JP2005189841A - Curable flame retardant composition for resist, method for curing the same and use - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable flame retardant composition for a resist having both flame retardancy and flexibility, suitable for use as a cover lay for FPC, a solder resist, etc., and excellent in solder heat resistance, moisture resistance and high temperature reliability. <P>SOLUTION: The curable flame retardant composition for a resist contains a (co)polymer of a bromine compound shown by formula (1) and/or formula (2) and a curable resin material for a resist. There are provided a heat cured object of the resist composition, an ink containing the resist composition and a colorant, a method for curing the resist composition, an insulating protective coating and an interlayer insulating film comprising the resist composition, and a printed wiring board with the film. In the formulae, R represents H or methyl; and X<SP>1</SP>-X<SP>10</SP>each independently represents H or Br with the proviso that at least two of X<SP>1</SP>-X<SP>5</SP>and at least two of X<SP>6</SP>-X<SP>10</SP>are Br. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、プリント配線板等の製造に使用される保護膜形成用のレジスト用硬化性難燃組成物、その硬化方法及び用途に関する。   The present invention relates to a curable flame retardant composition for resist for forming a protective film used in the production of a printed wiring board and the like, a curing method thereof, and an application.

プリント配線板の製造においては、従来より、エッチング時に使用されるレジスト、ハンダ付け工程で使用されるソルダーレジストなど、種々の基板保護手段が必要とされる。小型機器等に使用されるフィルム状のプリント配線板(フレキシブルプリント配線板;FPCと略記される。)の製造過程においても、部品搭載のためのハンダ付け工程において無関係な配線を保護するためのソルダーレジストが必要とされる。   In the production of a printed wiring board, various substrate protection means such as a resist used during etching and a solder resist used in a soldering process have been conventionally required. Solder for protecting irrelevant wiring in the soldering process for component mounting even in the manufacturing process of film-like printed wiring boards (flexible printed wiring boards; abbreviated as FPC) used for small devices A resist is required.

このような基板の保護手段として、従来はポリイミドフィルムを所定の型に打ち抜いたものを積層するカバーレイが用いられてきた。このカバーレイは、ハンダ付け後の配線の保護膜も兼ねており、ハンダ付け時の耐熱性、絶縁性、基板の組み込み時の折り曲げでクラックが入らない可撓性が必要とされる。更に、電池駆動の機器以外に用いられるFPCには難燃性も必要とされる。   As a protection means for such a substrate, conventionally, a cover lay in which a polyimide film punched into a predetermined mold is laminated has been used. This coverlay also serves as a protective film for the wiring after soldering, and is required to have heat resistance and insulation during soldering and flexibility so that cracks do not occur when the board is assembled. Furthermore, the FPC used for devices other than battery-driven devices also requires flame retardancy.

ポリイミドフィルムを打ち抜いて形成されるカバーレイは上記の要求特性を満足しており、現在最も多く使用されているが、型抜きに高価な金型が必要なうえに、打ち抜いたフィルムを人手によって位置合わせ、貼り合わせをするためさらに高コストになり、また、微細パターンの形成が困難であるという問題がある。   Coverlays formed by punching a polyimide film satisfy the above requirements and are most frequently used at present. However, expensive molds are required for punching, and the punched film is manually positioned. In addition, there is a problem that the cost is increased because of the bonding and bonding, and the formation of a fine pattern is difficult.

これらの問題を解決する方法として、基板上に感光性樹脂組成物を液状で塗布しまたはフィルム状として貼付する方法が提案された。この方法によれば、基板上に被膜を形成した後、写真技術によって露光、現像、加熱すれば微細パターンのカバーレイを容易に形成することができることから、従来種々の感光性樹脂組成物が開発されてきている。   As a method for solving these problems, there has been proposed a method in which a photosensitive resin composition is applied in a liquid form on a substrate or attached as a film. According to this method, after forming a coating film on a substrate, a fine pattern coverlay can be easily formed by exposure, development, and heating by photographic technology. Has been.

しかし、従来の感光性樹脂組成物には、FPC用として要求されるこれら全ての特性を満足するものはなかった。例えば、ノボラック型エポキシビニルエステル樹脂に多塩基酸無水物を付加反応させたプレポリマー、光重合開始剤、希釈剤、エポキシ化合物からなる感光性樹脂組成物が提案されたが(特公平1−54390号公報:特許文献1)、このものは耐熱性、絶縁性は良好であるものの、可撓性がなくFPCには不適当であった。また、エチレン性不飽和ジカルボン酸無水物及びエチレン性不飽和コモノマーとから形成されるコポリマーとアミンとの反応生成物である低分子量コポリマーと、カルボン酸含有高分子量コポリマーとからなるバインダー系に、アクリル化ウレタンモノマー成分、光開始剤及びブロックポリイソシアネート架橋剤を配合した感光性樹脂組成物が提案されたが(特開平7−278492号公報:特許文献2)、このものは難燃性がなく、用途が限定されてしまうという問題があった。   However, none of the conventional photosensitive resin compositions satisfy all these characteristics required for FPC. For example, a photosensitive resin composition comprising a prepolymer obtained by addition reaction of a polybasic acid anhydride to a novolak-type epoxy vinyl ester resin, a photopolymerization initiator, a diluent, and an epoxy compound has been proposed (Japanese Patent Publication No. 1-54390). Gazette: Patent Document 1), which has good heat resistance and insulation, but is not flexible and unsuitable for FPC. In addition, a binder system comprising a low molecular weight copolymer, which is a reaction product of a copolymer formed from an ethylenically unsaturated dicarboxylic acid anhydride and an ethylenically unsaturated comonomer, and an amine, and a carboxylic acid-containing high molecular weight copolymer is added to an acrylic resin. A photosensitive resin composition containing a fluorinated urethane monomer component, a photoinitiator, and a block polyisocyanate crosslinking agent has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 7-278492: Patent Document 2), which has no flame retardancy, There was a problem that the use was limited.

感光性樹脂組成物に難燃性を付与する方法としては、従来より臭素化エポキシ樹脂などのハロゲン系難燃剤や、これに三酸化アンチモンなどの難燃助剤を組み合わせてなる難燃剤系を用いる方法があった(特開平9−325490号公報:特許文献3、特開平11−242331号公報:特許文献4等)。しかし、これらの難燃剤系は、高温環境における信頼性に劣る場合があり、またアンチモン化合物を使用する際には樹脂の廃棄物処理について環境問題を考慮する必要がある。さらに、臭素化エポキシ樹脂は、充分な難燃効果が得られる量を配合しようとすると可撓性を損なったり、熱硬化性が低下するという大きな問題があった。
このように、UL規格(Underwriters Laboratories requirements)による基準を満たすほどの高い難燃性と可撓性を共に備え、ハンダ耐熱性、耐湿性、高温信頼性等にも優れたレジストを得るのは容易ではなく、さらなる改良が望まれていた。
As a method for imparting flame retardancy to the photosensitive resin composition, a conventional flame retardant such as a brominated epoxy resin or a flame retardant system in combination with a flame retardant aid such as antimony trioxide is used. There was a method (Japanese Patent Laid-Open No. 9-325490: Patent Document 3, Japanese Patent Laid-Open No. 11-242331: Patent Document 4, etc.). However, these flame retardant systems may be inferior in reliability in a high temperature environment, and when using an antimony compound, it is necessary to consider environmental issues regarding the waste treatment of the resin. Furthermore, the brominated epoxy resin has a large problem that flexibility is impaired and thermosetting property is lowered when an amount capable of obtaining a sufficient flame retardancy is added.
In this way, it is easy to obtain a resist that has both high flame resistance and flexibility enough to meet the standards of the UL standard (Underwriters Laboratories requirements), and excellent in soldering heat resistance, moisture resistance, high temperature reliability, etc. Instead, further improvements were desired.

特公平1−54390号公報Japanese Patent Publication No. 1-54390 特開平7−278492号公報JP 7-278492 A 特開平9−325490号公報JP-A-9-325490 特開平11−242331号公報JP-A-11-242331

本発明は、高水準の難燃性と可撓性とを共に備え、かつハンダ耐熱性、耐湿性、高温信頼性にも優れるレジスト用硬化性難燃組成物、特にFPC用のカバーレイ、ソルダーレジスト等として好適に用いることのできるレジスト用硬化性難燃組成物を提供することを課題とする。   The present invention provides a curable flame retardant composition for resist, particularly a coverlay and solder for FPC, which has both a high level of flame retardancy and flexibility and is excellent in solder heat resistance, moisture resistance and high temperature reliability. It is an object to provide a curable flame retardant composition for a resist that can be suitably used as a resist or the like.

本発明者らは、鋭意検討した結果、特定組成の難燃性付与剤を使用することにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、以下に記載のレジスト用硬化性難燃組成物、その組成物の硬化方法及び用途に関する。
1.式(1)

Figure 2005189841
(式中、Rは水素原子またはメチル基を表わし、X1、X2、X3、X4及びX5はそれぞれ独立して水素原子または臭素原子を表わすが、X1〜X5の少なくとも2個は臭素原子である。)及び/または式(2)
Figure 2005189841
(式中、X6、X7、X8、X9及びX10はそれぞれ独立して水素原子または臭素原子を表わすが、X6〜X10の少なくとも2個は臭素原子である。)
で示される臭素化合物の重合体または共重合体、及び硬化性樹脂材料を含有することを特徴とするレジスト用硬化性難燃組成物。
2.式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の重合体または共重合体の重量平均粒径が0.1〜10μmである前記1記載のレジスト用硬化性難燃組成物。
3.式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の重合体または共重合体の配合量が硬化性樹脂材料100質量部に対して10〜100質量部である前記1記載のレジスト用硬化性難燃組成物。
4.硬化性樹脂材料が、熱硬化性樹脂材料である前記1記載のレジスト用硬化性難燃性組成物。
5.硬化性樹脂材料が、熱硬化性樹脂材料及び光硬化性樹脂材料の組み合わせからなる前記1記載のレジスト用硬化性難燃組成物。
6.熱硬化性樹脂材料が、エポキシ樹脂である前記4または5記載のレジスト用硬化性難燃組成物。
7.エポキシ樹脂の硬化剤として、アミン化合物、カルボキシル基を有する化合物、酸無水物基を有する化合物及びフェノール性水酸基を有する化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を含有する前記6記載のレジスト用硬化性難燃組成物。
8.さらに、熱硬化触媒を含有する前記7記載のレジスト用硬化性難燃組成物。
9.光硬化性樹脂材料が、エチレン性不飽和末端基を有する感光性プレポリマー(A)、前記感光性プレポリマー(A)を除くエチレン性不飽和基を有する化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有する前記5に記載のレジスト用硬化性難燃組成物。
10.前記1乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物の硬化物。
11.前記1乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物と着色剤とを含有することを特徴とするインク。
12.前記4、6、7または8のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物を基板に10〜100μmの厚みで塗布した後、100〜200℃の温度で10〜60分熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト用硬化性難燃組成物の硬化方法。
13.前記5乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物を基板に10〜100μmの厚みで塗布した後、60〜100℃の温度で、5〜30分間程度で熱処理して溶剤を乾燥した後、露光・現像後、100〜200℃の温度で、10〜60分間熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト用硬化性難燃組成物の硬化方法。
14.前記1乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物の硬化物からなることを特徴とする絶縁保護皮膜。
15.前記1乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物の硬化物からなることを特徴とする層間絶縁膜。
16.前記14記載の絶縁保護皮膜を有することを特徴とするプリント配線板。
17.前記15記載の層間絶縁膜を有することを特徴とするプリント配線板。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above-described problems can be solved by using a flame retardant imparting agent having a specific composition, and have completed the present invention. That is, this invention relates to the curable flame-retardant composition for resists described below, a method for curing the composition, and applications.
1. Formula (1)
Figure 2005189841
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represents a hydrogen atom or a bromine atom, but at least 2 of X 1 to X 5 Are bromine atoms) and / or formula (2)
Figure 2005189841
(In the formula, X 6 , X 7 , X 8 , X 9 and X 10 each independently represent a hydrogen atom or a bromine atom, but at least two of X 6 to X 10 are bromine atoms.)
A curable flame retardant composition for a resist comprising a polymer or copolymer of a bromine compound represented by the formula (I) and a curable resin material.
2. 2. The curable flame retardant composition for a resist according to 1, wherein the bromine compound polymer or copolymer represented by the formula (1) and / or the formula (2) has a weight average particle diameter of 0.1 to 10 μm.
3. 2. The resist composition according to 1 above, wherein the amount of the polymer or copolymer of the bromine compound represented by the formula (1) and / or the formula (2) is 10 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin material. Curable flame retardant composition.
4). 2. The curable flame retardant composition for resists according to 1 above, wherein the curable resin material is a thermosetting resin material.
5). 2. The curable flame retardant composition for a resist according to 1, wherein the curable resin material is a combination of a thermosetting resin material and a photocurable resin material.
6). 6. The curable flame retardant composition for resists according to 4 or 5, wherein the thermosetting resin material is an epoxy resin.
7). 7. The resist according to 6 above, which contains at least one compound selected from the group consisting of an amine compound, a compound having a carboxyl group, a compound having an acid anhydride group, and a compound having a phenolic hydroxyl group as a curing agent for an epoxy resin. Curable flame retardant composition.
8). The curable flame retardant composition for a resist according to the above 7, further comprising a thermosetting catalyst.
9. The photocurable resin material is a photosensitive prepolymer (A) having an ethylenically unsaturated terminal group, a compound (B) having an ethylenically unsaturated group excluding the photosensitive prepolymer (A), and a photopolymerization initiator ( 6. The curable flame retardant composition for resists according to 5 above, which contains C).
10. Hardened | cured material of the curable flame-retardant composition for resists of any one of said 1 thru | or 9.
11. 10. An ink comprising the resist curable flame retardant composition according to any one of 1 to 9 and a colorant.
12 After apply | coating the curable flame retardant composition for resists of any one of said 4, 6, 7 or 8 to a board | substrate with the thickness of 10-100 micrometers, it heat-processes for 10 to 60 minutes at the temperature of 100-200 degreeC. A method for curing a curable flame retardant composition for resist, characterized by comprising:
13. After apply | coating the curable flame retardant composition for resists of any one of said 5 thru | or 9 to a board | substrate with the thickness of 10-100 micrometers, it heat-processes at the temperature of 60-100 degreeC for about 5 to 30 minutes. A method for curing a curable flame retardant composition for resists, comprising drying a solvent, and then heat-curing at a temperature of 100 to 200 ° C. for 10 to 60 minutes after exposure and development.
14 10. An insulating protective film comprising a cured product of the curable flame retardant composition for resist according to any one of 1 to 9 above.
15. 10. An interlayer insulating film comprising a cured product of the curable flame retardant composition for resist according to any one of 1 to 9 above.
16. 15. A printed wiring board comprising the insulating protective film as described in 14 above.
17. 16. A printed wiring board comprising the interlayer insulating film as described in 15 above.

