JP2005236273A - Flame-retardant composition for solder resist, hardening method and use thereof - Google Patents

Flame-retardant composition for solder resist, hardening method and use thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2005236273A
JP2005236273A JP2005011351A JP2005011351A JP2005236273A JP 2005236273 A JP2005236273 A JP 2005236273A JP 2005011351 A JP2005011351 A JP 2005011351A JP 2005011351 A JP2005011351 A JP 2005011351A JP 2005236273 A JP2005236273 A JP 2005236273A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
retardant composition
flame retardant
solder resist
compound
molecule
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005011351A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirotoshi Kamata
博稔 鎌田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP2005011351A priority Critical patent/JP2005236273A/en
Publication of JP2005236273A publication Critical patent/JP2005236273A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flame-retardant composition having flame retardancy and flexibility both as well as being excellent in solder heat resistance, moisture proof, and reliability in a high temperature, which is therefore suitable for use as a cover lay film for an FPC, solder resist, etc. <P>SOLUTION: This invention comprises following items: a flame-retardant composition including polyester resin (A) which contains a bromine atom in a molecule; a hardened material of the composition for solder resist; an ink containing the composition and a colorant; a hardening method of the composition; an insulating protection film and an interlayer insulating film composed of the composition; and printed circuit boards including the films. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ソルダーレジスト用難燃組成物に関する。さらに詳しくいえば、プリント配線板、特にフレキシブルプリント配線板等の製造に使用されるソルダーレジスト用難燃組成物、その硬化方法及び用途に関する。   The present invention relates to a flame retardant composition for solder resist. More specifically, the present invention relates to a flame retardant composition for a solder resist used for manufacturing a printed wiring board, particularly a flexible printed wiring board, and a curing method and use thereof.

プリント配線板の製造においては、従来より、エッチング時に使用されるレジスト、ハンダ付け工程で使用されるソルダーレジストなど、種々の基板保護手段が必要とされる。小型機器等に使用されるフィルム状のプリント配線板(フレキシブルプリント配線板。以下FPCと略記する。)の製造過程においても、部品搭載のためのハンダ付け工程において無関係な配線を保護するためのソルダーレジストが必要とされる。
このような基板の保護手段として、従来はポリイミドフィルムを所定の型に打ち抜いたものを積層するカバーレイが用いられてきた。このカバーレイは、ハンダ付け後の配線の保護膜も兼ねており、ハンダ付け時の耐熱性、絶縁性、基板の組み込み時の折り曲げでクラックが入らない可撓性が必要とされる。更に、電池駆動の機器以外に用いられるFPCには難燃性も必要とされる。
In the production of a printed wiring board, various substrate protection means such as a resist used during etching and a solder resist used in a soldering process have been conventionally required. Solder for protecting irrelevant wiring in the soldering process for component mounting even in the manufacturing process of film-like printed wiring boards (flexible printed wiring boards; hereinafter abbreviated as FPC) used for small equipment A resist is required.
As a protection means for such a substrate, conventionally, a cover lay in which a polyimide film punched into a predetermined mold is laminated has been used. This coverlay also serves as a protective film for the wiring after soldering, and is required to have heat resistance and insulation during soldering and flexibility so that cracks do not occur when the board is assembled. Furthermore, the FPC used for devices other than battery-driven devices also requires flame retardancy.

ポリイミドフィルムを打ち抜いて形成されるカバーレイは上記の要求特性を満足しており、現在最も多く使用されているが、型抜きに高価な金型が必要なうえに、打ち抜いたフィルムを人手によって位置合わせをして貼り合わせるため、さらに高コストになり、また微細パターンの形成が困難であるという問題がある。
これらの問題を解決する方法として、基板上に感光性樹脂組成物を液状で塗布し、またはフィルム状として貼付する方法が提案された。この方法によれば、基板上に被膜を形成した後、写真技術によって露光、現像、加熱すれば微細パターンのカバーレイを容易に形成することができることから、従来種々の感光性樹脂組成物が開発されてきている。
Coverlays formed by punching a polyimide film satisfy the above-mentioned requirements and are currently most frequently used. However, an expensive mold is required for punching, and the punched film is manually positioned. Since they are bonded together, there is a problem that the cost is further increased and it is difficult to form a fine pattern.
As a method for solving these problems, a method has been proposed in which a photosensitive resin composition is applied in a liquid form on a substrate, or a film is pasted. According to this method, after forming a coating film on a substrate, a fine pattern coverlay can be easily formed by exposure, development, and heating by photographic technology. Has been.

しかし、従来の感光性樹脂組成物には、FPC用として要求されるこれら全ての特性を満足するものはなかった。例えば、ノボラック型エポキシビニルエステル樹脂に多塩基酸無水物を付加反応させたプレポリマー、光重合開始剤、希釈剤、エポキシ化合物からなる感光性樹脂組成物が提案されたが(特公平1−54390号公報;特許文献1)、この樹脂組成物は耐熱性、絶縁性は良好であるものの、可撓性がなくFPCには不適当であった。また、エチレン性不飽和ジカルボン酸無水物及びエチレン性不飽和コモノマーとから形成されるコポリマーとアミンとの反応生成物である低分子量コポリマーと、カルボン酸含有高分子量コポリマーとからなるバインダー系に、アクリル化ウレタンモノマー成分、光開始剤及びブロックポリイソシアネート架橋剤を配合した感光性樹脂組成物が提案されたが(特開平7−278492号公報;特許文献2)、この樹脂組成物は難燃性がなく、用途が限定されてしまうという問題があった。   However, none of the conventional photosensitive resin compositions satisfy all these characteristics required for FPC. For example, a photosensitive resin composition comprising a prepolymer obtained by addition reaction of a polybasic acid anhydride to a novolak-type epoxy vinyl ester resin, a photopolymerization initiator, a diluent, and an epoxy compound has been proposed (Japanese Patent Publication No. 1-54390). Although this resin composition has good heat resistance and insulation, it is not flexible and unsuitable for FPC. In addition, a binder system comprising a low molecular weight copolymer, which is a reaction product of a copolymer formed from an ethylenically unsaturated dicarboxylic acid anhydride and an ethylenically unsaturated comonomer, and an amine, and a carboxylic acid-containing high molecular weight copolymer is added to an acrylic resin. A photosensitive resin composition containing a fluorinated urethane monomer component, a photoinitiator and a block polyisocyanate crosslinking agent has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 7-278492; Patent Document 2), but this resin composition has flame retardancy. There was a problem that the use was limited.

感光性樹脂組成物に難燃性を付与する方法としては、従来より臭素化エポキシ樹脂などのハロゲン系難燃剤や、これに三酸化アンチモンなどの難燃助剤を組み合わせてなる難燃剤系を用いる方法があった(特開平9−325490号公報;特許文献3、特開平11−242331号公報;特許文献4)。しかし、これらの難燃剤系は、高温環境における信頼性に劣る場合があり、またアンチモン化合物を使用する際には樹脂の廃棄物処理について環境問題を考慮する必要がある。さらに、臭素化エポキシ樹脂は、充分な難燃効果が得られる量を配合しようとすると可撓性を損なったり、熱硬化性が低下するという大きな問題があった。   As a method for imparting flame retardancy to the photosensitive resin composition, a conventional flame retardant such as a brominated epoxy resin or a flame retardant system in combination with a flame retardant aid such as antimony trioxide is used. There was a method (JP-A-9-325490; Patent Document 3, JP-A-11-242331; Patent Document 4). However, these flame retardant systems may be inferior in reliability in a high temperature environment, and when using an antimony compound, it is necessary to consider environmental issues regarding the waste treatment of the resin. Furthermore, the brominated epoxy resin has a large problem that flexibility is impaired and thermosetting property is lowered when an amount capable of obtaining a sufficient flame retardancy is added.

このように、UL規格(Underwriters Laboratories requirements)による基準を満たすほどの高い難燃性と可撓性を共に備え、ハンダ耐熱性、耐湿性、高温信頼性等にも優れたレジストを得るのは容易ではなく、さらなる改良が望まれていた。   In this way, it is easy to obtain a resist that has both high flame resistance and flexibility enough to meet the standards of the UL standard (Underwriters Laboratories requirements), and excellent in soldering heat resistance, moisture resistance, high temperature reliability, etc. Instead, further improvements were desired.

特公平1−54390号公報Japanese Patent Publication No. 1-54390 特開平7−278492号公報JP 7-278492 A 特開平9−325490号公報JP-A-9-325490 特開平11−242331号公報JP-A-11-242331

本発明は、高水準の難燃性と可撓性とを共に備え、かつハンダ耐熱性、耐湿性、高温信頼性にも優れるレジスト用硬化性難燃組成物、特にFPC用のソルダーレジスト等として好適に用いることのできるソルダーレジスト用難燃組成物を提供することを目的とする。   The present invention provides a curable flame retardant composition for resist, particularly a solder resist for FPC, which has both a high level of flame retardancy and flexibility, and is excellent in solder heat resistance, moisture resistance, and high temperature reliability. It aims at providing the flame retardant composition for solder resists which can be used suitably.

本発明者らは鋭意検討した結果、分子中に臭素原子を含有する特定のポリエステル樹脂を配合させることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problem can be solved by blending a specific polyester resin containing a bromine atom in the molecule, and have completed the present invention.

