)
ガラス粉末の特性:ガラス転移点565℃、熱膨張係数60.5×10-7/K、誘電率8.0(1MHZ)、平均粒子径2μm
無機粉末II:“NKX−592J”(日本フェロー株式会社製)
アルミナ粉末50%+ガラス粉末50%との複合セラミックス
アルミナ:平均粒子径2.5μm
ガラス粉末:平均粒子径4.8μm
ガラス粉末の組成:Al23−B23−SiO2−CaO系ガラス
B.感光性有機成分
ポリマI:
エチルアクリレート20%、メチルアクリレート15%、グリセリンアクリレート35%およびメタクリル酸30%からなる共重合体のカルボキシル基に対して0.4当量のグリシジルメタクリレートを付加反応したものであり、重量平均分子量13,000、酸価105mgKOH/g
ポリマII:
2−エチルヘキシルアクリレート35%、ポリプロピレングリコールメタクリレート35%、アクリル酸30%からなる共重合体のカルボキシル基に対して0.4当量のグリシジルメタクリレートを付加反応したものであり、重量平均分子量16,000、酸価110mgKOH/g
ポリマIII:
スチレン40%、メチルアクリレート30%およびメタクリル酸30%からなる共重合体のカルボキシル基に対して0.4当量のグリシジルメタクリレートを付加反応したものであり、重量平均分子量13,000、酸価100mgKOH/g
光開始剤:2−ベンジル−ジメチルアミノ−1−(4−モノフォリノフェニル)−ブタノン−1
C.有機ビヒクルの調製
溶媒およびポリマを混合し、撹拌しながら60℃に加熱し、すべてのポリマを溶解させた。溶液を室温まで冷却し、モノマ、光開始剤を加えて溶解させ、有機ビヒクルを調製した。
A. Inorganic powder Inorganic powder I:
Composite ceramics alumina: 50% alumina powder + 50% glass powder: average particle size 40 nm
Composition of glass powder: Al 2 O 3 (10.8%), SiO 2 (51.5%), PbO (15.6%), CaO (7.1%), MgO (2.86%), Na 2 O (3%), K 2 O (2%), B 2 O 3 (5.3%)
Properties of glass powder: glass transition point 565 ° C., thermal expansion coefficient 60.5 × 10 −7 / K, dielectric constant 8.0 (1 MHZ), average particle diameter 2 μm
Inorganic powder II: “NKX-592J” (manufactured by Nippon Fellow Co., Ltd.)
Composite ceramics alumina with 50% alumina powder + 50% glass powder: average particle size 2.5 μm
Glass powder: Average particle size 4.8 μm
Composition of glass powder: Al 2 O 3 —B 2 O 3 —SiO 2 —CaO-based glass Photosensitive organic component polymer I:
This is an addition reaction of 0.4 equivalent of glycidyl methacrylate to the carboxyl group of a copolymer consisting of 20% ethyl acrylate, 15% methyl acrylate, 35% glyceryl acrylate, and 30% methacrylic acid. 000, acid value 105mgKOH / g
Polymer II:
This is an addition reaction of 0.4 equivalent of glycidyl methacrylate to the carboxyl group of a copolymer consisting of 35% 2-ethylhexyl acrylate, 35% polypropylene glycol methacrylate, and 30% acrylic acid, and has a weight average molecular weight of 16,000, Acid value 110mgKOH / g
Polymer III:
This is an addition reaction of 0.4 equivalent of glycidyl methacrylate to the carboxyl group of a copolymer consisting of 40% styrene, 30% methyl acrylate and 30% methacrylic acid, and has a weight average molecular weight of 13,000, an acid value of 100 mgKOH / g
Photoinitiator: 2-benzyl-dimethylamino-1- (4-monoforinophenyl) -butanone-1
C. Preparation of organic vehicle The solvent and polymer were mixed and heated to 60 ° C. with stirring to dissolve all the polymer. The solution was cooled to room temperature, and a monomer and a photoinitiator were added and dissolved to prepare an organic vehicle.

D.ペースト調製
上記の有機ビヒクルに無機粉末を混合し、三本ロールで5回通しでスラリーまたはペーストとした。有機ビヒクル中の感光性有機成分30重量部に対して無機粉末の量は70重量部とした。
D. Paste preparation Inorganic powder was mixed with the above-mentioned organic vehicle, and a slurry or paste was obtained by passing three times with three rolls. The amount of the inorganic powder was 70 parts by weight with respect to 30 parts by weight of the photosensitive organic component in the organic vehicle.