本発明のレジスト用硬化性難燃組成物は、優れた難燃性と可撓性、そしてハンダ耐熱性を有する保護膜の形成ができ、特にFPC用カバーレイ、ソルダーレジスト等の形成に好適に用いることができる。   The resist curable flame retardant composition of the present invention can form a protective film having excellent flame retardancy and flexibility, and solder heat resistance, and is particularly suitable for forming FPC coverlays, solder resists, and the like. Can be used.

以下、本発明を詳細に説明する。本発明のレジスト用硬化性難燃組成物は、難燃性付与剤と硬化性樹脂材料を含有してなる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. The resist curable flame retardant composition of the present invention comprises a flame retardant imparting agent and a curable resin material.

I.難燃性付与剤[臭素化合物の(共)重合体]
本発明のレジスト用硬化性難燃性組成物の難燃性付与剤としては、式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の重合体または共重合体(以下、(共)重合体と略記する。)が使用される。

Figure 2005189841
式中、Rは水素原子またはメチル基を表わし、X1、X2、X3、X4及びX5はそれぞれ独立して水素原子または臭素原子を表わすが、X1〜X5の少なくとも2個は臭素原子である。
Figure 2005189841
式中、X6、X7、X8、X9及びX10はそれぞれ独立して水素原子または臭素原子を表わすが、X6〜X10の少なくとも2個は臭素原子である。 I. Flame retardancy imparting agent [bromine compound (co) polymer]
As the flame retardant imparting agent of the curable flame retardant composition for resists of the present invention, a polymer or copolymer of a bromine compound represented by formula (1) and / or formula (2) (hereinafter referred to as (co)). Abbreviated polymer)).
Figure 2005189841
In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a bromine atom, but at least two of X 1 to X 5 Is a bromine atom.
Figure 2005189841
In the formula, X 6 , X 7 , X 8 , X 9 and X 10 each independently represent a hydrogen atom or a bromine atom, but at least two of X 6 to X 10 are bromine atoms.

通常、硬化性樹脂材料に効率よく難燃性を付与するためには、臭素原子を有する化合物を樹脂材料中に均一に混合・溶解させることが重要である。しかし臭素原子を含む難燃剤を必要量配合・溶解して硬化性樹脂材料を硬化させると、硬化塗膜が硬くなってしまい、特にフレキシブル基板用のレジスト材料としては適さなくなる。一方、本発明の式(1)で示される化合物、あるいは式(2)で示される化合物の(共)重合体は、本発明に使用される硬化性樹脂材料に対する溶解度が著しく低いため、硬化性樹脂材料中に分散された状態として存在する。その結果、難燃性を発現する必要量配合して硬化させても、柔軟性を維持することができる。   Usually, in order to efficiently impart flame retardancy to the curable resin material, it is important to uniformly mix and dissolve the compound having a bromine atom in the resin material. However, if a necessary amount of a flame retardant containing a bromine atom is blended and dissolved to cure the curable resin material, the cured coating film becomes hard and is not particularly suitable as a resist material for a flexible substrate. On the other hand, the compound represented by the formula (1) of the present invention or the (co) polymer of the compound represented by the formula (2) has a remarkably low solubility in the curable resin material used in the present invention. It exists as a state dispersed in the resin material. As a result, the flexibility can be maintained even when the necessary amount that exhibits flame retardancy is blended and cured.

ここで、式(1)で示される化合物の具体例としては、ジブロモベンジル(メタ)アクリレート、トリブロモベンジル(メタ)アクリレート、テトラブロモベンジル(メタ)アクリレート、ペンタブロモベンジル(メタ)アクリレートが挙げられる(以下、アクリレートとメタクリレートをあわせて「(メタ)アクリレート」という。また、アクリル酸とメタクリル酸をあわせて「(メタ)アクリル酸」という。)。
また、式(2)で示される化合物の具体例としては、ジブロモスチレン、トリブロモスチレン、テトラブロモスチレン、ペンタブロモスチレンが挙げられる。
Here, specific examples of the compound represented by the formula (1) include dibromobenzyl (meth) acrylate, tribromobenzyl (meth) acrylate, tetrabromobenzyl (meth) acrylate, and pentabromobenzyl (meth) acrylate. (Hereinafter, acrylate and methacrylate are collectively referred to as “(meth) acrylate”, and acrylic acid and methacrylic acid are collectively referred to as “(meth) acrylic acid”).
Specific examples of the compound represented by the formula (2) include dibromostyrene, tribromostyrene, tetrabromostyrene, and pentabromostyrene.

また、式(1)及び/または式(2)で示される化合物は、硬化性樹脂材料への溶解性が上がらない範囲で他のエチレン性不飽和基を有する化合物(a)と共重合しても構わない。そのようなエチレン性不飽和基を有する化合物(a)の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。   In addition, the compound represented by the formula (1) and / or the formula (2) is copolymerized with another compound (a) having another ethylenically unsaturated group as long as the solubility in the curable resin material does not increase. It doesn't matter. Specific examples of the compound (a) having such an ethylenically unsaturated group include the following compounds.

メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、(メタ)アクリル酸ダイマー等の(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、N−(メタ)アクリロイルモルホリン等のアミド基を有する化合物、スチレン、α−メチルスチレン、(o,m,p−)メチルスチレン(o,m,p−)ヒドロキシスチレン、酢酸ビニル、マレイン酸、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸等のビニル化合物等。   Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, Cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, 2- Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl acrylate, 2, , 3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, (Meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, (meth) acrylates such as (meth) acrylic acid dimer, (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, Compounds having an amide group such as N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, N- (meth) acryloylmorpholine, styrene , Α-methyls Tylene, (o, m, p-) methylstyrene (o, m, p-) hydroxystyrene, vinyl acetate, maleic acid, dimethyl maleate, diethyl maleate, fumaric acid, dimethyl fumarate, diethyl fumarate, itaconic acid Vinyl compounds such as

式(1)及び/または式(2)で示される化合物とエチレン性不飽和基を有する化合物(a)の共重合の比率は、式(1)及び/または式(2)で示される化合物:エチレン性不飽和基を有する化合物(a)=99〜50:1〜50(質量比)である。式(1)及び/または式(2)で示される化合物の比率が50質量%未満であると、硬化性樹脂材料への溶解性が上がり、硬化塗膜の柔軟性を消失させる。好ましくは70質量%以上である。
難燃性付与剤である式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の(共)重合体を硬化性樹脂材料に配合する場合、そのまま2本ロールミル、3本ロールミル等のロールミルやニーダー等で混練りしても構わないが、あらかじめ微粉砕してから配合するほうが、塗膜の平滑性が良くなり、より好ましい。
The ratio of copolymerization of the compound represented by formula (1) and / or formula (2) and the compound (a) having an ethylenically unsaturated group is the compound represented by formula (1) and / or formula (2): It is compound (a) which has an ethylenically unsaturated group = 99-50: 1-50 (mass ratio). When the ratio of the compound represented by the formula (1) and / or the formula (2) is less than 50% by mass, the solubility in the curable resin material is increased, and the flexibility of the cured coating film is lost. Preferably it is 70 mass% or more.
When a (co) polymer of a bromine compound represented by the formula (1) and / or formula (2), which is a flame retardant imparting agent, is added to the curable resin material, a roll mill such as a two-roll mill or a three-roll mill is used as it is. It may be kneaded with a kneader or the like, but it is more preferable to blend after finely pulverizing in advance because the smoothness of the coating film is improved.

そのような微粉砕処理を行なうための機器としては、ペイントコンディショナー、連続ディスク型ビーズミル、連続アニュラー型ビーズミル等のビーズミルが挙げられる。これらのビーズミルに使用するビーズ径(直径)は0.2〜1.5mmが好ましく、より好ましくは0.4〜1.0mmである。0.2mm未満であるとビーズ1個の重量が小さくなり過ぎるため、ビーズ1個が有する粉砕エネルギーが小さくなり、難燃性付与剤の粉砕が進まなくなる。1.5mmを超えるとビーズ間の衝突回数が少なくなるので、難燃性付与剤の粉砕が短時間で行なうことは難しくなる。ビーズの材質はジルコニア、アルミナ等のセラミック、ステンレス等の比重が4以上のものが、粉砕効率が高くなるので好ましい。   Examples of the equipment for performing such pulverization treatment include a bead mill such as a paint conditioner, a continuous disk type bead mill, and a continuous annular type bead mill. The bead diameter (diameter) used in these bead mills is preferably 0.2 to 1.5 mm, more preferably 0.4 to 1.0 mm. If it is less than 0.2 mm, the weight of one bead becomes too small, so the pulverization energy of one bead becomes small, and the pulverization of the flame retardancy imparting agent does not proceed. If the thickness exceeds 1.5 mm, the number of collisions between the beads decreases, and it becomes difficult to pulverize the flame retardant imparting agent in a short time. The material of the beads is preferably a ceramic such as zirconia or alumina, or a material having a specific gravity of 4 or more, such as stainless steel, because the grinding efficiency is increased.

粉砕時の温度は10〜60℃の範囲が好ましく、より好ましくは室温〜50℃である。10℃未満では結露により大気中の水分が分散液に混入してしまうので好ましくない。また、60℃を越えると増粘等の変質が起こるので好ましくない。   The temperature during pulverization is preferably in the range of 10 to 60 ° C, more preferably from room temperature to 50 ° C. If it is less than 10 ° C., moisture in the atmosphere is mixed into the dispersion due to condensation, which is not preferable. On the other hand, when the temperature exceeds 60 ° C., alteration such as thickening occurs, which is not preferable.

ビーズミルによる微粉砕時に使用できる溶剤としては、難燃性付与剤である式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の(共)重合体が溶解せず、後で配合する硬化性樹脂材料に対して不活性な化合物であれば問題なく使用することができる。そのような溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、イソホロン、セロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等が挙げられる。これらは、単独または2種以上組み合わせて用いてもよい。また、粘度の点で問題なければ、硬化性樹脂材料を溶剤として微粉砕時に使用しても構わない。   As a solvent that can be used at the time of fine pulverization by a bead mill, a (co) polymer of a bromine compound represented by the formula (1) and / or the formula (2) that is a flame retardant imparting agent does not dissolve, and curing that is blended later Any compound that is inactive with respect to the conductive resin material can be used without any problem. Such solvents include methanol, ethanol, isopropanol, toluene, xylene, ethylbenzene, cyclohexane, isophorone, cellosolve acetate, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl Ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, methyl methoxypropionate, ethyl methoxypropionate, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, , N- dimethylformamide, N- methylpyrrolidone and the like. You may use these individually or in combination of 2 or more types. If there is no problem in terms of viscosity, a curable resin material may be used as a solvent during pulverization.

このようにして微粉砕された難燃性付与剤の重量平均粒子径は0.1〜10μmが好ましく、より好ましくは0.5〜5μmである。0.1μmより小さければ難燃性付与剤の再凝集が大きくなる。また、10μmより大きくなると、レジストとして必要な解像度が得られなくなったり、塗膜の平滑性が低下する。ここでいう重量平均粒子径はレーザー回折式光散乱光分析機にて測定された値で、そのような装置の具体例としてはマイクロトラックMKII型粒度分析計 SRA型(日機装株式会社)が挙げられる。   The weight average particle size of the flame retardant imparting agent thus finely pulverized is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm. If it is smaller than 0.1 μm, reaggregation of the flame retardancy imparting agent becomes large. On the other hand, if it exceeds 10 μm, the resolution required for the resist cannot be obtained, or the smoothness of the coating film decreases. The weight average particle diameter here is a value measured by a laser diffraction type light scattering light analyzer, and a specific example of such an apparatus is a Microtrac MKII type particle size analyzer SRA type (Nikkiso Co., Ltd.). .

II.硬化性樹脂材料
本発明で用いられる硬化性樹脂材料は、熱硬化性樹脂材料、光硬化性樹脂材料等、レジスト用樹脂材料として使用されている材料であればいずれも使用することもできる。
II. Curable resin material The curable resin material used in the present invention may be any material that is used as a resist resin material, such as a thermosetting resin material or a photocurable resin material.

II−1.熱硬化性樹脂材料
具体的には、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、メラミン誘導体(例えば、ヘキサメトキシメラミン、ヘキサブトキシ化メラミン、縮合ヘキサメトキシメラミン等)、尿素化合物(例えば、ジメチロール尿素等。)、ビスフェノール系化合物(例えば、テトラメチロール・ビスフェノールA等。)、オキサゾリン化合物、オキセタン化合物等が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも長期絶縁特性、耐熱性、加工性の観点よりエポキシ樹脂が好ましい。
II-1. Thermosetting resin materials Specifically, epoxy resins, phenol resins, silicone resins, melamine derivatives (for example, hexamethoxymelamine, hexabutoxylated melamine, condensed hexamethoxymelamine, etc.), urea compounds (for example, dimethylol urea, etc.) Bisphenol compounds (for example, tetramethylol / bisphenol A), oxazoline compounds, oxetane compounds, and the like. These thermosetting resins can be used alone or in combination of two or more.
Among these, epoxy resins are preferable from the viewpoints of long-term insulating properties, heat resistance, and processability.