すなわち本発明は以下の1〜14に示すソルダーレジスト用難燃組成物、その硬化方法及び用途に関する。
1.分子中に臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)を含有することを特徴とするソルダーレジスト用難燃組成物。
2.樹脂成分中の、分子中に臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)の含有量が10〜70質量%である前記1記載のソルダーレジスト用難燃組成物。
3.分子中に臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)が、分子中に2個以上の臭素原子と2個以上の水酸基を有する化合物(a)、酸無水物基を有する化合物(b)及び分子中に2個のエポキシ基を有する化合物(c)を反応させて得られる樹脂である前記1または2記載のソルダーレジスト用難燃組成物。
4.分子中に2個以上の臭素原子と2個以上の水酸基を有する化合物(a)が、下記式(1)

Figure 2005236273
(式中、X1、X2、X3及びX4のうち、少なくとも2個は臭素原子を表し、残りは水素原子を表し、R1及びR2はそれぞれ2価の有機基を表す。)で示される化合物及び/またはジブロモネオペンチルグリコールである前記3記載のソルダーレジスト用難燃組成物。
5.前記式(1)で示される化合物(a)が、下記式(2)
Figure 2005236273
で示される化合物である前記4記載のソルダーレジスト用難燃組成物。
6.分子中に2個のエポキシ基を有する化合物(c)が、式(3)
Figure 2005236273
(式中、R3は、炭素数12〜30の、置換基を有してもよいアルキレン基または置換基を有してよいアルケニレン基を表す。)
で示される前記3記載のソルダーレジスト用難燃組成物。
7.R3が、7,11−オクタデカジエニレン基または7,12−ジメチル−7,11−オクタデカジエニレン基である前記6記載のソルダーレジスト用難燃組成物。
8.前記1乃至7のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用難燃組成物の硬化物。
9.前記1乃至7のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用難燃組成物と着色剤とを含有することを特徴とするインク。
10.前記1乃至7のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物を基板に10〜100μmの厚みで塗布した後、100〜200℃の温度範囲で10〜60分熱処理して硬化させることを特徴としたソルダーレジスト用難燃組成物の硬化方法。
11.前記1乃至7のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用難燃組成物からなることを特徴とする絶縁保護皮膜。
12.前記1乃至7のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用難燃組成物からなることを特徴とする層間絶縁膜。
13.前記11記載の絶縁保護皮膜を有することを特徴とするプリント配線板。
14.前記12記載の層間絶縁膜を有することを特徴とするプリント配線板。 That is, this invention relates to the flame retardant composition for solder resists shown in the following 1-14, its hardening method, and a use.
1. A flame retardant composition for a solder resist, comprising a polyester resin (A) containing a bromine atom in the molecule.
2. 2. The flame retardant composition for a solder resist according to 1 above, wherein the content of the polyester resin (A) containing a bromine atom in the molecule in the resin component is 10 to 70% by mass.
3. The polyester resin (A) containing a bromine atom in the molecule contains a compound (a) having two or more bromine atoms and two or more hydroxyl groups in the molecule, a compound (b) having an acid anhydride group, and a molecule 3. The flame retardant composition for a solder resist according to the above 1 or 2, which is a resin obtained by reacting a compound (c) having two epoxy groups.
4). The compound (a) having two or more bromine atoms and two or more hydroxyl groups in the molecule is represented by the following formula (1):
Figure 2005236273
(In the formula, at least two of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 represent bromine atoms, the rest represent hydrogen atoms, and R 1 and R 2 each represent a divalent organic group.) 4. The flame retardant composition for solder resists according to 3 above, which is a compound represented by the formula (1) and / or dibromoneopentyl glycol.
5). The compound (a) represented by the formula (1) is represented by the following formula (2)
Figure 2005236273
5. The flame retardant composition for a solder resist according to the above 4, which is a compound represented by
6). The compound (c) having two epoxy groups in the molecule is represented by the formula (3)
Figure 2005236273
(In the formula, R 3 represents an alkylene group having 12 to 30 carbon atoms which may have a substituent or an alkenylene group which may have a substituent.)
4. The flame retardant composition for solder resists according to 3 above,
7). 7. The flame retardant composition for a solder resist according to 6, wherein R 3 is a 7,11-octadecadienylene group or a 7,12-dimethyl-7,11-octadecadienylene group.
8). Hardened | cured material of the flame retardant composition for soldering resists of any one of said 1 thru | or 7.
9. 8. An ink comprising the flame retardant composition for a solder resist according to any one of 1 to 7 and a colorant.
10. 8. The resist curable flame retardant composition according to any one of 1 to 7 is applied to a substrate with a thickness of 10 to 100 μm, and then cured by heat treatment at a temperature range of 100 to 200 ° C. for 10 to 60 minutes. A method for curing a flame retardant composition for a solder resist, characterized in that:
11. An insulating protective film comprising the flame retardant composition for a solder resist according to any one of 1 to 7 above.
12 8. An interlayer insulating film comprising the flame retardant composition for a solder resist according to any one of 1 to 7 above.
13. A printed wiring board comprising the insulating protective film according to 11 above.
14 13. A printed wiring board comprising the interlayer insulating film as described in 12 above.

本発明のソルダーレジスト用難燃組成物は、優れた難燃性と柔軟性、そしてハンダ耐熱性を有する保護膜の形成ができ、特にFPC用カバーレイ、ソルダーレジスト等の形成に好適に用いることができる。   The flame retardant composition for solder resists of the present invention can form a protective film having excellent flame retardancy and flexibility and solder heat resistance, and is particularly suitable for forming FPC coverlays, solder resists and the like. Can do.

以下に本発明を詳細に説明する。
1.分子中に臭素原子を有するポリエステル樹脂(A)
本発明のソルダーレジスト用難燃組成物に用いる分子中に臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)としては、分子内に臭素原子、エステル結合及び長鎖アルキレン基もしくは長鎖アルケニレン基を有する熱硬化性の樹脂が挙げられる。
具体的には、例えば、分子中に2個以上の臭素原子と2個以上の水酸基を有する化合物(a)、酸無水物基を有する化合物(b)及び分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物(c)を反応させて得ることができる。
The present invention is described in detail below.
1. Polyester resin having bromine atom in molecule (A)
The polyester resin (A) containing a bromine atom in the molecule used in the flame retardant composition for a solder resist of the present invention includes thermosetting having a bromine atom, an ester bond and a long-chain alkylene group or a long-chain alkenylene group in the molecule. Resin.
Specifically, for example, a compound (a) having two or more bromine atoms and two or more hydroxyl groups in the molecule, a compound (b) having an acid anhydride group, and two or more epoxy groups in the molecule. It can be obtained by reacting the compound (c).

1−1.分子中に2個以上の臭素原子と2個以上の水酸基を有する化合物(a)
分子中に2個以上の臭素原子と2個以上の水酸基を有する化合物(a)としては、好ましくは、式(1)

Figure 2005236273
(X1、X2、X3及びX4のうち、少なくとも2個は臭素原子を表し、残りは水素原子を表し、R1、R2はそれぞれ2価の有機基を表す。)
で示される化合物及びジブロモネオペンチルグリコールが挙げられる。 1-1. Compound having two or more bromine atoms and two or more hydroxyl groups in the molecule (a)
The compound (a) having two or more bromine atoms and two or more hydroxyl groups in the molecule is preferably represented by the formula (1)
Figure 2005236273
(At least two of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 represent bromine atoms, the rest represent hydrogen atoms, and R 1 and R 2 each represent a divalent organic group.)
And a compound represented by formula (2) and dibromoneopentyl glycol.

式(1)で示される化合物は、例えば、臭素化フタル酸無水物または臭素化フタル酸と、1分子中に2個の水酸基を有する化合物の付加縮合より得られる。
式(1)において、R1及びR2は2価の有機基を示し、1分子中の2個の水酸基の一つが脱水酸基した部分である。ここでR1及びR2は同一でも異なっていても良い。好ましいR1、R2としては、柔軟性が要求される本発明ではアルキレン基を有するものが好ましい。具体例としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、メチルエチレン基、1−メチルプロピレン基、2,2−ジメチルプロピレン基、及びこれらの基鎖中に酸素原子を有するもの等が挙げられる。
The compound represented by the formula (1) can be obtained, for example, by addition condensation of brominated phthalic anhydride or brominated phthalic acid and a compound having two hydroxyl groups in one molecule.
In the formula (1), R 1 and R 2 represent a divalent organic group, which is a portion where one of two hydroxyl groups in one molecule is dehydroxylated. Here, R 1 and R 2 may be the same or different. As preferred R 1 and R 2 , those having an alkylene group are preferred in the present invention where flexibility is required. Specific examples include ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene, nonylene, decylene, methylethylene, 1-methylpropylene, and 2,2-dimethylpropylene. , And those having an oxygen atom in their base chain.

また、式(1)の化合物の原料となる、1分子中2個の水酸基を有する化合物としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,12−ドデカンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等が挙げられる。   Moreover, as a compound having two hydroxyl groups in one molecule, which is a raw material for the compound of formula (1), ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,12-dodecanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene Examples include glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol.

式(1)の化合物の原料となる臭素化無水フタル酸の具体例としてはテトラブロモ無水フタル酸、臭素化フタル酸の例としてはテトラブロモフタル酸が挙げられる。
また、式(1)で示される化合物は、国際公開第94/10123号公報に記載されているように、臭素化無水フタル酸と、上記1分子中に水酸基を2個有する化合物と、プロピレンオキサイドやエチレンオキサイドのようなアルキレンオキサイドとの反応で得られたものでもよい。
Specific examples of brominated phthalic anhydride that is a raw material for the compound of formula (1) include tetrabromophthalic anhydride, and examples of brominated phthalic acid include tetrabromophthalic acid.
The compound represented by the formula (1) includes brominated phthalic anhydride, a compound having two hydroxyl groups in one molecule, propylene oxide, as described in International Publication No. 94/10123. And those obtained by reaction with alkylene oxides such as ethylene oxide.

式(1)で示される化合物の中でも、柔軟性と難燃性の観点からより好ましい構造を有するものとして、式(2)

Figure 2005236273
で示される化合物が挙げることができる。 Among the compounds represented by formula (1), those having a more preferred structure from the viewpoints of flexibility and flame retardancy are represented by formula (2)
Figure 2005236273
The compound shown by these can be mentioned.

1−2.酸無水物基を有する化合物(b)
酸無水物基を有する化合物(b)は、本発明に用いられる臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)の分子鎖延長のために用いられる。そのような化合物の具体例としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、ドデセニル無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸等が挙げられるが、柔軟性が必要な本発明の組成物には特に無水コハク酸、無水イタコン酸が好ましい。
1-2. Compound (b) having an acid anhydride group
The compound (b) having an acid anhydride group is used for molecular chain extension of the polyester resin (A) containing a bromine atom used in the present invention. Specific examples of such compounds include succinic anhydride, maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride. , Methylhexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, etc., but succinic anhydride, Itaconic acid is preferred.

1−3.分子中に2個のエポキシ基を有する化合物(c)
分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物(c)は、本発明に用いられる臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)に柔軟性を付与する目的で使用される。そのような化合物の具体例としては、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の分子中にポリアルキレンオキサイドを有するエポキシ化合物が挙げられるが、柔軟性及び絶縁特性の観点から、式(3)

Figure 2005236273
(R3は炭素数が12〜30の置換基を有しても良いアルキレン基、または置換基を有しても良いアルケニレン基を表す。)
で示される化合物が特に好ましい。 1-3. Compound (c) having two epoxy groups in the molecule
The compound (c) having two or more epoxy groups in the molecule is used for the purpose of imparting flexibility to the polyester resin (A) containing a bromine atom used in the present invention. Specific examples of such a compound include an epoxy compound having a polyalkylene oxide in a molecule such as polyethylene glycol diglycidyl ether and polypropylene glycol diglycidyl ether. )
Figure 2005236273
(R 3 represents an alkylene group which may have a substituent having 12 to 30 carbon atoms or an alkenylene group which may have a substituent.)
The compound shown by is especially preferable.