E.グリーンシートの作製
紫外線を遮断した室内でポリエステルのキャリアフィルムとブレードとの間隔を0.1〜0.8mmとし、成形速度0.2m/分でドクターブレード法によってグリーンシートを作製した。シートの厚みは100μmであった。
E. Production of Green Sheet A green sheet was produced by a doctor blade method at a molding speed of 0.2 m / min, with the distance between the polyester carrier film and the blade set to 0.1 to 0.8 mm in a room where ultraviolet rays were blocked. The thickness of the sheet was 100 μm.

F.ビアホ−ルの形成
グリーンシートを100mm角に切断した後、温度80℃で1時間乾燥し、溶媒を蒸発させた。ビア径30〜100μm、ビアホールピッチ500μmのクロムマスクを用いて、シートの上面から15〜25mW/cm2の出力の超高圧水銀灯を用いてシートとマスクの間を密着条件下で、1分間パターン露光した。次に、25℃の0.5重量%モノエタノールアミン水溶液により現像し、その後、スプレーを用いてビアホールを水洗浄した。
F. Formation of via hole The green sheet was cut into 100 mm square and then dried at a temperature of 80 ° C. for 1 hour to evaporate the solvent. Using a chromium mask with a via diameter of 30 to 100 μm and a via hole pitch of 500 μm, using a super high pressure mercury lamp with an output of 15 to 25 mW / cm 2 from the top surface of the sheet, the pattern exposure is performed for 1 minute between the sheet and the mask. did. Next, development was performed with a 0.5 wt% monoethanolamine aqueous solution at 25 ° C., and then the via hole was washed with water using a spray.

G.焼成時に用いる拘束シートの作製
アルミナ粉末またはジルコニア粉末またはマグネシア粉末にポリビニルブチラール、ジオクチルフタレート、有機溶媒など加えて、ドクターブレード法によってシート状に作製したものを用いた。
G. Production of Restraint Sheet Used at Firing A sheet produced by a doctor blade method by adding polyvinyl butyral, dioctyl phthalate, an organic solvent, or the like to alumina powder, zirconia powder, or magnesia powder was used.

H.多層基板の作製
本発明の感光性セラミックス組成物からなるグリーンシートを5〜6枚積層し、上下に無収縮焼成のための拘束シートを配置し、80℃でプレス圧力15MPaにて熱圧着した。得られた多層体を空気中で、900℃の温度で30分間焼成して、多層基板を作製した。
I.割れ欠け評価
現像後から焼成前までの工程で割れや欠けについて外観評価した。
H. Fabrication of Multilayer Substrate Five to six green sheets made of the photosensitive ceramic composition of the present invention were laminated, constraining sheets for non-shrinkage firing were arranged above and below, and thermocompression bonded at 80 ° C. and a press pressure of 15 MPa. The obtained multilayer body was baked in air at a temperature of 900 ° C. for 30 minutes to produce a multilayer substrate.
I. Evaluation of cracks and chips The appearance of cracks and chips was evaluated in the process from development to baking.

実施例1
無機粉末として無機粉末I(70%)を、感光性有機成分としてポリマI(15%)、モノマ(10%)(“アロニックスM245”東亞合成製)および光開始剤(0.5%)(“IC819”チバ・スペシャルテイ・ケミカルズ製)、分散剤(0.3%)(“ノプコスパース”、サンノプコ株式会社製)、溶剤(4%)(“ソルフィット”クラレ製)、p−メトキシフェノール(0.2%)を用い、厚み100μmのグリーンシートを得た。フォトリソ法でビアホールを形成したところ、100μmのビアホールが形成できた。乾燥後アルミナ拘束シートとともに積層プレスを行った。この後割れ欠けの外観評価を実施した。その結果、割れ欠けもなく良好であった。
Example 1
Inorganic powder I (70%) as the inorganic powder, Polymer I (15%), monomer (10%) (“Aronix M245” manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and photoinitiator (0.5%) (“ IC819 “manufactured by Ciba Specialty Chemicals), dispersant (0.3%) (“ Nopcosper ”manufactured by San Nopco Corporation), solvent (4%) (manufactured by“ Solfit ”Kuraray), p-methoxyphenol (0 .2%) to obtain a green sheet having a thickness of 100 μm. When a via hole was formed by photolithography, a 100 μm via hole was formed. After drying, a lamination press was performed together with the alumina constraining sheet. Thereafter, the appearance of cracks was evaluated. As a result, it was good with no cracks.