II−1−(1).エポキシ樹脂
エポキシ樹脂は1分子中に2個以上のオキシラン基を含む化合物であり、具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、N−グリシジル型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのノボラック型エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノリック型エポキシ樹脂、シリコン変性エポキシ樹脂、ε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂などの一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物が挙げられる。さらに、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジグリシジルフタレート樹脂、ヘテロサイクリックエポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂等が挙げられる。本発明において、これらのエポキシ樹脂は1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
II-1- (1). Epoxy resin Epoxy resin is a compound containing two or more oxirane groups in one molecule. Specifically, bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F Type epoxy resin, novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, N-glycidyl type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, rubber-modified epoxy resin, dicyclopentadiene phenolic type epoxy resin, silicon Examples thereof include an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule such as a modified epoxy resin and an ε-caprolactone-modified epoxy resin. Furthermore, bisphenol S type epoxy resin, diglycidyl phthalate resin, heterocyclic epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin and the like can be mentioned. In the present invention, these epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

これらのエポキシ樹脂の硬化触媒としては、3級アミン、イミダゾール化合物等のエポキシ基の重合を促進する作用を有する化合物が挙げられる。
またエポキシ樹脂の硬化剤としては、1級もしくは2級アミン化合物、カルボキシル基を有する化合物、酸無水物化合物、フェノール化合物等エポキシ基に付加する官能基を有する化合物が挙げられる。
Examples of the curing catalyst for these epoxy resins include compounds having an action of promoting the polymerization of epoxy groups such as tertiary amines and imidazole compounds.
Examples of the epoxy resin curing agent include primary or secondary amine compounds, compounds having a carboxyl group, acid anhydride compounds, compounds having a functional group added to an epoxy group such as a phenol compound.

3級アミン化合物の具体例としては、トリエチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N−ジメチルピペラジン、ベンジルジメチルアミン、2−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビスシクロ(5.4.0)ウンデセン−1等が挙げられる。   Specific examples of the tertiary amine compound include triethylamine, dimethylcyclohexylamine, N, N-dimethylpiperazine, benzyldimethylamine, 2- (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabiscyclo (5.4.0) undecene-1, and the like.

イミダゾール化合物の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾールトリメリテート、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2−メチルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等が挙げられる。
これらの3級アミン化合物、イミダゾール化合物のさらに詳細な具体例は、エポキシ樹脂硬化剤の新展開」(株式会社シーエムシー,1994年発行)94〜107頁に記載されている。
Specific examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole. 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole trimellitate, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2′-methyl Imidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2-methylimidazole isocyanuric acid addition , 2-phenylimidazole / isocyanuric acid adduct, 2 , 4-Diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine / isocyanuric acid adduct and the like.
More detailed specific examples of these tertiary amine compounds and imidazole compounds are described in “New Development of Epoxy Resin Curing Agent” (CMC Co., Ltd., published in 1994), pages 94-107.

1級もしくは2級アミン化合物の具体例としては、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ポリオキシプロピレンジアミン、イソホロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルネンジアミン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5.5)ウンデカン、m−キシリレンジアミン等の脂肪族アミン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、α,α’−ビス(4−アミノフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン等の芳香族アミンが挙げられる。さらに詳しくは「エポキシ樹脂硬化剤の新展開」(株式会社シーエムシー,1994年発行)41〜93頁に記載されている。
カルボキシル基を有する化合物の具体例としては、フタル酸、イソフタル酸、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、ドデセニルコハク酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ヒドロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、アゼライン酸、ポリドデカン二酸、7,12−ジメチル−7,11−オクタデカジエン−1,18−ジカルボン酸等の低分子ポリカルボン酸、カルボキシル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート、カルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート等のオリゴマー、側鎖にカルボキシル基を有するアクリル共重合体等のポリマー等が挙げられる。
Specific examples of the primary or secondary amine compound include ethylenediamine, triethylenetetramine, polyoxypropylenediamine, isophoronediamine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornenediamine, Aliphatic amines such as 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro (5.5) undecane, m-xylylenediamine, metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenyl Aromatic amines such as sulfone and α, α′-bis (4-aminophenyl) -p-diisopropylbenzene are exemplified. Further details are described in “New Development of Epoxy Resin Curing Agent” (CMC Co., Ltd., published in 1994), pages 41-93.
Specific examples of the compound having a carboxyl group include phthalic acid, isophthalic acid, maleic acid, succinic acid, itaconic acid, dodecenyl succinic acid, tetrahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylhexahydrophthalic acid, endo Methylenetetrahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, hydromellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, azelaic acid, polydodecanedioic acid, 7,12-dimethyl-7,11-octadecadien-1,18- Low molecular weight polycarboxylic acids such as dicarboxylic acids, oligomers such as epoxy (meth) acrylates having carboxyl groups, urethane (meth) acrylates having carboxyl groups, and acrylic copolymers having carboxyl groups in the side chains Chromatography, and the like.

酸無水物化合物としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、ドデセニル無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリレート)、グリセロールトリス(アンヒドロトリメリテート)、ポリアゼライン酸無水物、ポリドデカン二酸無水物、7,12−ジメチル−7,11−オクタデカジエン−1,18−ジカルボン酸部分無水物等が挙げられる。さらに詳しくは「エポキシ樹脂硬化剤の新展開」(株式会社シーエムシー,1994年発行)117〜145頁に記載されている。   Acid anhydride compounds include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride , Endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis (anhydrotrimellilate), Examples thereof include glycerol tris (anhydro trimellitate), polyazeline acid anhydride, polydodecanedioic acid anhydride, 7,12-dimethyl-7,11-octadecadien-1,18-dicarboxylic acid partial anhydride, and the like. Further details are described in “New Development of Epoxy Resin Curing Agent” (CMC Co., Ltd., published in 1994), pages 117-145.

フェノール化合物の具体例としては、ビスフェノールF、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリ−p−ビニルフェノール、ビスフェノールA型ノボラック等が挙げられる。さらに詳しくは「エポキシ樹脂硬化剤の新展開」(株式会社シーエムシー,1994年発行)149〜162頁に記載されている。
酸無水物化合物、及びフェノール化合物はエポキシ基との反応性を上げるため、前述した3級アミン化合物やイミダゾール化合物を加えても良い。
Specific examples of the phenol compound include bisphenol F, bisphenol A, bisphenol S, phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, poly-p-vinylphenol, bisphenol A type. And novolak. Further details are described in “New Development of Epoxy Resin Curing Agent” (CMC Co., Ltd., published in 1994), pages 149-162.
In order to increase the reactivity of the acid anhydride compound and the phenol compound with the epoxy group, the above-described tertiary amine compound or imidazole compound may be added.

II−2.光硬化性樹脂材料
光硬化性樹脂材料としては、可視光、紫外線等により硬化しうるものであれば特に制限はないが、好ましくはエチレン性不飽和末端基を有する感光性プレポリマー(A)、前記感光性プレポリマー(A)を除くエチレン性不飽和基を有する化合物(B)、及び光重合開始剤(C)からなるものである。
II-2. Photocurable resin material The photocurable resin material is not particularly limited as long as it can be cured by visible light, ultraviolet light or the like, but preferably a photosensitive prepolymer (A) having an ethylenically unsaturated terminal group, It consists of a compound (B) having an ethylenically unsaturated group excluding the photosensitive prepolymer (A), and a photopolymerization initiator (C).

II−2−(1).感光性プレポリマー(A)
本発明に用いられる感光性プレポリマー(A)は、アクリル系モノマーに由来するエチレン性不飽和末端基を有するものである。かかる感光性プレポリマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリブタジエン(メタ)アクリレート、シリコン(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート等が挙げられる。
II-2- (1). Photosensitive prepolymer (A)
The photosensitive prepolymer (A) used in the present invention has an ethylenically unsaturated end group derived from an acrylic monomer. Examples of the photosensitive prepolymer include polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polybutadiene (meth) acrylate, silicon (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and the like.

本発明の感光性プレポリマー(A)としては分子中にエチレン性不飽和基を有するものであれば特に限定されないが、1分子中にカルボキシル基と少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を併せ持つものがより好ましい。カルボキシル基を有することによりアルカリ現像性とエポキシ樹脂との反応性を、2個以上のエチレン性不飽和基を有することにより高い光感度を獲得することができる。
具体的には、長期絶縁特性、耐熱性、接着性、柔軟性のバランスの点で特に好ましいものとして、カルボキシル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物(EA)、またはカルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物(UA)が挙げられる。
The photosensitive prepolymer (A) of the present invention is not particularly limited as long as it has an ethylenically unsaturated group in the molecule, but has a carboxyl group and at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. Is more preferable. By having a carboxyl group, it is possible to obtain alkali developability and reactivity with an epoxy resin, and by having two or more ethylenically unsaturated groups, high photosensitivity can be obtained.
Specifically, an epoxy (meth) acrylate compound having a carboxyl group (EA) or a urethane having a carboxyl group (meth) is particularly preferable in terms of a balance between long-term insulating properties, heat resistance, adhesion, and flexibility. An acrylate compound (UA) is mentioned.

<カルボキシル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物(EA)>
本発明におけるカルボキシル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物としては、特に限定されるものでは無いが、エポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸との反応物を酸無水物と反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート化合物が適している。
<Epoxy (meth) acrylate compound (EA) having carboxyl group>
Although it does not specifically limit as an epoxy (meth) acrylate compound which has a carboxyl group in this invention, The epoxy obtained by making the reaction material of an epoxy compound and unsaturated group containing monocarboxylic acid react with an acid anhydride. (Meth) acrylate compounds are suitable.

エポキシ化合物としては、特に限定されるものではないが、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、または脂肪族エポキシ化合物などのエポキシ化合物が挙げられる。これらは単独または二種以上併用することもできる。   Although it does not specifically limit as an epoxy compound, A bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, a bisphenol S type epoxy compound, a phenol novolac type epoxy compound, a cresol novolak type epoxy compound, an aliphatic epoxy compound, etc. The epoxy compound is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

不飽和基含有モノカルボン酸としては、例えばアクリル酸、アクリル酸の二量体、メタクリル酸、桂皮酸、クロトン酸等が挙げられる。また、水酸基含有アクリレートと飽和あるいは不飽和二塩基酸無水物との反応生成物である半エステル化合物、不飽和基含有モノグリシジルエーテルと飽和あるいは不飽和二塩基酸との反応生成物である半エステル化合物も挙げられる。これら不飽和基含有モノカルボン酸は、単独または二種以上併用することもできる。   Examples of the unsaturated group-containing monocarboxylic acid include acrylic acid, a dimer of acrylic acid, methacrylic acid, cinnamic acid, and crotonic acid. In addition, a half ester compound that is a reaction product of a hydroxyl group-containing acrylate and a saturated or unsaturated dibasic acid anhydride, a half ester that is a reaction product of an unsaturated group-containing monoglycidyl ether and a saturated or unsaturated dibasic acid Also included are compounds. These unsaturated group-containing monocarboxylic acids can be used alone or in combination of two or more.

酸無水物としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等の二塩基性酸無水物等が挙げられる。これらは単独または二種以上併用することもできる。   Acid anhydrides include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydro And dibasic acid anhydrides such as phthalic anhydride, chlorendic anhydride, and methyltetrahydrophthalic anhydride. These may be used alone or in combination of two or more.

このようにして得られるカルボキシル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物の分子量は特に制限されないが、好ましくは数平均分子量が1000〜40000、より好ましくは2000〜5000である。ここで、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の値である。   Although the molecular weight of the epoxy (meth) acrylate compound having a carboxyl group thus obtained is not particularly limited, the number average molecular weight is preferably 1000 to 40000, more preferably 2000 to 5000. Here, the number average molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography.

また、前記エポキシ(メタ)アクリレート化合物の酸価(固形分酸価を意味する。JIS K0070に従い測定。以下同様)は10mgKOH/g以上であることが好ましく、45〜160mgKOH/gの範囲にあることがより好ましく、さらに50〜140mgKOH/gの範囲がアルカリ溶解性と硬化膜の耐アルカリ性のバランスが良いことから、とりわけ好ましい。酸価が10mgKOH/gより小さい場合にはアルカリ溶解性が悪くなり、逆に大きすぎると、レジスト用硬化性難燃組成物の構成成分の組み合わせによっては硬化膜の耐アルカリ性、電気特性等のレジストとしての特性を下げる要因となる場合がある。   The acid value of the epoxy (meth) acrylate compound (meaning the solid content acid value, measured in accordance with JIS K0070, the same applies hereinafter) is preferably 10 mgKOH / g or more, and is in the range of 45 to 160 mgKOH / g. More preferably, the range of 50 to 140 mgKOH / g is particularly preferable because the balance between alkali solubility and alkali resistance of the cured film is good. When the acid value is less than 10 mgKOH / g, the alkali solubility is deteriorated. On the other hand, when the acid value is too large, the resist such as the alkali resistance of the cured film and the electrical characteristics depending on the combination of the constituent components of the curable flame retardant composition for resist. As a result, it may become a factor of lowering the characteristics.

<カルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物(UA)>
本発明におけるカルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物は、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート由来の単位と、ポリオール由来の単位と、ポリイソシアネート由来の単位とを構成単位として含む化合物である。より詳しくは、両末端がヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート由来の単位からなり、該両末端の間はウレタン結合により連結されたポリオール由来の単位とポリイソシアネート由来の単位とからなる繰り返し単位により構成され、この繰り返し単位中にカルボキシル基が存在する構造のものである。
<Urethane (meth) acrylate compound having carboxyl group (UA)>
The urethane (meth) acrylate compound having a carboxyl group in the present invention is a compound including, as constituent units, a (meth) acrylate-derived unit having a hydroxyl group, a polyol-derived unit, and a polyisocyanate-derived unit. More specifically, both terminals are composed of (meth) acrylate-derived units having hydroxyl groups, and the terminals are composed of repeating units composed of polyol-derived units and polyisocyanate-derived units linked by urethane bonds. And a structure in which a carboxyl group is present in this repeating unit.

すなわち、前記カルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物は、Ra−(CONHRcNHCO−ORbO−OCNHRcNHCOO)n−Ra〔式中、Raはヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート由来の単位、ORbOはポリオールの脱水素残基、Rcはポリイソシアネートの脱イソシアネート残基を表わす。〕で示される。   That is, the urethane (meth) acrylate compound having a carboxyl group is Ra- (CONHRcNHCO-ORbO-OCNHRcNHCOO) n-Ra [wherein Ra is a (meth) acrylate-derived unit having a hydroxyl group, ORbO is dehydration of polyol. An elementary residue, Rc, represents a deisocyanate residue of polyisocyanate. ] Is shown.

カルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物は、少なくとも、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートと、ポリオールと、ポリイソシアネートとを反応させることにより製造できるが、ここで、ポリオールまたはポリイソシアネートの少なくともどちらか一方には、カルボキシル基を有する化合物を使用することが必要である。好ましくは、カルボキシル基を有するポリオールを使用する。このようにポリオール及び/またはポリイソシアネートとして、カルボキシル基を有する化合物を使用することにより、RbまたはRcにカルボキシル基が存在するウレタン(メタ)アクリレート化合物を製造することができる。なお、上記式中のnとしては1〜200程度が好ましく、2〜30がより好ましい。nがこのような範囲にあると、レジスト用硬化性難燃組成物からなる硬化膜の可撓性がより優れる。   The urethane (meth) acrylate compound having a carboxyl group can be produced by reacting at least a (meth) acrylate having a hydroxyl group, a polyol, and a polyisocyanate. Here, at least one of a polyol and a polyisocyanate is used. On the other hand, it is necessary to use a compound having a carboxyl group. Preferably, a polyol having a carboxyl group is used. Thus, by using a compound having a carboxyl group as the polyol and / or polyisocyanate, a urethane (meth) acrylate compound having a carboxyl group in Rb or Rc can be produced. In the above formula, n is preferably about 1 to 200, and more preferably 2 to 30. When n is in such a range, the flexibility of the cured film made of the curable flame retardant composition for resist is more excellent.

また、ポリオール及びポリイソシアネートの少なくとも一方が2種類以上用いられている場合には、繰り返し単位は複数の種類を表わすが、その複数の単位の規則性は完全ランダム、ブロック、局在等目的に応じて適宜選ぶことができる。   In addition, when at least one of polyol and polyisocyanate is used in two or more types, the repeating unit represents a plurality of types, but the regularity of the plurality of units depends on the purpose such as complete random, block, localization, etc. Can be selected as appropriate.

カルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物(UA)に用いられるヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、前記各(メタ)アクリレートのε−カプロラクトンまたはアルキレンオキサイド付加物、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、グリシジルメタクリレート−アクリル酸付加物、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリルレート、トリメチロールプロパン−アルキレンオキサイド付加物−ジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   As the (meth) acrylate having a hydroxyl group used in the urethane (meth) acrylate compound (UA) having a carboxyl group, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, Ε-caprolactone or alkylene oxide adduct of each (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, glycidyl methacrylate-acrylic acid adduct, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, trimethylolpropane Di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) Acrylate, trimethylolpropane - alkylene oxide adduct - di (meth) acrylate.

これらのヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートは1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらのうちでは、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートがより好ましい。2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを使用すると、カルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物(UA)の合成がより容易である。   These (meth) acrylates having a hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more. Among these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate are preferable, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is more preferable. When 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is used, it is easier to synthesize a urethane (meth) acrylate compound (UA) having a carboxyl group.

カルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物(UA)に用いられるポリオールとしては、ポリマーポリオール及び/またはジヒドロキシル化合物を使用することができる。ポリマーポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテル系ジオール、多価アルコールと多塩基酸のエステルから得られるポリエステル系ポリオール、ヘキサメチレンカーボネート、ペンタメチレンカーボネート等に由来の単位を構成単位として含むポリカーボネート系ジオール、ポリカプロラクトンジオール、ポリブチロラクトンジオール等のポリラクトン系ジオールが挙げられる。   As a polyol used for the urethane (meth) acrylate compound (UA) having a carboxyl group, a polymer polyol and / or a dihydroxyl compound can be used. As the polymer polyol, units derived from polyether diols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polyester polyols obtained from esters of polyhydric alcohols and polybasic acids, hexamethylene carbonate, pentamethylene carbonate, etc. And polylactone diols such as polycarbonate diol, polycaprolactone diol, and polybutyrolactone diol.

また、カルボキシル基を有するポリマーポリオールを使用する場合は、例えば、上記ポリマーポリオール合成時に(無水)トリメリット酸等の3価以上の多塩基酸を共存させ、カルボキシル基が残存するように合成した化合物などを使用することができる。   In addition, when using a polymer polyol having a carboxyl group, for example, a compound synthesized such that a tribasic or higher polybasic acid such as (anhydrous) trimellitic acid coexists in the synthesis of the polymer polyol so that the carboxyl group remains. Etc. can be used.

ジヒドロキシル化合物としては、2つのアルコール性ヒドロキシル基を有する分岐または直鎖状の化合物を使用できるが、特にカルボキシル基を有するジヒドロキシ脂肪族カルボン酸を使用することが好ましい。このようなジヒドロキシル化合物としては、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸が挙げられる。カルボキシル基を有するジヒドロキシ脂肪族カルボン酸を使用することによって、ウレタン(メタ)アクリレート化合物中に容易にカルボキシル基を存在させることができる。ジヒドロキシル化合物は、1種または2種以上を組み合わせて用いることができ、ポリマーポリオールとともに使用してもよい。   As the dihydroxyl compound, a branched or linear compound having two alcoholic hydroxyl groups can be used, and it is particularly preferable to use a dihydroxy aliphatic carboxylic acid having a carboxyl group. Examples of such a dihydroxyl compound include dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid. By using a dihydroxy aliphatic carboxylic acid having a carboxyl group, the carboxyl group can be easily present in the urethane (meth) acrylate compound. The dihydroxyl compounds can be used alone or in combination of two or more, and may be used together with the polymer polyol.

また、カルボキシル基を有するポリマーポリオールを併用する場合や、後述するポリイソシアネートとしてカルボキシル基を有するものを使用する場合には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノールなどのカルボキシル基を持たないジヒドロキシル化合物を使用してもよい。   Moreover, when using together the polymer polyol which has a carboxyl group, or when using what has a carboxyl group as polyisocyanate mentioned later, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1, 4- butanediol, 1, 3- Dihydroxy compounds having no carboxyl group such as butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol May be used.

カルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物(UA)に用いられるポリイソシアネートとしては、具体的に2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメチレンジイソシアネート、(o,m,またはp)−キシレンジイソシアネート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,3−ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジメチレレンジイソシアネート及び1,5−ナフタレンジイソシアネート等のジイソシアネートが挙げられる。これらのポリイソシアネートは1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、カルボキシル基を有するポリイソシアネートを使用することもできる。   Specific examples of the polyisocyanate used in the urethane (meth) acrylate compound (UA) having a carboxyl group include 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethylene diisocyanate, ( o, m, or p) -xylene diisocyanate, methylene bis (cyclohexyl isocyanate), trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexane-1,3-dimethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4-dimethylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, etc. Diisocyanate is mentioned. These polyisocyanates can be used alone or in combination of two or more. Moreover, the polyisocyanate which has a carboxyl group can also be used.

本発明で用いられるカルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物(UA)の分子量は特に限定されないが、好ましくは数平均分子量が1000〜40000、より好ましくは8000〜30000である。ここで、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の値である。また、前記ウレタン(メタ)アクリレートの酸価は、5〜150mgKOH/gが好ましく、さらに好ましくは30〜120mgKOH/gである。   Although the molecular weight of the urethane (meth) acrylate compound (UA) having a carboxyl group used in the present invention is not particularly limited, the number average molecular weight is preferably 1000 to 40000, more preferably 8000 to 30000. Here, the number average molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography. The acid value of the urethane (meth) acrylate is preferably 5 to 150 mgKOH / g, more preferably 30 to 120 mgKOH / g.

カルボキシル基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物の数平均分子量が1000未満では、レジスト用硬化性難燃組成物からなる硬化膜の伸度と強度を損なうことがあり、40000を超えると硬くなり可撓性を低下させるおそれがある。また、酸価が5mgKOH/g未満ではレジスト用硬化性難燃組成物のアルカリ溶解性が悪くなる場合があり、150mgKOH/gを超えると硬化膜の耐アルカリ性・電気特性等を悪くする場合がある。   If the number average molecular weight of the urethane (meth) acrylate compound having a carboxyl group is less than 1000, the elongation and strength of the cured film made of the curable flame retardant composition for resist may be impaired, and if it exceeds 40000, it becomes hard and flexible. There is a risk of reducing the performance. Moreover, when the acid value is less than 5 mgKOH / g, the alkali solubility of the curable flame retardant composition for resist may be deteriorated, and when it exceeds 150 mgKOH / g, the alkali resistance and electrical characteristics of the cured film may be deteriorated. .

II−2−(2).エチレン性不飽和基を有する化合物(B)
レジスト用硬化性難燃組成物中の光硬化性材料に含まれるエチレン性不飽和基を有する化合物は、感光性プレポリマー(A)以外のものであり、レジスト用硬化性難燃組成物の粘度を調整したり、レジスト用硬化性難燃組成物を硬化物としたときの耐熱性、可撓性などの物性を調整する目的で使用されるものである。好ましくは(メタ)アクリル酸エステルを使用する。
II-2- (2). Compound (B) having an ethylenically unsaturated group
The compound having an ethylenically unsaturated group contained in the photocurable material in the curable flame retardant composition for resist is other than the photosensitive prepolymer (A), and the viscosity of the curable flame retardant composition for resist is It is used for the purpose of adjusting the physical properties such as heat resistance and flexibility when the resist curable flame retardant composition is used as a cured product. Preferably (meth) acrylic acid ester is used.

具体的には、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート;   Specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate , Alkyl (meth) such as hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate Acrylate: cyclohexyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) Alicyclic, such as acrylate (meth) acrylate;

ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェニルカルビトール(メタ)アクリレート、ノニルフェニル(メタ)アクリレート、ノニルフェニルカルビトール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、またはグリセロールジ(メタ)アクリレート等のヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート;   Aromatic (meth) acrylates such as benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, phenyl carbitol (meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, nonylphenyl carbitol (meth) acrylate, nonylphenoxy (meth) acrylate, etc. 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, butanediol mono (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, phenoxyhydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meta ) Acrylate, or (meth) acrylate having a hydroxyl group such as glycerol di (meth) acrylate;

2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−tert−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノ基を有する(メタ)アクリレート;メタクリロキシエチルフォスフェート、ビス・メタクリロキシエチルフォスフェート、メタクリロオキシエチルフェニールアシッドホスフェート等のリン原子を有するメタクリレート;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレンジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ビス・グリシジル(メタ)アクリレート等のジアクリレート;   (Meth) acrylates having amino groups such as 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-diethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-tert-butylaminoethyl (meth) acrylate; methacryloxyethyl phosphate, bis-methacrylic Methacrylate having phosphorus atoms such as loxyethyl phosphate, methacrylooxyethyl phenyl acid phosphate; ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene di (meth) Acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripro Lenglycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) ) Diacrylates such as acrylate, bis-glycidyl (meth) acrylate;

トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のポリアクリレート;ビスフェノールSのエチレンオキサイド4モル付加ジアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド4モル付加ジアクリレート、脂肪酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド3モル付加トリアクリレート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド6モル付加トリアクリレート等の変性ポリオールポリアクリレート;   Polyacrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; bisphenol S ethylene oxide 4 mol addition diacrylate, bisphenol A ethylene oxide 4 mol addition di Modified polyol polyacrylates such as acrylate, fatty acid-modified pentaerythritol diacrylate, trimethylolpropane propylene oxide 3 mol addition triacrylate, trimethylolpropane propylene oxide 6 mol addition triacrylate;

ビス(アクリロイルオキシエチル)モノヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ε−カプロラクトン付加トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート等のイソシアヌル酸骨格を有するポリアクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート;アリル(メタ)アクリレート;ポリカプロラクトン(メタ)アクリレート;(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレート;(メタ)アクリロイルオキシエチルサクシネート;2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート;フェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Polyacrylates having an isocyanuric acid skeleton such as bis (acryloyloxyethyl) monohydroxyethyl isocyanurate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, and ε-caprolactone-added tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate; glycidyl (meth) acrylate; allyl (Meth) acrylate; polycaprolactone (meth) acrylate; (meth) acryloyloxyethyl phthalate; (meth) acryloyloxyethyl succinate; 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate; phenoxyethyl (meth) acrylate, etc. Can be mentioned.

また、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド等のN−ビニル化合物、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等もエチレン性不飽和基を有する化合物として好適に用いることができる。   In addition, N-vinyl compounds such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylacetamide, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, etc. also have an ethylenically unsaturated group. Can be suitably used.