ここで、R3は置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアルケニレン基を表すが、柔軟性の点から炭素数12〜30のものが好ましい。置換基を有しても良いアルキレン基の具体例としては、ドデシレン基、テトラデシレン基、ヘキサデシレン基、オクタデシレン基、イコシレン基、テトラコシレン基、オクタコシレン基、7−エチルヘキサデシレン基等が挙げられる。また、置換基を有しても良いアルケニレン基の具体例としては、7,11−オクタデカジエニレン基、7,12−ジメチル−7,11−オクタデカジエニレン基等が挙げられる。特に、柔軟性を付与する効果と原料の入手の容易さの観点から、7,11−オクタデカジエニレン基、7,12−ジメチル−7,11−オクタデカジエニレン基を有する化合物が好ましく使用できる。 Here, R 3 represents an alkylene group which may have a substituent or an alkenylene group which may have a substituent, but those having 12 to 30 carbon atoms are preferred from the viewpoint of flexibility. Specific examples of the alkylene group which may have a substituent include dodecylene group, tetradecylene group, hexadecylene group, octadecylene group, icosylene group, tetracosylene group, octacosylene group, 7-ethylhexadecylene group and the like. Specific examples of the alkenylene group which may have a substituent include a 7,11-octadecadienylene group and a 7,12-dimethyl-7,11-octadecadienylene group. In particular, from the viewpoint of imparting flexibility and easy availability of raw materials, a compound having a 7,11-octadecadienylene group or a 7,12-dimethyl-7,11-octadecadienylene group is preferably used. it can.

1−4.分子中に臭素原子を含有するポリエステル樹脂の製造方法
本発明に用いられる分子中に臭素原子を有するポリエステル樹脂(A)の製造方法は特に限定されるものではないが、例えば分子中に2個以上の臭素原子と2個以上の水酸基を有する化合物(a)の水酸基と、酸無水物基を有する化合物(b)の酸無水物基を反応させて分子両末端にカルボキシル基を有するオリゴエステル(A1)とした後(工程1)、分子中に2個のエポキシ基を有する化合物(c)のエポキシ基を反応させること(工程2)によって製造することができる。
1-4. Method for Producing Polyester Resin Containing Bromine Atom in Molecule The production method for the polyester resin (A) having a bromine atom in the molecule used in the present invention is not particularly limited. For example, two or more in the molecule Of the compound (a) having a bromine atom and two or more hydroxyl groups and the acid anhydride group of the compound (b) having an acid anhydride group to react with an oligoester (A1 (Step 1), and then reacting the epoxy group of the compound (c) having two epoxy groups in the molecule (Step 2).

1−4−1.工程1
化合物(a)の水酸基と化合物(b)の酸無水物基を反応させる工程は無触媒、または必要であれば触媒を使用して行なわれる。
触媒としては、トリエチルアミン、トリオクチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の3級アミンが好適に使用される。工程1における付加反応の反応温度には特に制限はないが、一般には0〜200℃であり、好ましくは20〜150℃、より好ましくは50〜120℃である。0℃以下では反応が非常に遅くなり、また200℃以上では重合や分解を引き起こすため好ましくない。
1-4-1. Process 1
The step of reacting the hydroxyl group of compound (a) with the acid anhydride group of compound (b) is carried out without a catalyst or, if necessary, using a catalyst.
As the catalyst, tertiary amines such as triethylamine, trioctylamine, benzyldimethylamine, and 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol are preferably used. Although there is no restriction | limiting in particular in the reaction temperature of the addition reaction in the process 1, Generally it is 0-200 degreeC, Preferably it is 20-150 degreeC, More preferably, it is 50-120 degreeC. If it is 0 ° C. or lower, the reaction is very slow, and if it is 200 ° C. or higher, polymerization or decomposition is caused, which is not preferable.

また、工程1の付加反応には有機溶媒を用いることができる。特に、固体や高粘度の原料を用いる場合は、撹拌が困難となるため有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒としては、付加反応を阻害するものでなければ特に制限はないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。これらの溶媒は1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   An organic solvent can be used for the addition reaction in Step 1. In particular, when a solid or high viscosity raw material is used, it is preferable to use an organic solvent because stirring becomes difficult. The organic solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the addition reaction. For example, benzene, toluene, xylene, tetrahydrofuran, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl Ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, methyl methoxypropionate, ethyl methoxypropionate, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone etc. can be mentioned. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

工程1における化合物(a)と、化合物(b)の反応時のモル比は(a)/(b)=0.45〜0.55が好ましく、0.48〜0.52がさらに好ましい。モル比が0.45より小さくなると、化合物(b)の残存量が多くなり、硬化物の特性を低下させる。一方、0.55より大きくなると、オリゴエステル(A1)の分子末端が水酸基のものが存在するようになり、工程2で化合物(c)と反応させることが困難となる。   The molar ratio at the time of reaction of the compound (a) and the compound (b) in the step 1 is preferably (a) / (b) = 0.45 to 0.55, and more preferably 0.48 to 0.52. When the molar ratio is less than 0.45, the residual amount of the compound (b) increases, and the properties of the cured product are deteriorated. On the other hand, when it becomes larger than 0.55, the oligoester (A1) has a hydroxyl group at the molecular end, and it becomes difficult to react with the compound (c) in Step 2.

1−4−2.工程2
オリゴエステル(A1)と化合物(c)の反応では、反応の促進のために触媒を使用することが好ましい。触媒としては、エポキシ基とカルボキシル基との反応で一般的に用いられているものであれば特に限定されない。具体例としては、塩化アルミニウム、塩化錫、塩化亜鉛等の金属ハロゲン化物、ピリジン、α−ピコリン、イソキノリン、キノリン等のピリジン系化合物、N−メチルピリジニウムクロライド、N−エチルピリジニウムクロライド等のピリジニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の4級アンモニウム塩、トリフェニルホスフィン等のホスフィン系化合物、エチルトリフェニルホスフォニウムブロマイド、テトラフェニルホスフォニウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスフォニウムクロライド等のホスフォニウム塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の水酸化物、炭酸カリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩を挙げることができる。
1-4-2. Process 2
In the reaction of the oligoester (A1) and the compound (c), it is preferable to use a catalyst for promoting the reaction. The catalyst is not particularly limited as long as it is generally used in the reaction between an epoxy group and a carboxyl group. Specific examples include metal halides such as aluminum chloride, tin chloride and zinc chloride, pyridine compounds such as pyridine, α-picoline, isoquinoline and quinoline, pyridinium salts such as N-methylpyridinium chloride and N-ethylpyridinium chloride, Quaternary ammonium salts such as benzyltrimethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, phosphine compounds such as triphenylphosphine, ethyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, benzyltriphenylphosphorus Phosphonium salts such as nium chloride, hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide, and carbonates such as potassium carbonate and calcium carbonate. Rukoto can.

これらのうち、入手の容易さや付加反応の速度、副反応の起こりにくさなどから、特に、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、エチルトリフェニルホスフォニウムブロマイド、テトラフェニルホスフォニウムブロマイド、ベンジルトリフェニルホスフォニウムクロライドが好ましい。   Among these, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, ethyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenyl are particularly useful because of their availability, speed of addition reaction, and the difficulty of side reactions. Phosphonium bromide and benzyltriphenylphosphonium chloride are preferred.

工程2は有機溶媒を用いることができる。特に固体や高粘度の原料を用いる場合は、撹拌が困難となるため有機溶媒を用いることが好ましく、エポキシ基に対して不活性な(反応しない)有機溶媒中で行なうことがさらに好ましい。そのような有機溶媒としては工程1と同溶媒が好ましい。   In step 2, an organic solvent can be used. In particular, when a solid or high-viscosity raw material is used, it is preferable to use an organic solvent because stirring becomes difficult, and it is more preferable to carry out the reaction in an organic solvent that is inert (not reacting) with respect to the epoxy group. As such an organic solvent, the same solvent as in Step 1 is preferable.

工程2の付加反応の反応温度には特に制限はないが、一般には0〜200℃であり、好ましくは20〜150℃、より好ましくは50〜120℃である。0℃以下では反応が非常に遅くなり、また200℃以上では分解を引き起こすため好ましくない。   Although there is no restriction | limiting in particular in the reaction temperature of the addition reaction of the process 2, Generally it is 0-200 degreeC, Preferably it is 20-150 degreeC, More preferably, it is 50-120 degreeC. The reaction is very slow at 0 ° C. or lower, and decomposition is caused at 200 ° C. or higher, which is not preferable.

本工程2において、オリゴエステル(A1)と化合物(c)の反応時の比率(モル比)としては、(A1)/(c)=0.5〜2が好ましく、より好ましくは1.1〜2である。比率が0.5より小さくなればオリゴエステル(A1)が過剰になり、2より大きくなれば化合物(c)が過剰となり、いずれも硬化物の特性を低下させる。   In this step 2, the ratio (molar ratio) during the reaction of the oligoester (A1) and the compound (c) is preferably (A1) / (c) = 0.5 to 2, more preferably 1.1 to 2. If the ratio is less than 0.5, the oligoester (A1) is excessive, and if it is greater than 2, the compound (c) is excessive, both of which deteriorate the properties of the cured product.

また、この工程1及び2で用いる触媒の量は、各工程における原料の合計に対して0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。0.01質量%よりも少ない量では反応速度が遅くなるため加熱時間が長くなり、経済的なコストでの製造が困難となり好ましくない。また、10質量%より多い量では着色が顕著になる恐れがあり好ましくない。   Moreover, the quantity of the catalyst used at these processes 1 and 2 is 0.01-10 mass% with respect to the sum total of the raw material in each process, Preferably it is 0.1-5 mass%. If the amount is less than 0.01% by mass, the reaction rate becomes slow, so that the heating time becomes long, making it difficult to produce at an economical cost, which is not preferable. On the other hand, if the amount is more than 10% by mass, coloring may be remarkable, which is not preferable.

2.分子中に臭素原子を有するポリエステル樹脂(A)以外の樹脂成分
本発明に用いられる分子中に臭素原子を有するポリエステル樹脂(A)以外の樹脂成分としては、上記ポリエステル樹脂と反応でき、かつソルダーレジスト用組成物に用いることが可能な熱硬化性樹脂が好ましい。
2. Resin component other than polyester resin (A) having bromine atom in molecule As resin component other than polyester resin (A) having bromine atom in molecule used in the present invention, it can react with the polyester resin and is a solder resist. A thermosetting resin that can be used in the composition for use is preferable.