実施例2
実施例1のポリマIをポリマIIとする以外は同様の組成、試作操作を繰り返した。その結果は実施例1と同様で、割れ欠けもなく良好であった。
Example 2
The same composition and trial operation were repeated except that the polymer I of Example 1 was changed to the polymer II. The result was the same as in Example 1 and was good with no cracks.

比較例1
無機粉末として無機粉末I(70%)を、感光性有機成分としてポリマIII(10%)、ポリグリセリン(5%)(“ポリグリセリンPGL”ダイセル化学株式会社製)、モノマ(10%)(“アロニックスM245”東亞合成製)および光開始剤(0.5%)(“IC819”チバ・スペシャルテイ・ケミカルズ製)、分散剤(0.3%)(“ノプコスパース”サンノプコ株式会社製)、溶剤(4%)(“ソルフィット”クラレ製)、p−メトキシフェノール(0.2%)を用い、厚み100μmのグリーンシートを得た。フォトリソ法でビアホールを形成したところ、100μmのビアホールが形成できた。乾燥後アルミナ拘束シートとともに積層プレスを行った。この後割れ欠けの外観評価を実施したところ、明らかに確認される割れ欠けが多数発生していた。
比較例2
実施例1の無機粉末Iを無機粉末IIとする以外は同様の組成、試作操作を繰り返して厚み100μmのグリーンシートを得た。得られたシートで100μmのビアホールが形成できた。しかし、シートの透過率が低いため光硬化不十分でビアホールの形状が欠けていて悪い。
Comparative Example 1
Inorganic powder I (70%) as the inorganic powder, Polymer III (10%), Polyglycerin (5%) ("Polyglycerin PGL" manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Monomer (10%) (" Aronix M245 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and photoinitiator (0.5%) ("IC819" manufactured by Ciba Specialty Chemicals), dispersant (0.3%) ("Nopcospers" manufactured by San Nopco Corporation), solvent ( 4%) (manufactured by “Solfit” Kuraray) and p-methoxyphenol (0.2%) were used to obtain a green sheet having a thickness of 100 μm. When a via hole was formed by photolithography, a 100 μm via hole was formed. After drying, a lamination press was performed together with the alumina constraining sheet. After this, when appearance evaluation of cracks was performed, many cracks that were clearly confirmed were generated.
Comparative Example 2
A green sheet having a thickness of 100 μm was obtained by repeating the same composition and trial operation except that the inorganic powder I of Example 1 was changed to the inorganic powder II. A via hole of 100 μm could be formed from the obtained sheet. However, since the transmittance of the sheet is low, photocuring is insufficient and the shape of the via hole is lacking, which is bad.

Claims (3)

無機粉末と感光性有機成分を必須成分とする感光性セラミックス組成物において、無機粉末が平均粒子径500nm以下のアルミナ粉末を含有し、感光性有機成分が、共重合成分として多価アルコールとエチレン性不飽和カルボン酸とのエステルを含み、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマを含有することを特徴とする感光性セラミックス組成物。 In a photosensitive ceramic composition having an inorganic powder and a photosensitive organic component as essential components, the inorganic powder contains an alumina powder having an average particle diameter of 500 nm or less, and the photosensitive organic component is a polyhydric alcohol and ethylenic as a copolymerization component. A photosensitive ceramic composition comprising an ester with an unsaturated carboxylic acid and a polymer having an ethylenically unsaturated group in a side chain. 共重合成分として多価アルコールとエチレン性不飽和カルボン酸とのエステルを含み、かつ側鎖にエチレン性不飽和基を有するポリマを3重量%〜30重量%含有することを特徴とする請求項1記載の感光性セラミックス組成物。 2. A polymer containing an ester of a polyhydric alcohol and an ethylenically unsaturated carboxylic acid as a copolymerization component and containing 3% by weight to 30% by weight of a polymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain. The photosensitive ceramic composition as described. 平均粒子径500nm以下のアルミナ粉末を5重量%〜90重量%含有することを特徴とする請求項1記載の感光性セラミックス組成物。 2. The photosensitive ceramic composition according to claim 1, comprising 5 to 90% by weight of alumina powder having an average particle diameter of 500 nm or less.
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