感光性プレポリマー(A)とエチレン性不飽和基を有する化合物(B)との配合比は、質量比で(A):(B)=95:5〜50:50、好ましくは90:10〜60:40、さらに好ましくは85:15〜70:30である(合わせて100とする)。(A)成分の配合量が95質量%を超えると、レジスト用硬化性難燃組成物からなる硬化膜のハンダ耐熱性が低下することがあり、(A)成分の配合量が50質量%未満になるとレジスト用硬化性難燃組成物のアルカリ可溶性が低下する傾向にある。   The compounding ratio of the photosensitive prepolymer (A) and the compound (B) having an ethylenically unsaturated group is (A) :( B) = 95: 5 to 50:50, preferably 90:10 in mass ratio. 60:40, more preferably 85:15 to 70:30 (a total of 100). When the blending amount of the component (A) exceeds 95% by mass, the solder heat resistance of the cured film made of the curable flame retardant composition for resist may be lowered, and the blending amount of the component (A) is less than 50% by mass. When it becomes, there exists a tendency for the alkali solubility of the curable flame-retardant composition for resists to fall.

II−2−(3).光重合開始剤(C)
本発明に用いられる光重合開始剤(C)は、光照射時に活性ラジカルを発生し、エチレン性不飽和基を有する化合物のラジカル重合を開始する化合物である。
そのような化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル類、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン−1等のアセトフェノン類、チオキサンテン、2−クロルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2,4−ジメチルチオキサンテン等のチオキサンテン類、エチルアントラキノン、ブチルアントラキノン等のアルキルアントラキノン類、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド類などを挙げることができる。これらは単独、あるいは2種以上の混合物として用いることができる。さらに必要に応じて光増感剤を併用することができる。
II-2- (3). Photopolymerization initiator (C)
The photopolymerization initiator (C) used in the present invention is a compound that generates active radicals upon light irradiation and initiates radical polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated group.
Such compounds include benzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, benzophenones such as 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether, benzoin Benzoin alkyl ethers such as isobutyl ether, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t-butyl-trichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl Acetofol such as 2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone-1 Enones, thioxanthenes such as thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2,4-dimethylthioxanthene, alkylanthraquinones such as ethylanthraquinone, butylanthraquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl Examples include acylphosphine oxides such as phosphine oxide. These can be used alone or as a mixture of two or more. Furthermore, if necessary, a photosensitizer can be used in combination.

これらの光重合開始剤(C)の配合量は、感光性プレポリマー(A)とエチレン性不飽和基を有する化合物(B)とからなる光硬化成分の合計100質量部に対して、0.1質量部〜20質量部が好ましく、0.2質量部〜10質量部がより好ましい。光重合開始剤の配合量が0.1質量部未満であると硬化が不十分な場合がある。   The blending amount of these photopolymerization initiators (C) is 0.001 with respect to a total of 100 parts by mass of the photocuring component composed of the photosensitive prepolymer (A) and the compound (B) having an ethylenically unsaturated group. 1 mass part-20 mass parts are preferable, and 0.2 mass part-10 mass parts are more preferable. When the blending amount of the photopolymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, curing may be insufficient.

III.その他添加剤
III−1.式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の(共)重合体以外の難燃性付与剤(D)
本発明のレジスト用硬化性難燃組成物においては、式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の(共)重合体以外の難燃性付与剤(D)を配合しても構わない。
そのような難燃性付与剤としては、式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の(共)重合体以外の臭素化合物(D1)、水和金属化合物(D2)、リン系化合物(D3)、アンチモン系化合物(D4)を挙げることができる。
III. Other additives
III-1. Flame retardant imparting agent (D) other than (co) polymer of bromine compound represented by formula (1) and / or formula (2)
In the curable flame retardant composition for resists of the present invention, a flame retardant imparting agent (D) other than the (co) polymer of the bromine compound represented by formula (1) and / or formula (2) is blended. It doesn't matter.
Examples of the flame retardant imparting agent include bromine compounds (D1) other than (co) polymers of bromine compounds represented by formula (1) and / or formula (2), hydrated metal compounds (D2), phosphorus Examples thereof include a compound (D3) and an antimony compound (D4).

式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の(共)重合体以外の臭素化合物(D1)は難燃性の観点から臭素含有量が40質量%以上の化合物が好ましく、より好ましくは45質量%の化合物である。そのような具体例としては臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールAカーボネートオリゴマー、テトラブロモビスフェノールA、テトラブロモビスフェノールA−ビス(2,3−ジブロモプロピルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(アリルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(ブロモエチルエーテル)、テトラブロモビスフェノールA−ビス(エトキシレート)、テトラブロモビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールS−ビス(2,3−ジブロモプロピルエーテル)、臭素化フェニルグリシジルエーテル、ヘキサブロモベンゼン、ペンタブロモトルエン、ヘキサブロモシクロドデカン、デカブロモジフェニルオキサイド、オクタブロモジフェニルオキサイド、エチレンビス(ペンタブロモフェニル)、エチレンビス(テトラブロモフタルイミド)、テトラブロモ無水フタル酸、トリブロモフェノール、トリス(トリブロモフェノキシ)トリアジン、ポリジブロモフェニレンオキサイド、ビス(トリブロモフェノキシエタン)、トリブロモネオペンチルグリコール、ジブロモネオペンチルグリコール、ペンタブロモベンジルアクリレート、ジブロモスチレン、トリブロモスチレン等が挙げられる。   The bromine compound (D1) other than the (co) polymer of the bromine compound represented by the formula (1) and / or the formula (2) is preferably a compound having a bromine content of 40% by mass or more from the viewpoint of flame retardancy. The compound is preferably 45% by mass. Specific examples thereof include brominated bisphenol A type epoxy resin, brominated cresol novolac type epoxy resin, tetrabromobisphenol A carbonate oligomer, tetrabromobisphenol A, tetrabromobisphenol A-bis (2,3-dibromopropyl ether). Tetrabromobisphenol A-bis (allyl ether), tetrabromobisphenol A-bis (bromoethyl ether), tetrabromobisphenol A-bis (ethoxylate), tetrabromobisphenol S, tetrabromobisphenol S-bis (2,3 -Dibromopropyl ether), brominated phenyl glycidyl ether, hexabromobenzene, pentabromotoluene, hexabromocyclododecane, decabromodiphenyl oxide, Kutabromodiphenyl oxide, ethylenebis (pentabromophenyl), ethylenebis (tetrabromophthalimide), tetrabromophthalic anhydride, tribromophenol, tris (tribromophenoxy) triazine, polydibromophenylene oxide, bis (tribromophenoxyethane) , Tribromoneopentyl glycol, dibromoneopentyl glycol, pentabromobenzyl acrylate, dibromostyrene, tribromostyrene and the like.

水和金属化合物(D2)としては、結晶水をもつ金属化合物であり、例えば熱分析によるモル当たりの結合水量が12〜60%(質量%)の範囲のものが挙げられるが、これに限定されるものではない。難燃効果等の点から、好ましくは、熱分解時の吸熱量が400J/g以上、好ましくは600〜2500J/gの水和金属化合物が用いられる。かかる水和金属化合物の具体例としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、ドーソナイト、アルミン酸化カルシウム、2水和石膏,ホウ酸亜鉛、メタホウ素酸バリウム、亜鉛ヒドロキシスズ酸塩、カオリン、バーミキュライト等が挙げられる。これらのうち特に好ましいものは水酸化アルミニウムまたは水酸化マグネシウムである。   The hydrated metal compound (D2) is a metal compound having water of crystallization, and examples thereof include those in which the amount of bound water per mole by thermal analysis is in the range of 12 to 60% (mass%), but is not limited thereto. It is not something. From the viewpoint of flame retardancy and the like, preferably, a hydrated metal compound having an endothermic amount at the time of thermal decomposition of 400 J / g or more, preferably 600 to 2500 J / g is used. Specific examples of such hydrated metal compounds include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, dosonite, calcium aluminate, dihydrate gypsum, zinc borate, barium metaborate, zinc hydroxystannate, kaolin. And vermiculite. Of these, aluminum hydroxide or magnesium hydroxide is particularly preferred.

本発明で用いられる水和金属化合物の粒子サイズは特に限定されないが、平均粒子径が40μm以下が好ましく、2μm以下がさらに好適である。平均粒子径が40μmを超えると、レジスト硬化膜の透明性が悪化し光透過性が低下したり、塗工膜表面の外観、平滑性が損なわれる場合がある。   The particle size of the hydrated metal compound used in the present invention is not particularly limited, but the average particle size is preferably 40 μm or less, and more preferably 2 μm or less. When the average particle diameter exceeds 40 μm, the transparency of the cured resist film is deteriorated and the light transmittance may be lowered, or the appearance and smoothness of the coating film surface may be impaired.

本発明で用いられる水和金属化合物(D2)は、極性を有する表面処理剤により表面処理がなされているものが、透明性向上等の観点から特に好ましい。かかる極性を有する表面処理剤の例としては、エポキシシラン、アミノシラン、ビニルシラン、メルカプトシラン等のシランカップリング剤やチタネートカップリング剤が挙げられる。   The hydrated metal compound (D2) used in the present invention is particularly preferably subjected to surface treatment with a polar surface treatment agent from the viewpoint of improving transparency. Examples of the surface treatment agent having such polarity include silane coupling agents and titanate coupling agents such as epoxy silane, amino silane, vinyl silane, and mercapto silane.

本発明で用いられるリン系化合物(D3)は、「P−O−R」(Rは有機基)の化学構造を有する化合物が好ましく、通常はリン原子が3価のものまたは5価のものが使用される。3価のものとしては、ホスファイト化合物、ホスホナイト化合物、ホスフィナイト化合物がある。一方、5価のリン原子を有するものとしては、ホスフェート化合物、ホスホネート化合物、ホスフィネート化合物がある。これらの中でも5価のリン原子を有するリン酸エステル化合物が保存安定性の観点から好ましく使用される。   The phosphorus compound (D3) used in the present invention is preferably a compound having a chemical structure of “P—O—R” (R is an organic group), and usually has a phosphorus atom of trivalent or pentavalent. used. Trivalent compounds include phosphite compounds, phosphonite compounds, and phosphinite compounds. On the other hand, those having a pentavalent phosphorus atom include phosphate compounds, phosphonate compounds, and phosphinate compounds. Among these, a phosphate ester compound having a pentavalent phosphorus atom is preferably used from the viewpoint of storage stability.

これらのリン酸エステル化合物のエステルを形成する有機基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、脂環族炭化水素基等のいずれであってもよいが、そのうち芳香族炭化水素基を有するものが、難燃性及びハンダ耐熱性の観点から好ましい。
そのようなリン酸エステル化合物としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、レゾルシノールビス(ジフェノル)ホスフェート、ビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート等が挙げられる。
また、上記リン系化合物以外にもホスファゼン化合物のように「−P(R)2=N−」(Rは有機基)の構造を有するものも問題なく使用することができる。
The organic group forming the ester of these phosphate ester compounds may be any of an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, etc., of which an aromatic hydrocarbon group It is preferable from the viewpoint of flame retardancy and solder heat resistance.
Examples of such phosphate ester compounds include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, resorcinol bis (diphenol) phosphate, bisphenol A bis (diphenyl phosphate), 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, and the like. Is mentioned.
In addition to the phosphorus compounds, those having a structure of “—P (R) 2 ═N—” (R is an organic group) such as phosphazene compounds can be used without any problem.

本発明に用いられるアンチモン系化合物(D4)の具体例としては、三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン酸ソーダ等が挙げられる。   Specific examples of the antimony compound (D4) used in the present invention include antimony trioxide, antimony tetraoxide, antimony pentoxide, and sodium antimonate.

III−2.有機溶媒
また、本発明のレジスト用硬化性難燃組成物には、粘度調節などのために必要に応じて有機溶媒を添加して使用してもよい。このようにして粘度を調節することによって、ローラーコート、スピンコート、スクリーンコート、カーテンコートなどで対象物上に塗布したり、印刷したりしやすくなる。
III-2. Organic Solvent The curable flame retardant composition for resists of the present invention may be used by adding an organic solvent as necessary for adjusting the viscosity. By adjusting the viscosity in this manner, it becomes easy to apply or print on an object by roller coating, spin coating, screen coating, curtain coating, or the like.

有機溶媒としては、イソプロパノール、1−ブタノール、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、イソホロン、エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、メトキシプロピオン酸エチル、エトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等が挙げられる。これらは、単独または2種以上組み合わせて用いてもよい。   As organic solvents, isopropanol, 1-butanol, toluene, xylene, ethylbenzene, cyclohexane, isophorone, ethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n -Butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, methyl methoxypropionate, ethyl methoxypropionate, methyl ethoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethyl acetate, isoamyl acetate , Lactic acid Chill, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, N, N- dimethylformamide, N- methylpyrrolidone and the like. You may use these individually or in combination of 2 or more types.

有機溶媒の使用量は、レジスト用硬化性難燃組成物の粘度が500〜500,000mPa・s(B型粘度計(Brookfield Viscometer)にて25℃で測定)になるよう調節するのが好ましい。更に好ましくは1,000〜500,000mPa・sである。このような粘度であると対象物への塗布や印刷により適し、使用しやすくなる。また、このような粘度とするために好ましい有機溶媒の使用量は、有機溶媒以外の固形分1.5質量倍以下である。1.5質量倍を超えると固形分濃度が低くなり、このレジスト用硬化性難燃組成物を基板などに印刷する場合、一回の印刷で十分な膜厚が得られず、多数回の印刷が必要になる場合がある。   The amount of the organic solvent used is preferably adjusted so that the viscosity of the curable flame retardant composition for resist is 500 to 500,000 mPa · s (measured at 25 ° C. with a Brookfield Viscometer). More preferably, it is 1,000 to 500,000 mPa · s. Such a viscosity is more suitable for application and printing on an object and is easier to use. Moreover, the preferable usage-amount of the organic solvent in order to set it as such a viscosity is 1.5 mass times or less of solid content other than an organic solvent. If it exceeds 1.5 mass times, the solid content concentration will be low, and when printing this resist curable flame retardant composition on a substrate etc., sufficient film thickness will not be obtained by one printing, printing many times May be required.