そのような熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビニルエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メラミン誘導体(例えば、ヘキサメトキシメラミン、ヘキサブトキシ化メラミン、縮合ヘキサメトキシメラミン等)、尿素化合物(例えば、ジメチロール尿素等)、ビスフェノール系化合物(例えば、テトラメチロール・ビスフェノールA等)、オキサゾリン化合物等が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、長期絶縁特性、耐熱性、加工性の観点よりエポキシ樹脂が好ましい。
Examples of such thermosetting resins include epoxy resins, phenol resins, vinyl ester resins, polyester resins, urethane resins, silicone resins, acrylic resins, melamine derivatives (eg, hexamethoxymelamine, hexabutoxylated melamine, condensed hexamethoxymelamine). Etc.), urea compounds (for example, dimethylol urea), bisphenol compounds (for example, tetramethylol / bisphenol A), oxazoline compounds, and the like. These thermosetting resins can be used alone or in combination of two or more.
Among these, an epoxy resin is preferable from the viewpoints of long-term insulation characteristics, heat resistance, and processability.

2−1−1.エポキシ樹脂
エポキシ樹脂は1分子中に2個以上のオキシラン基を含む化合物であり、具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、N−グリシジル型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのノボラック型エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノリック型エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、ε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂などの一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物が挙げられる。さらに、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジグリシジルフタレート樹脂、ヘテロサイクリックエポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。本発明において、これらのエポキシ樹脂は1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
2-1-1. Epoxy resin Epoxy resin is a compound containing two or more oxirane groups in one molecule. Specifically, bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F Type epoxy resin, novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, N-glycidyl type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, rubber modified epoxy resin, dicyclo Examples thereof include an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule such as a pentadiene phenolic epoxy resin, a silicone-modified epoxy resin, and an ε-caprolactone-modified epoxy resin. Furthermore, bisphenol S type epoxy resin, diglycidyl phthalate resin, heterocyclic epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin and the like can be mentioned. In the present invention, these epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

2−1−2.エポキシ樹脂の硬化触媒
上記エポキシ樹脂は硬化触媒の存在下で硬化できる。そのような硬化触媒としては、3級アミン、イミダゾール化合物等のエポキシ基の重合を促進する触媒作用を有する化合物が挙げられる。
3級アミン系化合物の具体例としては、トリエチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N−ジメチルピペラジン、ベンジルジメチルアミン、2−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビスシクロ(5.4.0)ウンデセン−1等が挙げられる。
2-1-2. Epoxy resin curing catalyst The epoxy resin can be cured in the presence of a curing catalyst. Examples of such curing catalysts include compounds having a catalytic action for promoting the polymerization of epoxy groups such as tertiary amines and imidazole compounds.
Specific examples of the tertiary amine compound include triethylamine, dimethylcyclohexylamine, N, N-dimethylpiperazine, benzyldimethylamine, 2- (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (N , N-dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabiscyclo (5.4.0) undecene-1, and the like.

イミダゾール系化合物の具体例としては2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾールトリメリテート、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2−メチルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等が挙げられる。
これらの3級アミン系化合物、イミダゾール系化合物のさらに詳細な具体例は、エポキシ樹脂硬化剤の新展開」((株)シーエムシー,1994年発行)94〜107頁に記載されている。
Specific examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole. 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole trimellitate, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2′-methyl Imidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2-methylimidazole isocyanuric acid addition , 2-phenylimidazole / isocyanuric acid adduct, 2 , 4-Diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine / isocyanuric acid adduct and the like.
More detailed specific examples of these tertiary amine compounds and imidazole compounds are described in "New Development of Epoxy Resin Curing Agent" (CMC Co., Ltd., 1994) pages 94-107.

2−1−3.エポキシ樹脂の硬化剤
またエポキシ樹脂の硬化には、硬化触媒以外にエポキシ基と反応する官能基を有する化合物(硬化剤)を用いることもできる。硬化剤としては、1級もしくは2級アミン系化合物、酸無水物系化合物、フェノール系化合物等エポキシ基に付加する官能基を有する化合物が挙げられる。
2-1-3. Epoxy resin curing agent In addition to the curing catalyst, a compound having a functional group that reacts with an epoxy group (curing agent) can be used for curing the epoxy resin. Examples of the curing agent include a compound having a functional group to be added to an epoxy group, such as a primary or secondary amine compound, an acid anhydride compound, or a phenol compound.

1級もしくは2級アミン系化合物の具体例としては、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ポリオキシプロピレンジアミン、イソホロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルネンジアミン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5.5)ウンデカン、m−キシリレンジアミン等の脂肪族アミン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、α,α’−ビス(4−アミノフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン等の芳香族アミンが挙げられる。詳しくは「エポキシ樹脂硬化剤の新展開」((株)シーエムシー,1994年発行)41〜93頁に記載されている。   Specific examples of the primary or secondary amine compound include ethylenediamine, triethylenetetramine, polyoxypropylenediamine, isophoronediamine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornenediamine. 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro (5.5) undecane, aliphatic amines such as m-xylylenediamine, m-phenylenediamine, diaminodiphenylmethane, Aromatic amines such as diaminodiphenyl sulfone and α, α′-bis (4-aminophenyl) -p-diisopropylbenzene are exemplified. Details are described in “New Development of Epoxy Resin Curing Agent” (CMC Co., Ltd., published in 1994), pages 41-93.

酸無水物系化合物としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸ドデセニル無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリレート)、グリセロールトリス(アンヒドロトリメリテート)、ポリアゼライン酸無水物、ポリドデカン二酸無水物、7,12−ジメチル−7,11−オクタデカジエン−1,18−ジカルボン酸部分無水物等が挙げられる。詳しくは「エポキシ樹脂硬化剤の新展開」((株)シーエムシー,1994年発行)117〜145頁に記載されている。   Acid anhydride compounds include maleic anhydride, succinic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride , Endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis (anhydrotrimellilate), Examples thereof include glycerol tris (anhydro trimellitate), polyazeline acid anhydride, polydodecanedioic acid anhydride, 7,12-dimethyl-7,11-octadecadien-1,18-dicarboxylic acid partial anhydride, and the like. The details are described in “New Development of Epoxy Resin Curing Agent” (CMC Co., Ltd., published in 1994), pages 117-145.

フェノール系化合物の具体例としては、ビスフェノールF、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリ−p−ビニルフェノール、ビスフェノールA型ノボラック等が挙げられる。詳しくは「エポキシ樹脂硬化剤の新展開」((株)シーエムシー,1994年発行)149〜162頁に記載されている。
酸無水物系化合物、及びフェノール系化合物はエポキシ基との反応性を上げるため、前述した3級アミン系化合物やイミダゾール系化合物を加えても良い。
Specific examples of phenolic compounds include bisphenol F, bisphenol A, bisphenol S, phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, poly-p-vinylphenol, bisphenol A. A type novolak is exemplified. Details are described in “New Development of Epoxy Resin Curing Agent” (CMC, 1994) pages 149-162.
In order to increase the reactivity of the acid anhydride compound and the phenol compound with the epoxy group, the above-described tertiary amine compound or imidazole compound may be added.

3.その他添加剤
3−1.分子中に臭素原子を有するポリエステル樹脂(A)以外の難燃性付与剤(B)
本発明のソルダーレジスト用難燃組成物において、分子中に臭素原子を有するポリエステル樹脂(A)以外の難燃性付与剤(B)を配合してもよい。
そのような難燃性付与剤としては、臭素化合物(B1)、水和金属化合物(B2)、リン系化合物(B3)、アンチモン系化合物(B4)を挙げることができる。
3. Other additives 3-1. Flame retardant imparting agent other than polyester resin (A) having bromine atom in molecule (B)
In the flame retardant composition for a solder resist of the present invention, a flame retardant imparting agent (B) other than the polyester resin (A) having a bromine atom in the molecule may be blended.
Examples of such a flame retardant imparting agent include bromine compounds (B1), hydrated metal compounds (B2), phosphorus compounds (B3), and antimony compounds (B4).

臭素化合物(B1)としては、難燃性の観点から臭素含有量が40質量%以上の化合物が好ましく、45質量%以上の化合物がより好ましい。具体例としては、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールAカーボネートオリゴマー、テトラブロモビスフェノールA、テトラブロモビスフェノールA−ビス(2,3−ジブロモプロピルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(アリルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(ブロモエチルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(エトキシレート)、テトラブロモビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールS−ビス(2,3−ジブロモプロピルエーテル)、臭素化フェニルグリシジルエーテル、ヘキサブロモベンゼン、ペンタブロモトルエン、ヘキサブロモシクロドデカン、デカブロモジフェニルオキサイド、オクタブロモジフェニルオキサイド、エチレンビス(ペンタブロモフェニル)、エチレンビス(テトラブロモフタルイミド)、テトラブロモ無水フタル酸、トリブロモフェノール、トリス(トリブロモフェノキシ)トリアジン、ポリジブロモフェニレンオキサイド、ビス(トリブロモフェノキシエタン)、トリブロモネオペンチルグリコール、ジブロモネオペンチルグリコール、ペンタブロモベンジルアクリレート、ジブロモスチレン、トリブロモスチレン、ポリ(ペンタベンジルアクリレート)、臭素化ポリスチレン等が挙げられる。   The bromine compound (B1) is preferably a compound having a bromine content of 40% by mass or more, more preferably 45% by mass or more from the viewpoint of flame retardancy. Specific examples include brominated bisphenol A type epoxy resin, brominated cresol novolac type epoxy resin, tetrabromobisphenol A carbonate oligomer, tetrabromobisphenol A, tetrabromobisphenol A-bis (2,3-dibromopropyl ether), tetra Bromobisphenol A-bis (allyl ether), tetrabromobisphenol A-bis (bromoethyl ether), tetrabromobisphenol A-bis (ethoxylate), tetrabromobisphenol S, tetrabromobisphenol S-bis (2,3-dibromo Propyl ether), brominated phenylglycidyl ether, hexabromobenzene, pentabromotoluene, hexabromocyclododecane, decabromodiphenyl oxide, octabu Modiphenyl oxide, ethylenebis (pentabromophenyl), ethylenebis (tetrabromophthalimide), tetrabromophthalic anhydride, tribromophenol, tris (tribromophenoxy) triazine, polydibromophenylene oxide, bis (tribromophenoxyethane), Examples thereof include tribromoneopentyl glycol, dibromoneopentyl glycol, pentabromobenzyl acrylate, dibromostyrene, tribromostyrene, poly (pentabenzyl acrylate), brominated polystyrene and the like.

水和金属化合物(B2)は、結晶水をもつ金属化合物であり、例えば熱分析によるモル当たりの結合水量が12〜60%(質量%)の範囲のものが挙げられるが、これに限定されるものではない。難燃効果等の点から、好ましくは、熱分解時の吸熱量が400J/g以上、好ましくは600〜2500J/gの水和金属化合物が用いられる。かかる水和金属化合物の具体例としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、ドーソナイト、アルミン酸化カルシウム、2水和石膏,ホウ酸亜鉛、メタホウ素酸バリウム、亜鉛ヒドロキシスズ酸塩、カオリン、バーミキュライト等が挙げられる。これらのうち特に好ましいものは水酸化アルミニウム及び水酸化マグネシウムである。   The hydrated metal compound (B2) is a metal compound having water of crystallization, and examples thereof include, but are not limited to, those in which the amount of bound water per mole by thermal analysis is 12 to 60% (mass%). It is not a thing. From the viewpoint of flame retardancy and the like, preferably, a hydrated metal compound having an endothermic amount at the time of thermal decomposition of 400 J / g or more, preferably 600 to 2500 J / g is used. Specific examples of such hydrated metal compounds include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, dosonite, calcium aluminate, dihydrate gypsum, zinc borate, barium metaborate, zinc hydroxystannate, kaolin. And vermiculite. Of these, aluminum hydroxide and magnesium hydroxide are particularly preferred.

本発明で用いられる水和金属化合物の粒子サイズは特に限定されないが、平均粒子径40μm以下のものが好ましく、2μm以下のものがさらに好適である。平均粒子径が40μmを超えると、レジスト硬化膜の透明性が悪化し光透過性が低下したり、塗工膜表面の外観、平滑性が損なわれる場合がある。   The particle size of the hydrated metal compound used in the present invention is not particularly limited, but the average particle size is preferably 40 μm or less, more preferably 2 μm or less. When the average particle diameter exceeds 40 μm, the transparency of the cured resist film is deteriorated and the light transmittance may be lowered, or the appearance and smoothness of the coating film surface may be impaired.

本発明で用いられる水和金属化合物(B2)としては、透明性向上等の観点から、極性を有する表面処理剤により表面処理がなされているものが特に好ましい。かかる極性を有する表面処理剤の例としては、エポキシシラン、アミノシラン、ビニルシラン、メルカプトシラン等のシランカップリング剤やチタネートカップリング剤が挙げられる。   As the hydrated metal compound (B2) used in the present invention, those subjected to surface treatment with a polar surface treatment agent are particularly preferable from the viewpoint of improving transparency. Examples of the surface treatment agent having such polarity include silane coupling agents and titanate coupling agents such as epoxy silane, amino silane, vinyl silane, and mercapto silane.

本発明で用いられるリン系化合物(B3)は、「P−O−Y」(式中、Yは有機基である。)の化学構造を有する化合物が好ましく、通常はリン原子が3価のものまたは5価のものが使用される。3価のものとしては、ホスファイト化合物、ホスホナイト化合物、ホスフィナイト化合物がある。一方、5価のリン原子を有するものとしては、ホスフェート化合物、ホスホネート化合物、ホスフィネート化合物がある。これらの中でも、保存安定性の観点から5価のリン原子を有するリン酸エステル化合物が好ましく使用される。
これらのリン酸エステル化合物のエステルを形成する有機基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、脂環族炭化水素基等のいずれであってもよいが、中でも難燃性及びハンダ耐熱性の観点から、芳香族炭化水素基を有するものが好ましい。
The phosphorus compound (B3) used in the present invention is preferably a compound having a chemical structure of “P—O—Y” (wherein Y is an organic group), and usually has a trivalent phosphorus atom. Or a pentavalent thing is used. Trivalent compounds include phosphite compounds, phosphonite compounds, and phosphinite compounds. On the other hand, those having a pentavalent phosphorus atom include phosphate compounds, phosphonate compounds, and phosphinate compounds. Among these, a phosphate ester compound having a pentavalent phosphorus atom is preferably used from the viewpoint of storage stability.
The organic group forming the ester of these phosphate ester compounds may be any of an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, etc., among which flame retardancy and solder From the viewpoint of heat resistance, those having an aromatic hydrocarbon group are preferred.

そのようなリン酸エステル化合物としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、レゾルシノールビス(ジフェノル)ホスフェート、ビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン=10−オキシド等が挙げられる。   Examples of such phosphate ester compounds include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, resorcinol bis (diphenol) phosphate, bisphenol A bis (diphenyl phosphate), 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene = 10-oxide and the like.

また、上記リン系化合物以外にも「−P(Y)2=N−」(式中、Yは有機基である。)の構造を有するホスファゼン化合物や、含リンエポキシ樹脂等も問題なく使用することができる。
本発明に用いられるアンチモン系化合物(B4)の具体的例としては、三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン酸ソーダ等が挙げられる。
In addition to the above phosphorus compounds, phosphazene compounds having a structure of “—P (Y) 2 ═N—” (where Y is an organic group), phosphorus-containing epoxy resins, and the like can be used without any problem. be able to.
Specific examples of the antimony compound (B4) used in the present invention include antimony trioxide, antimony tetraoxide, antimony pentoxide, and sodium antimonate.

3−2.有機溶媒
また、本発明のソルダーレジスト用難燃組成物には、粘度調節などのために必要に応じて有機溶媒を添加して使用してもよい。粘度を調節することによって、ローラーコート、スピンコート、スクリーンコート、カーテンコートなどで対象物上に塗布したり、印刷したりしやすくなる。
3-2. Organic Solvent The flame retardant composition for a solder resist of the present invention may be used by adding an organic solvent as necessary for adjusting the viscosity. By adjusting the viscosity, it becomes easy to apply or print on an object by roller coating, spin coating, screen coating, curtain coating or the like.

有機溶媒としては、イソプロパノール、1−ブタノール、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、イソホロン、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等が挙げられる。これらは、単独または2種以上組み合わせて用いてもよい。   As organic solvents, isopropanol, 1-butanol, toluene, xylene, ethylbenzene, cyclohexane, isophorone, ethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n -Butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, methyl methoxypropionate, ethyl methoxypropionate, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethyl acetate, isoamyl acetate , Lactic acid Chill, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N, N- dimethylformamide, N- methylpyrrolidone and the like. You may use these individually or in combination of 2 or more types.

有機溶媒の使用量は、ソルダーレジスト用難燃組成物の粘度が500〜500,000mPa・s(B型粘度計(Brookfield Viscometer)による25℃での測定値)になるよう調節するのが好ましい。更に好ましい粘度は1,000〜500,000mPa・sである。粘度がこの範囲にあると対象物への塗布や印刷に適しより使用しやすくなる。また、このような粘度にするための有機溶媒の使用量は、有機溶媒以外の固形分に対し1.5質量倍以下である。有機溶媒の使用量が1.5質量倍を超えると固形分濃度が低くなり、このソルダーレジスト用難燃組成物を基板などに印刷する場合、一回の印刷で十分な膜厚が得られず、多数回の印刷が必要になる場合がある。   The amount of the organic solvent used is preferably adjusted so that the flame retardant composition for the solder resist has a viscosity of 500 to 500,000 mPa · s (measured value at 25 ° C. using a B-type viscometer). A more preferable viscosity is 1,000 to 500,000 mPa · s. When the viscosity is in this range, it is suitable for application to an object and printing, and becomes easier to use. Moreover, the usage-amount of the organic solvent for setting it as such a viscosity is 1.5 mass times or less with respect to solid content other than an organic solvent. When the amount of the organic solvent used exceeds 1.5 mass times, the solid content becomes low. When printing this flame retardant composition for solder resist on a substrate or the like, a sufficient film thickness cannot be obtained by a single printing. , Many times of printing may be required.

3−3.その他
本発明のソルダーレジスト用難燃組成物にさらに着色剤を加えてインクとして使用することもできる。着色剤としては、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等が挙げられる。インクとして使用する場合も、その粘度は500〜500,000mP・s(B型粘度計(Brookfield Viscometer)による25℃での測定値)であることが好ましい。
3-3. Others A colorant may be further added to the flame retardant composition for a solder resist of the present invention to be used as an ink. Examples of the colorant include phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, crystal violet, titanium oxide, carbon black, naphthalene black and the like. When used as an ink, the viscosity is preferably 500 to 500,000 mP · s (measured value at 25 ° C. by a B-type viscometer).

本発明のソルダーレジスト用難燃組成物には、流動性を調整するために、さらに流動調整剤を添加することができる。流動性調整剤は、例えば、ソルダーレジスト用難燃組成物をローラーコート、スピンコート、スクリーンコート、カーテンコートなどで対象物に塗布する場合などに、ソルダーレジスト用難燃組成物の流動性を適宜調節することができる。流動調整剤としては、例えば無機及び有機充填剤、ワックス、界面活性剤等が挙げられる。   In order to adjust fluidity, a flow regulator can be further added to the flame retardant composition for solder resist of the present invention. For example, when the flame retardant composition for solder resist is applied to an object by roller coating, spin coating, screen coating, curtain coating, etc., the fluidity modifier appropriately controls the fluidity of the flame retardant composition for solder resist. Can be adjusted. Examples of the flow regulator include inorganic and organic fillers, waxes, surfactants and the like.

無機充填剤の具体例としては、タルク、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、シリカ、アルミナ、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、珪酸塩化合物等が挙げられる。有機充填剤の具体例としては、シリコーン樹脂、シリコンゴム、弗素樹脂等が挙げられる。ワックスの具体例としては、ポリアミドワックス、酸化ポリエチレンワックス等が挙げられる。界面活性剤の具体例としては、シリコンオイル、高級脂肪酸エステル、アミド等が挙げられる。これらの流動性調整剤は、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらの中でも無機充填剤を使用すると、ソルダーレジスト用難燃組成物の流動性だけではなく、密着性、硬度などの特性も改良できるため好ましい。   Specific examples of the inorganic filler include talc, barium sulfate, barium titanate, silica, alumina, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum hydroxide, and a silicate compound. Specific examples of the organic filler include silicone resin, silicone rubber, and fluorine resin. Specific examples of the wax include polyamide wax and oxidized polyethylene wax. Specific examples of the surfactant include silicone oil, higher fatty acid ester, amide and the like. These fluidity modifiers can be used alone or in combination of two or more. Of these, the use of an inorganic filler is preferable because not only the fluidity of the flame retardant composition for solder resist but also the properties such as adhesion and hardness can be improved.