III−3.その他添加剤
本発明のレジスト用硬化性難燃組成物にさらに着色剤を加えてインクとして使用することもできる。着色剤としては、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等が挙げられる。インクとして使用する場合も、その粘度は500〜500,000mPa・s(B型粘度計(Brookfield Viscometer)を用いて25℃にて測定)であることが好ましい。
III-3. Other additives A colorant may be further added to the resist curable flame retardant composition of the present invention to be used as an ink. Examples of the colorant include phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, crystal violet, titanium oxide, carbon black, naphthalene black and the like. Also when used as an ink, the viscosity is preferably 500 to 500,000 mPa · s (measured at 25 ° C. using a B-type viscometer).

本発明のレジスト用硬化性難燃組成物には、流動性の調整のため、さらに流動調整剤を添加することができる。流動性調整剤は、例えば、レジスト用硬化性難燃組成物をローラーコート、スピンコート、スクリーンコート、カーテンコートなどで対象物に塗布する場合などに、レジスト用硬化性難燃組成物の流動性を適宜調節でき好ましい。流動調整剤としては、例えば、無機及び有機充填剤、ワックス、界面活性剤等が挙げられる。   In the resist curable flame retardant composition of the present invention, a flow regulator can be further added for the purpose of adjusting the fluidity. The fluidity modifier is, for example, the fluidity of the resist curable flame retardant composition when the resist curable flame retardant composition is applied to an object by roller coating, spin coating, screen coating, curtain coating, or the like. Can be adjusted as appropriate. Examples of the flow regulator include inorganic and organic fillers, waxes, surfactants, and the like.

無機充填剤の具体例としては、タルク、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、シリカ、アルミナ、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、珪酸塩化合物等が挙げられる。有機充填剤の具体例としては、シリコン樹脂、シリコンゴム、弗素樹脂等が挙げられる。ワックスの具体例としては、ポリアミドワックス、酸化ポリエチレンワックス等が挙げられる。界面活性剤の具体例としては、シリコンオイル、高級脂肪酸エステル、アミド等が挙げられる。これらの流動性調整剤は、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、これらのうちでは無機充填剤を使用すると、レジスト用硬化性難燃組成物の流動性だけではなく、密着性、硬度などの特性も改良できるため好ましい。   Specific examples of the inorganic filler include talc, barium sulfate, barium titanate, silica, alumina, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum hydroxide, and a silicate compound. Specific examples of the organic filler include silicon resin, silicon rubber, and fluorine resin. Specific examples of the wax include polyamide wax and oxidized polyethylene wax. Specific examples of the surfactant include silicone oil, higher fatty acid ester, amide and the like. These fluidity modifiers can be used alone or in combination of two or more. Of these, the use of inorganic fillers is preferable because not only the fluidity of the curable flame retardant composition for resists but also properties such as adhesion and hardness can be improved.

また、レジスト用硬化性難燃組成物には必要に応じて、熱重合禁止剤、増粘剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤等の添加剤を添加することができる。熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジン等が挙げられる。増粘剤としては、アスベスト、オルベン、ベントン、モンモリロナイト等が挙げられる。消泡剤は、印刷、塗工時及び硬化時に生じる泡を消すために用いられ、具体的には、アクリル系、シリコン系等の界面活性剤が挙げられる。レベリング剤は、印刷、塗工時に生じる皮膜表面の凹凸を失くすために用いられ、具体的には、アクリル系、シリコン系等の界面活性剤が挙げられる。密着性付与剤としては、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤等が挙げられる。
また、保存安定性のために紫外線防止剤、可塑剤などを、本発明の主旨を損ねない範囲で添加することができる。
Moreover, additives, such as a thermal-polymerization inhibitor, a thickener, a defoaming agent, a leveling agent, an adhesiveness imparting agent, can be added to the curable flame retardant composition for resist as necessary. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol, pyrogallol, phenothiazine and the like. Examples of the thickener include asbestos, olben, benton, montmorillonite and the like. The antifoaming agent is used for eliminating bubbles generated at the time of printing, coating, and curing, and specific examples include acrylic and silicon surfactants. The leveling agent is used to lose the unevenness on the surface of the film generated during printing and coating, and specifically includes an acrylic or silicon surfactant. Examples of the adhesion imparting agent include imidazole, thiazole, triazole, and silane coupling agents.
Further, for storage stability, an ultraviolet inhibitor, a plasticizer, and the like can be added within a range that does not impair the gist of the present invention.

IV.レジスト用硬化性難燃組成物の製造方法
本発明のレジスト用硬化性難燃組成物は、上記の各成分を通常の方法で混合することによって製造することができる。混合の方法には特に制限はなく、一部の成分を混合してから残りの成分を混合してもよく、または、すべての成分を一括で混合してもよい。
具体的には、上記した各成分を混合した後、ニーダー、3本ロール、ビーズミルなどの公知の混練方法を用いて製造される。
IV. Method for Producing Resist Curable Flame Retardant Composition The resist curable flame retardant composition of the present invention can be produced by mixing the above-described components in a usual manner. The mixing method is not particularly limited, and a part of the components may be mixed and then the remaining components may be mixed, or all the components may be mixed at once.
Specifically, after mixing each of the above-described components, it is produced using a known kneading method such as a kneader, three rolls, or a bead mill.

V.レジスト用硬化性難燃組成物の硬化物及び用途
本発明のレジスト用硬化性難燃組成物は、樹脂材料が熱硬化性樹脂材料のみで構成されている場合、基板上などに適当な厚みで塗布した後にそのまま熱処理することにより硬化物を得ることができる。
また、樹脂材料が熱硬化性樹脂材料と光硬化性樹脂材料から構成されている場合、基板上に適当な厚みで塗布した後、溶剤乾燥し、露光及びアルカリ現像、さらに熱処理により硬化させることで硬化物を得ることができる。
V. Cured product and application of curable flame retardant composition for resist The curable flame retardant composition for resist of the present invention has an appropriate thickness on a substrate or the like when the resin material is composed only of a thermosetting resin material. A cured product can be obtained by heat treatment as it is after coating.
In addition, when the resin material is composed of a thermosetting resin material and a photocurable resin material, it is coated on the substrate with an appropriate thickness, then dried with a solvent, cured by exposure, alkali development, and heat treatment. A cured product can be obtained.

本発明のレジスト用硬化性難燃組成物は、様々な用途に使用できるが、特に、難燃性が要求され、熱硬化性、光硬化性、基板との密着性、絶縁性、耐熱性、そり変形性、可撓性等の通常難燃剤を配合すると低下する諸特性が低下しないことより、プリント配線基板の絶縁保護被膜としての使用に適している。   The resist curable flame retardant composition of the present invention can be used for various applications, in particular, flame retardancy is required, thermosetting, photocuring, adhesion to a substrate, insulation, heat resistance, Since various properties that decrease when a normal flame retardant such as warp deformability and flexibility are blended do not decrease, it is suitable for use as an insulating protective coating on a printed wiring board.

絶縁保護被膜を形成する場合には、以下の方法で行なうことができる。レジスト用硬化性難燃組成物の樹脂材料が熱硬化性樹脂材料のみで構成されている場合、回路が形成された基板上にレジスト用硬化性難燃組成物を10〜100μmの厚みで塗布した後100〜200℃の温度範囲で10〜60分熱処理して硬化させることで絶縁保護皮膜を形成することができる。   When an insulating protective film is formed, the following method can be used. When the resin material of the resist curable flame retardant composition is composed only of the thermosetting resin material, the resist curable flame retardant composition was applied to a thickness of 10 to 100 μm on the substrate on which the circuit was formed. Then, an insulating protective film can be formed by heat treatment for 10 to 60 minutes in a temperature range of 100 to 200 ° C. and curing.

レジスト用硬化性難燃組成物の樹脂材料が光硬化性樹脂材料と熱硬化性樹脂材料から構成されている場合、10〜100μmの厚みで塗布した後、60〜100℃の温度範囲で、5〜30分間程度で熱処理して乾燥した後、所望の露光パターンが施されたネガマスクを介して露光し、未露光部分を現像液で除去して現像し、100〜200℃の温度範囲で、10〜60分間熱処理して硬化させることで絶縁性保護被膜を形成することができる。ここで、露光に用いられる活性光は、公知の光源、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク等から発生する活性光が用いられる。感光層に含まれる光重合開始剤(C)の感受性は、通常、紫外線領域において最大であるので、その場合活性光源は紫外線を有効に放射するものが好ましい。現像液には、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化トリメチルアンモニウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、アミン類などのアルカリ水溶液を使用することができる。   When the resin material of the curable flame retardant composition for resist is composed of a photocurable resin material and a thermosetting resin material, the resist material is applied with a thickness of 10 to 100 μm, and then in a temperature range of 60 to 100 ° C., 5 After heat treatment for about 30 minutes and drying, exposure is performed through a negative mask provided with a desired exposure pattern, and unexposed portions are removed with a developing solution and developed, and in a temperature range of 100 to 200 ° C., 10 An insulating protective film can be formed by curing by heat treatment for ˜60 minutes. Here, as the active light used for the exposure, active light generated from a known light source such as a carbon arc, a mercury vapor arc, a xenon arc, or the like is used. Since the sensitivity of the photopolymerization initiator (C) contained in the photosensitive layer is usually maximum in the ultraviolet region, the active light source preferably emits ultraviolet rays effectively in that case. As the developer, an alkaline aqueous solution such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, trimethylammonium hydroxide, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, amines and the like can be used.

このレジスト用硬化性難燃組成物は、難燃性のみならず、難燃剤を配合した場合によく見られる硬化物の可撓性・柔軟性が低下しないため、FPC基板の絶縁保護被膜に用いるのに特に適している。また、例えば、多層プリント配線基板の層間の絶縁樹脂層として使用してもよい。
また本発明のレジスト用硬化性難燃組成物は、有機溶剤を含んだインクの形態で使用するのが好ましいが、ポリエチレンテレフタレート等の支持フィルム上にインクを塗布・有機溶媒乾燥後、さらにその上にカバーフィルムを貼り合わせたドライフィルムの形態で使用しても構わない。
This resist curable flame retardant composition is used not only for flame retardancy but also for insulating protective coatings on FPC boards because the flexibility and flexibility of a cured product often seen when a flame retardant is added is not reduced. Especially suitable for. Further, for example, it may be used as an insulating resin layer between layers of a multilayer printed wiring board.
The curable flame retardant composition for resist of the present invention is preferably used in the form of an ink containing an organic solvent, but after applying the ink on a support film such as polyethylene terephthalate and drying the organic solvent, You may use it with the form of the dry film which bonded the cover film together.

本発明のレジスト用硬化性難燃組成物を使用すると、難燃剤を含み優れた難燃性を有するにもかかわらず高い可撓性が保たれ、さらに他の難燃剤を配合した場合と異なり熱硬化性・光硬化性が低下せず、さらに耐熱性、電気絶縁性、配線基板に対する密着性などの性能をも満足する硬化膜を形成することができる。そして、この硬化膜は、特に難燃性、可撓性、電気絶縁性に優れる。よって、FPC基板のような薄い配線基板に使用した場合でも、カールが生じず、電気的性能や取り扱い性にも優れた可撓性の良好な絶縁保護被膜を形成することができる。   When the curable flame retardant composition for resists of the present invention is used, high flexibility is maintained despite having excellent flame retardancy including a flame retardant, and heat is different from the case where other flame retardant is blended. It is possible to form a cured film that does not deteriorate the curability and photocurability, and further satisfies performances such as heat resistance, electrical insulation, and adhesion to the wiring board. This cured film is particularly excellent in flame retardancy, flexibility, and electrical insulation. Therefore, even when used for a thin wiring board such as an FPC board, curling does not occur, and a flexible insulating protective film excellent in electrical performance and handleability can be formed.

以下に、製造例及び実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to production examples and examples, but the present invention is not limited to these examples.

製造例1:カルボキシル基を有する感光性プレポリマー(EA−1)の合成
ガス導入管、撹拌装置、冷却管及び温度計を備えたフラスコに、旭チバ(株)製のビスフェノールA型エポキシ化合物(商品名:アラルダイト#2600)291g、ビスフェノールA 129g及び触媒としてのトリエチルアミン0.20gとを仕込み、150〜160℃で1時間反応させ、軟化点97℃、エポキシ当量1000のビスフェノールA型エポキシ化合物を得た。これにアクリル酸30g、禁止剤としてのモノメチルエーテルハイドロキノン0.45g及びエステル化触媒としてのトリフェニルホスフィン1.65gを仕込み、120℃で5時間反応させ、酸価1mgKOH/gの反応物を得た。さらにこれに、テトラハイドロ無水フタル酸168gを投入して120℃で酸価が100mgKOH/gになるまで反応させた。この反応には3時間を要した。これに溶剤としてエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート265gと三菱石油(株)製のスーパーゾール#1800 114gを投入し、固形分濃度62質量%のエポキシアクリレート樹脂(EA−1)を得た。
Production Example 1: Synthesis of Photosensitive Prepolymer (EA-1) Having Carboxyl Group Into a flask equipped with a gas introduction tube, a stirrer, a cooling tube and a thermometer, a bisphenol A type epoxy compound (manufactured by Asahi Ciba Co., Ltd.) Product name: Araldite # 2600) 291 g, bisphenol A 129 g and 0.20 g of triethylamine as a catalyst were charged and reacted at 150 to 160 ° C. for 1 hour to obtain a bisphenol A type epoxy compound having a softening point of 97 ° C. and an epoxy equivalent of 1000 It was. This was charged with 30 g of acrylic acid, 0.45 g of monomethyl ether hydroquinone as an inhibitor and 1.65 g of triphenylphosphine as an esterification catalyst, and reacted at 120 ° C. for 5 hours to obtain a reaction product having an acid value of 1 mg KOH / g. . Further, 168 g of tetrahydrophthalic anhydride was added thereto and reacted at 120 ° C. until the acid value became 100 mgKOH / g. This reaction took 3 hours. As a solvent, 265 g of ethylene glycol monomethyl ether acetate and 114 g of Supersol # 1800 manufactured by Mitsubishi Oil Co., Ltd. were added to obtain an epoxy acrylate resin (EA-1) having a solid content concentration of 62% by mass.