また、本発明のソルダーレジスト用難燃組成物には必要に応じて、熱重合禁止剤、増粘剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤等の添加剤を添加することができる。熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジン等が挙げられる。増粘剤としては、アスベスト、オルベン、ベントン、モンモリロナイト等が挙げられる。消泡剤は、印刷、塗工時及び硬化時に生じる泡を消すために用いられる。具体例としては、アクリル系、シリコーン系等の界面活性剤が挙げられる。レベリング剤は、印刷、塗工時に生じる皮膜表面の凹凸を失くすために用いられる。具体例としては、アクリル系、シリコーン系等の界面活性剤が挙げられる。密着性付与剤としては、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤等が挙げられる。
また、本発明の主旨を損ねない範囲で保存安定性のために紫外線防止剤、可塑剤などを添加することもできる。
Moreover, additives, such as a thermal-polymerization inhibitor, a thickener, an antifoamer, a leveling agent, an adhesiveness imparting agent, can be added to the flame retardant composition for a solder resist of the present invention as necessary. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol, pyrogallol, phenothiazine and the like. Examples of the thickener include asbestos, olben, benton, montmorillonite and the like. An antifoaming agent is used in order to erase the foam which arises at the time of printing, coating, and hardening. Specific examples include acrylic and silicone surfactants. The leveling agent is used to lose unevenness on the surface of the film that occurs during printing and coating. Specific examples include acrylic and silicone surfactants. Examples of the adhesion imparting agent include imidazole, thiazole, triazole, and silane coupling agents.
In addition, an ultraviolet inhibitor, a plasticizer, and the like can be added for storage stability within a range that does not impair the gist of the present invention.

4.ソルダーレジスト用難燃組成物の製造方法
本発明のソルダーレジスト用難燃組成物は、上記の各成分を通常の方法で混合することによって製造することができる。混合の方法には特に制限はなく、一部の成分を混合してから残りの成分を混合してもよく、または、すべての成分を一括で混合してもよい。
具体的には、上記した各成分を混合した後、ニーダー、3本ロール、ビーズミルなどの公知の混練方法を用いて製造される。
4). Method for Producing Flame Retardant Composition for Solder Resist The flame retardant composition for solder resist of the present invention can be produced by mixing each of the above components by a usual method. The mixing method is not particularly limited, and a part of the components may be mixed and then the remaining components may be mixed, or all the components may be mixed at once.
Specifically, after mixing each of the above-described components, it is produced using a known kneading method such as a kneader, three rolls, or a bead mill.

5.ソルダーレジスト用難燃組成物の硬化物及び用途
本発明のソルダーレジスト用難燃組成物は、基板上などに適当な厚みで塗布した後にそのまま熱処理することにより硬化物を得ることができる。
本発明のソルダーレジスト用難燃組成物は、優れた難燃性を有するにもかかわらず高い可撓性が保たれ、さらに他の難燃剤を配合した場合と異なり熱硬化性が低下せず、さらに耐熱性、電気絶縁性、配線基板に対する密着性などの性能をも満足する硬化膜を形成することができる。そして、この硬化膜は、特に難燃性、可撓性、電気絶縁性に優れるので、FPC基板のような薄い配線基板に使用した場合でも、カールが生じず、電気的性能や取り扱い性にも優れた可撓性の良好な絶縁保護被膜を形成することができる。また、本発明の組成物は多層プリント配線基板の層間絶縁樹脂層としても好適に使用できる。
5). Cured product and use of flame retardant composition for solder resist The flame retardant composition for solder resist of the present invention can be obtained by applying a heat treatment on a substrate or the like and then heat-treating it as it is.
The flame retardant composition for a solder resist of the present invention maintains high flexibility despite having excellent flame retardancy, and unlike the case where other flame retardants are blended, thermosetting does not decrease, Furthermore, it is possible to form a cured film that satisfies performances such as heat resistance, electrical insulation, and adhesion to a wiring board. And since this cured film is particularly excellent in flame retardancy, flexibility, and electrical insulation, even when used on a thin wiring board such as an FPC board, curling does not occur, and electrical performance and handleability are also improved. An excellent insulating protective film having excellent flexibility can be formed. Moreover, the composition of this invention can be used conveniently also as an interlayer insulation resin layer of a multilayer printed wiring board.

絶縁保護被膜は、回路が形成された基板上にソルダーレジスト用難燃組成物を10〜100μmの厚みで塗布した後、100〜200℃の温度範囲で10〜60分熱処理して硬化させることにより形成することができる。   The insulating protective coating is formed by applying a flame retardant composition for solder resist to a thickness of 10 to 100 μm on a substrate on which a circuit is formed, and then heat-treating it in a temperature range of 100 to 200 ° C. for 10 to 60 minutes to cure. Can be formed.

本発明のソルダーレジスト用難燃組成物は、様々な用途に使用できるが、特に、難燃性、熱硬化性、基板との密着性、絶縁性、耐熱性、そり変形性、可撓性等の諸特性が要求されるプリント配線基板の絶縁保護被膜及び多層プリント配線基板の層間絶縁樹脂層としての使用に適している。   The flame retardant composition for a solder resist of the present invention can be used for various applications, in particular, flame retardancy, thermosetting, adhesion to a substrate, insulation, heat resistance, warp deformation, flexibility, etc. It is suitable for use as an insulating protective film for printed wiring boards that require these characteristics and as an interlayer insulating resin layer for multilayer printed wiring boards.

以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<分子中に臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)の合成>
合成例1:
PHT−4ジオール(商品名 3,4,5,6−テトラブロモフタル酸のプロピレングリコールとジエチレングリコールの混合エステル,水酸基当量279,Great Lakes Chemical Corporation製)200g、無水コハク酸(酸無水物基当量100,東京化成(株)製)71.9g、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート(東京化成(株)製)125.2gを500ml四口セパラブルフラスコに仕込み、温度計、撹拌装置、窒素導入管、コンデンサーを付与した後、窒素気流中120℃で5時間反応させた。赤外分光光度計(FT/IR8000 日本分光(株)製,以下、「FT−IR」という。)で酸無水物基のカルボニル基由来の吸収が消失したことを確認後、室温まで放冷した。さらに、IPU−22G(商品名 8,13−ジメチル−8,12−エイコサジエン二酸=ビス(2,3−エポキシプロピル),エポキシ当量279,岡村製油(株)製)100.6g、テトラブチルアンモニウムブロマイド 3.48gを加えた後、110℃で反応を行なった。反応10時間後、ほぼ酸価が一定になったことを確認した後、放冷した。得られた樹脂の固形分濃度は75質量%、固形分酸価は60mgKOH/g、臭素含有率は27.1質量%、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)によるポリスチレン換算の重量平均分子量は3000であった。
<Synthesis of polyester resin (A) containing bromine atom in molecule>
Synthesis example 1:
PHT-4 diol (trade name: 3,4,5,6-tetrabromophthalic acid mixed ester of propylene glycol and diethylene glycol, hydroxyl group equivalent 279, manufactured by Great Lakes Chemical Corporation) 200 g, succinic anhydride (acid anhydride group equivalent 100) , Tokyo Chemical Co., Ltd.) 71.9 g and diethylene glycol ethyl ether acetate (Tokyo Kasei Co., Ltd.) 125.2 g are charged into a 500 ml four-necked separable flask, and a thermometer, a stirrer, a nitrogen inlet tube, and a condenser are provided. And then reacted at 120 ° C. for 5 hours in a nitrogen stream. After confirming that the absorption derived from the carbonyl group of the acid anhydride group disappeared with an infrared spectrophotometer (FT / IR8000 manufactured by JASCO Corporation, hereinafter referred to as “FT-IR”), the mixture was allowed to cool to room temperature. . Furthermore, IPU-22G (trade name 8,13-dimethyl-8,12-eicosadienedioic acid = bis (2,3-epoxypropyl), epoxy equivalent 279, manufactured by Okamura Oil Co., Ltd.) 100.6 g, tetrabutylammonium After adding 3.48 g of bromide, the reaction was carried out at 110 ° C. After 10 hours of reaction, it was confirmed that the acid value was almost constant, and then allowed to cool. The obtained resin had a solid content concentration of 75% by mass, a solid content acid value of 60 mgKOH / g, a bromine content of 27.1% by mass, and a weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC (gel permeation chromatography) of 3000. there were.

合成例2:
PHT−4ジオール 160g、無水コハク酸 57.5g、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート 113.5gを500ml四口セパラブルフラスコに仕込み、温度計、撹拌装置、窒素導入管、コンデンサーを付与した後、窒素気流中120℃で6時間反応させた。FT−IRで酸無水物基のカルボニル基由来の吸収が消失したことを確認後、室温まで放冷した。さらにIPU−22G 120.2g、テトラブチルアンモニウムブロマイド 2.78gを加えた後、110℃で反応を行なった。反応10時間後、ほぼ酸価が一定になったことを確認した後、放冷した。得られた樹脂の固形分濃度は75質量%、固形分酸価は30mgKOH/g、臭素含有率は26.8質量%、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量は6000であった。
Synthesis example 2:
PHT-4diol 160g, succinic anhydride 57.5g, diethylene glycol ethyl ether acetate 113.5g were charged into a 500ml four-necked separable flask, and a thermometer, a stirrer, a nitrogen inlet tube and a condenser were added, and then in a nitrogen stream 120 The reaction was carried out for 6 hours at ° C. After confirming that the absorption derived from the carbonyl group of the acid anhydride group disappeared by FT-IR, the mixture was allowed to cool to room temperature. Further, 120.2 g of IPU-22G and 2.78 g of tetrabutylammonium bromide were added, and the reaction was performed at 110 ° C. After 10 hours of reaction, it was confirmed that the acid value was almost constant, and then allowed to cool. The obtained resin had a solid content concentration of 75% by mass, a solid content acid value of 30 mgKOH / g, a bromine content of 26.8% by mass, and a weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC of 6000.

合成例3:
ジブロモネオペンチルグリコール(水酸基当量 131,ブロムケム・ファーイースト(株)製)118.9g、無水コハク酸 90.9g、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート(東京化成(株)製)108.7gを500ml四口セパラブルフラスコに仕込み、温度計、撹拌装置、窒素導入管、コンデンサーを付与した後、窒素気流中120℃で6時間反応させた。FT−IRで酸無水物基のカルボニル基由来の吸収が消失したことを確認後、室温まで放冷した。さらにSB−20G(商品名 8,12−エイコサジエン二酸=ビス(2,3−エポキシプロピル),エポキシ当量 249,岡村製油(株)製)113.0g、テトラブチルアンモニウムブロマイド 3.24gを加えた後、110℃で反応を行なった。反応10時間後、ほぼ酸価が一定になったことを確認した後、放冷した。得られた樹脂の固形分濃度は75質量%、固形分酸価は79mgKOH/g、臭素含有率は22.2質量%、GPCによるポリスチレン換算の重量平均分子量は3000であった。
Synthesis Example 3:
500 ml 4-neck separable of dibromoneopentyl glycol (hydroxyl equivalent 131, produced by Bromchem Far East Co., Ltd.) 118.9 g, succinic anhydride 90.9 g, diethylene glycol ethyl ether acetate (produced by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 108.7 g The flask was charged, a thermometer, a stirrer, a nitrogen introduction tube and a condenser were added, and then reacted at 120 ° C. for 6 hours in a nitrogen stream. After confirming that the absorption derived from the carbonyl group of the acid anhydride group disappeared by FT-IR, the mixture was allowed to cool to room temperature. Furthermore, SB-20G (trade name 8,12-eicosadiene diacid = bis (2,3-epoxypropyl), epoxy equivalent 249, manufactured by Okamura Oil Co., Ltd.) 113.0 g, tetrabutylammonium bromide 3.24 g were added. Thereafter, the reaction was carried out at 110 ° C. After 10 hours of reaction, it was confirmed that the acid value was almost constant, and then allowed to cool. The obtained resin had a solid content concentration of 75% by mass, a solid content acid value of 79 mgKOH / g, a bromine content of 22.2% by mass, and a weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC of 3000.

実施例1〜8及び比較例1〜2:
表1に示す配合割合で、主剤、硬化剤別々に三本ロールミル((株)小平製作所製 型式RIII−1RM−2)に3回通して混練りすることにより難燃組成物を調製した。
Examples 1-8 and Comparative Examples 1-2:
A flame retardant composition was prepared by mixing three times through a three roll mill (Model RIII-1RM-2, manufactured by Kodaira Seisakusho Co., Ltd.) three times with the mixing ratio shown in Table 1 separately.

得られた各難燃組成物について、以下の評価を実施した。
・熱硬化性
各ソルダーレジスト用難燃組成物を150メッシュポリエステル版でスクリーン印刷により塗布した25μm厚ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)100H、東レ・デュポン(株)製〕を、150℃の熱風循環式乾燥機に入れ、それぞれ20分、40分、60分熱硬化を行なった。さらに、熱硬化した塗膜に酢酸エチルを数滴たらし、キムワイプでラビングした後の塗膜の状態を目視で観察した。硬化していれば、塗膜に変化は見られない。熱硬化の評価基準を以下に示した。
○:塗膜に変化は見られない、
△:塗膜が白化する、
×:塗膜が溶解する。
The following evaluation was implemented about each obtained flame-retardant composition.
-Thermosetting 25 pm thick polyimide film [Kapton (registered trademark) 100H, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] coated with a flame retardant composition for each solder resist by screen printing with a 150 mesh polyester plate, circulating hot air at 150 ° C It put into the type | formula dryer, and thermosetting was performed for 20 minutes, 40 minutes, and 60 minutes, respectively. Furthermore, several drops of ethyl acetate were added to the heat-cured coating film, and the state of the coating film after rubbing with Kimwipe was visually observed. If cured, no change is seen in the coating. The evaluation criteria for thermosetting are shown below.
○: No change is seen in the coating film,
Δ: Whitening of the coating film
X: The coating film is dissolved.

・屈曲性
各ソルダーレジスト用難燃組成物を150メッシュポリエステル版でスクリーン印刷により基板に塗布し、150℃において、上記熱硬化性の評価において○と判定された時間で熱硬化した。基板は上記25μm厚ポリイミドフィルムを用いた。得られたポリイミドフィルムを、塗布面を外側に180°に折り曲げて硬化膜の白化の有無を目視により判定した。判定基準を以下に示す。
○:硬化膜の白化なし、
×:硬化膜が白化、もしくは亀裂が生じる。
-Flexibility The flame retardant composition for each solder resist was applied to a substrate by screen printing with a 150 mesh polyester plate, and was thermally cured at 150 ° C for the time determined as ◯ in the thermosetting evaluation. As the substrate, the above-mentioned 25 μm thick polyimide film was used. The obtained polyimide film was bent 180 ° outward so that the cured film was whitened by visual observation. Judgment criteria are shown below.
○: No whitening of the cured film,
X: The cured film is whitened or cracked.

・ハンダ耐熱
JIS・C−6481の試験法に準じて、各ソルダーレジスト用難燃組成物を150メッシュポリエステル版で基板にスクリーン印刷により塗布し、150℃において上記熱硬化性の評価において○と判定された時間で熱硬化した。基板は銅箔(厚さ35μm)片面積層ポリイミドフィルム(厚さ50μm)からなるプリント基板〔ユピセル(登録商標)N、宇部興産(株)製〕を1%硫酸水溶液で洗浄し、水洗後、空気流で乾燥したものを使用した。
得られた基板を260℃のハンダ浴に5秒間フロートさせることを1サイクルとして、サイクル毎に硬化膜を目視観察により“フクレ”と“ハンダもぐりこみ”がなく全く変化が認められないことを確認しながら繰り返したときの最大サイクル回数で表した。
Solder heat resistance According to the test method of JIS · C-6481, each flame resist composition for solder resist was applied to a substrate with a 150 mesh polyester plate by screen printing, and judged as ○ in the above thermosetting evaluation at 150 ° C. For a set time. The substrate is a printed board made of copper foil (thickness 35 μm), single area polyimide film (thickness 50 μm) [Iupicel (registered trademark) N, manufactured by Ube Industries, Ltd.] washed with 1% sulfuric acid aqueous solution, washed with water, and air What was dried in a stream was used.
The obtained substrate was floated in a solder bath at 260 ° C. for 5 seconds as one cycle, and the cured film was visually observed for each cycle, and it was confirmed that there was no change and no change was observed. The maximum number of cycles when repeated.

・燃焼性
燃焼性試験片は、以下の方法で作成した。厚み25μm、200mm×50mmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン(株)製,カプトン100H)の両面に、厚みが20μmのソルダーレジスト用難燃組成物層を設けて試料とした。
燃焼特性は米国のUnderwriters Laboratories Inc.(ULと略す)の高分子材料の難燃性試験規格94UL−VTM試験に準拠した方法で難燃性を評価した。
なお、表2中の「VTM」及び「NOT」は、以下の基準による。
・ Flammability A flammability test piece was prepared by the following method. A flame retardant composition layer for a solder resist having a thickness of 20 μm was provided on both sides of a polyimide film having a thickness of 25 μm and a thickness of 200 mm × 50 mm (manufactured by Toray DuPont Co., Ltd., Kapton 100H).
As for the combustion characteristics, flame retardancy was evaluated by a method based on a flame retardant test standard 94UL-VTM test for polymer materials of Underwriters Laboratories Inc. (abbreviated as UL) in the United States.
“VTM” and “NOT” in Table 2 are based on the following criteria.

VTM−0:下記の要求事項をすべて満足する。
(1)全ての試験片が、各回接炎中止後10秒を越えて有炎燃焼しない。
(2)各組5個の試験片に合計10回の接炎を行ない、有炎燃焼時間の合計が50秒を超えない。
(3)有炎または赤熱燃焼が125mmの標線まで達しない。
(4)有炎滴下物により、脱脂綿が着火しない。
(5)第2回目の接炎中止後、各試料の有炎と赤熱燃焼の合計が30秒を超えない。
(6)1組5個の試験片のうち1個のみが要求事項に適しないとき、または有炎時間の合計が51秒から55秒の範囲にあるときは、更に5個の試験片を試験し、すべてが前記(1)から(5)を満足する。
VTM-0: All the following requirements are satisfied.
(1) All specimens do not burn in flames for more than 10 seconds after stopping each flame contact.
(2) Each set of 5 test pieces is subjected to flame contact 10 times in total, and the total flame burning time does not exceed 50 seconds.
(3) Flame or red heat combustion does not reach the 125 mm mark.
(4) Absorbent cotton does not ignite due to flammable drops.
(5) After the second flame contact is stopped, the sum of the flame and red heat combustion of each sample does not exceed 30 seconds.
(6) If only one of the five test pieces in the set is not suitable for the requirement, or if the total flame time is in the range of 51 to 55 seconds, then another five test pieces are tested. All satisfy (1) to (5).

VTM−1:下記の要求事項をすべて満足する。
(1)全ての試験片が、各回接炎中止後30秒を越えて有炎燃焼しない。
(2)各組5個の試験片に合計10回の接炎を行ない、有炎燃焼時間の合計が250秒を超えない。
(3)有炎または赤熱燃焼が125mmの標線まで達しない。
(4)有炎滴下物により、脱脂綿が着火しない。
(5)第2回目の接炎中止後、各試料の有炎と赤熱燃焼の合計が60秒を超えない。
(6)1組5個の試験片のうち1個のみが要求事項に適しないとき、または有炎時間の合計が251秒から255秒の範囲にあるときは、更に5個の試験片を試験し、すべてが前記(1)から(5)を満足する。
VTM-1: All the following requirements are satisfied.
(1) All specimens do not burn in flames for more than 30 seconds after each flame contact is stopped.
(2) A total of 10 flames are contacted to each group of five test pieces, and the total flame burning time does not exceed 250 seconds.
(3) Flame or red heat combustion does not reach the 125 mm mark.
(4) Absorbent cotton does not ignite due to flammable drops.
(5) After stopping the second flame contact, the sum of the flaming and red hot combustion of each sample does not exceed 60 seconds.
(6) When only one set of five test pieces is not suitable for the requirement, or when the total flame time is in the range of 251 seconds to 255 seconds, another five test pieces are tested. All satisfy (1) to (5).

VTM−2:下記の要求事項をすべて満足する。
(1)全ての試験片が、各回接炎中止後30秒を越えて有炎燃焼しない。
(2)各組5個の試験片に合計10回の接炎を行ない、有炎燃焼時間の合計が250秒を超えないこと。
(3)有炎または赤熱燃焼が125mmの標線まで達しないこと。
(4)有炎滴下物により、脱脂綿が着火しても良い。
(5)第2回目の接炎中止後、各試料の有炎と赤熱燃焼の合計は60秒を超えない。
(6)1組5個の試験片のうち1個のみが要求事項に適しないとき、または有炎時間の合計が251秒から255秒の範囲にあるときは、更に5個の試験片を試験し、すべてが前記(1)から(5)を満足する。
VTM-2: All of the following requirements are satisfied.
(1) All specimens do not burn in flames for more than 30 seconds after each flame contact is stopped.
(2) A total of 10 flames should be applied to each group of 5 test pieces, and the total flammable combustion time shall not exceed 250 seconds.
(3) The flame or red heat combustion must not reach the 125 mm mark.
(4) Absorbent cotton may be ignited by the flamed drop.
(5) After the second flame contact is stopped, the total flame and red heat combustion of each sample does not exceed 60 seconds.
(6) When only one set of five test pieces is not suitable for the requirement, or when the total flame time is in the range of 251 seconds to 255 seconds, another five test pieces are tested. All satisfy (1) to (5).