製造例2:カルボキシル基を有する感光性プレポリマー(UA−1)の合成
撹拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、ポリテトラメチレングリコール(保土ヶ谷化学工業社製、PTMG−850、分子量850)2550g(3mol)、カルボキシル基を有するジヒドロキシル化合物としてジメチロールプロピオン酸670g(5mol)、ポリイソシアナートとしてイソホロンジイソシアナート1776g(8mol)及びヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートとして2−ヒドロキシエチルアクリレート、238g(2.05mol)、反応溶剤として、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート3490g、さらにp−メトキシフェノール及びジ−t−ブチル−ヒドロキシトルエンを各々1.0gずつ投入した。撹拌しながら60℃まで加熱して停止し、ジブチル錫ジラウレート1.6gを添加した。反応容器内の温度が低下し始めたら再度加熱して、80℃で撹拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアナート基の吸収スペクトル(2280cm-1)が消失したことを確認して反応を終了し、固形分酸価が46mgKOH/gの固形分濃度60%のカルボキシル基含有感光性プレポリマー(UA−1)を得た。このものの粘度(25℃)は25Pa・sであった。
Production Example 2: Synthesis of photosensitive prepolymer (UA-1) having a carboxyl group In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, polytetramethylene glycol (Hodogaya Chemical Co., Ltd., PTMG-850, molecular weight 850) was prepared. ) 2550 g (3 mol), dimethylolpropionic acid 670 g (5 mol) as the dihydroxyl compound having a carboxyl group, 1776 g (8 mol) of isophorone diisocyanate as the polyisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate as the (meth) acrylate having a hydroxyl group 238 g (2.05 mol), 3490 g of ethylene glycol monomethyl ether acetate as a reaction solvent, and 1.0 g each of p-methoxyphenol and di-t-butyl-hydroxytoluene were added. I entered. The mixture was heated to 60 ° C. with stirring and stopped, and 1.6 g of dibutyltin dilaurate was added. When the temperature in the reaction vessel starts to decrease, the mixture is heated again and stirred at 80 ° C., and the reaction is terminated after confirming that the absorption spectrum of the isocyanate group (2280 cm −1 ) has disappeared in the infrared absorption spectrum. A carboxyl group-containing photosensitive prepolymer (UA-1) having a solid content acid value of 46 mgKOH / g and a solid content concentration of 60% was obtained. The viscosity (25 ° C.) of this product was 25 Pa · s.

製造例3:難燃剤(PBBA)分散液マスターバッチの調製
ポリ(ペンタブロモベンジルアクリレート)ブロム(PBBA)(商品名PBB−PA,臭素含量69質量%,ブロモケム・ファーイースト(株)製)40g、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート40g、直径1mmのジルコニアビーズ150gを160ml容のステンレス缶にいれ、ペイントシェーカー(浅田鉄工(株)製)にて4時間粉砕処理を行なった。その後、ジルコニアビーズを濾別することにより、PBBA含有量50質量%のPBBAマスターバッチを得た。この粉砕処理より、粉砕前は94μmであった重量平均粒子径が3.4μmになった。重量平均粒子径は、レーザー回折式光散乱光分析機 マイクロトラックMKII型粒度分析計 SRA型(日機装株式会社)にて測定した。
Production Example 3 Preparation of Flame Retardant (PBBA) Dispersion Masterbatch Poly (pentabromobenzyl acrylate) Bromine (PBBA) (trade name PBB-PA, bromine content 69% by mass, Bromochem Far East Co., Ltd.) 40 g, 40 g of diethylene glycol monoethyl ether acetate and 150 g of zirconia beads having a diameter of 1 mm were placed in a 160 ml stainless steel can and pulverized for 4 hours with a paint shaker (manufactured by Asada Tekko Co., Ltd.). Thereafter, the zirconia beads were separated by filtration to obtain a PBBA master batch having a PBBA content of 50% by mass. From this pulverization treatment, the weight average particle diameter, which was 94 μm before pulverization, became 3.4 μm. The weight average particle diameter was measured with a laser diffraction light scattering light analyzer Microtrac MKII type particle size analyzer SRA type (Nikkiso Co., Ltd.).

製造例4:難燃剤(PBS)分散液マスターバッチの調製
PBBAの代わりに臭素化ポリスチレン(PBS)(商品名PYRO−CHEK68,臭素含量68質量%,アルベマール日本(株)製)を使用したこと以外は製造例3と全く同じ方法でPBSマスターバッチを得た。この粉砕処理より、粉砕前は120μmであった重量平均粒子径が4.4μmになった
Production Example 4: Preparation of flame retardant (PBS) dispersion masterbatch Other than using brominated polystyrene (PBS) (trade name PYRO-CHEK68, bromine content 68% by mass, Albemarle Japan Co., Ltd.) instead of PBBA Obtained a PBS master batch in exactly the same manner as in Production Example 3. From this pulverization treatment, the weight average particle diameter, which was 120 μm before pulverization, became 4.4 μm.

実施例1〜2及び比較例1〜2:硬化性難燃組成物の調製
表1に示す配合割合(単位:質量部)の主剤及び硬化剤を別々に三本ロールミル((株)小平製作所製 型式RIII−1RM−2)に3回通して混練りすることにより、実施例1〜2及び比較例1〜2の熱硬化性難燃組成物を調製した。
Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2: Preparation of Curable Flame Retardant Composition Three roll mills (manufactured by Kodaira Seisakusho Co., Ltd.) were separately prepared with the main component and curing agent in the blending ratio (unit: parts by mass) shown in Table 1. The thermosetting flame retardant compositions of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared by kneading and passing 3 times through the model RIII-1RM-2).

実施例3〜6及び比較例3〜4:光・熱硬化性難燃組成物の調製
表2に示す配合割合(単位:質量部)の主剤及び硬化剤を別々に三本ロールミル((株)小平製作所製,型式RIII−1RM−2)に3回通して混練りすることにより実施例3〜6及び比較例3〜4の光・熱硬化性難燃組成物の調製した。
Examples 3 to 6 and Comparative Examples 3 to 4: Preparation of light / thermosetting flame retardant composition Three roll mills (Co., Ltd.) were separately prepared with the main component and curing agent in the blending ratio (unit: parts by mass) shown in Table 2. The photo-thermosetting flame retardant compositions of Examples 3 to 6 and Comparative Examples 3 to 4 were prepared by passing the mixture three times through Kodaira Seisakusho, model RIII-1RM-2).

<熱硬化性難燃性組成物の評価>
[評価サンプルの調製]
表1に示した難燃性熱硬化組成物の主剤、硬化剤をそれぞれ表1に記載の比率で配合・混合した後、評価用基板上に乾燥後の膜厚がおよそ20μmになるように、150メッシュポリエステル版でスクリーン印刷により塗布し、150℃で熱硬化した。熱硬化時間は、各サンプルが熱硬化性の評価において「○」になった時間とした。評価用基板として以下の(1)〜(3)の基板を使用した。
基板(1) 銅箔(厚さ35μm)の片面にポリイミドフィルム(厚さ50μm)を積層してなるプリント基板〔ユピセル(登録商標)N、宇部興産(株)製〕を1%硫酸水溶液で洗浄し、水洗後、空気流で乾燥したもの、
基板(2) 25μm厚ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)100H、東レ・デュポン(株)製〕、
基板(3) 市販基板(IPC−C)。
<Evaluation of thermosetting flame retardant composition>
[Preparation of evaluation sample]
After blending and mixing the main component and curing agent of the flame retardant thermosetting composition shown in Table 1 at the ratios shown in Table 1, respectively, the film thickness after drying on the evaluation substrate is about 20 μm. It was applied by screen printing with a 150 mesh polyester plate and thermally cured at 150 ° C. The thermosetting time was defined as the time when each sample became “◯” in the evaluation of thermosetting. The following substrates (1) to (3) were used as evaluation substrates.
Substrate (1) Printed circuit board (upicel (registered trademark) N, manufactured by Ube Industries) made by laminating a polyimide film (thickness: 50 μm) on one side of copper foil (thickness: 35 μm) is washed with 1% aqueous sulfuric acid. And then washed with water and dried by air flow,
Substrate (2) 25 μm-thick polyimide film [Kapton (registered trademark) 100H, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.]
Substrate (3) Commercial substrate (IPC-C).

[物性評価]
以下のようにして実施した熱硬化性、屈曲性、ハンダ耐熱、燃焼性及び電気絶縁性(絶縁抵抗)の物性評価結果を表3に示す。
[Evaluation of the physical properties]
Table 3 shows the physical property evaluation results of thermosetting, flexibility, soldering heat resistance, flammability and electrical insulation (insulation resistance) carried out as follows.

・熱硬化性
実施例1〜2、比較例1〜2の熱硬化性難燃組成物を塗布した基板(2)を150℃の熱風循環式乾燥機に入れ、それぞれ20分、40分、60分熱硬化を行なった。さらに熱硬化した塗膜に酢酸エチルを数滴たらし、キムワイプでラビングした後の塗膜の状態を目視で観察し、以下の基準で評価した。硬化していれば、塗膜に変化は見られない。
○:塗膜に変化は見られない、
△:塗膜が白化する、
×:塗膜が溶解する。
-Thermosetting The board | substrate (2) which apply | coated the thermosetting flame retardant composition of Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2 was put into a 150 degreeC hot-air circulation type dryer, and 20 minutes, 40 minutes, and 60, respectively. Partial heat curing was performed. Furthermore, several drops of ethyl acetate were added to the heat-cured coating film, and the state of the coating film after rubbing with Kimwipe was visually observed and evaluated according to the following criteria. If cured, no change is seen in the coating.
○: No change is seen in the coating film,
Δ: Whitening of the coating film
X: The coating film is dissolved.

・屈曲性
実施例1〜2、比較例1〜2の熱硬化性難燃組成物を塗布・熱硬化した基板(2)を、塗布面を外側に180°に折り曲げて硬化膜の白化の有無を調べ、以下の基準で屈曲性を評価した。
○:硬化膜の白化なし、
×:硬化膜が白化、もしくは亀裂が生じる。
-Flexibility The presence / absence of whitening of the cured film by applying the thermosetting flame retardant composition of Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2 and thermosetting the substrate (2) by bending the coating surface outward at 180 ° And the flexibility was evaluated according to the following criteria.
○: No whitening of the cured film,
X: The cured film is whitened or cracked.

・ハンダ耐熱
JIS・C−6481の試験法に準じて、実施例1〜2、比較例1〜2の熱硬化性難燃組成物を塗布・熱硬化した基板(1)を260℃のハンダ浴に5秒間フロートさせることを1サイクルとして、硬化膜を目視で観察し、硬化膜に“フクレ”と“ハンダもぐりこみ”がなく、全く変化が認められないと判定された最大のサイクル数で評価した。
-Solder heat resistance According to the test method of JIS-C-6481, the board | substrate (1) which apply | coated and thermoset the thermosetting flame retardant composition of Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2 was soldered at 260 degreeC. The cured film was visually observed and floated for 5 seconds, and the cured film was evaluated with the maximum number of cycles determined to be free of “bulge” and “solder retraction” and no change. .

・燃焼性
燃焼性試験片は、以下の方法で作成した。厚み25μm、200mm×50mmの基板(2)の両面に、厚みが20μmの熱硬化性難燃組成物層を設けて難燃試験用の試料とした。燃焼特性は米国のUnderwriters Laboratories Inc.(ULと略す。)の高分子材料の難燃性試験規格94UL−VTM試験に準拠した方法で難燃性を評価した。なお、表3中の「VTM」及び「NOT」は、以下の基準による。
・ Flammability A flammability test piece was prepared by the following method. A thermosetting flame retardant composition layer having a thickness of 20 μm was provided on both surfaces of a substrate (2) having a thickness of 25 μm and 200 mm × 50 mm to prepare a sample for a flame retardant test. As for the combustion characteristics, flame retardancy was evaluated by a method based on a flame retardant test standard 94UL-VTM test for polymer materials of Underwriters Laboratories Inc. (abbreviated as UL) in the United States. “VTM” and “NOT” in Table 3 are based on the following criteria.

VTM−0:下記の要求事項をすべて満足するもの;
(1)全ての試験片は、各回接炎中止後10秒を越えて有炎燃焼しない。
(2)各組5個の試験片に合計10回の接炎を行ない、有炎燃焼時間の合計が50秒を超えないこと。
(3)有炎または赤熱燃焼が125mmの標線まで達しないこと。
(4)有炎滴下物により、脱脂綿が着火しないこと。
(5)第2回目の接炎中止後、各試料の有炎と赤熱燃焼の合計は30秒を超えないこと。
(6)1組5個の試験片のうち1個のみが要求事項に適しないとき、または有炎時間の合計が51秒から55秒の範囲にあるときは、更に5個の試験片を試験し、すべてが(1)から(5)を満足すること。
VTM-0: satisfies all the following requirements;
(1) All the test pieces do not burn in flames for more than 10 seconds after stopping each flame contact.
(2) A total of 10 flames should be contacted with 5 test pieces in each group, and the total flame burning time should not exceed 50 seconds.
(3) The flame or red heat combustion must not reach the 125 mm mark.
(4) Absorbent cotton should not be ignited by flammable drops.
(5) After stopping the second flame contact, the sum of the flame and red heat combustion of each sample shall not exceed 30 seconds.
(6) If only one of the five test pieces in the set is not suitable for the requirement, or if the total flame time is in the range of 51 to 55 seconds, then another five test pieces are tested. And all satisfy (1) to (5).