NOT:以上のクラスいずれにも合格しない。 NOT: Does not pass any of the above classes.

・電気絶縁性(絶縁抵抗)
市販の基板(IPC規格)のIPC−C(櫛型パターン)上に、各ソルダーレジスト用難燃組成物を150メッシュポリエステル版でスクリーン印刷により塗布し、150℃において、上記熱硬化性の評価において○と判定された時間で熱硬化した。その基板を85℃、相対湿度85%の雰囲気下において192時間放置し、この処置前後で絶縁抵抗値を測定して電気絶縁性を評価した。絶縁抵抗値の測定は、処置前後の基板をJIS・C5012に準じて100V直流電圧を加え1分間保った後、その電圧印加状態で電気絶縁計にて行なった。
得られた評価結果を表2に示す。
・ Electrical insulation (insulation resistance)
In the evaluation of the thermosetting property at 150 ° C., the flame retardant composition for each solder resist was applied by screen printing with a 150 mesh polyester plate on IPC-C (comb pattern) of a commercially available substrate (IPC standard). It was thermoset at the time judged as ○. The substrate was left for 192 hours in an atmosphere of 85 ° C. and relative humidity of 85%, and the insulation resistance value was measured before and after this treatment to evaluate the electrical insulation. The insulation resistance value was measured by applying an electric insulation meter to the substrate before and after the treatment in accordance with JIS C5012 after applying a 100 V DC voltage for 1 minute and applying the voltage.
The obtained evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2005236273
Figure 2005236273
Figure 2005236273
Figure 2005236273
Figure 2005236273
Figure 2005236273
Figure 2005236273
Figure 2005236273

Claims (14)

分子中に臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)を含有することを特徴とするソルダーレジスト用難燃組成物。   A flame retardant composition for a solder resist, comprising a polyester resin (A) containing a bromine atom in the molecule. 樹脂成分中の、分子中に臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)の含有量が10〜70質量%である請求項1記載のソルダーレジスト用難燃組成物。   The flame retardant composition for a solder resist according to claim 1, wherein the content of the polyester resin (A) containing a bromine atom in the molecule in the resin component is 10 to 70% by mass. 分子中に臭素原子を含有するポリエステル樹脂(A)が、分子中に2個以上の臭素原子と2個以上の水酸基を有する化合物(a)、酸無水物基を有する化合物(b)及び分子中に2個のエポキシ基を有する化合物(c)を反応させて得られる樹脂である請求項1または2記載のソルダーレジスト用難燃組成物。   The polyester resin (A) containing a bromine atom in the molecule contains a compound (a) having two or more bromine atoms and two or more hydroxyl groups in the molecule, a compound (b) having an acid anhydride group, and a molecule The flame retardant composition for a solder resist according to claim 1 or 2, which is a resin obtained by reacting a compound (c) having two epoxy groups with the resin. 分子中に2個以上の臭素原子と2個以上の水酸基を有する化合物(a)が、下記式(1)
Figure 2005236273
(式中、X1、X2、X3及びX4のうち、少なくとも2個は臭素原子を表し、残りは水素原子を表し、R1及びR2はそれぞれ2価の有機基を表す。)で示される化合物及び/またはジブロモネオペンチルグリコールである請求項3記載のソルダーレジスト用難燃組成物。
The compound (a) having two or more bromine atoms and two or more hydroxyl groups in the molecule is represented by the following formula (1):
Figure 2005236273
(In the formula, at least two of X 1 , X 2 , X 3 and X 4 represent bromine atoms, the rest represent hydrogen atoms, and R 1 and R 2 each represent a divalent organic group.) The flame retardant composition for a solder resist according to claim 3, which is a compound represented by the formula: and / or dibromoneopentyl glycol.
前記式(1)で示される化合物(a)が、下記式(2)
Figure 2005236273
で示される化合物である請求項4記載のソルダーレジスト用難燃組成物。
The compound (a) represented by the formula (1) is represented by the following formula (2)
Figure 2005236273
The flame retardant composition for a solder resist according to claim 4, which is a compound represented by the formula:
分子中に2個のエポキシ基を有する化合物(c)が、式(3)
Figure 2005236273
(式中、R3は、炭素数12〜30の、置換基を有してもよいアルキレン基または置換基を有してよいアルケニレン基を表す。)
で示される請求項3記載のソルダーレジスト用難燃組成物。
The compound (c) having two epoxy groups in the molecule is represented by the formula (3)
Figure 2005236273
(In the formula, R 3 represents an alkylene group having 12 to 30 carbon atoms which may have a substituent or an alkenylene group which may have a substituent.)
The flame-retardant composition for solder resists of Claim 3 shown by these.
3が、7,11−オクタデカジエニレン基または7,12−ジメチル−7,11−オクタデカジエニレン基である請求項6記載のソルダーレジスト用難燃組成物。 The flame retardant composition for a solder resist according to claim 6, wherein R 3 is a 7,11-octadecadienylene group or a 7,12-dimethyl-7,11-octadecadienylene group. 請求項1乃至7のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用難燃組成物の硬化物。   Hardened | cured material of the flame retardant composition for soldering resists of any one of Claims 1 thru | or 7. 請求項1乃至7のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用難燃組成物と着色剤とを含有することを特徴とするインク。   An ink comprising the flame retardant composition for a solder resist according to any one of claims 1 to 7 and a colorant. 請求項1乃至7のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物を基板に10〜100μmの厚みで塗布した後、100〜200℃の温度範囲で10〜60分熱処理して硬化させることを特徴としたソルダーレジスト用難燃組成物の硬化方法。   The resist curable flame retardant composition according to any one of claims 1 to 7 is applied to a substrate with a thickness of 10 to 100 µm, and then cured by heat treatment at a temperature range of 100 to 200 ° C for 10 to 60 minutes. A method for curing a flame retardant composition for a solder resist, characterized by comprising: 請求項1乃至7のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用難燃組成物からなることを特徴とする絶縁保護皮膜。   An insulating protective film comprising the flame retardant composition for a solder resist according to any one of claims 1 to 7. 請求項1乃至7のいずれか1項に記載のソルダーレジスト用難燃組成物からなることを特徴とする層間絶縁膜。   An interlayer insulating film comprising the flame retardant composition for a solder resist according to any one of claims 1 to 7. 請求項11記載の絶縁保護皮膜を有することを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board comprising the insulating protective film according to claim 11. 請求項12記載の層間絶縁膜を有することを特徴とするプリント配線板。
A printed wiring board comprising the interlayer insulating film according to claim 12.
JP2005011351A 2004-01-20 2005-01-19 Flame-retardant composition for solder resist, hardening method and use thereof Pending JP2005236273A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005011351A JP2005236273A (en) 2004-01-20 2005-01-19 Flame-retardant composition for solder resist, hardening method and use thereof

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004011567 2004-01-20
JP2005011351A JP2005236273A (en) 2004-01-20 2005-01-19 Flame-retardant composition for solder resist, hardening method and use thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005236273A true JP2005236273A (en) 2005-09-02

Family

ID=35018856

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005011351A Pending JP2005236273A (en) 2004-01-20 2005-01-19 Flame-retardant composition for solder resist, hardening method and use thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005236273A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009526400A (en) * 2006-02-10 2009-07-16 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Flame retardant cover coat for flexible circuits
WO2012007992A1 (en) * 2010-07-14 2012-01-19 京セラケミカル株式会社 Flexible wiring board, dry film for coverlay, and production method for flexible wiring board
US8710122B2 (en) 2008-12-08 2014-04-29 3M Innovative Properties Company Halogen-free flame retardants for epoxy resin systems

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009526400A (en) * 2006-02-10 2009-07-16 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Flame retardant cover coat for flexible circuits
US8710122B2 (en) 2008-12-08 2014-04-29 3M Innovative Properties Company Halogen-free flame retardants for epoxy resin systems
WO2012007992A1 (en) * 2010-07-14 2012-01-19 京セラケミカル株式会社 Flexible wiring board, dry film for coverlay, and production method for flexible wiring board
CN102986310A (en) * 2010-07-14 2013-03-20 京瓷化成株式会社 Flexible wiring board, dry film for coverlay, and production method for flexible wiring board

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102369508B1 (en) Curable resin composition, dry film, cured product and printed wiring board
CN102854744B (en) The manufacture method of photosensitive polymer combination and hardening thing and photoresist
JP6379697B2 (en) Curable resin composition, cured product and curing agent
CN101124258A (en) Thermosetting composition for solder resist and cured product thereof
JP2006284911A (en) Flame retardant composition for solder resist and cured body of same
TW200846353A (en) Phosphorus-containg flame retardant and curable flame retardancy resin composition containing the same
WO2003078494A1 (en) Curable resins and curable resin compositions containing the same
CN112694599A (en) Phenoxy resin, method for producing same, resin composition thereof, and cured product
JPWO2008068996A1 (en) Oxetane-containing resin, adhesive and resist agent using the same
JP2005173577A (en) Flame retardant photosensitive composition and its cured object
TW200536886A (en) Thermocuring resin composition and its curing coating film
JP5996851B2 (en) Photosensitive resin composition and use thereof
JP2003084429A (en) Resist curable flame-retardant composition and cured article thereof
JP2005236273A (en) Flame-retardant composition for solder resist, hardening method and use thereof
TWI758257B (en) Curable resin composition, dry film, and printed wiring board using the same
JP2008214513A (en) New phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition having the epoxy resin as indispensable component, and its cured product
JP2007070481A (en) Adhesive composition and flexible printed wiring board using the same
JP6705084B2 (en) Method for manufacturing multilayer printed wiring board and multilayer printed wiring board
JPH11288090A (en) Photosensitive resin composition
JP2005189841A (en) Curable flame retardant composition for resist, method for curing the same and use
JP2007094059A (en) Solder resist composition, insulating protective film, and printed wiring board
JP4202171B2 (en) Low dielectric photocurable resin composition
KR20210148177A (en) Curable resin composition, dry film, cured product and electronic component
WO2006085494A1 (en) Flame-retardant composition for solder resist and use thereof
JP2001354836A (en) Flame retardant epoxy resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20070705