VTM−1:下記の要求事項をすべて満足するもの
(1)全ての試験片は、各回接炎中止後30秒を越えて有炎燃焼しない。
(2)各組5個の試験片に合計10回の接炎を行ない、有炎燃焼時間の合計が250秒を超えないこと。
(3)有炎または赤熱燃焼が125mmの標線まで達しないこと。
(4)有炎滴下物により、脱脂綿が着火しないこと。
(5)第2回目の接炎中止後、各試料の有炎と赤熱燃焼の合計は60秒を超えないこと。
(6)1組5個の試験片のうち1個のみが要求事項に適しないとき、または有炎時間の合計が251秒から255秒の範囲にあるときは、更に5個の試験片を試験し、すべてが(1)から(5)を満足すること。
VTM-1: All of the following requirements are satisfied (1) All specimens do not burn in flames for more than 30 seconds after stopping each flame contact.
(2) A total of 10 flames should be applied to each group of 5 test pieces, and the total flammable combustion time shall not exceed 250 seconds.
(3) The flame or red heat combustion must not reach the 125 mm mark.
(4) Absorbent cotton should not be ignited by flammable drops.
(5) After stopping the second flame contact, the sum of the flaming and red heat combustion of each sample should not exceed 60 seconds.
(6) When only one set of five test pieces is not suitable for the requirement, or when the total flame time is in the range of 251 seconds to 255 seconds, another five test pieces are tested. And all satisfy (1) to (5).

VTM−2:下記の要求事項をすべて満足するもの
(1)全ての試験片は、各回接炎中止後30秒を越えて有炎燃焼しない。
(2)各組5個の試験片に合計10回の接炎を行ない、有炎燃焼時間の合計が250秒を超えないこと。
(3)有炎または赤熱燃焼が125mmの標線まで達しないこと。
(4)有炎滴下物により、脱脂綿が着火しても良い。
(5)第2回目の接炎中止後、各試料の有炎と赤熱燃焼の合計は60秒を超えないこと。
(6)1組5個の試験片のうち1個のみが要求事項に適しないとき、または有炎時間の合計が251秒から255秒の範囲にあるときは、更に5個の試験片を試験し、すべてが(1)から(5)を満足すること。
VTM-2: All of the following requirements are satisfied (1) All test pieces do not burn in flames for more than 30 seconds after stopping each flame contact.
(2) A total of 10 flames should be applied to each group of 5 test pieces, and the total flammable combustion time shall not exceed 250 seconds.
(3) The flame or red heat combustion must not reach the 125 mm mark.
(4) Absorbent cotton may be ignited by the flamed drop.
(5) After stopping the second flame contact, the sum of the flaming and red heat combustion of each sample should not exceed 60 seconds.
(6) When only one set of five test pieces is not suitable for the requirement, or when the total flame time is in the range of 251 seconds to 255 seconds, another five test pieces are tested. And all satisfy (1) to (5).

NOT:以上のクラスいずれにも合格しない場合 NOT: If you do not pass any of the above classes

・電気絶縁性(絶縁抵抗)
基板(3)上に、実施例1及び比較例1〜2の各熱硬化性難燃組成物層を設け、その積層板を85℃、相対湿度85%の雰囲気下において192時間放置し、この処置前後で絶縁抵抗値を測定して電気絶縁性を評価した。絶縁抵抗値の測定は、処置前後の基板をJIS・C5012に準じて100V直流電圧を加え1分間保った後、その電圧印加状態で電気絶縁計にて行なった。
・ Electrical insulation (insulation resistance)
The thermosetting flame retardant composition layers of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 were provided on the substrate (3), and the laminate was left for 192 hours in an atmosphere of 85 ° C. and 85% relative humidity. Insulation resistance was measured before and after the treatment to evaluate electrical insulation. The insulation resistance value was measured by applying an electric insulation meter to the substrate before and after the treatment in accordance with JIS C5012 after applying a 100 V DC voltage for 1 minute and applying the voltage.

<光・熱硬化性難燃組成物の評価>
[評価サンプルの調製]
表2に示した実施例3〜5、比較例3〜4の光・熱硬化性難燃組成物の主剤、硬化剤をそれぞれ表2に記載の比率で配合・混合した後、評価用基板上に乾燥後の膜厚がおよそ20μmになるように、150メッシュポリエステル版でスクリーン印刷により塗布し、80℃、30分溶剤の乾燥を行なった。得られた各サンプルは、メタルハライドランプを有する露光機〔オーク(株)製HMW−680GW〕を用いて500mJ/cm2で露光した。次に、30℃の1質量%炭酸ナトリウム水溶液を30秒間、続けて30℃の水で30秒間スプレーすることにより、未露光部分を除去し現像後、150℃、30分の加熱処理を行なうことにより評価用サンプルを得た。なお、光感度評価の試験片作製時には、ネガパターンとしてストーファー21段ステップタブレットを用いて露光した。その他の評価試料の作製時にはネガパターンを使用しなかった。
<Evaluation of light / thermosetting flame retardant composition>
[Preparation of evaluation sample]
After mixing and mixing the main components and curing agents of the light and thermosetting flame retardant compositions of Examples 3 to 5 and Comparative Examples 3 to 4 shown in Table 2 at the ratios shown in Table 2, respectively, on the evaluation substrate The film thickness after drying was applied by screen printing with a 150 mesh polyester plate, and the solvent was dried at 80 ° C. for 30 minutes. Each obtained sample was exposed at 500 mJ / cm 2 using an exposure machine having a metal halide lamp [HMW-680GW manufactured by Oak Co., Ltd.]. Next, the unexposed portion is removed by spraying with a 1% by mass sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C. for 30 seconds, followed by 30 seconds of water at 30 ° C., followed by heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes. A sample for evaluation was obtained. At the time of preparing a test piece for light sensitivity evaluation, exposure was performed using a stove 21-step tablet as a negative pattern. The negative pattern was not used when producing other evaluation samples.

[物性評価]
「屈曲性」、「ハンダ耐熱」、「燃焼性」及び「絶縁性」の物性評価は前述した熱硬化性難燃組成物と同様の方法で行ない、「光感度」は基板(1)を用いて以下に示す方法で評価した。結果を表4に示す。
[Evaluation of the physical properties]
The physical properties of “flexibility”, “solder heat resistance”, “flammability” and “insulation” are evaluated in the same manner as the thermosetting flame retardant composition described above, and “photosensitivity” is determined using the substrate (1). The following method was used for evaluation. The results are shown in Table 4.

・光感度
ネガパターンとして日立化成の21段ステップタブレットを試料上に重ね、露光、現像処理後、得られた銅張り積層板上に形成された光硬化膜のステップタブレットの段数を測定することにより、硬化性難燃組成物の光感度を評価した。光感度は、ステップタブレットの段数で示され、このステップタブレットの段数が高いほど、光感度が高いことを示す。

Figure 2005189841
Figure 2005189841
Figure 2005189841
Figure 2005189841
・ Photosensitivity By layering Hitachi Chemical's 21-step step tablet on the sample as a negative pattern, exposing and developing, and measuring the number of steps of the step tablet of the photocured film formed on the resulting copper-clad laminate The photosensitivity of the curable flame retardant composition was evaluated. The photosensitivity is indicated by the number of steps of the step tablet, and the higher the number of steps of the step tablet, the higher the photosensitivity.
Figure 2005189841
Figure 2005189841
Figure 2005189841
Figure 2005189841

Claims (17)

式(1)
Figure 2005189841
(式中、Rは水素原子またはメチル基を表わし、X1、X2、X3、X4及びX5はそれぞれ独立して水素原子または臭素原子を表わすが、X1〜X5の少なくとも2個は臭素原子である。)及び/または式(2)
Figure 2005189841
(式中、X6、X7、X8、X9及びX10はそれぞれ独立して水素原子または臭素原子を表わすが、X6〜X10の少なくとも2個は臭素原子である。)
で示される臭素化合物の重合体または共重合体、及び硬化性樹脂材料を含有することを特徴とするレジスト用硬化性難燃組成物。
Formula (1)
Figure 2005189841
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represents a hydrogen atom or a bromine atom, but at least 2 of X 1 to X 5 Are bromine atoms) and / or formula (2)
Figure 2005189841
(In the formula, X 6 , X 7 , X 8 , X 9 and X 10 each independently represent a hydrogen atom or a bromine atom, but at least two of X 6 to X 10 are bromine atoms.)
A curable flame retardant composition for a resist comprising a polymer or copolymer of a bromine compound represented by the formula (I) and a curable resin material.
式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の重合体または共重合体の重量平均粒径が0.1〜10μmである請求項1記載のレジスト用硬化性難燃組成物。   2. The curable flame retardant composition for a resist according to claim 1, wherein the polymer or copolymer of the bromine compound represented by the formula (1) and / or the formula (2) has a weight average particle diameter of 0.1 to 10 μm. 式(1)及び/または式(2)で示される臭素化合物の重合体または共重合体の配合量が硬化性樹脂材料100質量部に対して10〜100質量部である請求項1記載のレジスト用硬化性難燃組成物。   The resist according to claim 1, wherein the blending amount of the polymer or copolymer of the bromine compound represented by the formula (1) and / or the formula (2) is 10 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin material. Curable flame retardant composition. 硬化性樹脂材料が、熱硬化性樹脂材料である請求項1記載のレジスト用硬化性難燃性組成物。   The curable flame-retardant composition for a resist according to claim 1, wherein the curable resin material is a thermosetting resin material. 硬化性樹脂材料が、熱硬化性樹脂材料及び光硬化性樹脂材料の組み合わせからなる請求項1記載のレジスト用硬化性難燃組成物。   The curable flame retardant composition for a resist according to claim 1, wherein the curable resin material is a combination of a thermosetting resin material and a photocurable resin material. 熱硬化性樹脂材料が、エポキシ樹脂である請求項4または5記載のレジスト用硬化性難燃組成物。   The curable flame retardant composition for a resist according to claim 4 or 5, wherein the thermosetting resin material is an epoxy resin. エポキシ樹脂の硬化剤として、アミン化合物、カルボキシル基を有する化合物、酸無水物基を有する化合物及びフェノール性水酸基を有する化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を含有する請求項6記載のレジスト用硬化性難燃組成物。   The epoxy resin curing agent contains at least one compound selected from the group consisting of amine compounds, compounds having a carboxyl group, compounds having an acid anhydride group, and compounds having a phenolic hydroxyl group. Curable flame retardant composition for resist. さらに、熱硬化触媒を含有する請求項7記載のレジスト用硬化性難燃組成物。   Furthermore, the curable flame-retardant composition for resists of Claim 7 containing a thermosetting catalyst. 光硬化性樹脂材料が、エチレン性不飽和末端基を有する感光性プレポリマー(A)、前記感光性プレポリマー(A)を除くエチレン性不飽和基を有する化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有する請求項5に記載のレジスト用硬化性難燃組成物。   The photocurable resin material is a photosensitive prepolymer (A) having an ethylenically unsaturated terminal group, a compound (B) having an ethylenically unsaturated group excluding the photosensitive prepolymer (A), and a photopolymerization initiator ( The curable flame retardant composition for a resist according to claim 5, comprising C). 請求項1乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物の硬化物。   Hardened | cured material of the curable flame-retardant composition for resists of any one of Claims 1 thru | or 9. 請求項1乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物と着色剤とを含有することを特徴とするインク。   An ink comprising the resist curable flame retardant composition according to any one of claims 1 to 9 and a colorant. 請求項4、6、7または8のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物を基板に10〜100μmの厚みで塗布した後、100〜200℃の温度で10〜60分熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト用硬化性難燃組成物の硬化方法。   After apply | coating the curable flame-retardant composition for resists of any one of Claim 4, 6, 7 or 8 to a board | substrate with the thickness of 10-100 micrometers, it heat-processes for 10 to 60 minutes at the temperature of 100-200 degreeC. A method for curing a curable flame retardant composition for a resist, characterized by comprising: 請求項5乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物を基板に10〜100μmの厚みで塗布した後、60〜100℃の温度で、5〜30分間程度で熱処理して溶剤を乾燥した後、露光・現像後、100〜200℃の温度で、10〜60分間熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト用硬化性難燃組成物の硬化方法。   The resist curable flame retardant composition according to any one of claims 5 to 9 is applied to a substrate with a thickness of 10 to 100 µm, and then heat-treated at a temperature of 60 to 100 ° C for about 5 to 30 minutes. A method for curing a curable flame retardant composition for a resist, comprising: drying the solvent, then exposing to light and developing, and then curing by heat treatment at a temperature of 100 to 200 ° C. for 10 to 60 minutes. 請求項1乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物の硬化物からなることを特徴とする絶縁保護皮膜。   An insulating protective film comprising a cured product of the curable flame retardant composition for resist according to any one of claims 1 to 9. 請求項1乃至9のいずれか1項に記載のレジスト用硬化性難燃組成物の硬化物からなることを特徴とする層間絶縁膜。   An interlayer insulating film comprising a cured product of the curable flame retardant composition for resists according to any one of claims 1 to 9. 請求項14記載の絶縁保護皮膜を有することを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board comprising the insulating protective film according to claim 14. 請求項15記載の層間絶縁膜を有することを特徴とするプリント配線板。
A printed wiring board comprising the interlayer insulating film according to claim 15.
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